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JP4915564B2 - 湿式空気清浄装置 - Google Patents

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Description

本発明は、濡面式の湿式空気清浄装置に関する。
例えば半導体生産施設等では、生産過程で汚染ガス(有機ガス、酸性ガス、アルカリ性ガス、臭気ガス等)が発生するため、空気を清浄する空気清浄装置が工場内に設置される場合が多い。従来、この空気清浄装置として、汚染成分を含むガスを処理水(液体)に気液接触させ、ガス中の汚染成分を処理水に溶解させてガスを清浄(湿式処理)する湿式の空気清浄装置がある。
半導体生産施設等の精密環境施設では、処理水として、純水或いは純水に準じた水質の水が使用される場合が多い。また、汚染成分の処理水への溶解量は処理水の温度に依存するため、純水等を10℃程度に冷却することが好ましく、これによって、除去性能の効率を高めることができる。
従来、湿式空気清浄装置として、エアワッシャー式のものがある。このエアワッシャー式の湿式空気清浄装置は、処理対象のガスの流通経路に向けて処理水を噴霧させることで、処理対象のガスと処理水とを気液接触させ、ガス中の汚染成分を除去するものである。この方式の場合、処理水を循環利用する場合がある。つまり、噴霧した処理水を回収して再びガス流通経路に向けて噴霧する構成になっている場合がある。これによって、処理水の使用量を低減させることができる(例えば、特許文献1参照。)。
また、従来、湿式空気清浄装置として、濡面式(濡壁式)の湿式空気清浄装置がある。この濡面式の湿式空気清浄装置は、処理水で濡らした接触材(充填材、濾材)に処理対象のガスを通過させることで、処理対象のガスと処理水とを気液接触させ、ガス中の汚染成分を除去するものである。この方式の場合、処理対象のガス中のカビ胞子や浮遊細菌が接触材に捕捉され、この捕捉されたカビ胞子等によって接触材の表面にカビ等の微生物が繁殖するという問題がある。特に、処理水を循環利用すると、微生物の繁殖が誘引或いは促進される結果となる。したがって、濡面式の湿式空気清浄装置の場合、接触材に処理水が掛け流し式に供給する場合が多い。つまり、外部から新たに流入させた処理水を接触材に供給し、接触材から流出した処理水は循環利用せずに排出する構成になっている(例えば、特許文献2参照。)。
特開2004−223477号公報 特開2000−33221号公報
上記した従来の濡面式の湿式空気清浄装置では、仮に、掛け流し式の接触材の数を増やしたり処理水の使用量を増加したりすることで、除去率を向上させることができる。しかしながら、接触材の増加により、そのまま増加分だけイニシャルコストが高くなるだけではなく、装置の大型化によってもイニシャルコストが高くなる。さらに、接触材の交換時には、交換する接触材が多い分だけそのコストが高くなる。また、処理水の増加により、ランニングコストが高くなるという問題がある。特に、処理水として使用される冷却された純水等が使用されている場合にはその処理水Wの単価が高いため、ランニングコストが著しく高くなる。
また、上記した従来の濡面式の湿式空気清浄装置において、仮にエアワッシャー式の湿式空気清浄装置のように処理水を循環利用すると処理水の使用量を削減することができるが、接触材における微生物の繁殖が増大してメンテナンス作業(接触材の洗浄作業)が増加する。微生物が繁殖した接触材は、過酸化水素水やオゾン水、または洗浄剤等によって洗浄することができるが、装置を使用したまま洗浄剤等で接触材を洗浄すると、洗浄剤等の成分が装置から排気されるガスとともに外部に放出されることになるため、接触材の洗浄作業(メンテナンス作業)を行う時には当該装置の運転を一時的に停止しなければならない。つまり、仮に、従来の濡面式の湿式空気清浄装置において処理水を循環利用した場合、湿式空気清浄装置の一時停止の回数が増えるという問題がある。
本発明は、上記した従来の問題が考慮されたものであり、ランニングコストを上げずに空気清浄能力を向上させることができ、且つ、一時停止の回数を減らすことができる湿式空気清浄装置を提供することを目的としている。
本発明は、汚染成分を含む処理対象のガスを上向きに上昇させる流通過程で、処理水が浸透した接触材にガスを通過させることで、ガス中の汚染成分を処理水に溶解させてガスを清浄する湿式空気清浄装置において、前記接触材が、ガスの流通方向に所定の間隔を置いて上下に複数配設され、ガス流通方向の最下流側の接触材に対して、外部から新たに流入させた処理水を供給する給水手段と、前記最下流側の接触材よりも上流側にある他の接触材のうちの少なくとも1つから流出した処理水を前記他の接触材のうちの少なくとも1つに供給して処理水を循環させる循環手段と、前記最下流側の接触材の下方に配設されて該最下流側の接触材から滴下された処理水を下方側に通過させるエリミネータと、が備えられており、前記最下流側の接触材から流出した処理水が前記循環手段により循環する処理水に加えられることを特徴としている。
このような特徴により、処理対象のガスは、上流側の接触材において、循環する処理水で処理された後、最下流側の接触材において、外部から新たに流入させた処理水で処理される。このように、処理対象のガスが先に接触する上流側の接触材には、処理水を循環利用して循環式に処理水が供給されるため、高い液ガス比(処理水の量が多い状態)による湿式処理を上流側の接触材で経済的に実現することができる。また、上流側の接触材を通過したガスが接触する最下流側の接触材には、きれいな処理水が掛け流し式に供給されるため、上流側の接触材で除去し切れなかった汚染成分が最下流側の接触材で除去される。
さらに、処理対象のガス中に含まれるカビ胞子や浮遊細菌等が上流側の接触材に捕捉される。この接触材で微生物が繁殖しても、この接触材は常に濡れた状態にあって処理水で流されるため、カビ胞子等が気流に乗って次(下流側)の接触材に移行しにくい。また、装置の運転中に、微生物が繁殖した上流側の接触材を洗浄剤等で洗浄しても装置から排気される処理後のガス中に洗浄成分が含まれることがない。これは、洗浄剤の洗浄成分が上流側の接触材や液体表面から空気中に移行したりミストとして発生したりしても、下流側の接触材によって洗浄剤の洗浄成分が除去されるためである。
また、ガス流通方向の最下流側の接触材から流出した処理水が上流側の循環する処理水として利用されることになる。このように、上流側の接触材において循環する処理水に、最下流側の接触材から流出した比較的きれいな処理水が足されることになるため、循環する処理水の汚染を低減させることができる。これにより、上流側の接触材に微生物が発生し難くなる。
本発明に係る湿式空気清浄装置によれば、従来の濡面式の湿式空気清浄装置と比べて処理水の使用量を増加させずに高除去率が実現されるため、ランニングコストを上げずに空気清浄能力を向上させることができる。また、装置を一時停止させることなく、装置の運転中に上流側の接触材の洗浄作業を行うことができるため、装置停止の回数を減らすことができる。
以下、本発明に係る湿式空気清浄装置の参考例及び実施の形態について、図面に基いて説明する。
[参考例]
図1は本発明の参考例である湿式空気清浄装置1の模式図である。なお、図1ではガスGが右から左に流通し、図1における右側がガス流通方向の上流側であり、図1における左側がガス流通方向の下流側である。
図1に示す湿式空気清浄装置1は、横置き型の濡面式の湿式空気清浄装置であって、汚染成分を含む処理対象のガスGの流通過程で、処理水Wが浸透した接触材2,3にガスGを通過させることで、ガスG中の汚染成分を処理水Wに溶解させてガスGを清浄する装置である。
湿式空気清浄装置1は、中空の容器4と、整流板5と、処理水Wが浸透した接触材2,3と、エリミネータ6と、ガスGを送り出すファン7と、処理水Wを循環させる循環手段8と、新たな処理水Wを下流側の接触材3に供給する給水手段9とから構成されている。接触材2,3は、ポリエステル製の布、木綿の布、素焼の陶板等、水を保持し、内部から不純物を溶出しないものであれば、何でも良い。
容器4は、内部にガスGが流通する筒状の部材であり、横向きに配置されている。容器4の一端部には、処理対象のガスGを容器4内に流入させるための吸気口4aが設けられており、容器4の他端部には、湿式処理後のガスG’を排気するための排気口4bが設けられている。容器4の中には、整流板5、接触材2,3及びエリミネータ6が、上流側(図1における左側)から整流板5、上流側の接触材2、下流側の接触材3、エリミネータ6の順で横に並べて配設されている。また、容器4の底部には、処理水Wが溜められる容器4底を上流側と下流側とに区画する止水板4c…が立設されている。具体的には、整流板5の位置と、隣り合う接触材2,3の間の位置と、エリミネータ6より下流側の位置とに、止水板4c…がそれぞれ配設されている。
整流板5は、容器4内に流入したガスGの流れる方向を一方向に整えるための部材であり、公知の整流板を使用することができる。整流板5は、接触材2の上流側の位置に、ガス流通方向に垂直な向きで配置され、接触材2に対向配置されている。
接触材2,3は、容器4内を流通するガスGを通過させる部材であり、公知の接触材(充填材、濾材ともいう。)を使用することができる。接触材2,3は、容器4の内部にガスの流通方向に所定の間隔を置いて複数配設されており、具体的には、上流側の接触材2と下流側の接触材3とがガス流通方向に間隔をあけて横並びに配置されている。各接触材2,3は、処理水Wがそれぞれ浸透されて処理水Wで濡れた状態になっている。また、接触材2,3内の処理水Wは、接触材2,3の内部を流れ落ちて接触材2,3の下端部から流出され、流出した処理水Wは、容器4底に溜められる。つまり、上流側の接触材2は、上流側の止水板4c,4c間に配置されており、上流側の接触材2から流出した処理水Wが止水板4c…で区画された上流側の容器4底に溜まる構成になっている。一方、下流側の接触材3は、下流側の止水板4c,4c間に配置されており、下流側の接触材3から流出した処理水Wが止水板4c…で区画された下流側の容器4底に溜まる構成になっている。
エリミネータ6は、ミストを除去するための水滴除去部であり、公知のエリミネータを使用することができる。エリミネータ6は、接触材3の下流側に位置に、ガス流通方向に垂直な向きで配置され、接触材3に対向配置されている。また、エリミネータ6は、下流側の止水板4c,4c間に配置されており、エリミネータ6によって除去された水滴が止水板4c…で区画された下流側の容器4底に溜まる構成になっている。
循環手段8は、各接触材2,3からそれぞれ流出した処理水Wを上流側の接触材2に供給して処理水Wを循環させる手段であり、例えば、各接触材2,3からそれぞれ流出した処理水Wを回収して水槽10に流入させ、水槽10内に貯留された処理水Wを圧送ポンプ11によって噴霧ノズル12に送り、噴霧ノズル12から上流側の接触材2に向けて処理水Wを噴霧するシステムになっている。具体的には、循環手段8には、上記した水槽10と圧送ポンプ11と噴霧ノズル12とのほかに、上流側の容器4底と水槽10とを連通させて上流側の容器4底に溜まった処理水Wを水槽10に送る上流側の連通管13と、下流側の容器4底と水槽10とを連通させて下流側の容器4底に溜まった処理水Wを水槽10に送る下流側の連通管14と、水槽10と圧送ポンプ11とを接続する第1の接続管15と、圧送ポンプ11と噴霧ノズル12とを接続する第2の接続管16と、水槽10内の処理水Wを外部に排水する排水管17とが備えられている。
給水手段9は、外部から新たに流入させた処理水Wを下流側の接触材3に供給する手段であり、例えば、外部から流入させた新たな処理水Wを圧送ポンプ18によって噴霧ノズル19に送り、噴霧ノズル19から下流側の接触材3に向けて処理水Wを噴霧するシステムになっている。具体的には、給水手段9には、上記した圧送ポンプ18及び噴霧ノズル19の他に、処理水Wの図示せぬ供給源と圧送ポンプ18とを接続する第1の接続管20と、圧送ポンプ18と噴霧ノズル19とを接続する第2の接続管21とが備えられている。
なお、上記した循環手段8は、上流側の接触材2に多量の処理水Wを供給できるシステムになっており、上流側の接触材2は液ガス比が高くなっている。具体的には、循環手段8に備えられた噴霧ノズル12,12の数(図1に示す例では2つ)は、給水手段9に備えられた噴霧ノズル19の数(図1に示す例では1つ)よりも多く、循環手段8による上流側の接触材2への処理水Wの供給量は、給水手段9による下流側の接触材3への処理水Wの供給量よりも多くなっている。
また、ファン7は、ガスGを吸引して送り出す公知の送風機である。このファン7は、容器4の吸気口4aに取り付けられており、このファン7によって、汚染成分を有するガスGは、吸気口4aから容器4内に送り込まれ、容器4内を流通して容器4内で湿式処理された後、排気口4bから排出される。なお、排気口4bから送り出された浄化後のガスG’は、屋外に排出されたり、他の処理装置や生産エリアに供給されたり、元の場所に戻されたりする。
次に、上記した構成からなる湿式空気清浄装置1の使用方法について説明する。
まず、給水手段9により、外部から純水等からなる新たな処理水Wを下流側の接触材3に供給し、下流側の接触材3に処理水Wを浸透させる。具体的には、新たな処理水Wが、第1の接続管20を通って圧送ポンプ18に送られる。そして、圧送ポンプ18により、新たな処理水Wが第2の接続管21を通って噴霧ノズル19に圧送されて当該噴霧ノズル19から下流側の接触材3に向けて噴霧される。噴霧ノズル19から噴霧された処理水Wは下流側の接触材3に浸透し、当該接触材3は処理水Wで濡れた状態となる。下流側の接触材3に浸透した処理水Wは、当該接触材3の下部から流出して下流側の容器4底に溜まる。この容器4底に溜まった処理水Wは、連通管14を通って水槽10に流入し、循環手段8により循環する処理水Wに加えられる。
また、循環手段8により、各接触材2,3から流出した処理水Wを循環利用して上流側の接触材2に供給し、上流側の接触材2に処理水Wを浸透させる。具体的には、水槽10内に貯留された処理水Wが第1の接続管15を通って圧送ポンプ11に送られる。そして、圧送ポンプ11により、処理水Wが第2の接続管16を通って噴霧ノズル12に圧送されて当該噴霧ノズル12から上流側の接触材2に向けて噴霧される。噴霧ノズル12から噴霧された処理水Wは上流側の接触材2に浸透し、当該接触材2は処理水Wで濡れた状態となる。上流側の接触材2に浸透した処理水Wは、当該接触材2の下部から流出して上流側の容器4底に溜まる。この容器4底に溜まった処理水Wは、連通管13を通って水槽10に流入する。また、水槽10内の処理水Wの一部は、排水管17から適宜排水される。
次に、処理対象のガスGを流通させて、接触材2,3に当該ガスGを通過させることで、ガスG中の汚染成分を除去して汚染されたガスGを清浄する。具体的には、ファン7を稼動させることで、汚染されたガスGが吸気口4aから容器4内に送り込まれる。吸気口4aから容器4内に流入したガスGは、整流板5を通過して上流側の接触材2に流れ込む。そして、このガスGが上流側の接触材2を通過する際、通過するガスGが当該接触材2に浸透した処理水Wに気液接触し、ガスG中の汚染成分の大部分が処理水Wに溶解される。続いて、上流側の接触材2を通過したガスGは、下流側の接触材3に流れ込む。そして、このガスGが下流側の接触材3を通過する際、通過するガスGが当該接触材3に浸透した新しい処理水Wに気液接触し、ガスG中に残留した汚染成分が処理水Wに溶解される。その後、下流側の接触材3を通過してクリーンになったガスG’は、エリミネータ6を通過してミスト除去された後、排気口4bから湿式空気清浄装置1外に排気される。
また、上流側の接触材2には処理対象のガスGが先に接触するため、処理対象のガスG中に含まれるカビ胞子や浮遊細菌等が上流側の接触材2に捕捉される。このため、上流側の接触材2には、カビや微生物等が繁殖する場合がある。特に、上流側の接触材2には、循環している処理水Wを供給しているため、当該接触材2に微生物等の繁殖が促進される。このように上流側の接触材2に微生物等が繁殖した場合、当該接触材2を過酸化水素水、オゾン水やその他の洗浄剤等(以下、洗浄剤と記す。)で洗浄して繁殖した微生物等を除去することが望ましい。具体的には、水槽10の中に洗浄剤を適量添加するなどして、循環している処理水Wの中に洗浄剤を添加し、その後、循環手段8を上記した通常運転で稼動させて洗浄剤が添加された処理水Wを循環させる。これによって、洗浄剤が添加された処理水Wが、微生物等が繁殖した上流側の接触材2に供給され、当該接触材2に繁殖した微生物等が洗浄剤の洗浄力によって洗浄・除去される。
上記した構成からなる湿式空気清浄装置1によれば、接触材2,3が、ガスGの流通方向に所定の間隔を置いて2つ配設されており、ガス流通方向の最下流側の接触材3に対して、外部から新たに流入させた処理水Wを供給する給水手段9と、最下流側の接触材3よりも上流側にある他の接触材2から流出した処理水Wを当該接触材2に供給して処理水Wを循環させる循環手段8とが備えられた構成からなることにより、処理対象のガスGは、上流側の接触材2において、循環する処理水Wで処理された後、最下流側の接触材3において、外部から新たに流入させた処理水Wで処理される。このように、処理対象のガスGが先に接触する上流側の接触材2には、処理水Wを循環利用して循環式に処理水Wが供給される。このため、高い液ガス比(処理水の量が多い状態)による湿式処理を上流側の接触材2で経済的に実現することができ、また、高い液ガス比で湿式処理されることで、ガスG中の汚染成分が効率良く除去される。また、上流側の接触材2を通過したガスGが接触する最下流側の接触材3には、きれいな処理水Wが掛け流し式に供給される。このため、上流側の接触材2で除去し切れなかったガスG中の汚染成分が最下流側の接触材3で除去される。これによって、従来の濡面式の湿式空気清浄装置と比べて処理水Wの使用量を増加させずに高除去率を実現することができ、湿式空気清浄装置1のランニングコストを上げずに空気清浄能力を向上させることができる。
また、上記した構成からなる湿式空気清浄装置1によれば、上流側の接触材2で微生物が繁殖しても、この接触材2が常に濡れた状態にあって処理水Wで流されるため、カビ胞子等が気流(接触材2を通過するガスG)に乗って下流側の接触材3に移行しにくい。また、湿式空気清浄装置1の運転中に、微生物等を洗浄・除去する洗浄剤等を循環する処理水Wに添加しても、湿式空気清浄装置1から排気されるG’に洗浄剤の洗浄成分が含まれない。これは、例えば、洗浄剤の洗浄成分が上流側の接触材2や液体表面から空気中に移行したりミストとして発生したりしても、下流側の接触材3によって洗浄剤の洗浄成分が除去されるためである。したがって、上流側の接触材2の洗浄作業を行う際に、湿式空気清浄装置1の運転を一時停止させる必要がなく、湿式空気清浄装置1の一時停止の回数を減らすことができ、湿式空気清浄装置1を長期間、連続運転させることができる。
また、上記した構成からなる湿式空気清浄装置1によれば、最下流側の接触材3から流出した処理水Wが、循環手段8により循環する処理水Wに加えられるとともに、循環する処理水Wの一部が排出されるため、ガス流通方向の最下流側の接触材3から流出した処理水Wが上流側の循環する処理水Wとして利用されることになる。このように、上流側の接触材2において循環する処理水Wに、最下流側の接触材3から流出した比較的きれいな処理水Wが足されることになるため、循環手段8により循環する処理水Wに新たな処理水Wを加えることなく、循環する処理水Wの汚染を低減させることができる。これにより、上流側の接触材Wに微生物が発生し難くなり、上流側の接触材2の洗浄作業を不要、或いはその頻度(回数)を減らすことができる。
本発明の実施の形態]
図2は本発明実施の形態に係る湿式空気清浄装置101の模式図である。なお、図2ではガスGが下から上に流通し、図2における下側がガス流通方向の上流側であり、図2における上側がガス流通方向の下流側である。また、以下に説明する本発明の実施の形態では、上記した参考例と同様の構成については同一の符号を付すことでその説明を省略する。
図2に示す湿式空気清浄装置101は、縦置き型の濡面式の湿式空気清浄装置であり、中空の容器104と、整流板5と、処理水Wが浸透した接触材2,3と、第1、第2のエリミネータ6,106と、ガスGを送り出すファン7と、処理水Wを循環させる循環手段108と、新たな処理水Wを下流側の接触材3に供給する給水手段9とから構成されている。
容器104は、内部にガスGが流通する筒状の部材であり、縦向きに配置されている。容器104の下部には、処理対象のガスGを容器104内に流入させるための吸気口104aが設けられており、容器104の上部には、湿式処理後のガスG’を排気するための排気口104bが設けられている。また、容器104の中には、整流板5、接触材2,3及び第1、第2のエリミネータ6,106が、上流側(図2における下側)から整流板5、上流側の接触材2、第2のエリミネータ106、下流側の接触材3、第1のエリミネータ6の順で縦に並べて配設されている。また、容器104の底部(下端部)は、処理水Wが溜められる水槽部104cとなっており、吸気口104aは水槽部104cの上方に設けられている。
接触材2,3は、上記した参考例と同様の部材からなるものであり、具体的には、上流側の接触材2と下流側の接触材3とがガス流通方向に間隔をあけて上下に配置されている。
第1のエリミネータ6は、上記した参考例におけるエリミネータ6と同様の水滴除去部材であり、接触材3の下流側に位置に配設され、接触材3に対向配置されている。
本実施の形態では、上流側の接触材2へ処理水Wを供給する後述する噴射ノズル112が上流側の接触材2と下流側の接触材3との間にあるため、噴射ノズル112から噴射された霧状の処理水WがガスGの気流に乗って下流側の接触材3に捕集される可能性がある。そこで、本実施の形態では、噴射ノズル112と下流側の接触材3との間に第2のエリミネータ106が配設されている。つまり、第2のエリミネータ106は、第1のエリミネータ6の反対側に配設されて接触材3に対向配置されている。なお、この第2のエリミネータ106は、噴射ノズル112から噴霧された処理水Wの飛沫が下流側の接触材3の方へ行かないように遮断するが、上方から滴下された処理水Wを下方側に通過させることができるものである。したがって、上方に配置された下流側の接触材3から滴下された処理水Wは、第2のエリミネータ106を通過し、下方に配置された上流側の接触材2へ滴下される。
循環手段108は、各接触材2,3からそれぞれ流出した処理水Wを上流側の接触材2に供給して処理水Wを循環させる手段であり、例えば、各接触材2,3からそれぞれ流出して水槽部104cに落ちて溜まった処理水Wを圧送ポンプ111によって噴霧ノズル112に送り、噴霧ノズル112から上流側の接触材2に向けて処理水Wを噴霧するシステムになっている。具体的には、循環手段108には、上記した圧送ポンプ111と噴霧ノズル112とのほかに、水槽部104cと圧送ポンプ111とを接続する第1の接続管115と、圧送ポンプ111と噴霧ノズル112とを接続する第2の接続管116と、水槽部104c内の処理水Wを外部に排水する排水管117とが備えられている。
次に、上記した構成からなる湿式空気清浄装置101の使用方法について説明する。
まず、給水手段9により、外部から純水等からなる新たな処理水Wを下流側の接触材3に供給し、下流側の接触材3に処理水Wを浸透させる。具体的には、上記した参考例と同様にして、噴霧ノズル19から新しい処理水Wを噴霧して下流側の接触材3に処理水Wを浸透させる。
また、下流側の接触材3から上流側の接触材2に処理水Wが直接滴下されることで、下流側の接触材3から流出した処理水Wを上流側の接触材2に供給するとともに、循環手段108により上流側の接触材2から流出した処理水Wを循環利用して上流側の接触材2に供給することで、上流側の接触材2に処理水Wを浸透させる。具体的には、下流側の接触材3に浸透した処理水Wは、当該接触材3の下部から流出して上流側の接触材2の上に落ち、循環手段108により循環する処理水Wに加えられる。一方、水槽部104c内に貯留された処理水Wが第1の接続管115を通って圧送ポンプ111に送られる。そして、圧送ポンプ111により、処理水Wが第2の接続管116を通って噴霧ノズル112に圧送されて当該噴霧ノズル112から上流側の接触材2に向けて噴霧される。このように、下流側の接触材3から処理水Wが直接滴下されるとともに、噴霧ノズル112から処理水Wが噴霧されることで、上流側の接触材2に処理水Wが浸透し、当該接触材2は処理水Wで濡れた状態となる。上流側の接触材2に浸透した処理水Wは、当該接触材2の下部から流れ落ちて容器104の水槽部104c内に溜まる。また、水槽部104c内の処理水Wの一部は、排水管117から適宜排水される。
次に、処理対象のガスGを流通させて、接触材2,3に当該ガスGを通過させることで、ガスG中の汚染成分を除去して汚染されたガスGを清浄する。具体的には、ファン7を稼動させることで、汚染されたガスGが吸気口104aから容器104内に送り込まれる。吸気口104aから容器104内に流入したガスGは、整流板5を通過して上流側の接触材2に流れ込む。そして、このガスGが上流側の接触材2を通過する際、通過するガスGが当該接触材2に浸透した処理水Wに気液接触し、ガスG中の汚染成分の大部分が処理水Wに溶解される。続いて、上流側の接触材2を通過したガスGは、第2のエリミネータ106を通過して下流側の接触材3に流れ込む。そして、このガスGが下流側の接触材3を通過する際、通過するガスGが当該接触材3に浸透した新しい処理水Wに気液接触し、ガスG中に残留した汚染成分が処理水Wに溶解される。その後、下流側の接触材3を通過してクリーンになったガスG’は、第1のエリミネータ6を通過してミスト除去された後、排気口104bから湿式空気清浄装置1外に排気される。
上記した構成からなる湿式空気清浄装置101によれば、上記した参考例と同様の作用効果を奏することができる。つまり、処理水Wの使用量を増加させずに高除去率を実現することができ、湿式空気清浄装置101のランニングコストを上げずに空気清浄能力を向上させることができる。また、上流側の接触材2の洗浄作業を行う際に、湿式空気清浄装置101の運転を一時停止させる必要がなく、湿式空気清浄装置101の一時停止の回数を減らすことができ、湿式空気清浄装置101を長期間、連続運転させることができる。
以上、本発明に係る湿式空気清浄装置の実施の形態について説明したが、本発明は上記した実施の形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、本発明は、複数の接触材が上下に配置されていれば、処理対象のガスを、くの字状、コの字状、U字状等に屈曲させて流通させる湿式空気清浄装置であってもよい。
上記した参考例及び実施の形態では、最下流側の接触材3から流出した処理水Wを上流側で循環手段8,108によって循環している処理水Wに加えており、循環している処理水Wの一部を排出しているが本発明は、循環手段によって循環している処理水に外部から新たな処理水を加えるとともに、循環している処理水の一部を排出する構成であってもよい。さらに、上記した参考例及び実施の形態では、上述したように循環手段8,108によって循環している処理水Wの一部が入れ替えられる構成になっているが、本発明は、循環手段によって循環している処理水に他から処理水を加えたり循環する処理水の一部を排出したりせず、同じの処理水を入れ替えることなく循環させる構成であってもよい。
また、上記した参考例では、循環手段8による上流側の接触材2への処理水Wの供給量を給水手段9による下流側の接触材3への処理水Wの供給量よりも多くするべく、循環手段8に備えられた上流側の噴霧ノズル12の数を給水手段9に備えられた下流側の噴霧ノズル19の数よりも多くしているが、本発明は、上流側の噴霧ノズル12の数量が下流側の噴霧ノズル19の数量よりも多くなくても良い。例えば、上流側の噴射ノズル12のサイズを下流側の噴射ノズル19よりも大きくすることで、数量を増やすことなく、上流側の接触材2へ供給する処理水Wの量を下流側の接触材3へ供給する処理水Wの量よりも増やすことができる。
また、上記した参考例及び実施の形態では、ガスGを吸引して送り出すファン7が容器4,104の吸気口4a,104aに取り付けられ、容器4,104の中にガスGを押し込むような構成になっているが、本発明は、必ずしもファン7が装置の吸気側(ガスGの流れの上流側)に設けられている必要はない。例えば、ファン7が装置の排気側(ガスGの流れの下流側)に設けられていてもよく、具体的には、湿式処理後のガスG’を排気するための容器4,104の排気口4b,104bにファン7を取り付けて、容器4,104内のガスG’を吸引するようにしてもよい。
また、上記した参考例では、容器4の中に上流側の接触材2と下流側の接触材3とが横並びに配設されており、また実施の形態では、容器104の中に上流側の接触材2と下流側の接触材3とが上下に配設されているが、本発明は、接触材が複数配設されていればよく、3つ以上の接触材がガス流通方向に配設されていてもよい。また、3つ以上の接触材が配設された場合、上流側に配置された複数の接触材に対して循環式(循環手段8,108)で処理水を供給してもよく、また、下流側に配置された複数の接触材に対して掛け流し式(給水手段9)で処理水を供給してもよい。例えば、3つの接触材が並べられた構成の場合、上流側の2つの接触材に対して循環式で処理水を供給して下流側の1つの接触材に対して掛け流し式で新たな処理水を供給する構成にしてもよく、或いは、上流側の1つの接触材に対して循環式で処理水を供給して下流側の2つの接触材に対して掛け流し式で新たな処理水を供給する構成でもよい。
また、上記した参考例及び実施の形態では、処理水Wが噴霧ノズル12,19,112から噴霧され、霧状の処理水Wが接触材2,3に吹き付けられる構成になっているが、本発明は、接触材に吹き付けられる処理水が霧状以外であってもよく、例えば、ノズルから処理水が滴下され、大きな液滴で接触材に処理水が供給される構成であってもよい。
また、上記した参考例では、水槽10、圧送ポンプ11、噴霧ノズル12、連通管13,14、第1,第2の接続管15,16及び排水管17からなる循環手段8によって処理水Wを循環させ、循環する処理水Wを上流側の接触材2に供給しており、また実施の形態では、圧送ポンプ111、噴霧ノズル112、第1,第2の接続管115,116及び排水管117からなる循環手段108によって処理水Wを循環させ、循環する処理水Wを上流側の接触材2に供給しているが、本発明は、上記した構成からなる循環手段8,108以外の循環手段によって処理水を循環させて、循環する処理水を上流側の接触材に供給してもよく、循環手段の構成は適宜変更可能である。
また、上記した参考例及び実施の形態では、複数の接触材2,3が容器4,104の中に配設されているが、本発明は、接触材が容器の中に配設されていなくてもよく、例えば、ガスが流通するダクト内に接触材が配設されていてもよい。つまり、本発明に係る湿式空気清浄装置は、ガスの流通過程でガスが接触材を通過する構成になっていればよい。
また、上記した参考例及び実施の形態では、圧送ポンプ18,19及び第1,第2の接続管20,21からなる給水手段9によって外部から新たな処理水Wを流入させて下流側の接触材3に供給しているが、本発明は、上記した構成からなる給水手段9以外の給水手段によって下流側の接触材に新しい処理水を供給してもよく、給水手段の構成は適宜変更可能である。
また、上記した参考例及び実施の形態では、湿式空気清浄装置1,101には、整流板5、エリミネータ6(第1のエリミネータ6)およびファン7が備えられているが、本発明は、整流板が備えられていない湿式空気清浄装置であってもよく、或いは、最下流側の接触材の下流側にエリミネータが配設されていない湿式空気清浄装置であってもよく、或いは、ファンが備えられていない湿式空気清浄装置であってもよい。
その他、本発明の主旨を逸脱しない範囲で、上記した実施の形態における構成要素を周知の構成要素に置き換えることは適宜可能であり、また、上記した変形例を適宜組み合わせてもよい。
本発明の参考例を説明するための湿式空気清浄装置を表す模式図である。 本発明実施の形態を説明するための湿式空気清浄装置を表す模式図である。
符号の説明
1,101 湿式空気清浄装置
2,3 接触材
8,108 循環手段
9 給水手段
G,G’ ガス
W 処理水

Claims (1)

  1. 汚染成分を含む処理対象のガスを上向きに上昇させる流通過程で、処理水が浸透した接触材にガスを通過させることで、ガス中の汚染成分を処理水に溶解させてガスを清浄する湿式空気清浄装置において、
    前記接触材が、ガスの流通方向に所定の間隔を置いて上下に複数配設され、
    ガス流通方向の最下流側の接触材に対して、外部から新たに流入させた処理水を供給する給水手段と、前記最下流側の接触材よりも上流側にある他の接触材のうちの少なくとも1つから流出した処理水を前記他の接触材のうちの少なくとも1つに供給して処理水を循環させる循環手段と、前記最下流側の接触材の下方に配設されて該最下流側の接触材から滴下された処理水を下方側に通過させるエリミネータと、が備えられており、
    前記最下流側の接触材から流出した処理水が前記循環手段により循環する処理水に加えられることを特徴とする湿式空気清浄装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011072718A (ja) * 2009-10-01 2011-04-14 Sefutekku:Kk 空気浄化装置
JP5787136B2 (ja) * 2011-04-07 2015-09-30 清水建設株式会社 空気浄化装置
JP5747844B2 (ja) * 2012-03-07 2015-07-15 清水建設株式会社 充填材、充填材ユニット、及び空気浄化装置
JP6155706B2 (ja) * 2013-03-06 2017-07-05 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置
KR102208770B1 (ko) * 2020-07-16 2021-01-27 전명화 악취저감장치

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10118440A (ja) * 1996-10-24 1998-05-12 Ebara Corp メタノール含有ガスの処理方法
JP3928151B2 (ja) * 2001-11-06 2007-06-13 清水建設株式会社 熱交換用コイル、空調機及び空調機を用いた空調方法
JP4168163B2 (ja) * 2003-01-16 2008-10-22 株式会社テクノ菱和 ガス不純物の除去システム
JP4689179B2 (ja) * 2004-03-08 2011-05-25 株式会社テクノ菱和 空調機

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