Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

JP3461651B2 - 六方晶窒化ほう素粉末及びその用途 - Google Patents

六方晶窒化ほう素粉末及びその用途

Info

Publication number
JP3461651B2
JP3461651B2 JP02876896A JP2876896A JP3461651B2 JP 3461651 B2 JP3461651 B2 JP 3461651B2 JP 02876896 A JP02876896 A JP 02876896A JP 2876896 A JP2876896 A JP 2876896A JP 3461651 B2 JP3461651 B2 JP 3461651B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
boron nitride
particles
hbn
hexagonal boron
powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP02876896A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH09202663A (ja
Inventor
卓 川崎
幸雄 黒田
洋 西川
裕幸 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denka Co Ltd
Original Assignee
Denki Kagaku Kogyo KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Denki Kagaku Kogyo KK filed Critical Denki Kagaku Kogyo KK
Priority to JP02876896A priority Critical patent/JP3461651B2/ja
Priority to US08/782,296 priority patent/US5854155A/en
Priority to GB9700835A priority patent/GB2309457B/en
Priority to DE19701771A priority patent/DE19701771B4/de
Priority to CN97102347.6A priority patent/CN1237026C/zh
Publication of JPH09202663A publication Critical patent/JPH09202663A/ja
Priority to US09/035,991 priority patent/US6096671A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3461651B2 publication Critical patent/JP3461651B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B21/00Nitrogen; Compounds thereof
    • C01B21/06Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
    • C01B21/064Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/515Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
    • C04B35/58Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
    • C04B35/583Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on boron nitride
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/26Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
    • C07D251/40Nitrogen atoms
    • C07D251/54Three nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/02Amorphous compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/70Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
    • C01P2002/74Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by peak-intensities or a ratio thereof only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/90Other crystal-structural characteristics not specified above
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/01Particle morphology depicted by an image
    • C01P2004/03Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/30Particle morphology extending in three dimensions
    • C01P2004/45Aggregated particles or particles with an intergrown morphology
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/50Agglomerated particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80Compositional purity

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、六方晶窒化ほう素
粉末及びその用途、すなわち該六方晶窒化ほう素粉末を
含む樹脂/又はゴム組成物、六方晶窒化ほう素焼結体製
造用粉末原料、該六方晶窒化ほう素焼結体製造用粉末原
料を焼結してなる六方晶窒化ほう素焼結体に関する。
【0002】
【従来の技術】六方晶窒化ほう素(以下、「hBN」と
いう)粒子は、黒鉛類似の層状構造を有し、その集合体
であるhBN粉末は熱伝導性、絶縁性、化学的安定性、
固体潤滑性、耐熱衝撃性などの特性に優れ、これらの特
性を活かして固体潤滑・離型剤、樹脂やゴムの充填材、
hBN焼結体製造用原料などとして使用されている。h
BN粉末は難焼結性であるため、その焼結体を製造する
には焼結助剤を加えホットプレス法や常圧焼結法で焼結
されるのが一般的である。hBN焼結体は数少ない易加
工性のセラミックスであることから、セラミックス焼結
用ルツボ、耐熱用治具、高温絶縁材などに用いられてい
る。
【0003】従来、hBN粉末の製造方法の一例として
は以下があるが、いずれも鱗片状の粒子形状となり、そ
れをそのまま樹脂やゴムの充填材あるいは焼結体用原料
として用いると粒子がある方向に揃いやすくなり(以
下、「配向」という)、得られた樹脂やゴム成形品又は
hBN焼結体の特性に異方性が生じやすくなる。 (1)ほう酸、酸化ほう素又はほう砂などのほう素と酸
素を含む化合物をリン酸カルシウムなどの充填材に担持
させた後アンモニア雰囲気下で焼成する方法。 (2)ほう素化合物とジシアンジアミド、メラミン又は
尿素などの窒素を含む化合物との混合物を焼成する方
法。 (3)ほう酸とメラミン及び水の混合物から、濾過、遠
心分離、乾燥などの方法により水を除去した後、これを
非酸化性ガス雰囲気下で焼成する方法。
【0004】たとえば、電子部品から発生した熱を効率
よく除去するために、電子部品と放熱フィンとの間に電
気絶縁性の熱伝導性シート(以下、「絶縁放熱シート」
という)が使用される。この絶縁放熱シートとしては、
シリコーンゴムにhBN粉末を分散含有させたものが用
いられており、更なる熱伝導性の向上のためにhBN粉
末の充填率を高くすることが行われているが、その場合
は柔軟性が失われたり、引っ張り強度などの機械的物性
が低下するといった問題があり、hBN粉末の高充填化
による高熱伝導率化には限界がある。
【0005】また、通常のhBN粒子は鱗片状を有して
おり、その面方向(a軸方向)のほうが厚み方向(c軸
方向)よりも熱伝導性が高い。このようなhBN粉末を
配合した絶縁放熱シートにおいては、hBN粒子のa軸
方向が絶縁放熱シートの厚み方向に対して垂直に配向し
やすくなるので、絶縁放熱シートの面方向に比べて厚み
方向の熱伝導性が劣っていた。
【0006】このような問題を解消するため、絶縁放熱
シートに充填しても配向しにくい、鱗片状以外の形状を
有するhBN粉末を用いる試みもなされてきた。このよ
うなhBN粉末としては、たとえば結晶が未発達なhB
Nの塊状体、噴霧乾燥などにより造粒されたhBN粉
末、あるいはhBN焼結体を粉砕して製造されたhBN
粉末などがある。
【0007】しかしながら、結晶が未発達なhBNの塊
状体は、純度、熱伝導性などの特性が鱗片状hBN粉末
よりも劣るため、絶縁放熱シートの厚み方向の熱伝導率
が向上しないだけでなく、耐湿信頼性が低下する。造粒
したhBN粉末は、ゴムと混練する際に崩れてしまいh
BN粒子のa軸方向が絶縁放熱シートの厚み方向に対し
て垂直に配向してしまう。また、hBN焼結体を粉砕し
て製造された粉末は、hBN焼結体製造過程におけるホ
ットプレスや予備成形時にhBN粒子が配向し、一次粒
子が配向した状態で集合した粒子の割合が多くなるた
め、従来よりも多少の改善効果があるが、やはりhBN
粒子のa軸方向が絶縁放熱シートの厚み方向に対して垂
直に配向してしまう。しかも、コスト高である。
【0008】次に、hBN焼結体について説明すると、
hBN焼結体の製造方法としては、低結晶性で相当量の
2 3 を含んだhBN粉末をホットプレスする方法
(特公昭49−37093号公報)があるが、この方法
ではhBN焼結体にB2 3 が残留するため、それを除
去するには更に減圧雰囲気下で加熱処理する必要があり
コスト高となる。高純度化処理のいらない焼結方法とし
ては常圧焼結法(特開平3−115109号公報、特開
平6−48839号公報)があるが、焼結時にhBNが
体積膨張を起こし焼結体密度が低下する。
【0009】そこで、高純度かつ高密度のhBN焼結体
を製造するには、充填性の高いhBN粉末を用いて常圧
焼結する方法(特開平7−315937号公報)が提案
されているが、この方法で使用されるhBN粉末は、特
公昭62−27002号公報、特開平7−41311号
公報に記載されているような鱗片状かつ粒子サイズの大
きな粗粉であるため、ホットプレスや予備成形時にhB
N粒子が配向しやすくなり、hBN焼結体の強度に大き
な異方性が生じる。そのため、機械加工を行って強度の
弱い方向(hBN粒子のc軸方向)と平行方向にある面
を仕上する際に、チッピングが発生する問題がある。ま
た、噴霧乾燥などにより造粒したhBN粉末は低密度で
あるためhBN焼結体製造用原料には適さない。
【0010】hBNの有する優れた特性をやや損なわせ
ても、強度を向上させたい場合には、hBN粉末に焼結
助剤を添加してホットプレスする方法(特公昭49−4
0124号公報)もあるが、ホットプレス法では製品形
状に制約があり、加工ロスも大きく、更には高強度な焼
結体であるので加工コストも高価なものとなる。
【0011】焼結助剤を用いたhBNの常圧焼結法(特
開平1−131065号公報)によれば、大型製品、複
雑形状品の製造が可能となるが、その反面焼結体密度が
低いものとなる。これを改善するため、還元雰囲気中で
焼結すること(特公平5−32349号公報、特公平7
−53614号公報)も提案されているが、雰囲気制御
に手間がかかる。
【0012】以上のことから、hBN焼結体において
は、高密度かつ高強度であり、しかも製品形状に近いh
BN焼結体を製造する技術の出現が待たれている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、異方
性の小さい樹脂又はゴム成形品を提供することである。
本発明の他の目的は、高純度、高密度かつ高強度のhB
N焼結体を提供することである。本発明の別の目的は、
高密度かつ高強度であって異方性が小さく、しかも製品
形状に近いhBN焼結体を提供することである。
【0014】本発明の目的は、ほう酸とメラミンの混合
物を水蒸気を含む雰囲気下で保持することによって形成
させた新規なほう酸メラミン(C3 6 6 ・2H3
3)粒子又はそれを含む混合物を製造し、それを結晶
化させ、鱗片状の一次粒子が集合したhBN粒子又はそ
れを含むhBN粉末を製造することによって達成するこ
とができる。
【0015】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、
下のとおりである。 (請求項1) 六方晶窒化ほう素粒子20〜100重量
%と、それ以外の窒化ほう素粒子80〜0重量%との混
合物からなり、粉末X線回折法による黒鉛化指数(G
I)が1.0〜2.5であり、(002)回折線の強度
I002 と(100)回折線の強度I100 との比(I002
/I100 )が6〜20であるものであって、上記六方晶
窒化ほう素粒子が、ほう酸メラミン粒子又はそれを含む
混合物を、非酸化性ガス雰囲気下、焼成して得られ、六
方晶窒化ほう素の鱗片状の一次粒子同士が結合剤を含有
することなく配向せずに集合してなるものであることを
特徴とする六方晶窒化ほう素粉末。 (請求項2) ほう酸メラミン粒子又はそれを含む混合
物が、ほう酸とメラミンの混合物を、温度(T)0〜2
00℃、相対湿度(Ψ)5%以上の水蒸気を含む雰囲気
下、保持時間(t)1〜100時間の範囲内で、しかも
(T−60)≧−20・log10(t/4)+(Ψ−
100)/20の関係式を満たす条件下で保持して
製造されたものであることを特徴とする請求項1記載の
六方晶窒化ほう素粉末。 (請求項3) 請求項2記載の方法で製造されたほう酸
メラミン粒子又はそれを含む混合物と、結晶化触媒と
を、ほう酸メラミンのモル数と結晶化触媒をB
換算したモル数との比(C66・2HBO/B
)が5〜100になるように混合し、それを非酸
化性ガス雰囲気下、温度1700〜2200℃で焼成
て得られたものであることを特徴とする請求項2記載の
六方晶窒化ほう素粉末。 (請求項4) 請求項2記載の方法で製造されたほう酸
メラミン粒子又はそれを含む混合物を非酸化性ガス雰囲
気下、温度500℃以上1700℃未満で仮焼して非晶
質窒化ほう素又は黒鉛化指数(GI)が2.5を越える
六方晶窒化ほう素を形成させた後、該窒化ほう素の窒素
(N)と結晶化触媒のB換算値とのモル比(N/
)が10〜300になるように結晶化触媒を混
合し、それを非酸化性ガス雰囲気下、温度1700〜2
200℃で焼成して得られたもので あることを特徴とす
る請求項2記載の六方晶窒化ほう素粉末。 (請求項5) 樹脂及び/又はゴムに請求項1記載の六
方晶窒化ほう素粉末を含有させてなることを特徴とする
組成物。(請求項6) 請求項1記載の六方晶窒化ほう素粉末を
含み、酸素含有量が0.5〜2.5重量%であることを
特徴とする六方晶窒化ほう素焼結体製造用粉末原料。(請求項7) 請求項1記載の六方晶窒化ほう素粉末
に、酸化ほう素、アルカリ土類金属の酸化物及びアルカ
リ土類金属のほう酸塩から選ばれた1種又は2種以上を
1〜20重量%含ませてなることを特徴とする常圧焼結
体製造用六方晶窒化ほう素粉末原料。(請求項8) 請求項6記載の六方晶窒化ほう素粉末を
焼結してなることを特徴とする六方晶窒化ほう素焼結
体。(請求項9) 請求項7記載の六方晶窒化ほう素粉末を
常圧焼結してなることを特徴とする六方晶窒化ほう素の
常圧焼結体。
【0016】以下、更に詳しく本発明について説明す
る。
【0017】本発明で使用されるほう酸メラミン粒子
(以下、「本発明のほう酸メラミン粒子」ともいう)
結晶構造図を図1(c)に、またその粒子を含む混合物
の二次電子像(SEM写真)を図2に、更に図2の模式
図を図3に示す。また、従来のほう酸メラミン粒子を含
む混合物のSEM写真を図4に、また図4の模式図を図
5に示す。なお、ほう酸及びメラミンの分子構造図をそ
れぞれ図1(a)及び図1(b)に示した。
【0018】上記図面の対比から明らかなように、本発
明のほう酸メラミン粒子は、従来のほう酸メラミン粒子
と比較してほう酸メラミンの結晶構造図は変わらない
が、ほう酸メラミンの針状結晶の一次粒子が集合してい
る点で相違している。
【0019】本発明のほう酸メラミン粒子の製造方法に
ついては後記する。
【0020】次に、本発明で使用されるhBN粒子(以
下、「本発明のhBN粒子」ともいう)について説明す
ると、本発明のhBN粒子は、そのhBN粒子を含むh
BN粉末のSEM写真を図6に示したように、結合剤を
含有することなくhBNの一次粒子好ましくは鱗片状の
一次粒子が配向せずに、たとえば松ぼっくり状外観を呈
して集合していることである。
【0021】従来のhBN粒子は、集合していない鱗片
状粒子であるか(図7にそのhBN粒子を含むhBN粉
末のSEM写真を示す)、結晶が未発達なhBN塊状体
であるか(図8にそのhBN粒子を含むhBN粉末のS
EM写真を示す)、造粒した粒子であるか(図9にその
hBN粒子を含むhBN粉末のSEM写真を示す)又は
hBN焼結体を粉砕して得られた粒子(図10にそのh
BN粒子を含むhBN粉末のSEM写真を示す)である
が、これらと本発明のhBN粒子とは以下の点で相違し
ている。
【0022】(i)集合していない鱗片状粒子にあって
は一次粒子が集合していない。 (ii)結晶が未発達なhBNの塊状体は、本発明のh
BN粒子よりも低結晶性である。 (iii)造粒したhBN粒子では鱗片状の一次粒子は
集合していない。 (iv)hBN焼結体を粉砕して得られたhBN粒子
は、鱗片状一次粒子の集合体であるが、一次粒子が配向
して集合するか、又は一次粒子が配向していない集合体
にあっては結合剤を用いて集合している。
【0023】従って、これらの粒子を含むhBN粉末を
用いて樹脂及び/又はゴム成形品ないしはhBN焼結体
を製造した場合には以下の問題がある。
【0024】すなわち、集合していない鱗片状粒子を含
むhBN粉末では、樹脂及び/又はゴム成形品中で配向
する。結晶が未発達なhBN塊状体を含むhBN粉末で
は、純度や熱伝導性が劣るため、樹脂及び/又はゴム成
形品の特性が劣化する。造粒したhBN粒子を含むhB
N粉末では、樹脂及び/又はゴムとの混練時に造粒が崩
れ配向する。しかも、低密度の粉末であるためそれを焼
結して得られたhBN焼結体の密度も小さくなる。更に
は、hBN焼結体を粉砕して得られた粒子を含むhBN
粉末では、hBN粒子自体が配向した状態で集合してい
るため樹脂及び/又はゴム成形品中でも配向する。ま
た、結合剤を使用しているので熱伝導性が低下する。
【0025】これに対し、本発明のhBN粉末は、樹脂
及び/又はゴムに混練してもhBN粒子の一次粒子が配
向せずに集合した形態を保持するため、樹脂及び/又は
ゴム成形品の特性に異方性が生じないか、又はそれが生
じても著しく小さなものとなる。また、本発明のhBN
粒子は、結合剤を使用せずに一次粒子同士が集合してい
るため、hBN本来の高熱伝導性を発揮することがで
き、酸処理精製などを施してもその粒子形態は安定であ
る。
【0026】本発明のhBN粉末において、本発明のh
BN粒子とそれ以外のhBN粒子との割合は、前者20
〜100重量%に対し後者80〜0重量%であることが
好ましい。
【0027】その際の、本発明のhBN粒子以外のhB
N粒子としては、従来のような集合していない鱗片状粒
子、結晶が未発達なhBN塊状体、造粒した粒子、hB
N焼結体を粉砕して得られた粒子などである。
【0028】本発明のhBN粉末においては、その結晶
性が高いことが望ましく、粉末X線回折法による黒鉛化
指数(GI=Graphitization Index)が1〜2.5特に
1.4〜1.6であることが好ましい。GIは、X線回
折図の(100)、(101)及び(102)線の積分
強度比すなわち面積比を次式によって算出することによ
って求めることができる。(J.Thomas,et.al,J.Am.Che
m.Soc. 84,4619(1962))。 GI=〔面積{(100)+(101)}〕/〔面積
(102)〕
【0029】また、本発明のhBN粉末においては、そ
の配向性が小さいことが望ましく、粉末X線回折法によ
る(002)回折線の強度I002 と(100)回折線の
強度I100 との比(I002 /I100 )(以下、「OI」
という。OIはOrientationIndex :配向性指数の略で
ある)が、6〜20であることが好ましい。このOI値
は、従来の高結晶性hBN粉末のそれ20を越えていた
のに対し小さいことが特徴である。
【0030】更に、本発明のhBN粉末においては、そ
のBN純度が90重量%以上であることが好ましい。
【0031】本発明のhBN粉末は、次のようにして製
造することができる
【0032】本発明のhBN粉末の製造方法の特徴は、
ほう酸とメラミンの混合物を適度の水蒸気を含む雰囲気
下で保持して形成させた新規構造のほう酸メラミン(C
3 6 6 ・2H3 BO3 )粒子又はそれを含む混合物
を原料として用いることである。本発明で使用されるほ
う酸メラミン粒子は、図1(c)に示されるようにメラ
ミン1分子に対してほう酸2分子が水素結合した結晶構
造を有し、しかも針状結晶の一次粒子が集合したもので
あるある(図2及び図3参照)。従来のほう酸メラミン
粒子又はそれを含む混合物は、ほう酸とメラミンと水と
を混合することによって生成させ、それをhBN粉末製
造用原料として使用されているが(米国特許第3,24
1,918号明細書、特開昭60−151202号公
報、特開昭61−191505号公報、特開昭61−2
86207号公報等)、この方法においては液体の水を
用いているため、ほう酸メラミンの針状結晶は集合して
いない(図4及び図5参照)。従って、これを原料とし
て製造されたhBN粉末は鱗片状の粒子となり、鱗片状
の一次粒子が集合しない(図7参照)。
【0033】本発明で使用されるほう酸は、メラミンと
反応してほう酸メラミンを形成するものであり、その例
はオルトほう酸(H3 BO3 )、メタほう酸(HB
2 )、テトラほう酸(H2 4 7 )、無水ほう酸
(B2 3 )など、一般式(B2 3 )・(H2 O)x
〔但し、X=0〜3〕で示される化合物の1種又は2種
以上であるが、なかでもオルトほう酸は入手が容易でメ
ラミンとの混合性が良好であるので本発明には好適であ
る。ほう酸とメラミンは、純度が高い程望ましい。
【0034】ほう酸とメラミンの混合は、ボールミル、
リボンブレンダー、ヘンシェルミキサーなどの一般的な
混合機を用いて行うことができる。配合割合は、ほう酸
のほう素原子(B)とメラミンの窒素原子(N)のB/
N原子比が1/1〜1/6となる割合、特に1/2〜1
/4となる割合が好ましい。B/N原子比が1/1を越
えると未反応ほう酸の残量が著しく多くなり、これが過
剰な結晶化触媒として作用するため生成するhBN粉末
は鱗片状の粒子となり集合しなくなる。また、B/N原
子比が1/6未満では焼成時に未反応メラミンの昇華が
顕著となって収率が低下する。
【0035】ほう酸とメラミンの混合物を水蒸気を含む
雰囲気下で保持する条件としては、温度0〜200℃好
ましくは40〜100℃の相対湿度5%以上の水蒸気を
含む雰囲気である。温度が0℃未満では反応速度が著し
く遅くなり、しかも生成するほう酸メラミンの針状結晶
が集合しなくなる。また、200℃を越えるとほう酸が
ガラス状に融解し表面積が小さくなるので反応率が増大
しなくなる。更には、ほう酸メラミンの形成雰囲気を相
対湿度5%以上としたのは、相対湿度5%未満の雰囲気
では反応速度が著しく遅くなり、しかも生成するほう酸
メラミンの針状結晶が集合しなくなるからである。保持
時間は1〜100時間程度である。
【0036】上記保持条件にあっても、温度T(℃)、
相対湿度Ψ(%)及び保持時間(t)が、(T−60)
≧−20・log10(t/4)+(Ψ−100)2 /2
0の関係式を満たす条件が最適である。このような雰囲
気は、恒温恒湿機、スチーム加熱炉などを用いて容易に
形成させることができる。水蒸気以外の雰囲気ガスにつ
いては特に制限はなく、大気ガス、窒素ガス、不活性ガ
スなどである。
【0037】本発明においては、上記で製造されたほう
酸メラミン粒子又はそれを含む混合物からほう酸メラミ
ン粒子を分離することによって、本発明のほう酸メラミ
ン粒子を得ることができる。
【0038】本発明のhBN粉末の製造方法において
は、上記で製造されたほう酸メラミン粒子又はそれを含
む混合物を、常法の結晶化触媒を用いて結晶化させるも
のである。本発明で使用される結晶化触媒は、安価であ
りしかも焼成の過程で触媒能力が変化しにくいものが好
適である。その例をあげれば、ほう酸、アルカリ金属又
はアルカリ土類金属のほう酸塩、ほう酸と反応してアル
カリ金属又はアルカリ土類金属のほう酸塩を形成し得る
アルカリ金属又はアルカリ土類金属の化合物である。よ
り具体的には、アルカリ金属又はアルカリ土類金属のほ
う酸塩としては、無水ほう砂(Na2 4 7 )、ほう
酸カルシウム(χCaO・B2 3 〔但し、χ=0.5
〜3〕)など、ほう酸と反応してアルカリ金属又はアル
カリ土類金属のほう酸塩を形成し得るアルカリ金属又は
アルカリ土類金属の化合物としては、炭酸ナトリウム
(Na2 CO3 )、炭酸カルシウム(CaCO3 )など
である。
【0039】結晶化触媒の添加時期としては、原料混合
時、ほう酸メラミンを形成させた段階、更には仮焼を行
う場合は非晶質BN又はGI値2.5を越える低結晶性
hBNを形成させた後の段階のいずれであっても良い
が、仮焼を行う場合は仮焼の前後において添加すること
もできる。
【0040】結晶化触媒の使用量は、原料混合時に添加
する場合は、ほう酸メラミン(C36 6 ・2H3
3 )と、結晶化触媒のB2 3 換算とのモル比(C3
66 ・2H3 BO3 /B2 3 )が5〜100にな
る量である。また、原料を仮焼して非晶質BN又はGI
値2.5を越える低結晶性hBNとした後に添加する場
合は、hBNの窒素(N)と結晶化触媒のB2 3 換算
とのモル比(N/B23 )が10〜300になる量で
ある。モル比が上記よりも大きい(触媒量が少ない)と
生成するhBN粉末が低結晶性となり、また小さい(触
媒量が多い)と生成するhBN粉末が鱗片状の粒子とな
って集合しなくなる。
【0041】焼成は、ほう酸メラミン粒子又はそれを含
む混合物と結晶化触媒を混合し、それを非酸化性ガス雰
囲気下、温度1700〜2200℃で行うか、又はほう
酸メラミン粒子又はそれを含む混合物をあらかじめ非酸
化性ガス雰囲気下、温度500℃以上1700℃未満で
仮焼して非晶質BN又はGI値が2.5を越えるhBN
とした後に結晶化触媒を添加し、非酸化性ガス雰囲気
下、温度1700〜2200℃で行われる。焼成温度が
1700℃未満ではhBN粉末が低結晶性になり、また
2200℃を越えるとhBN粉末の分解が顕著となる。
非酸化性ガスとしては、窒素ガス、水素ガス、アンモニ
アガス、メタン、プロパンなどの炭化水素ガス、ヘリウ
ム、アルゴンなどの希ガス、一酸化炭素ガスなどがあ
る。これらのうち、入手しやすく安価でありしかも20
00〜2200℃の高温においてはhBNの分解を抑制
する効果の大きい窒素ガスが最適である。焼成時間とし
ては0.5〜24時間特に2〜10時間が好ましい。
【0042】焼成炉としては、マッフル炉、管状炉、雰
囲気炉などのバッチ式炉や、ロータリーキルン、スクリ
ューコンベヤ炉、トンネル炉、ベルト炉、プッシャー
炉、竪形連続炉などの連続式炉があげられる。これらは
目的に応じて使い分けられ、たとえば多くの品種のhB
N粉末を少量ずつ製造するときはバッチ式炉を、一定の
品種を多量製造するときは連続式炉が採用される。
【0043】本発明のhBN粉末において、本発明のh
BN粒子とそれ以外のhBN粒子の割合は、結晶化触媒
量、焼成温度などによって調整することができる。たと
えば、結晶化触媒量を多くすると集合していない鱗片状
hBN粒子の割合が多くなり、また焼成温度が低いと結
晶が未発達なhBN塊状体の割合が多くなる。
【0044】以上によって製造された本発明のhBN粉
末は、必要に応じて粉砕、分級、酸処理による残留した
結晶化触媒の除去(精製)、洗浄、乾燥などの後工程を
経た後、実用に供される。
【0045】次に、本発明のhBN粉末の用途について
説明する。
【0046】先ず、本発明の樹脂及び/又はゴム組成物
について説明する。本発明のhBN粉末が本発明の樹脂
及び/又はゴム組成物を占める含有率としては、樹脂及
び/又はゴムの種類と用途によって異なるが、20〜9
7容量%好ましくは40〜90容量%程度である。含有
率が20容量%未満であると、樹脂組成物の成形性は優
れるが、耐熱衝熱性や耐湿信頼性が低下する。一方、9
7容量%を越えると成形性が損われ、未充填部やボイド
が発生し、電気絶縁性や信頼性が損われる。
【0047】本発明で使用される樹脂としては、ビスフ
ェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポ
キシ樹脂、脂環型エポキシ樹脂、複素環型エポキシ樹
脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルア
ミン型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂などのエ
ポキシ樹脂、ポリベンズイミダゾール、ポリベンズオキ
サゾール、ポリベンズチアゾール、ポリオキサジアゾー
ル、ポリピラゾール、ポリキノキサリン、ポリキナゾリ
ンジオン、ポリベンズオキサジノン、ポリインドロン、
ポリキナゾロン、ポリインドキシル、シリコン樹脂、シ
リコン−エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹
脂、ユリア樹脂、不飽和ポリエステル、ポリアミノビス
マレイミド、ジアリルフタレート樹脂、フッ素樹脂、メ
チルペンテンポリマー、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリエーテルイミド、66−ナイロン及びMXD−ナイ
ロン、アモルファスナイロン等のポリアミド、ポリブチ
レンテレフタレート及びポリエチレンテレフタレート等
のポリエステル、ポリフェニレンスルフィド、変性ポリ
フェニレンエーテル、ポリアリレート、全芳香族ポリエ
ステル、ポリスルホン、液晶ポリマー、ポリエーテルエ
ーテルケトン、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネー
ト、マレイミド変性樹脂、ABS 樹脂、AAS (アクリロニ
トリル・アクリルゴム・スチレン)樹脂、AES (アクリ
ロニトリル−エチレン・プロピレン・ジエンゴム−スチ
レン)樹脂等があげられる。
【0048】エポキシ樹脂の硬化剤としては、フェノー
ルノボラック、クレゾールノボラック等のフェノール系
硬化剤、無水テトラヒドロフタル酸、無水ヘキサヒドロ
フタル酸、無水メチルヘキサヒドロフタル酸等の酸無水
物系硬化剤等をあげることができる。その使用量は、エ
ポキシ樹脂100重量部に対し30〜90重量部が好ま
しい。
【0049】本発明で使用されるゴムとしては、天然ゴ
ム、ブチルゴム、アクリルゴム、エチレンプロピレンゴ
ム、シリコーンゴム、ポリエステルエラストマー、ポリ
ブタジエン等の合成ゴムである。
【0050】更に、本発明の樹脂及び/又はゴム組成物
には、必要に応じて以下の硬化促進剤、触媒、加硫剤、
滑剤・離型剤、安定剤、光安定剤、着色剤、難燃剤、カ
ップリング剤等を配合することもできる。
【0051】硬化促進剤としては、ベンゾグアナミン、
2,4−ジヒドラジノ−6−メチルアミノ−S−トリア
ジン、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチ
ルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−
メチルイミダゾール等のイミダゾール誘導体、弗化ホウ
素の各種アミン錯体、トリスジメチルアミノメチルフェ
ノール、1,8−ジアザ・ビシクロ(5,4,0)−ウ
ンデセン−7,ベンジルジメチルアミン等の第3級アミ
ン化合物、ジシアンジアミド、ビスフェノール型エポキ
シ樹脂もしくはクレゾールノボラック型エポキシ樹脂と
アンモニアとの反応により得られるアミノアルコール化
合物、アジピン酸ヒドラジド等の含窒素硬化促進剤、ト
リフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィ
ン、メチルジフェニルホスフィン、トリトリルホスフィ
ン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、ビ
ス(ジフェニルホスフィノ)メタン等の有機ホスフィン
系硬化促進剤等をあげることができる。
【0052】触媒としては、ビス−(トリブチル錫)オ
キシド、ジオクテン酸錫、オクタン酸アンチモン、酪酸
錫、一酸化鉛、硫化鉛、炭酸鉛等の硬化触媒、白金化合
物等の重合触媒等をあげることができる。
【0053】加硫剤としては、ベンゾイルペルオキシ
ド、ジクミルペルオキシド等をあげることができる。
【0054】滑剤・離型剤としては、カルナバワック
ス、モンタナワックス、ポリエステルオリゴマー、シリ
コン油、低分子量ポリエチレン、パラフィン、直鎖脂肪
酸の金属塩、酸アミド、エステル等をあげることができ
る。
【0055】安定剤としては、2,6−ジ−t−ブチル
−4−メチルフェノール、1,3,5−トリス(2−メ
チル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェノール)ブ
タン、ジステアリルチオジプロピオネート、トリノニル
フェニルホスファイト、トリデシルホスファイト等をあ
げることができる。
【0056】光安定剤については、2,2′−ジヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン、2(2′−ヒドロ
キシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、4−
t−ブチルフェニルサリチレート、エチル−2−シアノ
−3,3−ジフェニルアクリレート等をあげることがで
きる。
【0057】着色剤としては、ベンガラ、カーボンブラ
ック等をあげることができる。
【0058】難燃剤としては、三酸化アンチモン、四酸
化アンチモン、トリフェニルスチビン、水和アルミナ、
フェロセン、ホスファゼン、ヘキサブロモベンゼン、テ
トラブロモフタル酸無水物、トリクレジルホスフェー
ト、テトラブロモビスフェノールA、臭素化エポキシ誘
導体等をあげることができる。
【0059】カップリング剤については、ビニルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N
−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)
エチルトリメトキシシラン等のシラン系カップリング
剤、イソプロピルトリインステアロイルチタネート、ジ
クミルフェニルオキシアセテートチタネート、ビス(ジ
オクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネ
ート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルホニルチタ
ネート等のチタン系カップリング剤、アセトアルコキシ
アルミニウムジイソプロピレート等のアルミニウム系カ
ップリング剤等をあげることができる。
【0060】次に、本発明のhBN焼結体製造用原料粉
末及びhBN焼結体について説明する。
【0061】先ず、高純度、高強度でかつ機械特性に優
れたhBN焼結体製造用原料粉末としては、本発明のh
BN粉末に酸素含有量の異なるhBN粉末を混合して、
酸素含有量を0.5〜2.5重量%としたものが好まし
い。酸素含有量が0.5重量%未満では焼結体強度が低
くなる。酸素含有量の上限値については、ホットプレス
法で焼結する場合には1.5重量%、常圧焼結法で焼結
する場合は2.5重量%であることが好ましい。酸素含
有量が多くなると焼結体の純度が低下する。
【0062】本発明のhBN粉末に配合される酸素含有
量の異なるhBN粉末としては、BET法による比表面
積が20m2 /g以上特に好ましくは30m2 /gで、
かつ酸素含有量1.5〜4.0重量%のものが好適であ
る。混合方法としては、リボンブレンダーやボールミル
などを用いた一般的な方法で行えばよいが、本発明のh
BN粒子の形態を壊さないように留意する必要がある。
【0063】原料粉末の焼結方法は、ホットプレス法、
常圧焼結法のいずれであってもよい。ホットプレス法に
おいては、面圧100kg/cm2 以上、焼結温度16
00℃以上が好ましい。この条件は、焼結体への要求特
性により適宜調節することができる。また、常圧焼結法
の場合、金型成形、CIP成形又はこれらを組み合わせ
てグリーン成形を行った後、不活性ガス雰囲気下、18
00℃以上の温度で焼結する。高密度な焼結体を得るた
めには、グリーン成形圧2000kg/cm2以上が好
ましい。
【0064】次に、高密度かつ高強度であり、異方性の
小さいhBN焼結体製造用の原料粉末としては、本発明
のhBN粉末に、酸化ほう素、アルカリ土類金属の酸化
物及びほう酸塩から選ばれた1種又は2種以上を1〜2
0重量%好ましくは3〜15重量%を含ませたものであ
る。1重量%未満では焼結体強度が低くなり、また20
重量%を越えると純度が低下する。これらは一般的な方
法で混合されるが、均一に分散させるために添加物をあ
らかじめ微粉砕しておくことが好ましい。
【0065】上記添加物にあっても、酸化ほう素とアル
カリ土類金属酸化物とを併用するか、又はアルカリ土類
金属のほう酸塩を使用することが望ましく、その割合は
(アルカリ土類金属/B2 3 )のモル比で1/10〜
2.5/1であることが好ましい。モル比が1/10未
満では焼結体強度が低下し、2.5/1を越えると焼結
体の色調が白色から変色する。
【0066】この原料粉末の焼結方法については、常圧
焼結法が最適であり、金型成形、CIP成形又はこれら
を組み合わせた方法でグリーン成形した後、不活性ガス
雰囲気下、1400℃以上の温度で焼成する。高密度な
焼結体を得るためには、グリーン成形圧2000kg/
cm2 以上が好ましい。
【0067】
【実施例】以下、実施例及び比較例をあげてさらに具体
的に本発明を説明する。
【0068】実施例1 オルトほう酸(H3 BO3 )20kgとメラミン(C3
6 6 )19kgと炭酸カルシウム(CaCO3 )1
kgをヘンシェルミキサーで混合し、それを恒温恒湿機
を用い、大気中で温度90℃、相対湿度90%の水蒸気
を含む雰囲気下に6時間保持した。得られた混合物は指
で軽く押さえると容易に解砕できる程度に集合してい
た。それを解砕した後、X線回折分析によりほう酸メラ
ミン(C36 6 ・2H3 BO3 )が生成しているこ
とが、またSEM写真によりそのほう酸メラミンは図2
に示すように針状結晶の一次粒子が集合した粒子を含む
混合物であることが確認された。また、ほう酸メラミン
と未反応H3 BO3 残分に由来する酸化ほう素(B2
3 )のモル比(C3 6 6 ・2H3 BO3 /B
2 3 )は14であった。
【0069】上記で得られたほう酸メラミン粒子を含む
混合物を竪型連続炉を用い、窒素雰囲気中、温度180
0℃の加熱部を2時間かけて通過するように連続的に焼
成した。焼成後の試料を150μm以下に粉砕し、粉末
X線回折測定を行ったところ、hBNとほう酸カルシウ
ム(3CaO・B2 3 )の混合物であることが確認さ
れた。これを希硝酸水溶液と混合・濾過・乾燥してほう
酸カルシウムを除去してSEM写真を観察したところ、
鱗片状の一次粒子の集合からなるhBN粒子とそれ以外
のhBN粒子からなるhBN粉末であることが確認され
た。
【0070】次いで、これを乾式振動篩い装置(ホソカ
ワミクロン社製「パウダーテスターPT−E型」)を用
い、時間:1時間、モード:VIB、RHEOSTAT
目盛:4の条件で45μm上下に分級した。分級後に4
5μm上品のSEM観察を行ったところ、図6に示され
るようにほぼ全量が本発明のhBN粒子で構成されたh
BN粉末であることが確認された。なお、上記分級する
前の本発明のhBN粉末を構成している本発明のhBN
粒子の割合は26重量%であった。
【0071】更に、上記で得られた分級を行わない本発
明のhBN粉末について、表1に示す条件で粉末X線回
折分析(装置:リガク社製商品名「GF−2013」)
を行ったところ、GI値は1.28であり、OI値は1
6.5であった。
【0072】なお、GI値は、(100)、(101)
及び(102)の回折線と、ベースラインを補完した直
線とで囲まれた平面の面積を求め、上記した式により算
出した。また、OI値は、(002)及び(100)の
回折線のバックグラウンドを差し引いたピーク強度比を
求め、上記した式により算出した。
【0073】
【表1】
【0074】実施例2 H3 BO3 50kgとメラミン50kgをリボンブレン
ダーで混合し、それを恒温恒湿機を用い、大気中で温度
80℃、相対湿度80%の水蒸気を含む雰囲気下に24
時間保持した。得られた混合物は指で軽く押さえると容
易に解砕できる程度に集合しており、SEM観察によれ
ば、ほう酸メラミンの針状結晶の一次粒子が集合した粒
子を含む混合物であることが確認された。
【0075】これをスクリューコンベヤ炉を用い、アン
モニア雰囲気中、温度800℃の加熱部を2時間で通過
するように連続的に仮焼した。得られた仮焼物を実施例
1と同様にして粉末X線回折分析を行ったところ、非晶
質BNであることが確認された。
【0076】また、仮焼物に含まれる窒素分及び酸素分
を測定したところ、それぞれ49.5重量%及び6.5
重量%であった。酸素分のすべてがB2 3 であると仮
定して(N/B2 3 )モル比を求めたところ、26で
あった。
【0077】次いで、仮焼物に炭酸ナトリウム(Na2
CO3 )3重量%を内割り添加し、雰囲気炉を用いて窒
素雰囲気中、2000℃で2時間焼成した。得られた焼
成物について、実施例1と同様にして粉末X線回折分析
を行ったところ、hBNであることが確認された。焼成
物を希硝酸と混合・濾過・乾燥し、SEM写真を観察し
たところ、実施例1と同様な形状を有するhBN粉末で
あることが確認された。また、その45μm上のhBN
粒子の割合は40重量%であり、GI値及びOI値は、
それぞれ1.41及び9.8であった。
【0078】実施例3〜5 原料混合条件を表2に、水蒸気雰囲気中での保持条件を
表3に、仮焼条件を表4に、焼成条件を表5に示す条件
にしてhBN粉末を製造した。得られたhBN粉末は、
鱗片状の一次粒子が集合したhBN粒子を含むものであ
った。
【0079】比較例1〜2 ほう酸とメラミンの混合物を水蒸気を含む雰囲気下での
保持を行わなかったこと以外は、実施例1又は実施例2
と同様にしてhBN粉末を製造した。得られたhBN粉
末のSEM観察結果は、集合のない鱗片状の粒子形態で
あった。
【0080】比較例3 H3 BO3 50kgとメラミン50kgと水100kg
を混合したスラリーをフィルタープレスで濾過した後、
乾燥機に入れて温度100℃で48時間乾燥した。得ら
れた乾燥物は嵩の高い粉末であり、粉末X線回折分析に
よってほう酸メラミンが生成していることが確認され
た。しかし、SEM観察結果は、図4に示したとおりで
あり、集合していない針状結晶であった。このほう酸メ
ラミンを含む混合物を用い、実施例2と同様にして仮
焼、触媒添加、焼成を行ってhBN粉末を製造したとこ
ろ、鱗片状粒子が集合していない粒子形態からなるhB
N粉末であった。
【0081】比較例4 実施例5と同様にして製造したほう酸メラミン粒子を含
む混合物を、窒素雰囲気中、温度1600℃で2時間仮
焼した。仮焼物は、GI値2.8のhBN粉末であるこ
とが粉末X線回折分析により確認された。これに酸化ほ
う素(B2 3)を0.5重量%内割り添加・混合した
後、窒素分及び酸素分を測定し、酸素分のすべてがB2
3 であると仮定して(N/B2 3 )モル比を求めた
ところ、400であり、本発明の範囲を逸脱したもので
あった。これを、実施例5と同様にしてhBN粉末を製
造したところ、塊状の粒子形態であった。
【0082】以上の実施例1〜5及び比較例1〜4の実
験条件をまとめて表2〜表5に示した。また、それらの
実験結果を表6に示した。
【0083】
【表2】
【0084】
【表3】
【0085】
【表4】
【0086】
【表5】
【0087】
【表6】 (注)「集合粒子」とは、鱗片状の一次粒子が集合したhBN粒子である。 「非集合粒子」とは、集合してない鱗片状hBN粒子である。
【0088】実施例6 実施例1で得られた分級前のhBN粉末100重量部と
液状シリコーンゴム(東レ・ダウコーニング・シリコー
ン社製商品名「CF−3110」)50重量部の混合物
にトルエンと加硫剤を適量加えてスラリーを調製し、そ
れをドクターブレード法でグリーンシートに成形した
後、加熱加硫し、厚み0.20mm(0.0002m)
の絶縁放熱シートを製造した。
【0089】これをTO−3型銅製ヒーターケースと銅
板の間にはさみ、締め付けトルク5kgf−cmでセッ
トした後、ヒーターケースに電力15Wをかけて5分間
保持した後ヒーターケースと銅板の温度差を測定し、熱
抵抗(℃/W)=温度差(℃)/電力(W)により、絶
縁放熱シートの厚さ方向の熱抵抗を算出したところ、
7.00×10-2℃/Wであった。
【0090】更に、ヒーターケースと銅板の伝熱面積を
6cm2 (=0.0006m2 )と仮定して、熱伝導率
(W/m/℃)=〔電力(W)×シート厚さ(0.00
02m)÷伝熱面積(0.0006m2 )〕÷温度差
(℃)により、絶縁放熱シートの厚さ方向の熱伝導率を
算出したところ、4.76W/m・Kであった。
【0091】また、得られた絶縁放熱シートの断面をS
EM観察したところ、本発明のhBN粒子の存在が確認
された。
【0092】比較例5〜6 比較例1又は比較例4で製造された分級前のhBN粉末
を用いたこと以外は実施例6と同様にして絶縁放熱シー
トを製造した(比較例1のhBN粉末を用いたものを比
較例5、比較例4のhBN粉末を用いたものを比較例6
とした)。その結果、比較例5の絶縁放熱シートの熱伝
導率は2.39W/m・Kであり、比較例6のそれは
1.76W/m・Kであった。
【0093】また、絶縁放熱シートの断面をSEM観察
したところ、比較例5においては、鱗片状のhBN粒子
の厚さ方向が、シートの厚さ方向に一致するように配向
して存在していることが確認された。hBN粒子の厚さ
方向は低熱伝導率であり、配向したために比較例5のシ
ートの厚さ方向の熱伝導率が実施例6よりも低くなった
と考えられる。また、比較例6においては、このような
配向は観察されなかったが、比較例4のhBN粒子が低
結晶性であり、低熱伝導率であるために熱伝導率が実施
例6よりも低くなったと考えられる。
【0094】実施例7 実施例2で製造された分級前のhBN粉末に、BET法
による比表面積50m2 /g、酸素含有量1.5重量%
である六方晶hBN粉末をリボンブレンダーで混合し、
酸素含有量が1.0重量%であるhBN焼結体製造用原
料粉末を調合した。これを面圧150kg/cm2 、温
度1900℃で1時間ホットプレス焼結してhBN焼結
体を製造した。得られたhBN焼結体について、その密
度、3点曲げ強度及びBN純度を測定すると共に、プレ
ス方向と平行の面を機械加工し加工面のチッピングの発
生の有無を観察した。それらの結果を表7に示す。
【0095】比較例7 比較例2で製造された分級前のhBN粉末を用いたこと
以外は実施例7と同様にしてhBN焼結体を製造し、同
様な評価を行った。その結果を表7に示す。
【0096】
【表7】
【0097】比較例8 hBN焼結体製造用原料粉末の酸素含有量を0.3重量
%としたこと以外は、実施例7と同様にしてホットプレ
ス焼結を行ったが、焼結が進まなかった。
【0098】実施例8 実施例2で得られた分級前のhBN粉末90重量部、酸
化カルシウム0.8重量部、酸化ほう素9.2重量部を
リボンブレンダーで混合しhBNの常圧焼結体製造用原
料粉末を製造した。これを面圧200kg/cm2 で金
型成形した後、面圧2700kg/cm2 でCIP成形
し、それをArガス雰囲気下、温度1600℃で1時間
常圧焼結した。得られた常圧焼結体は、密度が1.96
g/cm3 、3点曲げ強度が75MPaであった。
【0099】比較例9 比較例2で得られた分級前のhBN粉末を用いたこと以
外は、実施例8と同様にしてhBNの常圧焼結体を製造
した。この焼結体は、密度1.75g/cm3、3点曲
げ強度43MPaであった。
【0100】
【発明の効果】本発明のほう酸メラミン粒子によれば、
鱗片状の一次粒子が集合したhBN粒子又はこのhBN
粒子を含むhBN粉末を製造することができる。
【0101】本発明のhBN粒子又はこのhBN粒子を
含むhBN粉末によれば、hBNの優れた特性を損なう
ことなく異方性の小さい樹脂やゴム製品あるいはhBN
焼結体を製造することができる。
【0102】上記したhBN粉末の製造方によれば、
上記特性を有するhBN粉末を高収率かつ低コストで製
造することができる。
【0103】本発明のhBN焼結体製造用原料粉末又は
hBN焼結体によれば、高純度、高密度でかつ機械特性
に優れたhBN焼結体や、高密度、高強度で異方性の小
さいhBNの常圧焼結体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)ほう酸の分子構造図 (b)メラミンの分子構造図 (c)ほう酸メラミンの結晶構造図
【図2】本発明のほう酸メラミン粒子を含む混合物の倍
率1000のSEM写真
【図3】図2の模式図
【図4】従来の針状結晶からなるほう酸メラミン粒子を
含む混合物の倍率1000のSEM写真
【図5】図4の模式図
【図6】本発明のhBN粒子を含むhBN粉末の倍率3
50のSEM写真
【図7】従来の一次粒子が集合していないhBN粒子を
含むhBN粉末の倍率350のSEM写真
【図8】従来の結晶が未発達なhBN塊状体を含むhB
N粉末の倍率350のSEM写真
【図9】従来の造粒したhBN粒子を含むhBN粉末の
倍率350のSEM写真
【図10】従来のhBN焼結体を粉砕して得られたhB
N粒子含むhBN粉末の倍率350のSEM写真
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−184033(JP,A) 米国特許3241918(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C04B 35/626 C01B 21/064 C07D 251/56 C01B 35/10 CA(STN)

Claims (9)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 六方晶窒化ほう素粒子20〜100重量
    %と、それ以外の窒化ほう素粒子80〜0重量%との混
    合物からなり、粉末X線回折法による黒鉛化指数(G
    I)が1.0〜2.5であり、(002)回折線の強度
    I002 と(100)回折線の強度I100 との比(I002
    /I100 )が6〜20であるものであって、上記六方晶
    窒化ほう素粒子が、ほう酸メラミン粒子又はそれを含む
    混合物を、非酸化性ガス雰囲気下、焼成して得られ、六
    方晶窒化ほう素の鱗片状の一次粒子同士が結合剤を含有
    することなく配向せずに集合してなるものであることを
    特徴とする六方晶窒化ほう素粉末。
  2. 【請求項2】 ほう酸メラミン粒子又はそれを含む混合
    物が、ほう酸とメラミンの混合物を、温度(T)0〜2
    00℃、相対湿度(Ψ)5%以上の水蒸気を含む雰囲気
    下、保持時間(t)1〜100時間の範囲内で、しかも
    (T−60)≧−20・log10(t/4)+(Ψ−
    100)/20の関係式を満たす条件下で保持して
    製造されたものであることを特徴とする請求項1記載の
    六方晶窒化ほう素粉末。
  3. 【請求項3】 請求項2記載の方法で製造されたほう酸
    メラミン粒子又はそれを含む混合物と、結晶化触媒と
    を、ほう酸メラミンのモル数と結晶化触媒をB
    換算したモル数との比(C66・2HBO/B
    )が5〜100になるように混合し、それを非酸
    化性ガス雰囲気下、温度1700〜2200℃で焼成
    て得られたものであることを特徴とする請求項2記載の
    六方晶窒化ほう素粉末。
  4. 【請求項4】 請求項2記載の方法で製造されたほう酸
    メラミン粒子又はそれを含む混合物を非酸化性ガス雰囲
    気下、温度500℃以上1700℃未満で仮焼して非晶
    質窒化ほう素又は黒鉛化指数(GI)が2.5を越える
    六方晶窒化ほう素を形成させた後、該窒化ほう素の窒素
    (N)と結晶化触媒のB換算値とのモル比(N/
    )が10〜300になるように結晶化触媒を混
    合し、それを非酸化性ガス雰囲気下、温度1700〜2
    200℃で焼成して得られたものであることを特徴とす
    る請求項2記載の六方晶窒化ほう素粉末。
  5. 【請求項5】 樹脂及び/又はゴムに請求項1記載の六
    方晶窒化ほう素粉末を含有させてなることを特徴とする
    組成物。
  6. 【請求項6】 請求項1記載の六方晶窒化ほう素粉末を
    含み、酸素含有量が0.5〜2.5重量%であることを
    特徴とする六方晶窒化ほう素焼結体製造用粉末原料。
  7. 【請求項7】 請求項1記載の六方晶窒化ほう素粉末
    に、酸化ほう素、アルカリ土類金属の酸化物及びアルカ
    リ土類金属のほう酸塩から選ばれた1種又は2種以上を
    1〜20重量%含ませてなることを特徴とする常圧焼結
    体製造用六方晶窒化ほう素粉末原料。
  8. 【請求項8】 請求項6記載の六方晶窒化ほう素粉末を
    焼結してなることを特徴とする六方晶窒化ほう素焼結
    体。
  9. 【請求項9】 請求項7記載の六方晶窒化ほう素粉末を
    常圧焼結してなることを特徴とする六方晶窒化ほう素の
    常圧焼結体。
JP02876896A 1996-01-24 1996-01-24 六方晶窒化ほう素粉末及びその用途 Expired - Lifetime JP3461651B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP02876896A JP3461651B2 (ja) 1996-01-24 1996-01-24 六方晶窒化ほう素粉末及びその用途
US08/782,296 US5854155A (en) 1996-01-24 1997-01-15 Hexagonal system boron nitride powder
GB9700835A GB2309457B (en) 1996-01-24 1997-01-16 Melamine borate particles, method for their production and their use, and method for producing hexagonal system boron nitride powder
DE19701771A DE19701771B4 (de) 1996-01-24 1997-01-20 Verfahren zum Herstellen von hexagonalem Bornitrid-Pulver
CN97102347.6A CN1237026C (zh) 1996-01-24 1997-01-24 硼酸蜜胺颗粒、其制法和用途,以及生产六方晶系氮化硼粉末的方法
US09/035,991 US6096671A (en) 1996-01-24 1998-03-06 Method of using hexagonal system boron nitride powder

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP02876896A JP3461651B2 (ja) 1996-01-24 1996-01-24 六方晶窒化ほう素粉末及びその用途

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09202663A JPH09202663A (ja) 1997-08-05
JP3461651B2 true JP3461651B2 (ja) 2003-10-27

Family

ID=12257590

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP02876896A Expired - Lifetime JP3461651B2 (ja) 1996-01-24 1996-01-24 六方晶窒化ほう素粉末及びその用途

Country Status (5)

Country Link
US (2) US5854155A (ja)
JP (1) JP3461651B2 (ja)
CN (1) CN1237026C (ja)
DE (1) DE19701771B4 (ja)
GB (1) GB2309457B (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011231196A (ja) * 2010-04-27 2011-11-17 Denki Kagaku Kogyo Kk 樹脂複合組成物及びその用途
JP2012056818A (ja) * 2010-09-10 2012-03-22 Denki Kagaku Kogyo Kk 六方晶窒化ホウ素粉末及びそれを用いた高熱伝導性、高耐湿性放熱シート
WO2014003193A1 (ja) 2012-06-27 2014-01-03 水島合金鉄株式会社 凹部付きbn球状焼結粒子およびその製造方法ならびに高分子材料
WO2016081673A1 (en) 2014-11-20 2016-05-26 Dupont-Mitsui Fluorochemicals Co. Ltd Melt processible fluoropolymer composition with excellent heat conductivity, molded product manufactured from the composition and manufacturing method
JP2016135731A (ja) * 2014-02-05 2016-07-28 三菱化学株式会社 窒化ホウ素凝集粒子、窒化ホウ素凝集粒子の製造方法、該窒化ホウ素凝集粒子含有樹脂組成物、及び成形体
TWI574913B (zh) * 2012-04-17 2017-03-21 信越化學工業股份有限公司 The method of granulating insulating fins and boron nitride
KR20180015683A (ko) 2015-09-03 2018-02-13 쇼와 덴코 가부시키가이샤 육방정 질화붕소 분말, 그 제조 방법, 수지 조성물 및 수지 시트
WO2018123788A1 (en) 2016-12-28 2018-07-05 Showa Denko K.K. Hexagonal boron nitride powder, method for producing same, resin composition and resin sheet
WO2018124126A1 (ja) 2016-12-28 2018-07-05 昭和電工株式会社 六方晶窒化ホウ素粉末、その製造方法、樹脂組成物及び樹脂シート

Families Citing this family (79)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3461651B2 (ja) * 1996-01-24 2003-10-27 電気化学工業株式会社 六方晶窒化ほう素粉末及びその用途
EP0918039A4 (en) * 1996-08-06 1999-10-27 Otsuka Kagaku Kk BORNITRIDE AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
JP3654743B2 (ja) * 1997-07-01 2005-06-02 電気化学工業株式会社 放熱スペーサー
JP3372462B2 (ja) * 1997-11-27 2003-02-04 電気化学工業株式会社 ゴムシートの製造方法
JP4155473B2 (ja) * 1998-02-27 2008-09-24 モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク 高密度窒化ホウ素および高密度凝集窒化ホウ素粒子の製造法
EP1006091A4 (en) * 1998-05-22 2004-08-04 Sumitomo Electric Industries CUBIC NITRIDE SINTERED BORON NITRIDE CUTTING TOOL
JP2000022289A (ja) * 1998-07-01 2000-01-21 Denki Kagaku Kogyo Kk 回路基板用樹脂組成物とそれを用いた回路基板
JP3685629B2 (ja) * 1998-12-11 2005-08-24 電気化学工業株式会社 ホウ酸塩粒子、その粒子を含む無機粉末の製法及び用途
JP3933341B2 (ja) * 1999-04-02 2007-06-20 電気化学工業株式会社 熱伝導性スペーサー
JP4392088B2 (ja) * 1999-10-27 2009-12-24 電気化学工業株式会社 窒化ホウ素被覆球状ホウ酸塩粒子とそれを含む混合粉末、及びそれらの製造方法
US6673434B2 (en) * 1999-12-01 2004-01-06 Honeywell International, Inc. Thermal interface materials
US6660241B2 (en) * 2000-05-01 2003-12-09 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Highly delaminated hexagonal boron nitride powders, process for making, and uses thereof
US6794435B2 (en) * 2000-05-18 2004-09-21 Saint Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Agglomerated hexagonal boron nitride powders, method of making, and uses thereof
US6855385B2 (en) * 2000-05-31 2005-02-15 Ttm Advanced Circuits, Inc. PCB support plate for PCB via fill
US6764975B1 (en) * 2000-11-28 2004-07-20 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Method for making high thermal diffusivity boron nitride powders
CN100398589C (zh) * 2001-04-30 2008-07-02 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 聚合物加工用助剂和加工方法
US6559650B2 (en) * 2001-06-05 2003-05-06 Eni Technology, Inc. RF power probe head with a thermally conductive bushing
US6645612B2 (en) * 2001-08-07 2003-11-11 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. High solids hBN slurry, hBN paste, spherical hBN powder, and methods of making and using them
JP2003060134A (ja) * 2001-08-17 2003-02-28 Polymatech Co Ltd 熱伝導性シート
US20030040563A1 (en) * 2001-08-23 2003-02-27 Sagal E. Mikhail Substantially non-abrasive thermally conductive polymer composition containing boron nitride
US6837915B2 (en) * 2002-09-20 2005-01-04 Scm Metal Products, Inc. High density, metal-based materials having low coefficients of friction and wear rates
US7494635B2 (en) 2003-08-21 2009-02-24 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Boron nitride agglomerated powder
JP4253565B2 (ja) * 2003-11-12 2009-04-15 電気化学工業株式会社 六方晶窒化硼素質成形体、その製造方法及び用途
US20050164143A1 (en) * 2004-01-14 2005-07-28 Holcombe Cressie E. Continuous pusher-type furnacing system for the production of high-quality uniform boron nitride
US7341702B2 (en) * 2004-12-28 2008-03-11 Momentive Performance Materials Inc. Process for producing boron nitride
US7297317B2 (en) * 2004-12-28 2007-11-20 Momentive Performance Materials Inc. Process for producing boron nitride
BRPI0614969A2 (pt) * 2005-08-26 2016-09-13 Cool Options Inc composição e método para acondicionamento a nível de matriz de microeletrônicos
JP5043632B2 (ja) * 2007-12-20 2012-10-10 電気化学工業株式会社 六方晶窒化ホウ素の製造方法
JP5065198B2 (ja) * 2008-08-04 2012-10-31 株式会社カネカ 六方晶窒化ホウ素の製造方法
JP5277782B2 (ja) * 2008-08-06 2013-08-28 株式会社リコー 像担持体保護剤、保護層形成装置、画像形成方法、プロセスカートリッジ及び画像形成装置
JP2010042963A (ja) * 2008-08-18 2010-02-25 Kaneka Corp 六方晶窒化ホウ素の製造方法
JP5109882B2 (ja) * 2008-09-05 2012-12-26 株式会社カネカ 六方晶窒化ホウ素粉末の製造方法
WO2010106541A1 (en) * 2009-03-19 2010-09-23 Boron Compounds Ltd. Method for the preparation of boron nitride powder
US8617503B2 (en) 2009-08-20 2013-12-31 Kaneka Corporation Process for production of spheroidized boron nitride
EP2487134B1 (en) * 2009-10-09 2017-08-09 Mizushima Ferroalloy Co. Ltd. Hexagonal boron nitride powder and method for producing same
JP5159812B2 (ja) * 2010-03-03 2013-03-13 株式会社東芝 回転電機
JP5430449B2 (ja) * 2010-03-05 2014-02-26 電気化学工業株式会社 高熱伝導性フィラー
JP5558885B2 (ja) * 2010-03-30 2014-07-23 電気化学工業株式会社 樹脂複合組成物及びその用途
JP5750243B2 (ja) * 2010-07-14 2015-07-15 日本発條株式会社 セラミックス部材、プローブホルダ及びセラミックス部材の製造方法
DE102010050900A1 (de) 2010-11-10 2012-05-10 Esk Ceramics Gmbh & Co. Kg Bornitrid-Agglomerate, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
JP5579029B2 (ja) * 2010-11-24 2014-08-27 電気化学工業株式会社 窒化ホウ素粉末、その製造方法、それを含有してなる組成物及び放熱材
JP5666342B2 (ja) * 2011-02-23 2015-02-12 電気化学工業株式会社 ホウ酸メラミンと窒化ホウ素の複合粒子、及びそれを用いた窒化ホウ素粒子の製造方法。
WO2013073496A1 (ja) * 2011-11-14 2013-05-23 三菱電機株式会社 電磁コイル及びその製造方法、並びに絶縁テープ
CN105947997B (zh) * 2011-11-29 2018-12-21 三菱化学株式会社 氮化硼凝聚粒子、含有该粒子的组合物、及具有包含该组合物的层的三维集成电路
US8852487B2 (en) 2011-12-16 2014-10-07 Ticona Llc Injection molding of polyarylene sulfide compositions
US8796392B2 (en) 2011-12-16 2014-08-05 Ticona Llc Low temperature injection molding of polyarylene sulfide compositions
WO2013090171A1 (en) 2011-12-16 2013-06-20 Ticona Llc Nucleating system for polyarylene sulfide compositions
US10233304B2 (en) 2011-12-16 2019-03-19 Ticona Llc Boron-containing nucleating agent for polyphenylene sulfide
DE102012104049A1 (de) 2012-05-09 2013-11-28 Esk Ceramics Gmbh & Co. Kg Bornitrid-Agglomerate, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
US9580595B2 (en) 2012-05-16 2017-02-28 Sabic Global Technologies B.V. Compositions and articles of manufacture containing branched polycarbonate
JP5969314B2 (ja) * 2012-08-22 2016-08-17 デンカ株式会社 窒化ホウ素粉末及びその用途
JP6125273B2 (ja) * 2013-02-27 2017-05-10 デンカ株式会社 窒化ホウ素成形体、その製造方法及び用途
EP2966036A4 (en) 2013-03-07 2016-11-02 Denka Company Ltd BORON NITRIDE POWDER AND RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME
JP6201369B2 (ja) * 2013-03-28 2017-09-27 セイコーエプソン株式会社 検出装置及び電子機器
JP6351585B2 (ja) 2013-06-03 2018-07-04 デンカ株式会社 樹脂含浸窒化ホウ素焼結体およびその用途
EP2860008A1 (de) 2013-10-14 2015-04-15 Esk Ceramics GmbH&Co. Kg Durch thermoplastische Verarbeitung von Polymer-Bornitrid-Compounds hergestellte Bauteile, Polymer-Bornitrid-Compounds zur Herstellung solcher Bauteile, Verfahren zur Herstellung solcher Bauteile sowie deren Verwendung
KR102258537B1 (ko) 2014-02-12 2021-05-28 덴카 주식회사 질화붕소 미립자 및 그 제조 방법
WO2015122379A1 (ja) * 2014-02-12 2015-08-20 電気化学工業株式会社 球状窒化ホウ素微粒子およびその製造方法
JP2015168783A (ja) 2014-03-07 2015-09-28 三井・デュポンフロロケミカル株式会社 高熱伝導性樹脂組成物
WO2016092951A1 (ja) * 2014-12-08 2016-06-16 昭和電工株式会社 六方晶窒化ホウ素粉末、その製造方法、樹脂組成物及び樹脂シート
JP6588731B2 (ja) * 2015-05-07 2019-10-09 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置
KR102560615B1 (ko) 2015-08-26 2023-07-27 덴카 주식회사 열전도성 수지 조성물
JP6704271B2 (ja) * 2016-03-15 2020-06-03 デンカ株式会社 六方晶窒化ホウ素の一次粒子凝集体、樹脂組成物及びその用途
JP6831179B2 (ja) * 2016-03-24 2021-02-17 デンカ株式会社 高熱伝導性ロール状放熱シート素材の製造方法
KR102337986B1 (ko) 2016-10-07 2021-12-10 덴카 주식회사 질화 붕소 덩어리 형상의 입자, 그 제조 방법 및 이를 이용한 열전도 수지 조성물
EP3530614A4 (en) 2016-10-21 2020-04-29 Denka Company Limited SPHERICAL BORNITRIDE FINE POWDER, METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF AND HEAT-CONDUCTING RESIN COMPOSITION THEREFOR
JP6745293B2 (ja) * 2017-03-28 2020-08-26 デンカ株式会社 六方晶窒化ホウ素粉末、その製造方法、及び化粧料
CN110959190B (zh) 2017-08-10 2023-08-08 电化株式会社 低介电常数导热性散热构件
JP6734239B2 (ja) * 2017-08-31 2020-08-05 デンカ株式会社 六方晶窒化ホウ素粉末及び化粧料
WO2019049707A1 (ja) 2017-09-06 2019-03-14 デンカ株式会社 熱伝導性シート
WO2019073690A1 (ja) 2017-10-13 2019-04-18 デンカ株式会社 窒化ホウ素粉末、その製造方法及びそれを用いた放熱部材
JP7069485B2 (ja) 2017-12-27 2022-05-18 昭和電工株式会社 六方晶窒化ホウ素粉末及びその製造方法、並びにそれを用いた組成物及び放熱材
KR102692141B1 (ko) 2018-06-29 2024-08-05 덴카 주식회사 괴상 질화붕소 입자, 질화붕소 분말, 질화붕소 분말의 제조 방법, 수지 조성물, 및 방열 부재
CN109320247B (zh) * 2018-11-27 2022-02-25 哈尔滨工业大学(威海) 一种基于三聚氰胺的bn/c微纳米复合吸波材料的制备方法
JP7145315B2 (ja) 2019-03-27 2022-09-30 デンカ株式会社 塊状窒化ホウ素粒子、熱伝導樹脂組成物及び放熱部材
CN113614033B (zh) 2019-03-27 2024-04-30 电化株式会社 块状氮化硼粒子、导热树脂组合物和散热构件
CN112358300A (zh) * 2020-11-16 2021-02-12 广东省科学院材料与加工研究所 基于3D打印技术制备高定向导热h-BN基陶瓷材料的方法
CN112409391B (zh) * 2020-11-20 2023-06-06 云南江磷集团股份有限公司 硼酸密胺盐热缩聚物抗熔滴剂及其在pa6中的应用
RU2762751C1 (ru) * 2021-03-22 2021-12-22 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования «Национальный исследовательский Томский государственный университет» Способ получения бората меламина

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1208937A (fr) * 1957-12-11 1960-02-26 Union Carbide Corp Procédé de préparation du nitrure de bore
US3241918A (en) * 1962-05-09 1966-03-22 Union Carbide Corp Method for preparing boron nitride
JPS56135947A (en) * 1980-03-28 1981-10-23 Denki Kagaku Kogyo Kk Highly heat-conductive radiating substrate
DE3201563A1 (de) * 1982-01-20 1983-07-28 Elektroschmelzwerk Kempten GmbH, 8000 München Dichte formkoerper aus polykristallinem, hexagonalem bornitrid und verfahren zu ihrer herstellung durch isostatisches heisspressen
JPS60151202A (ja) * 1983-08-25 1985-08-09 Yuka Meramin Kk 窒化ホウ素の製造方法
US4539300A (en) * 1983-09-21 1985-09-03 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method for the fabrication of hexagonal BN toughened matrix composites
CA1260671A (en) * 1984-06-07 1989-09-26 Takahisa Koshida High-purity powder of hexagonal boron nitride and a method for the preparation thereof
JPH0611643B2 (ja) * 1985-07-02 1994-02-16 昭和電工株式会社 窒化ホウ素の製造法
JPH0647446B2 (ja) * 1985-09-09 1994-06-22 昭和電工株式会社 窒化ホウ素の製造法
US4997633A (en) * 1986-01-30 1991-03-05 Kawasaki Steel Corporation Water-soluble boron containing impurity reduced hexagonally crystalline boron nitride
JPS62176904A (ja) * 1986-01-30 1987-08-03 Kawasaki Steel Corp 水可溶性硼素化合物の少ない六方晶窒化硼素とその製造方法
JPH0617270B2 (ja) * 1987-04-01 1994-03-09 工業技術院長 窒化硼素常圧焼結体
DE3882859T2 (de) * 1987-09-22 1993-11-18 Nippon Steel Corp Keramikverbundkörper und Verfahren zu seiner Herstellung.
DE3824849A1 (de) * 1988-07-21 1990-01-25 Kempten Elektroschmelz Gmbh Unter druck gesinterte, polykristalline mischwerkstoffe auf basis von hexagonalem bornitrid, oxiden und carbiden
US5389587A (en) * 1988-11-10 1995-02-14 Kabushiki Kaisha Kouransha BN-group ceramics having excellent resistance to loss by dissolving
JPH0761902B2 (ja) * 1989-07-11 1995-07-05 住友電気工業株式会社 立方晶窒化硼素焼結体およびその製造方法
US5064589A (en) * 1989-12-29 1991-11-12 Showa Denko K.K. Method for producing high density hexagonal boron nitride sintered article
US5116589A (en) * 1990-06-18 1992-05-26 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy High density hexagonal boron nitride prepared by hot isostatic pressing in refractory metal containers
JP3073127B2 (ja) * 1994-03-28 2000-08-07 三菱鉛筆株式会社 鉛筆芯及びその製造方法
JP3647079B2 (ja) * 1995-04-19 2005-05-11 電気化学工業株式会社 六方晶窒化ほう素粉末の製造方法
JP3461651B2 (ja) * 1996-01-24 2003-10-27 電気化学工業株式会社 六方晶窒化ほう素粉末及びその用途

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011231196A (ja) * 2010-04-27 2011-11-17 Denki Kagaku Kogyo Kk 樹脂複合組成物及びその用途
JP2012056818A (ja) * 2010-09-10 2012-03-22 Denki Kagaku Kogyo Kk 六方晶窒化ホウ素粉末及びそれを用いた高熱伝導性、高耐湿性放熱シート
TWI574913B (zh) * 2012-04-17 2017-03-21 信越化學工業股份有限公司 The method of granulating insulating fins and boron nitride
WO2014003193A1 (ja) 2012-06-27 2014-01-03 水島合金鉄株式会社 凹部付きbn球状焼結粒子およびその製造方法ならびに高分子材料
US9334391B2 (en) 2012-06-27 2016-05-10 Mizushima Ferroalloy Co., Ltd. Sintered spherical BN particles, method of producing the same, and polymer material
US10106413B2 (en) 2014-02-05 2018-10-23 Mitsubishi Chemical Corporation Agglomerated boron nitride particles, production method for agglomerated boron nitride particles, resin composition including agglomerated boron nitride particles, moulded body, and sheet
JP2021006507A (ja) * 2014-02-05 2021-01-21 三菱ケミカル株式会社 窒化ホウ素凝集粒子、窒化ホウ素凝集粒子の製造方法、該窒化ホウ素凝集粒子含有樹脂組成物、成形体、及びシート
JP7207384B2 (ja) 2014-02-05 2023-01-18 三菱ケミカル株式会社 窒化ホウ素凝集粒子、窒化ホウ素凝集粒子の製造方法、該窒化ホウ素凝集粒子含有樹脂組成物、成形体、及びシート
TWI757686B (zh) * 2014-02-05 2022-03-11 日商三菱化學股份有限公司 氮化硼凝集粒子、氮化硼凝集粒子之製造方法、含有該氮化硼凝集粒子之樹脂組成物、成形體及片材
JP2016135731A (ja) * 2014-02-05 2016-07-28 三菱化学株式会社 窒化ホウ素凝集粒子、窒化ホウ素凝集粒子の製造方法、該窒化ホウ素凝集粒子含有樹脂組成物、及び成形体
TWI687393B (zh) * 2014-02-05 2020-03-11 日商三菱化學股份有限公司 氮化硼凝集粒子、氮化硼凝集粒子之製造方法、含有該氮化硼凝集粒子之樹脂組成物、成形體及片材
US20180354793A1 (en) 2014-02-05 2018-12-13 Mitsubishi Chemical Corporation Agglomerated boron nitride particles, production method for agglomerated boron nitride particles, resin composition including agglomerated boron nitride particles, moulded body, and sheet
US10414653B2 (en) 2014-02-05 2019-09-17 Mitsubishi Chemical Corporation Agglomerated boron nitride particles, production method for agglomerated boron nitride particles, resin composition including agglomerated boron nitride particles, moulded body, and sheet
JP2019137608A (ja) * 2014-02-05 2019-08-22 三菱ケミカル株式会社 窒化ホウ素凝集粒子、窒化ホウ素凝集粒子の製造方法、該窒化ホウ素凝集粒子含有樹脂組成物、成形体、及びシート
WO2016081673A1 (en) 2014-11-20 2016-05-26 Dupont-Mitsui Fluorochemicals Co. Ltd Melt processible fluoropolymer composition with excellent heat conductivity, molded product manufactured from the composition and manufacturing method
US10781352B2 (en) 2015-09-03 2020-09-22 Showa Denko K.K. Powder of hexagonal boron nitride, process for producing same, resin composition, and resin sheet
KR20180015683A (ko) 2015-09-03 2018-02-13 쇼와 덴코 가부시키가이샤 육방정 질화붕소 분말, 그 제조 방법, 수지 조성물 및 수지 시트
KR20190082952A (ko) 2016-12-28 2019-07-10 쇼와 덴코 가부시키가이샤 육방정 질화붕소 분말, 그 제조 방법, 수지 조성물 및 수지 시트
KR20190082951A (ko) 2016-12-28 2019-07-10 쇼와 덴코 가부시키가이샤 육방정 질화붕소 분말, 그 제조 방법, 수지 조성물 및 수지 시트
WO2018124126A1 (ja) 2016-12-28 2018-07-05 昭和電工株式会社 六方晶窒化ホウ素粉末、その製造方法、樹脂組成物及び樹脂シート
WO2018123788A1 (en) 2016-12-28 2018-07-05 Showa Denko K.K. Hexagonal boron nitride powder, method for producing same, resin composition and resin sheet
US11305993B2 (en) 2016-12-28 2022-04-19 Showa Denko K.K. Hexagonal boron nitride powder, method for producing same, resin composition and resin sheet
US11577957B2 (en) 2016-12-28 2023-02-14 Showa Denko K.K. Hexagonal boron nitride powder, method for producing same, resin composition and resin sheet

Also Published As

Publication number Publication date
GB2309457A (en) 1997-07-30
DE19701771A1 (de) 1997-07-31
DE19701771B4 (de) 2012-12-06
GB2309457B (en) 2000-05-17
US5854155A (en) 1998-12-29
JPH09202663A (ja) 1997-08-05
US6096671A (en) 2000-08-01
CN1237026C (zh) 2006-01-18
CN1173479A (zh) 1998-02-18
GB9700835D0 (en) 1997-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3461651B2 (ja) 六方晶窒化ほう素粉末及びその用途
Hu et al. Promising high-thermal-conductivity substrate material for high-power electronic device: silicon nitride ceramics
JP5081488B2 (ja) 六方晶窒化ホウ素粉末
KR100323941B1 (ko) 질화붕소 및 그의 제조방법
JP7334763B2 (ja) 窒化アルミニウム-窒化ホウ素複合凝集粒子およびその製造方法
JP5673539B2 (ja) 球状化窒化ほう素の製造法
TW201827383A (zh) 氮化硼塊狀粒子、其製造方法及使用其之熱傳導樹脂組成物
US7150911B2 (en) Electrical insulating vapor grown carbon fiber and method for producing the same, and use thereof
JPH1059702A (ja) 窒化ホウ素及びその製造方法
JP3669818B2 (ja) 六方晶窒化ほう素粉末
US4141740A (en) Solid solution and process for producing a solid solution
WO2020195298A1 (ja) 粒状窒化ホウ素の製造方法および粒状窒化ホウ素
WO2015105145A1 (ja) 六方晶窒化ホウ素の製造方法、及び放熱シート
US3261667A (en) Process for the production of metal borides and nitrides
JP3521178B2 (ja) 六方晶窒化ほう素粉末及び用途
JP2583261B2 (ja) 充填剤
JP7316249B2 (ja) 球状窒化アルミニウム粉末の製造方法
JP2022178471A (ja) 窒化ホウ素粉末、及び窒化ホウ素粉末の製造方法、並びに、樹脂組成物
JPS6256307A (ja) 窒化ほう素と他の非酸化物セラミックスとの混合粉末の製造方法
JP7343734B1 (ja) 粉末、粉末の製造方法、及び放熱シート
JP2564804B2 (ja) 窒化アルミニウムの製造方法
JP3105622B2 (ja) ホウ酸アルミニウム系ウイスカー集合体及びその製造方法
JP2023049232A (ja) 球状窒化アルミニウム粉末の製造方法
JP2023147855A (ja) 窒化ホウ素粉末
CN117999241A (zh) 填料用六方氮化硼粉末

Legal Events

Date Code Title Description
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090815

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100815

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110815

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110815

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120815

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130815

Year of fee payment: 10

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term