JP2020118989A - 光学フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】優れた膜強度を有する光学フィルムを提供すること。【解決手段】１つ以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物が配向した状態で重合した重合体からなる光学異方性層を有する光学フィルムであって、光学異方性層の１ｍｍ２当たりにおける実サイズが０．３μｍ以上５０μｍ以下である配向欠陥の個数が０≦配向欠陥の個数［個］≦１４を満たすことを特徴とする、光学フィルム。【選択図】なし

Description

本発明は、光学フィルムに関し、位相差積層体および偏光板にも関する。

フラットパネル表示装置に用いられる光学フィルムとして、例えば、重合性液晶化合物を溶剤に溶解させて得られる塗工液を、支持基材に塗布後、重合して得られる光学異方性層を有する光学フィルムが提案されている（特許文献１）。

特開２０１１−２０７７６５号公報

近年、光学フィルムの薄膜化に伴い、光学異方性層の膜強度や加工性の向上が求められている。

本発明の目的は、向上した膜強度を有する光学フィルムを提供することである。本発明の別の目的は、偏光板に加工する際に向上した加工性を有する光学フィルムを提供することである。

本発明は、以下の態様［１］〜［１２］を提供するものである。
［１］ １つ以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物が配向した状態で重合した重合体からなる光学異方性層を有する光学フィルムであって、
前記光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける実サイズが０．３μｍ以上５０μｍ以下である配向欠陥の個数が下記式（１）を満たすことを特徴とする、光学フィルム。
０≦配向欠陥の個数［個］≦１４ （１）
［２］ １つ以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物が配向した状態で重合した重合体からなる光学異方性層を有する光学フィルムであって、
前記光学異方性層における下記式（２）で定義される欠陥率が下記式（３）を満たすことを特徴とする、光学フィルム。

[式中、欠陥合計面積は、光学顕微鏡の一視野において観察される実サイズが０．３μｍ
以上５０μｍ以下の配向欠陥の面積の合計であり、顕微鏡観察視野は、光学顕微鏡の一視野全体に光学異方性層を存在させたときの光学異方性層の面積である]
０≦欠陥率［ｐｐｍ］≦１０００ （３）
［３］ １つ以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物が配向した状態で重合した重合体からなる光学異方性層を有する光学フィルムであって、
前記光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける実サイズが０．３μｍ以上５０μｍ以下である配向欠陥の個数が下記式（１）を満たし、下記式（２）で定義される欠陥率が下記式（３）を満たすことを特徴とする、光学フィルム。
０≦配向欠陥の個数［個］≦１４ （１）

[式中、欠陥合計面積は、光学顕微鏡の一視野において観察される実サイズが０．３μｍ
以上５０μｍ以下の配向欠陥の面積の合計であり、顕微鏡観察視野は、光学顕微鏡の一視野全体に光学異方性層を存在させたときの光学異方性層の面積である]
０≦欠陥率［ｐｐｍ］≦１０００ （３）
［４］ 前記重合性官能基はアクリロイルオキシ基である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］ 前記配向欠陥は、重合性液晶化合物の微結晶に起因する欠陥を含む、［１］〜［４］のいずれかに記載の光学フィルム。
［６］ 光学異方性層の厚みは、０．０５μｍ以上１０μｍ以下である、［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルム。
［７］ ［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルムを１以上含む位相差積層体。
［８］ ［７］に記載の位相差積層体を含む偏光板。
［９］ 切断面を有する、［８］に記載の偏光板。
［１０］ 異形偏光板である、［８］又は［９］に記載の偏光板。
［１１］ 前面板またはタッチセンサの少なくとも一方を備える、［８］〜［１０］のいずれかに記載の偏光板。
［１２］ ［８］〜［１１］のいずれかに記載の偏光板を備えるフレキシブル画像表示装置。

本発明によれば、向上した膜強度を有する光学フィルムを提供することができる。また、本発明によれば、向上した加工性を有する光学フィルムを提供することができる。

本発明の一態様に係る光学フィルムを示す概略断面図である。 本発明の一態様に係る位相差積層体を示す概略断面図である。 本発明の一態様に係る偏光板を示す概略断面図である。 本発明の一態様に係るフレキシブル画像表示装置を示す概略断面図である。

［光学フィルム］
本発明の一態様に係る光学フィルムは、１つ以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物（以下、単に「重合性液晶化合物」ともいう）が配向した状態で重合した重合体からなる光学異方性層を有し、光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける実サイズが０．３μｍ以上５０μｍ以下である配向欠陥（以下、特定欠陥ともいう）の個数が下記式（１）を満たす。
０≦配向欠陥の個数［個］≦１４ （１）

光学異方性層に含まれる重合性液晶化合物が配向した状態で重合した重合体は、好ましくは一方向に配向している状態で重合したものである。配向は、重合性液晶化合物の光軸が光学フィルム平面に対して水平に配向した水平配向であってよく、重合性液晶化合物の光軸が光学フィルム平面に対して垂直に配向した垂直配向であってよい。光軸とは、重合性液晶化合物の配向により形成される屈折率楕円体において、光軸に直交する方向で切り出した断面が円となる方向、すなわち２方向の屈折率が等しくなる方向を意味する。

光学異方性層は、重合性液晶化合物が適した方向に配向した状態で重合することで面内位相差を発現することができる。重合性液晶化合物が棒状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を光学フィルム平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現し、この場合、光軸方向と遅相軸方向とは一致する。重合性液晶化合物が円盤状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を光学フィルム平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現し、この場合、光軸と遅相軸とは直交する。重合性液晶化合物の配向状態は、後述する配向膜と重合性液晶化合物との組み合わせ等によって調整することができる。

重合性液晶化合物としては、棒状の重合性液晶化合物や、円盤状の重合性液晶化合物が挙げられる。棒状の重合性液晶化合物が光学フィルム平面に対して水平配向又は垂直配向した場合は、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の長軸方向と一致する。円盤状の重合性液晶化合物が配向した場合は、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の円盤面に対して直交する方向に存在する。

重合性液晶化合物は、１つ以上の重合性官能基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性官能基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性官能基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でもよく、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。重合性液晶化合物は、好ましくは２つ以上の重合性官能基を有し、より好ましくは２つの重合性官能基を有する。

重合性液晶化合物は、１つの重合性官能基に対する分子量が２５０以上であることが好ましい。例えば重合性液晶化合物が重合性官能基を２つ有する場合、重合性液晶化合物の分子量は５００以上であってよい。重合性液晶化合物が１つの重合性官能基に対する分子量が２５０以上である場合、良好な液晶性が得られ易くなる傾向にある。重合性液晶化合物は、１つの重合性官能基に対する分子量が好ましくは２８０以上、より好ましくは３００以上であり、通常は１０００以下である。

重合性液晶化合物の分子量は、好ましくは５００以上、より好ましくは５６０以上、さらに好ましくは６００以上であり、通常は２０００以下である。重合性液晶化合物は、分子量が小さいほど結晶化しにくい傾向にある。そのため、微結晶に起因する特定欠陥を少なくする観点から好ましくは分子量が小さい重合性液晶化合物を用いる。一方、重合性液晶化合物の分子量が大きいほど、結晶化し易く、結晶化に起因する配向欠陥が多くなる傾向にある。分子量が比較的大きな、例えば５００以上である重合性液晶化合物を用いる場合には、特定欠陥の数を本発明で規定する範囲とするために、例えば重合性液晶化合物として２種以上の液晶化合物を組合せて用いて重合させることにより重合体としたり、重合性液晶化合物を基材上に塗布する際の湿度を比較的低くしたりすることができる。

棒状の重合性液晶化合物や、円盤状の重合性液晶化合物としては、公知のものを用いることができ、例えば液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開２０１１−２０７７６５号公報、特開２０１０−２４４３８号公報、特開２０１５−１６３９３７号公報、特開２０１７−１７９３６７号公報、特開２０１６−４２１８５号公報
、国際公開第２０１６／１５８９４０号、特開２０１６−２２４１２８号公報等に例示された化合物を用いることができる。光学異方性層は、重合性液晶化合物の重合体を１種のみ含んでもよく、又は２種以上を含んでもよい。

近年、薄膜化された光学フィルムが求められており、重合性液晶化合物の重合体を含む光学異方性層についても薄膜化が求められている。しかしながら、厚みが薄く、かつ重合性液晶化合物の重合体が一方向に配向した光学異方性層は非常に割れやすく、膜強度が低い傾向にある。本発明者が光学フィルムの膜強度の向上について研究を行った結果、重合性液晶化合物が配向した状態で重合した重合物からなる光学異方性層は、膜強度及び加工性と光学異方性層における配向欠陥の個数との間に相関性があることが分かった。そのことに着目した本発明者はさらに研究を進め、光学異方性層における上記の特定欠陥の個数が少なくなるほど、光学フィルムの膜強度に優れる傾向にあることを見出し、特定欠陥の個数が上記式（１）を満たす場合に、光学異方性層の膜強度及び加工性が向上する傾向にあることを突止めた。当然のことながら、光学フィルムは特定欠陥の個数が０個であることが理想的で望ましいが、特定欠陥の個数が０個である光学異方性層を製造することは困難である。したがって、通常、光学フィルムには、特定欠陥が存在しており、特定欠陥のある光学フィルムを使用するときや加工するときに光学フィルムに生じる応力が特定欠陥に集中し、光学フィルムが割れたり裂けたりするものと推定される。このため、特定の分子量を有する重合性液晶化合物の配向した重合物からなる光学異方性層に存在する特定欠陥の個数が少ない場合、応力が集中する部分が少なくなり、その結果、光学フィルムが割れたり裂けたりしにくくなり、光学フィルムの加工性が向上するものと考えられる。

特定欠陥は、重合性液晶化合物の配向不良が生じた領域であり、光学顕微鏡クロスニコル状態下で輝点として観察される。特定欠陥は、重合性液晶化合物の微結晶およびゲル、異物、重合性液晶化合物の塗膜のはじきや凹凸、配向膜不良、基材の凹凸やキズ、基材汚染等に起因する欠陥を含んでよい。

特定欠陥は、実サイズが０．３μｍ以上５０μｍ以下である。実サイズは、上記輝点を光学顕微鏡のクロスニコル状態を解除して観察したときに視認される欠陥の外形について、寸法が最大になる部分の長さを測定した値をいう。例えば欠陥の外形が円形に視認される場合、実サイズは円形の直径の長さとなる。例えば欠陥の外形が四角形に視認される場合、実サイズは四角形の対角線の長さとなる。欠陥の実サイズが０．３μｍ未満である場合、光学顕微鏡クロスニコル状態下で輝点として観察されにくい傾向にある。欠陥の実サイズが５０μｍ超である場合、目視で視認され易くなり、外観不良のため光学フィルムは使用できなくなる傾向にある。実サイズが０．３μｍ以上５０μｍ以下である欠陥は、従来は偏光板の偏光度が現状より低く、光学顕微鏡クロスニコル状態下で輝点として観察されにくい傾向にあるため輝点として認識されていなかったものである。しかしながら、近年、さらなる品質向上の観点からこのような欠陥の低減が求められている。実サイズが５０μｍ超である欠陥の数は０個／ｍｍ^２であることが理想的で望ましいが光学フィルムの外観や膜強度、加工性に影響を及ぼさない範囲の個数であれば存在していてよく、通常３個／ｍｍ^２以下であり、多くとも５個／ｍｍ^２又は６個／ｍｍ^２である。なお実サイズが５０μｍ超である欠陥は異物に起因する場合がほとんどである。

実サイズは例えば０．５μｍ以上であってよく、又は１μｍ以上であってよく、又は５μｍ以上であってよい。一方、実サイズは例えば４０μｍ以下であってよく、又は３０μｍ以下であってよく、又は２０μｍ以下であってよい。

特定欠陥の個数が式（１）を満たすようにするには、例えば光学異方性層を構成する後述の液晶組成物の組成の調節、製造条件の調節又はこれらの組合せ等を行うことができる。

液晶組成物の組成を調節する場合、例えば液晶組成物において重合性液晶化合物の割合、難溶性の重合性液晶化合物の割合、固形分濃度等を調節することができる。

液晶組成物は、光学異方性層において微結晶に起因する特定欠陥を低減する観点から好ましくは２種以上の重合性液晶化合物を含むことができる。液晶組成物が２種以上の重合性液晶化合物を含む場合、主となる重合性液晶化合物の質量割合が高いとその重合性液晶化合物の結晶が析出し易い傾向にある。したがって、液晶組成物において主となる重合性液晶化合物の質量割合を低くすると、微結晶に起因する特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。液晶組成物が２種以上の重合性液晶化合物を含む場合、液晶組成物において主となる重合性液晶化合物は、重合性液晶化合物の全量に対し例えば９０質量％以下であってよく、好ましくは８５質量％以下である。微結晶とは、大きさが数ｎｍ以上数百μｍ以下の結晶、結晶粒及びそれらの集合物をいう。

上述の通り、重合性液晶化合物の分子量が大きいほど、結晶化し易く、微結晶に起因する特定欠陥が多くなる傾向にある。このため、分子量の比較的大きな重合性液晶化合物、例えば分子量が５００以上である重合性液晶化合物を用いる場合には、配向欠陥の数を本発明で規定する範囲とするために、例えば重合性液晶化合物として２種以上の液晶化合物を組合せて重合を行うことができる。

液晶組成物が難溶性の重合性液晶化合物を含む場合、難溶性の重合性液晶化合物の結晶が析出し易い傾向にある。したがって、難溶性の液晶組成物の質量割合を減らしたり、易溶性の重合性液晶化合物の質量割合を増やしたりすると、微結晶に起因する特定欠陥の個数は少なくなる傾向にある。液晶組成物が難溶性の重合性液晶化合物を含む場合、液晶組成物において難溶性の重合性液晶化合物は、重合性液晶化合物の全量に対し例えば９０質量％以下であってよく、好ましくは８５質量％以下である。

液晶組成物において溶剤の量を多くして固形分を低くすると、重合性液晶化合物の結晶は析出しにくくなり、微結晶に起因する特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。また、溶剤の量を多くして固形分を低くすると、塗膜中の溶剤が完全に揮発しにくくなるため、重合性液晶化合物の結晶は析出しにくくなり、微結晶に起因する特定欠陥の個数は少なくなる傾向にある。液晶組成物の固形分は、例えば５０質量％以下であってよく、好ましくは２５質量％以下である。

液晶組成物に重合性液晶化合物以外のモノマー（例えばアクリレートやメタクリレートなどの低分子モノマー）又はポリマー（例えばポリビニルアルコールやポリエチレングリコールなどのポリマーおよびその変性体等）を添加したり、あるいは重合性液晶化合物を配向及び重合する前にその一部又は全部を２量体、３量体又はそれ以上のオリゴマーとすることによっても、微結晶に起因する特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。液晶組成物が、重合性液晶化合物以外のモノマー又はポリマー、又は重合性液晶化合物の２量体、３量体又はそれ以上のオリゴマーを含むことにより、溶剤に対する溶解度が向上し、結晶の析出が抑制され易くなる傾向にある。

製造条件を調節する場合、例えば液晶組成物を塗工する際の基材の温度、塗工時の周囲雰囲気の湿度、塗工に用いるダイの周囲雰囲気等を調節することができる。

液晶組成物を塗工する基材は、液晶組成物を塗工する際に一定の温度に保温することにより微結晶に起因する特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。保温する温度は、例えば１５℃以上６０℃以下であってよく、好ましくは２０℃以上５０℃以下である。

表面の平滑性が良好な基材を用いることで、重合性液晶化合物の塗膜均一性を高め、重合性液晶化合物の塗膜はじきや配向膜不良に起因する特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。基材の表面の平滑性を高める手段としては、例えばアニーリング（面直し）等が挙げられる。アニーリングは、基材を加熱することにより行うことができ、加熱する温度は、例えば６０℃以上１００℃以下、又は基材のガラス転移点よりも５℃〜２０℃低い温度であってよく、加熱する時間は、例えば１秒以上６０秒以下であってよい。

塗工時の周囲雰囲気の湿度を一定にすることで、重合性液晶化合物の結晶化を抑制し易くなり、微結晶に起因する特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。塗工時の周囲雰囲気の湿度は、例えば９０％ＲＨ以下であってよく、好ましくは８５％ＲＨ以下であり、より好ましく６０％ＲＨ以下であり、さらに好ましくは５５％ＲＨ以下であり、特に好ましくは４０％ＲＨ以下である。一方、塗工時の周囲雰囲気の湿度は、例えば１０％ＲＨ以上であってよく、好ましくは２０％ＲＨ以上である。分子量の比較的大きな重合性液晶化合物を用いる場合、特定欠陥の数を本発明で規定する範囲とするために、重合性液晶化合物を基材上に塗布する際の湿度を比較的低くすることができる。

塗工に用いるダイの周囲雰囲気を重合性液晶化合物に含まれる溶剤の蒸気圧（溶剤雰囲気下）へと調節することにより、重合性液晶化合物の溶剤が揮発しにくくなり、重合性液晶化合物の結晶化が抑制され、微結晶に起因する特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。

液晶組成物の塗工前に基材の表面の汚染、例えばＰＥＴ滑材、ＰＥＴオリゴマー、シリコーン油等を除去することで、異物起因の特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。また、液晶組成物の塗工をクリーン度の高いクリーンルームで塗工することで異物起因の特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。また、塗工前の液晶組成物中の異物や微結晶等をフィルターで除去することで、微結晶及び異物起因の特定欠陥の個数は少なくなる傾向にある。

光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける特定欠陥の個数は、好ましくは１０個以下、より好ましくは７個以下、さらに好ましくは６個以下、特に好ましくは３個以下、とりわけ好ましくは１個以下である。また、光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける特定欠陥の個数は、理想的には０個であるが、０．００１個以上であってよく、さらには０．０１個以上であってもよい。

光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける特定欠陥の個数における微結晶に起因する欠陥の個数の割合は、例えば７０％以上であってよく、又は８５％以上であってよく、好ましくは９０％以上である。微結晶に起因する場合、光学異方性層に微結晶が存在すると、応力がかかった際に、結晶部分が応力集中点となり破壊されると推定される。したがって、特定欠陥の７０％以上が微結晶に起因するものである場合、微結晶に起因する特定欠陥が１４個以下となり、本発明の光学異方性層の厚みにおいてはほどよく応力が分散され、膜強度が強くなると推定される。

光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける特定欠陥の個数における異物に起因する欠陥の個数の割合は、例えば１０％以下であってよく、又は０％であってよい。

光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける特定欠陥の個数におけるハジキに起因する欠陥の個数の割合は、例えば１０％以上７０％以下であってよく、又は２０％以上６０％以下であってよい。

光学異方性層の膜強度は、後述する実施例の欄において説明する突刺強度の測定方法に従って評価することができる。光学フィルムの突刺強度は、例えば５ｇｍｍ以上１００ｇｍｍ以下であってよく、好ましくは１０ｇｍｍ以上８０ｇｍｍ以下、より好ましくは１５
ｇｍｍ以上５０ｇｍｍ以下である。光学フィルムの突刺強度が上記範囲内である場合、光学フィルムを薄膜化した場合でも良好な膜強度が得られ易くなる傾向にある。

光学異方性層の膜強度は、後述する実施例の欄において説明する突刺強度の測定方法に従って評価することができる。光学フィルムの突刺強度は、例えば５ｇ・ｍｍ以上１００ｇ・ｍｍ以下であってよく、好ましくは１０ｇ・ｍｍ以上８０ｇ・ｍｍ以下、より好ましくは１５ｇ・ｍｍ以上５０ｇ・ｍｍ以下である。光学フィルムの突刺強度が上記範囲内である場合、光学フィルムを薄膜化した場合でも良好な膜強度が得られ易くなる傾向にある。

光学異方性層の膜強度は、後述する実施例の欄において説明する引張応力の測定方法に従っても評価することができる。光学フィルムの引張応力は、例えば３０Ｎ／ｍｍ^２以上２００Ｎ／ｍｍ^２以下であってよく、好ましくは４０Ｎ／ｍｍ^２以上１５０Ｎ／ｍｍ^２以下、より好ましくは５０Ｎ／ｍｍ^２以上１００Ｎ／ｍｍ^２以下である。光学フィルムの引張応力が上記範囲内である場合、光学フィルムを薄膜化した場合でも良好な膜強度が得られ易くなる傾向にある。

光学フィルムは、光学異方性層の他に、基材層および配向層をさらに有していてよい。

基材層は、例えば樹脂フィルム等から構成することができる。樹脂フィルムを構成する樹脂としては、透光性を有する熱可塑性樹脂、好ましくは光学的に透明な熱可塑性樹脂であり、例えばポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂；ノルボルネン系ポリマー等の環状ポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；（メタ）アクリル酸、ポリ（メタ）アクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸系樹脂；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル系樹脂；ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル等のビニルアルコール系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリスチレン系樹脂；ポリアリレート系樹脂；ポリスルホン系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリエーテルケトン系樹脂；ポリフェニレンスルフィド系樹脂；ポリフェニレンオキシド系樹脂、及びこれらの混合物、共重合物等を挙げることができる。これらの樹脂のうち、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロースエステル系樹脂及び（メタ）アクリル酸系樹脂のいずれか又はこれらの混合物を用いることが好ましい。

基材層の厚みは、例えば１μｍ以上３００μｍ以下であってよく、強度や取扱い性等の作業性の点から好ましくは５μｍ以上２００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上１２０μｍ以下である。

基材層の１ｃｍ^２あたりの熱容量は、特に限定されるものではないが、乾燥炉や冷却炉などの環境温度制御装置による光学フィルムの温度制御が容易になるという点で、好ましくは基材１ｃｍ^２あたりの熱容量が０．１Ｊ／ｃｍ^２・℃以下であり、より好ましくは０．０５Ｊ／ｃｍ^２・℃以下であり、特に好ましくは０．０３Ｊ／ｃｍ^２・℃以下である。ここで基材層１ｃｍ^２あたりの熱容量とは、基材層を１ｃｍ^２だけ切り出した際に含まれる体積分が有する熱容量を示す。

また、基材層の比熱は、特に限定されるものではないが、同様の観点から、２，０００Ｊ／ｋｇ・℃以下が好ましく、１，５００Ｊ／ｋｇ・℃以下がより好ましい。

光学フィルムが基材層と配向層とを有する場合、基材層と配向層との密着性を向上させるために、基材層の配向層が形成される側の表面に、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処
理等を行ってもよく、プライマー層等を形成してもよい。

配向層は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる配向規制力を有する。配向層は、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層、光配向ポリマーで形成された光配向性ポリマー層、層表面に凹凸パターンや複数のグルブ（溝）を有するグルブ配向層を挙げることができ、配向層の厚みは、通常１０ｎｍ以上４０００ｎｍ以下であり、５０ｎｍ以上３０００ｎｍ以下であることが好ましい。

配向性ポリマー層は、配向性ポリマーを溶剤に溶解した組成物を基材層に塗布して溶剤を除去し、必要に応じてラビング処理をして形成することができる。この場合、配向規制力は、配向性ポリマーで形成された配向性ポリマー層では、配向性ポリマーの表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能である。

光配向性ポリマー層は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物（以下、光配向膜形成用組成物ともいう）を基材層に塗布し、紫外線等の光を照射することで形成することができる。特に水平方向に配向規制力を発現する場合等においては、偏光を照射することによって形成することができる。この場合、配向規制力は、光配向性ポリマー層では、光配向性ポリマーに対する偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。

グルブ配向層は、例えば感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光、現像等を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層を基材層に転写して硬化する方法、基材層に活性エネルギー線硬化性樹脂の未硬化の層を形成し、この層に、凹凸を有するロール状の原盤を押し当てる等により凹凸を形成して硬化させる方法等によって形成することができる。

光学フィルムが基材層と配向層とを含む場合、基材層を剥離する際に、基材層とともに配向層を剥離してもよいし、光学異方性層上に配向層が残存してもよい。配向層が基材層とともに剥離されるか、光学異方性層に残存するかは、各層間の密着力の関係を調整することによって設定することができ、例えば基材層に対して行われる、上記したコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、プライマー層等の表面処理や、光学異方性層を形成するために用いる液晶組成物の成分等によって調整することができる。

本発明の別の一態様に係る光学フィルムは、１つ以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物が配向した状態で重合した重合体からなる光学異方性層を有する光学フィルムであって、光学異方性層における下記式（２）で定義される欠陥率が下記式（３）を満たすことを特徴とする。

[式中、欠陥合計面積は、光学顕微鏡の一視野において観察される実サイズが０．３μｍ
以上５０μｍ以下の欠陥の面積の合計であり、顕微鏡観察視野は、前記光学顕微鏡の一視野において観察される光学異方性層の面積である]
０≦欠陥率［ｐｐｍ］≦１０００ （３）

式（２）における顕微鏡観察視野は、例えば４．５３ｍｍ^２であってよい。欠陥率は、後述する実施例の欄において説明する欠陥率の測定方法に従って決定することができる。

光学異方性層の欠陥率が式（３）を満たす場合、光学異方性層の膜強度及び加工性を良好なものとし易くなる傾向にある。光学異方性層の欠陥率は、光学異方性層の膜強度及び加工性の観点から好ましくは６００ｐｐｍ以下、より好ましくは３００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは１００ｐｐｍ以下、特に好ましくは５０ｐｐｍ以下である。光学異方性層の欠陥率は、理想的には０ｐｐｍであるが、０．０１ｐｐｍ以上であってよく、さらには０．１ｐｐｍ以上であってもよい。

光学異方性層の欠陥率が式（３）を満たすようにするには、例えば重合性液晶化合物の種類や分子量の選定、組成の調節、製造条件の調節、及びこれらの組合せにより行うことができる。重合性液晶化合物の種類や分子量、組成の調節及び製造条件の調節の具体的な例は、上述の光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける実サイズが０．３μｍ以上５０μｍ以下の欠陥の個数が式（１）を満たすようにするために例示したものが当てはまる。

本発明のさらに別の一態様に係る光学フィルムは、１つ以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物が配向した状態で重合した重合体を含む光学異方性層を有する光学フィルムであって、光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける実サイズが０．３μｍ以上５０μｍ以下の欠陥の個数が下記式（１）を満たし、下記式（２）で定義される欠陥率が下記式（３）を満たす。
０≦配向欠陥の個数［個］≦１４ （１）

０≦欠陥率［ｐｐｍ］≦１０００ （３）
[式中、欠陥合計面積は、光学顕微鏡の一視野において観察される実サイズが０．３μｍ
以上５０μｍ以下の欠陥の面積の合計であり、顕微鏡観察視野は、光学顕微鏡の一視野において観察される光学異方性層の面積である]

光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける実サイズが０．３μｍ以上５０μｍ以下の欠陥の個数が式（１）を満たし、かつ欠陥率が式（３）を満たす場合、光学異方性層の膜強度及び加工性を優れたものとし易くなる傾向にある。

光学フィルムは、透明性に優れ、単独での単層又は積層構造（例えば２層以上４層以下の構造）で、基材及び／又は配向膜あるいは種々の光学フィルムとともに種々の用途に用いることができる。なお、複数層積層する場合は、同一のフィルムであってもよいし、異なるものを組み合わせて用いてもよい。ここで、光学フィルムとは、光を透過し得るフィルムであって、光学的な機能を有するフィルムを意味し、光学的な機能とは、屈折、複屈折などを意味する。

光学フィルムとしては、例えば
第一の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して水平方向に配向した位相差フィルム、
第二の形態：棒状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した位相差フィルム、
第三の形態：棒状液晶化合物が面内で螺旋状に配向の方向が変化している位相差フィルム、
第四の形態：円盤状液晶化合物が傾斜配向している位相差フィルム、
第五の形態：円盤状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した二軸性の位相差フィルム
が挙げられる。

光学フィルムは、波長５５０ｎｍにおける位相差値（Ｒｅ（５５０ｎｍ））が例えば１１３ｎｍ以上１６３ｎｍ以下であってよく、好ましくは１３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、より好ましくは約１３５ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である。光学フィルムが上記範囲の波長５５０ｎｍにおける位相差値を有する場合、１／４波長位相差フィルムに好適である。

光学フィルムは逆波長分散性を有することが好ましい。逆波長分散性とは、短波長での液晶配向面内位相差値の方が長波長での液晶配向面内位相差値よりも小さくなる光学特性であり、好ましくは、光学フィルムが下記式（ｉ）及び式（ｉｉ）を満たすことである。なお、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１ （ｉ）
１≦Ｒｅ（６３０）／Ｒｅ（５５０） （ｉｉ）
光学フィルムが上述の第一の形態でかつ逆波長分散性を有する場合、表示装置での黒表
示時の着色が低減するため好ましく、式（１）において０．８２≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦０．９３であればより好ましい。さらに１２０≦Ｒｅ（５５０）≦１５０が好ましい。

光学フィルムが上述の第二の形態の場合、面内位相差値Ｒｅ（５５０）は０〜１０ｎｍの範囲に、好ましくは０〜５ｎｍの範囲に調整すればよく、厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈは、−１０〜−３００ｎｍの範囲に、好ましくは−２０〜−２００ｎｍの範囲に調整すればよい。

厚み方向の屈折率異方性を意味する厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈは、面内の進相軸を傾斜軸として５０度傾斜させて測定される位相差値Ｒ_５０と面内位相差値Ｒ_ｅとから算出できる。すなわち、厚み方向の位相差値Ｒ_ｔｈは、面内の位相差値Ｒ_ｅ、進相軸を傾斜軸として５０度傾斜させて測定した位相差値Ｒ_５０、位相差フィルムの厚みｄ、及び位相差フィルムの平均屈折率ｎ_０から、以下の式（ｉｖ）〜（ｖｉ）によりｎ_x、ｎ_y及びｎ_zを求め
、これらを式（ｉｉｉ）に代入して、算出することができる。

Ｒ_ｔｈ＝［（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ］×ｄ （ｉｉｉ）
Ｒ_ｅ ＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ （ｉｖ）
Ｒ_５０＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ'）×ｄ／ｃｏｓ(φ) （ｖ）
(ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ＋ｎ_ｚ)／３＝ｎ_０ （ｖｉ）
ここで、
φ＝sin^−１〔sin（４０°）／ｎ_０〕
ｎ_ｙ'＝ｎ_ｙ×ｎ_ｚ／〔ｎ_ｙ ^２×sin^２（φ）＋ｎ_ｚ ^２×cos^２（φ）〕^１／２

光学フィルムをＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｎｇｍｅｎｔ）モード用の光学フィルムとして使用するためには、液晶組成物中の重合性液晶化合物の含有量を適宜調整し、光学フィルムの厚みを調整すればよい。具体的には、Ｒｅ（５５０）が例えば、４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下、好ましくは６０ｎｍ以上８０ｎｍ以下となるように、膜厚を調整すればよい。

［光学フィルムの製造方法］
光学フィルムは、例えば液晶組成物を調製し、次いで基材又は配向膜上に液晶組成物を塗工し、乾燥し、重合性液晶化合物を重合することにより製造することができる。

＜液晶組成物＞
液晶組成物は、重合性液晶化合物を、任意に溶剤、重合開始剤、増感剤、重合禁止剤及び／又はレベリング剤等と共に混合することにより調製することができる。

重合性液晶化合物の分子量が大きいほど、結晶化し易く、微結晶に起因する特定欠陥が多くなる傾向にあるため、分子量の比較的大きな重合性液晶化合物を用いる場合には、特定欠陥の数を本発明で規定する範囲とするために、例えば重合性液晶化合物として２種以上の液晶化合物を組合せて重合を行うことができる。

（重合性液晶化合物）
重合性液晶化合物としては、例えば特開２０１１−２０７７６５号公報、特開２０１０−２４４３８号公報、特開２０１５−１６３９３７号公報、特開２０１７−１７９３６７号公報、特開２０１６−４２１８５号公報、国際公開第２０１６／１５８９４０号、特開２０１６−２２４１２８号公報等に例示されているものを単独で又は２種以上を組合わせて用いることができる。重合性液晶化合物は、１つ以上の重合性官能基を有し、好ましくは２つ以上の重合性官能基を有し、より好ましくは２つ以上４つ以下の重合性官能基を有し、さらに好ましくは２つの重合性官能基を有する。

重合性液晶化合物は、１つの重合性官能基に対する分子量が例えば２５０以上であってよい。例えば重合性液晶化合物が重合性官能基を２つ有する場合、重合性液晶化合物の分子量は５００以上であってよい。重合性液晶化合物が１つの重合性官能基に対する分子量が２５０以上である場合、良好な液晶性が得られ易くなる傾向にある。重合性液晶化合物は、１つの重合性官能基に対する分子量が好ましくは２８０以上、より好ましくは３００以上であり、通常は１０００以下である。

重合性液晶化合物の分子量は、好ましくは５００以上、より好ましくは５６０以上、さらに好ましくは６００以上であり、通常は２０００以下である。

重合性液晶化合物としては、下記（１）〜（４）を全て満たす化合物が挙げられる。
（１）ネマチック相を形成し得る化合物である；
（２）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する。
（３）長軸方向（ａ）に対して交差する方向〔交差方向（ｂ）〕上にπ電子を有する。
（４）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ） （ｉ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ｉｉ）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ） （ｉｉ）
とが、
０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある〔すなわち、交差方向（ｂ）のπ電子密度が、長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きい〕。
なお、上記（１）〜（４）を全て満たす重合性液晶化合物は、例えば配向膜上に塗布し、相転移温度以上に加熱することにより、ネマチック相を形成することが可能である。この重合性液晶化合物が配向して形成されたネマチック相では通常、重合性液晶化合物の長軸方向が互いに平行になるように配向しており、この長軸方向がネマチック相の配向方向となる。

上記特性を有する重合性液晶化合物は、一般に逆波長分散性を示すものであることが多い。上記（１）〜（４）の特性を満たす化合物として、具体的には、例えば、下記式（Ｉ）：

で表される化合物が挙げられる。

式（Ｉ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。ここで言う芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをいう。ここでｎは整数を表す。−Ｎ＝や−Ｓ−等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。
Ｇ^１及びＧ^２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
Ｌ^１、Ｌ^２ _、Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。
ｋ、ｌは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ^１及びＢ^２、Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
Ｅ^１及びＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｉ−で置換されていてもよい。
Ｐ^１及びＰ^２は互いに独立に、重合性官能基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性官能基である。

Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４−フェニレンジイル基、無置換の１，４−フェニレンジイル基、又は無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４−フェニレンジイル基、又は無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロへキサンジイル基である。
また、複数存在するＧ^１及びＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ^１又はＬ^２に結合するＧ^１及びＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。

Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒ^ａ１ＯＲ^ａ２−、−Ｒ^ａ３ＣＯＯＲ^ａ４−、−Ｒ^ａ５ＯＣＯＲ^ａ６−、Ｒ^ａ７ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ８−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^ｃ＝ＣＲ^ｄ−、又はＣ≡Ｃ−である。ここで、Ｒ^ａ１〜Ｒ^ａ８はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ^ｃ及びＲ^ｄは炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲ^ａ２−１−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯＲ^ａ４−１−、又はＯＣＯＲ^ａ６−１−である。ここで、Ｒ^ａ２−１、Ｒ^ａ４−１、Ｒ^ａ６−１はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれか
を表す。Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、又はＯＣＯ−である。

Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒ^ａ９ＯＲ^ａ１０−、−Ｒ^ａ１１ＣＯＯＲ^ａ１２−、−Ｒ^ａ１３ＯＣＯＲ^ａ１４−、又はＲ^ａ１５ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ１６−である。ここで、Ｒ^ａ９〜Ｒ^ａ１６はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１〜４のアルキレン基を表す。Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲ^{ａ１０−１}−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯＲ^{ａ１２−１}−、又はＯＣＯＲ^{ａ１４−１}−である。ここで、Ｒ^{ａ１０−１}、Ｒ^{ａ１２−１}、Ｒ^{ａ１４−１}はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す。Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−、又はＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２−である。

ｋ及びｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるため好ましい。

Ｅ^１及びＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４〜１２のアルカンジイル基がより好ましい。

Ｐ^１又はＰ^２で表される重合性官能基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

式（Ｉ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎπは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。

Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。

式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２３）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。

Ｑ^１、Ｑ^２及びＱ^３は、それぞれ独立に、−ＣＲ^２’Ｒ^３’−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^２’−、−ＣＯ−又はＯ−を表し、Ｒ^２’及びＲ^３’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。

Ｊ^１、及びＪ^２は、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。

Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、ｍは０〜６の整数を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。

Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ^０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ^１及びＺ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。

Ｑ^１、Ｑ^２及びＱ^３は、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ^２’−、−Ｏ−が好ましく、Ｒ^２’は水素原子が好ましい。中でも−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−が特に好ましい。

式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２３）の中でも、式（Ａｒ−６）及び式（Ａｒ−７）が分子の安定性の観点から好ましい。
式（Ａｒ−１６）〜（Ａｒ−２３）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子及びＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子及びＺ^０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。

液晶組成物中における重合性液晶化合物の含有量は、液晶組成物の固形分１００質量部に対して、通常５０質量部以上９９．５質量部以下であり、好ましくは６０質量部以上９９質量部以下であり、より好ましくは７０質量部以上９８質量部以下であり、さらに好ましくは８０質量部以上９７質量部以下である。重合性液晶の含有割合が上記範囲内であれば、配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、液晶組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。

液晶組成物は、光学異方性層において微結晶に起因する欠陥を低減する観点から好ましくは２種以上の重合性液晶化合物を含む。液晶組成物が２種以上の重合性液晶化合物を含
む場合、液晶組成物は、主となる重合性液晶化合物を重合性液晶化合物全体に対し例えば９０質量％以下含んでよく、好ましくは８５質量％以下含む。

液晶組成物は、溶剤に対する溶解度向上の観点から好ましくは、重合性液晶化合物と共にその２量体、３量体又はそれ以上のオリゴマーを含むことができる。これにより、微結晶の析出が抑制され易くなる傾向にある。

（溶剤）
液晶組成物が有機溶剤を含む場合、液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物の結晶の析出を抑制することができるため、光学異方性層における微結晶起因の欠陥の発生を抑制し易くなる傾向にある。また、液晶組成物が有機溶剤を含む場合、光学フィルムを形成する際の取扱いや成膜が容易とな傾向にある。溶剤としては、重合性液晶化合物を完全に溶解し得るものが好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。

溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテルおよびプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトンまたはプロピレングリコールメチルエーテルアセテートおよび乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサンおよびヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエンおよびキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフランおよびジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルムおよびクロロベンゼン等の塩素含有溶剤；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のアミド系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

溶剤の含有量は、液晶組成物の総量に対して５０質量％以上９８質量％以下が好ましい。換言すると、液晶組成物における固形分の含有量は、２質量％以上５０質量％以下が好ましい。該固形分の含有量が５０質量％以下であると、液晶組成物の粘度が低くなることから、偏光層１２の厚さが略均一になることで、当該偏光層１２にムラが生じにくくなる傾向がある。また、かかる固形分の含有量は、製造しようとする偏光層１２の厚みを考慮して定めることができる。

（重合開始剤）
液晶組成物は重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤は、重合性液晶等の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、サーモトロピック液晶の相状態に依存しないという観点から、光の作用により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。

重合開始剤としては、例えばベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩等が挙げられる。

ベンゾイン化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルおよびベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。

ベンゾフェノン化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンおよび２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。

アルキルフェノン化合物としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンおよび２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等が挙げられる。

アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドおよびビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。

トリアジン化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジンおよび２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。

重合開始剤として市販のものを用いることができる。市販の重合開始剤としては、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７、１８４、６５１、８１９、２５０、および３６９、３７９、１２７、７５４、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）；セイクオール（登録商標）ＢＺ、Ｚ、およびＢＥＥ（精工化学株式会社製）；カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００、およびＵＶＩ−６９９２（ダウ・ケミカル株式会社製）；アデカオプトマーＳＰ−１５２、Ｎ−１７１７、Ｎ−１９１９、ＳＰ−１７０、アデカアークルズＮＣＩ−８３１、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（株式会社ＡＤＥＫＡ製）；ＴＡＺ−Ａ、およびＴＡＺ−ＰＰ（日本シイベルヘグナー株式会社製）；並びに、ＴＡＺ−１０４（株式会社三和ケミカル製）；等が挙げられる。液晶組成物中の重合開始剤は、１種類でも良いし、光の光源に合わせて２種類以上の複数の重合開始剤を混合しても良い。

液晶組成物中の重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の種類およびその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、通常０．１質量部以上３０質量部以下、好ましくは０．５質量部以上１０質量部以下、より好ましくは０．５質量部以上８質量部以下である。重合開始剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶の配向を乱すことなく重合を行うことができる。

（増感剤）
液晶組成物は増感剤を含有してもよい。増感剤としては、光増感剤が好ましい。増感剤としては、例えば、キサントンおよびチオキサントン等のキサントン化合物（例えば、２
，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等）；アントラセンおよびアルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセン等)等のアントラセン化合物；フェノチアジンおよびルブレン等が挙げられる。

液晶組成物が増感剤を含有する場合、液晶組成物に含有される重合性液晶化合物の重合反応をより促進することができる。かかる増感剤の使用量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下が好ましく、０．５質量部以上５質量部以下がより好ましく、０．５質量部以上３質量部以下がさらに好ましい。

（重合禁止剤）
重合反応を安定的に進行させる観点から、液晶組成物は重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤により、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。

重合禁止剤としては、例えばハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコール等）、ピロガロール、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル捕捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類およびβ−ナフトール類等が挙げられる。

液晶組成物が重合禁止剤を含有する場合、重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上１０質量部以下、より好ましくは０．５質量部以上５質量部以下、さらに好ましくは０．５質量部以上３質量部以下である。重合禁止剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶の配向を乱すことなく重合を行うことができる。

（レベリング剤）
液晶組成物には、レベリング剤を含有させてもよい。レベリング剤とは、組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、有機変性シリコーンオイル系、ポリアクリレート系およびパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３およびＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。中でも、ポリアクリレート系レベリング剤およびパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましい。

液晶組成物がレベリング剤を含有する場合、重合性液晶化合物の含有量１００質量部に対して、好ましくは０．０１質量部以上５質量部以下、より好ましくは０．１質量部以上５質量部以下、さらに好ましくは０．１質量部以上３質量部以下である。レベリング剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる偏光膜がより平滑となる傾向がある。重合性液晶化合物に対するレベリング剤の含有量が上記範囲を超えると、得られる偏光膜にムラが生じやすい傾向がある。なお、液晶組成物は、レベリング剤を２種以上含有していてもよい。

なお液晶組成物の塗工量や濃度を適宜調整することにより、所望の位相差を与えるように膜厚を調整することができる。重合性液晶化合物の量が一定である液晶組成物の場合、得られる位相差フィルムの位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、下記式（ａ）のように決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るために、膜厚ｄを調整してもよい。

Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （ａ）
［式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す］

（液晶組成物の塗工）
液晶組成物を基材又は配向膜上に塗布する方法としては、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましく、基材が枚葉状である場合には、均一性の高いスピンコーティング法が好ましい。Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で塗布する場合、基材に配向膜を形成するための光配向膜形成用組成物等を塗布して配向膜を形成し、さらに得られた配向膜上に液晶組成物を連続的に塗布することもできる。

液晶組成物を塗工する基材は、液晶組成物を塗工する際に一定の温度に保温することにより微結晶に起因する特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。保温する温度は、例えば２０℃以上６０℃以下であってよく、好ましくは３０℃以上５０℃以下である。

重合性液晶化合物の塗膜均一性を高め、重合性液晶化合物の塗膜はじきや配向膜不良に起因する特定欠陥個数を少なくする観点から、アニーリング（面直し）により基材の表面の平滑性を高めることができる。アニーリングの温度は、例えば６０℃以上１００℃以下、又は基材のガラス転移点よりも５℃以上２０℃以下低い温度であってよく、その時間は例えば１秒以上６０秒以下であってよい。

塗工時の周囲雰囲気の湿度を一定にすることで、重合性液晶化合物の結晶化を抑制し易くなり、微結晶に起因する特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。周囲雰囲気の湿度は、例えば９０％ＲＨ以下であってよく、好ましくは８５％ＲＨ以下であり、より好ましく６０％ＲＨ以下であり、さらに好ましくは５５％ＲＨ以下であり、特に好ましくは４０％ＲＨ以下である。一方、塗工時の周囲雰囲気の湿度は、例えば１０％ＲＨ以上であってよく、好ましくは２０％ＲＨ以上である。分子量の比較的大きな重合性液晶化合物を用いる場合、特定欠陥の数を本発明で規定する範囲とするために、重合性液晶化合物を基材上に塗布する際の湿度を比較的低くすることができる。

塗工に用いるダイの周囲雰囲気を重合性液晶化合物に含まれる溶剤の蒸気圧（溶剤雰囲
気下）へと調節することにより、重合性液晶化合物の溶剤が揮発しにくくなり、重合性液晶化合物の結晶化が抑制され、微結晶に起因する特定欠陥個数は少なくなる傾向にある。

基材は、異物起因の特定欠陥個数低減の観点から好ましくは、液晶組成物の塗工前に基材を清浄し、表面の汚染、例えばＰＥＴ滑材、ＰＥＴオリゴマー、シリコーン油等を除去することができる。

塗工する液晶組成物中の異物や微結晶等物を除去するために、塗工前、好ましくは塗工直前にフィルタリングすることができる。また、液晶組成物の塗工をクリーンルームで行うことで異物起因の特定欠陥個数は少なくすることができる。

（液晶組成物の乾燥）
液晶組成物に含まれる溶剤を除去する乾燥方法としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥およびこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥または加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、例えば０℃以上２００℃以下の範囲であってよく、例えば２０℃以上１５０℃以下の範囲がより好ましく、５０℃以上１３０℃以下の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、例えば１０秒間以上１０分間以下であってよく、好ましくは３０秒間以上５分間以下である。配向性ポリマー組成物も同様に乾燥することができる。

（重合性液晶化合物の重合）
重合性液晶化合物を重合させる方法としては、光重合が好ましい。光重合は、基材または配向膜上に重合性液晶化合物を液晶組成物が塗布された積層体に活性エネルギー線を照射することにより実施される。照射する活性エネルギー線としては、乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合性官能基の種類）、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、およびそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、およびγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。

前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０ｎｍ以上４４０ｎｍ以下を発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０ｍＷ／ｃｍ^２以上３，０００ｍＷ／ｃｍ^２以下である。紫外線照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤またはラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒以上１０分以下であり、好ましくは０．１秒以上５分以下であり、より好ましくは０．１秒以上３分以下であり、さらに好ましくは０．１秒以上１分以下である。このような紫外線照射強度で１回または複数回照射すると、その積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ^２以上３，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下、好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ^２以上２，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下、より好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ^２以上１，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。積算光量がこの範囲内である場合には、重合性液晶化合物の硬化が十分となり、良好な転写性が得られ易くなり、光学積層体の着色を抑制し易くなる傾向にある。

図１は、本発明の一態様に係る光学フィルムの一実施形態を示す概略図である。光学フ
ィルム１０は、光学異方性層１１と、配向層１２と、基材層１３とをこの順に有する。

［位相差積層体］
位相差積層体は、上述の光学フィルムを１以上含む。位相差積層体は、１以上の位相差層を有し、例えば直線偏光を円偏光や楕円偏光に変換したり、逆に円偏光または楕円偏光を直線偏光に変換したりするために用いられるフィルムであってよい。

位相差積層体が第１の位相差層と第２の位相差層とを有する場合、位相差積層体を偏光板に貼合して円偏光板として用いることができる。円偏光板として用いる場合、第１の位相差層を逆波長分散性の１／４波長位相差層とし、第２の位相差層をポジティブＣプレートとしてもよく、又は第１の位相差層を１／２波長位相差層とし、第２の位相差層を１／４波長位相差層としてもよい。

位相差積層体について図面を参照しながら説明する。

図２は、位相差積層体の一実施形態を示す概略図である。位相差積層体２０は、第１の基材層３１と、第１の配向層３２と、第１の位相差層３３と、接着層３４と、第２の位相差層３５と、第２の配向層３６と、第２の基材層３７とをこの順に有する。

第１の基材層３１、第１の配向層３２及び第１の位相差層３３から構成される第１の積層体２１は、上述の本発明の光学フィルム１０から構成することができる。

第２の位相差層３５、第２の配向層３６及び第２の基材層３７から構成される第２の積層体２２は、上述の本発明の光学フィルム１０から構成することができる。

接着層３４は、粘着剤、接着剤またはこれらの組み合わせから形成することができる。接着層３４は、通常１層であるが、２層以上であってもよい。接着剤層３４は、接着剤組成物を、基材層や位相差層の接合面に塗布することによって形成してよい。塗布方法としては、ダイコーター、カンマコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ロッドコーター、ワイヤーバーコーター、ドクターブレードコーター、エアドクターコーター等を用いた通常のコーティング技術を採用すればよい。

粘着剤としては、（メタ）アクリル系粘着剤、スチレン系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、エポキシ系共重合体粘着剤等を用いることができる。

接着剤としては、例えば、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤等のうち１または２種以上を組み合せて形成することができる。水系接着剤としては、例えばポリビニルアルコール系樹脂水溶液、水系二液型ウレタン系エマルジョン接着剤等を挙げることができる。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射することによって硬化する接着剤であり、例えば重合性化合物および光重合性開始剤を含むもの、光反応性樹脂を含むもの、バインダー樹脂および光反応性架橋剤を含むもの等を挙げることができる。上記重合性化合物としては、光硬化性エポキシ系モノマー、光硬化性アクリル系モノマー、光硬化性ウレタン系モノマー等の光重合性モノマーや、これらモノマーに由来するオリゴマー等を挙げることができる。上記光重合開始剤としては、紫外線等の活性エネルギー線を照射して中性ラジカル、アニオンラジカル、カチオンラジカルといった活性種を発生する物質を含むものを挙げることができる。

接着層３４の厚みは、例えば０．１μｍ以上２５μｍ以下であってよく、好ましくは０．５μｍ以上２０μｍ以下、より好ましくは１μｍ以上１５μｍ以下、さらに好ましくは
２μｍ以上１０μｍ以下、特に好ましくは２．５μｍ以上５μｍ以下である。

位相差積層体２０は、例えば第１の積層体２１と第２の位相差層２２とを準備する工程、第１の積層体２１の第１の位相差層３３側の表面に接着剤層３４を形成する工程、第１の積層体２１と第２の位相差層２２とを、それぞれの位相差層面側を貼号面として貼合する工程を含む製造方法により製造することができる。

［偏光板］
上述の位相差積層体と偏光子とを組み合わせることにより、偏光板、例えば楕円偏光板及び円偏光板が提供される。

本発明の偏光板は、膜強度や加工性が向上した光学異方性層を有するため、カットした場合でもクラック等が起こり難い傾向にある。そのため、本発明の偏光板は、切断面を有する偏光板や異形偏光板に好適である。異形偏光板は、例えば平面形状が矩形及び正方形以外の形状である偏光板や、最外周から内側の平面領域に貫通孔を有するような偏光板であってよい。偏光板は、長尺状であってよく、枚葉状であってよい。

図３は、偏光板の一実施形態を示す概略図である。偏光板４０は、偏光子３９と、粘着層３８と、第１の配向層３２と、第１の位相差層３３と、接着層３４と、第２の位相差層３５と、第２の配向層３６と、第２の基材層３７とをこの順に有する。

偏光子３９としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。偏光子とは、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する直線偏光子をいう。例えば、偏光子を形成する樹脂フィルムは、単層の樹脂フィルムであってもよく、二層以上の積層フィルムであってもよい。偏光子３９は、重合性液晶化合物に二色性色素を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜であってもよい。

単層の樹脂フィルムから構成される偏光子の具体的な例としては、ポリビニルアルコール（以下、「ＰＶＡ」と略すこともある。）系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理、及び延伸処理が施されたもの、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム等が挙げられる。光学特性に優れることから、ＰＶＡ系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子を用いることが好ましい。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより製造できる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルと酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体との共重合体であることもできる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類等が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５モル％以上１００モル％以下であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールなども使用可能である。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１，０００以上１０，０００以下であり、好ましくは１，５００以上５，０００以下である。

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光子の原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものでな
く、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系樹脂原反フィルムの膜厚は、例えば１０μｍ以上１００μｍ以下、好ましくは１０μｍ以上６０μｍ以下、より好ましくは１５μｍ以上３０μｍ以下である。

その他の偏光子３９の製造方法としては、まず基材フィルムを用意し、基材フィルム上にポリビニルアルコール系樹脂等の樹脂の溶液を塗布し、溶媒を除去する乾燥等を行って基材フィルム上に樹脂層を形成する工程を含むものを挙げることができる。なお、基材フィルムの樹脂層が形成される面には、予めプライマー層を形成することができる。基材フィルムとしては、ＰＥＴ等の樹脂フィルムを使用できる。プライマー層の材料としては、偏光子に用いられる親水性樹脂を架橋した樹脂等を挙げることができる。

次いで、必要に応じて樹脂層の水分等の溶媒量を調整し、その後、基材フィルム及び樹脂層を一軸延伸し、続いて、樹脂層をヨウ素等の二色性色素で染色して二色性色素を樹脂層に吸着配向させる。続いて、必要に応じて二色性色素が吸着配向した樹脂層をホウ酸水溶液で処理し、ホウ酸水溶液を洗い落とす洗浄工程を行う。これにより、二色性色素が吸着配向された樹脂層、すなわち、偏光子のフィルムが製造される。各工程には公知の方法を採用できる。

基材フィルム及び樹脂層の一軸延伸は、染色の前に行ってもよいし、染色中に行ってもよいし、染色後のホウ酸処理中に行ってもよく、これら複数の段階においてそれぞれ一軸延伸を行ってもよい。基材フィルム及び樹脂層は、ＭＤ方向（フィルム搬送方向）に一軸延伸してもよく、この場合、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また、基材フィルム及び樹脂層は、ＴＤ方向（フィルム搬送方向に垂直な方向）に一軸延伸してもよく、この場合、いわゆるテンター法を使用することができる。また、基材フィルム及び樹脂層の延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶剤にて樹脂層を膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。偏光子の性能を発現するためには延伸倍率は４倍以上であり、５倍以上であることが好ましく、特に５．５倍以上が好ましい。延伸倍率の上限は特にないが、破断等を抑制する観点から８倍以下が好ましい。

上記方法で作製した偏光子３９は後述する保護層を積層した後に基材フィルムを剥離することで得ることができる。この方法によれば、偏光子の更なる薄膜化が可能となる。

重合性液晶化合物に二色性色素を配向させ、重合性液晶化合物を重合させた硬化膜である偏光子３９の製造方法としては、基材フィルム上に、重合性液晶化合物及び二色性色素を含む偏光子形成用組成物を塗布し、重合性液晶化合物を液晶状態を保持したまま重合して硬化させて偏光子を形成する方法を挙げることができる。このようにして得られた偏光子は、基材フィルムに積層された状態にあり、基材フィルム付き偏光子として用いてもよい。あるいは、基材フィルム付き偏光子を位相差積層体に粘着層を介して積層した後に、又は、剥離層付き粘着層に積層した後に、基材フィルムを剥離して用いてもよい。

二色性色素としては、分子の長軸方向における吸光度と短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素を用いることができ、例えば、３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に吸収極大波長（λｍａｘ）を有する色素が好ましい。このような二色性色素としては、例えばアクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素、アントラキノン色素等が挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素、スチルベンアゾ色素等が挙げられ、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素がより好ましい。

偏光子形成用組成物は、溶剤、光重合開始剤等の重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤等
を含むことができる。偏光子形成用組成物に含まれる、重合性液晶化合物、二色性色素、溶剤、重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤等については、公知のものを用いることができ、例えば特開２０１７−１０２４７９号公報、特開２０１７−８３８４３号公報に例示されているものを用いることができる。また、重合性液晶化合物は、上述の光学異方性層を得るために用いた重合性液晶化合物として例示した化合物と同様のものを用いてもよい。偏光子形成用組成物を用いて偏光子を形成する方法についても、上記公報に例示された方法を採用することができる。

偏光子３９の厚みは、例えば２μｍ以上であってよく、好ましくは３μｍ以上である。一方、偏光子３９の厚みは、例えば２５μｍ以下であり、好ましくは１５μｍ以下である。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。偏光子３９の厚みが薄くなるほど剛性が小さくなり、上述の光学異方性層の収縮応力の影響を受けやすい傾向にある。

偏光子３９はその片面又は両面に、公知の粘着層又は接着層を介して保護層を積層することができる。偏光子３９の片面又は両面に積層することができる保護層としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる熱可塑性樹脂から形成されたフィルムが用いられる。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリカーボネート樹脂；ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド樹脂；ポリイミド樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン樹脂；シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン樹脂（ノルボルネン系樹脂ともいう）；（メタ）アクリル樹脂；ポリアリレート樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリビニルアルコール樹脂、並びにこれらの混合物を挙げることができる。偏光子３９の両面に保護層が積層されている場合、二つの保護層の樹脂組成は同一であってもよいし、異なっていてもよい。本明細書において「（メタ）アクリル」とは、アクリル又はメタクリルのいずれでもよいことを意味する。（メタ）アクリレート等の「（メタ）」も同様の意味である。

熱可塑性樹脂から形成されたフィルムは、ＰＶＡ系樹脂及び二色性物質からなる偏光子との密着性を向上するため、表面処理（例えば、コロナ処理等）が施されていてもよく、プライマー層（下塗り層ともいう）等の薄層が形成されていてもよい。

保護層は、例えば前述の熱可塑性樹脂を延伸したものであってもよいし、延伸されていないものであってもよい（以下、「未延伸樹脂」ということがある。）。延伸処理としては、一軸延伸や二軸延伸等が挙げられる。

保護層の厚みは、例えば３μｍ以上であってよく、好ましくは５μｍ以上である。一方、保護層の厚みは、例えば５０μｍ以下であってよく、好ましくは３０μｍ以下である。なお、上述した上限値及び下限値は、任意に組み合わせることができる。

保護層の偏光子とは反対側の表面は、表面処理層を有していてもよく、例えばハードコート層、反射防止層、スティッキング防止層、アンチグレア層、拡散層等を有していてもよい。表面処理層は、保護層上に積層される別の層であってもよく、保護層表面に表面処理が施されて形成されたものであってもよい。

ハードコート層は、偏光板表面の傷つき防止等を目的とするものであり、例えばアクリル系、シリコーン系等の紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を保護層の表面に付加する方式等にて形成することができる。反射防止層は、偏光板表面での
外光の反射防止を目的とするものであり、従来に準じた反射防止膜等の形成により達成することができる。また、スティッキング防止層は隣接層との密着防止を目的とするものである。

アンチグレア層は、偏光板の表面で外光が反射して、偏光板の透過光の視認を阻害することを防止する等を目的とするものであり、例えば、サンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式等の方式により、保護層の表面に微細凹凸構造を付与して形成することができる。保護層の表面に微細凹凸構造を付与するために用いる透明微粒子としては、例えば平均粒径が０．５μｍ以上５０μｍ以下のシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性を有し得る無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等の有機系微粒子等の微粒子が挙げられる。透明微粒子の含有量は、微細凹凸構造を形成する層をなす樹脂１００質量部に対して、一般的に２質量部以上５０質量部以下であり、５質量部以上２５質量部以下が好ましい。アンチグレア層は、偏光板の透過光を拡散して視角等を拡大するための拡散層（視角拡大機能等）を兼ねるものであってもよい。

表面処理層が偏光板の保護層上に積層される別の層である場合、表面処理層の厚みは、例えば０．５μｍ以上であってよく、好ましくは１μｍ以上である。一方、表面処理層の厚みは、例えば１０μｍ以下であってよく、好ましくは８μｍ以下である。厚みが上記範囲内であると、偏光板表面の傷つきを有効に防止し易くなり、硬化収縮が抑制され、偏光板の逆カールが抑制され易くなる傾向にある。

粘着層３８は、粘着剤から構成されることができる。粘着剤としては、従来公知の光学的な透明性に優れる粘着剤を特に制限なく用いることができ、例えば、アクリル系、ウレタン系、シリコーン系、ポリビニルエーテル系等のベースポリマーを有する粘着剤を用いることができる。また、活性エネルギー線硬化型粘着剤、熱硬化型粘着剤等であってもよい。これらの中でも、透明性、粘着力、再剥離性、耐候性、耐熱性等に優れるアクリル系樹脂をベースポリマーとした粘着剤が好適である。粘着層は、（メタ）アクリル系樹脂、架橋剤、シラン化合物を含む粘着剤組成物の反応生成物から構成されることが好ましい。

粘着剤組成物に、多官能性アクリレート等の紫外線硬化性化合物を配合して活性エネルギー線硬化型粘着剤とし、活性エネルギー線硬化型粘着剤の粘着層を形成した後に紫外線を照射して硬化させ、より硬い粘着層とすることも有用である。活性エネルギー線硬化型粘着剤は、紫外線や電子線等のエネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有している。活性化エネルギー線硬化型粘着剤は、エネルギー線照射前においても粘着性を有しているため、光学フィルムや液晶層等の被着体に密着し、エネルギー線の照射により硬化して密着力を調整することができる性質を有する粘着剤である。

活性エネルギー線硬化型粘着剤は、一般にはアクリル系粘着剤と、エネルギー線重合性化合物とを主成分として含む。通常はさらに架橋剤が配合されており、また必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を配合することもできる。

粘着層３８の厚みは、例えば３μｍ以上４０μｍ以下であってよく、好ましくは３μｍ以上３０μｍ以下である。

［フレキシブル画像表示装置］
フレキシブル画像表示装置は、フレキシブル画像表示装置用積層体と、有機ＥＬ表示パネルとからなり、有機ＥＬ表示パネルに対して視認側にフレキシブル画像表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。折り曲げ可能とは、クラック及び破断を生じさせずに屈曲できることを意味する。フレキシブル画像表示装置用積層体としては、
前面板またはタッチセンサの少なくとも一方とを備える偏光板であってよい。偏光板が前面板及びタッチセンサをいずれも有する場合、それらの積層順は任意であるが、視認側から前面板、偏光板、タッチセンサの順に、または視認側から前面板、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサの視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前面板、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。フレキシブル画像表示装置用積層体を形成する各層（前面板、偏光板、タッチセンサ）並びに各層を構成するフィルム部材（直線偏光板、１／４波長位相差板等）は接着剤によって形成することができる。偏光板は、本発明の光学フィルムまたは位相差積層体を含む偏光板であり、好ましくは円偏光板である。また、偏光板は、切断面を有する偏光板や異形偏光板であってもよい。

（前面板）
前面板は、好ましくは、光を透過可能な板状体である。前面板は、１層のみから構成されてもよく、２層以上から構成されてもよい。前面板は、画像表示装置の前面（画面）を保護する機能（ウインドウ）を有するのみではなく、タッチセンサとしての機能、ブルーライトカット機能、視野角調整機能等を有するものであってもよい。前面板は好ましくはウインドウである。

（ウインドウ）
ウインドウは、例えば後述するフレキシブル画像表示装置の視認側に配置され、その他の構成要素を外部からの衝撃または温湿度等の環境変化から保護する役割を担っている。従来このような保護層としてはガラスが使用されてきたが、後述するフレキシブル画像表示装置におけるウインドウはガラスのようにリジッドで堅いものではなく、フレキシブルな特性を有する。ウインドウは、フレキシブルな透明基材からなり、少なくとも一面にハードコート層を含んでいてもよい。

（透明基材）
透明基材は、可視光線の透過率が７０％以上、好ましくは８０％以上である。透明基材は、透明性のある高分子フィルムなら、どのようなものでも使用可能である。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ノルボルネンまたはシクロオレフィンを含む単量体の単位を有するシクロオレフィン系誘導体等のポリオレフィン類、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、プロピオニルセルロース等の（変性）セルロース類、メチルメタクリレート（共）重合体等のアクリル類、スチレン（共）重合体等のポリスチレン類、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体類、アクリロニトリル・スチレン共重合体類、エチレン−酢酸ビニル共重合体類、ポリ塩化ビニル類、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリエステル類、ナイロン等のポリアミド類、ポリイミド類、ポリアミドイミド類、ポリエーテルイミド類、ポリエーテルスルホン類、ポリスルホン類、ポリビニルアルコール類、ポリビニルアセタール類、ポリウレタン類、エポキシ樹脂類などの高分子で形成されたフィルムであってもよく、未延伸１軸または２軸延伸フィルムを使用することができる。これらの高分子はそれぞれ単独または２種以上混合して使用することができる。好ましくは、上記透明基材の中でも透明性及び耐熱性に優れたポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルムまたはポリイミドフィルム、ポリエステル系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、セルロース系フィルムが好ましい。高分子フィルムの中には、シリカ等の無機粒子、有機微粒子、ゴム粒子等を分散させることも好ましい。さらに、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、可塑剤、熱安定剤、光安定剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤などの配合剤を含有させてもよい。透明基材の厚さは５
μｍ以上２００μｍ以下、好ましくは、２０μｍ以上１００μｍ以下である。

（ハードコート）
ウインドウには透明基材の少なくとも一面にハードコート層が設けられていてもよい。ハードコート層の厚さは特に限定されず、例えば、２μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。ハードコート層の厚さが２μｍ未満の場合、十分な耐擦傷性を確保することが難しく、１００μｍを超えると、耐屈曲性が低下し、硬化収縮によるカール発生の問題が発生することがある。

ハードコート層は、活性エネルギー線或いは熱エネルギーを照射して架橋構造を形成する反応性材料を含むハードコート組成物の硬化により形成することができるが活性エネルギー線硬化によるものが好ましい。活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることができるエネルギー線と定義される。活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線などを挙げることができる。紫外線が特に好ましい。ハードコート組成物は、ラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有する。

ラジカル重合性化合物とは、ラジカル重合性基を有する化合物である。ラジカル重合性化合物が有するラジカル重合性基としては、ラジカル重合反応を生じ得る官能基であればよく、炭素−炭素不飽和二重結合を含む基などが挙げられる。具体的には、ビニル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。なお、ラジカル重合性化合物が２個以上のラジカル重合性基を有する場合、これらのラジカル重合性基はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。ラジカル重合性化合物が１分子中に有するラジカル重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、２つ以上であることが好ましい。ラジカル重合性化合物としては、反応性の高さの点から、中でも（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、１分子中に２〜６個の（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートモノマーと称される化合物やエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートと称される分子内に数個の（メタ）アクリロイル基を有する分子量が数百から数千のオリゴマーを好ましく使用できる。エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート及びポリエステル（メタ）アクリレートから選択された１種以上を含むことが好ましい。

カチオン重合性化合物とは、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基等のカチオン重合性基を有する化合物である。カチオン重合性化合物が１分子中に有するカチオン重合性基の数は、ハードコート層の硬度を向上する点から、２つ以上であることが好ましく、更に３つ以上であることが好ましい。また、カチオン重合性化合物としては、中でも、カチオン重合性基としてエポキシ基及びオキセタニル基の少なくとも１種を有する化合物が好ましい。エポキシ基、オキセタニル基等の環状エーテル基は、重合反応に伴う収縮が小さいという点から好ましい。また、環状エーテル基のうちエポキシ基を有する化合物は多様な構造の化合物が入手し易く、得られたハードコート層の耐久性に悪影響を与えず、ラジカル重合性化合物との相溶性もコントロールし易いという利点がある。また、環状エーテル基のうちオキセタニル基は、エポキシ基と比較して重合度が高くなりやすく、低毒性であり、得られたハードコート層のカチオン重合性化合物から得られるネットワーク形成速度を早め、ラジカル重合性化合物と混在する領域でも未反応のモノマーを膜中に残さずに独立したネットワークを形成する等の利点がある。

エポキシ基を有するカチオン重合性化合物としては、例えば、脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又は、シクロヘキセン環、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化する事によって得られる脂環族エポキシ樹脂；脂肪族多価アルコール、又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシ
ジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジル（メタ）アクリレートのホモポリマー、コポリマーなどの脂肪族エポキシ樹脂；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦや水添ビスフェノールＡ等のビスフェノール類、又はそれらのアルキレンオキサイド付加体、カプロラクトン付加体等の誘導体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、及びノボラックエポキシ樹脂等でありビスフェノール類から誘導されるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂等が挙げられる。

ハードコート組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。

ラジカル重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。例えば、熱ラジカル重合開始剤としては、過酸化水素、過安息香酸等の有機過酸化物、アゾビスブチロニトリル等のアゾ化合物等があげられる。

活性エネルギー線ラジカル重合開始剤としては、分子の分解でラジカルが生成されるＴｙｐｅ１型ラジカル重合開始剤と、３級アミンと共存して水素引き抜き型反応でラジカルを生成するＴｙｐｅ２型ラジカル重合開始剤があり、それぞれ単独でまたは併用して使用することもできる。

カチオン重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくともいずれかによりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能であれば良い。カチオン重合開始剤としては、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、シクロペンタジエニル鉄（ＩＩ）錯体等が使用できる。これらは、構造の違いによって活性エネルギー線照射または加熱のいずれかまたはいずれでもカチオン重合を開始することができる。

重合開始剤は、ハードコート組成物全体１００重量％に対して０．１〜１０重量％を含むことができる。重合開始剤の含量が０．１重量％未満の場合、硬化を十分に進行させることができず、最終的に得られた塗膜の機械的物性や密着力を具現することが難しく、１０重量％を超える場合、硬化収縮による接着力不良や割れ現象及びカール現象が発生することがある。

ハードコート組成物はさらに溶剤、添加剤からなる群から選択される一つ以上をさらに含むことができる。溶剤は、重合性化合物および重合開始剤を溶解または分散させることができるもので、本技術分野のハードコート組成物の溶剤として知られているものなら制限なく使用することができる。添加剤は、無機粒子、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤などをさらに含むことができる。

（円偏光板）
円偏光板は、直線偏光板に１／４波長位相差層（以下、λ／４位相差層ともいう）を積層することにより右または左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。たとえば外光を右円偏光に変換して有機ＥＬパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ＥＬの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光子又は直線偏光板の吸収軸とλ／４位相差層の遅相軸は理論上４５°である必要があるが、実用的には４５±１０°である。直線偏光子又は直線偏光板とλ／４位相差層とは必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長にお
いて完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光子又は直線偏光板の視認側にさらにλ／４位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。

直線偏光板は、透過軸方向に振動している光は通すが、それとは垂直な振動成分の偏光を遮断する機能を有する機能層である。直線偏光板は、直線偏光子単独または直線偏光子及びその少なくとも一面に貼り付けられた保護フィルムを備えた構成であってもよい。直線偏光板の厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは、０．５μｍ以上１００μｍ以下である。厚さが２００μｍを超えると柔軟性が低下することがある。

直線偏光子は、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムを染色、延伸することで製造されるフィルム型偏光子であってもよい。延伸によって配向したＰＶＡ系フィルムに、ヨウ素等の二色性色素が吸着、またはＰＶＡに吸着した状態で延伸されることで二色性色素が配向し、偏光性能を発揮する。フィルム型偏光子の製造においては、他に膨潤、ホウ酸による架橋、水溶液による洗浄、乾燥等の工程を有していてもよい。延伸や染色工程はＰＶＡ系フィルム単独で行ってもよいし、ポリエチレンテレフタレートのような他のフィルムと積層された状態で行うこともできる。用いられるＰＶＡ系フィルムとしては１０μｍ以上１００μｍ以下、延伸倍率は２〜１０倍が好ましい。

さらに直線偏光子の他の一例としては、液晶偏光組成物を塗布して形成する液晶塗布型偏光子であってもよい。液晶偏光組成物は、液晶性化合物及び二色性色素化合物を含むことができる。液晶性化合物としては液晶状態を示す性質を有していればよく、特にスメクチック相等の高次の配向状態を有していることが高い偏光性能を発揮することができるため好ましい。また、重合性官能基を有していることも好ましい。二色性色素化合物は、液晶化合物とともに配向して二色性を示す色素であって、二色性色素自身が液晶性を有していてもよいし、重合性官能基を有していることもできる。液晶偏光組成物の中のいずれかの化合物は重合性官能基を有している。液晶偏光組成物はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。液晶偏光層は、配向膜上に液晶偏光組成物を塗布して液晶偏光層を形成することで製造することができる。液晶偏光層は、フィルム型偏光子に比べて厚さを薄く形成することができる。液晶偏光層の厚さは０．５μｍ以上１０μｍ以下、好ましくは１μｍ以上５μｍ以下であってもよい。

配向膜は、例えば基材上に配向膜形成組成物を塗布し、ラビング、偏光照射等により配向性を付与することで製造することができる。配向膜形成組成物は、配向剤の他に溶剤、架橋剤、開始剤、分散剤、レベリング剤、シランカップリング剤等を含んでいてもよい。配向剤としては、例えば、ポリビニルアルコール類、ポリアクリレート類、ポリアミック酸類、ポリイミド類を使用することができる。光配向を適用する場合にはシンナメート基を含む配向剤を使用することが好ましい。配向剤として使用される高分子は重量平均分子量が１０，０００〜１０００，０００程度であってもよい。配向膜は５ｎｍ以上１００００ｎｍ以下が好ましく、特に１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であれば、配向規制力が十分に発現されるため好ましい。液晶偏光層は基材から剥離して転写して積層することもできるし、基材をそのまま積層することもできる。基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウの透明基材としての役割を担うことも好ましい。

保護フィルムとしては、透明な高分子フィルムであればよく、透明基材に使用される材料、添加剤が使用できる。セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、アクリルフィルム、ポリエステル系フィルムが好ましい。エポキシ樹脂等のカチオン硬化組成物やアクリレート等のラジカル硬化組成物を塗布して硬化して得られるコーティング型の保護フィ
ルムであってもよい。必要により可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。保護フィルムの厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは、１μｍ以上１００μｍ以下である。厚さが２００μｍを超えると柔軟性が低下することがある。ウインドウの透明基材の役割を兼ねることもできる。

λ／４位相差層は、本発明の光学フィルムであってもよいし、入射光の進行方向に直交する方向（フィルムの面内方向）にλ／４の位相差を与えるフィルムであってよい。λ／４の位相差を与えるフィルムは、セルロース系フィルム、オレフィン系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等の高分子フィルムを延伸することで製造される延伸型位相差板であってもよい。必要により位相差調整剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、顔料や染料のような着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、溶剤等を含んでいてもよい。延伸型位相差板の厚さは、２００μｍ以下であってもよく、好ましくは、１μｍ以上１００μｍ以下である。厚さが２００μｍを超えると柔軟性が低下することがある。λ／４位相差層は、加工性や屈曲性の観点から好ましくは本発明の光学フィルムである。

さらにλ／４位相差層の他の一例としては、液晶組成物を塗布して形成する液晶塗布型位相差板であってもよい。液晶組成物は、ネマチック、コレステリック、スメクチック等の液晶状態を示す性質を有する液晶性化合物を含む。液晶組成物の中の液晶性化合物を含むいずれかの化合物は重合性官能基を有している。液晶塗布型位相差板はさらに開始剤、溶剤、分散剤、レベリング剤、安定剤、界面活性剤、架橋剤、シランカップリング剤などを含むことができる。液晶塗布型位相差板は、液晶偏光層での記載と同様に配向膜上に液晶組成物を塗布硬化して液晶位相差層を形成することで製造することができる。液晶塗布型位相差板は、延伸型位相差板に比べて厚さを薄く形成することができる。液晶偏光層の厚さは０．５μｍ以上１０μｍ以下、好ましくは１μｍ以上５μｍ以下であってもよい。液晶塗布型位相差板は基材から剥離して転写して積層することもできるし、基材をそのまま積層することもできる。基材が、保護フィルムや位相差板、ウインドウの透明基材としての役割を担うことも好ましい。

一般的には、短波長ほど複屈折が大きく長波長になるほど小さな複屈折を示す材料が多い。この場合には全可視光領域でλ／４の位相差を達成することはできないので、視感度の高い５６０ｎｍ付近に対してλ／４となるような面内位相差１００ｎｍ以上１８０ｎｍ以下、好ましくは１３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下となるように設計されることが多い。通常とは逆の複屈折率波長分散特性を有する材料を用いた逆分散λ／４位相差層を用いることは視認性をよくすることができるので好ましい。このような材料としては延伸型位相差板の場合は特開２００７−２３２８７３号公報等、液晶塗布型位相差板の場合には特開２０１０−３０９７９号公報記載されているものを用いることも好ましい。

また、他の方法としては１／２波長位相差層（以下、λ／２位相差層ともいう）と組み合わせることで広帯域λ／４位相差層を得る技術も知られている（特開平１０−９０５２１号公報）。λ／２位相差層も本発明の光学フィルムであってもよいし、λ／４位相差層と同様の材料及び方法で製造されたものであってよい。延伸型位相差板と液晶塗布型位相差板の組み合わせは任意であるが、どちらも液晶塗布型位相差板を用いることは膜厚を薄くすることができるので好ましい。λ／２位相差層は、加工性や屈曲性の観点から好ましくは本発明の光学フィルムである。

円偏光板には斜め方向の視認性を高めるために、ポジティブＣプレートを積層する方法も知られている（特開２０１４−２２４８３７号公報）。ポジティブＣプレートも、本発明の光学フィルムであってもよいし、液晶塗布型位相差板であっても延伸型位相差板であ
ってもよい。厚み方向の位相差は、例えば−２００ｎｍ以上−２０ｎｍ以下であってよく、好ましくは−１４０ｎｍ以上４０ｎｍ以下である。ポジティブＣプレートは、偏光板の加工性や屈曲性の観点から好ましくは本発明の光学フィルムである。ポジティブＣプレートは、λ／４位相差層と組み合わせて位相差積層体として用いることもできる。

（タッチセンサ）
タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が提案されており、いずれの方式でも構わない。中でも静電容量方式が好ましい。静電容量方式タッチセンサは活性領域及び活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される領域（表示部）に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は画像表示装置で画面が表示されない領域（非表示部）に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と；基板の活性領域に形成された感知パターンと；基板の非活性領域に形成され、感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、上述のウインドウの透明基板と同様の材料が使用できる。タッチセンサの基板は、靱性が２，０００ＭＰａ％以上のものがタッチセンサのクラック抑制の面から好ましい。より好ましくは靱性が２，０００ＭＰａ％以上３０，０００ＭＰａ％以下であってもよい。

感知パターンは、第１方向に形成された第１パターン及び第２方向に形成された第２パターンを備えることができる。第１パターンと第２パターンは互いに異なる方向に配置される。第１パターン及び第２パターンは、同一層に形成され、タッチされる地点を感知するためには、それぞれのパターンが電気的に接続されなければならない。第１パターンは各単位パターンが継ぎ手を介して互いに接続された形態であるが、第２パターンは各単位パターンがアイランド形態に互いに分離された構造になっているので、第２パターンを電気的に接続するためには別途のブリッジ電極が必要である。感知パターンは周知の透明電極素材を適用することができる。例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウム亜鉛スズ酸化物（ＩＺＴＯ）、カドミウムスズ酸化物（ＣＴＯ）、ＰＥＤＯＴ（ｐｏｌｙ（３，４―ｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉｏｘｙｔｈｉｏｐｈｅｎｅ））、炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）、グラフェン、金属ワイヤなどを挙げることができ、これらは単独または２種以上混合して使用することができる。好ましくはＩＴＯを使用することができる。金属ワイヤに使用される金属は特に限定されず、例えば、銀、金、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、チタン、テレニウム、クロムなどを挙げることができる。これらは単独または２種以上混合して使用することができる。

ブリッジ電極は感知パターン上部に絶縁層を介して絶縁層上部に形成することができ、基板上にブリッジ電極が形成されており、その上に絶縁層及び感知パターンを形成することができる。ブリッジ電極は感知パターンと同じ素材で形成することもでき、モリブデン、銀、アルミニウム、銅、パラジウム、金、白金、亜鉛、スズ、チタンまたはこれらのうちの２種以上の合金などの金属で形成することもできる。第１パターンと第２パターンは電気的に絶縁されなければならないので、感知パターンとブリッジ電極の間には絶縁層が形成される。絶縁層は第１パターンの継ぎ手とブリッジ電極の間にのみ形成することもでき、感知パターンを覆う層の構造に形成することもできる。後者の場合は、ブリッジ電極は絶縁層に形成されたコンタクトホールを介して第２パターンを接続することができる。タッチセンサはパターンが形成されたパターン領域と、パターンが形成されていない非パターン領域間の透過率の差、具体的には、これらの領域における屈折率の差によって誘発される光透過率の差を適切に補償するための手段として基板と電極の間に光学調節層をさらに含むことができ、光学調節層は無機絶縁物質または有機絶縁物質を含むことができる
。光学調節層は光硬化性有機バインダー及び溶剤を含む光硬化組成物を基板上にコーティングして形成することができる。光硬化組成物は無機粒子をさらに含むことができる。無機粒子によって光学調節層の屈折率が上昇することができる。

光硬化性有機バインダーは、例えば、アクリレート系単量体、スチレン系単量体、カルボン酸系単量体などの各単量体の共重合体を含むことができる。光硬化性有機バインダーは、例えば、エポキシ基含有繰り返し単位、アクリレート繰り返し単位、カルボン酸繰り返し単位などの互いに異なる各繰り返し単位を含む共重合体であってもよい。無機粒子は、例えば、ジルコニア粒子、チタニア粒子、アルミナ粒子などを含むことができる。光硬化組成物は、光重合開始剤、重合性モノマー、硬化補助剤などの各添加剤をさらに含むこともできる。

（接着層）
各層（ウインドウ、円偏光板、タッチセンサ）並びに各層を構成するフィルム部材（直線偏光板、λ／４位相差板等）は接着剤によって形成することができる。接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤（粘着剤）、再湿型接着剤等汎用に使用されているものが使用できる。中でも水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤がよくもちいられる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、０．０１μｍ以上５００μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以上３００μｍ以下であり、接着層が複数存在する場合、それぞれの厚み種類は同じであっても異なっていても良い。

水系水系溶剤揮散型接着剤としてはポリビニルアルコール系ポリマー、でんぷん等の水溶性ポリマー、エチレン−酢酸ビニル系エマルジョン、スチレン−ブタジエン系エマルジョン等水分散状態のポリマーを主剤ポリマーとして使用することができる。水、主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、染料、顔料、無機フィラー、有機溶剤等を配合しても良い。水系水系溶剤揮散型接着剤によって接着する場合、水系水系溶剤揮散型接着剤を被接着層間に注入して被着層を貼合した後、乾燥させることで接着性を付与することができる。水系水系溶剤揮散型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは０．０１μｍ以上１０μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以上１μｍ以下であってもよい。水系水系溶剤揮散型接着剤を複数層用いる場合には、それぞれの層の厚み種類は同じであっても異なっていても良い。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線を照射して接着剤層を形成する反応性材料を含む活性エネルギー線硬化組成物の硬化により形成することができる。活性エネルギー線硬化組成物は、ハードコート組成物と同様のラジカル重合性化合物及びカチオン重合性化合物の少なくとも１種の重合物を含有することができる。ラジカル重合性化合物とは、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。接着層に用いられるラジカル重合性化合物としてはアクリロイル基を有する化合物が好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を含むことも好ましい。

カチオン重合性化合物は、ハードコート組成物と同様であり、ハードコート組成物と同様の種類のものが使用できる。活性エネルギー線硬化組成物に用いられるカチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物が特に好ましい。接着剤組成物としての粘度を下げるために単官能の化合物を反応性希釈剤として含むことも好ましい。

活性エネルギー線組成物には重合開始剤をさらに含むことができる。重合開始剤として
は、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤、ラジカル及びカチオン重合開始剤等であり、適宜選択して用いることができる。これらの重合開始剤は、活性エネルギー線照射及び加熱の少なくとも一種により分解されて、ラジカルもしくはカチオンを発生してラジカル重合とカチオン重合を進行させるものである。ハードコート組成物の記載の中で活性エネルギー線照射によりラジカル重合またはカチオン重合の内の少なくともいずれか開始することができる開始剤を使用することができる。

活性エネルギー線硬化組成物はさらに、イオン捕捉剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、密着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動粘度調整剤、可塑剤、消泡剤溶剤、添加剤、溶剤を含むことができる。活性エネルギー線硬化型接着剤によって接着する場合、活性エネルギー線硬化組成物を被接着層のいずれかまたは両方に塗布後貼合し、いずれかの被着層または両方の被着層を通して活性エネルギー線を照射して硬化させることで接着することができる。活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは０．０１μｍ以上２０μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以上１０μｍ以下であってもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤を複数層用いる場合には、それぞれの層の厚み種類は同じであっても異なっていても良い。

粘着剤としては、主剤ポリマーに応じて、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤等に分類され何れを使用することもできる。粘着剤には主剤ポリマーに加えて、架橋剤、シラン系化合物、イオン性化合物、架橋触媒、酸化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、染料、顔料、無機フィラー等を配合しても良い。粘着剤を構成する各成分を溶剤に溶解・分散させて粘着剤組成物を得て、粘着剤組成物を基材上に塗布した後に乾燥させることで、粘着剤層接着層が形成される。粘着層は直接形成されてもよいし、別途基材に形成したものを転写することもできる。接着前の粘着面をカバーするためには離型フィルムを使用することも好ましい。活性エネルギー線硬化型接着剤を用いる場合の接着層の厚さは０．１μｍ以上５００μｍ以下、好ましくは１μｍ以上３００μｍ以下であってもよい。粘着剤を複数層用いる場合には、それぞれの層の厚み種類は同じであっても異なっていても良い。

（遮光パターン）
遮光パターンはフレキシブル画像表示装置のベゼルまたはハウジングの少なくとも一部として適用することができる。遮光パターンによってフレキシブル画像表示装置の辺縁部に配置される配線が隠されて視認されにくくすることで、画像の視認性が向上する。遮光パターンは単層または複層の形態であってもよい。遮光パターンのカラーは特に制限されることはなく、黒色、白色、金属色などの多様なカラーを有する。遮光パターンはカラーを具現するための顔料と、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン、シリコーンなどの高分子で形成することができる。これらの単独または２種類以上の混合物で使用することもできる。遮光パターンは、印刷、リソグラフィ、インクジェットなど各種の方法にて形成することができる。遮光パターンの厚さは１μｍ以上１００μｍ以下であってもよく、好ましくは２μｍ以上５０μｍ以下である。また、光パターンの厚み方向に傾斜等の形状を付与することも好ましい。

図４は、フレキシブル画像表示装置の一態様に係る概略断面図である。図４に示す円偏光板１００は、前面板１０１、円偏光板１０２、タッチセンサ１０３、有機ＥＬ表示パネル１０４をこの順に備える。

以下に実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部である。種々の測定及び評価は以下のようにして行った。

［光学異方性層の欠陥の個数］
＜欠陥の確認＞
得られた光学フィルムを５０ｍｍ×５０ｍｍに切り出し、光学顕微鏡（ＥＣＬＩＰＳＥ
ＭＥ６００、ニコン社製）を用いて画面上の配向欠陥の実サイズと個数を確認した。観
察する際は、光学顕微鏡のステージ下部に直線偏光板を挿入する。次に、得られた光学フィルムの遅相軸方向とステージ下部に挿入した直線偏光板の吸収軸方向を一致させる。さらに、光学顕微鏡の偏光子を回転させ、クロスニコル状態にし、輝点となった領域を配向欠陥とした。その領域を偏光状態を解除して観察したときに視認される欠陥となっている領域の寸法が最大になる部分の長さを測定したものを、配向欠陥の実サイズとした。観察した結果、欠陥は、全て重合性液晶化合物の結晶に起因するものであった。結果を表２に示す。なお表２に示す欠陥実サイズは、測定した実サイズの平均値である。切り出した光学フィルムはいずれも実サイズが５０μｍ超である欠陥が６個／ｍｍ^２以下であった。

＜ＥＣＬＩＰＳＥの観察設定＞
ライト照度：全開
ステージ下絞り：０．５
露出時間：２００ｍｓ
ＧＡＩＮ：２．００
ＡＷＢ：設定しない

［光学異方性層の欠陥率］
上記の欠陥の個数を測定した後、光学顕微鏡のクロスニコル状態での一視野像（欠陥部分を含む）を、最明部と最暗部との間が２５６諧調となるように、パーソナルコンピュータ上に取り込み、取り込んだ画像を、パーソナルコンピューターに付属の画像処理ソフトを用いて、閾値１２７の条件で２値化し、配向欠陥の面積を求めて、欠陥率を算出した。結果を表２に示す。

［突刺強度の測定］
突刺試験は、先端が球形（先端径１ｍｍφ、０．５Ｒ）のニードルを装着したカトーテック株式会社製のハンディー圧縮試験機「ＫＥＳ−Ｇ５ ニードル貫通力測定仕様」を使用し、温度２３±３℃の環境下、突刺速度０.００３３ｃｍ／秒の測定条件下で行った。
突刺試験で測定される突刺強度は、試験片３個に対して突刺試験を行い、その平均値とした。結果を表２に示す。

［引張応力の測定］
引張試験は、株式会社島津製作所製の精密万能試験機「オートグラフＡＧ-ＩＳ」を使
用し、温度２３±３℃の環境下、引張速度１ｍｍ／ｍｉｎの測定条件下で行った。評価に用いた光学フィルムのサイズは、１０×１０ｍｍであった。光学フィルムの遅相軸方向または遅相軸方向とは直交する方向（すなわち進相軸方向）にそれぞれ引張試験を実施した。引張試験で測定される引張応力は、試験片３個に対して引張試験を行い、その平均値とした。結果を表２に示す。

［液晶組成物溶液］
下記式で示される重合性液晶化合物（Ａ−１）（分子量１１５６）、重合性液晶化合物（Ｂ−１）（分子量６６４）及び重合性液晶化合物（Ｃ−１）（分子量１０８３）を準備した。
重合性液晶化合物（Ａ−１）：

重合性液晶化合物（Ｂ−１）：

重合性液晶化合物（Ｃ−１）：

重合性液晶化合物（Ａ−１）は特開２０１１−２０７７６５号公報に記載の方法で合成した。

重合性化合物（Ｂ−１）は特開２０１０−２４４３８号公報に記載の方法で合成した。

重合性化合物（Ｃ−１）は特開２０１０−２４４３８号公報に記載の方法で合成した。

得られた重合性液晶化合物（Ａ−１）８３質量部、重合性液晶化合物（Ｂ−１）３質量部、重合性液晶化合物（Ｃ−１）１４質量部を混合し、液晶混合物（１）（合計量１００質量部）を得た。

特許文献（特開２０１７−１７９３６７）を参考に、表１に記載の組成に従い、液晶混合物（１）、重合開始剤、レベリング剤、重合禁止剤および溶剤を仕込んで液晶組成物溶液（１）を調製した。なお、表１に示す重合開始剤、レベリング剤および重合禁止剤の量は、液晶混合物（１）１００質量部に対する仕込み量である。また、溶剤の配合量は、液
晶混合物（１）の質量％が液晶組成物溶液全量に対して１０質量％となるように設定した〔液晶組成物溶液（１）１０００質量部中に、液晶混合物（１）１００質量部が含まれるように溶剤を加えた〕。

重合開始剤：２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；ＢＡＳＦジャパン社製）
レベリング剤：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ビックケミージャパン製）
重合禁止剤：ＢＨＴ（和光純薬工業株式会社製）
溶剤：Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ；関東化学株式会社製）

［光配向膜形成用組成物］
下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物（１）を得た。下記式で示される光配向性材料は、特開２０１３−３３２４８号公報記載の方法で合成した。
光配向性材料（５部）：

溶剤（９５部）：シクロペンタノン

［実施例１］
以下のように光学フィルムを製造した。シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）（ＺＦ−１４、日本ゼオン株式会社製、厚み２３μｍ、基材１ｃｍ^２あたりの熱容量が０．００４Ｊ／ｃｍ^２・℃）を、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）を用いて出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、前記光配向膜形成用組成物（１）をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた配向膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、１００ｎｍであった。

続いて、室温２５℃、湿度３０％ＲＨ環境下において、調製した液晶組成物溶液（１）を孔径０．２μｍのＰＴＦＥ製メンブレンフィルタ（アドバンテック東洋（株）製、品番；Ｔ３００Ａ０２５Ａ）に通し、得られた液晶組成物溶液（１）を２５℃に保温した配向膜付き基材上にバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線
を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより光学フィルムを作成した。得られた塗膜の厚みをレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ２μｍであった。

［実施例２］
配向膜付き基材を４０℃に保温しながら塗工した以外は、実施例１と同様に行って光学フィルムを作成した。

［実施例３］
得られた配向膜付き基材を塗工前に８０℃で１０秒加熱し、その後に塗工したこと以外は、実施例１と同様に行って光学フィルムを作成した。

［実施例４］
重合性液晶化合物の組成比を（Ａ−１）が８２質量部、（Ｂ−１）が４質量部、（Ｃ−１）が１４質量部とした以外は、実施例１と同様に行って光学フィルムを作成した。

［実施例５］
重合性液晶化合物の組成比を（Ａ−１）が７７質量部、（Ｂ−１）が９質量部、（Ｃ−１）が１４質量部とした以外は、実施例１と同様に行って光学フィルムを作成した。

［実施例６］
基材としてＣＯＰの非塗工面（液晶組成物溶液が塗工されない面）に厚み０．３ｍｍのソーダガラス板を粘着剤で貼合したものを作製した。この基材は、基材１ｃｍ^２あたりの熱容量が０．０５Ｊ／ｃｍ^２・℃であった。この基材を用いたこと以外は、実施例１と同様に行って光学フィルムを作製した。

［比較例１］
塗工時の湿度を６５％ＲＨに設定したこと以外は、実施例１と同様に行って光学フィルムを作成した。

［比較例２］
重合性液晶化合物の組成比を（Ａ−１）が９９質量部、（Ｂ−１）が１質量部、（Ｃ−１）が０質量部とした以外は、実施例１と同様に行って光学フィルムを作成した。

［比較例３］
重合性液晶化合物の組成比を（Ａ−１）が９２質量部、（Ｂ−１）が３質量部、（Ｃ−１）が５質量部とした以外は、実施例１と同様に行って光学フィルムを作成した。

［比較例４］
基材としてＣＯＰの非塗工面に厚み１０ｍｍのソーダガラス板を粘着剤で貼合したものを作製した。この基材は、基材１ｃｍ^２あたりの熱容量が１．６８Ｊ／ｃｍ^２・℃であった。この基材を用いたこと以外は、実施例１と同様に行って光学フィルムを作製した。

［位相差積層体］
＜第１の位相差層の製造＞
第１の位相差層として、実施例１，４，５、比較例２，３を使用した。

＜第２の位相差層の製造＞
厚み３８μｍのＰＥＴ基材を透明基材として用い、その片面に垂直配向層用組成物を膜厚３μｍになるようにコーティングし、紫外線を照射して配向層を作製した。なお、その垂直配向層用組成物としては、２−フェノキシエチルアクリレートと、テトラヒドロフル
フリルアクリレートと、ジペンタエリスリトールトリアクリレートと、ビス（２−ビニルオキシエチル）エーテルとを１：１：４：５の割合で混合し、重合開始剤としてＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯを４％の割合で添加した混合物を用いた。

続いて、形成した配向層上に、光重合性ネマチック液晶（メルク社製，ＲＭＭ２８Ｂ）を含有する液晶組成物を、ダイコーティングにより配向層上に塗工した。ここで、液晶組成物中、溶媒として、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）と、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）と、沸点が１５５℃であるシクロヘキサノン（ＣＨＮ）とを、質量比（ＭＥＫ：ＭＩＢＫ：ＣＨＮ）で３５：３０：３５の割合で混合させた混合溶媒を用いた。そして、固形分が１〜１．５ｇとなるように調製した液晶組成物を、塗工量が４〜５ｇ（ｗｅｔ）となるように配向層上に塗工した。

そして、配向層上に液晶組成物を塗工した後、乾燥温度を７５℃、乾燥時間を１２０秒間として乾燥処理を施した。その後、紫外線（ＵＶ）照射により重合させて、光重合性ネマチック液晶化合物が硬化した層、配向層、透明基材からなるポジティブＣ層を得た。光重合性ネマチック液晶化合物が硬化した層、配向層の合計の厚みは４μｍであった。

＜位相差積層体の製造＞
第１の位相差層と第２の位相差層とを、紫外線硬化型接着剤により、それぞれの位相差層面（透明基材とは反対側の面）が貼合面となるように貼り合わせた。次いで、紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させた。このようにして、第１の位相差層と第２の位相差層の２層の位相差層を含む位相差積層体（１）を作製した。

［偏光子］
平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％以上で厚さ３０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素：ヨウ素カリウム：水の質量比が０．０２：２：１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（以下、ヨウ素染色工程ともいう。）。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム：ホウ酸：水の質量比が１２：５：１００の水溶液に５６．５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（以下、ホウ酸処理工程ともいう）。ホウ酸処理工程を経たポリビニルアルコールフィルムを８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光子（延伸後の厚さ１２μｍ）を得た。この際、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において延伸を行った。かかる延伸におけるトータル延伸倍率は５．３倍であった。

得られた偏光子の両面に、ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ株式会社製 ＫＣ４ＵＹＴＡＣ ４０μｍ）を、水系接着剤を介してニップロールでそれぞれ貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、両面に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する偏光子（１）を得た。尚、前記水系接着剤は水１００部に、カルボキシ基変性ポリビニルアルコール（株式会社クラレ製 クラレポバール ＫＬ３１８）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（田岡化学工業株式会社製 スミレーズレジン６５０ 固形分濃度３０％の水溶液）１．５部を添加して調製した。

得られた偏光子（１）について、分光光度計（Ｖ７１００、日本分光株式会社製）を使用して光学特性の測定を行った。得られた視感度補正単体透過率は４２．１％、視感度補正偏光度は９９．９９６％、単体色相ａ^＊は−１．１、単体色相ｂ^＊は３．７であった。

［偏光板］
偏光子（１）の片面に第１の粘着剤層として粘着剤Ｂを移着し、セパレートフィルムを
剥がし、位相差積層体（１）の第１の位相差層側の透明基材を剥がした面に積層した。位相差積層体（１）の偏光子と積層されている面と反対側の面に第２の粘着剤層として粘着剤Ｆを積層した。このようにして、保護フィルム、偏光子、保護フィルム、第１の粘着剤層、第１の位相差層、接着層、第２の位相差層、及び第２の粘着剤層をこの順に含む偏光板を作製した。

［偏光板の加工性の評価方法］
得られた偏光板をスーパーカッターにて１００ｍｍ×１００ｍｍに切り出した際に、切り出された端面を光学顕微鏡で観察し、位相差積層体にクラックが３個以上見られたものを×、１〜２個見られたものを○、見られなかったものを◎とした。このとき発生した位相差積層体のクラック長さは、いずれも３００μｍ〜４００μｍであり長さに差はなかった。

［ポリイミドフィルム付き偏光板］
得られた偏光板の第２の粘着剤層のセパレートフィルムを剥がし、厚み７５μｍのポリイミドフィルム（宇部興産製、ユーピレックスＳ 型番７５Ｓ）に積層した。このようにして、保護フィルム、偏光子、保護フィルム、第１の粘着剤層、第１の位相差層、接着層、第２の位相差層、及び第２の粘着剤層、ポリイミドフィルムをこの順に含むポリイミドフィルム付き偏光板を作製した。

［ポリイミドフィルム付き偏光板の耐屈曲性の評価方法］
得られたポリイミドフィルム付き偏光板をスーパーカッターにて１００ｍｍ×１０ｍｍに切り出し、ポリイミドフィルムが凸となるように０．５Ｒにて折り曲げた際に、位相差積層体層にクラックが５個以上見られたものを×、１〜４個見られたものを〇、見られなかったものを◎とした。実施例１で発生したクラックの長さは、２５０μｍ、比較例３で発生したクラックの長さは、２２０μｍ〜２５０μｍであり、実施例１と比較例３でクラックの長さに差はなかった。

１０ 光学フィルム、１１ 光学異方性層、１２ 配向層、１３ 基材層、２０ 位相差積層体、３１ 第１の基材層、３２ 第１の配向層、３３ 第１の位相差層、３４ 接着層、３５ 第２の位相差層、３６ 第２の配向層、３７ 第２の基材層、３８ 粘着層、３９ 偏光子、４０ 偏光板。

Claims (12)

1. １つ以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物が配向した状態で重合した重合体からなる光学異方性層を有する光学フィルムであって、
   前記光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける実サイズが０．３μｍ以上５０μｍ以下である配向欠陥の個数が下記式（１）を満たすことを特徴とする、光学フィルム。
   ０≦配向欠陥の個数［個］≦１４ （１）
2. １つ以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物が配向した状態で重合した重合体からなる光学異方性層を有する光学フィルムであって、
   前記光学異方性層における下記式（２）で定義される欠陥率が下記式（３）を満たすことを特徴とする、光学フィルム。
   

   

   
   [式中、欠陥合計面積は、光学顕微鏡の一視野において観察される実サイズが０．３μｍ
   以上５０μｍ以下の配向欠陥の面積の合計であり、顕微鏡観察視野は、光学顕微鏡の一視野全体に光学異方性層を存在させたときの光学異方性層の面積である]
   ０≦欠陥率［ｐｐｍ］≦１０００ （３）
3. １つ以上の重合性官能基を有する重合性液晶化合物が配向した状態で重合した重合体からなる光学異方性層を有する光学フィルムであって、
   前記光学異方性層の１ｍｍ^２当たりにおける実サイズが０．３μｍ以上５０μｍ以下である配向欠陥の個数が下記式（１）を満たし、下記式（２）で定義される欠陥率が下記式（３）を満たすことを特徴とする、光学フィルム。
   ０≦配向欠陥の個数［個］≦１４ （１）
   

   

   
   [式中、欠陥合計面積は、光学顕微鏡の一視野において観察される実サイズが０．３μｍ
   以上５０μｍ以下の配向欠陥の面積の合計であり、顕微鏡観察視野は、光学顕微鏡の一視野全体に光学異方性層を存在させたときの光学異方性層の面積である]
   ０≦欠陥率［ｐｐｍ］≦１０００ （３）
4. 前記重合性官能基はアクリロイルオキシ基である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
5. 前記配向欠陥は、重合性液晶化合物の微結晶に起因する欠陥を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
6. 光学異方性層の厚みは、０．０５μｍ以上１０μｍ以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
7. 請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルムを１以上含む位相差積層体。
8. 請求項７に記載の位相差積層体を含む偏光板。
9. 切断面を有する、請求項８に記載の偏光板。
10. 異形偏光板である、請求項８又は９に記載の偏光板。
11. 前面板またはタッチセンサの少なくとも一方を備える、請求項８〜１０のいずれか一項に記載の偏光板。
12. 請求項８〜１１のいずれか一項に記載の偏光板を備えるフレキシブル画像表示装置。

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