JP4788255B2 - 樹脂組成物およびそれを用いたカバーレイフィルム、金属張積層板 - Google Patents
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Description
一方、ヒンジ部以外の筐体部分に対しては、フレキシブルプリント回路板を細かく折りたたんで筐体へ組み込む要求があり、折りたたみ性(耐折性)が求められている。
さらに、本発明によれば、上記樹脂組成物を樹脂フィルムに塗工し、金属箔と積層接着することにより得られるフレキシブルプリント回路板用の金属張積層板が提供される。これにより、高屈曲性と耐折性を両立することでデジタル機器をはじめとする高機能化された小型電子機器に使用できる。
ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば以下に示すようなエポキシ樹脂が挙げられる。
ノボラックフェノールのみによる硬化系では耐熱性は良いが柔軟性に欠ける。また、反応性エステル化合物のみによる硬化では柔軟性の良い強靭な硬化物が得られるが耐熱性がやや劣り、エポキシ樹脂に対する硬化速度が遅く、特にカバーレイやフレキシブルプリント回路板に用いる樹脂組成物では硬化時の樹脂フロー(端部からの染み出し)が問題となる。本発明のようにノボラックフェノール樹脂と反応性エステル化合物の配合割合が全エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対してしてそれぞれの水酸基当量とエステル基当量が(0.3:0.7)当量〜(0.7:0.3)当量になるように硬化剤を組み合わせることで耐熱性と柔軟性を両立することができる。
リン酸エステルアミドの含有量は、樹脂組成物全体の10重量%以上、20重量%以下が好ましい。含有量がこの範囲内であれば主剤の特性を大きく損なわずに難燃性を付与できる。リン酸エステルアミドのリン含有量は5mol%以上、15mol%以下の一般的なものが使用できる。例えば以下の化学式2に示すようなものが挙げられる。
本発明の樹脂組成物は、上記以外の成分を含んでいても良い。たとえば、銅はくやプリント回路板との密着力の向上、耐湿性の向上のためにエポキシシラン等のシランカップリング剤あるいはチタネート系カップリング剤、消泡剤などの添加剤や生産性向上のためにイミダゾール化合物やトリフェニルホスフィンなどの硬化促進剤を含んでいてもよい。
本発明のカバーレイフィルムは、上記の樹脂組成物を所定の溶剤に、所定の濃度で溶解したワニスを樹脂フィルムに塗工後80℃以上150℃以下の乾燥を行って作製する。乾燥後の樹脂組成物の厚みについては、用途によって10μm以上100μm以下の範囲になるように塗工する。カバーレイフィルムの場合は乾燥後にその樹脂組成物面にポリエチレンテレフタレートやポリエチレン、ポリプロピレンなどのフィルムを異物混入防止などの理由で離型フィルムとして使用してもよい。
ワニスに用いられる溶剤としては、樹脂組成物に対し良好な溶解性を持つものを選択することが好ましい。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレン、n−ヘキサン、メタノール、エタノール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロパノール、シクロヘキサノン、N−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのうち一種または二種以上の混合系を使用することが可能である。
樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド系樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド系樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル系樹脂フィルムが挙げられる。このうち、弾性率と耐熱性を向上させる観点から、特にポリイミド系樹脂フィルムが好ましく用いられる。
樹脂フィルムの厚さは、特に限定されないが、5μm以上50μm以下が好ましく、特に5μm以上25μm以下が好ましい。厚さがこの範囲内であると、特に屈曲性に優れる。
前記金属箔を構成する金属としては、例えば銅および銅系合金、アルミおよびアルミ系合金、鉄および鉄系合金等が挙げられ、銅がより好ましい。
また、基材としては、絶縁性フィルムなどが挙げられ、樹脂フィルムとしては、例えばポリイミド樹脂フィルム、ポリエーテルイミド樹脂フィルム、ポリアミドイミド樹脂フィルム等のポリイミド系樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム等のポリアミド系樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム等のポリエステル系樹脂フィルムが挙げられる。このうち、弾性率と耐熱性を向上させる観点から、特にポリイミド系樹脂フィルムが好ましく用いられる。
エポキシ基1当量に硬化剤として水酸基0.3当量、反応性エステル基0.7当量となるように樹脂組成分としてビフェニルアラルキルエポキシ樹脂(エポキシ当量280、日本化薬製NC−3000)を50重量部、ノボラックフェノール樹脂(水酸基当量100 住友ベークライト製PR−53647)を5.4重量部と反応性エステル基を持つ樹脂(活性エステル当量が220 エピクロンEXB−9451 大日本インキ工業製)を27.5重量部配合し、さらにリン酸エステルアミド(四国化成製 SP−703)が17重量部およびシランカップリング剤0.5重量部をMEK及びブチルセロソルブとの混合溶剤に樹脂固形分が50%となるように溶解した。
この配合物ワニスを厚み25μmのポリイミドフィルムの片面に樹脂組成物の厚みが乾燥後、10μmとなるようにコンマロールコーターで塗工、120℃5分+150℃5分で乾燥し、次いで圧延銅箔(福田金属箔工業製 18μm厚)を150℃で熱ロールによってラミネート後、反対面にも同様にワニスを塗工、乾燥、圧延銅箔をラミネートした。このものを180℃1時間硬化してフレキシブルプリント回路板用の銅張積層板を得た。
これを通常の回路作製工程(穴あけ、メッキ、DFRラミネート、露光・現像、エッチング、DFR剥離)にて所定の回路を作製し評価用基板を得た。
さらには同配合物ワニスを厚み12.5μmのポリイミドフィルムの片面に樹脂組成物の厚みが乾燥後、25μmとなるようにコンマロールコーターで塗工、120℃5分+150℃5分で乾燥しカバーレイフィルムを得た。このカバーレイフィルムの所定位置に開孔部を設け、先に作製した評価用基板の両面の所定位置に160℃1時間の真空プレスにて貼り付けて評価用のフレキシブルプリント回路板を作製した。
エポキシ基1当量に硬化剤として水酸基0.7当量、反応性エステル基0.3当量となるように樹脂組成分としてビフェニルアラルキルエポキシ樹脂(エポキシ当量280、日本化薬製NC−3000)を50重量部、ノボラックフェノール樹脂(水酸基当量173 住友ベークライト製PR−54869)を21.6重量部と反応性エステル基を持つ樹脂(活性エステル当量が220 エピクロンEXB−9451 大日本インキ工業製)を11.8重量部配合し、さらにリン酸エステルアミド(四国化成製 SP−703)が16.6重量部およびシランカップリング剤0.5重量部をMEK及びブチルセロソルブとの混合溶剤に樹脂固形分が50%となるように溶解した。これを実施例1と同様にして、フレキシブルプリント回路板用の銅張積層板とカバーレイフィルムを得て、評価用のフレキシブルプリント回路板を作製した。
エポキシ基1当量に硬化剤として水酸基0.5当量、反応性エステル基0.5当量となるように樹脂組成分としてビフェニルアラルキルエポキシ樹脂(エポキシ当量280、日本化薬製NC−3000)を20重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量925 JER製エピコート1004)を16重量部、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量165 JER製エピコート806)を20重量部、ノボラックフェノール樹脂(水酸基当量100 住友ベークライト製PR−53647)を10.5重量部と反応性エステル基を持つ樹脂(活性エステル当量が220 エピクロンEXB−9451 大日本インキ工業製)を23.1重量部配合し、さらにリン酸エステルアミド(四国化成製 SP−703)が10.4重量部、およびシランカップリング剤0.5重量部をMEK及びブチルセロソルブとの混合溶剤に樹脂固形分が50%となるように溶解した。これを実施例1と同様にして、フレキシブルプリント回路板用の銅張積層板とカバーレイフィルムを得て、評価用のフレキシブルプリント回路板を作製した。
エポキシ基1当量に硬化剤として水酸基0.5当量、反応性エステル基0.5当量となるように樹脂組成分としてビフェニルアラルキルエポキシ樹脂(エポキシ当量280、日本化薬製NC−3000)を30重量部、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量165 JER製エピコート806)を20重量部、ノボラックフェノール樹脂(水酸基当量100 住友ベークライト製PR−53647)を11.4重量部と反応性エステル基を持つ樹脂(活性エステル当量が220 エピクロンEXB−9451 大日本インキ工業製)を25.1重量部配合し、さらにリン酸エステルアミド(四国化成製 SP−703)が重量部8.5重量部、さらにはカルボン酸変性NBRを5重量部およびシランカップリング剤0.5重量部をMEK及びブチルセロソルブとの混合溶剤に樹脂固形分が50%となるように溶解した。これを実施例1と同様にして、フレキシブルプリント回路板用の銅張積層板とカバーレイフィルムを得て、評価用のフレキシブルプリント回路板を作製した。
エポキシ基1当量に硬化剤として水酸基0.5当量、反応性エステル基0.5当量となるように樹脂組成分としてエポキシ樹脂としてビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量925 JER製エピコート1004)を25重量部、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(エポキシ当量165 JER製エピコート806)を30重量部、ノボラックフェノール樹脂(水酸基当量100 住友ベークライト製PR−53647)を10.4重量部と反応性エステル基を持つ樹脂(活性エステル当量が220 エピクロンEXB−9451 大日本インキ工業製)を23重量部配合し、さらにリン酸エステルアミド(四国化成製 SP−703)が11.6重量部、およびシランカップリング剤0.5重量部をMEK及びブチルセロソルブとの混合溶剤に樹脂固形分が50%となるように溶解した。これを実施例1と同様にして、フレキシブルプリント回路板用の銅張積層板とカバーレイフィルムを得て、評価用のフレキシブルプリント回路板を作製した。
実施例1の硬化剤をエポキシ基との当量比が1:1となるようにノボラックフェノール樹脂(水酸基当量100 住友ベークライト製PR−53647)のみで硬化した以外は実施例1と同様にしてフレキシブルプリント回路板用の銅張積層板とカバーレイフィルムを得て、評価用のフレキシブルプリント回路板を作製した。
実施例1の硬化剤をエポキシ基との当量比が1:1となるように反応性エステル基を持つ樹脂(活性エステル当量が220 エピクロンEXB−9451 大日本インキ工業製)のみで硬化した以外は実施例1と同様にしてフレキシブルプリント回路板用の銅張積層板とカバーレイフィルムを得て、評価用のフレキシブルプリント回路板を作製した。
積層する前にカバーレイフィルムをビクにより打ち抜き、その端面を観察し、粉落ちがなかったものを○、粉落ちが発生したものを×とした。
*成形性
測定用端子を露出させる為に打ち抜いたカバーレイフィルム端部からの最大染み出し量が0.2mm以下で且つ回路間などの埋め込み不良によるボイドが無いかを観察しボイドの無かったものを○とした。
*吸湿半田耐熱性
JIS規格C5016−10.3に順ずる。フクレ、剥がれのなかったものを○とした。
*密着力
JIS規格C5016−8.1に順ずる。密着力が1.0N/mm以上を◎、0.6N/mm以上1.0N/mm未満を○、0.4N/mm以上0.6N/mm未満を△、0.4N/mm未満を×とした。
*電気絶縁性
回路幅及び回路間幅をそれぞれ40μmとした櫛型パターンを用い、初期状態および65℃90%50V1000時間処理後の絶縁抵抗値を測定した。初期値、処理後共に絶縁抵抗値が1010以上あったものを○とした。
*屈曲性
IPC法に準じる。R=2mm、1000rpm、ストローク15mmで屈曲回数が1千万回以上のものを◎、500万回以上1千万回未満のものを○、10万回以上500万回未満のものを△、10万回に満たなかったものを×とした。
*耐折性
幅1cmに回路幅及び回路間幅をそれぞれ100μmとした両面板を回路に対して直交方向に180°折り曲げては開き、再度同じ部位を折り曲げては開く。これを繰返し行い、導通抵抗値の変化率が初期値に比べ1%未満を◎、1%以上5%未満を○、5%以上10%未満を△、10%以上を×とした。
*難燃性
UL法に基づき評価した。V−0もしくはVTM−0を◎、V−1もしくはVTM−1を○、それ以下を×とした。
Claims (5)
- フレキシブルプリント回路板に用いる樹脂組成物であって、
ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂と、
ノボラックフェノール樹脂と、
コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、ピロメリット酸から選ばれる少なくとも一つの多価芳香族カルボン酸と、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェノールフタリンから選ばれる少なくとも一つの多価フェノール類からなる反応性エステル化合物と、
リン酸エステルアミドと、
エラストマーとしてカルボン酸変性NBRとを含有し、
前記ノボラックフェノール樹脂の水酸基当量と、前記反応性エステル化合物のエステル基当量が、全エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対してそれぞれ(0.3:0.7)〜(0.7:0.3)当量であることを特徴とする樹脂組成物。 - 樹脂組成物全体に対する前記ビフェニルアラルキルエポキシ樹脂の含有量が20重量%以上、50重量%以下である請求項1に記載の樹脂組成物。
- 樹脂組成物全体に対する前記リン酸エステルアミドの含有量が10重量%以上、20重量%以下である請求項1または2に記載の樹脂組成物。
- 請求項1ないし3のいずれかに記載の樹脂組成物を樹脂フィルムに塗工し乾燥して得られるカバーレイフィルム。
- 請求項1ないし3のいずれかに記載の樹脂組成物を樹脂フィルムに塗工し、金属箔と積層接着することにより得られるフレキシブルプリント回路板用の金属張積層板。
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