JP4383459B2 - 汚染ガス除去空気調和装置 - Google Patents
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Description
上記した構成を、半導体を生産するクリーンルームにおける循環空気の処理に使用する場合には、冷却した循環水を噴霧することにより、循環空気を加湿することなく、入口空気と同じ絶対湿度を維持しながら循環空気の顕熱を冷却し、汚染ガスを除去できる。
この構成により、還気空気RAおよび外気OAは、顕熱冷却ユニット52の本体ケーシング75に流入し、冷却コイル70によって顕熱を奪われて後に、最上流ワッシャメディア77を通して水噴霧室76に流入する。
図4に示すように、排気処理装置58は、送風機91によって汚染ガスを含む排気EAを排出するものであり、冷却を行なう冷却コイル92と、水溶性汚染ガス除去および加湿を行なうエアワッシャ93と、水滴を除去するエリミネータ94と、加熱を行なう加熱コイル95と、活性炭フィルタや吸着剤含浸マット等からなるケミカルフィルタ96とを備え、循環空気を清浄空気として排出する。冷却コイル92と加熱コイル95との間に熱媒体としての冷・温水を循環させる循環配管90および循環ポンプ90aを設けている。
図6は、上述した過程における空気の状態変化を示すもので、図6の(1)、(2)、(3)、(4)の各点は、図4に示す(1)、(2)、(3)、(4)の各点のそれぞれに対応する。
RA 還気空気
EA 排気
51 外気処理空気調和機
52 顕熱冷却ユニット
55 クリーンルーム
58 排気処理装置
70 冷却コイル
71 エアワッシャ
72 加熱コイル
76 水噴霧室
76a 空気入口
76b 空気出口
77 最上流ワッシャメディア
78 最下流ワッシャメディア
79 第1段ノズル
81 貯水槽
82 循環水供給系
87 熱交換器
92 冷却コイル
93 エアワッシャ
95 加熱コイル
96 ケミカルフィルタ
98 水噴霧室
98a 空気入口
98b 空気出口
99 最上流ワッシャメディア
100 最下流ワッシャメディア
101 第1段ノズル
103 貯水槽
104 循環水供給系
Claims (2)
- 天井面にフィルタユニットを有し床面に孔あき床を有したクリーンルームの側部から天井上部に設けた給気流路と前記クリーンルームの床下に設けた還気流路との間で形成される循環路に配置される汚染ガス除去空気調和装置であって、
還気流路に連通する空気入口を側部に有し給気流路に連通する空気出口を天井部に有して空気入口から空気出口に向かって空気流が生じる水噴霧室を形成する本体ケーシングと、空気入口から還気空気を吸い込んで空気を循環する送風機と、空気入口側に配置する最上流ワッシャメディアと、最上流ワッシャメディアより下流側の水噴霧室内に位置し、空気流とは逆方向に向けて最上流ワッシャメディアに達する噴霧水を発生させる噴霧ノズルと、空気出口側に位置し、噴霧ノズルの上方に配置する最下流ワッシャメディアと、最下流ワッシャメディアに向けて噴霧水を発生させる補給水ノズルを設けて補給水を供給する補給水供給系と、水噴霧室から流下する噴霧水を受け止める貯水槽と、貯水槽内の循環水を噴霧ノズルに循環供給する循環水供給系と、最上流ワッシャメディアの上流側に配置する冷却コイルと、最下流ワッシャメディアの下流側に配置する加熱コイルと、循環水供給系の循環水を冷却する熱交換器とを備え、冷却コイルによる顕熱の除去と熱交換器によって冷却した循環水の噴霧とによって入口空気と同じ絶対湿度を維持しながら飽和湿度となった空気を、加熱コイルで加熱して適値の相対湿度に低下させて送気することを特徴とする汚染ガス除去空気調和装置。 - 請求項1に記載の汚染ガス除去空気調和装置と、クリーンルームの室外に配置される外気処理空気調和機とを備え、前記クリーンルームの床下の還気流路に外気処理空気調和機により処理された外気空気の取入口が設けられ、汚染ガス除去空気調和装置がクリーンルームの還気空気と外気空気とを合わせて取り入れて清浄化した空気をクリーンルームに給気することを特徴とする空気調和システム。
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