JP5093227B2 - 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明はセルロースエステルを有してなる光学フィルム、光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを用いた偏光板、及び液晶表示装置に関する。

セルロースエステルを有してなる光学フィルムは、その高い透明性・低複屈折性・偏光子との易接着性などから、写真用ネガフィルムの支持体や、液晶表示装置に用いられる偏光子を保護する光学フィルムとして、偏光板などに多く用いられてきた。

また、液晶表示装置に対するその他の用途として、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプレイに用いられる反射防止フィルム等の各種機能フィルム、更には、有機ＥＬディスプレイ等で使用される各種機能フィルム等にも利用することができる。

液晶表示装置は、その奥行きの薄さ、軽さから近年大幅に生産量が増大しており、需要が高くなっている。

また液晶表示装置を用いたテレビは、薄く軽いという特徴を有し、ブラウン管を用いたテレビでは達成されなかったような大型のテレビが生産されるようになっており、それに伴って液晶表示装置を構成する偏光子、偏光板保護フィルムの需要が増大してきている。偏光板保護フィルムとしてはその光学特性の優秀さから、一般に光学フィルムが用いられている。

これらの光学フィルムは、これまで、専ら溶液流延法によって製造されてきた。溶液流延法とは、セルロースエステルを溶媒に溶解した溶液を流延してフィルム形状を得た後、溶媒を蒸発・乾燥させてフィルムを得るといった製膜方法である。溶液流延法で製膜したフィルムは平面性が高いため、これを用いてムラのない高画質な液晶表示装置を得ることが出来る。

しかし溶液流延法は多量の有機溶媒を必要とし、環境負荷が大きいことも課題となっている。光学フィルムは、その溶解特性から、環境負荷の大きいハロゲン系溶媒を用いて製膜されているため、特に溶剤使用量の削減が求められており、溶液流延製膜によって光学フィルムを増産することは困難となってきている。

このため、有機溶媒を使用しない製膜方法、例えば、加熱溶融により製膜方法が望まれている。

さて、液晶表示装置の偏光板に用いられる保護フィルムとして用いられている光学フィルムは、従来セルローストリアセテートフィルムがその複屈折性が小さいことからよく用いられている。

偏光板は、一般に、ヨウ素や染料を吸着配向させたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光フィルムの表裏両側を、透明な樹脂層で積層した構成を有しており、セルローストリアセテートフィルムがこの透明な樹脂層として良く使われてきた。

しかしながら、溶液流延製膜で一般に用いられているセルロースエステルであるセルローストリアセテートを溶融製膜に適用しようとした場合、セルローストリアセテートは分解開始温度が溶融開始温度より低いセルロースエステルであるため、溶融製膜に用いることは難しい。

近年、セルロースエステルをアセチル基だけでなく特定の割合のプロピオニル基やブチリル基で置換することによって、銀塩写真用（例えば、特許文献１参照。）或いは偏光板保護フィルム用（例えば、特許文献２、３参照。）として、このようなセルロースエステルを溶融製膜する試みが行われている。

このようなセルロースエステルは分解開始温度が溶融開始温度より高いため、溶融製膜することが可能となる。

ところで、セルロースエステルは、天然原料由来の材料であることから、元々微量の金属イオンを含有しており、かつセルロースのエステル化工程で混入する金属イオンやごみを、少なからず含んでいる。これらの微量金属イオンやごみの除去は、最終的には光学フィルムの製膜工程において、フィルターを介して濾過で除去している。従来の溶液流延法では溶液の粘度が低いため濾過には特に問題がなかったが、加熱溶融による製膜においては、溶媒を用いないため粘度が高く、濾過に時間を要し、生産性に支障をきたしていた。

一方、溶融製膜時の温度を上げればセルロースエステルの粘度が低下するので、濾過が短時間で済み、生産性を向上させることが可能になるが、もともとセルロースエステルは熱に弱い樹脂であるため、樹脂の劣化と生産性がドレードオフの関係にあるという課題があった。

このようなトレードオフの関係を解消する試みもなされているが（例えば、特許文献４、５参照。）、下記に示すケン化適性が劣ることが判明した。

一方、セルロースエステルを溶融製膜するに際し、特定の劣化防止剤を添加することが知られている（例えば、特許文献６参照。）。

基本的に劣化防止剤を添加することによって、セルロースエステルの化学特性の劣化（着色、分子量の低下）を防止するが、セルロースエステルと劣化防止剤の組み合わせが適切でないと逆効果、つまり、セルロースエステルの化学特性をかえって劣化させてしまうことが課題である。

ところで、用いる劣化防止剤の種類によっては化学特性の劣化はないものの、光学特性を劣化させることがある。

また、他の樹脂と同様、セルロースエステルに関してもその構造と光学特性は密接な関係があり、セルロースエステルの構造に大きな影響を及ぼす置換基の種類と、その置換度、さらには置換基の位置に相応した適切な劣化防止剤を選択することが重要である。

さて、上記のプロピオニル基やブチリル基で置換されたセルロースエステルは、アセチル基に対してプロピオニル基やブチリル基の置換度を高めることで、同一温度で比較した時の溶融粘度が小さくなるため、生産性的には有利になるものの下記のように課題も多い。

一般に、セルロースフィルムを有してなる保護フィルムと偏光子を貼り合わせて偏光板を作製する際、水溶性の接着剤を塗りやすくするため、フィルムを高温、高濃度のアルカリ液に浸漬して、所謂ケン化処理してフィルム表面を親水化してから接着剤を塗布し偏光子と貼り合わせている。

上記偏光子との易接着性から、偏光板保護フィルム用透明樹脂フィルムはもっぱらトリアセチルセルロースが使われてきたが、未だに他のフィルムに置き換わらない理由の一つとして、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、または環状オレフィン樹脂フィルム等他のポリマーフィルムはケン化処理をしても偏光子との易接着性が得られないという理由があった。

上記の溶融製膜に適したアセチル基だけでなくプロピオニル基やブチリル基が置換した光学フィルムは、セルロースエステル以外のポリマーフィルムと比べて易接着性ではあるものの、プロピオニル基やブチリル基の置換度があまり高すぎると、ケン化処理が進行しにくくなり、その結果、接着性が劣ってしまうという課題を有していることが判明した。

特にプロピオニル基とブチリル基を比べると、炭素数にして１個だけの違いであるにもかかわらず、ブチリル基が結合することによってケン化処理が大幅に進行しにくくなることが判明した。

このように、従来はケン化適性も生産性とドレードオフの関係にあった。

昨今、コストダウンのための生産性向上の重要性がますます高まる状況にあり、ケン化工程の短時間化が望まれている。このような中、ケン化しにくいフィルムの採用は致命的である。

以上のように、従来は、保護フィルム作製時の課題解決法（例えば、特許文献４、５参照。）、或いは偏光板作製時の課題解決法（例えば、特許文献７参照。）が知られているもののそれぞれ効果は不十分であり、ましてや両者を同時に解決する方法は提示されていない。

従って、溶液流延法によって製膜されたトリアセチルセルロースフィルムに代わり、優れた環境適性を有し、品質及び生産性の共に良好なセルロースエステルを有してなる光学フィルム、光学フィルムの製造方法、ひいては該光学フィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置の出現が待たれている状況にある。
特表平６−５０１０４０号公報 特開２０００−３５２６２０号公報 特開２００６−１１１７９６号公報 特開２００６−１２４６４２号公報 特開２００６−３４８２６８号公報 特開２００６−２４１４２８号公報 特開２００７−２２１５号公報

本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、環境適性に優れ、生産性が良好で、光学特性に優れた、光学フィルム、詳しくは、溶融製膜時の溶融粘度が小さく、着色が小さく、リターデーションの変動が小さい光学フィルム、及び、該光学フィルムを用いて長期にわたって耐久性が良好な偏光板及び高いコントラストが達成された液晶表示装置を提供することにある。

本発明の上記目的は以下の構成により達成される。

１．光学フィルムがセルロースエステルを含有し、該セルロースエステルの１グルコース単位あたりの置換基の種類とその置換度が下記式（１）〜（３）の条件を同時に満たすセルロースエステルであることを特徴とする光学フィルム。

式（１） ６．３０≦２×Ｘ＋３×Ｙ≦７．５０
式（２） １．１０≦Ｙ≦１．５０
式（３） ０．３０≦Ｙ６≦０．５０
〔式中、Ｘは２位、３位、及び６位のアセチル基による平均置換度の合計を表し、Ｙは２位、３位、及び６位のプロピオニル基による平均置換度の合計を表し、Ｙ６は６位のプロピオニル基による平均置換度を表す。〕
２．前記セルロースエステルの重量平均分子量が、１５００００以上、かつ２５００００未満であることを特徴とする前記１に記載の光学フィルム。

３．前記光学フィルムがフェノール系化合物を含有することを特徴とする前記１又は２に記載の光学フィルム。

４．前記光学フィルムがリン系化合物を含有することを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。

５．前記光学フィルムがアルキルラジカル捕捉剤を含有することを特徴とする前記１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。

６．前記フェノール系化合物が、ヒンダードフェノール系化合物であることを特徴とする前記３〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。

７．前記リン系酸化防止剤化合物が、ホスホナイト系化合物であることを特徴とする前記４〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。

８．前記アルキルラジカル捕捉剤が、下記一般式（１）で表される化合物または下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする前記５〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。

〔式中、Ｒ₁は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ₂およびＲ₃は、それぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基を表す。〕

〔式中、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ₁₆は水素原子または置換基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。ｎが１であるとき、Ｒ₁₁は置換基を表し、ｎが２〜４の整数であるとき、Ｒ₁₁は２〜４価の連結基を表す。なお、該置換基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル基、ハロゲン原子、アルキニル基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ホスホノ基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、イミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、またはニトロ基を表す。〕
９．前記１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムを溶融流延法によって製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。

１０．前記１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。

１１．前記１０に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。

即ち、本発明者らは、上記の課題解決のために鋭意検討する過程において、セルロースエステルを構成する１グルコース単位の２位、３位及び６位の水酸基がアセチル基及びプロピオニル基で置換されたセルロースエステルを検討したところ、アセチル基及びプロピオニル基の置換状態（平均置換度、置換位置）が、本発明の構成範囲である場合、上記の課題がすべて解決できること見出し、本発明を完成するに至った。

本発明により、環境適性に優れ、生産性が良好で、光学特性に優れた、光学フィルム、詳しくは、溶融製膜時の溶融粘度が小さく、着色が小さく、リターデーションの変動が小さい光学フィルム、光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを用いて長期にわたって耐久性が良好な偏光板及び高いコントラストが達成された液晶表示装置を提供することができた。

本発明に係る光学フィルムの製造方法を実施する装置の１つの実施形態を示す概略フローシートである。 図１の製造装置の要部拡大フローシートである。 図３（ａ）は流延ダイの要部の外観図、図３（ｂ）は流延ダイの要部の断面図である。 挟圧回転体の第１実施形態の断面図である。 挟圧回転体の第２実施形態の回転軸に垂直な平面での断面図である。 挟圧回転体の第２実施形態の回転軸を含む平面での断面図である。 液晶表示装置の構成図の概略を示す分解斜視図である。 光学フィルム原反の保管の状態を示す図である。

符号の説明

１ 押出し機
２ フィルター
３ スタチックミキサー
４ 流延ダイ
５ 回転支持体（第１冷却ロール）
６ 挟圧回転体（タッチロール）
７ 回転支持体（第２冷却ロール）
８ 回転支持体（第３冷却ロール）
９、１１、１３、１４、１５ 搬送ロール
１０ 光学フィルム
１２ 延伸機
１６ 巻取り装置
２１ａ、２１ｂ 保護フィルム
２２ａ、２２ｂ 位相差フィルム
２３ａ、２３ｂ フィルムの遅相軸方向
２４ａ、２４ｂ 偏光子の透過軸方向
２５ａ、２５ｂ 偏光子
２６ａ、２６ｂ 偏光板
２７ 液晶セル
２９ 液晶表示装置
３１ ダイ本体
３２ スリット
４１ 金属スリーブ
４２ 弾性ローラ
４３ 金属製の内筒
４４ ゴム
４５ 冷却水
５１ 外筒
５２ 内筒
５３ 空間
５４ 冷却液
５５ａ、５５ｂ 回転軸
５６ａ、５６ｂ 外筒支持フランジ
６０ 流体軸筒
６１ａ、６１ｂ 内筒支持フランジ
６２ａ、６２ｂ 中間通路
１１０ 巻芯本体
１１７ 支え板
１１８ 架台
１２０ 光学フィルム原反

以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明は、生産性が良好で、光学特性に優れた光学フィルムを提供するものである。このような光学フィルムを用いることで、高品質の偏光板用保護フィルム、反射防止フィルム、位相差フィルム等の光学フィルムを得ることが出来、さらには表示品質の高い液晶表示装置を得ることが出来る。

本発明の光学フィルムは、溶液流延法、溶融流延のどちらによって製造された光学フィルムでもよいが、環境適性に鑑みると溶融流延法であることが好ましい。本発明において、溶液流延のように光学フィルムを溶媒に溶解させることなしに、該光学フィルム形成材料を加熱することにより流動可能な溶融状態とし、流延することを溶融流延法として定義する。

加熱溶融する成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度などに優れる光学フィルムを得るためには、溶融押出し法が優れている。

本発明において、光学フィルム形成材料が加熱されて、その流動性を発現させた後ドラム上またはエンドレスベルト上に押出し製膜する方法が、本発明の溶融流延法として好ましい態様である。

従って本発明の光学フィルムは、少なくとも１種の下記に示すセルロースエステルを含む光学フィルム形成材料を、好ましくは２００℃以上２７０℃以下の溶融温度にて加熱溶融し、溶融流延法により形成された光学フィルムであることが好ましい。

以下、本発明の光学フィルムについて説明する。

《セルロースエステル》
セルロ−スには、１グルコ−ス単位の２位、３位、６位に１個ずつ、計３個の水酸基があり、置換度とは、１グルコ−ス単位に平均してアシル基がどのような位置にどれだけ結合しているかを示す数値である。

従って、最大の置換度は３．００であり、上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。

このようなセルロ−スの水酸基の一部またはすべてがアシル基で置換されたものをセルロースエステルと称している。

本発明のセルロースエステルは、２位、３位、及び６位のアセチル基による平均置換度の合計をＸとし、２位、３位、及び６位のプロピオニル基による平均置換度の合計をＹとし、更に６位のプロピオニル基による平均置換度をＹ６としたときに、下記式（１）〜（３）を同時に満たすセルロースエステルである（以下、平均置換度を単に置換度と称する。）。

このようなセルロースエステルは、通常、セルロースアセテートプロピオネートと呼ばれる。

なお、下記式の何れか一つ、あるいは何れか二つを満たしているだけでは上記課題のすべての解決にはならず、三つすべてを同時に満たすことが重要である。

式（１） ６．３０≦２×Ｘ＋３×Ｙ≦７．５０
式（２） １．１０≦Ｙ≦１．５０
式（３） ０．３０≦Ｙ６≦０．５０
中でも、式（１）においては６．７０≦２×Ｘ＋３×Ｙ≦７．１０とするのが、本発明の効果をより奏する点で好ましい。

式（２）においては１．２０≦Ｙ≦１．４０とするのが本発明の効果をより奏する点で好ましい。

式（３）においては０．３５≦Ｙ６≦０．４５とするのが本発明の効果をより奏する点で好ましい。

なお、アセチル基とプロピオニル基の置換度と置換位置に関する情報は下記に説明する方法によって求めることができる。

次に、本発明に用いられるセルロースエステルのアシル基（アセチル基とプロピオニル基）の置換度と置換位置の測定法について詳細に説明する。

本発明のアシル基のグルコース単位の各位置への置換度の測定方法については、Ｙ．Ｔｅｚｕｋａ ＆ Ｙ．Ｔｓｕｃｈｉｙａの論文（Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ、第２７３巻、８３〜９１頁（１９９５年））に記載されている１３Ｃ−ＮＭＲ法により行うことが出来る。この方法を用いると、アセチル基の１３Ｃ−ＮＭＲのシグナルとプロピオニル基のシグナルが明瞭に分かれ、しかも２位、３位及び６位のシグナルも近接した３つのピークに分かれ各々の識別と、ピークの高さから置換度がわかる。なお、アセチル基とプロピオニル基の置換度に関しては、ＡＳＴＭ Ｄ８１７−９６に規定の方法により求めた値とも参照し、正しいことを確認した。

次に、課題解決のための上記３つの式、（１）〜（３）のすべてを満たす必要性について説明する。

本発明者らの検討で、溶融粘度とケン化適性に関して、セルロースエステルの１グルコ−ス単位あたりに置換されたアシル基の平均の総炭素数（２×Ｘ＋３×Ｙ（アセチル基は炭素数２個、プロピオニル基は炭素数３。以下、単に総炭素数と称する。））、プロピオニル基の置換度（Ｙ）、及び６位のプロピオニル基の置換度（Ｙ６）が大きく関係することがわかった。一方、セルロースエステルに、プロピオニル基よりも炭素数が大きいアシル基、例えば炭素数が４つのブチリル基が置換すると、溶融粘度では有利なものの、ケン化適性が大きく劣化し、これはブチリル基の置換度、置換位置を調節しても全く改善しないことが分かった。

溶融粘度はセルロースエステル同士の相互作用の大きさで決まると本発明者らは考えている。

つまり、相互作用に影響を及ぼす力、例えば、電子的な効果であればセルロースエステル中に残存している水酸基が関与する水素結合が重要であり、立体的な効果であればグルコース単位のアシル基の配列の規則性／不規則性が重要であると考えている。

アセチル基よりも嵩高いプロピオニル基はこれらの効果に及ぼす効果が顕著である。従って、本発明のセルロースエステルにおいて、総炭素数（２×Ｘ＋３×Ｙ）、及びプロピオニル基の置換度（Ｙ）についてコントロールすることが特に重要であると考えている。

ケン化適性は、ケン化とその後の偏光子との接着性という点で考えると、セルロースエステルのアルカリ加水分解性、及びケン化後の残存水酸基数に大きく影響を受けることが考えられる。

従って、アシル基の種類と置換度による相違は大きく、これもやはり上記溶融粘度と同様、総炭素数（２×Ｘ＋３×Ｙ）、及びプロピオニル基の置換度（Ｙ）についてコントロールすることが特に重要であると考えている。

総炭素数が６．３０よりも小さいと溶融粘度が高くなるが、これは残存している水酸基の関与が大きいものと考えている。

一方、総炭素数が７．５０よりも大きいとケン化適性が劣化するが、これはケン化後の残存している水酸基の数が少ないからではないかと考えている。

また、プロピオニル基の置換度が１．１０よりも小さいと溶融粘度が高くなるが、これはアセチル基の影響が勝り、性質がトリアセチルセルロースに近くなるためと考えている。

一方、Ｙが１．５０よりも大きいとケン化し難くなるが、これはアセチル基よりもプロピオニル基の方がアルカリ加水分解速度が小さいことによるものと考えている。

更に、グルコ−ス単位の３つの水酸基の中で、炭素原子の級数が他とは異なる６位は特異的である。セルロースからセルロースエステルを合成する際のアシル基の反応性、及びケン化（アルカリ加水分解）時の反応性が大きく異なっている。

また、６位はグルコース単位を形成するピラノース環から炭素１個分だけ飛び出しており、その立体的な構造から、セルロースエステル同士の相互作用に大きく影響を及ぼしている。

特に、これらの差異は、アセチル基よりも立体的に嵩高いプロピオニル基が置換されている場合に顕著である。従って、本発明のセルロースエステルにおいて、６位のプロピオニル基の置換度（Ｙ６）についてもコントロールすることが特に重要であると考えている。

詳細は不明であるが、本発明の範囲内のほぼ同一の総炭素数、及び本発明の範囲内のほぼ同一のプロピオニル基の置換度を有するセルロースエステル同士で比較した場合、驚くべきことに、６位のプロピオニル基の置換度が本発明の範囲外の場合、つまり、上限を超える置換度や下限を下回る置換度の場合のいずれの場合においても、溶融粘度が高くなり、ケン化適性も劣化することが判明した。

以上のように鋭意検討した結果、本発明者らは、上記３つの式、（１）〜（３）のすべてを満たすことが、溶融粘度を下げることによる光学フィルムの生産性を向上と、偏光板作製のためのケン化適性の両立化のためには必要であるという結論に至った。

次に、本発明で用いられるセルロースエステルの合成法について説明する。

本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することができる。

例えば、綿花リンター由来セルロースエステル：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースエステル：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースエステルの比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることができる。

本発明のセルロースエステルは、公知の方法を参考にして合成することができるがそれだけでは不十分であり、工夫が必要であることが判明した。

例えば、原料セルロースの水酸基を無水酢酸、及び無水プロピオン酸を用いて常法によりアセチル化、及びプロピオニル化し、アセチル基、プロピオニル基を置換させることができ、更に用いる無水酢酸、及び無水プロピオン酸の使用量を適宜変化させることによって、アセチル基の置換度、プロピオニル基の置換度、総置換度を調整することは可能である。

また、６位置換度の大きいセルロースエステルの合成については、特開平１１−５８５１号や特開２００２−２１２３３８号各公報などに記載がある。

しかしながら、これらの方法を参考にしただけでは、６位のプロピオニル基の置換度を自在にコントロールすることは容易ではない。

従来のアセチル基のみが置換されたセルロースエステルの合成では、２位、３位のアセチル置換度の方が、６位のアセチル置換度よりも高い値になる。

これは触媒に用いる硫酸が立体障害の少ない６位に先に反応する（硫酸エステルの生成）ため、結果的にアセチル基は空いている割合が高い２位、３位と反応し易くなるためである。

ところが、所詮硫酸エステルは平衡反応であるため解離し、アセチル基よりもセルロースの立体障害の影響を受け易いプロピオニル基は、立体障害の小さい６位と反応し易く、結果的に６位のプロピオニル基の置換度は高くなり易い。

本発明においては、触媒として硫酸を用いて原料セルロースの水酸基を無水酢酸、及び無水プロピオン酸を用いてアセチル化、及びプロピオニル化することは従来と変わりはないが、無水酢酸、及び無水プロピオン酸の添加を両者の比率を変えながら複数回添加することによって６位のプロピオニル基の置換度を自在にコントロールすることが可能になった。

以上のような方法を用いて、前記式（１）〜（３）を同時に満たす本発明のセルロースエステルを合成することができる。

本発明のセルロースエステルは、特に限定はないが、１５万〜２５万の重量平均分子量（Ｍｗ）を有することが好ましく、１８万〜２３万の重量平均分子量を有することが更に好ましく、１９万〜２２万の重量平均分子量を有することが最も好ましい。

重量平均分子量が上記好ましい範囲内においては、溶融粘度が高くなりすぎたり、得られるフィルムの強度が低下するなどの不具合が生じず、好ましい。

更に、本発明に用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比が１．３〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．５〜５．０であり、更に好ましくは１．７〜４．０であり、更に好ましくは２．０〜３．５のセルロースエステルが好ましく用いられる。Ｍｗ／Ｍｎが５．５を超えると、粘度が高くなり、溶融濾過性が低下する傾向があり好ましくない。一方、工業上の製造特性の点から、１．３以上であることが好ましい。

なお、Ｍｗ及びＭｗ／Ｍｎは下記の要領で、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により算出できる。

測定条件は以下の通りである。

溶媒：テトヒドロフラン
装置：ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）
カラム：ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍ（東ソー（株）製）
カラム温度：４０℃
試料濃度：０．１質量％
注入量：１０μｌ
流量：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレン：ＰＳ−１（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製）Ｍｗ＝２，５６０，０００〜５８０までの９サンプルによる校正曲線を使用した。

本発明のセルロースエステルのアルカリ土類金属含有量は、１〜５０ｐｐｍの範囲であることが好ましい。

セルロースエステルのアルカリ土類金属含有量の範囲が１〜５０ｐｐｍであると、リップ付着汚れの増加がなく、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティング部で破断がなくなり、本発明の効果をより奏する点で好ましい。

更に、本発明では、ロースエステルのアルカリ土類金属含有量が１〜３０ｐｐｍの範囲が好ましい。

ここでいうアルカリ土類金属とはＣａ、Ｍｇの総含有量のことであり、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）を用いて測定することができる。

本発明のセルロースエステル中の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で０．１〜４５ｐｐｍの範囲であることが好ましい。これらは塩の形で含有していると考えられる。

残留硫酸含有量が４５ｐｐｍを超えると熱溶融時のダイリップ部の付着物が増加するため好ましくない。

また、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティングの際に破断しやすくなるため好ましくない。

少ない方が好ましいが、０．１未満とすると、逆に破断しやすくなることがあり好ましくないが、その理由はよく分かっていない。

更に１〜３０ｐｐｍの範囲が好ましい。

残留硫酸含有量は、ＡＳＴＭ Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。

本発明のセルロースエステル中の遊離酸含有量は、１〜５００ｐｐｍであることが好ましい。

上記の範囲であると、ダイリップ部の付着物の増加がなく、また破断しにくい。

更に、本発明にいては、１〜１００ｐｐｍの範囲であることが好ましく、更に破断しにくくなる。特に１〜７０ｐｐｍの範囲が好ましい。

遊離酸含有量はＡＳＴＭ Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。

合成したセルロースエステルの洗浄を、溶液流延法に用いられる場合に比べて、更に十分に行うことによって、残留アルカリ土類金属含有量、残留硫酸含有量、及び残留酸含有量を上記の範囲とすることができ好ましい。

また、セルロースエステルの洗浄は、水に加えて、メタノール、エタノールのような貧溶媒、或いは結果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の混合溶媒を用いることができ、残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物を除去することができる。

更に、セルロースエステルの洗浄は、劣化防止剤の存在下で行うことも好ましく、セルロースエステルの耐熱性、製膜安定性が向上する。

使用される劣化防止剤は、セルロースエステルに発生したラジカルを不活性化する、或いはセルロースエステルに発生したラジカルに酸素が付加したことが起因のセルロースエステルの劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができるが、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、亜リン酸エステル系化合物が好ましい。

また、セルロースエステルの耐熱性、機械特性、光学特性等を向上させるため、セルロースエステルの良溶媒に溶解後、貧溶媒中に再沈殿、濾過することによって、或いは、貧溶媒中に撹拌懸濁させ、濾過することによって、セルロースエステルの低分子量成分、その他不純物を除去することができる。

この時、前述のセルロースエステルの洗浄同様に、劣化防止剤の存在下で行うことが好ましい。

セルロースエステルの洗浄に使用する劣化防止剤は、洗浄後セルロースエステル中に残存していてもよい。残存量は０．０１〜２０００ｐｐｍがよく、より好ましくは０．０５〜１０００ｐｐｍである。更に好ましくは０．１〜１００ｐｐｍである。

更に、セルロースエステルの再沈殿処理の後、別のポリマー或いは低分子化合物を添加してもよい。

本発明のセルロースエステルは溶融製膜に用いられることから、セルロースエステル自体の耐熱性が優れていることが好ましく、加熱溶融前のセルロースエステルの空気下における１％質量減少温度Ｔｄ（１．０）が高いことが好ましい。

セルロースエステルを溶融製膜するにあたり、Ｔｄ（１．０）は２６０℃以上が好ましく、Ｔｄ（１．０）は２７０℃以上がより好ましく、２８０℃以上が更に好ましい。

セルロースエステルのＴｄ（１．０）を高めるためには、セルロースエステルの合成において、最後の取り出しの際のセルロースエステルを濾過、洗浄する作業に当たって、洗浄液のｐＨが中性になるまで十分水で洗浄することによって向上させることができる。

ところで、詳細な理由は良く分かっていないが、セルロースエステルの種類によっては、洗浄を過度に行うと、破断しやすくなる等の機械特性が劣化してしまうものがあるが、本発明に係る前記の式（１）〜（３）を同時に満たすセルロースエステルに関しては、洗浄に伴う機械特性の劣化が生じないことが判明した。

また、本発明に係る前記の式（１）〜（３）のいずれか一つでも満たさないセルロースエステルに関しては、Ｔｄ（１．０）が２７０℃以上であっても耐熱性が劣化することが判明した。

なお、空気下における１％質量減少温度Ｔｄ（１．０）は、市販の示差熱重量分析（ＴＧ−ＤＴＡ）装置で測定することができるが、一般にセルロースエステルはわずかな量ではあるが水分を含有しているため、測定の際には注意が必要である。

具体的には、試料を１００℃でしばらく保持し、水分の揮発による質量減少がなくなったことを確認した後、その時点からの温度上昇に伴う質量減少を測定する方法をとる。

ところで、Ｔｄ（１．０）には上限は無く、高い程好ましいと推定しているが、セルロースエステルの洗浄工程の負担が大きくなるのを避けることを考慮すると、現実的な上限値は３００〜３１０℃である。

光学フィルム中のセルロースエステルは７０質量％〜９９質量％の範囲とすることにより、後述する劣化防止剤、可塑剤および紫外線吸収剤等の添加剤の存在下で優れた溶融流延性と安定性を示し、得られたフィルムは光学フィルムとしての優れた性能を付与することができる。

セルロースエステルの含有量が７０質量％〜９９質量％の範囲であると、添加剤のブリードアウトが無く、フィルムの機械強度が向上し、本発明の効果を有する点で好ましい。

また、光学フィルムとして必要な他の添加剤の添加量が１．０質量％以上であると要求される物性を満たすことができ、より好ましくはセルロースエステルの含有量は８０〜９５質量％である。

本発明の光学フィルムはセルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにした時の透過率が８０％以上、更に好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上であることが好ましい。

別の実施態様では、原料のセルロースエステルは少なくとも一度溶媒に溶解させた後、溶媒を乾燥させたセルロースエステルを用いてもよい。

その際には劣化防止剤、可塑剤、紫外線吸収剤、及びマット剤の少なくとも１つ以上と共に溶媒に溶解させた後、乾燥させたセルロースエステルを用いる。

溶媒としては、メチレンクロライド、酢酸メチル、ジオキソラン等の溶液流延法で用いられる良溶媒を用いることができ、同時にメタノール、エタノール、ブタノール等の貧溶媒を用いてもよい。溶解の過程で−２０℃以下に冷却したり、８０℃以上に加熱したりしてもよい。

このようなセルロースエステルを用いると、溶融状態にした時の各添加物を均一にしやすく、光学特性を均一にできることがある。

《劣化防止剤》
劣化防止剤とは、高分子が熱や酸素、水分、酸などによって分解されることを化学的な作用によって抑制する材料のことである。本発明の光学フィルムは、特に２００℃以上の高温下で成形されるため、高分子の分解・劣化が起きやすい系であり、劣化防止剤を光学フィルム中に含有させることが好ましい。

光学フィルムの酸化防止、分解して発生した酸の捕捉、光または熱によるラジカル種基因の分解反応を抑制または禁止する等、解明できていない分解反応を含めて、着色や分子量低下に代表される変質や材料の分解による揮発成分の生成を抑制するために劣化防止剤を用いる。

劣化防止剤としては、例えば、酸化防止剤、ヒンダードアミン光安定剤、酸捕捉剤、金属不活性化剤などが挙げられるが、これらに限定されない。これらは、特開平３−１９９２０１号公報、特開平５−１９０７０７３号公報、特開平５−１９４７８９号公報、特開平５−２７１４７１号公報、特開平６−１０７８５４号公報などに記載がある。これらの中でも、本発明の目的のためには、光学フィルム中に劣化防止剤として酸化防止剤を含むことが好ましい。

本発明の光学フィルム形成材料中の劣化防止剤は、少なくとも１種以上選択でき、添加する量は、本発明のセルロースエステルの質量に対して、劣化防止剤の添加量は０．０１質量％以上１０質量％以下が好ましく、より好ましくは０．１質量％以上５．０質量％以下であり、更に好ましくは０．２質量％以上２．０質量％以下である。

なお、劣化防止剤の添加量が上記添加量の範囲であると、セルロースエステルへの相溶性の観点から光学フィルムとしての透明性が向上し、また光学フィルムが脆くなることもないので好ましくない。

光学フィルムは、材料の変質や吸湿性を回避する目的で、構成する材料が１種または複数種のペレットに分割して保存することができる。ペレット化は、加熱時の溶融物の混合性または相溶性が向上でき、または得られたフィルムの光学的な均一性が確保できることもある。

光学フィルムを加熱溶融するとき、及び加熱溶融したものを後工程で使用するとき、更には製品として消費者のもとで使用されるとき、上述の劣化防止剤が存在することは、材料の劣化や分解に基づく強度や光学的透明性の劣化を低減すること、または材料固有の強度を維持できる観点で優れている。

光学フィルムが加熱により著しく劣化すると、着色が発生して光学フィルムとしては用いることができなくなることがある。

また、液晶表示装置用の光学補償フィルムとして用いる際には、リターデーション付与工程（延伸工程）が流延工程の次に実施されるが、光学フィルムが加熱により著しく劣化すると、形成されたフィルムが脆くなり、該延伸工程において破断が生じやすくなったり、目的の光学補償フィルムのリターデーション値が発現できなくなることがある。

更には、液晶表示装置用の偏光板保護フィルムとして使用する場合、光学フィルムの劣化は、偏光子との貼合に支障をきたしたりするので好ましくない。

そこで、上述の劣化防止剤の存在は、加熱溶融時において可視光領域の着色物の生成を抑制すること、または加熱溶融時及び加熱溶融後のフィルムを構成する材料が分解して生じた揮発成分等によって生じる透過率やヘイズ値の低下といった光学フィルムとして好ましくない劣化を抑制または消滅できる点でも優れている。

本発明において液晶表示装置の表示画像は、本発明の光学フィルムを用いるときヘイズ値が１％を超えると影響を与えるため、好ましくはヘイズ値は１％未満、より好ましくは０．５％未満である。また着色性の指標としては黄色度（イエローインデックス、ＹＩ）を用いることができ、好ましくは３．０以下、より好ましくは１．０以下である。黄色度はＪＩＳ−Ｋ−７１０３に基づいて測定することができる。

上述の光学フィルムの保存或いは製膜工程において、空気中の酸素あるいは水分による劣化反応が併発することがある。

この場合、上記劣化防止剤の安定化作用とともに、空気中の湿度・酸素濃度を低減させることも本発明を具現化する上で好ましく併用できる。

これは、公知の技術として不活性ガスとして窒素やアルゴンの使用、減圧〜真空による脱気操作、及び密閉環境下による操作が挙げられ、これら３者の内少なくとも１つの方法を上記安定剤を存在させる方法と併用することができる。

光学フィルムが空気中の酸素と接触する確率を低減することにより、該材料の劣化が抑制できるため好ましい。

また、本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルムとしても活用するため、本発明の偏光板及び偏光板を構成する偏光子に対して経時保存性を向上させる観点からも、光学フィルム中における上述の劣化防止剤の存在が重要な役割を担う。

本発明の偏光板を用いた液晶表示装置において、本発明の光学フィルムに上述の劣化防止剤が存在すると、上記の変質や劣化を抑制する観点から光学フィルムの経時保存性が向上できるとともに、液晶表示装置の表示品質向上においても光学的な補償設計が長期にわたって機能発現できる点で優れている。

《酸化防止剤》
セルロースエステルは高温下では熱だけでなく酸素によっても分解が促進されるため、本発明の光学フィルムにおいては劣化防止剤として酸化防止剤を含有することが好ましい。

本発明において有用な酸化防止剤としては、酸素による光学フィルムの劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でもフェノール系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物、アルキルラジカル捕捉剤、過酸化物分解剤、酸素スカベンジャー等が挙げられる。

これらの中でもフェノール系化合物、リン系化合物、アルキルラジカル捕捉剤が好ましいが、フェノール系化合物とリン系化合物の２者の組み合わせを用いることがより好ましく、フェノール系化合物とリン系化合物とアルキルラジカル捕捉剤の３者の組み合わせを用いることが最も好ましい。

これらの化合物を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、溶融成型時の熱や熱酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。

これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは２種以上を組み合わせて用いることができ、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、本発明のセルロースエステルの質量に対して、０．０１質量％以上１０質量％以下が好ましく、より好ましくは０．１質量％以上５．０質量％以下であり、更に好ましくは０．２質量％以上２．０質量％以下である。

（フェノール系化合物）
フェノール系化合物は既知の化合物であり、パラ−ｔ−ブチルフェノール、パラ−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等のアルキル基置換フェノールの他、例えば、米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載の、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物、所謂ヒンダードフェノール系化合物が挙げられるが、これらの中で、ヒンダードフェノール系化合物が好ましい。

ヒンダードフェノールフェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、３，９−ビス−｛２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトール−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。

上記タイプのフェノール化合物は、例えば、チバスペシャルティケミカルズ株式会社から、”ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６”及び”ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０”という商品名で市販されている。

（リン系化合物）
本発明において有用なリン系化合物として、ホスファイト系化合物、及びホスホナイト系化合物が挙げられる。ホスファイト系化合物の具体例としては、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ホスファイト、１０−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナントレン−１０−オキサイド、６−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、トリデシルホスファイト等のモノホスファイト系化合物；４，４′−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシルホスファイト）、４，４′−イソプロピリデン−ビス（フェニル−ジ−アルキル（Ｃ１２〜Ｃ１５）ホスファイト）等のジホスファイト系化合物；等が挙げられる。上記タイプのホスファイト系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、”ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ”、株式会社ＡＤＥＫＡからＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−２４Ｇ”、”ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＰＥＰ−３６”、”ＡＤＫ ＳＴＡＢ ３０１０”、”ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＨＰ−１０”及び”ＡＤＫ ＳＴＡＢ ２１１２”という商品名で市販されている。

ホスホナイト系化合物の具体例としては、ジメチル−フェニルホスホナイト、ジ−ｔ−ブチル−フェニルホスホナイト、ジフェニル−フェニルホスホナイト、ジ−（４−ペンチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２−ｔ−ブチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２−メチル−３−ペンチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２−メチル−４−オクチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（３−ブチル−４−メチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（３−ヘキシル−４−エチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２，４，６−トリメチルフェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２，３−ジメチル−４−エチル−フェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２，６−ジエチル−３−ブチルフェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２，３−ジプロピル−５−ブチルフェニル）−フェニルホスホナイト、ジ−（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）ビフェニル−４−イル−ホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４’−（ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェノキシ）ホスフィノ）ビフェニル−４−イル−ホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３，４−トリメチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジメチル−５−エチル−フェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジメチル−４−プロピルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジメチル−５−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジメチル−４−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジエチル−５−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジエチル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４，５−トリエチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジエチル−４−プロピルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジエチル−６−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジエチル−５−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジエチル−６−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジプロピル−５−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジプロピル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジプロピル−５−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジプロピル−６−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジプロピル−５−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジブチル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジブチル−３−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジブチル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−３−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−３−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−３−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３−ジブチル−４−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジブチル−３−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジブチル−４−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−３−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−３−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチル−６−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−３−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−５−エチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，３，４−トリブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト等が挙げられる。上記タイプのリン系化合物は、例えば、チバスペシャルティケミカルズ株式会社から”ＩＲＧＡＦＯＳ Ｐ−ＥＰＱ”、堺化学工業株式会社から“ＧＳＹ−Ｐ１０１”という商品名で市販されている。

本発明において有用なリン系化合物として、ホスホナイト系化合物が好ましく、中でも、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト等の４，４′−ビフェニレンジホスホナイト化合物が好ましく、特に好ましいものはテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイトである。

（アルキルラジカル捕捉剤）
本発明において「アルキルラジカル捕捉剤」とは、アルキルラジカルが速やかに反応しうる基を有し、かつアルキルラジカルと反応後に後続反応が起こらない安定な生成物を与える化合物を意味する。

本発明において好ましいアルキルラジカル捕捉剤として、前記一般式（１）で表される化合物、及び前記一般式（２）で表される化合物が挙げられる。

以下、本発明に用いられる前記一般式（１）で表される化合物について具体例に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

前記一般式（１）中、Ｒ₁は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、好ましくは水素原子または炭素数１〜４のアルキル基であり、特に好ましくは水素原子またはメチル基である。

Ｒ₂およびＲ₃は、それぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基を表し、直鎖でも、分岐構造または環構造を有してもよい。Ｒ₂およびＲ₃は、好ましくは４級炭素を含む「＊−Ｃ（ＣＨ₃）₂−Ｒ’」で表される構造（＊は芳香環への連結部位を表し、Ｒ’は炭素数１〜５のアルキル基を表す。）である。Ｒ₂は、より好ましくはｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基である。Ｒ₃は、より好ましくはｔｅｒｔ−ブチル基、ｔｅｒｔ−アミル基またはｔｅｒｔ−オクチル基である。

上記一般式（１）で表される化合物として、住友化学株式会社から、”ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＭ”、”ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＳ”という商品名で市販されている。

以下に前記一般式（１）で表される化合物の具体例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

次に、本発明に用いられる前記一般式（２）で表される化合物について具体例に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

一般式（２）において、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表す。Ｒ₁₂とＲ₁₃、Ｒ₁₃とＲ₁₄、またはＲ₁₄とＲ₁₅は、互いに結合して環を形成してもよい。Ｒ₁₆は水素原子または置換基を表し、ｎは１〜４の整数を表し、ｎが１であるとき、Ｒ₁₁は置換基を表し、ｎが２〜４の整数であるとき、Ｒ₁₁は２〜４価の連結基を表す。
Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅が置換基を表すとき、該置換基としては特に制限はないが、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基等）、複素環基（例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、ホスホノ基、アシル基（例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、シアノ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等）、アニリノ基（例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、イミド基、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。これらの置換基は同様の置換基によってさらに置換されていてもよい。

前記一般式（２）において、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅は水素原子またはアルキル基が好ましい。

前記一般式（２）において、Ｒ₁₆は水素原子または置換基を表し、Ｒ₁₆で表される置換基は、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅が表す置換基と同様な基を挙げることができる。特に、Ｒ₁₆は水素原子が好ましい。

前記一般式（２）において、ｎは１〜４の整数を表すが、ｎが１であるとき、Ｒ₁₁は置換基を表し、置換基としては、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅が表す置換基と同様な基を挙げることができる。ｎが２〜４の整数であるとき、Ｒ₁₁はそれぞれ対応して２〜４価の連結基を表す。

Ｒ₁₁が２〜４価の連結基を表すとき、２価の連結基として例えば、置換基を有してもよい２価のアルキレン基、置換基を有してもよい２価のアリーレン基、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、あるいはこれらの連結基の組み合わせを挙げることができる。

３価の連結基としては、例えば、置換基を有してもよい３価のアルキレン基、置換基を有してもよい３価のアリーレン基、窒素原子、あるいはこれらの連結基の組み合わせを挙げることができ、４価の連結基として例えば、置換基を有してもよい４価のアルキレン基、置換基を有してもよい４価のアリーレン基、あるいはこれらの連結基の組み合わせを挙げることができる。

前記一般式（２）において、ｎは１が好ましく、その時のＲ₁₁は置換または無置換のフェニル基が好ましく、置換基としては、炭素原子数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数１ないし１８のアルコキシ基が好ましく、炭素原子数１ないし８のアルキル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基がより好ましい。

以下に、本発明における前記一般式（２）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。

（その他の酸化防止剤）
その他の酸化防止剤としては、具体的には、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等のイオウ系化合物が挙げられる。上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、住友化学工業株式会社から、”Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰＬ−Ｒ”及び”Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰ−Ｄ”という商品名で市販されている。更には、特公平０８−２７５０８記載の３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１−ベンゾピラン系化合物、３，３′−スピロジクロマン系化合物、１，１−スピロインダン系化合物、モルホリン、チオモルホリン、チオモルホリンオキシド、チオモルホリンジオキシド、ピペラジン骨格を部分構造に有する化合物、特開平３−１７４１５０号記載のジアルコキシベンゼン系化合物等の酸素スカベンジャー等が挙げられる。これらの化合物の部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていても良い。

《ヒンダードアミン光安定剤》
本発明において、光学フィルムの熱溶融時の劣化防止剤、また製造後に偏光子保護フィルムとして晒される外光や液晶ディスプレイのバックライトからの光に対する劣化防止剤として、ヒンダードアミン光安定剤（ＨＡＬＳ）化合物が挙げられ、これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，６１９，９５６号明細書の第５〜１１欄及び米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第３〜５欄に記載されているように、２，２，６，６−テトラアルキルピペリジン化合物、またはそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。

ヒンダードアミン光安定剤の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。

また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルホリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルホリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６，−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。

上記タイプのヒンダードアミン化合物は、例えば、チバスペシャルティケミカルズ株式会社から、”ＴＩＮＵＶＩＮ１４４”及び”ＴＩＮＵＶＩＮ７７０”、株式会社ＡＤＥＫＡから”ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＬＡ−５２”という商品名で市販されている。

本発明においては、ヒンダードアミン光安定剤は、本発明に係るセルロースエステルの質量に対して、０．１〜１０質量％添加することが好ましく、更に０．２〜５質量％添加することが好ましく、更に０．５〜２質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。

《酸捕捉剤》
セルロースエステルは、溶融製膜が行われるような高温環境下では酸によっても分解が促進されるため、本発明の光学フィルムにおいては劣化防止剤として酸捕捉剤を含有することが好ましい。

本発明において有用な酸捕捉剤としては、酸と反応して酸を不活性化する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも米国特許第４，１３７，２０１号明細書に記載されているような、エポキシ基を有する化合物が好ましい。

このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール１モル当たりに約８〜４０モルのエチレンオキシド等の縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテル等、金属エポキシ化合物（例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの）、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル（即ち、４，４′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン）、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル（特に、２〜２２個の炭素原子の脂肪酸の４〜２個程度の炭素原子のアルキルのエステル（例えば、ブチルエポキシステアレート）等）、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリド等（例えば、エポキシ化大豆油、エポキシ化亜麻仁油等）の組成物によって代表され例示され得るエポキシ化植物油及び他の不飽和天然油（これらはときとしてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に１２〜２２個の炭素原子を含有している）が含まれる。

また、市販のエポキシ基含有エポキシド樹脂化合物として、ＥＰＯＮ ８１５Ｃやその他のエポキシ化エーテルオリゴマー縮合生成物も好ましく用いることができる。

更に上記以外に用いることが可能な酸捕捉剤としては、オキセタン化合物やオキサゾリン化合物、あるいはアルカリ土類金属の有機酸塩やアセチルアセトナート錯体、特開平５−１９４７８８号公報の段落６８〜１０５に記載されているものが含まれる。

本発明においては、酸捕捉剤は、本発明に係るセルロースエステルの質量に対して、０．１〜１０質量％添加することが好ましく、更に０．２〜５質量％添加することが好ましく、更に０．５〜２質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。

なお酸捕捉剤は、酸掃去剤、酸捕獲剤、酸キャッチャー等と称されることもあるが、本発明においてはこれらの呼称による差異なく用いることができる。

《金属不活性剤》
金属不活性剤とは、酸化反応において開始剤あるいは触媒として作用する金属イオン不活性化する化合物を意味し、ヒドラジド系化合物、シュウ酸ジアミド系化合物、トリアゾール系化合物等が挙げられ、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン、２−ヒドロキシエチルシュウ酸ジアミド、２−ヒドロキシ−Ｎ−（１Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）ベンズアミド、Ｎ−（５−ｙｅｒｔ−ブチル−２−エトキシフェニル）−Ｎ’−（２−エチルフェニル）シュウ酸アミド等が挙げられる。

本発明においては、金属不活性剤は、本発明に係るセルロースエステルの質量に対して、０．０００２〜２質量％添加することが好ましく、更に０．０００５〜２質量％添加することが好ましく、更に０．００１〜１質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。

《可塑剤》
本発明の溶融流延による光学フィルムに形成においては、光学フィルム中に可塑剤の少なくとも１種を添加することが好ましい。

可塑剤とは、一般的には高分子中に添加することによって脆弱性を改良したり、柔軟性を付与したりする効果のある添加剤であるが、本発明においては、可塑剤を添加することによって光学フィルムの機械的性質向上、引き裂き強度向上、耐吸水性付与、水分透過率の低減等の効果が見られることもあるため、このような効果を有する材料を可塑剤として用いることがより好ましい。

本発明に好ましく用いられる可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤（エチレングリコールエステル系可塑剤、グリセリンエステル系可塑剤、ジグリセリンエステル系可塑剤など）、多価カルボン酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる。

この中でも多価アルコールエステル系可塑剤及び多価カルボン酸エステル系可塑剤が好ましく、更に多価アルコールエステル系可塑剤が好ましい。

また、可塑剤は液体であっても固体であっても良く、組成物の制約上無色であることが好ましい。

添加量は光学物性・機械物性に悪影響がなければ良く、その配合量は、本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、本発明に係るセルロースエステルの質量に対して、好ましくは１〜２５質量％含有することを特徴とする光学フィルムである。１質量％よりも少ないと平面性改善の効果が認められず、２５質量％よりも多いとブリードアウトが発生しやすくなり、フィルムの経時安定性が低下するために好ましくない。

より好ましくは可塑剤を３〜２０質量％含有する光学フィルムであり、更に好ましくは５〜１５質量％含有する光学フィルムである。

以下、本発明に用いられる可塑剤について具体例に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明においては、多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、及び多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤はセルロースエステルと親和性が高いので好ましく、多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤はセルロースエステルと親和性がさらに高まるので、特に好ましい。

なお、多価アルコールエステル系の可塑剤とは、一分子中に複数の水酸基を有する化合物と、１価の有機酸とを縮合した化合物を多価アルコールエステル系可塑剤と称し、多価カルボン酸エステル系の可塑剤とは、一分子中に複数のカルボン酸基を有する化合物と、複数の１価のアルコールまたはフェノールとが縮合した化合物を、多価カルボン酸エステル系可塑剤と称する。

本発明において好ましく用いられるエステル系可塑剤の原料である多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、グリセリン、ジグリセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、キシリトール等を挙げることができる。特に、エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパンが好ましい。

また、好ましい有機酸の例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、ピバリン酸、アクリル酸、メタクリル酸、シクロヘキサンカルボン酸、安息香酸、アニス酸、３，４，５−トリメトキシ安息香酸、トルイル酸、ｔｅｒｔ−ブチル安息香酸、ナフトエ酸、ピコリン酸等が挙げられるが、セルロースエステルの透湿度を低減する効果が高い不飽和カルボン酸、例えば芳香族カルボン酸によって多価アルコールエステルを形成していることが好ましい。

多価アルコールエステルに用いられる有機酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。

多価アルコールエステル系の一つであるエチレングリコールエステル系の可塑剤としては、具体的には、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジブチレート等のエチレングリコールアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジシクロプロピルカルボキシレート、エチレングリコールジシクロヘキルカルボキシレート等のエチレングリコールシクロアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジベンゾエート、エチレングリコールジ４−メチルベンゾエート等のエチレングリコールアリールエステル系の可塑剤が挙げられる。

これらアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。

またアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。

更にエチレングリコール部も置換されていてもよく、エチレングリコールエステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。

多価アルコールエステル系の一つであるグリセリンエステル系の可塑剤としては、具体的にはトリアセチン、トリブチリン、グリセリンジアセテートカプリレート、グリセリンオレートプロピオネート等のグリセリンアルキルエステル、グリセリントリシクロプロピルカルボキシレート、グリセリントリシクロヘキシルカルボキシレート等のグリセリンシクロアルキルエステル、グリセリントリベンゾエート、グリセリン４−メチルベンゾエート等のグリセリンアリールエステル、ジグリセリンテトラアセチレート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンアセテートトリカプリレート、ジグリセリンテトララウレート、等のジグリセリンアルキルエステル、ジグリセリンテトラシクロブチルカルボキシレート、ジグリセリンテトラシクロペンチルカルボキシレート等のジグリセリンシクロアルキルエステル、ジグリセリンテトラベンゾエート、ジグリセリン３−メチルベンゾエート等のジグリセリンアリールエステル等が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。

またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。更にグリセリン、ジグリセリン部も置換されていてもよく、グリセリンエステル、ジグリセリンエステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。

その他の多価アルコールエステル系の可塑剤としては、具体的には特開２００３−１２８２３号公報の段落３０〜３３記載の多価アルコールエステル系可塑剤、ペンタエリスリトールテトラベンゾエート等が挙げられる。

これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。

更に多価アルコール部も置換されていてもよく、多価アルコールの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。

上記多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤の中では、アルキル多価アルコールアリールエステルが好ましく、具体的には上記のエチレングリコールジベンゾエート、グリセリントリベンゾエート、ジグリセリンテトラベンゾエート、特開２００３−１２８２３号公報の段落３１記載例示化合物１６が挙げられる。

多価カルボン酸エステル系の一つであるジカルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、ジドデシルマロネート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート等のアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロペンチルサクシネート、ジシクロヘキシルアジーペート等のアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルサクシネート、ジ４−メチルフェニルグルタレート等のアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジヘキシル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート、ジデシルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロヘキシル−１，２−シクロブタンジカルボキシレート、ジシクロプロピル−１，２−シクロヘキシルジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニル−１，１−シクロプロピルジカルボキシレート、ジ２−ナフチル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロプロピルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルフタレート、ジ４−メチルフェニルフタレート等のアリールジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート等のグリコール酸エステル系の可塑剤、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等のクエン酸系の可塑剤等が挙げられる。

これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また一置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。

更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。

その他の多価カルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的にはトリドデシルトリカルバレート、トリブチル−ｍｅｓｏ−ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロヘキシルトリカルバレート、トリシクロプロピル−２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボキシレート、テトラ３−メチルフェニルテトラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、テトラヘキシル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボキシレート、テトラブチル−１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、テトラシクロプロピル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボキシレート、トリシクロヘキシル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート、ヘキサ４−メチルフェニル−１，２，３，４，５，６−シクロヘキシルヘキサカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、トリドデシルベンゼン−１，２，４−トリカルボキシレート、テトラオクチルベンゼン−１，２，４，５−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロペンチルベンゼン−１，３，５−トリカルボキシレート、テトラシクロヘキシルベンゼン−１，２，３，５−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤トリフェニルベンゼン−１，３，５−テトラカルボキシレート、ヘキサ４−メチルフェニルベンゼン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。

これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また１置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同志が共有結合で結合していてもよい。

更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。

上記多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤の中では、アルキルジカルボン酸アルキルエステルが好ましく、具体的には上記のジオクチルアジペートが挙げられる。

本発明に用いられるその他の可塑剤としては、リン酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる。

リン酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等のリン酸アルキルエステル、トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等のリン酸シクロアルキルエステル、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート等のリン酸アリールエステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。

また、エチレンビス（ジメチルホスフェート）、ブチレンビス（ジエチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアルキルホスフェート）、エチレンビス（ジフェニルホスフェート）、プロピレンビス（ジナフチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアリールホスフェート）、フェニレンビス（ジブチルホスフェート）、ビフェニレンビス（ジオクチルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアルキルホスフェート）、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）、ナフチレンビス（ジトルイルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアリールホスフェート）等のリン酸エステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。

またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同志が共有結合で結合していてもよい。

更にリン酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、リン酸アリールエステル、アリーレンビス（ジアリールホスフェート）が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）が好ましい。

次に、炭水化物エステル系可塑剤について説明する。炭水化物とは、糖類がピラノースまたはフラノース（６員環または５員環）の形態で存在する単糖類、二糖類または三糖類を意味する。炭水化物の非限定的例としては、グルコース、サッカロース、ラクトース、セロビオース、マンノース、キシロース、リボース、ガラクトース、アラビノース、フルクトース、ソルボース、セロトリオース及びラフィノース等が挙げられる。

炭水化物エステルとは、炭水化物の水酸基とカルボン酸が脱水縮合してエステル化合物を形成したものを指し、詳しくは、炭水化物の脂肪族カルボン酸エステル、或いは芳香族カルボン酸エステルを意味する。脂肪族カルボン酸として、例えば酢酸、プロピオン酸等を挙げることができ、芳香族カルボン酸として、例えば安息香酸、トルイル酸、アニス酸等を挙げることができる。

炭水化物は、その種類に応じた水酸基の数を有するが、水酸基の一部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成しても、水酸基の全部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成してもよい。

本発明においては、水酸基の全部とカルボン酸が反応してエステル化合物を形成するのが好ましい。

炭水化物エステル系可塑剤として、具体的には、グルコースペンタアセテート、グルコースペンタプロピオネート、グルコースペンタブチレート、サッカロースオクタアセテート、サッカロースオクタベンゾエート等を好ましく挙げることができ、この内、サッカロースオクタアセテート、サッカロースオクタベンゾエートがより好ましく、サッカロースオクタベンゾエートが特に好ましい。上記タイプの炭水化物エステル系可塑剤は、例えば、第一工業製薬社から、” モノペットＳＢ”及び” モノペットＳＯＡ”という商品名で市販されている。

ポリマー可塑剤としては、具体的には、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルとの共重合体、メタクリル酸メチルとアクリル酸メチルとメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルとの共重合体等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリＮ−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ４−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。数平均分子量は１０００〜５０００００程度が好ましく、特に好ましくは、５０００〜２０００００である。１０００以下では揮発性に問題が生じ、５０００００を超えると可塑化能力が低下し、光学フィルムの機械的性質に悪影響を及ぼす。

これらポリマー可塑剤は１種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを２種以上併用して用いてもよい。

本発明の光学フィルムにおいて、多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤を１〜２５質量％含有することが好ましいが、それ以外の可塑剤と併用してもよい。

本発明の光学フィルムにおいて、多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤が更に好ましいが、３価以上のアルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤がセルロースエステルに対する相溶性が高く、高添加率で添加することができる特徴があるため、他の可塑剤や添加剤を併用してもブリードアウトを発生することがなく、必要に応じて他種の可塑剤や添加剤を容易に併用することができるので最も好ましい。

《紫外線吸収剤》
本発明おいて、光学フィルムが、更に紫外線吸収剤を含有することが耐久性を向上させる点で好ましい。

紫外線吸収剤は、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。

本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。

また、特開平１０−１８２６２１号、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号、特開２００３−１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（１−メチル−１−フェニルエチル）−５′−（１，１，３，３，−テトラメチルブチル）−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。

また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３２６、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもチバスペシャルティケミカルズ社製）、ＬＡ３１（ＡＤＥＫＡ社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ２５０（住友化学社製）、ＲＵＶＡ−１００（大塚化学製）が挙げられる。

ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

本発明においては、紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系化合物であることが好ましい。

本発明においては、紫外線吸収剤は、本発明のセルロースエステルの質量に対して、０．１〜１０質量％添加することが好ましく、更に０．２〜５質量％添加することが好ましく、更に０．５〜３質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。

またベンゾトリアゾール構造やトリアジン構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、可塑剤、酸化防止剤、酸掃去剤等の他の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。

従来公知の紫外線吸収性ポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学製）を単独重合させたポリマー及びＲＵＶＡ−９３と他のモノマーとを共重合させたポリマー等が挙げられる。具体的には、ＲＵＶＡ−９３とメチルメタクリレートを３：７の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−３０Ｍ、５：５の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−５０Ｍ等が挙げられる。更に、特開２００３−１１３３１７号公報に記載のポリマー等が挙げられる。

《その他の添加剤》
本発明においては、セルロースエステルに劣化防止剤、可塑剤や紫外線吸収剤の他、種々の添加剤を含有することができる。例えば、マット剤、フィラー、シリカやケイ酸塩等の無機化合物、染料、顔料、蛍光体、二色性色素、リターデーション制御剤、屈折率調整剤、ガス透過抑制剤、抗菌剤、生分解性付与剤などが挙げられる。

また、上記機能を有するものであれば、これに分類されない添加剤も用いることができる。

そして、これらの添加剤をセルロースエステルに含有させる方法としては、各々の材料を固体或いは液体のまま混合し、加熱溶融し混練して均一な溶融物とした後、流延して光学フィルムを形成する方法であっても、予め全ての材料を溶媒等を用いて、溶解して均一溶液とした後、溶媒を除去して、添加剤とセルロースエステルの混合物を形成し、これを加熱溶融し、流延して光学フィルムを形成してもよい。

（マット剤）
本発明の光学フィルムは、滑り性や光学的、機械的機能を付与するためにマット剤を添加することができる。マット剤としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。

マット剤の形状は、球状、棒状、針状、層状、平板状等の形状のものが好ましく用いられる。マット剤としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の金属の酸化物、リン酸塩、ケイ酸塩、炭酸塩等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることができる。

中でも、二酸化ケイ素がフィルムのヘイズを低くできるので好ましい。

これらの微粒子は有機物により表面処理されていることが、フィルムのヘイズを低下できるため好ましい。

表面処理は、ハロシラン類、アルコキシシラン類、シラザン、シロキサン等で行うことが好ましい。微粒子の平均粒径が大きい方が滑り性効果は大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。

また、微粒子の一次粒子の平均粒径は０．０１〜１．０μｍの範囲である。好ましい微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜５０ｎｍが好ましく、更に好ましくは、７〜１４ｎｍである。これらの微粒子は、光学フィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を生成させるために好ましく用いられる。

二酸化ケイ素の微粒子としては、日本アエロジル（株）製のアエロジル（ＡＥＲＯＳＩＬ）２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０等、日本触媒（株）製のＫＥ−Ｐ１０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ１００、ＫＥ−Ｐ１５０等を挙げることができ、好ましくはアエロジル２００Ｖ、Ｒ９７２Ｖ、ＮＡＸ５０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ１００である。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。

２種以上併用する場合、任意の割合で混合して使用することができる。平均粒径や材質の異なる微粒子、例えば、アエロジル２００ＶとＲ９７２Ｖを質量比で０．１：９９．９〜９９．９：０．１の範囲で使用できる。

これらのマット剤の添加方法は混練する等によって行うことが好ましい。また、別の形態として予め溶媒に分散したマット剤とセルロースエステル及び／または可塑剤及び／または酸化防止剤及び／または紫外線吸収剤を混合分散させた後、溶媒を揮発または沈殿させた固形物を得て、これをセルロースエステル溶融物の製造過程で用いることが、マット剤がセルロースエステル中で均一に分散できる観点から好ましい。

上記マット剤は、フィルムの機械的、電気的、光学的特性改善のために添加することもできる。

なお、これらの微粒子を添加するほど、得られるフィルムの滑り性は向上するが、添加するほどヘイズが上昇するため、含有量は好ましくは０．００１〜５質量％が好ましく、より好ましくは０．００５〜１質量％であり、更に好ましくは０．０１〜０．５質量％である。

なお、本発明の光学フィルムとしては、ヘイズ値が好ましくは１．０％未満、より好ましくは０．５％未満である。ヘイズ値はＪＩＳ−Ｋ−７１３６に基づいて測定することができる。

上述の光学フィルムの保存或いは製膜工程において、空気中の酸素による劣化反応が併発することがある。この場合、上記添加剤の安定化作用とともに、空気中の酸素濃度を低減させる効果を用いることも本発明を具現化する上で併用できる。

これは、公知の技術として不活性ガスとして窒素やアルゴンの使用、減圧〜真空による脱気操作、及び密閉環境下による操作が挙げられ、これら３者の内少なくとも１つの方法を上記添加剤を存在させる方法と併用することができる。

光学フィルムが空気中の酸素と接触する確率を低減することにより、該材料の劣化が抑制でき、本発明の目的のためには好ましい。

《光学フィルム》
次に、本発明の光学フィルムの詳細について説明する。

本発明において光学フィルムとは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の各種表示装置に用いられる機能フィルムのことであり、詳しくは液晶表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルム等を含む。

本発明の光学フィルムにおいて、本発明のセルロースエステルの他、本発明に係らないセルロースエステル系樹脂、セルロースエーテル系樹脂、ビニル系樹脂（ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等も含む）、オレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂、単環の環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂等）、ポリエステル系樹脂（芳香族ポリエステル、脂肪族ポリエステル、もしくはそれらを含む共重合体）、アクリル系樹脂（共重合体も含む）、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂等を含有させることができる。セルロースエステル以外の樹脂の含有量としては０．１〜３０質量％が好ましい。

本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルムに好ましく用いられ、特に、偏光板保護フィルムに好ましく用いられる。

《溶融流延法》
本発明の光学フィルムは、前述のように溶融流延によって製造される。溶液流延法において用いられる溶媒（例えば塩化メチレン等）を用いずに、加熱溶融する溶融流延による成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。

これらの中で、機械的強度及び表面精度等に優れる偏光板保護フィルムを得るためには、溶融押出成形法が優れている。

光学フィルムは溶融及び製膜工程において、揮発成分が少ないまたは発生しないことが求められる。これは加熱溶融時に発泡して、フィルム内部の欠陥やフィルム表面の平面性劣化を削減または回避するためである。

光学フィルムが溶融されるときの揮発成分の含有量は、１質量％以下、好ましくは０．５質量％以下、更に好ましくは０．２質量％以下、さらにより好ましくは０．１質量％以下であることが望まれる。

本発明においては、示差熱重量測定装置（セイコー電子工業社製ＴＧ／ＤＴＡ２００）を用いて、３０℃から溶融流延時に相当する温度までの加熱減量を求め、その量を揮発成分の含有量としている。

用いる光学フィルムは、前記水分や前記溶媒等に代表される揮発成分を、製膜する前に、または加熱時に除去することが好ましい。

除去する方法は、公知の乾燥方法が適用でき、加熱法、減圧法、加熱減圧法等の方法で行うことができ、空気中または不活性ガスとして窒素を選択した雰囲気下で行ってもよい。

これらの公知の乾燥方法を行うとき、光学フィルムが分解しない温度領域で行うことがフィルムの品質上好ましい。

製膜前に乾燥することにより、揮発成分の発生を削減することができ、セルロースエステル単独、またはセルロースエステルと光学フィルムの内、セルロースエステル以外の少なくとも１種以上の混合物または相溶物に分割して乾燥することもできる。

乾燥温度は７０℃以上が好ましい。

乾燥する材料にガラス転移温度を有する物が存在するときには、そのガラス転移温度よりも高い乾燥温度に加熱すると、材料が融着して取り扱いが困難になることがあるので、乾燥温度は、ガラス転移温度以下であることが好ましい。

複数の物質がガラス転移温度を有する場合は、ガラス転移温度が低い方のガラス転移温度を基準とする。より好ましくは７０℃以上、（ガラス転移温度−５）℃以下、更に好ましくは１１０℃以上、（ガラス転移温度−２０）℃以下である。

乾燥時間は、好ましくは０．５〜２４時間、より好ましくは１〜１８時間、更に好ましくは１．５〜１２時間である。乾燥温度が低くなり過ぎると揮発成分の除去率が低くなり、また乾燥するのに時間にかかり過ぎることになる。

また、乾燥工程は２段階以上にわけてもよく、例えば、乾燥工程が、材料の保管のための予備乾燥工程と、製膜する直前〜１週間前の間に行う直前乾燥工程を含むものであってもよい。

（溶融押出成形法）
以下、溶融押出成形法を例にとり、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。

図１は、本発明に係る光学フィルムの製造方法を実施する装置の全体構成を示す概略フローシートであり、図２は、流延ダイから冷却ロール部分の拡大図である。

図１と図２において、本発明による光学フィルムの製造方法は、セルロース樹脂等のフィルム材料を混合した後、押出し機１を用いて、流延ダイ４から第１冷却ロール５上に溶融押出し、第１冷却ロール５に外接させるとともに、更に、第２冷却ロール７、第３冷却ロール８の合計３本の冷却ロールに順に外接させて、冷却固化してフィルム１０とする。

次いで、剥離ロール９によって剥離したフィルム１０を、次いで延伸装置１２によりフィルムの両端部を把持して幅方向に延伸した後、巻取り装置１６により巻き取る。

また、平面性を矯正するために溶融フィルムを第１冷却ロール５表面に挟圧するタッチロール６が設けられている。

このタッチロール６は表面が弾性を有し、第１冷却ロール５との間でニップを形成している。

タッチロール６についての詳細は後述する。

本発明による光学フィルムの製造方法において、溶融押出しの条件は、他のポリエステル等の熱可塑性樹脂に用いられる条件と同様にして行うことができる。

材料は予め乾燥させておくことが好ましい。真空または減圧乾燥機や除湿熱風乾燥機等で水分を１０００ｐｐｍ以下、好ましくは２００ｐｐｍ以下に乾燥させることが望ましい。

例えば、熱風や真空または減圧下で乾燥したセルロースエステルを押出し機１を用いて、押出し温度２００〜３００℃程度で溶融し、リーフディスクタイプのフィルター２等で濾過し、異物を除去する。

供給ホッパー（図示略）から押出し機１へ導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして、酸化分解等を防止することが好ましい。

以下に、本発明において、濾過の必要性について詳細に説明する。

本発明のセルロースエステルは光学フィルムにした時の輝点異物が少ないものであることが望まれる。

輝点異物とは、２枚の偏光板を直交に配置し（クロスニコル）、この間に光学フィルムを配置して、一方の面から光源の光を当てて、もう一方の面から光学フィルムを観察した時に、光源の光が漏れて見える点のことである。

このとき評価に用いる偏光板は輝点異物がない保護フィルムで構成されたものであることが望ましく、偏光子の保護にガラス板を使用したものが好ましく用いられる。

さて、光源の光が漏れるということは、例えば液晶表示装置で黒を表示させた時に一部が光るということあるから非常に目立つものであり、液晶表示装置の品位を大幅に損なうという観点から最も避けなければならないことである。

一般に、フィルム膜厚が薄くなるほど単位面積当たりの輝点異物数は少なくなり、フィルムに含まれるセルロースエステルの含有量が少なくなるほど輝点異物は少なくなる傾向があるが、輝点異物は、輝点の直径０．０１ｍｍ以上が２００個／ｃｍ²以下であることが好ましく、１００個／ｃｍ²以下であることがより好ましく、５０個／ｃｍ²以下であることが更に好ましく、３０個／ｃｍ²以下であることがさらにより好ましく、１０個／ｃｍ²以下であることが更に好ましいが、皆無であることが最も好ましい。

また、０．００５〜０．０１ｍｍ以下の輝点についても２００個／ｃｍ²以下であることが好ましく、１００個／ｃｍ²以下であることがより好ましく、５０個／ｃｍ²以下であることがさらにより好ましく、３０個／ｃｍ²以下であることが更に好ましく、１０個／ｃｍ²以下であることが更に好ましいが、皆無であることが最も好ましい。

ここで、輝点異物の原因として考えられているものを以下に列挙する。

１．天然原料由来の材料であるセルロースに含まれている異物（金属イオン、ごみ等）
２．セルロースエステルの製造工程で混入する異物（未酢化もしくは低酢化度のセルロース、金属イオン、ごみ等）
３．セルロースエステルを原材料メーカーから購入し押出し機に搬入するまでに混入する異物（金属イオン、ごみ等）
上記、１、２に関しては、セルロースエステルの合成後期の過程や沈殿物を得る過程の少なくともいずれかにおいて、一度溶媒に溶解し、溶液状態として濾過工程を経由して異物を除去できるが効果が不十分であることが多く、一方、３をなくすことは殆ど不可能である。

従って、押出し機から流延ダイの間にフィルターを介することが、輝点異物を低減するために必要となる。

輝点異物を溶融濾過によって除去する場合、生産性、及びセルロースエステルの劣化という観点から濾過時間は短い方が好ましいのは当然のことである。

従って、溶融粘度は小さい方が好ましい。

また、セルロースエステルを単独で溶融させたものを濾過するよりも劣化防止剤、可塑剤等を添加混合したセルロースエステル組成物を濾過することが輝点異物の除去効率が高く、また劣化防止のために好ましい。紫外線吸収剤、その他の添加物も適宜混合したものを濾過することができる。

濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂等の弗素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられるが、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。

絶対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく用いられ、３０μｍ以下のものがより好ましく、１０μｍ以下のものがさらにより好ましく、５μｍ以下のものが更に好ましく用いられる。これらは適宜組み合わせて使用することもできる。

濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプでも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用いられる。

濾過のみを考慮した場合には、セルロースエステルを含む溶融物の粘度（溶融粘度）は、通常５０００Ｐａ・ｓ以下、好ましくは２０００Ｐａ・ｓ以下であり、より好ましくは１０００Ｐａ・ｓ以下であり、特に好ましくは８００Ｐａ・ｓ以下である。溶融粘度が高すぎると、濾過速度の低下による生産性の低下、滞留時間が長くなることによる樹脂の劣化、更には樹脂圧の上昇に伴う濾材の破損等があるので好ましくない。

なお、可塑剤等の添加剤を予め混合しない場合は、それらを押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー３等の混合装置を用いてもよい。

本発明において、セルロースエステルと、その他必要により添加される劣化防止剤等の添加剤は、溶融する前に混合しておくことが好ましく、セルロースエステルと添加剤を加熱前に混合することが更に好ましい。

混合は、混合機等により行ってもよく、また、前記したようにセルロース樹脂調製過程において混合してもよい。混合機を使用する場合は、Ｖ型混合機、円錐スクリュー型混合機、水平円筒型混合機等、ヘンシェルミキサー、リボンミキサー一般的な混合機を用いることができる。

上記のように光学フィルムを混合した後に、その混合物を押出し機１を用いて直接溶融して製膜するようにしてもよいが、一旦、光学フィルムをペレット化した後、該ペレットを押出し機１で溶融して製膜するようにしてもよい。

また、光学フィルムが、融点の異なる複数の材料を含む場合には、融点の低い材料のみが溶融する温度で一旦、いわゆるおこし状の半溶融物を作製し、半溶融物を押出し機１に投入して製膜することも可能である。

光学フィルムに熱分解しやすい材料が含まれる場合には、溶融回数を減らす目的で、ペレットを作製せずに直接製膜する方法や、上記のようなおこし状の半溶融物を作ってから製膜する方法が好ましい。

押出し機１は、市場で入手可能な種々の押出し機を使用可能であるが、溶融混練押出し機が好ましく、単軸押出し機でも２軸押出し機でもよい。

光学フィルムからペレットを作製せずに、直接製膜を行う場合、適当な混練度が必要であるため２軸押出し機を用いることが好ましいが、単軸押出し機でも、スクリューの形状をマドック型、ユニメルト型、ダルメージ等の混練型のスクリューに変更することにより、適度の混練が得られるので、使用可能である。光学フィルムとして、一旦、ペレットやおこし状の半溶融物を使用する場合は、単軸押出し機でも２軸押出し機でも使用可能である。

押出し機１内及び押出した後の冷却工程は、窒素ガス等の不活性ガスで置換するか、或いは減圧することにより、酸素の濃度を下げることが好ましい。

押出し機１内の光学フィルムの溶融温度は、光学フィルムの粘度や吐出量、製造するシートの厚み等によって好ましい条件が異なるが、一般的には、フィルムのガラス転移温度Ｔｇに対して、Ｔｇ以上、Ｔｇ＋１３０℃以下、好ましくはＴｇ＋１０℃以上、Ｔｇ＋１２０℃以下である。

本発明の溶融押出し時の温度は２００℃以上２７０℃以下の範囲であることが好ましい。更に２３０〜２６０℃の範囲であることが好ましい。

押出し時の溶融粘度は、通常１０〜５０００Ｐａ・ｓ、好ましくは５０〜２０００Ｐａ・ｓであり、より好ましくは１００〜１０００Ｐａ・ｓであり、特に好ましくは３００〜８００Ｐａ・ｓである。溶融粘度が高すぎると、濾過速度の低下による生産性の低下、滞留時間が長くなることによる樹脂の劣化、更には樹脂圧の上昇に伴う濾材の破損等があるので好ましくなく、逆に低すぎるとフィルムの製膜性（平面性、スジ発生、ヨレ発生、ロールからの剥離性等）が劣化するので好ましくない。

また、押出し機１内での光学フィルムの滞留時間は短い方が好ましく、１５分以内、好ましくは１０分以内、より好ましくは５分以内である。滞留時間は、押出し機１の種類、押し出す条件にも左右されるが、材料の供給量やＬ／Ｄ、スクリュー回転数、スクリューの溝の深さ等を調整することにより短縮することが可能である。

押出し機１のスクリューの形状や回転数等は、光学フィルムの粘度や吐出量等により適宜選択される。本発明において押出し機１でのせん断速度は、１／秒〜１００００／秒、好ましくは５／秒〜１０００／秒、より好ましくは１０／秒〜１００／秒である。

本発明に使用できる押出し機１としては、一般的にプラスチック成形機として入手可能である。

押出し機１から押し出された光学フィルムは、フィルター２、スタチックミキサー３を介し（但し、スタチックミキサー３は必須ではない）、流延ダイ４に送られ、流延ダイ４のスリットからフィルム状に押し出される。流延ダイ４はシートやフィルムを製造するために用いられるものであれば特に限定はされない。

流延ダイ４の材質としては、ハードクロム、炭化クロム、窒化クロム、炭化チタン、炭窒化チタン、窒化チタン、超鋼、セラミック（タングステンカーバイド、酸化アルミ、酸化クロム）等を溶射もしくはメッキし、表面加工としてバフ、＃１０００番手以降の砥石を用いるラッピング、＃１０００番手以上のダイヤモンド砥石を用いる平面切削（切削方向は樹脂の流れ方向に垂直な方向）、電解研磨、電解複合研磨等の加工を施したもの等が挙げられる。流延ダイ４のリップ部の好ましい材質は、流延ダイ４と同様である。

またリップ部の表面精度は０．５Ｓ以下が好ましく、０．２Ｓ以下がより好ましい。

この流延ダイ４のスリットは、そのギャップが調整可能なように構成されている。

これを図３に示す。流延ダイ４のスリット３２を形成する一対のリップのうち、一方は剛性の低い変形しやすいフレキシブルリップ３３であり、他方は固定リップ３４である。

そして、多数のヒートボルト３５が流延ダイ４の幅方向すなわちスリット３２の長さ方向に一定ピッチで配列されている。各ヒートボルト５には、埋め込み電気ヒータ３７と冷却媒体通路とを具えたブロック３６が設けられ、各ヒートボルト３５が各ブロック３６を縦に貫通している。ヒートボルト３５の基部はダイ本体３１に固定され、先端はフレキシブルリップ３３の外面に当接している。

そしてブロック３６を常時空冷しながら、埋め込み電気ヒータ３７の入力を増減してブロック３６の温度を上下させ、これによりヒートボルト３５を熱伸縮させて、フレキシブルリップ３３を変位させてフィルムの厚さを調整する。

ダイ後流の所要箇所に厚さ計を設け、これによって検出されたウェブ厚さ情報を制御装置にフィードバックし、この厚さ情報を制御装置で設定厚み情報と比較し、同装置から来る補正制御量の信号によってヒートボルトの発熱体の電力またはオン率を制御するようにすることもできる。

ヒートボルトは、好ましくは、長さ２０〜４０ｃｍ、直径７〜１４ｍｍを有し、複数、例えば数十本のヒートボルトが、好ましくはピッチ２０〜４０ｍｍで配列されている。ヒートボルトの代わりに、手動で軸方向に前後動させることによりスリットギャップを調節するボルトを主体とするギャップ調節部材を設けてもよい。ギャップ調節部材によって調節されたスリットギャップは、通常２００〜１０００μｍ、好ましくは３００〜８００μｍ、より好ましくは４００〜６００μｍである。

第１〜第３冷却ロールは、肉厚が２０〜３０ｍｍ程度のシームレスな鋼管製で、表面が鏡面に仕上げられている。

その内部には、冷却液を流す配管が配置されており、配管を流れる冷却液によってロール上のフィルムから熱を吸収できるように構成されている。この第１乃至第３冷却ロールの内、第１冷却ロール５が本発明の回転支持体に相当する。

一方、第１冷却ロール５に当接するタッチロール６は、表面が弾性を有し、第１冷却ロール５への押圧力によって第１冷却ロール５の表面に沿って変形し、第１ロール５との間にニップを形成する。すなわち、タッチロール６が本発明の挟圧回転体に相当する。

図４に、タッチロール６の一実施形態（以下、タッチロールＡ）の概略断面を示す。図に示すように、タッチロールＡは、可撓性の金属スリーブ４１の内部に弾性ローラ４２を配したものである。

金属スリーブ４１は厚さ０．３ｍｍのステンレス製であり、可撓性を有する。金属スリーブ４１が薄過ぎると強度が不足し、逆に厚過ぎると弾性が不足する。

これらのことから、金属スリーブ４１の厚さとしては、０．１〜１．５ｍｍが好ましい。

弾性ローラ４２は、軸受を介して回転自在な金属製の内筒４３の表面にゴム４４を設けてロール状としたものである。

そして、タッチロールＡが第１冷却ロール５に向けて押圧されると、弾性ローラ４２が金属スリーブ４１を第１冷却ロール５に押しつけ、金属スリープ４１及び弾性ローラ４２は第１冷却ロール５の形状になじんだ形状に対応しつつ変形し、第１冷却ロールとの間にニップを形成する。

金属スリーブ４１の内部で弾性ローラ４２との間に形成される空間には、冷却水４５が流される。

図５、図６は挟圧回転体の別の実施形態であるタッチロールＢを示している。タッチロールＢは、可撓性を有する、シームレスなステンレス鋼管製（厚さ４ｍｍ）の外筒５１と、この外筒５１の内側に同一軸心状に配置された高剛性の金属内筒５２とから概略構成されている。

外筒５１と内筒５２との間の空間５３には、冷却液５４が流される。詳しくは、タッチロールＢは、両端の回転軸５５ａ、５５ｂに外筒支持フランジ５６ａ、５６ｂが取付けられ、これら両外筒支持フランジ５６ａ、５６ｂの外周部間に薄肉金属外筒５１が取付けられている。

また、一方の回転軸５５ａの軸心部に形成されて流体戻り通路５７を形成する流体排出孔５８内に、流体供給管５９が同一軸心状に配設され、この流体供給管５９が薄肉金属外筒５１内の軸心部に配置された流体軸筒６０に接続固定されている。

この流体軸筒６０の両端部に内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂがそれぞれ取り付けられ、これら内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂの外周部間から他端側外筒支持フランジ５６ｂにわたって約１５〜２０ｍｍ程度の肉厚を有する金属内筒５２が取付けられている。

そしてこの金属内筒５２と薄肉金属外筒５１との間に、例えば１０ｍｍ程度の冷却液の流送空間５３が形成され、また金属内筒５２に両端部近傍には、流送空間５３と内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂ外側の中間通路６２ａ、６２ｂとを連通する流出口５２ａ及び流入口５２ｂがそれぞれ形成されている。

また、外筒５１は、ゴム弾性に近い柔軟性と可撓性、復元性をもたせるために、弾性力学の薄肉円筒理論が適用できる範囲内で薄肉化が図られている。この薄肉円筒理論で評価される可撓性は、肉厚ｔ／ロール半径ｒで表されており、ｔ／ｒが小さいほど可撓性が高まる。

このタッチロールＢではｔ／ｒ≦０．０３の場合に可撓性が最適の条件となる。

通常、一般的に使用されているタッチロールは、ロール径Ｒ＝２００〜５００ｍｍ（ロール半径ｒ＝Ｒ／２）、ロール有効幅Ｌ＝５００〜１６００ｍｍで、ｒ／Ｌ＜１で横長の形状である。

そして図６に示すように、例えばロール径Ｒ＝３００ｍｍ、ロール有効幅Ｌ＝１２００ｍｍの場合、肉厚ｔの適正範囲は１５０×０．０３＝４．５ｍｍ以下であるが、溶融シート幅を１３００ｍｍに対して平均線圧を９８Ｎ／ｃｍで挟圧する場合、同一形状のゴムロールと比較して、外筒５１の肉厚を３ｍｍとすることで相当ばね定数も等しく、外筒５１と冷却ロールとのニップのロール回転方向のニップ幅ｋも約９ｍｍで、このゴムロールのニップ幅約１２ｍｍとほぼ近い値を示し、同じような条件下で挟圧できることが分かる。

なお、このニップ幅ｋにおけるたわみ量は０．０５〜０．１ｍｍ程度である。

ここで、ｔ／ｒ≦０．０３としたが、一般的なロール径Ｒ＝２００〜５００ｍｍの場合では、特に２ｍｍ≦ｔ≦５ｍｍの範囲とすると、可撓性も十分に得られ、また機械加工による薄肉化も容易に実施でき、極めて実用的な範囲となる。肉厚が２ｍｍ以下では加工時の弾性変形で高精度な加工ができない。

この２ｍｍ≦ｔ≦５ｍｍの換算値は、一般的なロール径に対して０．００８≦ｔ／ｒ≦０．０５となるが、実用にあたってはｔ／ｒ≒０．０３の条件下でロール径に比例して肉厚も大きくするとよい。例えばロール径：Ｒ＝２００ではｔ＝２〜３ｍｍ、ロール径：Ｒ＝５００ではｔ＝４〜５ｍｍの範囲で選択する。

このタッチロールＡ、Ｂは不図示の付勢手段により第１冷却ロールに向けて付勢される。

その付勢手段の付勢力をＦ、ニップにおけるフィルムの、第１冷却ロール５の回転軸に沿った方向の幅Ｗを除した値Ｆ／Ｗ（線圧）は、９．８〜１４７Ｎ／ｃｍに設定される。本実施の形態によれば、タッチロールＡ、Ｂと第１冷却ロール５との間にニップが形成され、当該ニップをフィルムが通過する間に平面性を矯正すればよい。

従って、タッチロールが剛体で構成され、第１冷却ロールとの間にニップが形成されない場合と比べて、小さい線圧で長時間かけてフィルムを挟圧するので、平面性をより確実に矯正することができる。

すなわち、線圧が９．８Ｎ／ｃｍよりも小さいと、ダイラインを十分に解消することができなくなる。逆に、線圧が１４７Ｎ／ｃｍよりも大きいと、フィルムがニップを通過しにくくなり、フィルムの厚さにかえってムラができてしまう。

また、タッチロールＡ、Ｂの表面を金属で構成することにより、タッチロールの表面がゴムである場合よりもタッチロールＡ、Ｂの表面を平滑にすることができるので、平滑性の高いフィルムを得ることができる。

なお、弾性ローラ４２の弾性体４４の材質としては、エチレンプロピレンゴム、ネオプレンゴム、シリコンゴム等を用いることができる。

さて、タッチロール６によってダイラインを良好に解消するためには、タッチロール６がフィルムを挟圧するときのフィルムの粘度が適切な範囲であることが重要となる。

また、セルロースエステルは温度による粘度の変化が比較的大きいことが知られている。

従って、タッチロール６が光学フィルムを挟圧するときの粘度を適切な範囲に設定するためには、タッチロール６がセルロースフィルムを挟圧するときの光学フィルムの温度を適切な範囲に設定することが重要となる。

そして本発明者は、光学フィルムのガラス転移温度をＴｇとしたとき、光学フィルムがタッチロール６に挟圧される直前のフィルムの温度Ｔを、Ｔｇ＜Ｔ＜Ｔｇ＋１１０℃を満たすように設定すればよいことを見出した。

光学フィルム温度ＴがＴｇよりも低いとフィルムの粘度が高過ぎて、ダイラインを矯正できなくなる。

逆に、光学フィルムの温度ＴがＴｇ＋１１０℃よりも高いと、光学フィルム表面とロールが均一に接着せず、やはりダイラインを矯正することができない。

好ましくはＴｇ＋１０℃＜Ｔ２＜Ｔｇ＋９０℃、更に好ましくはＴｇ＋２０℃＜Ｔ２＜Ｔｇ＋７０℃である。

タッチロール６が光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの温度を適切な範囲に設定するには、流延ダイ４から押し出された溶融物が第１冷却ロール５に接触する位置Ｐ１から第１冷却ロール５とタッチロール６とのニップの、第１冷却ロール５の回転方向に沿った長さＬを調整すればよい。

本発明において、第１ロール５、第２ロール６に好ましい材質は、炭素鋼、ステンレス鋼、樹脂、等が挙げられる。また、表面精度は高くすることが好ましく表面粗さとして０．３Ｓ以下、より好ましくは０．０１Ｓ以下とする。

本発明においては、流延ダイ４の開口部（リップ）から第１ロール５までの部分を７０ｋＰａ以下に減圧させることにより、上記、ダイラインの矯正効果がより大きく発現することを発見した。好ましい減圧は５０〜７０ｋＰａである。流延ダイ４の開口部（リップ）から第１ロール５までの部分の圧力を７０ｋＰａ以下に保つ方法としては、特に制限はないが、流延ダイ４からロール周辺を耐圧部材で覆い、減圧する等の方法がある。このとき、吸引装置は、装置自体が昇華物の付着場所にならないようヒーターで加熱する等の処置を施すことが好ましい。本発明では、吸引圧が小さ過ぎると昇華物を効果的に吸引できないため、適当な吸引圧とする必要がある。

本発明において、Ｔダイ４から溶融状態のフィルム状のセルロースエステルを、第１ロール（第１冷却ロール）５、第２冷却ロール７、及び第３冷却ロール８に順次密着させて搬送しながら冷却固化させ、未延伸の光学フィルム１０を得る。

図１に示す本発明の実施形態では、第３冷却ロール８から剥離ロール９によって剥離した冷却固化された未延伸の光学フィルム１０は、ダンサーロール（フィルム張力調整ロール）１１を経て延伸機１２に導き、そこで光学フィルム１０を横方向（幅方向）に延伸する。この延伸により、フィルム中の分子が配向される。

光学フィルムを幅方向に延伸する方法は、公知のテンター等を好ましく用いることができる。特に延伸方向を幅方向とすることで、偏光フィルムとの積層がロール形態で実施できるので好ましい。幅方向に延伸することで、光学フィルムからなる光学フィルムの遅相軸は幅方向になる。

一方、偏光フィルムの透過軸も、通常、幅方向である。偏光フィルムの透過軸と光学フィルムの遅相軸とが平行になるように積層した偏光板を液晶表示装置に組み込むことで、液晶表示装置の表示コントラストを高くすることができるとともに、良好な視野角が得られるのである。

光学フィルムのガラス転移温度Ｔｇは光学フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率を異ならしめることにより制御できる。光学フィルムとして位相差フィルムを作製する場合、Ｔｇは１２０℃以上、好ましくは１３５℃以上とすることが好ましい。液晶表示装置においては、画像の表示状態において、装置自身の温度上昇、例えば光源由来の温度上昇によってフィルムの温度環境が変化する。

このときフィルムの使用環境温度よりも光学フィルムのＴｇが低いと、延伸によってフィルム内部に固定された分子の配向状態に由来するリターデーション値及びフィルムとしての寸法形状に大きな変化を与えることとなる。

光学フィルムのＴｇが高過ぎると、光学フィルムをフィルム化するとき温度が高くなるために加熱するエネルギー消費が高くなり、また光学フィルム化するときの材料自身の分解、それによる着色が生じることがあり、従って、Ｔｇは２５０℃以下が好ましい。

また延伸工程には公知の熱固定条件、冷却、緩和処理を行ってもよく、目的とする光学フィルムに要求される特性を有するように適宜調整すればよい。

位相差フィルムの物性と液晶表示装置の視野角拡大のための位相差フィルムとしての機能付与するために、上記延伸工程、熱固定処理は適宜選択して行われている。

このような延伸工程、熱固定処理を含む場合、加熱加圧工程は、それらの延伸工程、熱固定処理の前に行うようにする。

光学フィルムとして位相差フィルムを製造し、更に偏光板保護フィルムの機能を複合させる場合、屈折率制御を行う必要が生じるが、その屈折率制御は延伸操作により行うことが可能であり、また延伸操作が好ましい方法である。以下、その延伸方法について説明する。

位相差フィルムの延伸工程において、セルロース樹脂の１方向に１．０〜２．０倍及びフィルム面内にそれと直交する方向に１．０１〜２．５倍延伸することで、必要とされるリターデーションＲｏ及びＲｔを制御することができる。ここで、Ｒｏとは面内リターデーションを示し、Ｒｔとは厚み方向リターデーションを示す。

リターデーションＲｏ、Ｒｔは下記式により求められる。

式（ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii） Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
光学フィルムの屈折率は、アッベ屈折率計（４Ｔ）を用いて、フィルムの厚さは市販のマイクロメーターを用いて、リターデーション値は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）等を用いて、各々測定することが出来る。

延伸は、例えば光学フィルムの長手方向及びそれと光学フィルム面内で直交する方向、即ち幅方向に対して、逐次または同時に行うことができる。このとき少なくとも１方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となり光学フィルム破断が発生してしまう場合がある。

例えば溶融流延方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、ｎｚの値が大きくなり過ぎてしまう。

この場合、光学フィルムの幅収縮を抑制、或いは幅方向にも延伸することで改善できる。

幅方向に延伸する場合、幅方向で屈折率に分布が生じることがある。

この分布は、テンター法を用いた場合に現れることがあり、光学フィルムを幅方向に延伸したことで、光学フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。

この場合でも、流延方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制でき、幅方向の位相差の分布を少なくできる。

互いに直行する２軸方向に延伸することにより、得られる光学フィルムの膜厚変動が減少できる。

位相差フィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶表示装置に用いたとき着色等のムラが問題となることがある。

光学フィルムの膜厚変動は、±３％、更に±１％の範囲とすることが好ましい。

以上のような目的において、互いに直交する２軸方向に延伸する方法は有効であり、互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に１．０〜２．０倍、幅方向に１．０１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に１．０１〜１．５倍、幅方向に１．０５〜２．０倍に範囲で行うことが必要とされるリターデーション値を得るためにより好ましい。

長手方向に偏光子の吸収軸が存在する場合、幅方向に偏光子の透過軸が一致することになる。長尺状の偏光板を得るためには、位相差フィルムは、幅方向に遅相軸を得るように延伸することが好ましい。

応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、上述の構成から、幅方向に延伸することで、位相差フィルムの遅相軸が幅方向に付与することができる。この場合、表示品質の向上のためには、位相差フィルムの遅相軸が、幅方向にあるほうが好ましく、目的とするリターデーション値を得るためには、
式、（幅方向の延伸倍率）＞（流延方向の延伸倍率）
の条件を満たすことが必要である。

延伸後、光学フィルムの端部をスリッター１３により製品となる幅にスリットして裁ち落とした後、エンボスリング１４及びバックロール１５よりなるナール加工装置によりナール加工（エンボッシング加工）をフィルム両端部に施し、巻取り機１６によって巻き取ることにより、光学フィルム（元巻き）Ｆ中の貼り付きや、すり傷の発生を防止する。ナール加工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、変形しており、フィルム製品として使用できないので、切除されて、原料として再利用される。

次に、光学フィルムの巻取り工程は、円筒形巻き光学フィルムの外周面とこれの直前の移動式搬送ロールの外周面との間の最短距離を一定に保持しながらフィルムを巻取りロールに巻き取るものである。かつ巻取りロールの手前には、光学フィルムの表面電位を除去または低減する除電ブロア等の手段が設けられている。

本発明の光学フィルムの製造に係わる巻き取り機は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の巻き取り方法で巻き取ることができる。

なお、光学フィルムの巻取り時の初期巻取り張力が９０．２〜３００．８Ｎ／ｍであるのが好ましい。

本発明の方法におけるフィルムの巻き取り工程では、温度２０〜３０℃、湿度２０〜６０％ＲＨの環境条件にて、フィルムを巻き取ることが好ましい。このように、光学フィルムの巻き取り工程での温度及び湿度を規定することにより、厚み方向リターデーション（Ｒｔ）の湿度変化の耐性が向上する。

巻き取り工程における温度が２０℃未満であれば、シワが発生し、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。

光学フィルムの巻き取り工程における温度が３０℃を超えると、やはりシワが発生し、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。

また、光学フィルムの巻き取り工程における湿度が２０％ＲＨ未満であれば、帯電しやすく、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。

光学フィルムの巻き取り工程における湿度が６０％ＲＨを超えると、巻品質、貼り付き故障、搬送性が劣化するので、好ましくない。

光学フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度にも耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであってもよく、フェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。

例えば、中空プラスチックコア：ＦＲＰ製の外径６インチ（以下、インチは２．５４ｃｍのドットの数を表す。）、内径５インチの巻きコアが用いられる。

これらの巻きコアへの巻き数は、１００巻き以上であることが好ましく、５００巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は５ｃｍ以上であることが好ましく、フィルム基材の幅は８０ｃｍ以上であることが好ましく、１ｍ以上であることが特に好ましい。

本発明の光学フィルムの膜の厚さは、使用目的によって異なるが、仕上がり光学フィルムとして、１０〜５００μｍが好ましい。

特に、下限は２０μｍ以上、好ましくは３５μｍ以上である。上限は１５０μｍ以下、好ましくは１２０μｍ以下である。特に好ましい範囲は２５〜９０μｍである。

本発明の光学フィルムが位相差フィルムであり偏光板保護フィルムを兼ねる場合、光学フィルムの膜厚が上記の範囲であると、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的に好ましい。

一方、光学フィルムが薄いと、位相差フィルムとしてのリターデーションの発現が困難となり、加えてフィルムの透湿性が高くなり、偏光子を湿度から保護する能力が低下してしまうために好ましくない。

位相差フィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角度をθ１とすると、θ１は−１〜＋１°、好ましくは−０．５〜＋０．５°となるようにする。

このθ１は配向角として定義でき、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器社製）を用いて行うことができる。

θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与し、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現に寄与する。

位相差フィルムがマルチドメイン化されたＶＡモードに用いられるとき、位相差フィルムの配置は、位相差フィルムの進相軸がθ１として上記領域に配置することで、表示画質の向上に寄与し、偏光板及び液晶表示装置としてＭＶＡモードとしたとき、例えば図７に示す構成をとることができる。

図７において、２１ａ、２１ｂは保護フィルム、２２ａ、２２ｂは位相差フィルム、２５ａ、２５ｂは偏光子、２３ａ、２３ｂはフィルムの遅相軸方向、２４ａ、２４ｂは偏光子の透過軸方向、２６ａ、２６ｂは偏光板、２７は液晶セル、２９は液晶表示装置を示している。

光学フィルムの面内方向のリターデーションＲｏ分布は、５％以下に調整することが好ましく、より好ましくは２％以下であり、特に好ましくは、１．５％以下である。また、フィルムの厚み方向のリターデーションＲｔ分布を１０％以下に調整することが好ましいが、更に好ましくは、２％以下であり、特に好ましくは、１．５％以下である。

位相差フィルムにおいて、リターデーション値の分布変動が小さい方が好ましく、液晶表示装置に位相差フィルムを含む偏光板を用いるとき、該リターデーション分布変動が小さいことが色ムラ等を防止する観点で好ましい。

位相差フィルムを、ＶＡモードまたはＴＮモードの液晶セルの表示品質の向上に適したリターデーション値を有するように調整し、特にＶＡモードとして上記のマルチドメインに分割してＭＶＡモードに好ましく用いられるようにするには、面内リターデーションＲｏを３０ｎｍよりも大きく、９５ｎｍ以下に、かつ厚み方向リターデーションＲｔを７０ｎｍよりも大きく、４００ｎｍ以下の値に調整することが求められる。

上記の面内リターデーションＲｏは、２枚の偏光板がクロスニコルに配置され、偏光板の間に液晶セルが配置された、例えば図７に示す構成であるときに、表示面の法線方向から観察するときを基準にしてクロスニコル状態にあるとき、表示面の法線から斜めに観察したとき、偏光板のクロスニコル状態からのずれが生じ、これが要因となる光漏れを、主に補償する。

厚さ方向のリターデーションは、上記ＴＮモードやＶＡモード、特にＭＶＡモードにおいて液晶セルが黒表示状態であるときに、同様に斜めから見たときに認められる液晶セルの複屈折を主に補償するために寄与する。

図７に示すように、液晶表示装置において、液晶セルの上下に偏光板が二枚配置された構成である場合、図中の２２ａ及び２２ｂは、厚み方向リターデーションＲｔの配分を選択することができ、上記範囲を満たしかつ厚み方向リターデーションＲｔの両者の合計値が１４０ｎｍよりも大きくかつ５００ｎｍ以下にすることが好ましい。

このとき２２ａ及び２２ｂの面内リターデーションＲｏ、厚み方向リターデーションＲｔが両者同じであることが、工業的な偏光板の生産性向上において好ましい。

特に好ましくは面内リターデーションＲｏが３５ｎｍよりも大きくかつ６５ｎｍ以下であり、かつ厚み方向リターデーションＲｔが９０ｎｍよりも大きく１８０ｎｍ以下で、図７の構成でＭＶＡモードの液晶セルに適用することである。

液晶表示装置において、一方の偏光板に例えば市販の偏光板保護フィルムとして面内リターデーションＲｏ＝０〜４ｎｍ及び厚み方向リターデーションＲｔ＝２０〜６０ｎｍで厚さ３５〜８５μｍのＴＡＣフィルムが、例えば図７の２２ｂの位置で使用されている場合、他方の偏光板に配置される偏光フィルム、例えば、図７の２２ａに配置する位相差フィルムは、面内リターデーションＲｏが３０ｎｍよりも大きく９５ｎｍ以下であり、かつ厚み方向リターデーションＲｔが１４０ｎｍよりも大きく４００ｎｍ以下であるものを使用するようにすると、表示品質が向上し、かつフィルムの生産面からも好ましい。

《リサイクル》
製膜工程において、カットされたフィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料としてまたは異なる品種のフィルム用原料として再利用することが好ましい。

《機能性層》
本発明の光学フィルム製造に際し、延伸の前及び／または後で帯電防止層、透明導電層、ハードコート層、反射防止層、防汚層、易滑性層、易接着層、防眩層、ガスバリア層、光学補償層等の機能性層を塗設してもよい。

特に、帯電防止層、ハードコート層、反射防止層、易接着層、防眩層及び光学補償層から選ばれる少なくとも１層を設けることが好ましい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。

《ケン化》
前記ケン化処理は、フィルムをケン化液に浸漬してもよく（浸漬法）、ケン化液を塗布してもよい（塗布方法）。

（アルカリ溶液）
本発明の光学フィルムは、濃度が２ｍｏｌ／Ｌ以上のアルカリ溶液をケン化液として用いてケン化処理されることが好ましい。前記ケン化液はアルカリ剤と水とからなり、場合により界面活性剤および相溶化剤が含有されていてもよい。

前記アルカリ溶液の濃度（アルカリ溶液中のアルカリ剤の含有量）は、セルロースエステルのアシル置換度に応じて決定する必要がある。

すなわち、セルロースエステルにおいては、アシル基の炭素数増大に伴って、ケン化効率が著しく低下するため、アシル基の炭素数が大きくなるほどアルカリ濃度は高くする必要があるが、アルカリ濃度が高すぎるとアルカリ溶液の安定性が損なわれ、長時間塗布において析出する場合もあるため、セルロースエステルの構造に応じて適切にアルカリ溶液を選定する必要はあるものの、アルカリ濃度は低い方が好ましい。

また、セルロースエステル中にアルカリ加水分解性の添加剤を含有する場合、それが分解するためアルカリ濃度が高すぎるのは好ましくない。

従って、本発明で用いられるアルカリ溶液は２ｍｏｌ／Ｌ〜４．０ｍｏｌ／Ｌであることが好ましく、２ｍｏｌ／Ｌ〜２．５ｍｏｌ／Ｌであることがより好ましい。

本発明では、ケン化処理温度が４０℃〜８０℃の温度で行われることが好ましく、さらに好ましいのは４０℃〜７０℃であり、より好ましいのは４０℃〜６５℃である。

ケン化温度が４０℃以上であれば、セルロースエステル表面のケン化が進みやすく、偏光子との接着性が得られやすいため、良好な耐久性を有する偏光板を製造しやすくなる。

一方、ケン化処理温度が高すぎると、アシレートフィルム中の成分（可塑剤など）が抽出されたり、或いは分解したり、更にはフィルムの過度の膨潤が起こる場合があり、フィルム面状に白化などの問題が生じてしまうことがある。

本発明のその他のアルカリ剤の例として、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同カリウム、同リチウム、同アンモニウムなどの無機アルカリ剤が挙げられる。

また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン）、ＤＢＮ（１，５−ジアザビシクロ［４，３，０］−５−ノネン）、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルブチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて併用することもでき、一部を例えばハロゲン化したような塩の形で添加してもよい。

これらのアルカリ剤の中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由は、これらの量を調整することにより広いｐＨ領域でのｐＨ調整が可能となるためである。

前記アルカリ溶液の溶媒は、水の単独溶媒、もしくは水と有機溶媒との混合溶媒である。好ましい有機溶媒は、アルコール類、アルカノール類、グリコール化合物のモノエーテル類、ケトン類、アミド類、スルホキシド類、エーテル類が挙げられ、より好ましくは、分子量６１以上のアルコール類であり、さらに好ましくは分子量６１以上のグリコール類であり、具体的には、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、グリセリンモノメチルエーテル、グリセリンモノエチルエーテル、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等が挙げられる。水と併用される有機溶媒は、単独もし
くは２種類以上を混合して用いてもよい。

（ケン化処理）
上述のように本発明の光学フィルムは、フィルムを前記アルカリ溶液でケン化処理する工程と、アルカリ溶液をフィルムから洗い落とす工程とによりアルカリケン化処理を実施されるのが好ましい。

その後、アルカリ溶液を中和する工程、および中和液をフィルムから洗い落とす工程を含んでもよい。

これらの工程は、フィルムを搬送しながら実施することが好ましく、特開２００１−１８８１３０号公報記載のようなアルカリ溶液に浸漬する方法を用いてもよく、特開２００４−２０３９６５号公報記載のようなアルカリ溶液を塗布する方法を用いてもよい。

ケン化時間は３０秒〜５分間であることが好ましく、１〜２分間であることがより好ましい。ケン化時間が長すぎると、後述する偏光板耐久性に悪影響を及ぼしてしまうことがある。

《偏光板》
本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。

本発明の光学フィルムの裏面側をアルカリケン化処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。

もう一方の面にも本発明の光学フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。

本発明の光学フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは市販の光学フィルムを用いることが出来る。

例えば、市販の光学フィルムとして、ＫＣ８ＵＸ２Ｍ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ４ＦＲ−１、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ（以上、コニカミノルタオプト（株）製）等が好ましく用いられる。

或いは更にディスコチック液晶、棒状液晶、コレステリック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることも好ましい。

例えば、特開２００３−９８３４８記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。

本発明の光学フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。

或いは、光学フィルム以外の環状オレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート等のフィルムをもう一方の面の偏光板保護フィルムとして用いてもよい。

上記アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、同６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施して偏光板加工を行ってもよい。

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。

偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光膜の膜厚は５〜４０μｍ、好ましくは５〜３０μｍであり、特に好ましくは５〜２０μｍである。

該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全ケン化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。

偏光膜は一軸方向（通常は長手方向）に延伸されているため、偏光板を高温高湿の環境下に置くと延伸方向（通常は長手方向）は縮み、延伸と垂直方向（通常は幅方向）には伸びる。偏光板保護用フィルムの膜厚が薄くなるほど偏光板の伸縮率は大きくなり、特に偏光膜の延伸方向の収縮量が大きい。

通常、偏光膜の延伸方向は偏光板保護用フィルムの流延方向（ＭＤ方向）と貼り合わせるため、偏光板保護用フィルムを薄膜化する場合は、特に流延方向の伸縮率を抑えることが重要である。本発明の光学フィルムは極めて寸法安定に優れる為、このような偏光板保護フィルムとして好適に使用される。

即ち、本発明の光学フィルムは６０℃、９０％ＲＨの条件での耐久性試験によっても波打ち状のむらが増加することはなく、裏面側に光学補償フィルムを有する偏光板であっても、耐久性試験後に視野角特性が変動することなく良好な視認性を提供することが出来る。

偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することが出来る。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。

この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。

また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。

《液晶表示装置》
本発明の光学フィルムを用いた偏光板保護フィルム（位相差フィルムを兼ねる場合も含む）を含む偏光板は、通常の偏光板と比較して高い表示品質を発現させることができ、特にマルチドメイン型の液晶表示装置、より好ましくは複屈折モードによってマルチドメイン型の液晶表示装置への使用に適している。

本発明の偏光板は、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍｅｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＣＰＡ（Ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ Ｐｉｎｗｈｅｅｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ Ｐｌａｃｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード等に用いることができ、特定の液晶モード、偏光板の配置に限定されるものではない。

液晶表示装置はカラー化及び動画表示用の装置としても応用されつつあり、本発明により表示品質が改良され、コントラストの改善や偏光板の耐性が向上したことにより、疲れにくく忠実な動画像表示が可能となる。

位相差フィルムを含む偏光板を少なくとも含む液晶表示装置においては、本発明の光学フィルムとしての偏光板保護フィルムを含む偏光板を、液晶セルに対して、一枚配置するか、或いは液晶セルの両側に二枚配置する。このとき偏光板に含まれる偏光板保護フィルム側が液晶表示装置の液晶セルに面するように用いることで表示品質の向上に寄与できる。図７においては２２ａ及び２２ｂのフィルムが液晶表示装置の液晶セルに面することになる。

このような構成において、本発明の光学フィルムとしての偏光板保護フィルムは、液晶セルを光学的に補償することができる。本発明の偏光板を液晶表示装置に用いる場合は、液晶表示装置の偏光板の内の少なくとも一つの偏光板を、本発明の偏光板とすればよい。本発明の偏光板を用いることで、表示品質が向上し、視野角特性に優れた液晶表示装置が提供できる。

本発明の偏光板において、偏光子からみて本発明の光学フィルムとしての偏光板保護フィルムとは反対側の面には、セルロース誘導体の偏光板保護フィルムが用いられ、汎用のＴＡＣフィルム等を用いることができる。液晶セルから遠い側に位置する偏光板保護フィルムは、表示装置の品質を向上する上で、他の機能性層を配置することも可能である。

例えば、反射防止、防眩、耐キズ、ゴミ付着防止、輝度向上のためにディスプレイとしての公知の機能層を構成物として含むフィルムや、または本発明の偏光板表面に貼付してもよいがこれらに限定されるものではない。

一般に位相差フィルムでは、上述のリターデーションＲｏまたはＲｔの変動が少ないことが安定した光学特性を得るために求められている。特に複屈折モードの液晶表示装置は、これらの変動が画像のムラを引き起こす原因となることがある。

本発明に従い溶融流延製膜法により製造される長尺状偏光板保護フィルムは、セルロースエステルを主体として構成されるため、セルロースエステル固有のケン化を活用してアルカリ処理工程を活用することができる。

これは、偏光子を構成する樹脂がポリビニルアルコールであるとき、従来の偏光板保護フィルムと同様に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて偏光板保護フィルムと貼合することができる。

このために本発明は、従来の偏光板加工方法が適用できる点で優れており、特に長尺状であるロール偏光板が得られる点で優れている。

本発明により得られる製造的効果は、特に１００ｍ以上の長尺の巻物においてより顕著となり、１５００ｍ、２５００ｍ、５０００ｍとより長尺化する程、偏光板製造の製造的効果を得る。

例えば、偏光板保護フィルム製造において、ロール長さは、生産性と運搬性を考慮すると、１０〜５０００ｍ、好ましくは５０〜４５００ｍであり、このときのフィルムの幅は、偏光子の幅や製造ラインに適した幅を選択することができる。

０．５〜４．０ｍ、好ましくは０．６〜３．０ｍの幅でフィルムを製造してロール状に巻き取り、偏光板加工に供してもよく、また、目的の倍幅以上のフィルムを製造してロールに巻き取った後、断裁して目的の幅のロールを得て、このようなロールを偏光板加工に用いるようにしてもよい。

偏光板保護フィルム製造に際し、延伸の前及び／または後で帯電防止層、ハードコート層、易滑性層、接着層、防眩層、バリアー層等の機能性層を塗設してもよい。

この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。

前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロースエステルを含む組成物を共押出しして、積層構造の光学フィルムを作製することもできる。

例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成の光学フィルムを作ることができる。

例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。

可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多く入れることができ、コア層のみに入れてもよい。

また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えば、スキン層に低揮発性の可塑剤及び／または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。

スキン層とコア層のガラス転移温度が異なっていてもよく、スキン層のガラス転移温度よりコア層のガラス転移温度が低いことが好ましい。

このとき、スキンとコアの両者のガラス転移温度を測定し、これらの体積分率より算出した平均値を上記ガラス転移温度Ｔｇと定義して同様に扱うこともできる。

また、溶融流延時のセルロースエステルを含む溶融物の粘度もスキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度＞コア層の粘度でも、コア層の粘度≧スキン層の粘度でもよい。

本発明の光学フィルムは、寸度安定性が、２３℃、５５％ＲＨに２４時間放置したフィルムの寸法を基準としたとき、８０℃、９０％ＲＨにおける寸法の変動値が±２．０％未満であり、好ましくは１．０％未満であり、更に好ましくは０．５％未満である。

本発明の光学フィルムを位相差フィルムとして偏光板保護フィルムに用いる際に、位相差フィルム自身が上記の範囲内の変動であると、偏光板としてのリターデーションの絶対値と配向角が当初の設定がずれないために、表示品質の向上能の減少或いは表示品質の劣化を引き起こすことがないため好ましい。

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。

〈セルロースエステルの合成〉
（セルロースエステル１の合成）
セルロース（日本製紙（株）製溶解パルプ）３０ｇに酢酸７０ｇ、プロピオン酸４０ｇを加え、５４℃で３０分撹拌した。混合物を冷却した後、氷浴中で冷却した無水酢酸８ｇ、無水プロピオン酸１００ｇ、硫酸１．０ｇを加えてエステル化を行った。

エステル化において、４０℃を超えないように調節しながら、撹拌を１００分行った。次に、再び混合物を冷却した後、氷浴中で冷却した無水酢酸２ｇ、無水プロピオン酸２５ｇ、硫酸０．２ｇを加えてエステル化を行った。エステル化において、４０℃を超えないように調節しながら、撹拌を５０分行った。

反応終了後、酢酸３０ｇと水１０ｇの混合液を２０分かけて滴下して過剰の無水物を加水分解した。

反応液の温度を４０℃に保持しながら、酢酸９０ｇと水３０ｇを加えて１時間撹拌した。

酢酸マグネシウム２ｇを含有した水溶液中に混合物をあけてしばらく撹拌した後にろ過、洗浄液のｐＨが中性になるまで十分水で洗浄した後、乾燥し、セルロースエステル１を得た。得られたセルロースエステル１に関して、前述のＹ．Ｔｅｚｕｋａらの文献に記載の方法によりアセチル基の置換度（Ｘ）、プロピオニル基の置換度（Ｙ）、及び６位のプロピオニル基の置換度（Ｙ６）を求めたところ、Ｘ＝１．５０、Ｙ＝１．４０、Ｙ６＝０．４５であった。これにより総炭素数（２×Ｘ＋３×Ｙ）は７．２０と計算できる。

また、前述の条件でゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより重量平均分子量を求めたところ、２０５０００であり、更に、示差熱重量分析装置を用いて、空気下における１％質量減少温度Ｔｄ（１．０）を測定したところ、２７８℃であった。

（セルロースエステル２〜１５の合成）
セルロースエステル１の合成に対して、酢酸、プロピオン酸、無水酢酸、及び無水プロピオン酸の使用量を変化させた以外はセルロースエステル１の合成と同様の合成操作を行い、セルロースエステル２〜１５を得た。

得られた本発明のセルロースエステル１〜１５の各々に対し、総炭素数（２×Ｘ＋３×Ｙ）、プロピオニル基の置換度（Ｙ）、６位のプロピオニル基の置換度（Ｙ６）、及び重量平均分子量（Ｍｗ）、１％質量減少温度Ｔｄ（１．０）の値を表１に示す。

（比較のセルロースエステル１６の合成）
セルロース（日本製紙（株）製溶解パルプ）３０ｇに酢酸７０ｇ、プロピオン酸４０ｇを加え、５４℃で３０分撹拌した。混合物を冷却した後、氷浴中で冷却した無水酢酸１０ｇ、無水プロピオン酸１２５ｇ、硫酸１．２ｇを加えてエステル化を行った。

エステル化において、４０℃を超えないように調節しながら、撹拌を１５０分行った。反応終了後、酢酸３０ｇと水１０ｇの混合液を２０分かけて滴下して過剰の無水物を加水分解した。反応液の温度を４０℃に保持しながら、酢酸９０ｇと水３０ｇを加えて１時間撹拌した。

酢酸マグネシウム２ｇを含有した水溶液中に混合物をあけてしばらく撹拌した後にろ過、洗浄液のｐＨが中性になるまで十分水で洗浄した後、乾燥し、セルロースエステル１を得た。得られたセルロースエステル１に関して、前述のＹ．Ｔｅｚｕｋａらの文献に記載の方法によりアセチル基の置換度（Ｘ）、プロピオニル基の置換度（Ｙ）、及び６位のプロピオニル基の置換度（Ｙ６）を求めたところ、Ｘ＝１．５０、Ｙ＝１．４０、Ｙ６＝０．５３であった。

これにより総炭素数（２×Ｘ＋３×Ｙ）は７．２０と計算できる。

また、前述の条件でゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより重量平均分子量を求めたところ、２０３，０００であり、更に、示差熱重量分析装置を用いて、空気下における１％質量減少温度Ｔｄ（１．０）を測定したところ、２７７℃であった。

（比較のセルロースエステル１７〜２６の合成）
ここで、比較のセルロースエステル１７〜２１、２３、２５、２６は、比較のセルロースエステル１６の合成に対して、酢酸、プロピオン酸、無水酢酸、及び無水プロピオン酸の使用量を変化させた以外はセルロースエステル１６と同様の合成操作を行うことにより合成した。

一方、比較のセルロースエステル２２、２４は、セルロースエステル１の合成に対して、酢酸、酪酸、無水酢酸、及び無水酪酸の組み合わせを用い、さらにそれらの使用量を変化させた以外はセルロースエステル１と同様の合成操作を行うことによって合成した。

得られた比較のセルロースエステル１６〜２６の各々に対し、総炭素数（２×Ｘ＋３×Ｙ、もしくは２×Ｘ＋４×Ｚ（Ｚはブチリル基の置換度））、プロピオニル基の置換度（Ｙ）、６位のプロピオニル基の置換度（Ｙ６）、ブチリル基の置換度（Ｚ）、６位のブチリル基の置換度（Ｚ６）、及び重量平均分子量（Ｍｗ）、１％質量減少温度Ｔｄ（１．０）の値を表１に示す。

実施例１
〔セルロースエステルを有してなる光学フィルム１−１の作製〕
下記のように、上記合成したセルロースエステルと各種添加剤を用いて溶融流延により、本発明の光学フィルム１−１を作製した。

セルロースエステル１ １００質量部
可塑剤−Ａ ８質量部
ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（チバスペシャルティケミカルズ社製） ０．５０質量部
ＧＳＹ−Ｐ１０１（堺化学工業社製） ０．２５質量部
ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＳ（住友化学社製） ０．２５質量部
ＴＩＮＵＶＩＮ９２８（チバスペシャルティケミカルズ社製） １．５質量部
セルロースエステル１を１３０℃、４時間減圧下で乾燥を行い室温まで冷却した後、添加剤を混合した。以上の混合物を２軸式押出し機を用いて２３０℃で溶融混合し、ペレット１−１を作製した。

なお、このペレットのガラス転移温度Ｔｇは１３５℃であった。

このペレット１−１を用いて窒素雰囲気下、２５０℃にて溶融して、押出し機１からフィルター２を通した後、流延ダイ４から第１冷却ロール５上に押出し、第１冷却ロール５とタッチロール６との間にフィルムを挟圧して成形した。

また押出し機１中間部のホッパー開口部から、滑り剤としてシリカ粒子、アエロジルＮＡＸ５０（日本アエロジル社製）を０．２質量部、及びＫＥ−Ｐ１００（日本触媒社製）を０．０２質量部となるよう添加した。

流延ダイ４のギャップの幅がフィルムの幅方向端部から３０ｍｍ以内では０．５ｍｍ、その他の場所では１ｍｍとなるようにヒートボルトを調整した。タッチロールとしては、タッチロールＡを使用し、その内部に冷却水として８０℃の水を流した。

流延ダイ４から押し出された樹脂が第１冷却ロール５に接触する位置Ｐ１から第１冷却ロール５とタッチロール６とのニップの第１冷却ロール５回転方向上流端の位置Ｐ２までの、第１冷却ローラ５の周面に沿った長さＬを２０ｍｍに設定した。

その後、タッチロール６を第１冷却ロール５から離間させ、第１冷却ロール５とタッチロール６とのニップに挟圧される直前の溶融部の温度Ｔを測定した。

本実施例において、第１冷却ロール５とタッチロール６とのニップに挟圧される直前の溶融部の温度Ｔは、ニップ上流端Ｐ２よりも更に１ｍｍ上流側の位置で、温度計（安立計器株式会社製ＨＡ−２００Ｅ）により測定した。

本実施例では測定の結果、温度Ｔは１４１℃であった。

タッチロール６の第１冷却ロール５に対する線圧は１４．７Ｎ／ｃｍとした。

更に、テンターに導入し、巾方向に１６０℃で１．３倍延伸した後、巾方向に３％緩和しながら３０℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落とし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施し、巻き取り張力２２０Ｎ／ｍ、テーパー４０％で巻芯に巻き取った。

なお、光学フィルムは、厚さが８０μｍとなるように、押出し量及び引き取り速度を調整し、仕上がりの光学フィルム幅は、１４３０ｍｍ幅になるようにスリットし、巻き取った。巻芯の大きさは、内径１５２ｍｍ、外径１６５〜１８０ｍｍ、長さ１５５０ｍｍであった。

この巻芯母材として、エポキシ樹脂をガラス繊維、カーボン繊維に含浸させたプリプレグ樹脂を用いた。巻芯表面にはエポキシ導電性樹脂をコーティングし、表面を研磨して、表面粗さＲａは０．３μｍに仕上げた。なお、巻長は２５００ｍとした。この本発明のフィルム原反試料から一部光学フィルムを切り出し、それを本発明の光学フィルム１−１とする。

〔光学フィルム１−２〜１−２６の作製〕
光学フィルム１−１の作製において、セルロースエステルの種類を表１のように変更した以外は同様にして、本発明のペレット１−２〜１−１５、及び比較のペレット１−１６〜１−２６を作製した。

また、これらのペレットから前記と同様にそれぞれ本発明の光学フィルム１−２〜１−１５、及び比較の光学フィルム１−１６〜１−２６を作製した。

なお、使用したセルロースエステル１に代わるセルロースエステルの添加量は、セルロースエステル１と同じ質量部とした。

実施例１で使用した可塑剤−Ａ、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、ＧＳＹ−Ｐ１０１、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＳ、及びＴＩＮＵＶＩＮ９２８の構造は下記の通りである。

なお、セルロースエステル１〜２１、２３、２５、及び２６はセルロースアセテートプロピオネートであり、セルロースエステル２２、及び２４はセルロースアセテートブチレートである。

《光学フィルム生産性の評価》
光学フィルムの生産性に関して、下記に示す溶融粘度の指標を用いて評価した。溶融粘度が低い程、生産性が良好であるといえる。なお、光学フィルム製膜時に樹脂の劣化を伴うと見かけ上溶融粘度が低くなることがあるが、これは下記に示す各フィルム試料の色味（着色、ｂ値）を測定することで判断した。

つまり、下記に示すｂ値が０に近いほど樹脂の劣化が少なく良好である。

（溶融粘度）
得られたペレットの各試料に対して、フローテスターＣＦＴ−５００Ｄ（島津製作所社製）にて定温試験を行いせん断速度（ｓｅｃ−１）と溶融粘度（Ｐａ・ｓ）を測定した。得られた結果を表２に示す。

〈測定条件〉
測定温度；２４０℃
Ｐｒｅｈｅａｔ；２１０秒
Ｌｏａｄ；９．８×１０⁵Ｐａ〜３×１０⁷Ｐａ
せん断速度が１００〜１００００の範囲になるよう荷重（錘）を適切に調整し、測定温度２４０℃において、５点（５点のせん断速度）測定した。

せん断速度と溶融粘度をプロットし、その直線性から、２４０℃、せん断速度１０００ｓｅｃ^-1における溶融粘度を求めた。

《フィルム品質の評価》
得られた光学フィルム試料に対して、下記方法で評価を行った。この結果を表２に示す。

（ｂ値）
得られた光学フィルムから任意に１０箇所サンプリングし、下記方法に従いｂ値を測定し、この中の絶対値の最大値をｂ値とした。０に近いほど着色が少なく良好である。

ｂ値は、ＪＩＳ規格Ｚ−８７２２に記載の方法で求められる。

本発明におけるｂ値は、東京電色（株）製カラーアナライザーＴＣ−１８００ＭＫII型を用いて測定した。

（リターデーションの変動係数（ＣＶ））
得られた光学フィルムの幅手方向に１ｃｍ間隔でリターデーションを測定し、下記式より得られたリターデーションの変動係数（ＣＶ）で表したものである。

測定には自動複屈折計ＫＯＢＵＲＡ・２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて、２８℃、５５％ＲＨの環境下で、波長が５９０ｎｍにおいて、試料の幅手方向に１ｃｍ間隔で３次元複屈折率測定を行い測定値を次式に代入して求めた。

面内リターデーションＲｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
厚み方向リターデーションＲｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
式中、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）、屈折率ｎｘ（フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう）、ｎｙ（フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率）、ｎｚ（厚み方向におけるフィルムの屈折率）である。

得られた面内及び厚み方向のリターデーションをそれぞれ（ｎ−１）法による標準偏差を求めた。リターデーション分布は以下で示される変動係数（ＣＶ）を求め、指標とした。実際の測定にあたっては、ｎとしては１３０〜１４０に設定した。

変動係数（ＣＶ）＝標準偏差／リターデーション平均値
◎：ばらつきが（ＣＶ）が１．５％未満
○：ばらつき（ＣＶ）が１．５％以上５％未満
△：ばらつき（ＣＶ）が５％以上、１０％未満
×：ばらつき（ＣＶ）が１０％以上
《ケン化処理適性》
次に、上記作製した光学フィルム１−１〜１−２６について下記のアルカリケン化処理を施した後、偏光子と貼合し、それぞれ偏光板１−１〜１−２６を作製した。

（アルカリケン化処理）
ケン化工程：２ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ、６０℃、６０秒
水洗工程：水３０℃、４５秒
中和工程：１０質量％ＨＣｌ ３０℃ ４５秒
水洗工程：水３０℃、４５秒
ケン化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで８０℃で乾燥した。

（偏光子の作製）
厚さ１２０μｍの長尺ロールポリビニルアルコールフィルムを沃素１質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液１００質量部に浸漬し、５０℃で６倍に搬送方向に延伸して偏光子を作製した。

（偏光板の作製）
偏光子の両側に上記作製した光学フィルムを、アルカリケン化処理面を偏光子側とし完全鹸化型ポリビニルアルコール５質量％水溶液を接着剤として両面から貼合し、偏光板用保護フィルムが貼合された偏光板を作製した。

（耐久性）
次いでこの評価用偏光板を、８０℃、９０％ＲＨで１２００時間処理し、偏光子と保護フィルムとの張り合わせ状態を観察し下記の基準でランク付けした。

◎：剥離なし
○：僅かに剥離認められるが実用上問題ないレベル
△：やや剥離認められ実用上問題となるレベル
×：剥離発生
ここで、○以上がケン化処理適性において実用上問題ないレベルと判断した。

以上、表２の結果から、本発明の光学フィルム１−１〜１−１５は、比較例の光学フィルム１−１６〜１−２６に対して、生産性が良好で着色も少なく、リターデーションの変動が小さい光学フィルムであることが分かる。更に、本発明の光学フィルムはケン化処理適性が高いため、これを用いて作製された偏光板は耐久性が良好であり、実用上優れた光学フィルムであることが分かる。

実施例２
表３に記載のセルロースエステル、可塑剤、劣化防止剤、及び紫外線吸収剤の組み合わせに変更する以外は、実施例１のペレット１−１と同様な方法で、本発明のペレット２−１〜２−１８、及び比較のペレット２−１９、２−２０を作製した。

また、実施例１の光学フィルム１−１と同様な方法で、本発明の光学フィルム２−１〜２−１８、及び比較の光学フィルム２−１９、２−２０を作製した。

更に実施例１の偏光板１−１と同様な方法で本発明の偏光板２−１〜２−１８、及び比較の偏光板２−１９、２−２０を作製した。

なお、表３中の可塑剤、劣化防止剤、及び紫外線吸収剤の欄に記載の括弧内の数値はセルロースエステル１００質量部に対する、用いた各材料の質量部を表す。

なお、実施例２で使用した可塑剤−Ｂ、可塑剤−Ｃ、可塑剤−Ｄ、可塑剤−Ｅ、可塑剤−Ｆ、可塑剤−Ｇ、ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＰ（住友化学社製）、ＴＩＮＵＶＩＮ９００（チバスペシャルティケミカルズ社製）、Ｓｕｍｉｓｏｒｂ２５０（住友化学社製）、及びＬＡ３１（ＡＤＥＫＡ社製）の構造は下記の通りである。

作製したペレット、光学フィルム、及び偏光板に対して、実施例１と同様の評価を行った。結果を表４に示す。

以上、表４の結果から、本発明の光学フィルム２−１〜２−１８は、比較例の光学フィルム２−１９、２−２０に対して、生産性が良好で着色も少なく、リターデーションの変動が小さい光学フィルムであることが分かる。

更に、本発明の光学フィルムはケン化処理適性が高いため、これを用いて作製された偏光板は耐久性が良好であり、実用上優れた光学フィルムであることが分かる。

なお、ペレット２−１、光学フィルム２−１、及び偏光板２−１において、例示化合物（２）−８を同質量部の例示化合物（２）−３に替えて、同様な評価を行ったところ、表４中のそれぞれの試料Ｎｏ．２−１と同様に良好な結果であった。

前記と同様に例示化合物（２）−８を同質量部の例示化合物（２）−４５に替えても、試料Ｎｏ．２−１と同様に良好な結果であった。

一方、ペレット２−３、光学フィルム２−３、及び偏光板２−３において、ＧＳＹ−Ｐ１０１を同質量部のテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−フェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイトに替えて、同様な評価を行ったところ、白抜けの評価結果が◎から○になった以外は表４中のそれぞれの試料Ｎｏ．２−３と同様に良好な結果であった。

更には、ペレット２−７、光学フィルム２−７、及び偏光板２−７において、ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０を同質量部の１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］に替えて、同様な評価を行ったところ、表４中のそれぞれの試料Ｎｏ．２−７と同様に良好な結果であった。

実施例３
下記のような、セルロースエステルと各種添加剤を用いて、フィルムの厚さが４０μｍとなるように、押出し量、引き取り速度、及び延伸倍率を調整した以外は実施例１と同様にして、本発明の光学フィルム３−１を作製したところ、生産性が良好で着色も少なく、リターデーションの変動が小さい光学フィルムであることが分かった。

更に、本発明の光学フィルムはケン化処理適性が高いため、これを用いて作製された偏光板は耐久性が良好であり、実用上優れた光学フィルムであることが分かった。

セルロースエステル１ １００質量部
可塑剤−Ａ ８質量部
ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０（チバスペシャルティケミカルズ社製） ０．５０質量部
ＧＳＹ−Ｐ１０１（堺化学工業社製） ０．２５質量部
例示化合物（２）−８ ０．３０質量部
ＴＩＮＵＶＩＮ９２８（チバスペシャルティケミカルズ社製） ２．２５質量部
実施例４
〔光学フィルムの製造〕
実施例１で得られたペレット１０を用い、下記の要領で光学フィルム４−１、４−２を製造した。

ペレット１０を、１００℃、４時間乾燥を行った後、窒素雰囲気下、２５０℃にて加熱溶融した後、Ｔ型ダイよりリップクリアランスを調整しながら溶融押出製膜し、巾方向には延伸せずに膜厚８０μｍの光学フィルム４−１を得た。

ペレット１０を、１００℃、４時間乾燥を行った後、窒素雰囲気下、２５０℃にて加熱溶融した後、Ｔ型ダイよりリップクリアランスを調整しながら溶融押出製膜し、巾方向に１６０℃で１．３倍延伸し、膜厚８０μｍの光学フィルム４−２を得た。
これらの試料について、先に定義したＲｏとＲｔを測定した。結果を表５に示す。

以上、表５の結果から、本発明の光学フィルム４−１、４−２は、ＲｏとＲｔが共に０に近く、光学的等方性に優れていることが分かった。

実施例５
（液晶表示装置としての特性評価）
ＶＡ型液晶表示装置であるシャープ（株）製３２型テレビＡＱ−３２ＡＤ５の偏光板を剥がし、実施例１〜３で作製した各々の偏光板（実施例３で作製した本発明の偏光板の試料Ｎｏ．を３−１とする。）を液晶セルのサイズに合わせて断裁した。

液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板２枚を偏光板の偏光軸が元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、３２型ＶＡ型カラー液晶ディスプレイを作製し、光学フィルムの偏光板としての特性を評価したところ、本発明の偏光板１−１〜１−１５、２−１〜２−１８、３−１を用いた液晶表示装置は、比較の偏光板１−１６〜１−２６、２−１９、２−２０を用いた液晶表示装置に対してコントラストも高く、更に色ムラもない優れた表示性を示した。

これにより、液晶ディスプレイなどの画像表示装置用の偏光板として優れていることが確認された。

Claims (11)

1. 光学フィルムがセルロースエステルを含有し、該セルロースエステルの１グルコース単位あたりの置換基の種類とその置換度が下記式（１）〜（３）の条件を同時に満たすセルロースエステルであることを特徴とする光学フィルム。
   式（１） ６．３０≦２×Ｘ＋３×Ｙ≦７．５０
   式（２） １．１０≦Ｙ≦１．５０
   式（３） ０．３０≦Ｙ６≦０．５０
   〔式中、Ｘは２位、３位、及び６位のアセチル基による平均置換度の合計を表し、Ｙは２位、３位、及び６位のプロピオニル基による平均置換度の合計を表し、Ｙ６は６位のプロピオニル基による平均置換度を表す。〕
2. 前記セルロースエステルの重量平均分子量が、１５００００以上、かつ２５００００未満であることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の光学フィルム。
3. 前記光学フィルムがフェノール系化合物を含有することを特徴とする請求の範囲第１項又は第２項に記載の光学フィルム。
4. 前記光学フィルムがリン系化合物を含有することを特徴とする請求の範囲第１項〜第３項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
5. 前記光学フィルムがアルキルラジカル捕捉剤を含有することを特徴とする請求の範囲第１項〜第４項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
6. 前記フェノール系化合物が、ヒンダードフェノール系化合物であることを特徴とする請求の範囲第３項〜第５項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
7. 前記リン系酸化防止剤化合物が、ホスホナイト系化合物であることを特徴とする請求の範囲第４項〜第６項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
8. 前記アルキルラジカル捕捉剤が、下記一般式（１）で表される化合物または下記一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求の範囲第５項〜第７項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
   〔式中、Ｒ₁は水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ₂およびＲ₃は、それぞれ独立して炭素数１〜８のアルキル基を表す。〕
   〔式中、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅はおのおの互いに独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ₁₆は水素原子または置換基を表し、ｎは１〜４の整数を表す。ｎが１であるとき、Ｒ₁₁は置換基を表し、ｎが２〜４の整数であるとき、Ｒ₁₁は２〜４価の連結基を表す。なお、該置換基は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルケニル基、ハロゲン原子、アルキニル基、複素環基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ホスホノ基、アシル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基、アニリノ基、イミド基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、またはニトロ基を表す。〕
9. 請求の範囲第１項〜第８項のいずれか１項に記載の光学フィルムを溶融流延法によって製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
10. 請求の範囲第１項〜第８項のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
11. 請求の範囲第１０項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置