JP4657674B2 - テレフタル酸の製造方法 - Google Patents
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Description
し続いて晶析し不純物を取り除いた後、固液分離することにより製造される。このとき溶媒として使用される水は、多くの不純物を含んでいるため排水として捨てられ大きな排水処理装置を必要としている。
また、テレフタル酸を晶析させる手段として、減圧により水をフラッシュさせ降温させる手段をとることができる。この工程において発生する蒸発水中には、固液分離後の排水に含まれるような高沸点不純物がないため、凝縮させた水を晶析槽に戻さず抜き出し、再び直接粗テレフタル酸を精製するための水として使用することが考えられる。しかし、蒸発水中には大量のパラトルイル酸が含まれているため、この方法では最終製品中のパラトルイル酸濃度が高くなる。従って、予め粗テレフタル酸中の4-カルボキシベンズアルデヒド濃度を低下させることにより、最終製品である高純度テレフタル酸中のパラトルイル酸濃度を維持する必要があり、粗テレフタル酸の製造コストが高くなるという問題が発生する。
また本発明は、パラキシレンと接触させた後分離した凝縮水を気体状物質でバブリング
する方法を提供する。気体状の物質としては、窒素や水蒸気が好ましい。
気で酸化し粗テレフタル酸を製造する。この粗テレフタル酸中の主要な不純物は、酸化中間体である4-カルボキシベンズアルデヒド500から5000重量ppmと、パラトル
イル酸100から1000重量ppmである。その他の不純物としては、安息香酸、ヒド
ロキシルメチル安息香酸、イソフタル酸等と、これらが種々の形で結合した高沸点不純物や分解した低沸点不純物がある。
が多くなると蒸発させなかった母液中の不純物濃度が高くなり、製品高純度テレフタル酸中の不純物濃度が高なり好ましくない。よって、水の30から70重量%、好ましくは3
5から60重量%が蒸発するように、減圧を調整する。蒸発による気化熱により温度を100から175℃まで低下させ、テレフタル酸結晶を析出させる。パラトルイル酸の5から50重量%が蒸発水側に行くが、その他の殆どの不純物は母液中に残る。また、微量に存在する低沸点不純物が蒸発水側に行くと考えられるが、これらは蒸発水を温度70℃以上、好ましくは80から100℃で凝縮すれば取り除くことができる。低沸点不純物を取り除くためには、凝縮温度が高い方が望ましいが、後述する抽出とバブリング操作を大気圧下で行えば安価な装置で実施できるため、100℃が好ましい温度の上限となる。
凝縮水とパラキシレンとを接触させる温度は、通常40から200℃、好ましくは60から150℃、更に好ましくは80から100℃である。
問題を避けるため大型の一搭とせず多搭化し並列処理した方が良くなる。従って、大型テレフタル酸プラントで50t/hr以上の凝縮水量となる場合は、攪拌機と静置分離器を
組合せたミキサー・セトラー型を直列に接続し、多段抽出とするのが好ましい。攪拌機の翼先端速度は0.25m/秒以上、好ましくは0.5から5m/秒である。高速で攪拌する方が抽出の効率が高くなり装置が小型化でき好ましいが、攪拌速度が早いとパラキシレンが微粒子化し2層に分離する静置時間が長くなるため、5m/秒以下とするのが良い。攪拌機の翼先端速度が0.5から5m/秒の場合の静置時間は、向流多段抽出の中間段では1から30分、好ましくは2から5分、向流多段抽出の両端末段では2から60分、好ましくは5から15分である。
り好ましくは1.0から2.0重量部である。水蒸気量は多い方がパラキシレンの除去率
を良くできるが、少量残存しても製品高純度テレフタル酸の品質に影響を与えず、混入したパラキシレンの95%以上が晶析槽で蒸発し、抽出装置に戻ってくるため凝縮水100重量部に対して水蒸気量は0.5重量部以上あれば良い。また、凝縮水100重量部に対して水蒸気量1.0重量部以上で、パラキシレンの臭気がなくなるため特殊なベント臭気
対策が不必要となり、より好ましい。
0kg/hr以下とすることにより飛沫同伴するテレフタル酸量を下げると同時に、コア
レッサーにかける前の温度を70℃以上、好ましくは90℃から100℃としテレフタル酸が析出しないようにする必要がある。
せた。水の合計量は、粗テレフタル酸1.0重量部に対して、3.0重量部である。溶解した後、水素添加工程9で粗テレフタル酸中の4-カルボキシベンズアルデヒドをパラト
ルイル酸に還元し、晶析工程10でテレフタル酸を析出させた。このとき、最終の晶析槽の圧力を0.5MPa-Gとし、水の50重量%を蒸発させた。析出したテレフタル酸を
固液分離工程11で分離し、乾燥工程12で乾燥したのち製品の高純度テレフタル酸2として取り出した。
抽出後のパラキシレンは、パラキシレン供給路18からの酸化原料用のパラキシレンと共に酸化工程7に送り、粗テレフタル酸を製造するための原料として使用した。
2 精製テレフタル酸
3 凝縮器
4 排水
5 晶析工程蒸発水
6 パラキシレン
7 酸化工程
8 加熱溶解工程
9 水素添加工程
10 晶析工程
11 固液分離工程
12 乾燥工程
13 抽出工程
13-1 第1段攪拌
13-2 第1段静置分離
13-3 第2段攪拌
13-4 第2段静置分離
14 水
15 精製水
16 ストリッピング搭
17 低沸点不純物
18 パラキシレン
Claims (7)
- パラキシレンを酸化して得られた粗テレフタル酸を、加圧下で昇温し水に溶解させた後、減圧によりテレフタル酸を晶析する工程において、蒸発する水を凝縮させた凝縮水をパラキシレンと接触させた後、分離した凝縮水を前記粗テレフタル酸を溶解する水として再使用するテレフタル酸の製造方法。
- 粗テレフタル酸を5MPa―G以上の圧力下で温度を225℃以上に昇温し水に溶解させた後、一段或いは多段で減圧することにより粗テレフタル酸を溶解するのに使用した水の30から70重量%を蒸発させることを特徴とする、請求項1に記載のテレフタル酸の製造方法。
- 蒸発水を凝縮する工程において、凝縮温度を70℃以上とすることを特徴とする、請求項1〜2のいずれか一項に記載のテレフタル酸の製造方法。
- 蒸発する水を凝縮させた凝縮水を、40から200℃でパラキシレンと接触させることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載のテレフタル酸の製造方法。
- パラキシレンと接触させた後分離した凝縮水を、気体状物質でバブリングすることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載のテレフタル酸の製造方法。
- バブリングする気体状の物質が、窒素或いは水蒸気であることを特徴とする、請求項5に記載のテレフタル酸の製造方法。
- 凝縮水と接触させた後分離したパラキシレンを酸化工程に供給し、粗テレフタル酸を製造するための原料とすることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載のテレフタル酸の製造方法。
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