JP5122930B2 - エバネッセント波発生装置及びそれを用いた観察装置 - Google Patents
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Description
1 エバネッセント波発生装置
5 プリズム
6 導入用レンズ
10、50、60 光入射手段
20 光検出手段
40 サンプル容器
40A ウエル
40B 底壁
45 対物レンズ
48 CCDカメラ
Claims (8)
- プリズム内に複数条の光を導入し、複数のエバネッセント波発生面においてそれぞれ全反射させ、エバネッセント波を発生させるエバネッセント波発生装置において、
光軸に平行な光が入射した場合に、入射位置にかかわらず、当該光を一点に集中させる屈折機能を有した複数の導入用レンズが並設されて成るレンズアレイと、
前記複数条の平行光を発生する光入射手段とを備え、
該光入射手段から前記レンズアレイの前記各導入用レンズへそれぞれ入射し、各導入用レンズをそれぞれ通過した複数条の光を前記プリズム内に導入すると共に、
前記光入射手段は、前記各導入用レンズの光軸に対して同時に平行に入射させる移動手段を有し、前記各導入用レンズの直径よりも狭い幅の光を該各導入用レンズに入射させることを特徴とするエバネッセント波発生装置。 - 前記導入用レンズは、一つのレンズのうちの必要箇所のみを残して切除して成るレンズ断片であることを特徴とする請求項1に記載のエバネッセント波発生装置。
- 前記光入射手段は、前記入射位置の変更方向に対して所定の幅を有し、且つ、前記各導入用レンズの光軸に平行な光を発生させる平行光発生手段と、該平行光発生手段からの光の一部が通過する複数の窓孔を有した遮蔽部材とを備え、該遮蔽部材を移動させて前記各導入用レンズへの光の入射位置を同時に変更することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のエバネッセント波発生装置。
- 前記平行光発生手段は、点光源と、該点光源からの拡散光を前記各導入用レンズの光軸に平行な光に屈折させる光源用レンズとを有することを特徴とする請求項3に記載のエバネッセント波発生装置。
- 前記平行光発生手段からの光を、波長に応じて選択的に通過させるフィルタを備えたことを特徴とする請求項3又は請求項4に記載のエバネッセント波発生装置。
- 前記光入射手段は、レーザー光を発生する複数のレーザー光源を有し、各レーザー光源からのレーザー光を前記各導入用レンズにそれぞれ入射させると共に、前記各レーザー光源を同時に移動させて前記各導入用レンズへのレーザー光の入射位置を同時に変更することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のエバネッセント波発生装置。
- 前記各エバネッセント波発生面において発生するエバネッセント波により、複数の測定サンプルの散乱光、及び/又は、蛍光を検出する手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項6の何れかに記載のエバネッセント波発生装置を用いた観察装置。
- 前記各エバネッセント波を用いた表面プラズモン共鳴による複数の反射光強度の変化を検出する手段を備えたことを特徴とする請求項1乃至請求項6の何れかに記載のエバネッセント波発生装置を用いた観察装置。
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