JP2953424B2 - フェイスダウンボンディング用リードフレーム - Google Patents
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- Wire Bonding (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、リードフレームに
関し、特に、バンプ付半導体チップをフェイスダウンし
て、超音波でリードにボンディングする用途に適合した
フェイスダウンボンディング用リードフレームに関す
る。
関し、特に、バンプ付半導体チップをフェイスダウンし
て、超音波でリードにボンディングする用途に適合した
フェイスダウンボンディング用リードフレームに関す
る。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体チップの電極に形成された
バンプをリードに接続する方法の一つとしてに、TAB
(Tape Automated Bonding)技
術がある。
バンプをリードに接続する方法の一つとしてに、TAB
(Tape Automated Bonding)技
術がある。
【0003】図9は、TAB技術を用いインナーリード
をボンディングした状態の集積回路を示す平面図である
(特開平4−109640号公報参照)。
をボンディングした状態の集積回路を示す平面図である
(特開平4−109640号公報参照)。
【0004】図9に示されるように、半導体チップ11
の上面電極部に複数個のバンプ12が形成されている。
一方、テープキャリア15は、半導体チップ11よりも
大きいデバイスホール16が設けられた絶縁性フィル
ム、および絶縁性フィルム上からデバイスホールへ向け
て導出した複数本のTABリード13とにより構成され
ている。半導体チップ11は、デバイスホール16の中
央に配置されており、半導体チップ11の電極に設けら
れた各バンプ12は、各リード13の先端に個別的にボ
ンディングされている。
の上面電極部に複数個のバンプ12が形成されている。
一方、テープキャリア15は、半導体チップ11よりも
大きいデバイスホール16が設けられた絶縁性フィル
ム、および絶縁性フィルム上からデバイスホールへ向け
て導出した複数本のTABリード13とにより構成され
ている。半導体チップ11は、デバイスホール16の中
央に配置されており、半導体チップ11の電極に設けら
れた各バンプ12は、各リード13の先端に個別的にボ
ンディングされている。
【0005】図10(a),(b)に示されるように、
各リード13の先端には、凹部14が設けられており、
凹部14のリード13の幅方向での2つの壁面は、傾斜
面となっており、凹部14の傾斜面とバンプ12の対向
する2辺の角部とが接触するようにして接合されてい
た。
各リード13の先端には、凹部14が設けられており、
凹部14のリード13の幅方向での2つの壁面は、傾斜
面となっており、凹部14の傾斜面とバンプ12の対向
する2辺の角部とが接触するようにして接合されてい
た。
【0006】なお、図示しないが、リード13とバンプ
12の接合は、リード13の上方から加熱されたボンデ
ィングツールを圧下し、リード13とバンプ12の接触
部を加熱することにより、行われていた。
12の接合は、リード13の上方から加熱されたボンデ
ィングツールを圧下し、リード13とバンプ12の接触
部を加熱することにより、行われていた。
【0007】また、別の従来技術として、図11に示す
ような超音波ボンディングによる接合が知られている
(特開平1−244630号公報)。この技術では、バ
ンプ24が形成された半導体チップ23をフェイスダウ
ンにしてコレット25で保持し、絶縁性基板21の導体
パターン22上にバンプ24を接触させ、コレット25
に超音波を印加することにより、バンプ22と導体パタ
ーン23を接合させていた。
ような超音波ボンディングによる接合が知られている
(特開平1−244630号公報)。この技術では、バ
ンプ24が形成された半導体チップ23をフェイスダウ
ンにしてコレット25で保持し、絶縁性基板21の導体
パターン22上にバンプ24を接触させ、コレット25
に超音波を印加することにより、バンプ22と導体パタ
ーン23を接合させていた。
【0008】この超音波ボンディング法は、加圧力,加
熱の度合を大きく設定する必要がないため、半導体チッ
プへのダメージが比較的少ないという利点がある。
熱の度合を大きく設定する必要がないため、半導体チッ
プへのダメージが比較的少ないという利点がある。
【0009】近年、移動体通信市場における携帯情報機
器が小さく、かつ軽量化される傾向の中で、部品の1つ
である半導体装置に対して、その実装面積と実装高さと
を小さくする要求が強くなっている。
器が小さく、かつ軽量化される傾向の中で、部品の1つ
である半導体装置に対して、その実装面積と実装高さと
を小さくする要求が強くなっている。
【0010】したがって、半導体装置の外形寸法を小さ
くするため、半導体チップとリードフレームの接合に、
従来のTAB技術や、超音波によるフェイスダウンボン
ディングを応用した技術が必要になっている。
くするため、半導体チップとリードフレームの接合に、
従来のTAB技術や、超音波によるフェイスダウンボン
ディングを応用した技術が必要になっている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来例
において、第1の問題点は、従来のTAB技術のリード
形状のリードフレームに超音波ボンディングにより接合
する場合、超音波の印加方向に平行なリードのボンディ
ング強度に比べて、垂直方向のリードのボンディング強
度が弱くなることにある。
において、第1の問題点は、従来のTAB技術のリード
形状のリードフレームに超音波ボンディングにより接合
する場合、超音波の印加方向に平行なリードのボンディ
ング強度に比べて、垂直方向のリードのボンディング強
度が弱くなることにある。
【0012】その理由は、図8(a),(b)に示すよ
うに、超音波の印加方向に垂直な方向のリード13は、
リードの幅方向に2つの傾斜面を有し、バンプ12の超
音波による動きを阻害する。したがって、バンプのリー
ドに接触する面の溶着が行われにくいためである。ま
た、リードの幅方向の2つの傾斜面に接している部分で
は、超音波の印加により引離されたり、押し付けられた
りする現象が繰り返して行われるため、接合が安定しな
いためである。
うに、超音波の印加方向に垂直な方向のリード13は、
リードの幅方向に2つの傾斜面を有し、バンプ12の超
音波による動きを阻害する。したがって、バンプのリー
ドに接触する面の溶着が行われにくいためである。ま
た、リードの幅方向の2つの傾斜面に接している部分で
は、超音波の印加により引離されたり、押し付けられた
りする現象が繰り返して行われるため、接合が安定しな
いためである。
【0013】また、第2の問題点は、超音波の印加方向
に垂直なリードとバンプの位置合わせにバラツキが生じ
ることにある。
に垂直なリードとバンプの位置合わせにバラツキが生じ
ることにある。
【0014】その理由は、リードの先端でバンプがリー
ドの幅方向、つまり超音波の印加方向へ動くとき、リー
ド幅方向の2つの傾斜面に当たるため、リードの先端も
幅方向へ振れるためである。
ドの幅方向、つまり超音波の印加方向へ動くとき、リー
ド幅方向の2つの傾斜面に当たるため、リードの先端も
幅方向へ振れるためである。
【0015】したがって、超音波によるバンプとリード
の接合の場合、個々のリードに対して、超音波の方向を
考慮せざるを得ず、生産性にも影響を与えていた。
の接合の場合、個々のリードに対して、超音波の方向を
考慮せざるを得ず、生産性にも影響を与えていた。
【0016】本発明の目的は、上述した問題点に鑑みて
なされたものであって、個々のリードとバンプの接合強
度および接合位置を均一化することにより、信頼性を向
上し、複数のバンプを有する半導体チップを一括してリ
ードにボンディングすることができるフェイスダウンボ
ンディング用リードフレームを提供することにある。
なされたものであって、個々のリードとバンプの接合強
度および接合位置を均一化することにより、信頼性を向
上し、複数のバンプを有する半導体チップを一括してリ
ードにボンディングすることができるフェイスダウンボ
ンディング用リードフレームを提供することにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係るフェイスダウンボンディング用リード
フレームは、複数のリードを有するフェイスダウンボン
ディング用リードフレームであって、リードは、超音波
によるフェイスダウンボンディングにて半導体チップの
電極に形成されたバンプに接合されるものであり、該リ
ードは、前記バンプとの接合位置にV字形状の溝を有す
るものであり、前記V字形状の溝は、前記超音波の印加
方向に一致したリードの長さ方向に向けて延設されたも
のである。
め、本発明に係るフェイスダウンボンディング用リード
フレームは、複数のリードを有するフェイスダウンボン
ディング用リードフレームであって、リードは、超音波
によるフェイスダウンボンディングにて半導体チップの
電極に形成されたバンプに接合されるものであり、該リ
ードは、前記バンプとの接合位置にV字形状の溝を有す
るものであり、前記V字形状の溝は、前記超音波の印加
方向に一致したリードの長さ方向に向けて延設されたも
のである。
【0018】また本発明に係るフェイスダウンボンディ
ング用リードフレームは、複数のリードを有するフェイ
スダウンボンディング用リードフレームであって、リー
ドは、超音波によるフェイスダウンボンディングにて半
導体チップの電極に形成されたバンプに接合されるもの
であり、該リードは、前記バンプとの接合位置にV字形
状の溝を有するものであり、少なくともV字形状の溝の
部分に金属メッキが施されたものである。
ング用リードフレームは、複数のリードを有するフェイ
スダウンボンディング用リードフレームであって、リー
ドは、超音波によるフェイスダウンボンディングにて半
導体チップの電極に形成されたバンプに接合されるもの
であり、該リードは、前記バンプとの接合位置にV字形
状の溝を有するものであり、少なくともV字形状の溝の
部分に金属メッキが施されたものである。
【0019】
【0020】
【0021】
【0022】
【作用】リード先端のV字形状溝に、半導体チップ表面
の対向する位置に形成されたバンプが嵌り込む。半導体
チップに対してV字溝方向に超音波を印加することによ
り、バンプがV字形の溝の傾斜面と接触しながら動き、
その接触面の界面で、バンプとリードが接合する。従っ
て、リードの方向に拘らず、リードとバンプの接合強度
と接合位置は、均一化されることとなる。
の対向する位置に形成されたバンプが嵌り込む。半導体
チップに対してV字溝方向に超音波を印加することによ
り、バンプがV字形の溝の傾斜面と接触しながら動き、
その接触面の界面で、バンプとリードが接合する。従っ
て、リードの方向に拘らず、リードとバンプの接合強度
と接合位置は、均一化されることとなる。
【0023】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。
て、図面を参照して説明する。
【0024】図1及び図2において、本発明の実施形態
に係るフェイスダウンボンディング用リードフレーム
は、リードフレームのリード3の先端に、一方向に向い
たV字形の溝4を形成したことを特徴とするものであ
る。また溝4も含めて、リード3の先端表面には、金属
5が3〜8μmの膜厚にメッキされている。
に係るフェイスダウンボンディング用リードフレーム
は、リードフレームのリード3の先端に、一方向に向い
たV字形の溝4を形成したことを特徴とするものであ
る。また溝4も含めて、リード3の先端表面には、金属
5が3〜8μmの膜厚にメッキされている。
【0025】V字形の溝4は、リード3の向きに拘ら
ず、図2(a)のようにリード3の長さ方向に直交する
方向(リードの幅方向)での断面では、V字形状に形成
され、図2(b)のようにリード3の長さ方向に沿う方
向での断面では、溝4の側面がそれぞれ異なる方向に立
上るような傾斜面に形成されている。
ず、図2(a)のようにリード3の長さ方向に直交する
方向(リードの幅方向)での断面では、V字形状に形成
され、図2(b)のようにリード3の長さ方向に沿う方
向での断面では、溝4の側面がそれぞれ異なる方向に立
上るような傾斜面に形成されている。
【0026】また、図6を参照すると、本発明の実施形
態に係るV字形の溝4の幅Wは、半導体チップ1上に7
0〜100μm径で形成されたバンプBの位置バラツキ
Δbを加味した幅120〜200μmとなっており、溝
4の深さDは、バンプBの高さ35〜45μmを考慮し
て、15〜30μmとなっている。
態に係るV字形の溝4の幅Wは、半導体チップ1上に7
0〜100μm径で形成されたバンプBの位置バラツキ
Δbを加味した幅120〜200μmとなっており、溝
4の深さDは、バンプBの高さ35〜45μmを考慮し
て、15〜30μmとなっている。
【0027】次に、本発明の実施形態に係るフェイスダ
ウンボンディング用リードフレームの製造方法について
図3を参照して説明する。図3に示す製造方法は、プレ
ス金型による製造を前提としている。また図3(a),
(b),(c),(d)において、左側の図は、上方か
ら見た図(平面図)、右側の図は、左側の図を縦方向に
断面した図(断面図)である。
ウンボンディング用リードフレームの製造方法について
図3を参照して説明する。図3に示す製造方法は、プレ
ス金型による製造を前提としている。また図3(a),
(b),(c),(d)において、左側の図は、上方か
ら見た図(平面図)、右側の図は、左側の図を縦方向に
断面した図(断面図)である。
【0028】まず、図3(a)に示すように、リードフ
レーム6の母材に位置決め送り孔7を開け、リードの先
端となる位置にV字形の溝4を一方向に向くように形成
する。図3(a)に示す例の場合、超音波ボンディング
時の印加方向は、リードフレーム6の幅方向(リードの
長さ方向)に設定してあり、V字形の溝4は、リードフ
レーム6の幅方向に向いている。
レーム6の母材に位置決め送り孔7を開け、リードの先
端となる位置にV字形の溝4を一方向に向くように形成
する。図3(a)に示す例の場合、超音波ボンディング
時の印加方向は、リードフレーム6の幅方向(リードの
長さ方向)に設定してあり、V字形の溝4は、リードフ
レーム6の幅方向に向いている。
【0029】次に図3(b)に示すように、V字形の溝
4の領域に金属5をメッキする。次に図3(c)に示す
ように、リード3を形成する。この例では、図3(d)
において、リード3の先端部分をディンプル成形してい
る。この工程は、半導体装置のパッケージ形態により別
の形状にしてもよく、またディンプル成形そのものを省
略してもよい。
4の領域に金属5をメッキする。次に図3(c)に示す
ように、リード3を形成する。この例では、図3(d)
において、リード3の先端部分をディンプル成形してい
る。この工程は、半導体装置のパッケージ形態により別
の形状にしてもよく、またディンプル成形そのものを省
略してもよい。
【0030】次に、本発明の実施例について図面を参照
して説明する。図4及び図5は、本発明に係るリードフ
レームを用いた超音波フェイスダウンボンディングを示
す図である。厚さ0.1mmのCu製リードフレームの
リード3の先端に、幅160μm,深さ25μmのV字
形の溝4を設ける。半導体チップ1の表面の電極上に
は、Auワイヤを使ったボールバンプ2を、高さ40μ
m,径100μmの寸法に形成しており、コレット8に
より半導体チップ1の表面を下にしてバンプ2をV字形
溝4に入るように位置決めする。またリードフレームの
リード3の先端領域には、Agメッキ(金属5)を5μ
mの膜厚に行う。
して説明する。図4及び図5は、本発明に係るリードフ
レームを用いた超音波フェイスダウンボンディングを示
す図である。厚さ0.1mmのCu製リードフレームの
リード3の先端に、幅160μm,深さ25μmのV字
形の溝4を設ける。半導体チップ1の表面の電極上に
は、Auワイヤを使ったボールバンプ2を、高さ40μ
m,径100μmの寸法に形成しており、コレット8に
より半導体チップ1の表面を下にしてバンプ2をV字形
溝4に入るように位置決めする。またリードフレームの
リード3の先端領域には、Agメッキ(金属5)を5μ
mの膜厚に行う。
【0031】超音波は図5に示すように、リード3先端
の溝4の形状がV字形に見える方向(紙面に対して垂
直、リードの長さ方向)に向いコレット8に印加され
る。
の溝4の形状がV字形に見える方向(紙面に対して垂
直、リードの長さ方向)に向いコレット8に印加され
る。
【0032】ボンディングステージ9は、リード3の下
面を支え、加熱ヒータ(図示略)により、約350℃に
昇温され、リード3を加熱する。
面を支え、加熱ヒータ(図示略)により、約350℃に
昇温され、リード3を加熱する。
【0033】次に本発明の実施例において、バンプとリ
ードを接合する場合について図7を参照して説明する。
ードを接合する場合について図7を参照して説明する。
【0034】図7(a)に示すように、半導体チップ1
のバンプ2をV字形溝4に接触させた後、コレットによ
る加圧力をもって、バンプ2は、V字形溝4の両側の傾
斜面に沿い中央部に向けて滑るように動いて変形し、バ
ンプ2はV字形溝4との接触面で接合する。
のバンプ2をV字形溝4に接触させた後、コレットによ
る加圧力をもって、バンプ2は、V字形溝4の両側の傾
斜面に沿い中央部に向けて滑るように動いて変形し、バ
ンプ2はV字形溝4との接触面で接合する。
【0035】バンプ2のV字形溝4との接触面は、図8
(a),(b)に示すような従来の矩形断面のバンプ2
と比較して、V字形溝4の傾斜面の傾き分だけ広い面積
に拡大する。その拡大された面積分は、本実施形態によ
れば、約1.05倍となる。図7(a),(b)を参照
すると、超音波の印加により、バンプ2は、V字溝4内
で傾斜面との接触面をずらして移動し、V字溝4との接
触部分における接合が進行する。
(a),(b)に示すような従来の矩形断面のバンプ2
と比較して、V字形溝4の傾斜面の傾き分だけ広い面積
に拡大する。その拡大された面積分は、本実施形態によ
れば、約1.05倍となる。図7(a),(b)を参照
すると、超音波の印加により、バンプ2は、V字溝4内
で傾斜面との接触面をずらして移動し、V字溝4との接
触部分における接合が進行する。
【0036】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、多
くのリードが多方向に突き出ているリードフレームにバ
ンプ付半導体チップを超音波によりフェイスダウンボン
ディングする際、リードの先端に一方向へ向かうV字形
溝を形成しているため、各バンプの接合強度と接合位置
を均一に保つことができ、これにより信頼性を向上する
ことができる。
くのリードが多方向に突き出ているリードフレームにバ
ンプ付半導体チップを超音波によりフェイスダウンボン
ディングする際、リードの先端に一方向へ向かうV字形
溝を形成しているため、各バンプの接合強度と接合位置
を均一に保つことができ、これにより信頼性を向上する
ことができる。
【0037】さらに本発明によれば、半導体チップのバ
ンプとリードとの個々の接合条件が問題とされることは
なく、超音波によるフェイスダウンボンディングにより
バンプとリードを一括して接合することができ、生産性
を向上することができる。
ンプとリードとの個々の接合条件が問題とされることは
なく、超音波によるフェイスダウンボンディングにより
バンプとリードを一括して接合することができ、生産性
を向上することができる。
【図1】本発明の実施形態に係るフェイスダウンボンデ
ィング用リードフレームを示す平面図である。
ィング用リードフレームを示す平面図である。
【図2】本発明の実施形態に係るフェイスダウンボンデ
ィング用リードフレームに設けた溝を示す断面図であ
る。
ィング用リードフレームに設けた溝を示す断面図であ
る。
【図3】本発明の実施形態に係るフェイスダウンボンデ
ィング用リードフレームの製造方法を工程順に示す図で
ある。
ィング用リードフレームの製造方法を工程順に示す図で
ある。
【図4】本発明の実施形態に係るリードフレームを用い
て超音波フェイスダウンボンディングを行う状態を示す
図である。
て超音波フェイスダウンボンディングを行う状態を示す
図である。
【図5】本発明の実施形態に係るリードフレームを用い
て超音波フェイスダウンボンディングを行う状態を示す
断面図である。
て超音波フェイスダウンボンディングを行う状態を示す
断面図である。
【図6】本発明の実施形態においてリードとバンプとの
寸法関係を示す断面図である。
寸法関係を示す断面図である。
【図7】(a)は、本発明の実施形態におけるリードと
バンプとの接合過程を示す断面図、(b)は、斜視図で
ある。
バンプとの接合過程を示す断面図、(b)は、斜視図で
ある。
【図8】(a)は、従来例におけるリードとバンプとの
接合過程を示す断面図、(b)は、斜視図である。
接合過程を示す断面図、(b)は、斜視図である。
【図9】従来例におけるTAB技術に用いられるリード
を示す平面図である。
を示す平面図である。
【図10】(a)は、従来例におけるリードとバンプと
の接合状態を示す平面図、(b)は、断面図である。
の接合状態を示す平面図、(b)は、断面図である。
【図11】従来例における超音波ボンディング技術の動
作を示す断面図である。
作を示す断面図である。
1 半導体チップ 2 バンプ 3 リード 4 V字形の溝 5 金属(メッキ) 6 リードフレーム 7 位置決め送り孔 8 コレット 9 ボンディングステージ
Claims (2)
- 【請求項1】 複数のリードを有するフェイスダウンボ
ンディング用リードフレームであって、 リードは、超音波によるフェイスダウンボンディングに
て半導体チップの電極に形成されたバンプに接合される
ものであり、 該リードは、前記バンプとの接合位置にV字形状の溝を
有するものであり、前記V字形状の溝は、前記超音波の印加方向に一致した
リードの長さ方向に向けて延設されたものである ことを
特徴とするフェイスダウンボンディング用リードフレー
ム。 - 【請求項2】 複数のリードを有するフェイスダウンボ
ンディング用リードフレームであって、リードは、超音波によるフェイスダウンボンディングに
て半導体チップの電極に形成されたバンプに接合される
ものであり、 該リードは、前記バンプとの接合位置にV字形状の溝を
有するものであり、少なくともV字形状の溝の部分に金
属メッキが施されたものである ことを特徴とするフェイ
スダウンボンディング用リードフレーム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9079387A JP2953424B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | フェイスダウンボンディング用リードフレーム |
US09/052,156 US6018189A (en) | 1997-03-31 | 1998-03-31 | Lead frame for face-down bonding |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9079387A JP2953424B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | フェイスダウンボンディング用リードフレーム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10275827A JPH10275827A (ja) | 1998-10-13 |
JP2953424B2 true JP2953424B2 (ja) | 1999-09-27 |
Family
ID=13688465
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9079387A Expired - Fee Related JP2953424B2 (ja) | 1997-03-31 | 1997-03-31 | フェイスダウンボンディング用リードフレーム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6018189A (ja) |
JP (1) | JP2953424B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002170838A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Shinkawa Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
Families Citing this family (46)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6143981A (en) | 1998-06-24 | 2000-11-07 | Amkor Technology, Inc. | Plastic integrated circuit package and method and leadframe for making the package |
KR20010037247A (ko) * | 1999-10-15 | 2001-05-07 | 마이클 디. 오브라이언 | 반도체패키지 |
KR20010062209A (ko) * | 1999-12-10 | 2001-07-07 | 히가시 데쓰로 | 고내식성 막이 내부에 형성된 챔버를 구비하는 처리 장치 |
KR100421774B1 (ko) * | 1999-12-16 | 2004-03-10 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 및 그 제조 방법 |
KR100787678B1 (ko) * | 2000-03-10 | 2007-12-21 | 스태츠 칩팩, 엘티디. | 플립칩 내장형 리드프레임 패키지 및 그 처리과정 |
KR100526837B1 (ko) * | 2000-04-27 | 2005-11-08 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체패키지 |
US7042068B2 (en) | 2000-04-27 | 2006-05-09 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe and semiconductor package made using the leadframe |
TW466720B (en) * | 2000-05-22 | 2001-12-01 | Siliconware Precision Industries Co Ltd | Semiconductor package with flash-prevention structure and manufacture method |
JP2002083845A (ja) * | 2000-07-05 | 2002-03-22 | Sharp Corp | フレキシブル配線基板、icチップ実装フレキシブル配線基板およびこれを用いた表示装置並びにicチップ実装構造、icチップ実装フレキシブル配線基板のボンディング方法 |
US6864423B2 (en) * | 2000-12-15 | 2005-03-08 | Semiconductor Component Industries, L.L.C. | Bump chip lead frame and package |
US6545345B1 (en) | 2001-03-20 | 2003-04-08 | Amkor Technology, Inc. | Mounting for a package containing a chip |
KR100393448B1 (ko) * | 2001-03-27 | 2003-08-02 | 앰코 테크놀로지 코리아 주식회사 | 반도체 패키지 및 그 제조 방법 |
US6597059B1 (en) | 2001-04-04 | 2003-07-22 | Amkor Technology, Inc. | Thermally enhanced chip scale lead on chip semiconductor package |
US6608366B1 (en) | 2002-04-15 | 2003-08-19 | Harry J. Fogelson | Lead frame with plated end leads |
US6818973B1 (en) | 2002-09-09 | 2004-11-16 | Amkor Technology, Inc. | Exposed lead QFP package fabricated through the use of a partial saw process |
US6905914B1 (en) | 2002-11-08 | 2005-06-14 | Amkor Technology, Inc. | Wafer level package and fabrication method |
US7723210B2 (en) | 2002-11-08 | 2010-05-25 | Amkor Technology, Inc. | Direct-write wafer level chip scale package |
US6798047B1 (en) | 2002-12-26 | 2004-09-28 | Amkor Technology, Inc. | Pre-molded leadframe |
US6750545B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-06-15 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor package capable of die stacking |
US6794740B1 (en) | 2003-03-13 | 2004-09-21 | Amkor Technology, Inc. | Leadframe package for semiconductor devices |
TWI277192B (en) * | 2004-07-08 | 2007-03-21 | Siliconware Precision Industries Co Ltd | Lead frame with improved molding reliability and package with the lead frame |
US7443015B2 (en) * | 2005-05-05 | 2008-10-28 | Stats Chippac Ltd. | Integrated circuit package system with downset lead |
US7572681B1 (en) | 2005-12-08 | 2009-08-11 | Amkor Technology, Inc. | Embedded electronic component package |
US7902660B1 (en) | 2006-05-24 | 2011-03-08 | Amkor Technology, Inc. | Substrate for semiconductor device and manufacturing method thereof |
US7968998B1 (en) | 2006-06-21 | 2011-06-28 | Amkor Technology, Inc. | Side leaded, bottom exposed pad and bottom exposed lead fusion quad flat semiconductor package |
JP5634033B2 (ja) * | 2008-08-29 | 2014-12-03 | セミコンダクター・コンポーネンツ・インダストリーズ・リミテッド・ライアビリティ・カンパニー | 樹脂封止型半導体装置とその製造方法 |
US8796561B1 (en) | 2009-10-05 | 2014-08-05 | Amkor Technology, Inc. | Fan out build up substrate stackable package and method |
US8937381B1 (en) | 2009-12-03 | 2015-01-20 | Amkor Technology, Inc. | Thin stackable package and method |
US9691734B1 (en) | 2009-12-07 | 2017-06-27 | Amkor Technology, Inc. | Method of forming a plurality of electronic component packages |
US8324511B1 (en) | 2010-04-06 | 2012-12-04 | Amkor Technology, Inc. | Through via nub reveal method and structure |
US8294276B1 (en) | 2010-05-27 | 2012-10-23 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device and fabricating method thereof |
US8440554B1 (en) | 2010-08-02 | 2013-05-14 | Amkor Technology, Inc. | Through via connected backside embedded circuit features structure and method |
US8487445B1 (en) | 2010-10-05 | 2013-07-16 | Amkor Technology, Inc. | Semiconductor device having through electrodes protruding from dielectric layer |
US8791501B1 (en) | 2010-12-03 | 2014-07-29 | Amkor Technology, Inc. | Integrated passive device structure and method |
US8390130B1 (en) | 2011-01-06 | 2013-03-05 | Amkor Technology, Inc. | Through via recessed reveal structure and method |
US8552548B1 (en) | 2011-11-29 | 2013-10-08 | Amkor Technology, Inc. | Conductive pad on protruding through electrode semiconductor device |
US9129943B1 (en) | 2012-03-29 | 2015-09-08 | Amkor Technology, Inc. | Embedded component package and fabrication method |
US9048298B1 (en) | 2012-03-29 | 2015-06-02 | Amkor Technology, Inc. | Backside warpage control structure and fabrication method |
US10032699B1 (en) * | 2014-04-28 | 2018-07-24 | Amkor Technology, Inc. | Flip chip self-alignment features for substrate and leadframe applications |
KR102300121B1 (ko) * | 2014-10-06 | 2021-09-09 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 관통 전극을 갖는 반도체 소자, 이를 구비하는 반도체 패키지 및 반도체 소자의 제조방법 |
JP6679125B2 (ja) * | 2016-01-21 | 2020-04-15 | 大口マテリアル株式会社 | リードフレーム及びこれを用いた半導体装置、並びにそれらの製造方法 |
JP6623489B2 (ja) * | 2016-01-29 | 2019-12-25 | 大口マテリアル株式会社 | リードフレーム及び半導体装置、並びにそれらの製造方法 |
JP6761697B2 (ja) * | 2016-08-18 | 2020-09-30 | トレックス・セミコンダクター株式会社 | 半導体装置 |
US10186478B2 (en) * | 2016-12-30 | 2019-01-22 | Texas Instruments Incorporated | Packaged semiconductor device with a particle roughened surface |
JP7158199B2 (ja) * | 2018-07-31 | 2022-10-21 | エイブリック株式会社 | 半導体装置 |
DE102019125819A1 (de) * | 2019-04-17 | 2020-10-22 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Halbleiterverarbeitungsvorrichtung und verfahren unter einsatz einer elektrostatischen entladungs-(esd)- verhinderungsschicht |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5574148A (en) * | 1978-11-29 | 1980-06-04 | Nec Corp | Production of semiconductor device |
JPH01244630A (ja) * | 1988-03-26 | 1989-09-29 | Nec Corp | 半導体ペレットのボンディング方法 |
JPH02178937A (ja) * | 1988-12-29 | 1990-07-11 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JPH02276259A (ja) * | 1989-04-18 | 1990-11-13 | Seiko Epson Corp | 回路基板構造 |
JP2961839B2 (ja) * | 1990-08-30 | 1999-10-12 | 日本電気株式会社 | 集積回路装置 |
-
1997
- 1997-03-31 JP JP9079387A patent/JP2953424B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-03-31 US US09/052,156 patent/US6018189A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002170838A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Shinkawa Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10275827A (ja) | 1998-10-13 |
US6018189A (en) | 2000-01-25 |
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