JP3338966B2 - 透明導電膜形成用塗布液 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、透明導電膜形成用塗布
液に関する。さらに詳しくは、ガラス，セラミックス等
の基板上に塗布して透明な導電性膜の形成に適した塗布
液に関する。

【０００２】

【従来の技術】透明導電膜は、例えば液晶ディスプレイ
などの表示管，タッチパネル，太陽電池などの透明電
極，冷凍ショーケースなどの窓の防雲、あるいは水着防
止用透明発熱体、さらに赤外線反射膜，帯電防止に用い
られる。

【０００３】このような目的に用いる透明導電膜とし
て、有機又は無機金属化合物の溶液を基板に塗布し、加
熱焼成することによって導電膜を形成する方法が知られ
ている。この方法は、溶液の塗布に、印刷法を用いる
と、パターン印刷，乾燥，焼成という簡単な工程で実現
でき、基板上に任意の形状の導電膜を大面積に形成する
ことが可能である。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】この方法に用いる塗布
液として、例えば、硝酸インジウム，有機錫化合物，ヘ
キシレングリコール，酢酸及び／又は無水酢酸を含有す
る透明な導電性膜形成用塗布液（特開平４−２５５７６
８号公報参照）がある。この塗布液は、粘度が５０〜１
００ｃｐｓであり、１００〜２００ｃｐｓを必要とする
フレキソ印刷、あるいは５０〜１００ｃｐｓを必要とす
るスピンコート，グラビア印刷を用いた製膜は可能であ
るが、塗布粘度５０，０００〜３００，０００ｃｐを必
要とする平版印刷，１０，０００〜８０，０００ｃｐを
必要とする凸版印刷，５００〜１，０００ｃｐを必要と
するスクリーン印刷によって製膜することができない。

【０００５】また、特公昭６３−２５４４８号公報に
は、インジウム化合物に、抵抗値調整用として錫化合物
と、粘性剤としてニトロセルロースと、溶媒としてブチ
ルソルブ，ブチルカルビトール，ベンジルアセテート及
びジメチルフタレートの混合溶媒とを添加して得られる
高粘度の透明導電性被膜形成用ペーストが開示されてい
る。このペーストは、スクリーン印刷性と寿命特性を改
善するため、ニトロセルロースをよく溶解するセルソル
ブ、あるいはカルビトール類を使用したものであるが、
粘性剤の添加量が１３〜１７重量％と高く、このため焼
成時に熱分解性が悪くなり、形成される膜の導電性、あ
るいは透明性が低下するという欠点がある。

【０００６】本発明の目的は、少なくともスクリーン印
刷による製膜が可能な高粘度特性を有し、塗布膜が良好
な導電性を示し、機械的強度，光透過性に優れ、面内バ
ラツキが小さい透明導電膜形成用塗布液を提供すること
にある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による透明導電膜形成用塗布液においては、
アセチルアセトンインジウムと、有機錫とを溶剤中に溶
解させ、粘性剤を添加した透明導電膜形成用塗布液であ
って、溶剤は、アルキルフェノール及び／又はアルケニ
ルフェノールと、二塩基性酸エステル及び／又は酢酸ベ
ンジルであり、粘性剤は、ヒドロキシプロピルセルロー
スであり、その添加量は、５重量％以下である。

【０００８】また、アセチルアセトンインジウムと、有
機錫との含有量は、７重量％〜４０重量％である。

【０００９】また、有機錫は、アセチルアセトン錫であ
る。

【００１０】また、アルキルフェノール及び／又はアル
ケニルフェノールの添加量は４０重量％以下である。

【００１１】また、さらに希釈剤を含み、希釈剤は、塗
布液の粘度を低下させる有機溶剤である。

【００１２】

【作用】アセチルアセトンインジウム（ＡｃＡｃＩｎ）
は、一般式

【式１】 で示される化合物である。有機錫には、特にアセチルア
セトン錫が好ましい。

【００１３】ヒドロキシプロピルセルロースは、一般式

【式２】 で示される化合物である。

【００１４】アルキルフェノール及び／又はアルケニル
フェノールとしては、クレゾール類，パラターシャリィ
ーブチルフェノール，オクチルフェノール，ノニルフェ
ノール及びカシューナット殻液［３ペンタデカデシール
フェノール］を挙げることができる。

【００１５】二塩基性酸エステルは、一般式

【式３】 で示される化合物である。

【００１６】特に、高沸点溶剤（蒸留範囲１９６〜２２
５℃）であるグルタル酸

【式４】 が好ましい。

【００１７】発明者らは、アルキルフェノール及び／又
はアルケニルフェノールと二塩基性エステルとの混合溶
剤あるいは、アルキルフェノール及び／又はアルケニル
フェノールと酢酸ベンジルとの混合溶剤は、アセチルア
セトンインジウムと有機錫とを非常に良く溶解し、且つ
これらの混合溶剤にヒドロキシプロピルセルロースを加
えると、ヒドロキシプロピルセルロースの添加量が５重
量％以下の範囲で粘度が高くなることを見い出した。そ
して、また、このセルロースの添加量が少ないことから
塗布後の焼成時には容易に熱分解する。このため透明性
が良く、導電性の高い膜が得られる。

【００１８】本発明による塗布液は、上記各成分を含有
してなる透明で均一な溶液である。係る溶液は、例えば
これらの成分を６０〜２００℃の下で０．５〜１２時間
撹拌することにより得られる。

【００１９】表１にパラターシャリィーブチルフェノー
ルと、ヒドロキシプロピルセルロースの変量試験結果に
ついて示す。

【００２０】

【表１】

【００２１】表２にフェノール類の相違による塗布液の
到達飽和粘度について示す。

【００２２】

【表２】 ＡｃＡｃＩｎ １１．４ ＡｃＡｃＳｎ ０．６ ヒドロキシプロピルセルロース ｙ フェノール誘導体 ２０．０ ＤＢＥ ６８−ｙ 製造条件 １２０℃×３ｈｒｓ

【００２３】本発明によって得られる塗布液の粘度は、
粘性剤であるヒドロキシプロピルセルロースの添加量が
５重量％以下の小量であるにもかかわらず、フェノール
類との組合せによって１２０ｋ〜３００ｋｃｐｓ／２５
℃のような高粘度にまで達するのは、ヒドロキシプロピ
ルセルロースとフェノール類との間に少量存在する−Ｃ
Ｈ₂ＯＨ，−ＣＨＯ，ベンゼン核のフェノール性ＯＨ基
とが化学的な反応を生じることによるものと思われる。

【００２４】フェノール類が４０重量％以上に過剰に加
えられたり、ヒドロキシプロピルセルロースが５重量％
以上過剰に加えられると膜特性が劣るようになる。この
理由は、相互間で架橋反応によるゲル状物が生じ、印刷
などの方法でガラス基板上に塗布し、４００℃〜６２０
℃で焼成した際に、ゲル状物焼却跡が比較的粗大で不均
質なボイドを形成するため、光の乱反射を生じて光学特
性が劣るからであると思われる。

【００２５】上記成分配合によって得られる本発明の透
明導電膜形成用塗布液は、少なくともスクリーン印刷に
要求される粘度以上の印刷法に好適な高粘度のものが得
られる。

【００２６】塗布液の粘度に関し、スクリーン印刷の場
合には、塗布液の粘度が２００ｃｐｓ／２５℃のように
低粘度になると、塗布液返しの際に、塗布液が網目の間
から裏側に廻り込んで印刷不良となるフローダウン現象
が生じ、膜厚が厚くなる。参考までに表３に、エチルセ
ルロース［Ｎ２００］を用いた場合の塗布液粘度を示
す。エチルセルロース［Ｎ２００］を用いたときの塗布
液の粘度は、ヒドロキシプロピルセルロースを用いた場
合の大略１／１００以下である。

【００２７】

【表３】

【００２８】本発明は、ヒドロキシプロピルセルロース
とフェノール類との化学的反応に基づき、ヒドロキシプ
ロピルセルロースの添加量が比較的少ないにもかかわら
ず、高粘度塗布液が得られることから、スクリーン印
刷、のように塗布液に高粘度を要する印刷法を用いて基
板上に任意の形状の繊細で微細な透明導電膜パターンを
形成できる。

【００２９】しかも、本発明によって得られる塗布液
は、基板に対する漏れ性も申し分なく、使用されている
溶剤が高沸点で蒸発速度が遅いことから、塗布作業中の
粘度安定性及び塗布後のレベリング性が良好であり、従
って膜厚や屈曲率などの面内バラツキが非常に小さい透
明導電膜が得られる。

【００３０】塗布膜の乾燥は、一般に塗布液が塗布され
た基板を８０〜１６０℃の温度下に１０〜６０分保持す
ることにより行われ、塗布膜の焼成は、乾燥した塗布基
板を焼成炉に入れ、４００〜６２０℃に昇温することに
より行われる。

【００３１】図１に、塗布液中のＡｃＡｃＩｎ＋ＡｃＡ
ｃＳｎの含有量と膜特性としてのシート抵抗値（Ｒ），
全光線透過率（ＬＴ）及びヘイズ値（Ｈ）との関係を示
した。図１により、（ＡｃＡｃＩｎ＋ＡｃＡｃＳｎ）量
が６％以下の場合には、シート抵抗値が低くならず、７
％以上であることが好ましいことが判る。また、実用的
な上限は４０％である。なお、成分配合，製造条件は、
図中に示したとおりである。

【００３２】ＡｃＡｃＩｎは、溶剤に対する溶解性に限
界があるのは、過剰に加えられると不均質に分散した状
態で存在する未溶解部分が焼成膜中のＩｎ／Ｓｎ濃度を
不均一にするため、光学特性が劣ることになるものと思
われる。

【００３３】図２に印刷焼成膜の（ＡｃＡｃＳｎ／Ａｃ
ＡｃＩｎ＋ＡｃＡｃＳｎ）×１００％と膜特性について
示した。ＡｃＡｃＳｎ量の増加に伴い、膜は、青色に着
色し、その度合いを増す。ＡｃＡｃＳｎ量と共に光学特
性が低下するのはこの着色に起因する。成分配合並びに
製造条件は図中に示した。

【００３４】図２により、ＡｃＡｃＳｎ量としては、５
重量％が最適であり、ＡｃＡｃＳｎ以外の有機錫に同様
の傾向を示す。表４に、塗布液の材料構成の相違と焼成
膜特性との関係について示す。表４においては、ヒドロ
キシプロピルセルロース及び／あるいはパラターシャリ
ィーブチルフェノールが少ない程、焼成膜の導電特性が
優れる傾向を示している。

【００３５】

【表４】

【００３６】さらに、焼成温度の膜特性に及ぼす影響を
図３に示す。図３は、図中に示す配合の試料１，２につ
いて、焼成温度４００〜６００℃の範囲の膜特性を示し
たものである。図３より、膜特性は、高温焼成の程、膜
特性に優れることが分かる。

【００３７】本発明により得られた導電膜形成用塗布液
の塗布方法は特に限定されず、浸漬法，スピンコート
法，印刷法など、従来公知の方法がいずれも可能であ
る。

【００３８】本発明の塗布液は減粘が可能である。例え
ばイソホロン，アセチルアセトン，ターピネオール，エ
チレンブラシレート，酢酸ブチルシクロヘキシルなどの
有機溶剤を単独及び／又は混合し、これを希釈剤として
適宜添加するとよい。これによって、スピンコート，ス
プレーコート，バーコート及びブレードコートを製膜で
きる。

【００３９】

【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例により何ら制約されるもの
ではない。

【００４０】（実施例１）二塩基性酸エステルとして、
６４ｇｒの高沸点溶剤（ＤＢＥ（デュポンジャパン社
製））に、２０ｇｒのパラターシャリィーブチルフェノ
ールを加えて１０分間室温で撹拌しながら溶解した。次
いで４ｇｒのヒドロキシプロピルセルロースを加え、６
０℃で１時間撹拌しながら溶解し、粘稠液を得た。この
粘稠液に０．６ｇｒのＡｃＡｃＳｎと最後に１１．４ｇ
ｒのＡｃＡｃＩｎを加えて撹拌しながら１６０℃に昇温
し、そのまま１時間保持した。まだ熱いうちに５００ｍ
ｅｓｈスクリーンを使用し、吸引濾過して８０ｋｃｐｓ
／２５℃の導電膜形成用塗布液を得た。

【００４１】１００，１５０，２００，２５０，２７０
及び３００ｍｅｓｈのマスクにより、窓ガラスなどとし
て汎用の青板ガラス（厚さ３ｍｍ）を１０ｃｍ角に切っ
た基板上に、得られた塗布液を５ｃｍ角にスクリーン印
刷した。

【００４２】１２０℃で１０分間乾燥後焼成炉に入れ、
室温から５００℃まで約８０分を掛けて昇温し、そのま
ま１０分間保持した。次いで３０分後炉温が３００℃以
下になったところで取り出し、導電膜を得た。

【００４３】得られた導電膜について、シート抵抗値を
四端子法で、全光線透過率（ＬＴ）とヘイズ価（Ｈ）を
ヘイズメーターで、硬度を鉛筆硬度計で、膜厚を表面粗
度計でそれぞれ測定した。その結果を表５に示す。

【００４４】

【表５】

【００４５】（実施例２）６４ｇｒの酢酸ベンジルに２
０ｇｒのパラターシャリィーブチルフェノールを加えて
１０分間室温で撹拌しながら溶解した。次いで４ｇｒの
ヒドロキシプロピルセルロースを加え、６０℃で１時間
撹拌しながら溶解して粘稠液を得た。この粘稠液に０．
６ｇｒのＡｃＡｃＳｎと１１．４ｇｒのＡｃＡｃＩｎを
加えて、撹拌しながら１６０℃に昇温し、そのまま１時
間保持した。まだ熱いうちに５００ｍｅｓｈのスクリー
ンを使用し、吸引濾過して２４ｋｃｐｓ／２５℃の導電
膜形成用塗布液を得た。

【００４６】２７０ｍｅｓｈ及び１５０ｍｅｓｈのマス
クを使用して実施例１と同様に印刷，乾燥，焼成を行
い、導電膜を得た。得られた導電膜の特性を表６に示
す。

【００４７】

【表６】

【００４８】（実施例３）実施例１で得た導電膜形成塗
布液を２７０ｍｅｓｈのマスクを使用して実施例１と同
様に印刷，乾燥した。次いで酸素中で４５分を掛け、４
２０℃に昇温した。この温度に達した後、窒素を流入さ
せ、炉内が窒素雰囲気になったところで再び昇温し、５
００℃で１０分間焼成した。

【００４９】約４時間掛けて冷却し、炉内温度が１５０
℃に達してから取り出した焼成膜の特性を表７に示す。

【００５０】

【表７】

【００５１】（実施例４）６４ｇｒのＤＢＥに２０ｇｒ
のオクチルフェノールを加えて１０分間室温で撹拌しな
がら溶解した。次いで４ｇｒのヒドロキシプロピルセル
ロースを加え、６０℃で１時間撹拌しながら溶解し、粘
稠液とした。この粘稠液に０．６ｇｒのＡｃＡｃＳｎと
１１．４ｇｒのＡｃＡｃＩｎを加えて撹拌しながら１６
０℃に昇温し、そのまま１時間保持した。いまだ熱いう
ちに、粘稠液を５００ｍｅｓｈのスクリーンを使用して
吸引濾過し、１５０ｋｃｐｓ／２５℃の導電膜形成用塗
布液を得た。次に、２７０ｍｅｓｈのマスクを使用して
得られた塗布液を実施例１と同様に印刷，乾燥，焼成を
行い、基板上に透明導電膜を形成した。導電膜の特性は
表８のとおりである。

【００５２】

【表８】

【００５３】（実施例５）６４ｇｒのＤＢＥに２０ｇｒ
のノニルフェノールの混液に、４ｇｒのヒドロキシプロ
ピルセルロースを加え、６０℃で１時間溶解して粘稠液
を得た。次いで０．６ｇｒのＡｃＡｃＳｎと１１．４ｇ
ｒのＡｃＡｃＩｎを加えて実施例４と同様の方法によ
り、２００ｋｃｐｓ／２５℃の導電膜形成用塗布液を得
た。次に、１５０，２００及び２７０ｍｅｓｈのマスク
を用い得られた塗布液を実施例１と同様に印刷，乾燥，
焼成して基板上に透明導電膜を形成した。１５０ｍｅｓ
ｈのマスクを使用した焼成膜には微細な亀裂が発生して
いた。２００及び２７０ｍｅｓｈによる導電膜の特性は
表９のとおりである。

【００５４】

【表９】

【００５５】（実施例６）６４ｇｒのＤＢＥに２０ｇｒ
のカシューナット殻液（３ｐｅｎｔｏｄｅｃａｄｅｃｙ
ｌ ｐｈｅｎｏｌ）の混液に、４ｇｒのヒドロキシプロ
ピルセルロースを加え、６０℃で１時間溶解して粘稠液
を得た。次いで０．６ｇｒのＡｃＡｃＳｎと１１．４ｇ
ｒのＡｃＡｃＩｎを加えて実施例１と同様の方法によ
り、３００ｋｃｐｓ／２５℃の導電膜形成用塗布液を得
た。次に、２００，２５０，２７０及び３００ｍｅｓｈ
のマスクを用い、得られた塗布液を実施例１と同様の方
法で印刷，乾燥し，５００℃で１時間焼成して基板上に
透明導電膜を形成した。２００及び２５０ｍｅｓｈのマ
スクを使用した焼成膜には微細な亀裂が発生していた。
導電膜の特性は表１０のとおりである。

【００５６】

【表１０】

【００５７】（実施例７）８７ｇｒのＤＢＥに５ｇｒの
パラターシャリィーブチルフェノール５ｇｒを加え、１
０分間室温で撹拌しながら溶解した。次いで１ｇｒのヒ
ドロキシプロピルセルロースを加えて６０℃で１時間溶
解し、０．３ｇｒのＡｃＡｃＳｎ及び６．７ｇｒのＡｃ
ＡｃＩｎを加えた。１６０℃で１時間撹拌しながら溶解
したのち、液がいまだ熱いうちに５００ｍｅｓｈスクリ
ーンにより吸引濾過して１４０ｋｃｐｓ／２５℃の導電
膜形成用塗布液を得た。この塗布液をアセチルアセトン
で希釈したときの粘度は表１１のとおりである。

【００５８】

【表１１】

【００５９】一方、１５ｃｍ×２０ｃｍで厚２ｍｍtの
青板ガラス（ＬＴ９１．６％，Ｈ０．０％）を８０℃の
オーブンに２０分間入れて加温した後、炉から取り出
し、このガラス板を、スピンコーターにて３００ｒｐｍ
の回転速度で回転させ、その上に塗布液／アセチルアセ
トン＝６０／４０の希釈液８ｇｒを一瞬のうちに塗布
し、塗布後２分間回転を継続した。次いで実施例１と同
様の方法で５００℃で１０分間焼成し、透明導電膜を形
成した。導電膜の形成は、２００ｒｐｍの回転速度でも
同様に行った。得られた導電膜の特性は表１２のとおり
である。

【００６０】

【表１２】

【００６１】（実施例８）２７０ｇｒのＤＢＥに１８０
ｇｒのパラターシャリィーブチルフェノールを加えて１
０分間室温で撹拌しながら溶解した。次いで１３ｇｒの
ヒドロキシプロピルセルロースを加え、６０℃で１時間
撹拌しながら溶解して粘稠液を得た。この粘稠液に２．
１ｇｒのモノブチル錫トリアセテートと、最後に４７．
５ｇｒのＡｃＡｃＩｎを加え撹拌しながら１６０℃に昇
温し、そのまま１時間保持した。

【００６２】まだ熱いうちに５００ｍｅｓｈスクリーン
を使用して粘稠液を吸引濾過し、１６ｋｃｐｓ／２５℃
の導電膜形成用塗布液を得た。

【００６３】一方、２００ｍｅｓｈのマスクにより１０
ｃｍ×１０ｃｍ×０．３ｃｍの青板ガラス基板上に得ら
れた塗布液をスクリーン印刷した。

【００６４】１２０℃で１０分間乾燥後焼成炉に入れ、
室温から５５０℃まで約９０分を掛けて昇温し、２０分
間保持した。次いで３０分後炉温が３００℃以下になっ
たところで取り出して導電膜を得た。

【００６５】得られた導電膜の特性は表１３のとおりで
あった。

【００６６】

【表１３】

【００６７】（実施例９）２．１ｇｒのモノブチル錫ト
リアセテートの代りに３．９ｇｒのジ−ｎ−ブトキシ錫
を用いたほかは実施例８と全く同様の方法で３２ｋｃｐ
ｓ／２５℃の導電膜形成用塗布液を得た。

【００６８】実施例８と同様の方法で印刷，乾燥，焼成
して得た導電膜の特性は表１４のとおりであった。

【００６９】

【表１４】

【００７０】（実施例１０）２．１ｇｒのモノブチル錫
トリアセテートの代りに２．５ｇｒのオクチル酸錫を用
いたほかは実施例８と全く同様の方法で２５ｋｃｐｓ／
２５℃の導電膜形成用塗布液を得た。

【００７１】実施例８と同様の方法で印刷，乾燥，焼成
して得た導電膜の特性は表１５のとおりであった。

【００７２】

【表１５】

【００７３】（比較例１）２．１ｇｒのモノブチル錫ト
リアセテートの代りに１．３ｇｒの塩化錫ＳｎＣｌ₂・
２Ｈ₂Ｏを用いたほかは実施例８と全く同様の方法で２
５ｋｃｐｓ／２５℃の導電膜形成用塗布液を得た。

【００７４】実施例８と同様の方法で印刷，乾燥，焼成
して得た導電膜の特性は表１６のとおりであった。

【００７５】

【表１６】

【００７６】（比較例２）酢酸ベンジル２６．３３ｇ
ｒ，ターピネオール４２．３３ｇｒ，イソホロン９．１
５ｇｒ，アセチルアセトン９．１４ｇｒの混合溶液中に
２．９４ｇｒのヒドロキシプロピルセルロースを加え、
撹拌しながら１６０℃で８時間加熱溶解して粘稠液を得
た。

【００７７】この粘稠液に９．６０ｇｒのオクチル酸イ
ンジウムと０．５１ｇｒのオクチル酸錫を加え、実施例
８と同様の方法により１．８ｋｃｐｓ／２５℃の導電膜
形成用塗布液を得た。

【００７８】実施例８と同様の方法で印刷，乾燥，焼成
して得た導電膜の特性は表１７のとおりであった。

【００７９】

【表１７】

【０００８０】以上、実施例と比較例とを較べて明らか
なとおり、比較例による導電膜は、いずれも全光線透過
率，ヘイズ値に劣り抵抗値が大きく、殊に粘度を高めた
ものはさらに抵抗値が大きくなっているのに対し、本発
明の塗布液は、高粘度で得られた導電膜は抵抗値が小さ
く、全光線透過率，ヘイズ値は共に優れ、また、本発明
によれば希釈液を用いてスピンコートにより実用的な透
明導電膜を形成できることが実証された。

【００８１】

【発明の効果】以上のように本発明の導電膜形成用塗布
液によれば、高粘度で抵抗値が小さいため、平板，凸
版，スクリーンなどの印刷法はもとより、必要により希
釈してスピンコートなどにより膜特性に優れた透明導電
膜を成膜でき、特に、パターン印刷，乾燥，焼成という
簡単な工程で基板上に任意の形状の透明導電膜微細パタ
ーンを形成することができる。

【００８２】また、低い焼成温度での焼成が可能であ
り、得られた導電膜は、導電性が良好で、機械的強度，
光学性に優れ、面内バラツキが小さいため、タッチパネ
ルや表示装置の透明電極や帯電防止膜などに広く利用で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】［ＡｃＡｃＩｎ＋ＡｃＡｃＳｎ］量と、焼成膜
のシート抵抗値との関係を示す図である。

【図２】印刷焼成膜の（ＡｃＡｃＳｎ）／（ＡｃＡｃＩ
ｎ）×１００％と膜特性との関係を示す図である。

【図３】塗布膜の焼成温度の膜特性に及ぼす影響を示す
図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小泉 啓寿 東京都品川区西五反田７丁目９番４号 東北化工株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−9471（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−199105（ＪＰ，Ａ) 特公 昭63−19044（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01B 13/00 H01B 5/14 C09D 5/24

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 アセチルアセトンインジウムと、有機錫
   とを溶剤中に溶解させ、粘性剤を添加した透明導電膜形
   成用塗布液であって、 溶剤は、アルキルフェノール及び／又はアルケニルフェ
   ノールと、二塩基性酸エステル及び／又は酢酸ベンジル
   であり、 粘性剤は、ヒドロキシプロピルセルロースであり、その
   添加量は、５重量％以下であることを特徴とする透明導
   電膜形成用塗布液。
2. 【請求項２】 アセチルアセトンインジウムと、有機錫
   との含有量は、７重量％〜４０重量％である請求項１に
   記載の透明導電膜形成用塗布液。
3. 【請求項３】 有機錫は、アセチルアセトン錫である請
   求項１又は２に記載の透明導電膜形成用塗布液。
4. 【請求項４】 アルキルフェノール及び／又はアルケニ
   ルフェノールの添加量は、４０重量％以下であることを
   特徴とする請求項１，２又は３に記載の透明導電膜形成
   用塗布液。
5. 【請求項５】 請求項１，２，３又は４に記載の透明導
   電膜形成用塗布液であって、さらに希釈剤を含み、希釈
   剤は、塗布液の粘度を低下させる有機溶剤であることを
   特徴とする透明導電膜形成用塗布液。