JP3260683B2 - 基板移載装置 - Google Patents
基板移載装置Info
- Publication number
- JP3260683B2 JP3260683B2 JP4030098A JP4030098A JP3260683B2 JP 3260683 B2 JP3260683 B2 JP 3260683B2 JP 4030098 A JP4030098 A JP 4030098A JP 4030098 A JP4030098 A JP 4030098A JP 3260683 B2 JP3260683 B2 JP 3260683B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transfer
- cassette
- substrate
- substrates
- transfer arm
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Control Of Conveyors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示用基板
（ＬＣＤ用基板）、プラズマディスプレイ用基板（ＰＤ
Ｐ用基板）や半導体ウェハ等の基板移載装置に関する。
（ＬＣＤ用基板）、プラズマディスプレイ用基板（ＰＤ
Ｐ用基板）や半導体ウェハ等の基板移載装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、パソコンやワープロなどの表示
装置に用いられるＬＣＤ用基板は、ガラス基板表面に成
膜装置等の様々な装置による基板処理工程を経て製造が
なされる。基板処理を行う各工程間を搬送するために、
通常２０枚程度の複数の基板が収納される共通のカセッ
トを使用している。この共通のカセットを受け入れる各
装置は、処理を行うために共通のカセットから自装置の
処理部へ導入するため専用のカセットを持っているもの
が多い。したがって、共通カセットから専用カセットへ
基板を移載する必要がある。
装置に用いられるＬＣＤ用基板は、ガラス基板表面に成
膜装置等の様々な装置による基板処理工程を経て製造が
なされる。基板処理を行う各工程間を搬送するために、
通常２０枚程度の複数の基板が収納される共通のカセッ
トを使用している。この共通のカセットを受け入れる各
装置は、処理を行うために共通のカセットから自装置の
処理部へ導入するため専用のカセットを持っているもの
が多い。したがって、共通カセットから専用カセットへ
基板を移載する必要がある。
【０００３】このため、基板移載装置では共通カセット
と専用カセット間で基板を移載するために、基板を１枚
ずつ移載する方法や一括して移載する方法が取られてい
た。一般にカセット及び基板はほとんどが絶縁性材料に
よって形成されているため、基板移載装置による移載中
にカセットや基板は静電気を帯びることがあり、その静
電気を除去する手段を設けることが必要となる。
と専用カセット間で基板を移載するために、基板を１枚
ずつ移載する方法や一括して移載する方法が取られてい
た。一般にカセット及び基板はほとんどが絶縁性材料に
よって形成されているため、基板移載装置による移載中
にカセットや基板は静電気を帯びることがあり、その静
電気を除去する手段を設けることが必要となる。
【０００４】このような基板移載装置の第１の従来技術
として図５に示したような基板を一括して移載する装置
が使用されている。すなわち、複数の移載アーム４をそ
れらの基端部にスペーサを介装して積層することによ
り、ローダー３０を構成する。このローダー３０の下端
部には、ローダー３０をＸ軸方向へ移動させるＸ軸駆動
部２１，ローダー３０およびＸ軸駆動部２１を昇降し回
転させるための回転及び上下シリンダ１４，Ｙ軸方向に
移動させるＹ軸駆動部２０を備えている。このローダー
３０の複数の移載アーム４によって、共通カセット１内
に収納された複数の基板２を一括して取出し、処理装置
側の専用カセット３へ移載する。そして上部には、共通
カセット１や基板２の帯電を除去するためにイオナイザ
（静電気除去装置）１５やバータイプイオナイザ１６が
設けられている（例えば、実開平５−４６８３９号公報
参照）。
として図５に示したような基板を一括して移載する装置
が使用されている。すなわち、複数の移載アーム４をそ
れらの基端部にスペーサを介装して積層することによ
り、ローダー３０を構成する。このローダー３０の下端
部には、ローダー３０をＸ軸方向へ移動させるＸ軸駆動
部２１，ローダー３０およびＸ軸駆動部２１を昇降し回
転させるための回転及び上下シリンダ１４，Ｙ軸方向に
移動させるＹ軸駆動部２０を備えている。このローダー
３０の複数の移載アーム４によって、共通カセット１内
に収納された複数の基板２を一括して取出し、処理装置
側の専用カセット３へ移載する。そして上部には、共通
カセット１や基板２の帯電を除去するためにイオナイザ
（静電気除去装置）１５やバータイプイオナイザ１６が
設けられている（例えば、実開平５−４６８３９号公報
参照）。
【０００５】また、第２の従来技術として特開平８−２
６２０９１号公報には、複数のＬＣＤ用基板が収納され
たカセットからＬＣＤ用基板を１枚ずつ取出し、ＬＣＤ
用基板の電気的検査を行う検査装置が示されており、こ
の検査装置には、カセットに帯電した静電気を除去する
第１のイオナイザと、搬送時にＬＣＤ用基板に帯電した
静電気を除去する第２のイオナイザが設けられている。
６２０９１号公報には、複数のＬＣＤ用基板が収納され
たカセットからＬＣＤ用基板を１枚ずつ取出し、ＬＣＤ
用基板の電気的検査を行う検査装置が示されており、こ
の検査装置には、カセットに帯電した静電気を除去する
第１のイオナイザと、搬送時にＬＣＤ用基板に帯電した
静電気を除去する第２のイオナイザが設けられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記第１の従来技術に
おいては、基板を一括して移載する場合、中段部、下段
部の基板に発生した静電気が除去されにくく、静電破壊
による製品の歩留まりを低下させるという欠点がある。
その理由は、静電気除去装置を移載装置上部に配置して
いることにより、移載中に発生した静電気は、上部の基
板にしか静電気除去の効果が働かず、下側の基板は静電
気が除去されないためである。
おいては、基板を一括して移載する場合、中段部、下段
部の基板に発生した静電気が除去されにくく、静電破壊
による製品の歩留まりを低下させるという欠点がある。
その理由は、静電気除去装置を移載装置上部に配置して
いることにより、移載中に発生した静電気は、上部の基
板にしか静電気除去の効果が働かず、下側の基板は静電
気が除去されないためである。
【０００７】また、処理装置側の専用カセットで発生し
た静電気は除去できず、静電破壊による製品の歩留まり
を低下させるという欠点がある。その理由は、成膜装置
等の真空となる専用カセットには静電気除去装置を載置
できないことにある。
た静電気は除去できず、静電破壊による製品の歩留まり
を低下させるという欠点がある。その理由は、成膜装置
等の真空となる専用カセットには静電気除去装置を載置
できないことにある。
【０００８】さらに、発生する静電気の場所を特定する
ことが難しいため、静電気を除去するためには、静電気
除去装置を多数あらゆる場所に配置しなければならない
という欠点がある。その理由は、カセットや多数の基板
の静電気を効果的に除去するためには、移動する移載部
の全ての範囲をカバーできる静電気除去装置が必要とな
ることにある。
ことが難しいため、静電気を除去するためには、静電気
除去装置を多数あらゆる場所に配置しなければならない
という欠点がある。その理由は、カセットや多数の基板
の静電気を効果的に除去するためには、移動する移載部
の全ての範囲をカバーできる静電気除去装置が必要とな
ることにある。
【０００９】また、上記第２の従来技術においても、発
生する静電気の場所を特定することが難しいため、静電
気を除去するためには、静電気除去装置を多数あらゆる
場所に配置しなければならないという欠点がある。
生する静電気の場所を特定することが難しいため、静電
気を除去するためには、静電気除去装置を多数あらゆる
場所に配置しなければならないという欠点がある。
【００１０】本発明の目的は、上記課題を解決するた
め、帯電された状態で供給された基板やカセットの静電
気及び、移載時に発生する静電気を全ての基板とカセッ
トに対して除去し、製品の歩留まり向上を図ることがで
きる基板移載装置を提供することである。
め、帯電された状態で供給された基板やカセットの静電
気及び、移載時に発生する静電気を全ての基板とカセッ
トに対して除去し、製品の歩留まり向上を図ることがで
きる基板移載装置を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本願の第１の発明の基板
移載装置は、第１のカセットから第２のカセットに複数
の基板を一括して移載するための複数基板支持アームを
持つ基板移載装置において、基板を移載するための各基
板支持アームの各支持アーム間に均等に複数の静電気除
去装置（イオナイザ）のイオン吹出口を有する。
移載装置は、第１のカセットから第２のカセットに複数
の基板を一括して移載するための複数基板支持アームを
持つ基板移載装置において、基板を移載するための各基
板支持アームの各支持アーム間に均等に複数の静電気除
去装置（イオナイザ）のイオン吹出口を有する。
【００１２】
【００１３】本願の第１の発明によれば、基板はカセッ
ト載置部に載置された複数の基板が収納されたカセット
から、基板処理を目的に複数の基板を収納するカセット
に一括して移載される。移動する基板移載部の各基板支
持アーム付け根に均等に取り付けられた静電気除去装置
が作用するので、移動しながら基板周辺、カセット、及
び一括移載される基板に帯電した静電気を均等に除去す
ることができる。
ト載置部に載置された複数の基板が収納されたカセット
から、基板処理を目的に複数の基板を収納するカセット
に一括して移載される。移動する基板移載部の各基板支
持アーム付け根に均等に取り付けられた静電気除去装置
が作用するので、移動しながら基板周辺、カセット、及
び一括移載される基板に帯電した静電気を均等に除去す
ることができる。
【００１４】
【００１５】また、本発明によれば、複数の基板を収納
した共通カセットが載置される載置台と、共通カセット
内の基板を一括して取り出す複数の移載アームを持ち該
移載アームを移動させる機構を有する移載部と、各移載
アームの付け根の上下左右に取り付けられた複数のイオ
ナイザと、移載部の複数の移載アームから一括して基板
を受け取る処理側カセット載置部の専用カセットとを有
する基板移載装置が得られる。
した共通カセットが載置される載置台と、共通カセット
内の基板を一括して取り出す複数の移載アームを持ち該
移載アームを移動させる機構を有する移載部と、各移載
アームの付け根の上下左右に取り付けられた複数のイオ
ナイザと、移載部の複数の移載アームから一括して基板
を受け取る処理側カセット載置部の専用カセットとを有
する基板移載装置が得られる。
【００１６】さらに、本発明によれば、複数の基板を収
納した共通カセットが載置される載置台と、共通カセッ
ト内の基板を１枚づつ取り出す１つの移載アームを持つ
多関節ロボットと、移載アームの付け根の上下左右に取
り付けられらた複数のイオナイザと、移載アームの回転
と上下動作を行う回転及び上下シリンダと移載アームＹ
軸駆動部とを有する移載部と、移載アームから基板を受
け取る処理側カセット載置部の専用カセットとを有する
基板移載装置が得られる。
納した共通カセットが載置される載置台と、共通カセッ
ト内の基板を１枚づつ取り出す１つの移載アームを持つ
多関節ロボットと、移載アームの付け根の上下左右に取
り付けられらた複数のイオナイザと、移載アームの回転
と上下動作を行う回転及び上下シリンダと移載アームＹ
軸駆動部とを有する移載部と、移載アームから基板を受
け取る処理側カセット載置部の専用カセットとを有する
基板移載装置が得られる。
【００１７】
【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て詳細に説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を
示す全体平面図であり、図２はその側面図、図３はその
移載機構部分の正面図である。第１の実施の形態の基板
移載装置は、図１に示すように他工程から搬送された複
数の基板２を搭載した共通カセット１が載置されるカセ
ット載置台１８と、共通カセット１内の基板２を一括し
て取り出す複数の移載アーム４を持ち可動する移載部１
９と、各移載アーム４の付け根の上下左右に取り付けら
れた複数のイオナイザ１３と、移載部１９の複数の移載
アーム４から一括して基板２を受け取る処理側カセット
載置部１１の専用カセット３とで構成されている。
て詳細に説明する。図１は本発明の第１の実施の形態を
示す全体平面図であり、図２はその側面図、図３はその
移載機構部分の正面図である。第１の実施の形態の基板
移載装置は、図１に示すように他工程から搬送された複
数の基板２を搭載した共通カセット１が載置されるカセ
ット載置台１８と、共通カセット１内の基板２を一括し
て取り出す複数の移載アーム４を持ち可動する移載部１
９と、各移載アーム４の付け根の上下左右に取り付けら
れた複数のイオナイザ１３と、移載部１９の複数の移載
アーム４から一括して基板２を受け取る処理側カセット
載置部１１の専用カセット３とで構成されている。
【００１８】そして移載部１９の構成は、図１、図２、
図３に示すように、共通カセット１Ａから１Ｄ及び専用
カセット３Ａ、３Ｂの位置に移動する移載アームＹ軸駆
動部２０とその走行を可能にするＹ軸線路８、８′、Ｙ
軸ボールネジ９およびＹ軸ボールネジ駆動モータ１０を
有し、Ｙ軸駆動部２０の上部には、Ｘ軸駆動部２１の回
転と上下動作を可能にする回転及び上下シリンダ１４を
介してＸ軸移載キャリア２２が載置され、Ｘ軸移載キャ
リア２２上には、共通カセット１Ａから１Ｄ及び専用カ
セット３Ａ、３Ｂへの進入を可能にする移載アームＸ軸
駆動部２１が、Ｘ軸線路５、５′、Ｘ軸ボールネジ駆動
モータ７およびＸ軸ボールネジ６とともに載置される。
図３に示すように、共通カセット１Ａから１Ｄ及び専用
カセット３Ａ、３Ｂの位置に移動する移載アームＹ軸駆
動部２０とその走行を可能にするＹ軸線路８、８′、Ｙ
軸ボールネジ９およびＹ軸ボールネジ駆動モータ１０を
有し、Ｙ軸駆動部２０の上部には、Ｘ軸駆動部２１の回
転と上下動作を可能にする回転及び上下シリンダ１４を
介してＸ軸移載キャリア２２が載置され、Ｘ軸移載キャ
リア２２上には、共通カセット１Ａから１Ｄ及び専用カ
セット３Ａ、３Ｂへの進入を可能にする移載アームＸ軸
駆動部２１が、Ｘ軸線路５、５′、Ｘ軸ボールネジ駆動
モータ７およびＸ軸ボールネジ６とともに載置される。
【００１９】移載アームＸ軸駆動部２１は、図２、図３
に示すように複数の移載アーム４とその上下左右に取り
付けられた複数のイオナイザ１３を有し、イオナイザ１
３はそれぞれプラスイオンとマイナスイオンを放出する
専用のイオナイザであり、それらは互いに交互に配置さ
れる。
に示すように複数の移載アーム４とその上下左右に取り
付けられた複数のイオナイザ１３を有し、イオナイザ１
３はそれぞれプラスイオンとマイナスイオンを放出する
専用のイオナイザであり、それらは互いに交互に配置さ
れる。
【００２０】処理側カセット載置部１１の専用カセット
３は、図１に示すように真空成膜装置基板投入部のよう
な処理側の装置配置に対応し斜めもしくは平行に配置さ
れる。
３は、図１に示すように真空成膜装置基板投入部のよう
な処理側の装置配置に対応し斜めもしくは平行に配置さ
れる。
【００２１】次に本発明の動作を図１、図２、図３を用
いて詳細に説明する。まず、他工程から搬送された複数
の基板２を搭載した共通カセット１がカセット載置台１
８に載置される。移載アーム４の移動は、まず共通カセ
ット１に対して垂直方向に進入できるようにＹ軸線路
８、８′とＹ軸ボールネジ駆動用モータ１０によって駆
動されるＹ軸ボールネジ９によって共通カセット１Ａの
位置に移載アームＹ軸駆動部２０が移動し、共通カセッ
ト１に収納された複数の基板２の間に複数の移載アーム
４が挿入できる位置になるように回転及び上下シリンダ
１４により配置される。
いて詳細に説明する。まず、他工程から搬送された複数
の基板２を搭載した共通カセット１がカセット載置台１
８に載置される。移載アーム４の移動は、まず共通カセ
ット１に対して垂直方向に進入できるようにＹ軸線路
８、８′とＹ軸ボールネジ駆動用モータ１０によって駆
動されるＹ軸ボールネジ９によって共通カセット１Ａの
位置に移載アームＹ軸駆動部２０が移動し、共通カセッ
ト１に収納された複数の基板２の間に複数の移載アーム
４が挿入できる位置になるように回転及び上下シリンダ
１４により配置される。
【００２２】次に移載アームＸ軸駆動部２１は、Ｘ軸線
路５、５′とモータ７によって駆動されるＸ軸ボールネ
ジ６によって共通カセット１側へ進入し、移載アーム４
が基板２を支持できる位置まで前進する。回転及び上下
シリンダ１４によって移載アーム４は、すべての基板２
を共通カセット１内の基板受けから浮かせ基板２を取出
せる高さまで上昇する。基板受けと干渉しない高さにお
いて、移載アーム４は移載アームＸ軸駆動部２１の動作
により、基板２を一括して引き出す。
路５、５′とモータ７によって駆動されるＸ軸ボールネ
ジ６によって共通カセット１側へ進入し、移載アーム４
が基板２を支持できる位置まで前進する。回転及び上下
シリンダ１４によって移載アーム４は、すべての基板２
を共通カセット１内の基板受けから浮かせ基板２を取出
せる高さまで上昇する。基板受けと干渉しない高さにお
いて、移載アーム４は移載アームＸ軸駆動部２１の動作
により、基板２を一括して引き出す。
【００２３】次に移載アーム４は基板２を保持したま
ま、移載アームＹ軸駆動部２０の動作により、処理側カ
セット載置部１１に載置された専用カセット１１Ｂに対
向する位置まで移動する。移載アーム４は基板２を保持
したまま、回転及び上下シリンダ１４により専用カセッ
ト３Ｂに挿入できる位置になるような回転方向と高さに
移動する。この際、専用カセット３Ｂ内基板受けに干渉
しない位置になるように動作する。
ま、移載アームＹ軸駆動部２０の動作により、処理側カ
セット載置部１１に載置された専用カセット１１Ｂに対
向する位置まで移動する。移載アーム４は基板２を保持
したまま、回転及び上下シリンダ１４により専用カセッ
ト３Ｂに挿入できる位置になるような回転方向と高さに
移動する。この際、専用カセット３Ｂ内基板受けに干渉
しない位置になるように動作する。
【００２４】移載アーム４は基板２を保持したまま、移
載アームＸ軸駆動部２１の動作により前進し、基板２を
一括して専用カセット３Ｂ内に挿入する。移載アーム４
は基板２を保持したまま、回転及び上下シリンダ１４の
動作により下降し、すべての基板２を専用カセット３Ｂ
内の基板受け上に降ろす。移載アーム４は上下基板２に
干渉しない位置まで降下すると、移載アームＸ軸駆動部
２１の動作により、共通カセット１と処理側カセット載
置部１１と干渉しない位置まで移動し待機する。
載アームＸ軸駆動部２１の動作により前進し、基板２を
一括して専用カセット３Ｂ内に挿入する。移載アーム４
は基板２を保持したまま、回転及び上下シリンダ１４の
動作により下降し、すべての基板２を専用カセット３Ｂ
内の基板受け上に降ろす。移載アーム４は上下基板２に
干渉しない位置まで降下すると、移載アームＸ軸駆動部
２１の動作により、共通カセット１と処理側カセット載
置部１１と干渉しない位置まで移動し待機する。
【００２５】以上の動作において、複数のイオナイザ１
３はＮ２ガス吹き出し機構を備えているため常時イオン
を効率良く放出し、一括移載される複数の基板２の上段
から下段まで全ての段の基板２に対して均等に帯電した
静電気を中和し静電気の除去を行うことができる。イオ
ナイザ１３は移載される基板２を移載中常時除電しつづ
けるため、予期されない箇所で発生した静電気も除去す
る能力がある。
３はＮ２ガス吹き出し機構を備えているため常時イオン
を効率良く放出し、一括移載される複数の基板２の上段
から下段まで全ての段の基板２に対して均等に帯電した
静電気を中和し静電気の除去を行うことができる。イオ
ナイザ１３は移載される基板２を移載中常時除電しつづ
けるため、予期されない箇所で発生した静電気も除去す
る能力がある。
【００２６】処理側において基板処理を終えた複数の基
板２は上記と逆の動作で共通カセット１Ａへ移載され
る。この逆の動作の間も、複数のイオナイザ１３は共通
カセット１、専用カセット３、基板２及び搬送中に基板
２に発生する静電気を除去する。共通カセット１Ａに処
理を終えて戻った基板２は共通カセット１Ａごと、次の
工程へ運ばれる。
板２は上記と逆の動作で共通カセット１Ａへ移載され
る。この逆の動作の間も、複数のイオナイザ１３は共通
カセット１、専用カセット３、基板２及び搬送中に基板
２に発生する静電気を除去する。共通カセット１Ａに処
理を終えて戻った基板２は共通カセット１Ａごと、次の
工程へ運ばれる。
【００２７】次に本発明の第２の実施の形態について図
４を参照にして説明する。第２の実施の形態は、他工程
から搬送された複数の基板２を搭載した共通カセット１
が載置されるカセット載置台と、共通カセット１内の基
板２を一枚づつ取り出す一つの移載アーム４を持つ多関
節ロボット１７と、移載アーム４の付け根の上下左右に
取り付けられた複数のイオナイザ１３と、移載アーム４
の回転と上下動作を行う回転及び上下シリンダ１４と移
載アームＹ軸駆動部２０を持つ移載部１９と、移載アー
ム４から基板２を受け取る処理側カセット載置部１１の
専用カセット３とで構成されている。
４を参照にして説明する。第２の実施の形態は、他工程
から搬送された複数の基板２を搭載した共通カセット１
が載置されるカセット載置台と、共通カセット１内の基
板２を一枚づつ取り出す一つの移載アーム４を持つ多関
節ロボット１７と、移載アーム４の付け根の上下左右に
取り付けられた複数のイオナイザ１３と、移載アーム４
の回転と上下動作を行う回転及び上下シリンダ１４と移
載アームＹ軸駆動部２０を持つ移載部１９と、移載アー
ム４から基板２を受け取る処理側カセット載置部１１の
専用カセット３とで構成されている。
【００２８】移載アーム４の付け根に付けられたＮ２ガ
ス送風式イオナイザ１３は、移載アーム４の上下左右計
４箇所の位置に配置される。各イオナイザ１３はそれぞ
れプラスイオンとマイナスイオンを放出する専用のイオ
ナイザであり、それらは互いに交互に配置される。
ス送風式イオナイザ１３は、移載アーム４の上下左右計
４箇所の位置に配置される。各イオナイザ１３はそれぞ
れプラスイオンとマイナスイオンを放出する専用のイオ
ナイザであり、それらは互いに交互に配置される。
【００２９】次に第２の実施の形態の動作について説明
する。移載部１９は多関節ロボット１７を使用して１枚
づつ基板２を移載する以外は、第１の実施の形態と動作
は同じである。第１の実施の形態の効果は一括移載する
基板２の下側基板２の除電を主目的にしたのに対し、本
実施の形態はＮ２ガス送風式イオナイザ１３を使用する
ことで、移載する基板２と共通カセット１と専用カセッ
ト３とその周辺を効率良く除電することを目的としてい
る。
する。移載部１９は多関節ロボット１７を使用して１枚
づつ基板２を移載する以外は、第１の実施の形態と動作
は同じである。第１の実施の形態の効果は一括移載する
基板２の下側基板２の除電を主目的にしたのに対し、本
実施の形態はＮ２ガス送風式イオナイザ１３を使用する
ことで、移載する基板２と共通カセット１と専用カセッ
ト３とその周辺を効率良く除電することを目的としてい
る。
【００３０】
【発明の効果】以上説明した本発明の第一の効果は、一
括移載時の下側基板２に発生する静電気を除電できると
いうことである。これにより歩留まり向上ができる。そ
の理由は従来の静電気除電装置（イオナイザ）では最上
部の基板上の静電気しか除電できなかったからである。
括移載時の下側基板２に発生する静電気を除電できると
いうことである。これにより歩留まり向上ができる。そ
の理由は従来の静電気除電装置（イオナイザ）では最上
部の基板上の静電気しか除電できなかったからである。
【００３１】第二の効果は、静電気除電装置を配置でき
ない箇所の静電気を除電できるということである。これ
により、歩留まり向上ができる。その理由は、可動部で
ある移載アーム側に静電気除電装置を配置することによ
る。
ない箇所の静電気を除電できるということである。これ
により、歩留まり向上ができる。その理由は、可動部で
ある移載アーム側に静電気除電装置を配置することによ
る。
【００３２】第三の効果は、発生する箇所毎に静電気除
電装置を配置する必要がなくなった。その理由は、可動
部である移載アーム側に静電気除電装置を配置すること
によることと、特定できない静電気の発生箇所も同時に
除電できることによる。
電装置を配置する必要がなくなった。その理由は、可動
部である移載アーム側に静電気除電装置を配置すること
によることと、特定できない静電気の発生箇所も同時に
除電できることによる。
【図１】本発明の基板移載装置の第１の実施の形態を示
す全体平面図である。
す全体平面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態の側面図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態の移載機構部の正面
図である。
図である。
【図４】本発明の基板載装置の第２の実施の形態の側面
図である。
図である。
【図５】従来の基板移載装置の側面図である。
１ 共通カセット ２ 基板 ３ 専用カセット ４ 移載アーム ５、５′ Ｘ軸線路 ６ Ｘ軸ボールネジ ７ Ｘ軸ボールネジ駆動モータ ８、８′ Ｙ軸線路 ９ Ｙ軸ボールネジ １０ Ｙ軸ボールネジ駆動用モータ １１ 処理側カセット載置部 １２ 基板移載装置 １３ イオナイザ（Ａ〜Ｖ） １４ 回転及び上下シリンダ １５ イオナイザ １６ バータイプイオナイザ １７ 多関節ロボット １８ カセット載置台 １９ 移載部 ２０ 移載アームＹ軸駆動部 ２１ 移載アームＸ軸駆動部 ２２ Ｘ軸移載キャリア
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B65G 49/05 - 49/07 H01L 21/68 B65G 1/00 B65G 43/00 B25J 1/00 - 21/02 H05F 1/00 - 7/00 H05K 13/02
Claims (4)
- 【請求項１】 第１のカセットから第２のカセットに複
数の基板を一括して移載するための複数基板支持アーム
を持つ基板移載装置において、前記基板を移載するため
の各基板支持アームの各支持アーム間に均等に複数の静
電気除去装置であるイオナイザを設けたことを特徴とす
る基板移載装置。 - 【請求項２】 複数の基板を収納した共通カセットが載
置される載置台と、前記共通カセット内の基板を一括し
て取り出す複数の移載アームを持ち該移載アームを移動
させる機構を有する移載部と、前記各移載アームの付け
根の上下左右に取り付けられた複数のイオナイザと、前
記移載部の複数の移載アームから一括して基板を受け取
る処理側カセット載置部の専用カセットとを有すること
を特徴とする基板移載装置。 - 【請求項３】 前記移載部は、共通カセットと専用カセ
ットの位置間を移動する移載アームＹ軸駆動部と、この
上部に設けられた移載アームＸ軸駆動部と、前記移載ア
ームＸ軸駆動部と移載アームＹ軸駆動部の間に設けられ
たＸ軸駆動部の回転と上下動作を可能にする回転及び上
下シリンダとを有する請求項２記載の基板移載装置。 - 【請求項４】 複数の基板を収納した共通カセットが載
置される載置台と、前記共通カセット内の基板を１枚づ
つ取り出す１つの移載アームを持つ多関節ロボットと、
前記移載アームの付け根の上下左右に取り付けられた複
数のイオナイザと、前記移載アームの回転と上下動作を
行う回転及び上下シリンダと移載アームＹ軸駆動部とを
有する移載部と、前記移載アームから基板を受け取る処
理側カセット載置部の専用カセットとを有することを特
徴とする基板移載装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4030098A JP3260683B2 (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | 基板移載装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4030098A JP3260683B2 (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | 基板移載装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11238778A JPH11238778A (ja) | 1999-08-31 |
| JP3260683B2 true JP3260683B2 (ja) | 2002-02-25 |
Family
ID=12576775
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4030098A Expired - Fee Related JP3260683B2 (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | 基板移載装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3260683B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004172546A (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-17 | Sharp Corp | 除電搬送装置およびそれを備えた処理装置 |
| JPWO2007102426A1 (ja) * | 2006-03-06 | 2009-07-23 | 株式会社日立国際電気 | 基板処理装置および基板処理方法 |
| CN100389486C (zh) * | 2006-04-28 | 2008-05-21 | 友达光电股份有限公司 | 一种用于消除静电的系统 |
| KR100826102B1 (ko) * | 2006-12-08 | 2008-04-29 | 주식회사 케이씨텍 | 웨이퍼 반출입장치 |
| JP4412675B2 (ja) * | 2007-05-01 | 2010-02-10 | 高砂熱学工業株式会社 | 除電搬送装置および搬送時の除電方法 |
| TWI372717B (en) | 2007-12-14 | 2012-09-21 | Prime View Int Co Ltd | Apparatus for transferring substrate |
| JP5192999B2 (ja) * | 2008-11-27 | 2013-05-08 | 株式会社ディスコ | イオン化エア供給プログラム |
| CN102897462B (zh) * | 2012-11-02 | 2015-02-18 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 堆垛机及仓储系统 |
| CN109454492B (zh) * | 2018-12-27 | 2020-09-11 | 珠海格力智能装备有限公司 | 加工装置及移动设备的玻璃的加工方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0532342A (ja) * | 1991-06-13 | 1993-02-09 | Ricoh Co Ltd | 枚葉状フレキシブル基板の搬送装置 |
| JP3160690B2 (ja) * | 1993-10-18 | 2001-04-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法 |
| JP3362487B2 (ja) * | 1993-11-18 | 2003-01-07 | 株式会社ニコン | 基板搬送装置および露光装置、ならびに露光方法 |
| JP3414836B2 (ja) * | 1994-05-23 | 2003-06-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板搬送装置及び基板搬送方法 |
| JPH08264619A (ja) * | 1995-03-24 | 1996-10-11 | Tokyo Electron Ltd | 搬送装置及びこの搬送装置を有する検査装置 |
| JP3442253B2 (ja) * | 1997-03-13 | 2003-09-02 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
-
1998
- 1998-02-23 JP JP4030098A patent/JP3260683B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11238778A (ja) | 1999-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100482237B1 (ko) | 기판 하우징용 기판 지지 장치 | |
| KR100982366B1 (ko) | 기판처리장치 | |
| JP3260683B2 (ja) | 基板移載装置 | |
| KR100532584B1 (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 반도체 장치의 제조방법 | |
| US7308757B2 (en) | Intermediate product manufacturing apparatus, and intermediate product manufacturing method | |
| JP5485056B2 (ja) | イオン供給装置及びこれを備えた被処理体の処理システム | |
| WO2004075285A1 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3522469B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| KR100586111B1 (ko) | 매엽 반송 장치 및 매엽 반송 방법 | |
| JP3687389B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP4709912B2 (ja) | 基板処理方法および半導体装置の製造方法 | |
| JP3531044B2 (ja) | 液晶表示装置用ガラス基板の移載方法および該方法に用いる装置 | |
| JPH10310240A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP3942025B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| TW202213607A (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
| JP4746167B2 (ja) | 基板搬出入方法 | |
| JPH07153816A (ja) | 基板移載方法および装置 | |
| JP2001118782A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2001298011A (ja) | 基板洗浄装置 | |
| JPH07192992A (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | |
| JPH11238783A (ja) | 基板処理装置および方法 | |
| JP3628864B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| KR970001884B1 (ko) | 반도체 웨이퍼 카세트 | |
| JP2000349072A (ja) | 真空処理装置 | |
| JP2852856B2 (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010313 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20011120 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071214 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081214 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091214 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091214 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101214 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101214 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111214 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |