JP4891199B2 - 基板処理装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、基板処理装置および半導体装置の製造方法に関する。
例えば、半導体集積回路装置（以下、ＩＣという。）を作り込まれる半導体ウエハ（以下、ウエハという。）に絶縁膜、金属膜、半導体膜等の薄膜を形成したり不純物を拡散したりするバッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置に利用して有効なものに関する。

基板処理装置の一例であるバッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置（以下、バッチ式ＣＶＤ装置という。）においては、複数枚のウエハが収納容器に収納された状態で扱われる。
従来の収納容器には、オープンカセットと、ＦＯＵＰ（front opening unified pod 。以下、ポッドという。）とがある。オープンカセットは略立方体の箱形状に形成されており、対向する一対の面が開口されている。ポッドは略立方体の箱形状に形成されており、一つの面が開口されているとともに、該開口面にドアが着脱自在に装着されている。
ポッドはウエハを密閉した状態で搬送する。したがって、ポッド周囲の雰囲気にパーティクル等が存在していても、ポッド内のウエハは清浄度を維持することができる。このため、バッチ式ＣＶＤ装置が設置されるクリーンルーム内は、清浄度をあまり高く設定する必要がない。その結果、クリーンルームの清浄度の維持に要するコストを低減することができる。
そこで、最近のバッチ式ＣＶＤ装置においては、ポッドを収納容器に採用している。

ポッドを使用するバッチ式ＣＶＤ装置は、ウエハがポッド内に搬入されたり、ウエハがポッド内から搬出されたりするウエハ授受ポートに、ポッド開閉装置（以下、ポッドオープナという。）およびマッピング装置を備えている（例えば、特許文献１参照）。
ポッドオープナはドアを装着したり外したりしてポッドのウエハ出し入れ口を開閉する。マッピング装置はポッド内のウエハを検出することにより、ウエハが各ウエハ保持溝（スロット）にそれぞれ保持されているか否かを検出する。
特開２００３−７８０１号公報

従来のバッチ式ＣＶＤ装置においては、装置外部（筐体外部）からバッチ式ＣＶＤ装置の筐体内にポッドを搬入したり、筐体内からポッドを搬出したりする搬入搬出部において、ポッドのドアを着脱することができない。
搬入搬出部においてポッドのドアを装着したり外したりするためには、搬入搬出部に退避可能なポッドオープナを設ける構成を考えることができる。すなわち、筐体外からポッドを筐体内に搬入したり、ポッドを筐体内から筐体外へ搬出したりする際には、ポッドオープナを搬入搬出部から退避させることにより、ポッドを搬入させたり搬出させたりする通路を確保する。
しかしながら、この構成においては、ポッドオープナを搬入搬出部から退避させるため、バッチ式ＣＶＤ装置が複雑になるという問題点がある。

本発明の目的は、筐体内外にポッドを搬入出する搬入搬出部において、ポッドのドアを装着したり外したりすることができるとともに、構造をシンプルにすることができる基板処理装置および半導体装置の製造方法を提供することにある。

前記した課題を解決するための手段は、次の通りである。
複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体によって塞がれる収納容器と、
筐体内と外との間で該収納容器の搬入搬出が行われる搬入搬出部と、
該搬入搬出部で前記収納容器を載置する載置部と、
前記筐体内に設けられ、前記収納容器を保管する保管室と、
前記載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口の開閉を行う開閉装置と、
前記収納容器下面を保持する保持機構を有し、前記開閉装置の上方を経由して前記保管室内と外との間で、該保持機構によって保持した前記収納容器を搬送する搬送装置と、
前記開閉装置が前記収納容器の開閉を行う際における前記載置部の高さ位置と、前記搬送装置が前記収納容器の授受を行う高さ位置との間で、前記載置部の昇降を行う昇降機構と、
を備える基板処理装置。

前記手段によれば、昇降機構を設けることにより、搬送装置は開閉装置の上方を経由して載置装置から筐体内に収納容器を搬送させることができるので、スムーズな受渡しができるとともに、開閉装置を退避させることなく、 収納容器を移動させることができ、かつまた、搬入搬出部において収納容器の蓋体を開閉することができる。

以下、本発明の一実施の形態を図面に即して説明する。

本実施の形態においては、本発明に係る基板処理装置は、バッチ式ＣＶＤ装置すなわちバッチ式縦形拡散・ＣＶＤ装置として、図１および図２に示されているように構成されている。

また、本実施の形態においては、基板としてのウエハ１を収納する収納容器としては、ポッド２が使用されている。
ポッド２は略立方体の箱形状に形成されており、図３に示されているように、ポッド２の一つの側壁にはウエハ出し入れ口３が開設されている。ウエハ出し入れ口３には、これを閉塞する蓋体としてのドア４が装着したり外したりすることができるように装着されている。ポッド２の下面には複数個の位置決め穴５が没設されている。

図１、図２および図３に示されているように、本実施の形態に係るバッチ式ＣＶＤ装置１０は、筐体の一部としてのメイン筐体１１を備えている。
メイン筐体１１の正面壁１１ａはメイン筐体１１内外を区画する区画壁を構成している。この正面壁１１ａの中間高さには、メイン筐体１１内外を連通させたポッド搬入搬出口１２が開設されている。ポッド搬入搬出口１２はポッド２を搬入したり、ポッド２を搬出したりする。フロントシャッタ１３はポッド搬入搬出口１２を閉じたり開いたりする。

メイン筐体１１の正面壁（区画壁）１１ａの外側にはロードポート１４が設置されている。ロードポート１４はポッド搬入搬出口１２の略真下に位置している。ロードポート１４は搬入搬出部を構成している。ロードポート１４は載置されたポッド２をポッド搬入搬出口１２に位置合わせする。ロードポート１４は２つ並列に設けられている。
ポッド２はロードポート１４上にバッチ式ＣＶＤ装置外（筐体外）にある工程内搬送装置（工程間搬送装置ともいう。）によって搬入され、かつまた、ロードポート１４上から搬出される。
工程内搬送装置としては、図１に示された床走行型構内搬送車（以下、ＡＧＶという。）９、図８に示された天井走行型構内搬送装置（後述する）等、があり、いずれのものも適用することができる。

正面壁１１ａの前面側にはフロント筐体としてのボックス１４Ａが設けられている。ボックス１４Ａはロードポート１４と当該上方空間とを囲むように形成されている。ボックス１４Ａの天井壁には天井開口１４Ｂが開設されており、ボックス１４の正面壁には正面開口１４Ｃが開設されている。つまり、ロードポート１４は、正面開口１４Ｃを経由してポッド２を受け取ることができ、また、天井開口１４Ｂを経由して受け取ることもできる。
なお、ボックス１４Ａとメイン筐体１１とは、バッチ式ＣＶＤ装置の筐体を構成している。
図１に示されているように、ボックス１４Ａ内には後記するコントローラ７７が設置されている。

ロードポート１４にはポッドエレベータ１５が設置されている。ポッドエレベータ１５は、高さとポッド搬入搬出口１２の高さとの間で、ポッド２を昇降させる機構を構成している。
ポッドエレベータ１５は、昇降駆動装置１６と、昇降駆動装置１６によって昇降されるシャフト１７と、を備えいる。シャフト１７上端に水平に設置された保持台（収納容器載置部）１８と、収納容器位置決め手段（収納容器位置決め具ともいう。）としての複数個の受けキネマティックピン１９とはポットエレベータ１５に連結されている。複数本のキネマティックピン１９は保持台１８上面に突設されており、ポッド２下面に形成された各位置決め穴５にそれぞれ嵌入することにより、ポッド２を保持台１８に位置決めする。ポッドエレベータ１５は、ポッド２を保持台１８によって下から支持するとともに、受けキネマティックピン１９をポッド２の位置決め穴５に嵌入させた状態で、ポッド２を昇降させる。
つまり、保持台１８はポッド２下面を保持する保持部を構成しているとともに、ポッド載置部を構成している。

メイン筐体１１の正面壁１１ａの内側には、ロードロック室２０を構成する密閉筐体２１が設置されている。密閉筐体２１はロードポート１４の高さに対応している。ロードロック室２０は不活性ガス例えば窒素ガスで充填維持可能なポッド蓋体開閉室を構成している。
図１に示されているように、密閉筐体２１には窒素ガス供給ライン２１Ａの一端および排気ライン２１Ｂの一端がそれぞれ接続されている。窒素ガス供給ライン２１Ａの他端は窒素ガス供給装置２１Ａ’に接続されており、排気ライン２１Ｂの他端は排気装置２１Ｂ’に接続されている。窒素ガス供給ライン２１Ａはロードロック室２０内に窒素ガスを供給する。排気ライン２１Ｂはロードロック室２０内を排気する。
なお、コントローラ７７は窒素ガス供給装置２１Ａ’および排気装置２１Ｂ’を制御する。

メイン筐体１１の正面壁１１ａにはドア出し入れ口２２が、ロードロック室２０上部に対向する部位に開設されている。ドア出し入れ口２２はロードポート１４に載置されたポッド２のウエハ出し入れ口３に対応する大きさ（ウエハ出し入れ口３よりも大きめ）に形成されている。
ロードロック室２０内には収納容器蓋体開閉部（開閉装置ともいう。）としてのポッドオープナ２３が設置されている。ポッドオープナ２３はロードポート１４に載置されたポッド２のウエハ出し入れ口３および正面壁１１ａのドア出し入れ口２２を開いたり閉じたりする。
ポッドオープナ２３は移動台２５とクロージャ２６とを備えている。移動台２５はドア出し入れ口２２に対して前後（垂直方向）および上下（平行方向）に移動する。蓋体保持部としてのクロージャ２６は移動台２５によって移動される。クロージャ２６はドア４を保持することができるとともに、ドア出し入れ口２２を塞ぐことができる。
つまり、ドア４を保持した状態のクロージャ２６を移動台２５が前後および上下に移動させることにより、ポッドオープナ２３はポッド２のウエハ出し入れ口３およびドア出し入れ口２２を開いたり閉じたりする。

密閉筐体２１におけるドア出し入れ口２２に対向する部位には、基板状態検出装置としてのマッピング装置２７が設置されている。
マッピング装置２７は駆動源であるリニアアクチュエータ２８と、ホルダ２９と、複数の検出子３０とを備えている。ホルダ２９はリニアアクチュエータ２８によってポッド２のウエハ出し入れ口３に対して前後方向に移動される。複数の検出子３０はホルダ２９に保持されている。
マッピング装置２７はポッド２内のウエハ１を各検出子３０によってそれぞれ検出する。これにより、マッピング装置２７はポッド２内の複数のスロットにウエハ１がそれぞれ１枚ずつ保持されているか否かを検出する。

メイン筐体１１内の前側領域にはポッド保管室１１ｂが形成されている。ポッド保管室１１ｂ内には回転式ポッド棚３１が設置されている。回転式ポッド棚３１はポッド保管室１１ｂ内の前後方向略中央部のうちの上部空間に配置されている。回転式ポッド棚３１は筐体内で収納容器を保管する保管棚を構成している。
回転式ポッド棚３１は支柱３２と複数枚の棚板３３とを備えている。支柱３２は垂直に立設されており、水平面内で間欠回転される。複数枚の棚板３３は支柱３２に上中下段の各位置において放射状に支持される。複数枚の棚板３３は複数個のポッド２をそれぞれ載置することができる。
棚板３３の上面には複数個の受けキネマティックピン３４が突設されており、受けキネマティックピン３４はポッド２の位置決め穴５に嵌入することができる。

ポッド保管室１１ｂ内にはポッド搬送装置３５が設置されている。ポッド搬送装置３５はロードポート１４と回転式ポッド棚３１との間でポッド搬入搬出口１２を介してポッド２を搬送する搬送装置を構成している。
ポッド搬送装置３５は収納容器昇降機構としてのポッドエレベータ３５ａと、収納容器搬送機構としてのポッド搬送機構３５ｂとによって構成されている。ポッド搬送機構３５ｂは、ポッドの下面を保持する保持部（保持機構ともいう。）を有している。
ポッド搬送装置３５はポッドエレベータ３５ａとポッド搬送機構３５ｂとの連続動作により、保持台１８と、回転式ポッド棚３１と、後に詳述するポッドオープナ４２の載置台４３との間でポッド２を搬送する。

図２に示されているように、メイン筐体１１内の前後方向略中央部のうちの下部には、サブ筐体４０が後端にわたって構築されている。
サブ筐体４０の正面壁４０ａには一対のウエハ搬入搬出口４１、４１が垂直方向で上下二段に並べられて開設されており、上下段のウエハ搬入搬出口４１、４１にはポッドオープナ４２、４２がそれぞれ設置されている。ウエハ搬入搬出口４１はウエハ１をサブ筐体４０内に対して搬入したり、サブ筐体４０から搬出することができる。
ポッドオープナ４２はポッド２を載置する載置台４３と、ポッド２のドア４を着脱する着脱機構４４とを備えている。載置台４３に載置されたポッド２のドア４を着脱機構４４によって装着したり外したりすることにより、ポッドオープナ４２はポッド２のウエハ出し入れ口３を開閉する。

サブ筐体４０は予備室４５を構成しており、予備室４５はポッド搬送装置３５および回転式ポッド棚３１が設置された保管室１１ｂから流体的に隔絶している。
予備室４５の前側領域にはウエハ移載機構４６が設置されている。ウエハ移載機構４６はウエハ移載装置４６ａとウエハ移載装置エレベータ４６ｂとツィーザ４６ｃとを備えている。ツィーザ４６ｃはウエハ１の載置部を構成している。ウエハ移載装置４６ａはウエハ１を保持したツィーザ４６ｃを水平面内において回転ないし直進させる。ウエハ移載装置エレベータ４６ｂは予備室４５内の前方領域右端部に設置されている。ウエハ移載装置エレベータ４６ｂはウエハ移載装置４６ａを昇降させる。
ウエハ移載機構４６はツィーザ４６ｃで保持したウエハ１をウエハ移載装置エレベータ４６ｂおよびウエハ移載装置４６ａの連続動作によって、ポッド２からボート（基板保持具）４７へ搬送し、搬送したウエハ１をボート４７に装填（チャージング）する。
また、ウエハ移載機構４６はボート４７のウエハ１をツィーザ４６ｃで保持することによりボート４７から脱装（ディスチャージング）し、ボート４７からポッド２へ搬送して、ポッド２に戻す。
コントローラ７７は、ロードポート１４、ポッドエレベータ１５、ポッドオープナ２３、マッピング装置２７、回転式ポッド棚３１、ポッド搬送装置３５、ポッドオープナ４２、ウエハ移載機構４６等のバッチ式ＣＶＤ装置内のすべての動作を制御する。

予備室４５の後側領域には、ボート４７を昇降させるためのボートエレベータ４８が設置されている。
ボートエレベータ４８の昇降台に連結された連結具としてのアーム４９には、シールキャップ５０が水平に据え付けられている。シールキャップ５０はボート４７を垂直に支持し、後記する処理炉５１の下端部を閉塞することができる。
ボート４７は複数本の保持部材を備えている。ボート４７は複数枚（例えば、５０枚〜１２５枚程度）のウエハ１をその中心を揃えて垂直方向に整列させた状態で、それぞれ水平に保持する。

便宜上、図示は省略するが、ウエハ移載装置エレベータ４６ｂ側およびボートエレベータ４８側と反対側である予備室４５の左側端部には、クリーンガス供給ユニット（以下、クリーンユニットという。）が設置されている。クリーンユニットは供給フアンおよび防塵フィルタによって構成されている。クリーンユニットは清浄化した雰囲気もしくは不活性ガスであるクリーンエア（クリーンガス）を供給する。
また、ウエハ移載装置４６ａとクリーンユニットとの間にはノッチ合わせ装置が設置されている。ノッチ合わせ装置はウエハの円周方向の位置を整合させる基板整合装置を構成している。
クリーンユニットから吹き出されたクリーンエアは、ノッチ合わせ装置、ウエハ移載装置４６ａおよびボート４７に流通された後に、図示しないダクトによって吸い込まれる。吸い込まれたクリーンエアは、メイン筐体１１の外部に排気がなされるか、もしくは、クリーンユニットの吸い込み側である一次側（供給側）にまで循環されて再びクリーンユニットによって予備室４５内に吹き出されるか、する。

サブ筐体４０の上には図４に示された処理炉５１が設置されている。
図４に示されているように、処理炉５１は加熱機構としてのヒータ５２を有する。
ヒータ５２は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース５３に支持されることにより垂直に据え付けられている。

ヒータ５２の内側には、ヒータ５２と同心円状に反応管としてのプロセスチューブ５４が配設されている。プロセスチューブ５４は外部反応管としてのアウタチューブ５５と、その内側に設けられた内部反応管としてのインナチューブ５６とから構成されている。
アウタチューブ５５は、例えば石英（ＳｉＯ₂ ）または炭化シリコン（ＳｉＣ）等の耐熱性材料から形成されている。アウタチューブ５５は、内径がインナチューブ５６の外径よりも大きく、上端が閉塞し下端が開口した円筒形状に形成されている。アウタチューブ５５はインナチューブ５６と同心円状に設けられている。
インナチューブ５６は、例えば石英または炭化シリコン等の耐熱性材料から形成されている。インナチューブ５６は上端および下端が開口した円筒形状に形成されている。インナチューブ５６の筒中空部は処理室５７を形成している。処理室５７は、ウエハ１を水平姿勢で垂直方向に多段に整列させて保持したボート４７を収容することができる。
アウタチューブ５５とインナチューブ５６との隙間は筒状空間５８を形成している。

アウタチューブ５５の下方にはマニホールド５９が、アウタチューブ５５と同心円状に配設されている。マニホールド５９は、例えばステンレスから形成されている。マニホールド５９は上端および下端が開口した円筒形状に形成されている。マニホールド５９はアウタチューブ５５とインナチューブ５６とに係合しており、これらを支持している。
マニホールド５９がヒータベース５３に支持されることにより、プロセスチューブ５４は垂直に据え付けられた状態となっている。
プロセスチューブ５４およびマニホールド５９は反応容器を形成する。
なお、マニホールド５９とアウタチューブ５５との間には、シール部材としてのＯリング５９ａが設けられている。

シールキャップ５０にはガス導入部としてのノズル６０が接続されており、ノズル６０は処理室５７内に連通している。ノズル６０にはガス供給管６１が接続されている。
ガス供給管６１にはノズル６０との接続側と反対側（上流側）に、ＭＦＣ（マスフローコントローラ）６２を介してガス供給源６３が接続されている。ＭＦＣ６２はガス流量制御器を構成する。ガス供給源６３は処理ガス、不活性ガス等の所望のガスを供給する。
ＭＦＣ６２にはガス流量制御部６４が電気配線Ｃによって電気的に接続されており、ガス流量制御部６４は供給するガスの流量が所望の量となるよう所望のタイミングをもって、ＭＦＣ６２を制御する。

マニホールド５９には処理室５７内の雰囲気を排気する排気管６５が設けられている。排気管６５は筒状空間５８の下端部に配置されており、筒状空間５８に連通している。
排気管６５にはマニホールド５９との接続側と反対側（下流側）に、圧力センサ６６および圧力調整装置６７を介して排気装置６８が接続されている。圧力センサ６６は圧力検出器を構成する。排気装置６８は真空ポンプ等によって構成されている。圧力センサ６６、圧力調整装置６７および排気装置６８は処理室５７内を、その圧力が所定の圧力（真空度）となるように排気する。
圧力調整装置６７および圧力センサ６６には圧力制御部６９が電気配線Ｂによって電気的に接続されている。圧力制御部６９は圧力調整装置６７を、圧力センサ６６により検出された圧力に基づいて処理室５７内の圧力が所望の圧力となるよう所望のタイミングにて、制御する。

シールキャップ５０はマニホールド５９下端に垂直方向下側から当接する。シールキャップ５０はマニホールド５９の下端開口を気密に閉塞可能な炉口蓋体を構成している。
シールキャップ５０は例えばステンレス等の金属からなり、円盤状に形成されている。シールキャップ５０の上面にはシール部材としてのＯリング５０ａが設けられている。Ｏリング５０ａはマニホールド５９の下端と当接する
シールキャップ５０には処理室５７と反対側に、ボートを回転させる回転機構７０が設置されている。回転機構７０の回転軸７１はシールキャップ５０を貫通して、ボート４７に接続されている。回転軸７１はボート４７を回転させることにより、ウエハ１を回転させる。
回転機構７０およびボートエレベータ４８には駆動制御部７２が電気配線Ａによって電気的に接続されている。駆動制御部７２は回転機構７０およびボートエレベータ４８を、所望の動作をするように所望のタイミングにて制御する。

ボート４７は例えば石英や炭化シリコン等の耐熱性材料から形成されている。ボート４７は複数枚のウエハ１を水平姿勢でかつ互いに中心を揃えた状態に整列させて多段に保持する。
なお、ボート４７の下部には複数枚の断熱板７３が水平姿勢で多段に配置されている。断熱板７３は例えば石英や炭化シリコン等の耐熱性材料が使用されて、円板形状に形成されている。断熱板７３は断熱部材を構成している。複数枚の断熱板７３はヒータ５２からの熱がマニホールド５９側に伝わり難くさせる。

プロセスチューブ５４内には温度センサ７４が設置されている。温度センサ７４は温度検出器を構成している。ヒータ５２および温度センサ７４には温度制御部７５が電気配線Ｄによって電気的に接続されている。
温度制御部７５は温度センサ７４により検出された温度情報に基づきヒータ５２への通電具合を調整することにより、処理室５７内の温度が所望の温度分布となるようにヒータ５２を所望のタイミングにて制御する。

ガス流量制御部６４、圧力制御部６９、駆動制御部７２および温度制御部７５は、操作部および入出力部をも構成しており、バッチ式ＣＶＤ装置全体を制御する主制御部７６に電気的に接続されている。
ガス流量制御部６４、圧力制御部６９、駆動制御部７２、温度制御部７５および主制御部７６は、コントローラ７７を構成している。

次に、本発明の一実施の形態であるＩＣの製造方法における成膜工程を、以上の構成に係るバッチ式ＣＶＤ装置を用いた場合について説明する。
なお、以下の説明において、バッチ式ＣＶＤ装置を構成する各部の作動は、コントローラ７７により制御される。

図１〜図３に示されているように、工程内搬送装置が、正面開口１４Ｃもしくは、天井開口１４Ｂを経由し、ロードポート１４に搬入した際に、ポッド２は保持台１８に載置される。
このとき、保持台１８の受けキネマティックピン１９がポッド２の下面の位置決め穴５に嵌入されることにより、ポッド２は保持台１８に位置決めされた状態になる。

次いで、図５（ａ）に示されているように、ロードポート１４において、ポッド２がポッドオープナ２３の方向に移動されて、ドア４がポッドオープナ２３のクロージャ２６に保持される。
クロージャ２６はドア４を保持すると、移動台２５の後退によってドア４をウエハ出し入れ口３から取り外す（脱装し）。
その後に、図５（ｂ）に示されているように、クロージャ２６はロードロック室２０内を移動台２５の下降によってウエハ出し入れ口３の位置から離脱する。
ウエハ出し入れ口３が開放されると、図５（ｂ）に示されているように、マッピング装置２７のホルダ２９がリニアアクチュエータ２８によってウエハ出し入れ口３に挿入される。マッピング装置２７の検出子３０はポッド２内のウエハ１をマッピングする。

所定のマッピングが完了すると、マッピング装置２７のホルダ２９がリニアアクチュエータ２８によってウエハ出し入れ口３から元の待機位置に復帰される。
ホルダ２９が待機位置に復帰されると、クロージャ２６は移動台２５の上昇によってウエハ出し入れ口３の位置に移動される。
その後に、図５（ａ）に示されているように、クロージャ２６は移動台２５の前進によってドア４をウエハ出し入れ口３に取り付ける（装着する）。

このマッピング装置２７によって読み取ったマッピング情報と、当該ポッド（読み取り対象となったポッド）２に関して予め提供されたマッピング情報とが相違した場合には、相違が発見されたポッド２はロードポート１４からウエハ編成工程または直前の工程等に工程内搬送装置、例えば、図１に示されたＡＧＶ９によって直ちに搬送される。
このように、マッピング装置２７によって読み取ったマッピング情報と予め提供されたマッピング情報との相違が発見されたポッド２をロードポート１４から直ちに送り返すことにより、メイン筐体１１内、特に載置台４３や回転式ポッド棚３１までポッド２を搬入した後に搬入搬出部に戻してから送り返す場合に比べて、大幅にステップを少なくすることができる。惹いては、ボート４７へのウエハ載置時間の増大およびウエハ処理スタート待機時間の増大を抑制することができる。

前述したマッピング装置２７によって読み取ったマッピング情報と、当該ポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが一致した場合には、図６に示されているように、保持台１８によって支持されたポッド２は、ロードポート１４からポッド搬入搬出口１２の高さまでポッドエレベータ１５によって上昇される。
具体的には保持台１８は、密閉筐体２１より上方であって、ポッド搬送機構３５ｂによってポッド２を下側から掬い取ることができる高さまで、上昇される。
ポッド２がポッド搬入搬出口１２の高さまで上昇されると、ポッド搬入搬出口１２はフロントシャッタ１３によって開放される。
続いて、ポッド搬送機構３５ｂがポッド搬入搬出口１２を潜り、図６に示されているように、保持台１８によって支持されたポッド２は、ポッド搬送装置３５のポッド搬送機構３５ｂによって下側から掬い取られる。つまり、保持台１８とポッド搬送機構との間でポッド２は受け渡される。
ポッド搬送機構３５ｂによって掬い取られたポッド２は、ポッド搬入搬出口１２からメインメイン筐体１１内に搬入される。つまり、ポッド搬送機構によってポッド２はポッドオープナ２３や、密閉筐体２１の上方を経由してメイン筐体１１外から内に搬入される。なお、ポッドオープナ２３や、密閉筐体２１を跨いでメイン筐体１１外から内に搬入されるとも言える。
図１および図２に示されているように、搬入されたポッド２は回転式ポッド棚３１の指定された棚板３３へポッド搬送装置３５によって自動的に搬送されて受け渡される。
このとき、棚板３３の受けキネマティックピン３４がポッド２の下面の位置決め穴５に嵌入されることにより、ポッド２は棚板３３に位置決め保持された状態になる。

ポッド２は棚板３３に一時的に保管される。
その後に、ポッド２は棚板３３から一方のポッドオープナ４２にポッド搬送装置３５によって搬送されて載置台４３に移載される。
この際、ポッドオープナ４２のウエハ搬入搬出口４１は着脱機構４４によって閉じられており、予備室４５にはクリーンエアが流通されて充満されている。
予備室４５にはクリーンエアとして窒素ガスが充満している。この状態で、予備室４５の酸素濃度は、例えば２０ｐｐｍ以下と、メイン筐体１１の内部（大気雰囲気）の酸素濃度よりも遥かに低くなっている。
なお、ポッド搬入搬出口１２からメイン筐体１１内に搬送機構３５ｂによって搬入されたポッド２が、ウエハ搬入搬出口４１に設置されたポッドオープナ４２に直接的に搬送される場合もある。

載置台４３に載置されたポッド２は開口側端面が正面壁４０ａにおけるウエハ搬入搬出口４１開口縁辺部に押し付けられる。続いて、ドア４が着脱機構４４によって取り外され、ポッド２はウエハ出し入れ口３を開放される。
この際には、ロードポート１４において既にマッピングされているため、ポッド２内のウエハ１群についてのマッピングは省略することができる。
ポッド２がポッドオープナ４２によって開放されると、ウエハ移載装置４６ａはツィーザ４６ｃによってウエハ１をウエハ出し入れ口３を通じてポッド２からピックアップする。ウエハ１をツィーザ４６ｃによってピックアップすると、ウエハ移載装置４６ａはウエハ１をノッチ合わせ装置（図示せず）に搬送する。ノッチ合わせ装置はウエハ１を位置合わせする。位置合わせ後に、ウエハ移載装置４６はツィーザ４６ｃによってウエハ１をノッチ合わせ装置からピックアップし、ボート４７に搬送する。ウエハ移載装置４６は搬送したウエハ１をボート４７に装填（チャージング）する。
ボート４７にウエハ１を受け渡したウエハ移載装置４６ａはポッド２に戻り、次のウエハ１をボート４７に装填する。

この一方（上段または下段）のポッドオープナ４２におけるウエハ移載機構４６によるウエハ１のボート４７への装填作業中に、他方（下段または上段）のポッドオープナ４２には回転式ポッド棚３１から別のポッド２がポッド搬送装置３５によって搬送されて移載される。この他方のポッドオープナ４２においては、ポッドオープナ４２によるポッド２の開放作業が同時進行される。

予め指定された枚数のウエハ１がボート４７に装填されると、炉口シャッタ（図示せず）によって閉じられていた処理炉５１の下端部が、炉口シャッタによって開放される。
続いて、ウエハ１群を保持したボート４７は、シールキャップ５０がボートエレベータ４８によって上昇されることにより、処理炉５１内へ搬入（ボートローディング）されて行く。

ここで、処理炉５１を用いてウエハ１上に薄膜をＣＶＤ法により形成する方法について説明する。
なお、以下の説明において、処理炉５１を構成する各部の動作はコントローラ７７により制御される。

複数枚のウエハ１がボート４７に装填（ウエハチャージ）されると、図４に示されているように、複数枚のウエハ１を保持したボート４７は、ボートエレベータ４８によって持ち上げられて、処理室５７に搬入（ボートローディング）される。
この状態で、シールキャップ５０はＯリング５０ａを介してマニホールド５９の下端をシールした状態となる。

処理室５７内は所望の圧力（真空度）となるように、排気装置６８によって排気される。この際、処理室５７内の圧力は圧力センサ６６で測定され、この測定された圧力に基づき、圧力調整装置６７がフィードバック制御される。
また、処理室５７内は所望の温度となるようにヒータ５２によって加熱される。この際、処理室５７内が所望の温度分布となるように、温度センサ７４が検出した温度情報に基づきヒータ５２への通電具合がフィードバック制御される。
続いて、回転機構７０によってボート４７が回転されることにより、ウエハ１が回転される。

次いで、ガス供給源６３から供給されてＭＦＣ６２にて所望の流量となるように制御されたガスが、ガス供給管６１を流通してノズル６０から処理室５７内に導入される。
導入されたガスは処理室５７内を上昇し、インナチューブ５６の上端開口から筒状空間５８に流出して排気管６５から排出する。
ガスは処理室５７内を通過する際にウエハ１の表面と接触する。この際に、ウエハ１の表面上に薄膜が熱ＣＶＤ反応によって堆積（デポジション）される。

予め設定された処理時間が経過すると、ガス供給源６３からガス供給管６１を通じて不活性ガスが供給され、処理室５７内が不活性ガスに置換されるとともに、処理室５７内の圧力が常圧に復帰される。

その後、ボートエレベータ４８によりシールキャップ５０が下降されて、マニホールド５９の下端が開口されるとともに、処理済ウエハ１がボート４７に保持された状態でマニホールド５９の下端からプロセスチューブ５４の外部に搬出（ボートアンローディング）される。

ボートアンローディングされた処理済ウエハ１は、ウエハ移載装置４６ａによってボート４７から取り出され（ウエハディスチャージ）、ポッドオープナ４２に予め搬送された空のポッド２に戻される。
所定枚数の処理済みウエハ１が収納されると、ポッド２のウエハ出し入れ口３にはドア４がポッドオープナ４２によって装着される。

ウエハ出し入れ口３を閉塞されたポッド２は回転式ポッド棚３１の指定された棚板３３へポッド搬送装置３５によって自動的に搬送されて受け渡される。
ポッド２は一時的に保管される。その後に、フロントシャッタ１３が開くと、ポッド搬送装置３５はポッド２を棚板３３からポッド搬入搬出口１２に搬送し、ポッドエレベータ１５の保持台１８上にポッド搬入搬出口１２を潜らされて受け渡す。
なお、処理済みウエハ１を収納したポッド２がポッドオープナ４２からポッド搬入搬出口１２へ、ポッド搬送装置３５によって直接的に搬送される場合もある。

保持台１８上にポッド２が受け渡されると、フロントシャッタ１３が閉じる。また、ポッドエレベータ１５のシャフト１７が昇降駆動装置１６によってロードポート１４上に下降される。
ロードポート１４上に下降されたポッド２は所定の工程へ、工程内搬送装置、例えば、図１に示されたＡＧＶ９によって搬送されて行く。

前記実施の形態によれば、次の効果が得られる。

1) ポッドが工程内搬送装置によって搬入されるロードポートにマッピング装置を設置することにより、マッピング装置によって読み取った実際のマッピング情報と、予め提供されたマッピング情報との相違が発見されたポッドをロードポートから直ちに送り返すことができる。したがって、筐体内のポッドオープナにマッピング装置が設置されている従来の場合に比べて、ポッドを筐体内に搬入した後にロードポートに戻してから送り返す手間を省略することができる分だけ、ウエハ処理スタート時期が相違が発見された時点から遅延されるのを短縮することができる。

2) 収納容器の上部を掴む場合に、収納容器搬送部のハンドリング部には昇降機能（伸縮機能）とグリップ機能（水平方向伸縮機能）とが必要となってくる。収納容器搬送部のハンドリング部に各種の機能を持たせることは収納容器搬送部自体の強度が必要となるために、収納容器搬送部が大型化する。 また、 構造が複雑になってしまうので、コスト高や不具合を生じ易い。また、 グリップし損ねた場合等には、収納容器を落下させてしまうことも多い。 さらに、 グリップすることによる収納容器搬送時間の長期化、ハンドリング部の大型化による保管棚の大型化、 上掴みのスペースが必要等による装置高さが高くなる等、デメリットが多い。
その点、ロードポートの上方にポッド搬入搬出口を設けるとともに、ポッドを下から保持する保持台をロードポートとポッド搬入搬出口との間で昇降させるポッドエレベータを設置することにより、ポッド搬送装置によりポッドを下側から掬い取れるため、ポッドの上部を掴んでハンドリングする場合に比べて、ハンドリング構造を簡単かつ小型に構成することができる。したがって、ＣＶＤ装置の小型軽量化、単純化、高速化、安全化およびスペースの活用化を図ることができる。

3) ポッドエレベータによって昇降する保持台に受けキネマティツクピンを設けることにより、保持台を各所のポッド載置部についての搬送基準とすることができる。したがって、 搬送基準の統一化を図ることができる。

4) ポッドエレベータとポッド搬送装置とに分かれていることにより、ロードポートにおけるポッドの昇降動作と同時に、ポッド搬送装置をポッド受け渡し位置直前まで作動させて待機させることができる。つまりは、同時並行処理することができるので、総搬送時間を短縮させることができる。

5) ポッドエレベータがポッドをポッド搬送装置により下側から掬い取れる高さまで保持台を上昇させることができるため、ポッドの上部をハンドリングする場合に比べて、ポッドを安全に受け渡すことができる。

6) ロードポートにあるポッド内のウエハを不活性ガスで清浄化されたロードロック室内でマッピングすることができるので、汚染および自然酸化膜形成を防止することができる。

図７は本発明の第二実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置を示す側面断面図である。

本実施形態が前記実施形態と異なる主な点は、ポッドオープナがロードポートだけに設置されている点である。
すなわち、図７に示されているように、ロードポート１４は予備室４５を形成するサブ筐体４０の正面壁（区画壁）４０ａに設置されており、この正面壁４０ａにはポッドオープナ８３が設置されている。ポッドオープナ８３のロードロック室８０を形成した密閉筐体８１の背面壁８１ａには、ウエハ搬入搬出口９１が開設されているとともに、このウエハ搬入搬出口９１を開閉するドア機構９２が設置されている。
予備室４５内に設置されたウエハ移載機構４６は、基板搬送装置を構成している。ドア機構９２がウエハ搬入搬出口９１を開放した際に、ウエハ移載機構４６はポッド２とボート４７との間でウエハ１を搬送する。
ボートエレベータ４８はボート４７を予備室４５に隣接した処理炉５１の処理室５７に搬入したり、ボート４７を処理室５１から搬出したりする。
予備室４５の天井面に隣接した保管室１１ｂには、保管棚３１Ａとポッド搬送装置３５とが設置されている。
メイン筐体１１の正面壁１１ａにおいて保管室１１ｂに面した部位にはポッド搬入搬出口１２が開設されている。フロントシャッタ１３はポッド搬入搬出口１２を開けたり、閉じたりする。
第一実施形態のポッドオープナ４２と同様に、ロードロック室８０にはマッピング装置８４が設置されている。マッピング装置８４はドア出し入れ口８２に対して前後（垂直方向）および上下（平行方向）に移動することができる。

次に、以上の構成に係るポッドオープナの作用を説明する。
なお、コントローラ７７は以下の作動を制御する。

図７に示されているように、工程内搬送装置が正面開口１４Ｃもしくは天井開口１４Ｂを経由し、ロードポート１４に搬入した際に、ポッド２はポッドエレベータ１５の保持台１８に載置される。
このとき、保持台１８に突設されている受けキネマティックピン１９がポッド２の下面の位置決め穴５に嵌入されることにより、ポッド２は保持台１８に位置決めされた状態になる。

次いで、ロードポート１４において、ポッド２がポッドオープナ８３の方向に移動される。ポッドオープナ８３のクロージャ８６はドア４を保持する。
ドア４を保持すると、クロージャ８６は移動台８５の後退によってドア４をウエハ出し入れ口３およびドア出し入れ口８２から取り外す。その後に、クロージャ８６はロードロック室８０内を移動台８５によって下降され、ウエハ出し入れ口３およびドア出し入れ口８２の位置から離脱する。
ウエハ出し入れ口３が開放されると、マッピング装置８４の検出子がウエハ出し入れ口３に挿入される（図５（ｂ）参照）。マッピング装置８４は検出子によってポッド２内のウエハ１をマッピングする。

所定のマッピングが完了すると、マッピング装置８４は検出子をウエハ出し入れ口３から元の待機位置に復帰させる。
その後、クロージャ８６は移動台８５の上昇に伴ってウエハ出し入れ口３の位置に移動される。その後に、クロージャ８６は移動台８５の前進によってドア４をウエハ出し入れ口３およびドア出し入れ口８２に取り付ける。

このマッピング装置によって読み取った実際のマッピング情報と、当該ポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが相違した場合には、相違が発見されたポッド２はロードポート１４からウエハ編成工程または直前工程等に工程内搬送装置、例えば、図１に示されたＡＧＶ９によって直ちに搬送される。

前述したマッピング装置によって読み取った実際のマッピング情報と、当該ポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが一致した場合には、ポッドエレベータ１５は保持台１８によって支持されたポッド２をロードポート１４からポッド搬入搬出口１２の高さまで上昇させる。
ポッド２がポッド搬入搬出口１２の高さまで上昇されると、フロントシャッタ１３はポッド搬入搬出口１２を開放する。
続いて、ポッド搬送装置３５のポッド搬送機構３５ｂは保持台１８によって支持されたポッド２を掬い取る。
ポッド搬送機構３５ｂは掬い取ったポッド２をポッド搬入搬出口１２からメイン筐体１１内に搬入する。
ポッド搬送装置３５は搬入したポッド２を保管棚３１Ａに搬送し、指定された棚板３３Ａへ自動的に受け渡す。

ポッド２は棚板３３に一時的に保管される。
その後に、前述とは逆の手順で、ポッド搬送装置３５およびポッドエレベータ１５はポッド２を保管棚３１Ａからロードポート１４へ搬送する。
この際、予備室４５にはクリーンエアが流通されて充満されている。

次いで、ロードポート１４において、ポッド２がポッドオープナ８３の方向に移動される。ポッドオープナ８３のクロージャ８６はドア４を保持する。
ドア４を保持すると、クロージャ８６は移動台８５の後退によってドア４をウエハ出し入れ口３から取り外す。その後に、クロージャ８６はロードロック室８０内を移動台８５によって下降され、ウエハ出し入れ口３およびドア出し入れ口８２の位置から離脱する。
ウエハ出し入れ口３が開放されると、ウエハ搬入搬出口９１がドア機構９２によって開放される。
この際には、ポッド内のウエハのマッピングは既に済んでいるので、省略することができる。

ウエハ出し入れ口３およびウエハ搬入搬出口９１が開放されると、ウエハ移載装置４６ａはツィーザ４６ｃによってウエハ１をポッド２からウエハ出し入れ口３やドア出し入れ口８２およびウエハ搬入搬出口９１を通じてピックアップする。ウエハ移載装置４６ａはピックアップしたウエハ１をノッチ合わせ装置に搬送する。ノッチ合わせ装置はウエハ１をノッチ合わせする。ノッチ合わせ後に、ウエハ移載装置４６ａはウエハ１をノッチ合わせ装置からツィーザ４６ｃによってピックアップする。ウエハ移載装置４６ａはピックアップしたウエハ１をボート４７に搬送し、ボート４７に装填（チャージング）する。
ボート４７にウエハ１を受け渡したウエハ移載装置４６ａはポッド２に戻り、次のウエハ１をボート４７に装填する。
なお、保管棚３１Ａでポッド２を一時的に保管するステップを行わずに、ウエハ１をポッド２からウエハ移載装置４６ａはツィーザ４６ｃによって直接的に搬送してもよい。すなわち、マッピングが完了し、マッピング装置の検出子がウエハ出し入れ口３から元の待機位置に復帰された後、もしくは、マッピング中にウエハ搬入搬出口９１を開放させる。ウエハ移載装置４６ａはウエハ搬入搬出口９１にツィーザ４６ｃを挿入してウエハ１をポッド２からピックアップする。

以降のステップは前記実施形態と同様であるので、説明は省略する。

本実施形態によれば、ポッドオープナをロードポートに設置すれば済むために、スペース効率向上（フットプリント縮小化）、スループット向上（ポッドの移動範囲を少なくすることが可能）に寄与することができる。

図８は本発明の第三実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置を示す側面断面図である。

本実施形態が前記第二実施形態と異なる点は、ポッドの上部を掴んでハンドリングするように構成されている点、ポッド内ウエハ搬送中にも天井走行型構内搬送装置（以下、ＯＨＴという。）からのポッドを受け取れるように出し入れ可能なポッドステージ機構を設けた点、である。
すなわち、図８に示されているように、ポッドの上部を掴んでハンドリングするポッド搬送装置（以下、掴み式ポッド搬送装置という。）１００は、予備室４５の天井面に隣接した保管室１１ｂに保管棚３１Ａと共に設置されている。
掴み式ポッド搬送装置１００はポッドエレベータ１０１と、ポッドエレベータ１０１によって昇降されるポッド搬送機構１０２と、ポッド搬送機構１０２によって移動されるクリップ部１０３とを備えている。グリップ部１０３は、伸び縮みしてポッド２の上面に突設された鍔部６を上からグリップすることができる。
ポッドステージ機構１０５は、ロードポート１４の真上に開設された開口部１０６を開閉するスライドプレート１０７を備えている。ポッドステージ機構１０５は開口部１０６が開いた状態で、ポッド２を天井開口１４Ｂおよび開口部１０６を経由してロードポート１４の保持台１８にＯＨＴ１１０から載置させる。
他方、スライドプレート１０７が開口部１０６を閉じた時に、ＯＨＴ１１０はポッド２をスライドプレート１０７（一時保管棚の役目をする）に載置させる。
その後に、スライドプレート１０７からロードポート１４の保持台１８にポッド２を載置させる際には、ポッド搬送機構１０２がポッド２を持ち上げた状態で、ポッドステージ機構１０５がスライドプレート１０７をスライドさせて開口部１０６を開く。続いて、ポッド搬送機構１０２はポッド２をハンドリングし、ハンドリングした開口部１０６を通してロードポート１４の保持台１８に載置する。

次に、以上の構成に係る掴み式ポッド搬送装置１００およびポッドステージ機構１０５によるポッドハンドリングステップを説明する。
なお、ポッド内のウエハをマッピングするマッピングステップ等の他のステップは、前述した第二実施形態と同様であるので、それらのステップの説明は省略する。

図８に示されているように、ＯＨＴ１１０は天井開口１４Ｂおよび開口部１０６を経由し、ポッド２をロードポート１４上に直接的に供給する。
このとき、保持台１８の受けキネマティックピン１９がポッド２の下面の位置決め穴５に嵌入されることにより、ポッド２は保持台１８に位置決めされた状態になる。

ロードポート１４において、マッピング装置はポッド内のウエハをマッピングする（第一実施形態および第二実施形態参照）。
このマッピングステップにおいて、マッピング装置によって読み取った実際のマッピング情報と、当該ポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが相違した場合には、相違が発見されたポッド２はロードポート１４からウエハ編成工程または直前工程等にＯＨＴ１１０によって直ちに搬送される。

マッピング装置によって読み取った実際のマッピング情報と、当該ポッド２に関して予め提供されたマッピング情報とが一致した場合には、フロントシャッタ１３がポッド搬入搬出口１２を開放し、ポッドエレベータ１０１がポッド搬送機構１０２をポッド搬入搬出口１２の対向位置まで下降させる。
続いて、ポッド搬送機構１０２がグリップ部１０３をポッド搬入搬出口１２を潜らさせてポッド２の真上に移動させる。
次いで、ポッド搬送機構１０２はグリップ部１０３を下降させる。クリップ部１０３は下方に伸長してポッド２の鍔部６を上からグリップする。
ポッド２の鍔部６をグリップすると、グリップ部１０３が上方に短縮してポッド２を吊り上げるとともに、ポッドエレベータ１０１がポッド搬送機構１０２をポッド搬入搬出口１２と対応する高さに上昇させる。
ポッド搬送機構１０２は吊り上げたポッド２をポッド搬入搬出口１２からメイン筐体１１のポッド保管室１１ｂ内に搬入する。
掴み式ポッド搬送装置１００は搬入されたポッド２を保管棚３１Ａに搬送し、指定された棚板３３Ａへ自動的に受け渡す。
ポッド２は一時的に保管される。
その後、前述とは逆の手順で、掴み式ポッド搬送装置１００はポッド２を保管棚３１Ａからロードポート１４へ搬送する。

例えば、マッピングステップ中にＯＨＴ１１０によって別のポッド２が搬送されて来た場合には、ポッドステージ機構１０５が当該ポッド２をスライドプレート１０７によってＯＨＴ１１０から受け取り、スライドプレート１０７で一時的に保管する。
すなわち、図８に想像線で示されているように、ポッドステージ機構１０５はスライドプレート１０７をスライドさせて開口部１０６を閉じることにより、ＯＨＴ１１０のポッド２をスライドプレート１０７によって受け取る。つまり、スライドプレート１０７は一時保管棚の役目を果たす。
その後、スライドプレート１０７からロードポート１４の保持台１８にポッド２を移す際には、ポッド搬送機構１０２がポッド２をスライドプレート１０７から持ち上げた状態で、ポッドステージ機構１０５はスライドプレート１０７をスライドさせて開口部１０６を開く。続いて、ポッド搬送機構１０２は持ち上げたポッド２を開口部１０６を通して、ロードポート１４の保持台１８に載せる。

本実施形態によれば、前述した第二実施形態の効果に加えて、次の効果を得ることができる。
マッピングステップ中にＯＨＴによってポッドが搬送されて来た場合等においては、ポッドステージ機構が当該ポッドをスライドプレートによってＯＨＴから受け取ることにより、一時的に保管することができる。

図９は本発明の第四実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置を示す側面断面図である。
本実施形態が前記第一実施形態と異なる点は、ポッド２の鍔部６を掴んで搬送するポッド搬送装置（以下、掴み式ポッド搬送装置という。）２００を備えている点である。
すなわち、図９に示されているように、掴み式ポッド搬送装置２００は、ポッド保管室１１ｂに設置されている。掴み式ポッド搬送装置２００は鍔部６を掴んだ状態で、ポッド搬入搬出口１２を経由し、ポッド２を保持台１８とポッド保管室１１ｂ内との間で搬送することができる。
掴み式ポッド搬送装置２００はポッドエレベータ２０１と、ポッドエレベータ２０１によって昇降されるポッド搬送機構２０２と、ポッド搬送機構２０２によって移動されるグリップ部２０３と、を備えている。グリップ部２０３には、水平方向に伸び縮みして鍔部６を掴むタイプと、水平方向に伸び縮みする機構を備えないで、略コの字型で形成されて鍔部に引っ掛けるだけの引っ掛けタイプと、さらに、鉛直方向に伸び縮みする機構を備えるタイプと、がある。
掴み式ポッド搬送装置２００はコントローラ７７によって制御される。

次に、以上の構成に係る掴み式ポッド搬送装置の運用方法を数例、説明する。
以下の説明において、コントローラ７７は掴み式ポッド搬送装置２００、ポッドエレベータ１５、フロントシャッタ１３等の作動を制御する。

図１０は運用方法の第一例を示している。
図１０（ａ）に示されているように、ポッドエレベータ１５は昇降駆動装置１６によってシャフト１７を伸長させ、ポッド２を支持した保持台１８をポッド２の底面が基準高さ２０４より高い位置になるまで上昇させる。前述のポッドエレベータ１５の動作と同時に、ポッドエレベータ２０１はグリップ部２０３の高さが鍔部６の高さと同じ高さとなるように、ポッド搬送機構２０２、グリップ部２０３を昇降させる。
なお、基準高さ２０４はポッド搬入搬入口１２（図９参照）の下端の高さであって、少なくとも密閉筐体２１の上端の高さ位置以上の高さ位置である。ロードロック室２０の上端の高さ位置よりは高い高さ位置である。
フロントシャッタ１３はポッド搬入搬出口１２を開放する（図９参照）。
図１０（ｂ）に示されているように、ポッド搬送機構２０２が伸長し、ポッド保管室１１ｂ内からポッド搬入搬出口１２を経由し、メイン筐体１１外にあるグリップ部２０３まで水平移動することにより、グリップ部２０３を鍔部６の下に替らせる。
図１０（ｃ）に示されているように、ポッドエレベータ２０１がポッド搬送機構２０２を上昇させると、グリップ部２０３が保持台１８の上からポッド２を吊り上げる。
図１０（ｄ）に示されているように、掴み式ポッド搬送装置２００はポッド搬送機構２０２を短縮させて、ポッド２をポッド保管室１１ｂ内に搬入させる。
他方、ポッドエレベータ１５は昇降駆動装置１６によってシャフト１７を短縮させて、保持台１８をロードポート１４上まで下降させる。
その後、掴み式ポッド搬送装置２００はポッド２を回転式ポッド棚３１に搬送し、それを指定された棚板３３に受け渡す。
この第一例によれば、グリップ部２０３は鍔部６を引っ掛けるだけで済む。したがって、グリップ部２０３は水平方向および鉛直方向に伸び縮みする機構を必要とせず、その構造および作動がシンプルとなる。その結果、低コスト化、省スペース化や運用時間の短縮化を図ることができる。

図１１は運用方法の第二例を示している。
図１１（ａ）に示されているように、ポッドエレベータ１５は昇降駆動装置１６によってシャフト１７を伸長させ、ポッド２を支持した保持台１８を、ポッドの底面は基準高さ２０４より下になる位置であって、鍔部６が基準高さ２０４より上になる位置まで上昇させる。
前述のポッドエレベータ１５の動作と同時に、ポッドエレベータ２０１はグリップ部２０３の高さが鍔部６の高さと同じ高さとなるようにポッド搬送機構２０２、グリップ部２０３を昇降させる。
フロントシャッタ１３はポッド搬入搬出口１２を開放する（図９参照）。
図１１（ｂ）に示されているように、ポッド搬送機構２０２が伸長し、ポッド保管室１１ｂ内からポッド搬入搬出口１２を経由し、メイン筐体１１外にあるグリップ部２０３まで水平移動することにより、グリップ部２０３を鍔部６の下に替らせる。
図１１（ｃ）に示されているように、ポッドエレベータ２０１がポッド搬送機構２０２を上昇させると、グリップ部２０３が保持台１８の上からポッド２を吊り上げる。
図１１（ｄ）に示されているように、掴み式ポッド搬送装置２００はポッド搬送機構２０２を短縮させて、ポッド２をポッド保管室１１ｂ内に搬入させる。
他方、ポッドエレベータ１５は昇降駆動装置１６によってシャフト１７を短縮させて、保持台１８をロードポート１４上まで下降させる。
その後、掴み式ポッド搬送装置２００はポッド２を回転式ポッド棚３１に搬送し、それを指定された棚板３３に受け渡す。
第一例と比べて、ポッドエレベータ２０１によりポッド２を保持台１８とポッド搬入搬出口１２の高さとの間で昇降させる動作および動作時間を必要とする点で劣るものの、この第二例においても、グリップ部２０３は鍔部６を引っ掛けるだけで済む。したがって、グリップ部２０３は水平方向および鉛直方向に伸び縮みする機構を必要とせず、その構造および作動がシンプルとなる。その結果、低コスト化、省スペース化や運用時間の短縮化を図ることができる。

図１２および図１３は運用方法の第三例を示している。
図１２（ａ）に示されているように、ポッドエレベータ１５は昇降駆動装置１６によってシャフト１７を伸長させ、ポッド２を支持した保持台１８を、鍔部６が基準高さ２０４直下になる位置まで上昇させる。前述のポッドエレベータ１５の動作と同時に、ポッドエレベータ２０１はグリップ部２０３の高さがポッド搬入搬出口１２に対向する高さとなるよう、ポッド搬送機構２０２、グリップ部２０３を昇降させる。
フロントシャッタ１３はポッド搬入搬出口１２を開放する（図９参照）。
図１２（ｂ）に示されているように、ポッド搬送機構２０２がポッド搬入搬出口１２を潜ると、グリップ部２０３は鍔部６の真上に位置する。
図１２（ｃ）に示されているように、ポッドエレベータ２０１がポッド搬送機構２０２を下降させると、グリップ部２０３が鍔部６まで下降する。グリップ２０３は水平方向に伸長する。
図１２（ｄ）に示されているように、グリップ部２０３は水平方向に短縮し、鍔部６の下に替る。
図１３（ａ）に示されているように、ポッドエレベータ２０１がポッド搬送機構２０２を上昇させると、グリップ部２０３が保持台１８の上からポッド２を吊り上げる。ポッドエレベータ２０１はポッド搬送機構２０２を少なくともポッド２の底面が基準高さより上になる高さまで上昇させる。
図１３（ｂ）に示されているように、掴み式ポッド搬送装置２００はポッド搬送機構２０２を短縮させて、ポッド２をポッド保管室１１ｂ内に搬入させる。
他方、ポッドエレベータ１５は昇降駆動装置１６によってシャフト１７を短縮させて、保持台１８をロードポート１４上まで下降させる。
その後、掴み式ポッド搬送装置２００はポッド２を回転式ポッド棚３１に搬送し、それを指定された棚板３３に受け渡す。
この第三例によれば、第一例、第二例に比べて、ポッドエレベータ２０１によりポッド２を保持台１８とポッド搬入搬出口１２の高さとの間で昇降させる動作および動作時間が必要な点と、グリップ部２０３に水平方向に伸び縮みする機構を必要とする点で劣るものの、グリップ部２０３は、鉛直方向に伸び縮みする機構を必要とせず、その構造および作動がシンプルになる。その結果、低コスト化、省スペース化や運用時間の短縮化を図ることができる。

第四実施形態ではロードポートにあるポッドエレベータと掴み式ポッド搬送装置とを備えているので、ロードポートでの保持台の昇降動作中に、掴み式ポッド搬送装置が他のポッドを回転式ポッド棚またはサブ筐体のポッドオープナへ搬送する等他の動作をすることができる。したがって、掴み式ポッド搬送装置の稼働率を上げることができる。
また、ポッドエレベータと掴み式ポッド搬送装置とに分かれていることにより、ロードポートにおけるポッドの上昇動作と同時に、掴み式ポッド搬送装置をポッド受け渡し位置直前まで作動させて、待機させることができる。つまりは、同時並行処理することができるので、総搬送時間を短縮させることができる。
同様に、掴み式ポッド搬送装置の上昇とポッドエレベータの下降とを同時に実施することにより、ポッドの受け渡し時間も短縮することができる。
なお、第四実施形態の運用方法は前述した第一実施形態および第二実施形態に適用することができる。適用した場合には、前述した第一実施形態および第二実施形態と同様の効果を得ることができる。

図１４はポッドオープナの好ましい実施例を示す側面断面図である。
図１５はその分解斜視図である。
図１４に示されているように、密閉筐体２１の上面壁には窒素ガス供給ライン２１Ａの一端が接続されており、密閉筐体２１の下面壁には排気ライン２１Ｂの一端が接続されている。窒素ガス供給ライン２１Ａは窒素ガス２１Ｃを吹出口からロードロック室２０内に下向きに吹き出す。排気ライン２１Ｂはロードロック室２０内を排気する。
図１４および図１５に示されているように、ロードロック室２０内の上端部にはルーバ（Louver）２１Ｄが窒素ガス供給ライン２１Ａの吹出口と対向する位置に敷設されている。ルーバ２１Ｄは窒素ガス供給ライン２１Ａの吹出口から吹き出された窒素ガス２１Ｃの流れの向きを偏向する偏向具を構成している。ルーバ２１Ｄはドア出し入れ口２２に向けて傾斜している。この傾斜により、ルーバ２１Ｄは窒素ガス流をドア出し入れ口２２に向けて偏向させる。

次に、以上の構成に係るポッドオープナの作用および効果を説明する。
窒素ガス供給ライン２１Ａがロードロック室２０の上端に接続され、排気ライン２１Ｂが下端に配置されているため、ロードロック室２０内の窒素ガス流はダウンフローとなる。ダウンフローの窒素ガス２１Ｃはロードロック室２０内の塵埃および有機物等の異物を効果的に排出する。すなわち、ダウンフローの窒素ガス２１Ｃは異物のウエハ１への付着、ポッド２への侵入を未然に防止することができる。ロードロック室２０内の異物には、ロードロック室２０内に設置された移動台２５、クロージャ２６、マッピング装置２７からの発塵および有機物等がある。
ルーバ２１Ｄは窒素ガス２１Ｃをドア出し入れ口２２に向けて偏向させて、ポッド２内に導く。このポッド２内への窒素ガス２１Ｃの流れは、ロードロック室２０内下部からの対流による異物の巻き込みを防止する。

例えば、次の運用方法を実施することができる。
ポッド２をロードポート１４から工程内搬送装置によって搬出する際に、ポッド２内に窒素ガス２１Ｃをルーバ２１Ｄによって導くことにより、ポッド２内の雰囲気（空気および異物等）を窒素ガス２１Ｃによって強制的にパージ（置換）する。この後に、ポッド２のウエハ出し入れ口３にドア４をポッドオープナ２３により装着する。
この運用方法によれば、ポッド２内に窒素ガス２１Ｃをより一層封入することができるので、ポッド２内の汚染および自然酸化膜形成を防止することができる。
例えば、サブ筐体４０内が窒素ガス雰囲気になっていない場合であっても、ポッド２内に窒素ガス２１Ｃを封入することができる。
さらに、ウエハ出し入れ口３にドア４を装着する以前にポッド２内のウエハ１に対してマッピングを実施した場合には、マッピング済みポッド２を窒素ガス２１Ｃを封入した状態で、次工程へ送付することができる。

なお、このポッドオープナの好ましい実施例は、第一実施形態〜第四実施形態にも適用可能である。適用した場合には、前述した効果を得ることができる。

図１６はポッドエレベータの好ましい実施例を示す斜視図である。
図１７はその作用状態を示す斜視図である。
図１６にされているように、ポッドエレベータ１５にはカバー３００が設置されている。カバー３００は水平に配置された天板３０１と、垂直に配置されて上端辺が天板３０１の前端辺に固定された前板３０２とを備えている。天板３０１は昇降駆動装置１６のシャフト１７に固定されている。前板３０２は、ロードポート１４を被覆可能な横幅と、シャフト１７のストロークよりも大きい高さ（図１７参照）で形成されている。
昇降駆動装置１６、シャフト１７は１つでもよいが、２以上を所定の間隔設けて設置することが好ましい。こうすることにより、ポッドを載置した状態で天板３０１を安定的に昇降させることができる。
天板３０１には三角形の逃げ孔３０３がロードポート１４上の保持台１８に対向する部位に開設されている。逃げ孔３０３の三角形頂点のそれぞれにはキネマティックピン１９が突設されている。したがって、天板３０１はポッド２下面を保持する保持部を構成しているとともに、ポッド載置部を構成している。
なお、天板３０１を保持部と表現し、カバー３００は保持部に固定されたものであると、表現してもよい。
また、カバー３００は保持部に必ずしも固定されていなくてもよい。例えば、カバー３００にも駆動装置を設けて、保持部、昇降機構の作動に応じて昇降を行うようにしてもよい。

次に、以上の構成に係るポッドエレベータの作用および効果を説明する。
便宜上、ポッド２の図示は省略するが、図１６の状態から図１７の状態に移行する際には、天板３０１は保持台１８上からポッド２を掬い取る。このとき、天板３０１のキネマティックピン１９はポッド２下面の位置決め穴５に保持台１８のキネマティックピン１９の外側においてそれぞれ嵌合する。
なお、通常の待機時には、天板３０１は保持台１８より下方に位置し、保持台１８がドア出し入れ口２２に対し、前後する時の干渉を回避している。
図１７の状態から図１６の状態へ移行する際には、天板３０１はポッド２を保持台１８上に受け渡す。
ポッドエレベータ１５を被覆したカバー３００はポッドエレベータ１５からのパーティクルの飛散を抑制する。特に、ポッド２を天板３０１によりポッド搬入搬出口１２近傍まで上昇させた状態では、装置正面から正面開口１４Ｃにより、昇降駆動装置１６およびシャフト１７等が剥き出しになってしまうため、装置外にパーティクルを飛散させてしまう。しかし、カバー３００により、このようなパーティクルの飛散を抑制することができる。
ポッドエレベータ１５を被覆したカバー３００は昇降駆動装置１６およびシャフト１７が作業空間に剥き出しになることによる作業者の危険を抑制することができる。
例えば、作業者が手作業でポッド２をボックス１４Ａの正面開口１４Ｃ（図１参照）からロードポート１４に載置する場合の昇降駆動装置１６およびシャフト１７への接触を、カバー３００によって阻止することができる。

図１８はポッドエレベータのさらに好ましい実施例を示す斜視図である。
図１９はその作用状態を示す斜視図である。
本実施例が前記実施例と異なる点は、カバー３００が一対の側板３０４、３０４を有する点である。一対の側板３０４、３０４は前板３０２の左右両端辺にそれぞれ直角に固定されている。つまり、ポッドオープナ２３がある側を除く三側面に設けられている。
本実施例によれば、カバー３００がポッドエレベータ１５の前方のみならず、左右側方を被覆しているので、パーティクル飛散防止効果および安全性確保効果をより一層向上させることができる。

なお、図１６〜図１９に示すポッドエレベータを設置する実施例は、第一実施形態〜第四実施形態にも適用可能である。適用した場合には、前述した効果を得ることができる。

なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更が可能であることはいうまでもない。

例えば、ポッド保管室の密閉性や装置外へのパーティクル飛散防止等を考慮すれば、フロントシャッタ１３を設けたり、ポッド搬入搬出口１２は開口サイズを小さく形成したりした方がよい。しかし、フロントシャッタ１３は無くてもよい。
また、ポッド搬入搬出口１２を最大限大きくして、実質的にポッドオープナ２３および密閉筐体２１より上方の区画壁の殆ど全てを開口してもよい。
例えば、ポッド搬送装置３５がアクセス可能な高さ位置までポッドエレベータ１５により保持台１８（天板３０１）を予め上昇させておきその位置でＯＨＴからポッドを受け取り、保持台１８を下降させてドア４の開閉動作を行うことなく、ポッド搬送装置３５により保持台１８からポッドを受け取るようにしてもよい。
このように運用すると、ＯＨＴの下降範囲が保持台１８が上昇していた分少なくて済む。さらに、保持台１８がポッドをＯＨＴから受け取った後に、ポッド搬送装置３５がアクセス可能な高さ位置まで上昇させることを必要としないため、その分、搬送時間を短縮することができる。
例えば、掴み式ポッド搬送装置は第一実施形態および第二実施形態にも採用することができる。
第三実施形態の第二区画壁およびポッドステージ機構は、第一実施形態および第二実施形態にも採用することができる。
マッピング装置は第一実施形態を第二実施形態、第三実施形態および第四実施形態に適用してもよいし、第二実施形態、第三実施形態および第四実施形態を第一実施形態に適用してもよい。

前記した実施形態においては、バッチ式ＣＶＤ装置に適用した場合について述べたが、本発明はこれに限らず、拡散装置やアニール装置および酸化装置等の基板処理装置全般に適用することができる。

基板はウエハに限らず、ホトマスクやプリント配線基板、液晶パネル、コンパクトディスクおよび磁気ディスク等であってもよい。

好ましい実施の態様を付記する。
（１）複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体によって塞がれる収納容器と、
筐体内と外との間で該収納容器の搬入搬出が行われる搬入搬出部と、
該搬入搬出部で前記収納容器を載置する載置部と、
前記搬入搬出部に隣接して設けられ、前記収納容器を保管する保管室と、
該載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口の開閉を行う開閉装置と、
前記収納容器下面を保持する保持機構を有し、前記開閉装置の上方を経由して前記保管室内と外との間で、該保持機構によって保持した前記収納容器を搬送する搬送装置と、
前記開閉装置が前記収納容器の開閉を行う際における前記載置部の高さ位置と、前記搬送装置が前記収納容器の授受を行う高さ位置との間で、前記載置部の昇降を行う昇降機構と、
を備える基板処理装置。
（２）複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体によって塞がれる収納容器と、
筐体内と外との間で該収納容器の搬入搬出が行われる搬入搬出部と、
該搬入搬出部で前記収納容器を載置する載置部と、
前記搬入搬出部に隣接して設けられ、前記収納容器を保管する保管室と、
前記保管室に設けられ、該載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口の開閉を行う開閉装置と、
前記開閉装置の上方を経由して前記保管室内と外との間で、前記収納容器を搬送する搬送装置と、
前記開閉装置が前記収納容器の開閉を行う際における前記載置部の高さ位置と、前記搬送装置が前記収納容器の授受を行う高さ位置との間で、前記載置部の昇降を行う昇降機構と、
前記保管室内と外との間で前記収納容器を搬送可能な高さ位置に前記載置部を前記昇降機構が上昇させた状態で、前記搬送装置と前記載置部との間で前記収納容器の授受を行わせるよう、前記昇降機構および前記搬送装置を制御するコントローラと、
を備える基板処理装置。
（３）複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体によって塞がれる収納容器と、
筐体内と外との間で該収納容器の搬入搬出が行われる搬入搬出部と、
該搬入搬出部で前記収納容器を載置する載置部と、
該載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口の開閉を行う開閉装置と、
前記筐体内に設けられ、前記収納容器を保管する保管棚と、
前記筐体内に設けられ、前記開閉装置の上方を経由して前記載置部と前記保管棚との間で、前記収納容器を搬送する搬送装置と、
前記搬送装置がアクセス可能な位置まで前記載置部を上昇させる昇降機構と、
を備える基板処理装置。
（４）前記収納容器開閉時における前記基板出し入れ口および前記開閉装置を囲う開閉室を備え、該開閉室は内部に不活性ガスを充填可能である前記（１）の基板処理装置。
（５）前記開閉室に、基板状態検出装置を備える前記（１）の基板処理装置。
（６）前記開閉室に不活性ガスを供給するガス供給ラインと、前記開閉室を排気する排気ラインとを備え、前記ガス供給ラインは前記開閉装置による前記蓋体を取り外した際の退避方向と反対側に設けられ、前記排気ラインは前記開閉装置による前記蓋体を取り外した際の退避方向と同じ側に設けられる前記（４）の基板処理装置。
（７）前記開閉室は、前記ガス供給ラインと前記基板出し入れ口との間にルーバ（偏向具）を備える前記（６）の基板処理装置。
（８）前記（１）の基板処理装置を用いる半導体装置の製造方法であって、
前記収納容器を前記搬入搬出部に搬入し、前記載置部に前記収納容器を載置するステップと、
前記載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口から前記蓋体を前記開閉装置が取り外すステップと、
前記載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口に前記蓋体を前記開閉装置が取り付けるステップと、
前記蓋体取り外し取り付け時における前記載置部の高さ位置と、前記搬送装置が前記収納容器の授受を行う高さ位置との間で、前記昇降機構が前記載置部を上昇させるステップと、
前記保持機構が保持した前記収納容器を、前記搬送装置が前記開閉装置の上方を経由して前記保管室内に搬入するステップと、
前記基板を処理室内で処理するステップと、
を有する半導体装置の製造方法。
（９）複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体によって塞がれる収納容器と、
筐体内と外との間で該収納容器の搬入搬出が行われる搬入搬出部と、
該搬入搬出部で前記収納容器を載置する載置部と、
前記搬入搬出部に隣接して設けられ、前記収納容器を保管する保管室と、
前記載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口の開閉を行う開閉装置と、
前記保管室の内と外とを区画する区画壁と、
前記開閉装置より上方の前記区画壁に設けられ、前記保管室の内と外との間で前記収納容器の搬入搬出が行われる開口と、
前記保管室内に設けられ、前記開口を経由して前記載置部から前記収納容器を搬送する搬送装置と、
前記搬送装置が前記載置部に載置された前記収納容器にアクセス可能な位置まで前記載置部を上昇させる昇降機構と、
を備える基板処理装置。
（１０）前記載置部上方に該載置部に対向して設けられる第二区画壁と、該第二区画壁に設けられる第二開口と、該第二開口の開閉を行う第二開閉装置と、を備える前記（９）の基板処理装置。
（１１）前記第二開閉装置の上面は、前記第二開口を閉塞した際に前記収納容器を載置可能に形成されている前記（１０）の基板処理装置。
（１２）前記開口の開閉を行う第二開閉装置を備えている前記（９）の基板処理装置。
（１３）前記収納容器の前記蓋体を前記開閉装置が取り外した際に、前記収納容器と基板保持具との間で前記基板を搬送する基板搬送装置が設置されている予備室と、
該予備室に隣接して設けられ、前記基板保持具に保持された前記基板を処理する処理室と、
前記予備室に隣接して設けられ、前記保管棚および前記搬送装置が設置されている保管室と、
を備える前記（１）の基板処理装置。
（１４）収納容器を搬入搬出部に搬入し、載置部に該収納容器を載置するステップと、
前記載置部に載置された前記収納容器の基板出し入れ口から蓋体を前記開閉装置が取り外すステップと、
基板状態検出装置が前記収納容器内の基板配列状態を検出するステップと、
前記蓋体取り外し取り付け時の前記載置部の高さから、前記開閉装置上方の高さであって、前記載置部と前記搬送装置との間で前記収納容器の授受を行う高さまで、前記載置部を上昇させるステップと、
前記搬送装置が前記収納容器を保持して、前記載置部から保管棚へ搬送するステップと、
前記基板を処理室内で処理するステップと、
を有する半導体装置の製造方法。
（１５）複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体により塞がれる収納容器と、
筐体内と外との間で該収納容器の搬入搬出が行われる搬入搬出部と、
該搬入搬出部で前記収納容器を載置する載置部と、
該載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口の開閉を行う開閉装置と、
前記開閉装置による前記収納容器の開閉可能な高さ位置と、前記開閉装置の上方を跨いで前記収納容器を搬送可能な高さ位置との間で、前記載置部の昇降を行う昇降機構と、
前記収納容器を搬送可能な高さの前記載置部との間で、前記収納容器の授受を行う搬送装置と、
を備える基板処理装置。
（１６）複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体により塞がれる収納容器と、
筐体内と外との間で該収納容器の搬入搬出が行われる搬入搬出部と、
該搬入搬出部で前記収納容器を載置する載置部と、
該載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口の開閉を行う開閉装置と、
前記開閉装置を囲う開閉室と、
前記開閉装置による前記収納容器の開閉可能な高さ位置と、前記載置部に載置された前記収納容器の少なくとも一部が前記開閉室の上端より高くなる高さ位置との間で、前記載置部の昇降を行う昇降機構と、
を備える基板処理装置。
（１７）前記載置部の下部を覆うカバーを備え、該カバーは前記昇降機構の作動に応じて昇降を行う前記（１６）の基板処理装置。
（１８）前記カバーは前記載置部の前側に配置される前記（１７）の基板処理装置。
（１９）前記カバーは前記開閉装置がある側を除く三側面に設けられている前記（１７）の基板処理装置。
（２０）複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体により塞がれる収納容器と、
筐体内と外との間で該収納容器の搬入搬出が行われる搬入搬出部と、
該搬入搬出部で前記収納容器を載置する載置部と、
該載置部の下方に設けられ、該載置部の昇降を行う昇降機構と、
前記載置部の下部を覆うように設けられ、前記昇降機構の作動に応じて昇降を行うカバーと、
を備える基板処理装置。
（２１）複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体により塞がれる収納容器と、
筐体内と外との間で該収納容器の搬入搬出を行う搬入搬出部と、
該搬入搬出部で前記収納容器を載置する載置部と、
前記筐体内に設けられ、前記収納容器を保管する保管室と、
該載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口の開閉を行う開閉装置と、
前記収納容器下面を保持する保持機構を有し、前記開閉装置の上方を経由して前記保管室内と外との間で、該保持機構が保持した前記収納容器を搬送する搬送装置と、
前記開閉装置が前記収納容器の開閉を行う際における前記載置部の高さ位置と、前記搬送装置が前記収納容器の授受を行う高さ位置との間で、前記載置部の昇降を行う昇降機構と、
前記収納容器下面を前記保持機構により保持しつつ前記収納容器を前記昇降機構が搬送可能な高さ位置に前記載置部を上昇させた状態で、前記搬送装置と前記載置部との間で前記収納容器の授受を行わせるよう、前記昇降機構部および前記搬送装置を制御するコントローラと、
を備える基板処理装置。
（２２）前記（１６）の基板処理装置を用いる半導体装置の製造方法であって、
前記収納容器を前記搬入搬出口に搬入し、前記載置部に前記収納容器を載置するステップと、
前記蓋体取り外し取り付け時における前記載置部の高さ位置と、前記載置部に載置された前記収納容器の少なくとも一部が前記開閉室上端より高くなる高さ位置との間で、前記昇降機構が前記載置部を上昇もしくは下降させるステップと、
前記基板を処理室内で処理するステップと、
を有する半導体装置の製造方法。
（２３）前記収納容器を搬送可能な高さに前記載置部を前記昇降機構が上昇させた状態で、前記搬送装置と前記載置部との間で前記収納容器の授受を行わせるよう、前記昇降機構および搬送装置を制御するコントローラと、を備えた前記（１６）の基板処理装置。
（２４）前記（１）または前記（１６）の基板処理装置を用いる半導体装置の製造方法であって、
前記収納容器を前記搬入搬出部に搬入し、前記載置部に前記収納容器を載置するステップと、
前記昇降機構が前記載置部を上昇もしくは下降させるステップと、
前記基板を処理室内で処理するステップと、
を有する半導体装置の製造方法。

本発明の第一実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置を示す一部省略斜視図である。 側面断面図である。 主要部を示す側面断面図である。 反応炉を示す縦断面図である。 ポッドオープナの作用を説明するための各一部省略側面断面図であり、（ａ）はドアの取外し前を示し、（ｂ）はマッピング時を示している。 ポッド搬入時を示す一部省略側面断面図である。 本発明の第二実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置を示す側面断面図である。 本発明の第三実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置を示す側面断面図である。 本発明の第四実施形態であるバッチ式ＣＶＤ装置を示す側面断面図である。 その運用方法の第一例を示す各側面図である。 その運用方法の第二例を示す各側面図である。 その運用方法の第三例を示す各側面図である。 第三例の続きをを示す各側面図である。 ポッドオープナの好ましい実施例を示す側面断面図である。 その分解斜視図である。 ポッドエレベータの好ましい実施例を示す斜視図である。 その作用状態を示す斜視図である。 ポッドエレベータの好ましい実施例を示す斜視図である。 その作用状態を示す斜視図である。

符号の説明

１…ウエハ（基板）、２…ポッド（収納容器）、３…ウエハ出し入れ口、４…ドア（蓋体）、５…位置決め穴、６…鍔部。
１０…バッチ式ＣＶＤ装置（基板処理装置）、１１…メイン筐体、１１ａ…正面壁（区画壁）、１１ｂ…ポッド保管室、１２…ポッド搬入搬出口（収納容器搬入搬出口）、１３…フロントシャッタ（開閉体）、１４…ロードポート（収納容器搬入搬出部）、
１４Ａ…ボックス、１４Ｂ…天井開口、１４Ｃ…正面開口。
１５…ポッドエレベータ（収納容器載置部昇降機構部）、１６…昇降駆動装置、１７…シャフト、１８…保持台（収納容器載置部）、１９…受けキネマティックピン。
２０…ロードロック室、２１…密閉筐体（区画壁）、２１Ａ…窒素ガス供給ライン、２１Ｂ…排気ライン、２１Ａ’…窒素ガス供給装置、２１Ｂ’…排気装置。
２２…ドア出し入れ口（開口部）、２３…ポッドオープナ（収納容器蓋体開閉部）、２５…移動台、２６…クロージャ、２７…マッピング装置（基板状態検出部）、２８…リニアアクチュエータ、２９…ホルダ、３０…検出子。
３１…回転式ポッド棚（保管棚）、３２…支柱、３３…棚板、３４…受けキネマティックピン。
３５…ポッド搬送装置（収納容器搬送部）、３５ａ…ポッドエレベータ（収納容器昇降機構）、３５ｂ…ポッド搬送機構（収納容器搬送機構）。
４０…サブ筐体、４０ａ…正面壁（区画壁）、４１…ウエハ搬入搬出口、４２…ポッドオープナ（収納容器蓋体開閉部）、４３…載置台、４４…着脱機構。
４５…予備室、４６…ウエハ移載機構、４６ａ…ウエハ移載装置、４６ｂ…ウエハ移載装置エレベータ、４６ｃ…ツィーザ。
４７…ボート（基板保持具）、４８…ボートエレベータ、４９…アーム、５０…シールキャップ。
５１…処理炉、５２…ヒータ、５３…ヒータベース、５４…プロセスチューブ、５５…アウタチューブ、５６…インナチューブ、５７…処理室、５８…筒状空間、５９…マニホールド。
６０…ノズル、６１…ガス供給管、６２…ＭＦＣ、６３…ガス供給源、６４…ガス流量制御部、６５…排気管、６６…圧力センサ、６７…圧力調整装置、６８…真空排気装置、６９…圧力制御部、７０…回転機構、７１…回転軸、７２…駆動制御部、７３…断熱板、７４…温度センサ、７５…温度制御部、７６…主制御部、７７…コントローラ。
３１Ａ…保管棚、３３Ａ…棚板、８０…ロードロック室、８１…密閉筐体、８１ａ…背面壁、８２…ドア出し入れ口、８３…ポッドオープナ、８４…マッピング装置、８５…移動台、８６…クロージャ、９１…ウエハ搬入搬出口、９２…ドア機構。
１００…掴み式ポッド搬送装置、１０１…ポッドエレベータ、１０２…ポッド搬送機構、１０３…グリップ部、
１０５…ポッドステージ機構、１０６…開口部、１０７…スライドプレート、
１１０…天井走行型構内搬送装置（ＯＨＴ）。
２００…掴み式ポッド搬送装置、２０１…ポッドエレベータ、２０２…ポッド搬送機構、２０３…グリップ部、２０４…基準高さ。
３００…カバー、３０１…天板、３０２…前板、３０３…逃げ孔、３０４…側板。

Claims (4)

1. 複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体により塞がれる収納容器と、
   筐体内と外との間で該収納容器の搬入搬出が行われる搬入搬出部と、
   該搬入搬出部で前記収納容器を載置する載置部と、
   該載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口の開閉を行う開閉装置と、
   前記開閉装置を囲う開閉室と、
   前記開閉装置による前記収納容器の開閉可能な高さ位置と、前記載置部に載置された前記収納容器の少なくとも一部が前記開閉室の上端より高くなる高さ位置との間で、前記載置部の昇降を行う昇降機構と、
   を備える基板処理装置。
2. 前記開閉室は内部に不活性ガスを充填可能である請求項１の基板処理装置。
3. 前記開閉室に、不活性ガスを供給するガス供給ラインと前記基板出し入れ口との間に偏向具を備える請求項２の基板処理装置。
4. 複数の基板を収納し基板出し入れ口が蓋体によって塞がれる収納容器と、
   筐体内と外との間で該収納容器の搬入搬出が行われる搬入搬出部と、
   該搬入搬出部で前記収納容器を載置する載置部と、
   前記搬入搬出部に隣接して設けられ、前記収納容器を保管する保管室と、
   前記載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口の開閉を行う開閉装置と、 前記収納容器下面を保持する保持機構を有し、前記開閉装置の上方を経由して前記保管室内と外との間で、該保持機構によって保持した前記収納容器を搬送する搬送装置と、
   前記開閉装置が前記収納容器の開閉を行う際における前記載置部の高さ位置と、前記搬送装置が前記収納容器の授受を行う高さ位置との間で、前記載置部の昇降を行う昇降機構と、を備える基板処理装置を用いる半導体装置の製造方法であって、
   前記収納容器を前記搬入搬出部に搬入し、前記載置部に前記収納容器を載置するステップと、
   前記載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口から前記蓋体を前記開閉装置が取り外すステップと、
   前記載置部に載置された前記収納容器の前記基板出し入れ口に前記蓋体を前記開閉装置が取り付けるステップと、
   前記蓋体取り外し取り付け時における前記載置部の高さ位置と、前記搬送装置が前記収納容器の授受を行う高さ位置との間で、前記昇降機構が前記載置部を上昇させるステップと、
   前記保持機構が保持した前記収納容器を、前記搬送装置が前記開閉装置の上方を経由して前記保管室内に搬入するステップと、
   前記基板を処理室内で処理するステップと、
   を有する半導体装置の製造方法。

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