JP5624393B2 - 組成物及び光学フィルム - Google Patents

Description

本発明は、組成物及び光学フィルムに関する。

フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板等の光学フィルムを含む部材が用いられている。このような光学フィルムとしては、重合性液晶化合物、光重合開始剤及び溶剤を含む組成物を用いて形成される光学フィルムが知られている。このような光学フィルムとして、例えば、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムが提案されている（特許文献１（［請求項１２］）参照）。

特開２０１０−３１２２３号公報

従来の光学フィルムでは、高湿高温の条件で保管した場合の耐性（耐湿熱性）について必ずしも十分満足できるものではなかった。

上記課題を解決することができた本発明の組成物は、式（Ａ）で表される化合物、酸化防止剤及び光重合開始剤を含むことを特徴とする。

［式（Ａ）中、Ｘ¹は、−Ｓ−、−Ｏ−又は−ＮＲ¹−を表す。Ｒ¹は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｙ¹は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は、炭素数３〜１２の芳香族複素環式基を表す。
Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ²Ｒ³又は−ＳＲ²を表し、Ｑ¹及びＱ²は、互いに結合して芳香環又は芳香族複素環を形成していてもよい。Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｄ¹及びＤ²は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、−ＣＲ⁴Ｒ⁵−ＣＲ⁶Ｒ⁷−、−Ｏ−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、−ＣＲ⁴Ｒ⁵−Ｏ−ＣＲ⁶Ｒ⁷−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、−ＣＲ⁴Ｒ⁵−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ⁶Ｒ⁷−、−ＣＲ⁴Ｒ⁵−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ⁶Ｒ⁷−、−ＮＲ⁴−ＣＲ⁵Ｒ⁶−又は−ＣＯ−ＮＲ⁴−を表す。
Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
Ｌ¹及びＬ²は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ¹及びＬ²からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する基を表す。］

式（Ａ）におけるＬ¹が式（Ａ１）で表される基であり、かつ、式（Ａ）におけるＬ²が式（Ａ２）で表される基であることが好ましい。
Ｐ¹−Ｆ¹−（Ｂ¹−Ａ¹）_k−Ｅ¹− （Ａ１）
Ｐ²−Ｆ²−（Ｂ²−Ａ²）_l−Ｅ²− （Ａ２）
［式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、Ｂ¹、Ｂ²、Ｅ¹及びＥ²は、それぞれ独立に、−ＣＲ¹¹Ｒ¹²−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ¹¹−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−Ｓ−ＣＨ₂−又は単結合を表す。
Ａ¹及びＡ²は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ¹及びＡ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ²及びＡ²は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｆ¹及びＦ²は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ¹及びＰ²は、水素原子又は重合性基を表し、少なくとも一方が重合性基である。
Ｒ¹¹及びＲ¹²は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。］

前記光重合開始剤は、アルキルフェノン化合物が好ましい。前記アルキルフェノン化合物としては、式（Ｃ−１）で表される化合物が好適である。

［式（Ｃ−１）中、Ｑ³は、水素原子又はメチル基を表す。］

前記酸化防止剤は、フェノール系酸化防止剤が好ましい。

本発明には、前記組成物に含まれる重合性成分を重合してなる光学フィルム、前記組成物に含まれる重合性成分を重合してなる位相差フィルムも含まれ、また該光学フィルム及び該位相差フィルムからなる群から選ばれる少なくとも１種を有する偏光板、該光学フィルム及び該位相差フィルムからなる群から選ばれる少なくとも１種を有するフラットパネル表示装置も含まれる。

本発明によれば、耐湿熱性に優れた光学フィルムを得ることができる。

本発明に係る偏光板の一例を示す断面模式図である。 本発明に係る液晶表示装置の一例を示す断面模式図である。 本発明に係る有機ＥＬ表示装置の一例を示す断面模式図である。 本発明に係るカラーフィルタの一例を示す断面模式図である。

１．組成物
本発明の組成物は、式（Ａ）で表される化合物（以下「化合物（Ａ）」という場合がある）、酸化防止剤（Ｂ）及び光重合開始剤（Ｃ）を含む。

１−１．化合物
本発明の組成物は、化合物（Ａ）を含む。

［式（Ａ）中、Ｘ¹は、−Ｓ−、−Ｏ−又は−ＮＲ¹−を表す。Ｒ¹は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｙ¹は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、又は、炭素数３〜１２の芳香族複素環式基を表す。
Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ²Ｒ³又は−ＳＲ²を表し、Ｑ¹及びＱ²は互いに結合して芳香環又は芳香族複素環を形成していてもよい。Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｄ¹及びＤ²は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、−ＣＲ⁴Ｒ⁵−ＣＲ⁶Ｒ⁷−、−Ｏ−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、−ＣＲ⁴Ｒ⁵−Ｏ−ＣＲ⁶Ｒ⁷−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、−ＣＲ⁴Ｒ⁵−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ⁶Ｒ⁷−、−ＣＲ⁴Ｒ⁵−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ⁶Ｒ⁷−、−ＮＲ⁴−ＣＲ⁵Ｒ⁶−又は−ＣＯ−ＮＲ⁴−を表す。
Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
Ｌ¹及びＬ²は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ¹及びＬ²からなる群から選ばれる少なくとも１種が、重合性基を有する基を表す。］

Ｒ¹で表される炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

Ｙ¹で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基等の単環系芳香族炭化水素基；ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等の多環系芳香族炭化水素基（縮合多環系芳香族炭化水素基を含む）が挙げられる。これらの中でも、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。Ｙ¹で表される芳香族複素環式基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基等の単環系芳香族複素環基；ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基等の多環系芳香族複素環基（縮合多環系芳香族複素環基を含む）等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも一つ含む芳香族複素環式基が挙げられる。これらの中でもフリル基、チエニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基が好ましい。

Ｙ¹で表される芳香族炭化水素基、芳香族複素環式基は置換基（以下、置換基Ｚ¹）を有していてもよい。置換基Ｚ¹としては、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基等が挙げられる。

置換基Ｚ¹となる前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子、塩素原子又は臭素原子が好ましい。
置換基Ｚ¹となる前記アルキル基としては、前記Ｒ¹として例示したアルキル基が挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

置換基Ｚ¹となる前記アルキルスルフィニル基としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、イソブチルスルフィニル基、ｓｅｃ−ブチルスルフィニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のアルキルスルフィニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルフィニル基がより好ましく、メチルスルフィニル基が特に好ましい。

置換基Ｚ¹となる前記アルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、イソブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のアルキルスルホニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基がより好ましく、メチルスルホニル基が特に好ましい。

置換基Ｚ¹となる前記フルオロアルキル基としては、フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数１〜２のフルオロアルキル基がより好ましく、トリフルオロメチル基が特に好ましい。

置換基Ｚ¹となる前記アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜２のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基が特に好ましい。

置換基Ｚ¹となる前記アルキルスルファニル基としては、メチルスルファニル基、エチルスルファニル基、プロピルスルファニル基、イソプロピルスルファニル基、ブチルスルファニル基、イソブチルスルファニル基、ｓｅｃ−ブチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基、ペンチルスルファニル基、ヘキシルスルファニル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のアルキルスルファニル基が好ましく、炭素数１〜２のアルキルスルファニル基がより好ましく、メチルスルファニル基が特に好ましい。

置換基Ｚ¹となる前記Ｎ−アルキルアミノ基としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−ヘキシルアミノ基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のＮ−アルキルアミノ基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ−メチルアミノ基が特に好ましい。

置換基Ｚ¹となる前記Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノ基等が挙げられる。これらの中でも炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基が特に好ましい。

置換基Ｚ¹となる前記Ｎ−アルキルスルファモイル基としては、Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−プロピルスルファモイル基、Ｎ−イソプロピルスルファモイル基、Ｎ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−イソブチルスルファモイル基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルスルファモイル基、Ｎ−ペンチルスルファモイル基、Ｎ−ヘキシルスルファモイル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数１〜４のＮ−アルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数１〜２のＮ−アルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ−メチルスルファモイル基が特に好ましい。

置換基Ｚ¹となる前記Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジイソブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジペンチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルスルファモイル基等が挙げられる。これらの中でも炭素数２〜８のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基が好ましく、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基が特に好ましい。

前記置換基Ｚ¹としては、ハロゲン原子、炭素数１〜２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜２のアルキルスルホニル基、炭素数１〜２のフルオロアルキル基、炭素数１〜２のアルコキシ基、炭素数１〜２のアルキルスルファニル基、炭素数１〜２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜４のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜２のアルキルスルファモイル基が好ましい。置換基Ｚ¹としては、特にハロゲン原子、メチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましい。

Ｙ¹で表される置換基を有していてもよい単環系芳香族炭化水素基又は単環系芳香族複素環基としては、例えば式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）で表される基が挙げられる。

［式（Ｙ−１）〜式（Ｙ−６）中、＊は結合手を表し、Ｚ¹は前記置換基Ｚ¹と同じものを表し、好ましい基も前記と同様である。
ａ１は０〜５の整数、ａ２は０〜４の整数、ｂ１は０〜３の整数、ｂ２は０〜２の整数、Ｒ⁸は水素原子又はメチル基を表す。
なお、ａ１、ａ２、ｂ１及びｂ２が２以上の整数である場合、複数のＺ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。］

Ｙ¹は、式（Ｙ−１）又は式（Ｙ−３）で表される基であることが、製造工程やコストの点で特に好ましい。

Ｙ¹で表される多環系芳香族炭化水素基又は１価の多環系芳香族複素環基としては、例えば式（Ｙ¹−１）〜式（Ｙ¹−７）で表される基が挙げられる。

［式（Ｙ¹−１）〜式（Ｙ¹−７）中、＊は結合手を表し、Ｚ¹は前記置換基Ｚ¹と同じものを表し、好ましい基も前記と同様である。
Ｖ¹及びＶ²は、それぞれ独立に、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＮＲ⁹−、−Ｏ−、−Ｓｅ−又は−ＳＯ₂−を表す。Ｒ⁹は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｗ¹〜Ｗ⁵は、それぞれ独立に、−ＣＨ＝又は−Ｎ＝を表す。
ただし、Ｖ¹、Ｖ²及びＷ¹〜Ｗ⁵のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ、Ｏ又はＳｅを含む基を表す。
ａは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。
ｂは、それぞれ独立に、０〜２の整数を表す。
なお、ａ、ｂが２以上の整数である場合、複数のＺ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。］

Ｖ¹及びＶ²は、それぞれ独立に、−Ｓ−、−ＮＲ⁹−又は−Ｏ−が好ましく、Ｗ¹〜Ｗ⁵は、それぞれ独立に、−ＣＨ＝又は−Ｎ＝が好ましい。
また、Ｖ¹、Ｖ²及びＷ¹〜Ｗ⁵のうち少なくとも１つは、Ｓ、Ｎ又はＯを含む基を表すことが好ましい。
ａは０又は１であることが好ましく、ｂは０であることが好ましい。

さらに、式（Ｙ¹−１）〜式（Ｙ¹−７）で表されるいずれかの基は、式（Ｙ²−１）〜式（Ｙ²−６）で表される基であることが好ましい。

［式（Ｙ²−１）〜式（Ｙ²−６）中、＊、Ｚ¹、ａ、ｂ、Ｖ¹、Ｖ²及びＷ¹は、前記と同じ意味を表す。］

式（Ｙ²−１）〜式（Ｙ²−６）中のＺ¹としては、特に、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、スルホ基、ニトロソ基、カルボキシ基、トリフルオロメチル基、メトキシ基、メチルスルファニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基又はＮ−メチルアミノ基が好ましく、ハロゲン原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基がより好ましく、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が特に好ましい。

Ｑ¹及びＱ²で表される脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、３−メチルブチル基、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、オクチル基、１−メチルヘプチル基、ノニル基、１−メチルオクチル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基等が挙げられる。これらの中でも、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。

Ｑ¹及びＱ²で表される脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基等が挙げられ、炭素数３〜１２の環状アルキル基が好ましい。

Ｑ¹及びＱ²で表される芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−フルオレニル基、２−フルオレニル基、３−フルオレニル基等が挙げられ、炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基が好ましい。

Ｑ¹及びＱ²で表される脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基及び芳香族炭化水素基はそれぞれ置換基を有していてもよい。該置換基としては、前記Ｙ¹として例示したものが挙げられる。Ｒ²及びＲ³で表される炭素数１〜６のアルキル基は、前記Ｒ¹と同様の基から選択でき、中でも炭素数１〜４のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。

ここで、Ｑ¹及びＱ²は、互いに結合して芳香環又は芳香族複素環を形成していてもよい。Ｑ¹とＱ²が形成する環構造としては、式（Ｑ）で示されるものが好ましい。

［式（Ｑ）中、Ｘ²は、式（Ａ）中のＸ¹として例示した基と同じ範囲から選ばれる基を表す。Ｙ²は、式（Ａ）中のＹ¹として例示した基と同じ範囲から選ばれる基を表す。＊は、結合手を表す。］

前記Ｘ¹、Ｙ¹、Ｑ¹及びＱ²の組合せの具体例としては、例えば、式（ａｒ−１）〜式（ａｒ−１３５）で表されるものが挙げられる。

化合物（Ａ）におけるＸ¹、Ｙ¹、Ｑ¹及びＱ²の組合せとしては、特に式（ａｒ−８６）が好ましい。上記の化合物であると、得られる光学フィルムにおいて位相差の逆波長分散性が高い傾向がある。そのため、正波長分散性を示す液晶化合物と混合して用いることで、光学フィルムの波長分散性を所望の値に調製しやすい。

式（Ａ）中のＤ¹及びＤ²は、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＳ−、−Ｏ−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、−ＮＲ⁴−ＣＲ⁵Ｒ⁶−又は−ＮＲ⁴−ＣＯ−が好ましく、より好ましくは＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＳ−、＊−Ｏ−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、＊−ＮＲ⁴−ＣＲ⁵Ｒ⁶−又は＊−ＮＲ⁴−ＣＯ−（＊はＱ¹及びＱ²が結合しているベンゼン環との結合手を表わす。）、さらに好ましくは＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−Ｏ−ＣＳ−又は＊−ＮＲ⁴−ＣＯ−（＊はＱ¹及びＱ²が結合しているベンゼン環との結合手を表す。）である。

Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基であることがより好ましい。

Ｇ¹及びＧ²で表される２価の脂環式炭化水素基としては、単環式炭化水素基や、橋かけ環式炭化水素基が挙げられ、５員環又は６員環であることが好ましい。また、脂環式炭化水素基は、飽和でも不飽和でもよいが飽和脂環式炭化水素基が好ましい。Ｇ¹及びＧ²で表されるヘテロ原子を含んでもよい２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、式（ｇ−１）〜式（ｇ−１０）で示されるものが挙げられる。

Ｇ¹及びＧ²で表される２価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、置換基（以下、置換基Ｚ²）で置換されていてもよい。前記置換基Ｚ²としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜４のフルオロアルキル基；トリフルオロメトキシ基等の炭素数１〜４のフルオロアルコキシ基；シアノ基；ニトロ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子が挙げられる。

Ｇ¹及びＧ²としては、式（ｇ−１）で表される６員環からなる２価の脂環式炭化水素基であることが好ましい。中でも、Ｇ¹及びＧ²がともにシクロヘキサン−１，４−ジイル基であることがより好ましく、ｔｒａｎｓ−シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが特に好ましい。

式（Ａ）中のＬ¹及びＬ²はそれぞれ独立して１価の有機基であり、Ｌ¹又はＬ²は、重合性基を有する１価の基である。
有機基Ｌ¹は式（Ａ１）で表される基であり、Ｌ²は式（Ａ２）で表される基であることが好ましい。
Ｐ¹−Ｆ¹−（Ｂ¹−Ａ¹）_k−Ｅ¹− （Ａ１）
Ｐ²−Ｆ²−（Ｂ²−Ａ²）_l−Ｅ²− （Ａ２）
［式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、Ｂ¹、Ｂ²、Ｅ¹及びＥ²は、それぞれ独立に、−ＣＲ¹¹Ｒ¹²−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ¹¹−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−Ｓ−ＣＨ₂−又は単結合を表す。
Ａ¹及びＡ²は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ¹及びＡ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ²及びＡ²は互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｆ¹及びＦ²は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｐ¹及びＰ²は、水素原子又は重合性基を表し、少なくとも一方が重合性基である。
Ｒ¹¹及びＲ¹²は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。］

Ａ¹及びＡ²で表される２価の脂環式炭化水素基としては、前記Ｇ¹及びＧ²として例示したものと同様の範囲から選択でき、好ましい態様も前記Ｇ¹及びＧ²と同様である。また、Ａ¹及びＡ²で表される２価の芳香族炭化水素基としては、単環式又は多環式（複数の芳香環が単結合で転結されている多環式及び縮合多環式を含む）が挙げられる。Ａ¹及びＡ²で表される２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、式（ａ−１）〜式（ａ−８）で表されるものが挙げられる。また、Ａ¹及びＡ²で表される芳香族炭化水素基としては、対称軸、対称面があるのが好ましい。

Ａ¹及びＡ²で表される脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、置換基で置換されていてもよい。該置換基としては、前記置換基Ｚ²として例示したものと同じ範囲から選択できる。

Ａ¹及びＡ²としては、それぞれ独立に、単環の１，４−フェニレン基又はシクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが好ましく、特に、化合物（Ａ）の製造が容易なことから、１，４−フェニレン基であることが好ましい。さらに、Ａ¹及びＡ²としては、化合物（Ａ）の製造が容易となる傾向にあることから、同種類の基であることが好ましい。

Ｂ¹及びＢ²は、化合物（Ａ）の製造が容易となる傾向にあることから同種類の基であることが好ましい。また、ｋ、ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ¹及びＢ²は化合物（Ａ）の製造がより容易となることから、Ａ¹のみと結合しているＢ¹、及びＡ²のみと結合しているＢ²が、それぞれ独立に、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＨ₂−又は単結合であることが好ましい。特に、高い液晶性を示すことから、−ＣＯ−Ｏ−であることが好ましい。さらに、Ｆ¹と結合しているＢ¹、及びＦ²と結合しているＢ²が、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−又は単結合であることがより好ましい。

ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表すことが好ましく、ｋ及びｌは０〜２であることがより好ましい。ｋ及びｌの合計は、５以下が好ましく、４以下がより好ましい。ｋ及びｌが上記の範囲であると、化合物（Ａ）が液晶性を示しやすくなる傾向がある。

Ｆ¹及びＦ²は、炭素数１〜１２のアルカンジイル基であることが好ましく、直鎖のアルカンジイル基であることがより好ましい。特に、無置換のアルカンジイル基が好ましい。前記アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子に置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置換されていてもよい。

Ｐ¹及びＰ²は、水素原子又は重合性基であり、少なくとも一方が重合性基である。得られる光学フィルムの硬度が優れる傾向にあることから、Ｐ¹及びＰ²がともに重合性基であるとことが好ましい。

ここで重合性基とは、化合物（Ａ）を重合させることのできる置換基を意味し、具体的には、ビニル基、ビニルオキシ基、スチリル基、ｐ−（２−フェニルエテニル）フェニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基を有する重合性基、カルボキシ基、アセチル基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、炭素数１〜４のアルキルアミノ基、アミノ基、オキシラニル基、オキセタニル基、ホルミル基、イソシアナト基又はイソチオシアナト基等が例示される。
重合性基としては、光重合させるのに適したラジカル重合性基、カチオン重合性基が好ましく、特に取り扱いが容易な上に製造も容易となる傾向にあることから、アクリロイル基、メタクロイル基、アクリロイルオキシ基及びメタクリロイルオキシ基が好ましい。中でも重合性基が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基であることが好ましく、特にアクリロイルオキシ基であることが好ましい。

式（Ａ）において、Ｄ¹とＤ²、Ｇ¹とＧ²及びＬ¹とＬ²はそれぞれ同一であること、すなわち、−Ｄ¹−Ｇ¹−Ｌ¹と−Ｄ²−Ｇ²−Ｌ²が同一構造を有することが好ましい。

Ｌ¹が式（Ａ１）で表される基である場合の＊−Ｄ¹−Ｇ¹−Ｌ¹（＊は、Ｑ¹及びＱ²が結合しているフェニレン環との結合手を示す。）の具体例、及び、Ｌ²が式（Ａ２）で表される基である場合の＊−Ｄ²−Ｇ²−Ｌ²（＊は、Ｑ¹及びＱ²が結合しているフェニレン環との結合手を示す。）の具体的例としては、下記式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）で表される基等が挙げられる。
なお、式（Ｒ−１）〜式（Ｒ−１３４）におけるｎは２〜１２の整数を表し、好ましくは３〜１０、さらに好ましくは４〜８である。

化合物（Ａ）は、式（１）及び式（２）を満たす化合物であることが好ましい。
（Ｎ_π−４）／３＜ｋ＋ｌ＋４ （１）
１２≦Ｎ_π≦２２ （２）
［式（１）及び式（２）中、Ｎ_πは、式（Ａ）において、−Ｄ¹−Ｇ¹−Ｌ¹、−Ｄ²−Ｇ²−Ｌ²を除いた部分が有する芳香環に含まれるπ電子の数を表す。ｋ及びｌは、式（Ａ１）及び（Ａ２）におけるものと同じ意味を表す。］

化合物（Ａ）としては、例えば、下記化合物（ｉ）〜化合物（ｘｘｖｉｉ）が挙げられる。なお、表１中のＲ１は、−Ｄ¹−Ｇ¹−Ｌ¹を、Ｒ２は、−Ｄ²−Ｇ²−Ｌ²を表す。

上記表１中、化合物（xvi）は、Ｘ¹等の組合せが式（ａｒ−３９）で示される基である化合物、Ｘ¹等の組合せが式（ａｒ−４０）で示される基である化合物、又は、Ｘ¹等の組合せが式（ａｒ−３９）で示される基である化合物と式（ａｒ−４０）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。同様に、化合物（xxvi）は、Ｘ¹等の組合せが式（ａｒ−６６）で示される基である化合物、Ｘ¹等の組合せが式（ａｒ−６７）で示される基である化合物、又は、Ｘ¹等の組合せが式（ａｒ−６６）で示される基である化合物と式（ａｒ−６７）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。化合物（xxvii）は、Ｘ¹等の組合せが式（ａｒ−６８）で示される基である化合物、Ｘ¹等の組合せが式（ａｒ−６９）で示される基である化合物、又は、Ｘ¹等の組合せが式（ａｒ−６８）で示される基である化合物と式（ａｒ−６９）で示される基である化合物との混合物のいずれかであることを意味する。

表１の化合物の具体例としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。下記に化合物（ｉ）、化合物（iii）、化合物（iv）、化合物（ｖ）、化合物（viii）、化合物（ix）、化合物（ｘ）、化合物（xv）、化合物（xvii）、化合物（xviii）、化合物（xix）、化合物（xx）、化合物（xxii）、化合物（xxiii）、化合物（xxiv）及び化合物（xxv）の代表的な構造式を例示する。以下の化学式は、全ての立体異性体を含むものとする。また、化合物（ｉ）〜（xxv）は、シクロヘキサン−１，４−ジイル基が、全てｔｒａｎｓ−シクロヘキサン−１，４−ジイル基であることが好ましい。

さらに、化合物（Ａ）としては、式（Ａ１−１）〜式（Ａ６１−８）で表される化合物も挙げられる。該式中、＊は結合手を表し、例えば式（Ａ１−１）で表される化合物は、下記のように表される化合物である。

化合物（Ａ）は、Methoden der Organischen Chemie、Organic Reactions、Organic Syntheses、Comprehensive Organic Synthesis、新実験化学講座等に記載されている公知の有機合成反応（例えば、縮合反応、エステル化反応、ウイリアムソン反応、ウルマン反応、ウイッティヒ反応、シッフ塩基生成反応、ベンジル化反応、薗頭反応、鈴木−宮浦反応、根岸反応、熊田反応、檜山反応、ブッフバルト−ハートウィッグ反応、フリーデルクラフト反応、ヘック反応、アルドール反応等）を、その構造に応じて、適宜組み合わせることにより、製造することができる。

例えば、化合物（Ａ）のＤ^１及びＤ^２が＊−Ｏ−ＣＯ−である場合には、まず、式（１−１）で表される化合物と式（１−２）で表される化合物とを反応させることにより、式（１−３）で表される化合物を得る。

［式中、Ｘ¹、Ｙ¹、Ｑ¹、及びＱ²は、式（Ａ）中と同一の意味を表わす。］

［式中、Ｇ^１、Ｅ^１、Ａ^１、Ｂ^１、Ｆ^１、Ｐ^１及びｋは上記と同一の意味を表わす。］

［式中、Ｘ¹、Ｙ¹、Ｑ¹、Ｑ²、Ｇ^１、Ｅ^１、Ａ^１、Ｂ^１、Ｆ^１、Ｐ^１及びｋは上記と同一の意味を表わす。］

次いで、得られた式（１−３）で示される化合物と式（１−４）で表される化合物とを反応させることにより化合物（Ａ）を製造できる。

［式中、Ｇ^２、Ｅ^２、Ａ^２、Ｂ^２、Ｆ^２、Ｐ^２及びｌは上記と同一の意味を表わす。］

式（１−１）で示される化合物と式（１−２）で示される化合物との反応、及び、式（１−３）で示される化合物と式（１−４）で示される化合物との反応は、縮合剤の存在下に実施することが好ましい。

縮合剤としては、１−シクロヘキシル−３−（２−モルホリノエチル）カルボジイミドメト−パラ−トルエンスルホネート、ジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（一部水溶性カルボジイミド：Water Soluble Carbodiimideとして市販されている）、ビス（２、６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド等のカルボジイミド；２−メチル−６−ニトロ安息香酸無水物、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１，１’−オキサリルジイミダゾール、ジフェニルホスフォリルアジド、１−（４−ニトロベンゼンスルフォニル）−１Ｈ−１，２，４−トリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリス（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−Ｏ−（Ｎ−スクシンイミジル）ウロニウムテトラフルオロボレート、Ｎ−（１，２，２，２−テトラクロロエトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−カルボベンゾキシスクシンイミド、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムテトラフルオロボレート、Ｏ−（６−クロロベンゾトリアゾール−１−イル）−Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート、２−ブロモ−１−エチルピリジニウムテトラフルオロボレート、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムクロリド、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリニウムヘキサフルオロホスフェート、２−クロロ−１−メチルピリジニウムアイオダイド、２−クロロ−１−メチルピリジニウム パラ−トルエンスルホネート、２−フルオロ−１−メチルピリジニウム パラ−トルエンスルホネート、トリクロロ酢酸ペンタクロロフェニルエステ等が挙げられる。中でも、反応性、コスト、使用できる溶媒の点から、縮合剤としてはジシクロヘキシルカルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ビス（２，６−ジイソプロピルフェニル）カルボジイミド、ビス（トリメチルシリル）カルボジイミド、ビスイソプロピルカルボジイミド、２，２’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾールが好ましい。

化合物（Ａ）の含有量は、固形分に対して、１０〜９９．９質量％が好ましく、２０〜９９質量％がより好ましく、５０〜９７質量％がさらに好ましく、８０〜９５質量％が特に好ましい。化合物（Ａ）の含有量が前記の範囲であれば、広い波長域において一様の偏光変換が可能となる。ここで、固形分とは、本発明の組成物から後述する溶剤成分を除く量をいう。化合物（Ａ）は単独で用いても、２種以上を併用してもよい。

１−２．酸化防止剤（Ｂ）
本発明の組成物は、酸化防止剤（Ｂ）を含む。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、リン系酸化防止剤およびアミン系酸化防止剤が挙げられる。中でも、光学フィルムの着色が少ないという点で、フェノール系酸化防止剤が好ましい。

前記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジシクロヘキシル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−オクチル−４−ｎ−プロピルフェノール、２，６−ジシクロヘキシル−４−ｎ−オクチルフェノール、２−イソプロピル−４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−２−エチル−６−ｔｅｒｔ−オクチルフェノール、２−イソブチル−４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ヘキシルフェノール、２−シクロヘキシル−４−ｎ−ブチル−６−イソプロピルフェノール、ｄｌ−α−トコフェロール、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−（１−メチルシクロヘキシル）−ｐ−クレゾール］、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、２，２’−ブチリデンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン、トリエチレングリコールビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエステル、トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス［（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート、トリス（４−ｔｅｒｔ−ブチル−２，６−ジメチル−３−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）テレフタレート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−｛β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、２，２−ビス［４−（２−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ））エトキシフェニル］プロパン、β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリルエステル等が挙げられる。

前記フェノール系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているフェノール系酸化防止剤としては、例えば、スミライザー（登録商標）ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、スミライザーＧＭ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート）、スミライザーＧＳ（Ｆ）（２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート）、スミライザーＧＡ−８０（３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン）、スミライザーＭＤＰ−Ｓ（２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール））、スミライザーＢＢＭ−Ｓ（４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール））、スミライザーＷＸ−Ｒ（４，４’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール））、スミライザーＬ（Ｓ）（以上、全て住友化学（株）製）、イルガノックス（Ｉｒｇａｎｏｘ）（登録商標）１０１０（テトラキス［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン）、イルガノックス１０３５（２，２−チオ［ジエチルビス−３（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］）、イルガノックス１０７６（β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸ステアリルエステル）、イルガノックス１０９８（Ｎ，Ｎ’−（１，６−ヘキサンジイル）ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］）、イルガノックス１１３５（３−（４−ヒドロキシ−３，５−ジイソプロピルフェニル）プロピオン酸オクチル）、イルガノックス１３３０（１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン）、イルガノックス１７２６（２，４−ビス（ドデシルチオメチル）−６−メチルフェノール）、イルガノックス１４２５ＷＬ、イルガノックス１５２０Ｌ（２，４−ビス（オクチルチオメチル）−６−メチルフェノール）、イルガノックス２４５（３，６−ジオキサオクタン−１，８−ジオールビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパノアート］）、イルガノックス２５９（１，６−ヘキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］）、イルガノックス３１１４（トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート）、イルガノックス５６５（６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビス（オクチルチオ）−１，３，５−トリアジン）、イルガノックス２９５、イルガノックス３１２５（トリス［（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート）（以上、全てＢＡＳＦジャパン（株）製）、シアノックス１７９０（トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−ｔ−ブチルベンジル）イソシアヌレート）（Ｃｙａｎｏｘ １７９０、サイテック製）、ビタミンＥ（ｄｌ−α−トコフェロール）（エーザイ製）等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート等のジアルキルチオジプロピオネート；ブチルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル、オクチルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル、ラウリルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル、ステアリルチオプロピオン酸の多価アルコールエステル（前記の多価アルコールとしては、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート等が挙げられる）や、ペンタエリスリルテトラキス−３−ラウリルチオプロピオネート等のアルキルチオプロピオン酸の多価アルコールエステルが挙げられる。

前記イオウ系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているイオウ系酸化防止剤としては、例えば、スミライザーＴＰＬ−Ｒ（ジラウリル−３，３’−チオジプロピオナート）、スミライザーＴＰＭ（ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオナート）、スミライザーＴＰＳ（ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート）、スミライザーＴＰ−Ｄ（ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオナート）、スミライザーＭＢ（２−メルカプトベンズイミダゾール）（以上、全て住友化学（株）製）等が挙げられる。イオウ系酸化防止剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記リン系酸化防止剤としては、例えば、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリデシルホスファイト、（オクチル）ジフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス（ブトキシエチル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフエニル）ブタンジホスファイト、テトラ（Ｃ１２〜Ｃ１５混合アルキル）−４，４’−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）ジホスファイト、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ホスファイト、トリス（モノ・ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、水素化−４，４’−イソプロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス（オクチルフェニル）ビス［４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）］−１，６−ヘキサンジオールジホスファイト、フェニル（４，４’−イソプロピリデンジフェノール）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリス［４，４’−イソプロピリデンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）］ホスファイト、ジ（イソデシル）フェニルホスファイト、４，４’−イソプロピリデンビス（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）ビス（ノニルフェニル）ホスファイト、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルフォスファイト、２−［｛２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］−ジオキサホスフェピン−６−イル｝オキシ］−Ｎ，Ｎ−ビス〔２−［｛２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］−ジオキサホスフェピン−６−イル｝オキシ］エチル〕エタンアミン、６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］−ジオキサホスフェピン等が挙げられる。

前記リン系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているリン系酸化防止剤としては、例えば、スミライザーＧＰ（６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン）（住友化学（株）製）、イルガフォス（Ｉｒｇａｆｏｓ）（登録商標）１６８（トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト）、イルガフォス１２（２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１−ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン６−イル］オキシ］−Ｎ，Ｎ−ビス［２−［［２，４，８，１０−テトラキス（１，１ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２，］ジオキサフォスフェピン−６−イル］オキシ］−エチル］エタナミン）、イルガフォス３８（以上、全てＢＡＳＦジャパン（株）製）、アデカスタブ３２９Ｋ、アデカスタブＰＥＰ３６（サイクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）フォスファイト）、アデカスタブＰＥＰ−８（ジステアリルペンタエリスリトールジフォスファイト）（以上、全てＡＤＥＫＡ製）、Ｓａｎｄｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱ（クラリアント製）、ウェストン６１８、ウェストン６１９Ｇ、ウルトラノックス６２６（以上、全てＧＥ製）等が挙げられる。リン系酸化防止剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

前記アミン系酸化防止剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ'−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ'−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ'−ジメチル−Ｎ，Ｎ'−ジ−第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、アルキル化ジフェニルアミン等が挙げられる。

前記アミン系酸化防止剤としては、市販品を使用してもよい。市販されているアミン系酸化防止剤としては、例えば、スミライザーＢＰＡ（Ｎ，Ｎ'−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン）、スミライザーＢＰＡ−Ｍ１、スミライザー４ＭＬ（ｐ−フェニレンジアミン誘導体）、スミライザー９Ａ（アルカリ化ジフィニルアミン）等が挙げられる。アミン系酸化防止剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

酸化防止剤（Ｂ）の含有量は、固形分に対して、好ましくは０．０１質量％〜１０質量％であり、より好ましくは０．１質量％〜５質量％である。上記範囲内であれば、組成物に含まれる重合性成分を重合する際に、化合物（Ａ）の配向を乱すことをより抑制できる。

１−３．光重合開始剤（Ｃ）
本発明の組成物は光重合開始剤を含む。光重合開始剤は、光の作用により活性ラジカルを発生し、化合物（Ａ）の重合を開始しうる化合物である。光重合開始剤としては、アルキルフェノン化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、オキシム化合物等が挙げられる。

前記アルキルフェノン化合物としては、α−アミノアルキルフェノン化合物、α−ヒドロキシアルキルフェノン化合物、α−アルコキシアルキルフェノン化合物が挙げられる。前記α−アミノアルキルフェノン化合物としては、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン等が挙げられる。前記α−アミノアルキルフェノン化合物は、イルガキュア（登録商標）３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、セイクオール（登録商標）ＢＥＥ（精工化学社製）等の市販品を用いてもよい。

前記α−ヒドロキシアルキルフェノン化合物としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等が挙げられる。前記α−ヒドロキシアルキルフェノン化合物は、イルガキュア１８４、２９５９、１２７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）、セイクオールＺ（精工化学社製）等の市販品を用いてもよい。前記α−アルコキシアルキルフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。前記α−アルコキシアルキルフェノン化合物は、イルガキュア６５１（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）等の市販品を用いてもよい。

前記アルキルフェノン化合物としては、α−アミノアルキルフェノン化合物が好ましく、式（Ｃ−１）で表される化合物がより好ましい。これらの化合物であると、得られる光学フィルムの耐熱性、耐湿熱性に優れる。

［式（Ｃ−１）中、Ｑ³は、水素原子又はメチル基を表す。］

前記ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。
前記ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。
前記オキシム化合物としては、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）ブタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−ベンゾイルオキシ−１−（４−フェニルスルファニルフェニル）オクタン−１−オン−２−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン、Ｎ−アセトキシ−１−［９−エチル−６−｛２−メチル−４−（３，３−ジメチル−２，４−ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル｝−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］エタン−１−イミン等が挙げられる。イルガキュアＯＸＥ−０１、ＯＸＥ−０２（以上、ＢＡＳＦジャパン社製）、Ｎ−１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いてもよい。

前記光重合開始剤は、前記アセトフェノン化合物、前記ベンゾイン化合物、前記ベンゾフェノン化合物、前記オキシム化合物等を、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも光重合開始剤としてアセトフェノン化合物を用いることが好ましい。前記アセトフェノン化合物の使用量は、光重合開始剤全量に対して、９０質量部以上であることが好ましく、光重合開始剤全量がアセトフェノン化合物であることがより好ましい。

光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、固形分に対して、好ましくは０．１質量％〜３０質量％であり、より好ましくは０．５質量％〜１０質量％である。上記範囲内であれば、組成物に含まれる重合性成分を重合する際に、化合物（Ａ）の配向を乱すことをより抑制できる。

１−４．液晶化合物（Ａ’）
本発明の組成物は、化合物（Ａ）とは異なる液晶化合物（Ａ’）を含んでいてもよい。前記液晶化合物（Ａ’）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の３章 分子構造と液晶性の、３．２ ノンキラル棒状液晶分子、３．３ キラル棒状液晶分子に記載された化合物、特開２０１０−３１２２３号公報、特願２０１０−１２１４８０号公報又は特願２０１０−０９４８５８号公報に記載された化合物等が挙げられる。なかでも、重合性基を有していてかつ液晶性を示す化合物が好ましい。前記液晶化合物（Ａ’）は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いてもよい。

前記液晶化合物（Ａ’）としては、例えば、式（３）で表される化合物（以下「化合物（３）」という場合がある）等が挙げられる。

Ｐ¹¹−Ｅ¹¹−（Ｂ¹¹−Ａ¹¹）_t−Ｂ¹²−Ｇ （３）
［式（３）中、Ａ¹¹は、置換基を有していてもよい芳香族複素環、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表す。
Ｂ¹¹及びＢ¹²は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−ＣＲ¹⁵Ｒ¹⁶−、−Ｏ−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−Ｏ−ＣＲ¹⁵Ｒ¹⁶−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ¹⁵Ｒ¹⁶−、−ＣＲ¹³Ｒ¹⁴−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ¹⁵Ｒ¹⁶−、−ＮＲ¹³−ＣＲ¹⁴Ｒ¹⁵−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−ＮＲ¹⁶−、−ＯＣＨ₂−、−ＯＣＦ₂−、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＦ₂Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−又は単結合を表す。Ｒ¹³〜Ｒ¹⁶は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
Ｇは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、炭素数１〜１３のフルオロアルキル基、炭素数１〜１３のＮ−アルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ基又は−Ｅ¹²−Ｐ¹²を表す。
Ｅ¹¹及びＥ¹²は、炭素数１〜１８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。
Ｐ¹¹及びＰ¹²は、重合性基を表す。
ｔは、１〜５の整数を表す。ｔが２以上の整数である場合、複数のＢ¹¹及びＡ¹¹は、互いに同一であっても異なっていてもよい。］

Ａ¹¹で表される芳香族炭化水素環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環等が挙げられ、芳香族複素環としては、フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環及びベンゾチアゾール環等が挙げられる。中でも、ベンゼン環、チアゾール環又はベンゾチアゾール環が好ましい。Ａ¹¹で表される芳香族炭化水素環又は芳香族複素環としては、例えば式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１１）で表される２価の基が挙げられる。

［式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−１１）中、Ｘ³は、式（Ａ）中のＸ¹として例示した基と同じ範囲から選ばれる基を表す。Ｘ¹が複数存在する場合、互いに同一であっても異なっていてもよい。Ｙ³は、式（Ａ）中のＹ¹として例示した基と同じ範囲から選ばれる基を表す。Ｚ³は、式（Ａ）中のＺ¹として例示した基と同じ範囲から選ばれる基を表す。
Ｗ^ａ及びＷ^ｂは、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表す。
ｍは、０〜６の整数を表す。
ｎは、０〜４の整数を表す。
ｏは、０〜２の整数を表す。
ｍ、ｎ、ｏが２以上の整数である場合、複数のＺ³は互いに同一であっても異なっていてもよい。］

Ａ¹¹で表される芳香族炭化水素環又は芳香族複素環としては、具体的に下記の基が例示される。
例えば、式（Ａｒ−１）、式（Ａｒ−７）で表される基の具体例としては、例えば、以下の基が挙げられる。

Ａ¹¹で表される脂環式炭化水素基の炭素数は、例えば３〜１８であり、５〜１２であることが好ましく、５又は６であることが特に好ましい。Ａ¹¹で表される脂環式炭化水素基としては、シクロヘキサン−１，４−ジイル基等が挙げられる。該脂環式炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、フルオロ基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、フルオロ基を有していてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、シアノ基が挙げられる。

Ｐ¹¹及びＰ¹²としては、化合物（Ａ）のＰ¹及びＰ²と同様の基が挙げられる。より低温での硬化が可能であることから光重合性基が好ましく、ラジカル重合性基又はカチオン重合性基が好ましく、特に取り扱いが容易な上、化合物（１）の製造も容易であることから、式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）で表される基が好ましい。

［式（Ｐ−１）〜（Ｐ−５）中、Ｒ¹⁷〜Ｒ²¹はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基又は水素原子を表す。＊は、Ｂ¹¹との結合手を表す。］

Ｅ¹¹及びＥ¹²としては、炭素数１〜１８のアルカンジイル基であり、直鎖状であるか分岐が１箇所である炭素数１〜１２のアルカンジイル基が好ましい。

化合物（１）としては、例えば、以下のものが挙げられる。

液晶化合物（Ａ’）の含有量は、例えば、液晶化合物（Ａ’）と化合物（Ａ）との合計量１００質量部に対して、０〜９０質量部であり、好ましくは０〜７０質量部である、さらに好ましくは０〜４０質量部である。

本発明の組成物によりえられる光学フィルムの波長分散特性は、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量及び液晶化合物（Ａ’）に由来する構造単位の含有量によって、決定することができる。光学フィルム中の化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量を増加させると、より逆波長分散特性を示す。具体的には、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量が異なる組成物を２〜５種類程度調製し、それぞれの組成物について、同じ膜厚の光学フィルムを製造してその位相差値を求める。そして、結果から、化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量と光学フィルムの位相差値との相関を求め、得られた相関関係から、上記膜厚における光学フィルムに所望の位相差値を与えるために必要な化合物（Ａ）に由来する構造単位の含有量を決定すればよい。

１−５．有機溶剤
本発明の組成物は、溶媒を含んでいてもよい。有機溶剤としては、化合物（Ａ）等、組成物の構成成分を溶解し得る有機溶剤であり、重合反応に不活性な溶剤であればよく、具体的には、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル又はフェノール等のアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素系脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素系芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル系溶剤；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル系溶剤；クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素系溶剤；等が挙げられる。これら有機溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。上記有機溶剤の中でも、アルコール、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、非塩素系脂肪族炭化水素溶剤、非塩素系芳香族炭化水素溶剤が好ましい。特に本発明の組成物は相溶性に優れ、アルコール、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、非塩素系脂肪族炭化水素溶剤、非塩素系芳香族炭化水素溶剤等にも溶解し得ることから、クロロホルム等の塩素系溶剤を用いなくとも、溶解して塗工させることができる。

なお、本発明の組成物を用いて光学フィルム等を作製する場合、成膜の容易性の観点から、組成物が有機溶剤を含有することが好ましい。この場合、溶剤の使用量は、本発明の組成物に対して、好ましくは５０質量％〜９８質量％であり、より好ましくは５０質量％〜９５質量％である。換言すると、本発明の組成物中の固形分濃度は、好ましくは２質量％〜５０質量％であり、より好ましくは５〜５０質量％である。

本発明の組成物は、必要に応じて、光増感剤、レベリング剤、カイラル剤等の添加剤を含んでいてもよい。

１−６．光増感剤
光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセン、アルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン或いはルブレンを挙げることができる。
光増感剤を用いることにより、化合物（Ａ）等の重合を高感度化することができる。また、光増感剤の使用量としては、化合物（Ａ）１００質量部に対して、例えば０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。

１−７．レベリング剤
レベリング剤としては、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系、パーフルオロアルキル系等が挙げられる。具体的には、例えば、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（fluorinert）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３、ＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。これらレベリング剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。

レベリング剤を用いることにより、位相差板を平滑化することができる。さらに位相差板の製造過程で、組成物（Ａ）の流動性を制御したり、化合物（Ａ）等を重合して得られる位相差板の架橋密度を調整したりすることができる。またレベリング剤の使用量は、化合物（Ａ）１００質量部に対して、例えば０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは０．５質量部〜１０質量部である。

１−８．カイラル剤
カイラル剤としては、公知のカイラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）を用いることができる。
カイラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もカイラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物又は面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン及びこれらの誘導体が挙げられる。
例えば、特開２００７−２６９６４０号公報、特開２００７−２６９６３９号公報、特開２００７−１７６８７０号公報、特開２００３−１３７８８７号公報、特表２０００−５１５４９６号公報、特開２００７−１６９１７８号公報、特表平９−５０６０８８号公報で開示されているような化合物が挙げられ、好ましくはＢＡＳＦジャパン（株）製のｐａｌｉｏｃｏｌｏr（登録商標） ＬＣ７５６が挙げられる。
カイラル剤の使用量は、たとえば化合物（Ａ）１００質量部に対して、例えば０．１質量部〜３０質量部であり、好ましくは１．０質量部〜２５質量部である。上記範囲内であれば、組成物に含まれる重合性成分を重合する際に、化合物（Ａ）の配向を乱すことをより抑制できる。

２．光学フィルム
本発明の光学フィルムは、上述した本発明の組成物に含まれる重合性成分を重合してなるものである。本発明の光学フィルムは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムである。光学的な機能とは、屈折、複屈折等を意味する。

本発明の光学フィルムは、可視光領域における透明性に優れ、様々な表示装置用部材として使用し得る。光学フィルムの厚さは、その位相差値によって適宜調節すればよいが、０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましく、光弾性を小さくする点で０．２μｍ〜５μｍであることがさらに好ましい。

本発明の光学フィルムは１枚で用いてもよいが、本発明の光学フィルム複数枚を積層させて用いてもよいし、他のフィルムと組み合わせて用いてもよい。他のフィルムと組み合わせて用いることにより、位相差フィルム、視野角補償フィルム、視野角拡大フィルム、反射防止フィルム、偏光フィルム、円偏光フィルム、楕円偏光フィルム、輝度向上フィルム等に利用することができる。

特に、本発明の光学フィルムは、化合物（Ａ）の配向状態を変えて光学特性を変化させることにより、ＶＡ（vertical alignment）モード、ＩＰＳ（in-plane switching）モード、ＯＣＢ（optically compensated bend）モード、ＴＮ（twisted nematic）モード、ＳＴＮ（super twisted nematic）モード等種々の液晶表示装置用の位相差フィルムとして調整することができる。

２−１．位相差フィルム
前記光学フィルムの一種である位相差フィルムは本発明の好適な実施態様の一つである。本発明の位相差フィルムは、本発明の組成物に含まれる重合性成分を重合してなるものである。前記位相差フィルムは、直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光又は楕円偏光を直線偏光に変換したり、直線偏光の偏光方向を変換したりするために用いられる。

前記位相差フィルムとしては、面内の遅相軸方向の屈折率をｎ_x、面内の遅相軸と直交する方向（進相軸方向）の屈折率をｎ_y、厚み方向の屈折率をｎ_zとした場合、ｎ_x＞ｎ_y≒ｎ_zのポジティブＡプレート、ｎ_x≒ｎ_y＞ｎ_zのネガティブＣプレート、ｎ_x≒ｎ_y＜ｎ_zのポジティブＣプレート、ｎ_x≠ｎ_y≠ｎ_zのポジティブＯプレート及びネガティブＯプレートが挙げられる。

前記位相差フィルムの位相差値は、用いられる表示装置により、３０〜３００ｎｍの範囲から適宜選択すればよい。
前記位相差フィルムを広帯域λ／４板として用いる場合は、Ｒｅ（５４９）は１１３〜１６３ｎｍ、好ましくは１３０〜１５０ｎｍに調整すればよい。広帯域λ／２板として用いる場合は、Ｒｅ（５４９）は２５０〜３００ｎｍ、好ましくは２６５〜２８５ｎｍに調整すればよい。位相差値が前記の値であると、広範の波長の光に対し、一様に偏光変換できる傾向があり、好ましい。ここで、広帯域λ／４板とは、各波長の光に対し、その１／４の位相差値を発現する位相差板であり、広帯域λ／２板とは、各波長の光に対し、その１／２の位相差値を発現する位相差板である。

なお、本発明の組成物中の化合物（Ａ）及び液晶化合物の含有量を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように膜厚を調製することができる。得られるフィルムの位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、式（４）のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るためには、Δｎ（λ）と膜厚ｄを適宜調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （４）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）

２−２．光学フィルムの製造方法
前記光学フィルムは、基材の上に組成物を塗布し、乾燥し、組成物に含まれる化合物（Ａ）を重合することにより製造することができる。以下、光学フィルムの製造方法の一例を説明する。

２−２−１．未重合フィルムの作製
基材の上に、組成物を塗布し、乾燥すると、未重合フィルムが得られる。該基材上には、配向膜が形成されていてもよい。未重合フィルムがネマチック相等の液晶相を示す場合、モノドメイン配向による複屈折性を有する。

基材への塗布方法としては、例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等が挙げられる。

前記基材としては、例えば、ガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム、透光性フィルムが好ましい。前記透光性フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム及びポリフェニレンオキシドフィルム等が挙げられる。

本発明の光学フィルムは、前記基材と積層した状態で使用してもよい。光学フィルムに前記基材を積層しておくことで、フィルムを貼合する際、フィルムの運搬、保管等を行う際等に、光学フィルムが破損することが抑制され、容易に取り扱うことができる。

本発明の光学フィルムを製造する際には、前記基材上に配向膜を形成させた後、該配向膜の上に組成物を塗布することが好ましい。このような配向膜を用いれば、光学フィルムに対して延伸による屈折率制御を行う必要がないため、複屈折の面内ばらつきが小さくなる。そのため、フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）の大型化にも対応可能な大きな光学フィルムを提供できる。

配向膜は、組成物の塗布時に溶解しない溶剤耐性を持つこと、溶剤の除去や液晶の配向の加熱処理に対する耐熱性をもつこと、ラビング時に、摩擦等による剥がれ等が起きないことが好ましく、配向性ポリマー又は配向性ポリマーを含有する組成物からなることが好ましい。

前記配向性ポリマーとしては、例えば、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。これらの配向性ポリマーは、単独で用いてもよいし、２種類以上混ぜたり、共重合体したりしてもよい。これらのポリマーは、脱水や脱アミン等による重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等で容易に得ることができる。

これらの配向性ポリマーは、溶剤に溶解して、塗布することができる。溶剤は、特に制限はないが、具体的には、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；トルエン及びキシレン等の芳香族溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶媒；あるいはクロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素系溶媒；等が挙げられる。これら有機溶媒は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。

また配向膜を形成するために、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー（登録商標）（日産化学工業（株）製）及びオプトマー（登録商標）（ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。

前記基材上に配向膜を形成する方法としては、例えば、前記基材上に、市販の配向膜材料や配向膜の材料となる化合物を溶液にして塗布し、その後、アニールすることにより、前記基材上に配向膜を形成することができる。

前記配向膜の厚さは、例えば、１０ｎｍ〜１００００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜１０００ｎｍである。配向膜の厚さが上記範囲内であれば、該配向膜上で化合物（Ａ）を所望の角度に配向させることができる。

また、前記配向膜には、必要に応じて、ラビングもしくは偏光ＵＶ照射のような配向処理を施してもよい。これらの配向処理を施すことにより、化合物（Ａ）を所望の角度及び方向により配向させることができる。また、ラビングもしくは偏光ＵＶ照射を行う時に、マスキングを行えば、得られる光学フィルムに配向パターンを作製することができる。配向膜をラビングする方法としては、例えば、ステージ上を搬送されている配向膜に、ラビング布が巻きつけられ回転しているラビングロールを接触させる方法が挙げられる。

２−２−２．未重合フィルムの重合
得られた未重合フィルムに含まれる重合性成分を重合させることにより、光学フィルムが得られる。
光学フィルムは、化合物（Ａ）の配向が固定されており、熱による複屈折の変化の影響を受けにくい。

未重合フィルムを重合させる方法には、光重合法が用いられる。光重合法によれば、低温で未重合フィルムを重合させることができ、基材の耐熱性の選択幅が広がる。光重合反応は、未重合フィルムに、可視光、紫外光またはレーザー光を照射することにより行われる。取り扱いの点で、紫外光が特に好ましい。

なお、溶剤の除去は、重合反応と並行して行ってもよいが、重合反応を行う前に、ほとんどの溶剤を除去することが、成膜性の点で好ましい。その除去方法としては、自然乾燥、通風乾燥、減圧乾燥、加熱乾燥等の方法が挙げられる。加熱して溶剤を除去する際の温度は、０℃〜２５０℃が好ましく、より好ましくは５０℃〜２２０℃、さらに好ましくは８０℃〜１７０℃である。加熱時間は、１０秒間〜６０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間〜３０分間である。加熱温度および加熱時間が上記範囲内であれば、基材として、耐熱性が必ずしも十分ではないものを用いることができる。

化合物（Ａ）を重合させた後、基材を剥離することにより、配向膜と本発明の光学フィルムとが積層されたフィルムが得られ、さらに、配向膜を剥離して、本発明の光学フィルムを得ることができる。また、他の基材を、本発明の光学フィルムに貼合し、先に積層していた基材を剥離する、あるいは、先に積層していた基材および配向膜を剥離することにより、転写を行うこともできる。

３．偏光板
本発明の偏光板は、上述した光学フィルム又は位相差フィルムを少なくとも一つ有するものである。
本発明の偏光板としては、図１（ａ）〜図１（ｅ）に示すように、（１）本発明の光学フィルム１と、偏光フィルム層２とが、直接積層された偏光板４ａ（図１（ａ））；（２）本発明の光学フィルム１と偏光フィルム層２とが、接着剤層３を介して貼り合わされた偏光板４ｂ（図１（ｂ））；（３）本発明の光学フィルム１と本発明の光学フィルム１’とを積層させ、さらに、本発明の光学フィルム１’と偏光フィルム層２とを積層させた偏光板４ｃ（図１（ｃ））；（４）本発明の光学フィルム１と本発明の光学フィルム１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、本発明の光学フィルム１’上に偏光フィルム層２を積層させた偏光板４ｄ（図１（ｄ））；及び、（５）本発明の光学フィルム１と本発明の光学フィルム１’とを接着剤層３を介して貼り合わせ、さらに、本発明の光学フィルム１’と偏光フィルム層２とを接着剤層３’を介して貼り合せた偏光板４ｅ（図１（ｅ））等が挙げられる。ここで接着剤とは、接着剤及び／又は粘着剤のことを総称していう。なお、図１の説明では、光学フィルムとしては、本発明の光学フィルムのみであってもよいし、本発明の光学フィルムに配向膜が積層しているものであってもよいし、本発明の光学フィルムに配向膜及び支持基材が積層しているものであってもよい。

前記偏光フィルム層２は、偏光機能を有するフィルムであればよく、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素や二色性色素を吸着させて延伸したフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを延伸して沃素や二色性色素を吸着させたフィルム等が挙げられる。

また、偏光フィルム層は、必要に応じて、保護フィルムとなるフィルムを備えていてもよい。前記保護フィルムとしては、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム及びポリフェニレンオキシドフィルム等が挙げられる。

接着剤層３及び接着剤層３’に用いられる接着剤は、透明性が高く耐熱性に優れた接着剤であることが好ましい。そのような接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、エポキシ系接着剤あるいはウレタン系接着剤等が用いられる。
また、偏光板においては、図１（ｃ）〜図１（ｅ）に示すように、２以上の本発明の光学フィルムを直接または接着剤層を介して貼り合わせてもよい。

４．フラットパネル表示装置
本発明のフラットパネル表示装置は、本発明の光学フィルム又は位相差フィルムを備えるものであり、例えば、本発明の光学フィルムと、液晶パネルとが貼り合わされた液晶パネルを備える液晶表示装置や、本発明の光学フィルムと、発光層とが貼り合わされた有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」ともいう）パネルを備える有機ＥＬ表示装置を挙げることができる。本発明のフラットパネル表示装置の実施形態として、液晶表示装置と、有機ＥＬ表示装置とについて、以下詳細に述べる。

４−１．液晶表示装置
液晶表示装置としては、例えば、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すような液晶表示装置等が挙げられる。図２（ａ）に示す液晶表示装置１０ａは、本発明の偏光板４と液晶パネル６とを、接着層５を介して貼り合わせてなるものであり、図２（ｂ）に示す液晶表示装置１０ｂは、本発明の偏光板４と本発明の偏光板４’とを液晶パネル６の両面に接着層５及び接着層５’を介して貼り合わせたものである。上記構成によれば、図示しない電極を用いて、液晶パネルに電圧を印加することにより、液晶分子の配向が変化し、白黒表示ができる。

４−２．有機ＥＬ表示装置
有機ＥＬ表示装置としては、図３に示す有機ＥＬ表示装置等が挙げられる。上記有機ＥＬ表示装置としては、本発明の偏光板４と、有機ＥＬパネル７とを、接着層５を介して貼り合わせてなる有機ＥＬ表示装置１１が挙げられる。上記有機ＥＬパネル７は、導電性有機化合物からなる少なくとも１層の層である。上記構成によれば、図示しない電極を用いて、有機ＥＬパネルに電圧を印加することにより、有機ＥＬパネルが有する発光層に含まれる化合物が発光し、白黒表示ができる。
なお、上記有機ＥＬ表示装置１１において、偏光板４は、広帯域円偏光板として機能するものであることが好ましい。広帯域円偏光板として機能するものであると、有機ＥＬ表示装置１１の表面において外光の反射を防止することができる。

５．カラーフィルタ
本発明の光学フィルタは、カラーフィルタ層を積層して、カラーフィルタとして用いることもできる。カラーフィルタとしては、図４に示される構成が挙げられる。カラーフィルタ１４は、本発明の光学フィルム１２の上にカラーフィルタ層１３が形成されてなる。カラーフィルタ層１３とは、可視光領域の特定の光を吸収する機能を有する層であり、例えば、白色光を赤、青、緑等の色の光に変換する層である。

カラーフィルタ１４の製造方法の一例を説明する。まず、基材上に、配向膜材料を塗布し、ラビング処理又は偏光ＵＶ処理を施して、配向膜を形成する。次に得られた配向膜上に、得られる光学フィルムが所望の波長分散特性を示すように、化合物（Ａ）の濃度が調整された本発明の組成物を、得られる光学フィルムが所望の位相差値になるよう厚みを調整しながら塗布して、膜を形成する。次に得られた本発明の光学フィルム１２上に、カラーフィルタ層１３を形成する。本発明の光学フィルム１２は、化合物（Ａ）が配向する向きが異なる領域を複数有するパターン化光学フィルムであってもよい。パターン化光学フィルムは、前記のラビング処理又は偏光ＵＶ処理を、マスクを介して行うことにより得ることができる。

以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は、下記実施例によって限定されるものではなく、前・後記の趣旨に適合しうる範囲で適宜変更して実施することも可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。なお、例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。

１．合成例
化合物（Ａ１１−１）は下記のスキームに従って合成した。

１−１．「４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸の合成」
４，６−ジメチルサリチルアルデヒド１４６．６ｇ、炭酸カリウム３３０．７ｇをＮ，Ｎ’―ジメチルアセトアミド７００ｍＬに分散させた。分散液を８０℃に加温した後、ブロモ酢酸ｔｅｒｔ−ブチル１９０．５ｇを３０分かけて滴下した。混合液を１３０℃で２時間反応させた。反応液を室温まで冷却後、メチルイソブチルケトン６００ｍＬを加えて、純水１２００ｍＬで分液した。さらに有機層を２回１０００ｍＬの純水で洗浄し、有機層を回収した。無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレータにて溶媒を留去した。残渣を酢酸２４０ｇに溶解させて、臭化水素酸水溶液７２ｇを加えて、４０℃で１時間攪拌した。室温まで放冷後、１Ｎ（１ｍｏｌ／Ｌ）−塩酸１５０ｇを加えて析出した白色粉末を濾取した。得られた白色粉末をさらに、１Ｎ−塩酸で洗浄した後、真空乾燥させることにより、４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸を８１．７ｇ黄色粉末として得た。収率は４，６−ジメチルサリチルアルデヒド基準で４４％であった。

１−２．「化合物（１１−ａ）の合成」
４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸８０ｇ、２，５−ジメトキシアニリン９６．６ｇ及びクロロホルム４００ｇを混合した。得られた懸濁液を氷浴にて冷却した後、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩８８．７ｇとクロロホルム３００ｇとの混合液を４時間かけて加えて、室温で４８時間反応させた。得られた混合液を濃縮し、１Ｎ−塩酸、水−メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）を加えて晶析させた。得られた沈殿を濾取し水−メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）を加えた。析出した淡黄色沈殿を濾取し、水−メタノールの混合溶液（水２体積部、メタノール１体積部）で洗浄、真空乾燥して、淡黄色粉末として化合物（１１−ａ）を１２４．２ｇ得た。収率は４，６−ジメチルベンゾフラン−２−カルボン酸基準で９１％であった。

１−３．「化合物（１１−ｂ）の合成」
化合物（１１−ａ）１２３ｇ、２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（ローソン試薬）９．２ｇ及びトルエン１２００ｇを混合し、得られた混合液を１１０℃に昇温して８時間反応させた。室温まで冷却後、１Ｎ−水酸化ナトリウム水溶液で分液した。有機層を回収し、ｎ−ヘプタン８００ｍＬを加えた。析出した黄色沈殿を濾取、ｎ−ヘプタンで洗浄、真空乾燥させることにより鮮黄色粉末として化合物（１１−ｂ）を１０９．２ｇ得た。収率は化合物（１１−ａ）基準で８５％であった。

１−４．「化合物（１１−ｃ）の合成」
化合物（１１−ｂ）６０ｇ、水酸化カリウム５３．８ｇ及び水１０００ｇを混合し、得られた混合液を氷冷下で攪拌した。続いてフェリシアン化カリウム１３３ｇ、メタノール５１ｇを加え、反応させた。室温で３６時間反応させて、析出した黄色沈殿を濾取した。濾取した沈殿をｎ−ヘプタン−トルエンの混合溶媒（ｎ−ヘプタン３体積部、トルエン１体積部）で洗浄し、得られた黄色粉末を真空乾燥して、黄色固体として化合物（１１−ｃ）を５１．３ｇを得た。収率は化合物（１１−ｂ）基準で８６％であった。

１−５．「化合物（１１−ｄ）の合成」
化合物（１１−ｃ）４０ｇ及び塩化ピリジニウム４００ｇ（１０倍質量）を混合し、１８０℃に昇温して３時間反応させた。得られた混合液を氷に加え、得られた沈殿を濾取した。水で懸洗後、トルエンで洗浄、真空乾燥させて、化合物（１１−ｄ）を主成分とする黄色固体３６．６ｇを得た。収率は化合物（１１−ｃ）基準で９９％であった。

１−６．「化合物（Ｒ−１ａ）の合成」
化合物（Ｒ−１ａ）は、特開２０１０−３１２２３号公報の段落０２４４を参考に合成した。

１−７．「化合物（Ａ１１−１）の合成」
化合物（１１−ｄ）３５ｇ、化合物（Ｒ−１ａ）９８．８ｇ、ジメチルアミノピリジン１．３７ｇ及びトルエン７００ｍＬを混合した。得られた混合液にＮ、Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド５５．６ｇを氷冷下で加えた。得られた反応溶液を室温で終夜反応させ、シリカゲル濾過したのち、減圧濃縮した。残渣にメタノールを加えて結晶化させた。結晶を濾取し、クロロホルムに再溶解させ２．３ｇの活性炭を加えて、室温で一時間攪拌した。溶液を濾過して濾液をエバポレータにて体積が１／３になるまで減圧濃縮後、攪拌しながらメタノールを加えて、生成した白色沈殿を濾取し、ヘプタンで洗浄、真空乾燥して化合物（Ａ１１−１）を白色粉末として７４．５ｇ得た。収率は化合物（１１−ｄ）基準で６０％であった。

２．組成物の調製
表１に示す各成分を混合し、得られた溶液を８０℃で１時間攪拌した後、室温まで冷却して組成物を調製した。

表中のＡ１１−１、ｖ−１、Ｂ−１、Ｂ−２、Ｃ−１〜Ｃ−１０、ＢＹＫ３６１Ｎは以下の化合物を表す。

化合物（Ａ）；
Ａ１１−１：合成例１で得られた化合物（Ａ１１−１）
ｖ−１：式（ｖ−１）で表される化合物

光重合開始剤（Ｂ）；
Ｂ−１：式（Ｂ−１）で表される化合物（イルガキュア３６９；ＢＡＳＦジャパン（株）製)

Ｂ−２：式（Ｂ−２）で表される化合物（イルガキュア８１９；ＢＡＳＦジャパン（株）製)

酸化防止剤（Ｃ）；
Ｃ−１：２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−メチルフェノール（東京化成工業製）
Ｃ−２：スミライザーＧＭ（フェノール系酸化防止剤；住友化学（株）製）
Ｃ−３：スミライザーＧＳ−Ｆ（フェノール系酸化防止剤；住友化学（株）製）
Ｃ−４：スミライザーＧＡ−８０（フェノール系酸化防止剤；住友化学（株）製）
Ｃ−５：Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（フェノール系酸化防止剤；ＢＡＳＦジャパン（株）製）
Ｃ−６：Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４（フェノール系酸化防止剤；ＢＡＳＦジャパン（株）製）
Ｃ−７：スミライザーＴＰＬ−Ｒ（イオウ系酸化防止剤；住友化学（株）製）
Ｃ−８：スミライザーＴＰＭ（イオウ系酸化防止剤；住友化学（株）製）
Ｃ−９：スミライザーＧＰ（リン系酸化防止剤；住友化学（株）製）
Ｃ−１０：Ｉｒｇａｎｏｘ１６８（リン系酸化防止剤；ＢＡＳＦジャパン（株）製）
レベリング剤；
ＢＹＫ３６１Ｎ（ビックケミージャパン社製）

３．光学フィルムの作製
ガラス基板に、ポリビニルアルコール（ポリビニルアルコール１０００完全ケン化型、和光純薬工業（株）製）の２質量％水溶液をスピンコート法により塗布した後、１２０℃で６０分加熱乾燥し、ガラス基板上に厚さ８９ｎｍのポリビニルアルコール膜を得た。続いて、ポリビニルアルコール膜の表面にラビング処理を施した。得られたポリビニルアルコール膜に、組成物をスピンコート法により塗布し、ホットプレート上１４０℃で１分間乾燥させた。その後、８０℃に加熱しながらＵＶ露光装置（ユニキュア；ウシオ電機（株）製）を用いて２４００ｍＪ／ｃｍ²（３６５ｎｍ基準）を照射して、光学フィルムを得た。

３−１．位相差値の測定
得られた光学フィルムの正面位相差値を、測定機（ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、王子計測機器社製）を用いて測定した。尚、基材に使用したガラス基板には、複屈折性が無いため、ガラス基板付きフィルムを測定機で計測することにより、ガラス基板上に作製した光学フィルムの正面位相差値を得ることができる。得られた光学測定正面位相差値は、波長４５１ｎｍ、５４９ｎｍ、及び６２８ｎｍにおいて、それぞれ測定し、［Ｒｅ（４５１）／Ｒｅ（５４９）］（αとする）及び［Ｒｅ（６２８）／Ｒｅ（５４９）］（βとする）を算出した。

３−２．色度の測定
紫外可視赤外分光光度計（ＵＶ−３１５０；島津製作所製）を用いて、得られた光学フィルムの透過率を測定した。測定した透過率とＣ光源の等色関数とから、Ｌ^*ａ^*ｂ^*（ＣＩＥ）表色系における色度ａ^*及びｂ^*、並びにこれらの絶対値である|ａ^*|及び|ｂ^*|を算出した。

３−３．光学フィルムの耐湿熱性試験
得られた光学フィルムを、温度６０℃湿度９０％のオーブン中で１０００時間保管した。保管前後の位相差値および色度を測定した。保管前のαに対する試験後のαの差を△α、保管前の|ａ^*|に対する保管後の|ａ^*|の差をΔ|ａ^*|、保管前の|ｂ^*|に対する保管後の|ｂ^*|の差をΔ|ｂ^*|として算出した。△αが−０．２以上＋０．２以下、かつΔ|ａ^*|およびΔ|ｂ^*|が−３．０以上＋３．０以下であれば、光学フィルムの耐湿熱性は良好であると判断できる。位相差値の測定結果を表２に、色度の測定結果を表３に示す。

実施例の光学フィルムは、△α、Δ|ａ^*|及びΔ|ｂ^*|が小さく、耐湿熱性に優れることが示された。また、実施例の中でも、酸化防止剤としてフェノール系酸化防止剤を含有する実施例１〜６の光学フィルムは、特にΔ|ｂ^*|が小さく、耐湿熱性により優れることが示された。

本発明によれば、耐湿熱性に優れる光学フィルムを得ることができる。

１、１’、１２：本発明の光学フィルム、
２：偏光フィルム層、
３、３’：接着剤層、
４ａ、４ｂ、４ｃ、４ｄ、４ｅ、４、４’：本発明の偏光板、
５、５’：接着層、
６：液晶パネル、
７：有機ＥＬパネル、
１０ａ、１０ｂ：液晶表示装置、
１１：有機ＥＬ表示装置、
１３：カラーフィルタ層、
１４：カラーフィルタ。

Claims (9)

1. 式（Ａ）で表される化合物、酸化防止剤及び光重合開始剤を含む組成物。
   
   ［式（Ａ）中、Ｘ¹は、−Ｓ−、−Ｏ−又は−ＮＲ¹−を表す。Ｒ¹は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｙ¹は、炭素数６〜１２の縮合多環系芳香族炭化水素基、又は、炭素数３〜１２の縮合多環系芳香族複素環式基を表す。
   Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２の環状アルキル基、１価の炭素数６〜１４の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ²Ｒ³又は−ＳＲ²を表し、Ｑ¹及びＱ²は、互いに結合して芳香環又は芳香族複素環を形成していてもよい。Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基を表す。
   Ｄ¹及びＤ²は、それぞれ独立に、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＲ⁴Ｒ⁵−、−ＮＲ⁴−ＣＲ⁵Ｒ⁶−又は−ＣＯ−ＮＲ⁴−を表す。
   Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びＲ⁷は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。
   Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
   Ｌ¹は式（Ａ１）で表される基であり、かつ、式（Ａ）におけるＬ²は式（Ａ２）で表される基である。
   Ｐ¹−Ｆ¹−（Ｂ¹−Ａ¹）_k−Ｅ¹− （Ａ１）
   Ｐ²−Ｆ²−（Ｂ²−Ａ²）_l−Ｅ²− （Ａ２）
   ［式（Ａ１）及び式（Ａ２）中、Ａ ¹ のみと結合しているＢ ¹ 、及びＡ ² のみと結合しているＢ ² は、それぞれ独立に、−ＣＨ ₂ −ＣＨ ₂ −、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−Ｏ−ＣＨ ₂ −又は単結合を表し、Ｆ ¹ と結合しているＢ ¹ 、及びＦ ² と結合しているＢ ² は、それぞれ独立に、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＨ−又は単結合を表す。
   Ｅ¹及びＥ²は、それぞれ独立に、−ＣＲ¹¹Ｒ¹²−、−ＣＨ₂−ＣＨ₂−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ¹¹−、−Ｏ−ＣＨ₂−、−Ｓ−ＣＨ₂−又は単結合を表す。
   Ａ¹及びＡ²は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ₂−は、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＨ−で置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる−ＣＨ（−）−は、−Ｎ（−）−で置き換っていてもよい。
   ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表す。ｋが２以上の整数である場合、複数のＢ¹及びＡ¹は互いに同一であっても異なっていてもよい。ｌが２以上の整数である場合、複数のＢ²及びＡ²は互いに同一であっても異なっていてもよい。
   Ｆ¹及びＦ²は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
   Ｐ¹及びＰ²は、水素原子、ラジカル重合性基又はカチオン重合性基を表し、少なくとも一方が重合性基である。
   Ｒ¹¹及びＲ¹²は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。］］
2. 前記光重合開始剤が、アルキルフェノン化合物である請求項１に記載の組成物。
3. 前記アルキルフェノン化合物が、式（Ｃ−１）で表される化合物である請求項２に記載の組成物。
   ［式（Ｃ−１）中、Ｑ³は、水素原子又はメチル基を表す。］
4. 前記酸化防止剤が、フェノール系酸化防止剤である請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物に含まれる重合性成分を重合してなる光学フィルム。
6. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物に含まれる重合性成分を重合してなる位相差フィルム。
7. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の組成物に含まれる重合性成分を重合してなる位相差フィルムであって、逆波長分散特性を示す位相差フィルム。
8. 請求項５に記載の光学フィルム、請求項６に記載の位相差フィルム及び請求項７に記載の位相差フィルムからなる群から選ばれる少なくとも１種を有する偏光板。
9. 請求項５に記載の光学フィルム、請求項６記載の位相差フィルム及び請求項７に記載の位相差フィルムからなる群から選ばれる少なくとも１種を有するフラットパネル表示装置。