TW202012469A - 光學膜 - Google Patents

Abstract

本發明的目的係提供一種具有膜強度優異的光學膜。該光學膜係具有由具有1個以上的聚合性官能基的聚合性液晶化合物在配向的狀態下聚合而成的聚合物所構成的光學各向異性層的光學膜；其中光學各向異性層的每1mm²中的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的配向缺陷的個數滿足0≦配向缺陷的個數[個]≦14。

Description

光學膜

本發明係關於光學膜、相位差積層體及偏光板。

作為平面面板顯示裝置所使用的光學膜，例如提案將聚合性液晶化合物溶解於溶劑所得之塗佈液，塗佈於支撐基材後，進行聚合所得之具有光學各向異性層的光學膜(專利文獻1)。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1] 日本特開2011-207765號公報

近年，隨著光學膜的薄膜化，吾人係尋求光學各向異性層的膜強度、加工性的改善。

本發明的目的係提供一種具有改善的膜強度之光學膜。本發明的其它目的係提供一種在偏光板加工時具有加工性經改善之光學膜。

本發明係提供以下的態樣[1]至[12]。

[1]一種光學膜，其係具有由具有1個以上的聚合性官能基的聚合性液晶化合物在配向的狀態下聚合而成的聚合物所構成的光學各向異性層的光學膜；

前述光學各向異性層的每1mm²中的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的配向缺陷的個數滿足下述式(1)：

0≦配向缺陷的個數[個]≦14 (1)。

[2]一種光學膜，其係具有由具有1個以上的聚合性官能基的聚合性液晶化合物在配向的狀態下聚合而成的聚合物所構成的光學各向異性層的光學膜；

前述光學各向異性層中的下述式(2)定義的缺陷率滿足下述式(3)；

[式中，缺陷總面積係在光學顯微鏡的一個視野中觀察的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的配向缺陷的面積的總和，顯微鏡觀察視野為使光學各向異性層存在於光學顯微鏡的一個視野全部時的光學各向異性層的面積]；

0≦缺陷率[ppm]≦1000 (3)。

[3]一種光學膜，其係具有由具有1個以上的聚合性官能基的聚合性液晶化合物在配向的狀態下聚合而成的聚合物所構成的光學各向異性層的光學膜；

前述光學各向異性層的每1mm²中的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的配向缺陷的個數滿足下述式(1)，下述式(2)定義的缺陷率滿足下述式(3)；

0≦配向缺陷的個數[個]≦14 (1)；

[式中，缺陷總面積係在光學顯微鏡的一個視野中觀察的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的配向缺陷的面積的總和，顯微鏡觀察視野為使光學各向異性層存在於光學顯微鏡的一個視野全部時的光學各向異性層的面積]；

0≦缺陷率[ppm]≦1000 (3)。

[4]如[1]至[3]中任一項記載的光學膜，其中前述聚合性官能基為丙烯醯氧基。

[5]如[1]至[4]中任一項記載的光學膜，其中前述配向缺陷係包含由聚合性液晶化合物的微結晶所引起的缺陷。

[6]如[1]至[5]中任一項記載的光學膜，其中光學各向異性層的厚度為0.05μm以上10μm以下。

[7]一種相位差積層體，其包含1個以上的如[1]至[6]中任一項記載的光學膜。

[8]一種偏光板，其包含如[7]記載的相位差積層體。

[9]如[8]記載的偏光板，其具有切斷面。

[10]如[8]或[9]記載的偏光板，其係變形偏光板。

[11]如[8]至[10]中任一項記載的偏光板，其具備面板或觸碰感測器的至少一者。

[12]一種可撓性影像顯示裝置，其具備如[8]至[11]中任一項記載的偏光板。

根據本發明的一態樣，可提供具有膜強度經改善之光學膜。而且，根據本發明的一態樣，可提供具有加工性經改善之光學膜。

10‧‧‧光學膜

11‧‧‧光學各向異性層

12‧‧‧配向層

13‧‧‧基材層

20‧‧‧相位差積層體

31‧‧‧第1基材層

32‧‧‧第1配向層

33‧‧‧第1相位差層

34‧‧‧接著層

35‧‧‧第2相位差層

36‧‧‧第2配向層

37‧‧‧第2基材層

38‧‧‧黏著層

39‧‧‧偏光片

40‧‧‧偏光板

第1圖呈示本發明的一態樣之光學膜的剖面示意圖。

第2圖呈示本發明的一態樣之相位差積層體的剖面示意圖。

第3圖呈示本發明的一態樣之偏光板的剖面示意圖。

第4圖呈示本發明的一態樣之可撓性影像顯示裝置的剖面示意圖。

[光學膜]

本發明之一態樣的光學膜，係具有由具有1個以上的聚合性官能基的聚合性液晶化合物(以下，亦僅稱為「聚合性液晶化合物」)在配向的狀態下聚合而成的聚合物所構成的光學各向異性層，光學各向異性層的每1mm²中的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的配向缺陷(以下亦稱為特定缺陷)的個數滿足下述式(1)。

0≦配向缺陷的個數[個]≦14 (1)

包含於光學各向異性層的聚合性液晶化合物在配向的狀態下聚合而成的聚合物，較理想為在一方向配向的狀態下聚合者。配向可為聚合性液晶化合物的光軸對光學膜的平面平行配向的水平配向，亦可為聚合性液晶化合物的光軸對光學膜的平面垂直配向的垂直配向。所謂光軸，係指由聚合性液晶化合物的配向所形成的折射率橢圓體，在與光軸正交的方向切取的剖面為圓形的方向，亦即2個方向的折射率相等的方向。

藉由使聚合性液晶化合物在合適的方向配向的狀態下聚合，光學各向異性層可呈現面內相位差。聚合性液晶化合物為棒狀的情況，該聚合性液晶化合物的光軸對光學膜的平面平行配向，可呈現面內相位差，於該情況，光軸方向與慢軸方向一致。聚合性液晶化合物為圓盤狀的情況，該聚合性液晶化合物的光軸對光學膜的平面平行配向，可呈現面內相位差，於該情況，光軸方向與慢軸方向正交。聚合性液晶化合物的配向狀態，可藉由後述配向膜與聚合性液晶化合物的組合等調整。

作為聚合性液晶化合物者，例如有棒狀的聚合性液晶化合物、圓盤狀的聚合性液晶化合物。棒狀的聚合性液晶化合物對光學膜的平面水平配向或垂直配向的情況，該聚合性液晶化合物的光軸與聚合性液晶 化合物的長軸方向一致。於圓盤狀的聚合性液晶化合物配向的情況，該聚合性液晶化合物的光軸存在於對該聚合性液晶化合物的圓盤面正交的方向。

聚合性液晶化合物係具有1個以上的聚合性官能基且具有液晶性的化合物。所謂聚合性官能基，係指參與聚合反應的基，較理想為光聚合性基。此處，所謂光聚合性基，係指藉由後述光聚合引發劑產生的活性自由基、酸等而可參與聚合反應的基。作為聚合性官能基，例如有環氧基、乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧環丁烷基等。其中，較理想為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧環丁烷基，更理想為丙烯醯氧基。聚合性液晶化合物所具有的液晶性，可為熱致性液晶，亦可為溶致性液晶，熱致性液晶依秩序度分類時，可為向列型液晶，亦可為層列型液晶。聚合性液晶化合物，較理想為具有2個以上的聚合性官能基。更理想為具有2個聚合性官能基。

相對於1個聚合性官能基，聚合性液晶化合物的分子量以250以上為佳。例如聚合性液晶化合物具有2個聚合性官能基的情況，聚合性液晶化合物的分子量可為500以上。相對於1個聚合性官能基，聚合性液晶化合物的分子量為250以上的情況，有容易得到良好的液晶性的傾向。相對於1個聚合性官能基，聚合性液晶化合物的分子量以280以上為佳，以300以上更佳，以400以上又更佳，通常為1000以下。

聚合性液晶化合物的分子量係以500以上為佳，以560以上更佳，以600以上又更佳，尤以800以上為特佳，通常為2000以下，可 為1500以下。聚合性液晶化合物，其分子量越小，越不易結晶。所以，從微結晶所引發的特定缺陷變少的觀點而言，以使用分子量小的聚合性液晶化合物為佳。另一方面，聚合性液晶化合物的分子量越大，越容易結晶，結晶所引發的配向缺陷有變多的傾向。於使用分子量較大，例如500以上的聚合性液晶化合物的情況，為了使特定缺陷的數目在本發明所規定的範圍內，例如可藉由使用組合2種以上的液晶化合物作為聚合性液晶化合物使聚合而成為聚合物，或可降低將聚合性液晶化合物塗佈於基材上時的濕度。

作為棒狀的聚合性液晶化合物、圓盤狀的聚合性液晶化合物，可使用習知者，可使用例如液晶手冊(液晶手冊編輯委員會編、丸善股份有限公司、平成12年10月30日發行)的「3.8.6網絡(完全交聯型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料」記載的化合物中具有聚合性基的化合物、日本特開2011-207765號公報、日本特開2010-24438號公報、日本特開2015-163937號公報、日本特開2017-179367號公報、日本特開2016-42185號公報、國際公開第2016/158940號、日本特開2016-224128號公報等例示的化合物。光學各向異性層可只包含1種聚合性液晶化合物的聚合物，或可包含2種以上。

近年來，無人係尋求經薄膜化的光學膜，對於包含聚合性液晶化合物的聚合物的光學各向異性層亦尋求經薄膜化者。但是，厚度薄且聚合性液晶化合物的聚合物在一方向配向的光學各向異性層極容易破裂，有膜強度低的傾向。本發明人對光學膜的膜強度的改善進行研究的結果，得知聚合性液晶化合物在配向狀態下聚合而成的聚合物所構成的光學各向 異性層，膜強度及加工性與光學各向異性層的配向缺陷個數之間的相關性。著眼於此的本發明人，進一步研究發現，光學各向異性層的上述特定缺陷的個數越少，光學膜的膜強度有變佳的傾向，特定缺陷的個數滿足上述式(1)的情況，光學各向異性層的膜強度及加工性有改善的傾向。當然，理想地期望光學膜具有零特定缺陷，但是製造特定缺陷的個數為零的光學各向異性層有困難。因此，光學膜通常存在特定缺陷，具有特定缺陷的光學膜，在使用時、加工時，光學膜產生的應力集中在特定缺陷，推斷光學膜會破裂或撕裂。因此，具有特定分子量的聚合性液晶化合物的配向的聚合物所構成的光學各向異性層中所存在的特定缺陷的個數少的情況，應力的集中部分變少，結果，光學膜變得不易破裂或撕裂，被認為光學膜的加工性獲得改善。

特定缺陷係發生聚合性液晶化合物的配向不良的區域，會在光學顯微鏡之正交尼柯爾(Nicols)狀態下觀察到亮點。特定缺陷也包含聚合性液晶化合物的微結晶及凝膠、異物、聚合性液晶化合物的塗膜的排斥、凹凸、配向膜缺陷、基材的凹凸、刮痕以及基材污染等所引發的缺陷。

特定缺陷之實際尺寸為0.3μm以上50μm以下。實際尺寸是指上述亮點在解除光學顯微鏡的正交尼柯爾狀態後觀察時，對於經辨識出的缺陷的輪廓，測量尺寸為最大的部分的長度的值。例如缺陷的輪廓辨識為圓形的情況，實際尺寸為圓形的直徑的長度。例如缺陷的輪廓辨識為正方形的情況，實際尺寸為正方形的對角線的長度。缺陷的實際尺寸未達0.3μm的情況，在光學顯微鏡之正交尼柯爾狀態下有不易觀察到亮點的傾向。於缺陷的實際尺寸超過50μm的情況，容易以肉眼辨認，外觀不良， 因此光學膜有無法使用的傾向。實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的缺陷，由於在以往偏光板的偏光度低於現況，在光學顯微鏡之正交尼柯爾狀態下有不易觀察到亮點的傾向，所以不被認為是亮點。但是，近年來，從更進一步改善品質的觀點而言，要求減少如此的缺陷。理想上係期望實際尺寸超過50μm的缺陷的數目為0個/mm²，但只要對光學膜的外觀、膜強度、加工性不造成影響的範圍的個數，則可以存在，通常為3個/mm²以下，最多5個/mm²或6個/mm²。再者，實際尺寸超過50μm的缺陷，幾乎是異物所引發的情況。

實際尺寸可為例如0.5μm以上，或可為1μm以上，或可為5μm以上。另一方面，實際尺寸可為例如40μm以下，或可為30μm以下，或可為20μm以下。

觀察光學膜所得之實際尺寸的平均值，可為例如0.5μm以上，或可為1μm以上，或可為5μm以上。另一方面，實際尺寸的平均值可為例如40μm以下，或可為30μm以下，或可為20μm以下。

為了使特定缺陷的個數滿足式(1)，可例如進行構成光學各向異性層的後述液晶組成物的組成之調整、製造條件之調整或此等的組合等。

於調整液晶組成物的組成的情況，例如可在液晶組成物中調整聚合性液晶化合物的比例、難溶性的聚合性液晶化合物的比例、固形分濃度等。

從在光學各向異性層中減少微結晶所引發的特定缺陷的觀點而言，液晶組成物較理想係可包含2種以上的聚合性液晶化合物，亦可 包含3種以上的聚合性液晶化合物。液晶組成物所包含的聚合性液晶化合物的種類的上限值，可為例如20種。液晶組成物包含2種以上的聚合性液晶化合物的情況，主要的聚合性液晶化合物的質量比例高時，其聚合性液晶化合物的結晶有容易析出的傾向。所以，在液晶組成物，主要的聚合性液晶化合物的質量比例低時，微結晶所引發的特定缺陷的個數有變少的傾向。於液晶組成物包含2種以上的聚合性液晶化合物的情況，在液晶組成物，主要的聚合性液晶化合物的質量比例，相對於聚合性液晶化合物的全部量而言可為例如90質量%以下，以85質量%以下為佳。所謂微結晶，係指尺寸為數nm以上數百nm以下的結晶，結晶粒與該等的聚集體。所謂「主要的聚合性液晶化合物」，係指液晶組成物中包含的聚合性液晶化合物中，含有比例最大的聚合性液晶化合物。

如上述，聚合性液晶化合物的分子量越大，越容易結晶，微結晶所引發的特定缺陷有變多的傾向。所以，於使用分子量較大的聚合性液晶化合物，例如分子量為500以上的聚合性液晶化合物的情況，為了使配向缺陷的數目在本發明規定的範圍，例如可將2種以上的液晶化合物組合作為聚合性液晶化合物並進行聚合。

具體而言，液晶組成物係以包含2種以上的分子量600以上的聚合性液晶化合物為佳，以包含3種以上更佳，可包含20種以下。液晶組成物係以包含2種以上的分子量800以上的聚合性液晶化合物為佳，以包含3種以上更佳，可包含10種以下。於該等的情況，液晶組成物可包含分子量未達800，又未達600的聚合性液晶化合物。

液晶組成物包含難溶性的聚合性液晶化合物的情況，難溶性的聚合性液晶化合物的結晶有容易析出的傾向。所以，減少難溶性的液晶化合物的質量比例或增加易溶性的聚合性液晶化合物的質量比例時，微結晶所引發的特定缺陷的個數有變少的傾向。液晶組成物包含難溶性的聚合性液晶化合物的情況，在液晶組成物中，相對於聚合性液晶化合物，難溶性的聚合性液晶化合物的全部量可為例如90質量%以下，以85質量%以下為佳。

在液晶組成物，溶劑的量增多而固形分降低時，聚合液晶化合物的結晶變得不易析出，微結晶所引發的特定缺陷的個數有變少的傾向。而且，溶劑的量增多而固形分降低時，因塗膜中的溶劑不易完全揮發，使聚合性液晶化合物的結晶不易析出，微結晶所引發的特定缺陷的個數有變少的傾向。液晶組成物的固形分，可為例如50質量%以下，以25質量%以下為佳。

在液晶組成物，藉由添加聚合性液晶化合物以外的單體(例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯等低分子單體)或聚合物(例如聚乙烯醇、聚乙二醇等聚合物及其改質物)，或者在將聚合性液晶化合物配向及聚合之前，即使將其一部分或全部成為二聚物、三聚物或其以上的寡聚物，微結晶所引發的特定缺陷的個數有變少的傾向。液晶組成物，藉由包含聚合性液晶化合物以外的單體或聚合物或聚合性液晶化合物的二聚物、三聚物或其以上的寡聚物，改善對溶劑的溶解度，有變得容易抑制結晶的析出的傾向。

於調整製造條件的情況，可調整例如塗佈液晶組成物時的基材溫度、塗佈時的周圍環境的濕度、塗佈所使用的模頭的周圍環境等。

藉由在塗佈液晶組成物時將塗佈液晶組成物的基材保持在一定的溫度，微結晶所引發的特定缺陷的個數有變少的傾向。保溫的溫度例如可為15℃以上60℃以下，以20℃以上50℃以下為佳。

藉由使用表面平滑性良好的基材，提高聚合性液晶化合物的塗膜均勻性，聚合性液晶化合物所引發的塗膜排斥、配向膜缺陷所引發的特定缺陷個數有變少的傾向。作為提高基材的表面平滑性的手段，例如退火(表面修復)等。退火係可藉由加熱基材進行，加熱的溫度例如為60℃以上100℃以下，或可為比基材的玻璃轉化點低5至20℃的溫度，加熱的時間可為例如1秒以上60秒以下。

藉由塗佈時周邊環境的濕度為固定，抑制聚合性液晶化合物的結晶，微結晶所引發的特定缺陷的個數有變少的傾向。塗佈時周邊環境的濕度，例如為90%RH以下，以85%RH以下為佳，以60%RH以下更佳，以55%RH以下又更佳，尤以40%RH以下為特佳。另一方面，塗佈時周邊環境的濕度可為例如10%RH以上，以20%RH以上為佳。於使用分子量較大的聚合性液晶化合物的情況，為了使特定缺陷的數目在本發明規定的範圍，在基材上塗佈聚合性液晶化合物時，可降低濕度。

將塗佈所使用的模頭的周邊環境調整為聚合性液晶化合物所包含的溶劑的蒸氣壓(溶劑環境下)，藉此聚合性液晶化合物的溶劑變得不易揮發，可抑制聚合性液晶化合物的結晶，微結晶所引發的特定缺陷的個數有變少的傾向。

塗佈聚合性液晶化合物之前，藉由除去基材表面的污染，例如PET潤滑材、PET寡聚物、矽油等，異物所引發的特定缺陷個數有變少 的傾向。而且，藉由在潔淨度高的潔淨室進行聚合性液晶化合物的塗佈，異物所引發的特定缺陷個數有變少的傾向。而且，將塗佈前液晶組成物中的異物、微結晶等藉由過濾器去除，微結晶及異物所引發的特定缺陷個數有變少的傾向。

光學各向異性層的每1mm²的特定缺陷的個數係以10個以下為佳，以7個以下更佳，以6個以下又更佳，尤以3個以下為特佳，尤以1個以下為最佳。而且，光學各向異性層的每1mm²的特定缺陷的個數，理想為0個，可為0.001個以上，又可為0.01個以上。

光學各向異性層的每1mm²的特定缺陷的個數之微結晶所引發的缺陷的個數的比例，例如可為70%以上，或可為85%以上，以90%以上為佳。據推測，於微結晶所引發的情況，光學各向異性層存在微結晶時，當賦予應力時，結晶部分會成為應力集中點而被破壞。所以，據推測，特定缺陷的70%以上為微結晶所引發的情況，微結晶所引發的特定缺陷變成14個以下，應力適度地分散在本發明的光學各向異性層的厚度，膜強度增加。

光學各向異性層的每1mm²的特定缺陷的個數之異物所引發的缺陷的個數的比例，例如可為10%以下，或為0%。

光學各向異性層的每1mm²的特定缺陷的個數之排斥所引發的缺陷的個數的比例，例如可為10%以上70%以下，或可為20%以上60%以下。

光學各向異性層的膜強度，可根據後述實施例的欄說明的穿刺強度的測定方法進行評定。光學膜的穿刺強度例如可為5gmm以上100 gmm以下，以10gmm以上80gmm以下為佳，以15gmm以上50gmm以下更佳。光學膜的穿刺強度為上述範圍內的情況，即使光學膜薄膜化的情況，亦有容易得到良好的膜強度的傾向。

光學各向異性層的膜強度，可根據後述實施例的欄說明的穿刺強度的測定方法進行評定。光學膜的穿刺強度例如可為5gmm以上100gmm以下，以10gmm以上80gmm以下為佳，以15gmm以上50gmm以下更佳。光學膜的穿刺強度為上述範圍內的情況，即使光學膜薄膜化的情況，亦有容易得到良好的膜強度的傾向。

光學各向異性層的膜強度，可根據後述實施例的欄說明的拉伸應力的測定方法進行評定。光學膜的拉伸應力例如可為30N/mm²以上200N/mm²以下，以40N/mm²以上150N/mm²以下為佳，以50N/mm²以上100N/mm²以下更佳。光學膜的拉伸應力為上述範圍內的情況，即使光學膜薄膜化的情況，亦有容易得到良好的膜強度的傾向。

光學膜除了光學各向異性層以外，可再具有基材層及配向層。

基材層可由例如樹脂膜等構成。作為構成樹脂膜的樹脂，係具有透光性的熱塑性樹脂，以光學透明的熱塑性樹脂為佳，可列舉例如：聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂；降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；三乙醯基纖維素、二乙醯基纖維素、乙酸丙酸纖維素酯等纖維素酯系樹脂；聚乙烯醇、聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚碸系 樹脂；聚醚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚酮系樹脂；聚苯硫醚系樹脂；聚伸苯醚系樹脂以及該等的混合物、共聚物等。該等樹脂中，以使用環狀聚烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、纖維素酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂之任一者或該等之混合物為佳。

基材層的厚度可為例如1μm以上300μm以下，從強度、操作性等的作業性的觀點而言，以5μm以上200μm以下為佳，以10μm以上120μm以下更佳。

基材層的每1cm²的熱容量並無特別限制，從藉由乾燥爐、冷卻爐等環境溫度控制裝置容易控制光學膜的溫度的觀點而言，以基材層的每1cm²的熱容量為0.1J/cm²‧℃以下為佳，以0.05J/cm²‧℃以下更佳，以0.03J/cm²‧℃以下又更佳。此處，所謂基材層的每1cm²的熱容量，係指只切出1cm²的基材層時所含的體積分所具有的熱容量。

而且，基材層的比熱並無特別限制，從相同的觀點而言，係以2,000J/kg‧℃以下為佳，以1,500J/kg‧℃以下更佳。

於光學膜具有基材層及配向層的情況，為了改善基材層與配向層的密著性，可在基材層的形成配向層之側的表面進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等，而形成底塗層等。

配向層係具有使聚合性液晶化合物在所期望的方向液晶配向的配向控制力。配向層係可列舉如：配向性聚合物所形成的配向性聚合物層、光配向聚合物所形成的光配向性聚合物層、層表面具有凹凸圖案、複數溝槽(溝)的溝槽配向層，配向層的厚度通常為10nm以上4000nm以下，50nm以上3000nm以下為佳。

配向性聚合物層係可將配向性聚合物溶解於溶劑的組成物塗佈於基材層並除去溶劑，依需要進行擦刷處理而形成。於該情況，在配向性聚合物所形成的配向性聚合物層中，配向控制力可藉由配向性聚合物的表面狀態、擦刷條件而任意調整。

光配向性聚合物層係可藉由將包含具有光反應性基的聚合物或單體及溶劑的組成物(以下亦稱為光配向膜形成用組成物)塗佈於基材層，在紫外線等光的照射下而形成。特別是在水平方向呈現配向控制力的情況等，可藉由照射偏光而形成。於該情況，在光配向性聚合物層中，配向控制力可藉由對光配向性聚合物的偏光照射條件等而任意調整。

溝槽配向層係可藉由例如以下方法等形成：於感光性聚醯亞胺膜表面隔著具有圖案形狀的狹縫的曝光用遮罩進行曝光、顯影等而形成凹凸圖案的方法；在表面具有溝槽的板狀母盤形成活性能量線硬化性樹脂的未硬化層，並將該層轉印到基材層並使其硬化之方法；在基材層形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化層，並在該層藉由壓入具有凹凸的滾輪狀母盤而形成凹凸後使其硬化的方法。

光學膜包含基材層及配向層的情況，在剝離基材層時，可將基材層與配向層一起剝離，亦可在光學各向異性層上殘留配向層。配向層與基材層一起剝離或者殘留在光學各向異性層，係可藉由調整各層間的密著力的關係而設定，可藉由例如對基材層進行上述電暈處理、電漿處理、火焰處理、底塗層等表面處理、或為了形成光學各向異性層所使用的液晶組成物的成分等而調整。

關於本發明的一其它態樣的光學膜，係具有由具有1個以上的聚合性官能基的聚合性液晶化合物在配向的狀態下聚合而成的聚合物所構成的光學各向異性層，其特徵為光學各向異性層中的下述式(2)定義的缺陷率滿足下述式(3)。

[式中，缺陷總面積係在光學顯微鏡的一個視野中觀察的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的缺陷面積的總和，顯微鏡觀察視野係上述光學顯微鏡的一個視野中所觀察的光學各向異性層的面積]

0≦缺陷率[ppm]≦1000 (3)。

式(2)之顯微鏡觀察視野，可為例如4.53mm²。缺陷率係可根據後述實施例的欄說明的缺陷率的測定方法決定。

光學各向異性層的缺陷率滿足式(3)的情況，光學各向異性層的膜強度及加工性有容易變好的傾向。從光學各向異性層的膜強度及加工性的觀點而言，光學各向異性層的缺陷率以600ppm以下為佳，以300ppm以下更佳，以100ppm以下又更佳，以50ppm以下為特佳。光學各向異性層的缺陷率理想為0ppm，可為0.01ppm以上，更可為0.1ppm以上。

為了使光學各向異性層的缺陷率滿足式(3)，可藉由例如聚合性液晶化合物的種類、分子量的選擇、組成的調整、製造條件的調整及 該等的組合而進行。聚合性液晶化合物的種類、分子量的選擇、組成的調整、製造條件的調整的具體例，只要是能夠使上述光學各向異性層的每1mm²中的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的缺陷的個數滿足式(1)者，都適用。

關於本發明的又一其它態樣的光學膜，其係具有包含具有1個以上的聚合性官能基的聚合性液晶化合物在配向的狀態下聚合而成的聚合物的光學各向異性層，光學各向異性層的每1mm²中的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的缺陷的個數滿足下述式(1)，且下述式(2)定義的缺陷率滿足下述式(3)。

0≦配向缺陷的個數[個]≦14 (1)；

0≦缺陷率[ppm]≦1000 (3)

[式中，缺陷總面積係在光學顯微鏡的一個視野中觀察的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的缺陷面積的總和，顯微鏡觀察視野係光學顯微鏡的一個視野中所觀察的光學各向異性層的面積]

光學各向異性層的每1mm²中的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的缺陷的個數滿足式(1)且缺陷率滿足式(3)的情況，光學各向異性層的膜強度及加工性有容易變好的傾向。

光學膜係透明性佳，以單獨單層或積層構造(例如2層以上4層以下的構造)，可與基材及/或配向膜或各種光學膜一起使用於各種用途。再者，於複數層積層的情況，可為相同的膜，亦可使用不同種的組合。此處，所謂光學膜，係可透光的膜，具有光學功能的膜，所謂光學功能係指折射、雙折射等。

作為光學膜，係可列舉例如：

第一形態：棒狀液晶化合物對支撐基材在水平方向配向的相位差膜；

第二形態：棒狀液晶化合物對支撐基材在垂直方向配向的相位差膜；

第三形態：棒狀液晶化合物在面內以螺旋狀改變配向的方向的相位差膜；

第四形態：圓盤狀液晶化合物傾斜配向的相位差膜；

第五形態：圓盤狀液晶化合物對支撐基材在垂直方向配向的二軸性相位差膜。

光學膜，其波長550nm之相位差值(Re(550nm))，可為例如113nm以上163nm以下，以130nm以上150nm以下為佳，以約135nm以上150nm以下更佳。光學膜具有上述範圍的波長550nm之相位差值的情況，適合作為1/4波長相位差膜。

光學膜係以具有反向波長分散性者為佳。所謂反向波長分散性係指在短波長的液晶配向面內相位差值比在長波長的液晶配向面內相位差值更小的光學特性，較佳者係光學膜滿足下述式(i)及式(ii)。

Re(450)/Re(550)≦1 (i)

1≦Re(630)/Re(550) (ii)

光學膜為上述第一形態且具有反向波長分散性的情況，因減少顯示裝置的黑色顯示時的著色，因而為佳，在式(1)，如為0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93者更佳。又以120≦Re(550)≦150又更佳。

光學膜為上述第二形態的情況，調整面內相位差值Re(550)為0至10nm的範圍，以0至5nm的範圍為佳，調整厚度方向的相位差值R_th為-10至-300nm的範圍，以-20至-200nm的範圍為佳。

意指厚度方向的折射率各向異性之厚度方向的相位差值R_th，面內的快軸為傾斜軸，可從使其傾斜50度所測定的相位差值R₅₀與面內相位差值R_e算出。亦即，厚度方向的相位差值R_th，可從面內相位差值R_e、快軸為傾斜軸並使其傾斜50度所測定的相位差值R₅₀、相位差膜的厚度d及相位差膜的平均折射率n₀，由以下的式(iv)至(vi)，求得n_x、n_y及n_z，並將該等帶入式(iii)算出。

R_th=[(n_x+n_y)/2-n_z]×d (iii)

R_e=(n_x-n_y)×d (iv)

(n_x+n_y+n_z)/3=n₀ (vi)

此處，

為了使用光學膜作為VA(垂直排列)模式用的光學膜，適當地調整液晶組成物中的聚合性液晶化合物的含量，調整光學膜的厚度即可。 具體上係可調整膜厚，使Re(550)例如為40nm以上100nm以下，以60nm以上80nm以下為佳。

[光學膜的製造方法]

光學膜係可藉由例如調製液晶組成物，然後在基材或配向膜上塗佈液晶組成物並乾燥，使聚合性液晶化合物進行聚合而製造。

〈液晶組成物〉

液晶組成物係可藉由將聚合性液晶化合物與任意的溶劑、聚合引發劑、增感劑、聚合抑制劑及/或調平劑等一起混合而調製。

聚合性液晶化合物的分子量越大，越容易結晶，因為微結晶所引發的特定缺陷有變多的傾向，故於使用分子量較大的聚合性液晶化合物的情況，為了使特定缺陷的數目在本發明規定的範圍，例如可組合2種以上的液晶化合物作為聚合性液晶化合物進行聚合。

(聚合性液晶化合物)

作為聚合性液晶化合物，可使用單獨或組合2種以上的例如日本特開2011-207765號公報、日本特開2010-24438號公報、日本特開2015-163937號公報、日本特開2017-179367號公報、日本特開2016-42185號公報、國際公開第2016/158940號、日本特開2016-224128號公報等之例示者。聚合性液晶化合物係具有1個以上的聚合性官能基，以具有2個以上的聚合性官能基者為佳，以具有2個以上4個以下的聚合性官能基者更佳，以具有2個聚合性官能基者又更佳。

相對於1個聚合性官能基，聚合性液晶化合物之分子量例如可為250以上。例如於聚合性液晶化合物具有2個聚合性官能基的情況， 聚合性液晶化合物的分子量可為500以上，可為600以上，亦可為800以上。相對於1個聚合性官能基，聚合性液晶化合物之分子量為250以上的情況，會有容易得到良好的液晶性的傾向。相對於1個聚合性官能基，聚合性液晶化合物之分子量係以280以上為佳，以300以上更佳，以400以上又更佳，通常為1000以下。

聚合性液晶化合物的分子量係以500以上為佳，以560以上更佳，以600以上又更佳，以800以上在更佳，通常為2000以下，可為1500以下。

作為聚合性液晶化合物，例如滿足下述(1)至(4)全部的化合物。

(1)可形成向列相的化合物；

(2)在該聚合性液晶化合物的長軸方向(a)上具有π電子。

(3)與長軸方向(a)交叉的方向[交叉方向(b)]上具有π電子。

(4)存在於長軸方向(a)的π電子的總和為N(πa)，存在於長軸方向的分子量的總和為N(Aa)，下述式(i)定義的聚合性液晶化合物的長軸方向(a)的π電子密度：

D(πa)=N(πa)/N(Aa) (i)

以及存在於交叉方向(b)的π電子的總和為N(πb)，存在於交叉方向的分子量的總和為N(Ab)，下述式(ii)定義的聚合性液晶化合物的交叉方向(b)的π電子密度：

D(πb)=N(πb)/N(Ab) (ii)

具有

0≦[D(πa)/D(πb)]≦1的關係[亦即，交叉方向(b)的π電子密度大於長軸方向(a)的π電子密度]。

再者，滿足上述(1)至(4)全部的聚合性液晶化合物，例如塗佈於配向膜上，藉由加熱至相轉移溫度以上，即可形成向列相。該聚合性液晶化合物配向所形成的向列相，通常係聚合性液晶化合物的長軸互相平行地配向，該長軸方向成為向列相的配向方向。

由於滿足上述(3)的化合物係在交叉方向(b)具有π電子，因π-π交互作用而有容易結晶的傾向。根據本實施型態，即使使用如此的聚合性液晶化合物的情況，亦可減少微結晶所引發的特定缺陷個數。

具有上述特性的聚合性液晶化合物，一般多為顯示反向波長分散性者。作為滿足上述(1)至(4)的特性的化合物，具體上係可列舉例如下述式(I)：

所示的化合物。

式(I)中，Ar表示可具有取代基的二價芳香族基。此處所謂芳香族基，係指具有平面性的環狀構造的基，該環構造所具有的π電子數根據休克爾法則(Hückel law)為[4n+2]個。此處，n表示整數。於包含-N=、-S-等雜原子而形成環構造的情況，亦包含：包含該等雜原子上的非共價鍵電子對而滿足休克爾法則，而具有芳香族性的情況。在該二價芳香族基中，以包含氮原子、氧原子、硫原子中之至少1個以上者為佳。

G¹及G²分別獨立地表示二價芳香族基或二價脂環式烴基。此處，該二價芳香族基或二價脂環式烴基所包含的氫原子，可經鹵原子、碳數1至4的烷基、碳數1至4的氟烷基、碳數1至4的烷氧基、氰基或硝基取代，構成該二價芳香族基或二價脂環式烴基的碳原子，可經氧原子、硫原子或氮原子取代。

L¹、L²、B¹及B²分別獨立地為單鍵或二價的連結基。

k、l分別獨立地表示0至3的整數，滿足1≦k+1的關係。此處，於2≦k+1的情況，B¹及B²、G¹及G²，分別可以互為相同，亦可為不同。

E¹及E²分別獨立地表示碳數1至17的烷二基，此處烷二基所包含的氫原子，可經鹵原子取代，該烷二基所包含的-CH₂-，可經-O-、-S-、-Si-取代。

P¹及P²互相獨立地表示聚合性官能基或氫原子，至少1個為聚合性官能基。

G¹及G²分別獨立地以可經選自由鹵原子及碳數1至4的烷基所成群組中的至少1個取代基取代之1,4-苯二基、可經選自由鹵原子及碳數1至4的烷基所成群組中的至少1個取代基取代之1,4-環己二基為佳，以經甲基取代的1,4-苯二基、無取代的1,4-苯二基、或無取代的1,4-反式-環己二基為佳，以無取代的1,4-苯二基或無取代的1,4-反式-環己二基更佳。

而且，以複數存在的G¹及G²中之至少1個為二價脂環式烴基者為佳，而且，以鍵結於L¹或L²的G¹及G²中之至少1個為二價脂環式烴基者更佳。

L¹及L²分別獨立地以單鍵、碳數1至4的伸烷基、-O-、-S-、-R^a1OR^a2-、-R^a3COOR^a4-、-R^a5OCOR^a6-、R^a7OC=OOR^a8-、-N=N-、-CR^c=CR^d-或C

C-更佳。此處，R^a1至R^a8分別獨立地表示單鍵或碳數1至4的伸烷基，R^c及R^d表示碳數1至4的烷基或氫原子。L¹及L²分別獨立地以單鍵、-OR^a2-1-、-CH₂-、-CH₂CH₂-、-COOR^a4-1-或OCOR^a6-1-為佳。此處，R^a2-1、R^a4-1、R^a6-1，分別獨立地表示單鍵、-CH₂-、-CH₂CH₂-的任一者。L¹及L²分別獨立地以單鍵、-O-、-CH₂CH₂-、-COO-、-COO CH₂CH₂-或OCO-更佳。

B¹及B²分別獨立地以單鍵、碳數1至4的伸烷基、-O-、-S-、-R^a9OR^a10-、-R^a11COOR^a12-、-R^a13OCOR^a14-或R^a15OC=OOR^a16-為佳。此處，R^a9至R^a16分別獨立地表示單鍵或碳數1至4的伸烷基。B¹及B²分別獨立地以單鍵、-OR^a10-1-、-CH₂-、-CH₂CH₂-、-COOR^a12-1-或OCOR^a14-1-更佳。此處，R^a10-1、R^a12-1、R^a14-1分別獨立地表示單鍵、-CH₂-、-CH₂CH₂-的任一者。B¹及B²分別獨立地以單鍵、-O-、-CH₂CH₂-、-COO-、-COOCH₂CH₂-、-OCO-或OCOCH₂CH₂-更佳。

從呈現反向波長分散性的觀點而言，k及l係以2≦k+l≦6的範圍為佳，以k+l=4，k=2且l=2更佳。k=2且l=2時，因成為對稱構造而佳。

E¹及E²分別獨立地以碳數1至17的烷二基為佳，以碳數4至12的烷二基更佳。

作為P¹或P²所表示的聚合性官能基，可列舉如：環氧基、乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯醯氧基、 甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基及氧環丁烷基等。其中，以丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧環丁烷基為佳，以丙烯醯氧基更佳。

Ar係以具有選自由可具有取代基的芳香族烴環、可具有取代基的芳香族雜環及電子吸引性基中的至少1個者為佳。作為該芳香族烴環，可列舉如：苯環、萘環、蒽環等，以苯環、萘環為佳。作為該芳香族雜環，可列舉如：呋喃環、苯并呋喃環、吡咯環、吲哚環、噻吩環、苯并噻吩環、吡啶環、吡嗪環、嘧啶環、三唑環、三嗪環、吡咯啉環、咪唑環、吡唑環、噻唑環、苯并噻唑環、噻吩并噻唑環、噁唑環、苯并噁唑環及啡啉環等。其中，以具有噻唑環、苯并噻唑環或苯并呋喃環者為佳，以具有苯并噻唑環者更佳。而且，Ar包含氮原子的情況，該氮原子以具有π電子者為佳。

式(I)中，Ar所示的2價芳香族基所包含的π電子的總數Nπ係以8以上為佳，以10以上更佳，以14以上又更佳，以16以上為特佳。而且，以30以下為佳，以26以下更佳，以24以下又更佳。

作為Ar所示的芳香族基，可列舉例如以下的基。

式(Ar-1)至式(Ar-23)中，＊表示連接部，Z⁰、Z¹及Z²分別獨立地表示氫原子、鹵原子、碳數1至12的烷基、氰基、硝基、碳數1至12的烷基亞磺醯基、碳數1至12的烷基磺醯基、羧基、碳數1至12的氟烷基、碳數1至6的烷氧基、碳數1至12的烷基硫基、碳數1至12的N-烷基胺基、碳數2至12的N,N-二烷基胺基、碳數1至12的N-烷基胺磺醯基或碳數2至12的N,N-二烷基胺磺醯基。

Q¹、Q²及Q³分別獨立地表示-CR^2’R^3’-、-S-、-NH-、-NR^2’-、-CO-或O-，R^2’及R^3’分別獨立地表示氫原子或碳數1至4的烷基。

J¹及J²分別獨立地表示碳原子或氮原子。

Y¹、Y²及Y³分別獨立地表示可經取代的芳香族烴基或芳香族雜環基。

W¹及W²分別獨立地表示氫原子、氰基、甲基或鹵原子，m表示0至6的整數。

作為Y¹、Y²及Y³之芳香族烴基，可列舉如：苯基、萘基、蒽基、菲基(Phenanthryl)、聯苯基等碳數6至20的芳香族烴基，以苯基、萘基為佳，以苯基更佳。作為芳香族雜環基，可列舉如：呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基等包含氮原子、氧原子、硫原子等雜原子中至少1個的碳數4至20的芳香族雜環基，以呋喃基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基為佳。

Y¹、Y²及Y³分別獨立地可為可經取代的多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。多環系芳香族烴基，係指縮合多環系芳香族烴基或源自芳香環集合體的基。多環系芳香族雜環基，係指縮合多環系芳香族雜環基或源自芳香環集合體的基。

Z⁰、Z¹及Z²分別獨立地以氫原子、鹵原子、碳數1至12的烷基、氰基、硝基、碳數1至12的烷氧基為佳，Z⁰又以氫原子、碳數1至12的烷基、氰基更佳，Z¹及Z²以氫原子、氟原子、氯原子、甲基、氰基更佳。

Q¹、Q²及Q³係以-NH-、-S-、-NR^2’-、-O-為佳，R^2’係以氫原子為佳。其中，以-S-、-O-、-NH-為特佳。

式(Ar-1)至式(Ar-23)中，從分子的安定性的觀點而言，係以式(Ar-6)及式(Ar-7)為佳。

於式(Ar-16)至式(Ar-23)，Y¹可與其鍵結的氮原子與Z⁰一起形成芳香族雜環基。作為芳香族雜環基，可列舉前述作為Ar可具有的芳香族雜環基者，可列舉例如：吡咯環、咪唑環、吡咯啉環、吡啶環、吡嗪環、嘧啶環、吲哚環、喹啉環、異喹啉環、嘌呤環、吡咯啶環等。該芳香族雜環基係可具有取代基。而且，Y¹可與其鍵結的氮原子與Z⁰一起為前述可經取代的多環系芳香族烴基或多環系芳香族雜環基。可列舉例如：苯并呋喃環、苯并噻唑環、苯并噁唑環等。

作為滿足上述(1)至(4)的特性的化合物，例如上述式(I)之Ar為具有下述構造的基(II)的化合物。

式(II)中，＊表示與L¹或L²的連結部。

D¹及D²分別獨立地表示選自下述一般式(D-1)的基。

取代基X、X¹及X²分別獨立地表示氟原子、氯原子、溴原子、碘原子、五氟硫烷基、硝基、氰基、異氰基、胺基、羥基、巰基、甲基胺基、二甲基胺基、二乙基胺基、二異丙基胺基、三甲基矽基、二甲基矽基、硫異氰基、或1個-CH₂-或不相鄰的2個以上的-CH₂-分別獨立地可經-O-、-S-、 -CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或-C

C-取代之碳數1至20的直鏈狀或分支狀的烷基。該烷基中之任意的氫原子可經氟原子取代。

一般式(D-1)中，M¹表示氫原子或碳數1至6的烷基。該烷基可經1個以上的前述取代基X取代，亦可為無取代。

U¹表示具有芳香族烴基的碳數2至30的有機基。該芳香族烴基的任意碳原子可經雜原子取代。芳香族烴基，可經1個以上的前述取代基X取代，亦可為無取代。

T¹表示-O-、-S-、-COO-、-OCO-、-OCO-O-、-NU²-、-N=CU²-、-CO-NU²-、-OCO-NU²-或-O-NU²-。U²表示氫原子、碳數1至20的烷基、碳數3至12的環烷基、碳數3至12的環烯基或具有芳香族烴基(該芳香族烴基的任意碳原子可經雜原子取代)的碳數2至30的有機基。該烷基、環烷基、環烯基及芳香族烴基分別可經1個以上的前述取代基X取代，亦可為無取代。該烷基可經該環烷基、環烯基取代。該烷基中的1個-CH₂-或不相 鄰的2個以上的-CH₂-分別獨立地可經-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CO-S-、-S-CO-、-SO₂-、-O-CO-O-、-CO-NH-、-NH-CO-、-CH=CH-COO-、-CH=CH-OCO-、-COO-CH=CH-、-OCO-CH=CH-、-CH=CH-、-CF=CF-或-C

C-取代。該環烷基或環烯基中的1個-CH₂-或不相鄰的2個以上的-CH₂-分別獨立地可經-O-、-CO-、-COO-、-OCO-或-O-CO-O-取代。U¹及U²可鍵結構成環。

一般式(D-1)中，M¹表示氫原子或碳數1至6的烷基。該烷基所具有的氫原子可經氟原子取代。M¹以氫原子為佳。

從波長分散性變佳的觀點而言，U¹係以碳原子的1個以上經雜原子取代的具有芳香族雜環的有機基為佳。從波長分散性佳、顯示高雙折射的觀點而言，U¹係以具有屬於5員環及6員環的稠環的芳香族雜環的有機基更佳。

以U¹為具有以下之式表示的基者為佳。再者，該等基在任意位置具有與T¹的鍵結鍵。

從雙折射良好、容易合成的觀點而言，T¹以-O-、-S-、-N=CU²-或-NU²-為佳。從波長分散性及雙折射良好的觀點而言，T¹係以-O-、-S-或-NU²-更佳。

此處，U²可經1個以上的前述取代基X取代，1個-CH₂-或不相鄰的2個以上的-CH₂-分別獨立地可經-O-、-CO-、-COO-、-OCO-或-O-CO-O-取代，以可經碳數1至20的烷基或烯基、碳原子數3至12的環 烷基或碳數3至12的環烯基或者該環烷基、環烯基或芳香基取代之前述烷基或烯基為佳。

其中，從雙折射及溶劑溶解性的觀點而言，U²係以氫原子可經氟原子取代，1個-CH₂-或不相鄰的2個以上的-CH₂-分別獨立地可經-O-、-CO-、-COO-、-OCO-取代之碳原子數2至20的直鏈狀烷基者更佳。

U¹及U²可鍵結構成環。於該情況，例如-NU¹U²表示的環狀基或-N=CU¹U²表示的環狀基。

D¹及D²分別表示選自下述式(D-1)至式(D-47)的基，從容易取得原料、溶解性佳、顯示高的雙折射率的觀點上為特佳。

液晶組成物中聚合性液晶化合物的含量，對液晶組成物的固形分100質量份而言，通常為50質量份以上99.5質量份以下，以60質量份以上99質量份以下為佳，以70質量份以上98質量份以下更佳，以80質量份以上97質量份以下又更佳。聚合性液晶的含有比例如為上述範圍內，配向性有變高的傾向。此處，所謂固形分，係指液晶組成物除去溶劑的成分的總量。

從減少光學各向異性層之微結晶所引發的缺陷的觀點而言，液晶組成物係以包含2種以上的聚合性液晶化合物者為佳。於液晶組成物包含2種以上的聚合性液晶化合物的情況，相對於聚合性液晶化合物全部，液晶組成物包含主要的聚合性液晶化合物，例如為90質量%以下，以包含85質量%以下者為佳。

從改善對溶劑的溶解度的觀點而言，液晶組成物之較佳者係可與聚合性液晶化合物一起包含其二聚物、三聚物或其以上的寡聚物。藉此，有容易抑制微結晶析出的傾向。

(溶劑)

於液晶組成物包含有機溶劑的情況，因可抑制液晶組成物所含的聚合性液晶化合物的結晶的析出，有容易抑制光學各向異性層之微結晶所引發的缺陷的發生的傾向。而且，於液晶組成物包含有機溶劑的情況，形成光學膜時的操作、成膜有變容易的傾向。作為溶劑，較佳者係可完全溶解聚合性液晶化合物者，而且以對聚合性液晶化合物的聚合反應呈惰性的溶劑者為佳。

作為溶劑，可列舉例如：甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、丙二醇、乙二醇甲醚、乙二醇丁醚及丙二醇單甲醚等醇溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲醚乙酸酯、γ-丁內酯或丙二醇甲醚乙酸酯及乳酸乙酯等酯溶劑；丙酮、甲基乙基酮、環戊酮、環己酮、2-庚酮及甲基異丁基酮等酮溶劑；戊烷、己烷及庚烷等脂肪族烴溶劑；甲苯及二甲苯等芳香族烴溶劑、乙腈等腈溶劑；四氫呋喃及二甲氧基乙烷等醚溶劑；氯仿及氯苯等含氯溶劑；二甲基乙醯胺、二甲基甲醯胺、N-甲基-2-吡咯啶酮、1,3-二甲基-2-咪唑啶酮等醯胺系溶劑等。該等溶劑可單獨使用，亦可組合2種以上使用。

相對於液晶組成物的總量，溶劑的含量係以50質量%以上98質量%以下為佳。換言之，液晶組成物的固形分的含量係以2質量%以上50質量%以下為佳。該固形分的含量為50質量%以下時，由於液晶組成物的黏度變低，偏光層12的厚度變得略均勻，在該偏光層12有不易產生不均勻的傾向。而且，如此的固形分的含量，可考慮所欲製造的偏光層12的厚度而決定。

(聚合引發劑)

液晶組成物可含有聚合引發劑。聚合引發劑係可引發聚合性液晶等的聚合反應的化合物。從不依賴熱致液晶的相狀態的觀點而言，聚合引發劑係以通過光的作用產生活性自由基的光聚合引發劑為佳。

作為聚合引發劑，可列舉例如：安息香化合物、二苯甲酮化合物、烷基苯酮化合物、醯基膦氧化物化合物、三嗪化合物、錪鹽、鋶鹽等。

作為安息香化合物，可列舉例如：安息香、安息香甲醚、安息香乙醚、安息香異丙醚及安息香異丁醚等。

作為二苯甲酮化合物，可列舉例如：二苯甲酮、o-苯甲醯基安息香酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲醯基-4’-甲基二苯硫醚、3,3’,4,4’-四(第3丁基過氧羰基)二苯甲酮及2,4,6-三甲基二苯甲酮等。

作為烷基苯酮化合物，可列舉例如：二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-N-嗎啉基-1-(4-甲基硫苯基)丙烷-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羥基-2-甲基-1-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]丙烷-1-酮、1-羥基環己基苯基酮及2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙烷-1-酮的寡聚物等。

作為醯基膦氧化物化合物，可列舉例如2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物及雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物等。

作為三嗪化合物，可列舉例如：2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-1,3,5-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-1,3,5-三嗪及2,4-雙(三氯甲基)-6-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-1,3,5-三嗪等。

可使用市售品作為聚合引發劑。市售的聚合引發劑可列舉如：Irgacure(註冊商標)907、184、651、819、250及369、379、127、754、 OXE01、OXE02、OXE03(汽巴精化股份有限公司製)；SEIKUOL(註冊商標)BZ、Z及BEE(精工化學股份有限公司製)；KAYACURE(註冊商標)BP100及UVI-6992(道氏化學股份有限公司製)；ADEKAOPTOMER SP-152、N-1717、N-1919、SP-170、ADEKA ARCLES NCI-831、ADEKA ARCLES NCI-930(ADEKA股份有限公司製)；TAZ-A及TAZ-PP(日本Siber Hegner股份有限公司製)；TAZ-104(三和化學股份有限公司製)；等。液晶組成物中的聚合引發劑可為1種，可配合光源而混合2種以上的複數聚合引發劑。

液晶組成物中的聚合引發劑的含量，可依據聚合性液晶化合物的種類及其量而適當地調整，相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份，通常為0.1質量份以上30質量份以下，以0.5質量份以上10質量份以下為佳，以0.5質量份以上8質量份以下更加。聚合引發劑的含量為上述範圍內時，可不干擾聚合性液晶的配向而進行聚合。

(增感劑)

液晶組成物係可含有增感劑。增感劑以光增感劑為佳。增感劑可列舉例如：氧雜蒽酮及硫雜蒽酮(thioxanthone)等氧雜蒽酮化合物(例如2,4-二乙基硫雜蒽酮、2-異丙基硫雜蒽酮等)；蒽及含有烷氧基的蒽(例如二丁氧基蒽等)等蒽化合物；啡噻嗪及紅螢烯等。

於液晶組成物含有增感劑的情況，可更促進液晶組成物所含有的聚合性液晶化合物的聚合反應。如此的增感劑的使用量，相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份，以0.1質量份以上10質量份以下為佳， 以0.5質量份以上5質量份以下更佳，以0.5質量份以上3質量份以下又更佳。

(聚合抑制劑)

從安定地進行聚合反應的觀點而言，液晶組成物可含有聚合抑制劑。藉由聚合抑制劑，可控制聚合性液晶化合物的聚合反應的進行程度。

聚合抑制劑可列舉例如：氫醌、含有烷氧基的氫醌、含有烷氧基的兒茶酚(例如丁基兒茶酚)、鄰苯三酚、2,2,6,6-四甲基-1-哌啶氧基自由基等自由基捕獲劑；苯硫酚類；β-萘基胺類；β-萘酚類等。

於液晶組成物含有聚合抑制劑的情況，相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份，聚合抑制劑的含量係以0.1質量份以上10質量份以下為佳，以0.5質量份以上5質量份以下更佳，以0.5質量份以上3質量份以下又更佳。聚合抑制劑的含量為上述範圍內時，可不干擾聚合性液晶的配向而進行聚合。

(調平劑)

於液晶組成物可含有調平劑。所謂調平劑，係指具有調整組成物的流動性，使塗佈組成物所得的膜更為平坦的功能的添加劑，例如有機改性矽油系、聚丙烯酸酯系及全氟烷基系的調平劑。具體上係可列舉如：DC3PA、SH7PA、DC11PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、ST80PA、ST86PA、SH8400、SH8700、FZ2123(以上全部TORAY‧DOW CORNING股份有限公司製)、KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22-161A、KF6001(以上全部信越化學工業股份有限公司製)、TSF400、TSF401、TSF410、TSF4300、TSF4440、TSF4445、TSF-4446、TSF4452、TSF4460(以 上全部日本邁圖材料有限公司(Momentive Performance Materials LLC)製)、Flourinert(註冊商標)FC-72、同FC-40、同FC-43、同FC-3283(以上全部住友3M股份有限公司製)、MEGAFAC(註冊商標)R-08、同R-30、同R-90、同F-410、同F-411、同F-443、同F-445、同F-470、同F-477、同F-479、同F-482、同F-483(以上皆是DIC股份有限公司製)、EFTOP(註冊商標)EF301、同EF303、同EF351、同EF352(以上全部三菱材料電子化成股份有限公司製)、SURFLON(註冊商標)S-381、同S-382、同S-383、同S-393、同SC-101、同SC-105、KH-40、SA-100(以上全部AGC SEIMI化學股份有限公司製)、商品名E1830、同E5844(大金精細化學研究所股份有限公司製)、BM-1000、BM-1100、BYK-352、BYK-353及BYK-361N(皆為商品名：BM CHEMIE公司製)等。其中，以聚丙烯酸酯系及全氟烷基系的調平劑為佳。

於液晶組成物含有調平劑的情況，相對於聚合性液晶化合物的含量100質量份，係以0.01質量份以上5質量份以下為佳，以0.1質量份以上5質量份以下更佳，以0.1質量份以上3質量份以下又更佳。調平劑的含量為上述範圍內時，容易使聚合性液晶化合物水平配向，且所得的偏光膜有更平滑的傾向。相對於聚合性液晶化合物，調平劑的含量超過上述範圍時，所得之偏光膜有容易產生不均勻的傾向。再者，液晶組成物可含有2種以上的調平劑。

再者，藉由適當地調整液晶組成物的塗佈量、濃度，可調整膜厚，以賦予所期望的相位差。於聚合性液晶化合物的量為一定的液晶組 成物的情況，所得相位差膜的相位差值(延遲值、Re(λ))係由下述式(a)決定，為了得到所期望的Re(λ)而可調整膜厚d。

Re(λ)=d×△n(λ) (a)

[式中，Re(λ)表示波長λnm之相位差值，d表示膜厚，△n(λ)表示波長λnm之雙折射率]

(液晶組成物的塗佈)

將液晶組成物塗佈於基材或配向膜上的方法，可列舉如：擠出塗佈法、直接凹版塗佈法、反向凹版塗佈法、CAP塗佈法、狹縫塗佈法、微凹版塗佈法、模頭塗佈法、噴墨法等。而且，亦可列舉如：使用浸塗機、棒塗機、旋轉塗佈機等塗佈機的方法等。其中，以捲至捲(Roll to Roll)形式進行連續塗佈時，係以藉由微凹版塗佈法、噴墨法、狹縫塗佈法、模頭塗佈法之塗佈方法為佳，基材為片狀的情況，係以均勻性高的旋轉塗佈法為佳。以捲至捲形式進行塗佈時，係在基材上塗佈用以形成配向膜的光配向膜形成用組成物等而形成配向膜，再於所得的配向膜上連續地塗佈液晶組成物。

藉由在塗佈液晶組成物時將塗佈液晶組成物的基材保持一定溫度，微結晶所引發的特定缺陷個數有變少的傾向。保持的溫度可為例如20℃以上60℃以下，以30℃以上50℃以下為佳。

從提高聚合性液晶化合物的塗膜均勻性、聚合性液晶化合物所引發的塗膜的排斥、配向膜不良的特定缺陷個數變少的觀點而言，可藉由退火(表面修復)而提高基材表面的平滑性。退火的溫度例如為60℃以上 100℃以下，或者比基材的玻璃轉化點低5℃以上20℃以下的溫度，其時間例如為1秒以上60秒以下。

藉由將塗佈時的周圍環境的濕度設為一定，變得容易抑制聚合性液晶化合物的結晶，微結晶所引發的特定缺陷個數有變少的傾向。周圍環境的濕度可為例如90%RH以下，以85%RH以下為佳，以60%RH以下更佳，以55%RH以下又更佳，以40%RH以下為特佳。另一方面，塗佈時的周圍環境的濕度可為例如10%RH以上，以20%RH以上為佳。於使用分子量較大的聚合性液晶化合物的情況，為了使特定缺陷的個數在本發明規定的範圍，可降低在基材上塗佈聚合性液晶化合物時的濕度。

藉由將塗佈所使用的模頭的周圍環境調節到聚合性液晶化合物所含有的溶劑的蒸氣壓(溶劑環境下)，聚合性液晶化合物的溶劑不易揮發，抑制聚合性液晶化合物的結晶，微結晶所引發的特定缺陷個數有變少的傾向。

關於基材，從減少異物所引發的特定缺陷個數的觀點而言，較佳者係在液晶組成物的塗佈前先清洗基材，可除去表面的污染，例如PET潤滑劑、PET寡聚物、矽油等。

為了除去塗佈的液晶組成物中的異物、微結晶等，在塗佈前，較佳者係在正要塗佈前進行過濾。而且，液晶組成物的塗佈在潔淨室中進行，可減少異物所引發的特定缺陷個數。

(液晶組成物的乾燥)

作為除去液晶組成物所包含的溶劑之乾燥方法，可列舉例如：自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減壓乾燥以及組合該等的方法。其中，以自然 乾燥或加熱乾燥為佳。乾燥溫度可為例如0℃以上200℃以下的範圍，以例如20℃以上150℃以下的範圍更佳，以例如50℃以上130℃以下的範圍又更佳。乾燥時間，可為例如10秒以上10分鐘以下，以30秒以上5分鐘以下為佳。配向性聚合物組成物亦可同樣地乾燥。

(聚合性液晶化合物的聚合)

作為使聚合性液晶化合物聚合的方法，係以光聚合為佳。光聚合係藉由對基材或配向膜上塗有液晶組成物的積層體之聚合性液晶化合物，照射活性能量線而實施。照射的活性能量線可根據乾燥覆膜中所含聚合性液晶化合物的種類(特別是聚合性液晶化合物所具有的光聚合性官能基的種類)、於包含光聚合引發劑時光聚合引發劑的種類及該等的量而適當地選擇。具體上係可列舉如：選自由可見光、紫外光、紅外光、X射線、α線、β線及γ線所成群組中的1種以上的光。其中，從容易控制聚合反應的進行之點及可使用該領域泛用作為光聚合裝置之點，以紫外光為佳，以選擇可藉由紫外光進行光聚合的聚合性液晶化合物的種類為佳。

作為前述活性能量線的光源，係可列舉例如：低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、氙燈、鹵素燈、碳弧燈、鎢燈、鎵燈、準分子雷射、波長範圍380nm以上440nm以下發光的LED光源、化學燈、黑光燈、微波激發汞燈、金屬鹵化物燈等。

紫外線照射強度通常為10mW/cm²以上3,000mW/cm²以下。紫外線照射強度之較佳者係陽離子聚合引發劑或自由基聚合引發劑的活性化有效的波長區域的強度。光的照射時間通常為0.1秒以上10分鐘以下，以0.1秒以上5分鐘以下為佳，以0.1秒以上3分鐘以下更佳，以0.1 秒以上1分鐘以下又更佳。如此的紫外線照射強度下照射1次或複數次，其累積光量為10mJ/cm²以上3,000mJ/cm²以下，以50mJ/cm²以上2,000mJ/cm²以下為佳，以100mJ/cm²以上1,000mJ/cm²以下更佳。累積光量為該範圍內的情況，聚合性液晶化合物的硬化變充分，容易得到良好的轉印性，有容易控制光學積層體的著色的傾向。

第1圖呈示本發明的一態樣的光學膜之一實施型態的示意圖。光學膜10依序具有光學各向異性層11、配向層12及基材層13。

[相位差積層體]

相位差積層體係包含1個以上的上述光學膜。相位差積層體具有1個以上的相位差層，例如可為將直線偏光轉換為圓偏光或橢圓偏光，相反地將圓偏光或橢圓偏光轉換為直線偏光而使用之膜。

於相位差積層體具有第1相位差層及第2相位差層的情況，可將相位差積層體貼合於偏光板作為圓偏光板使用。作為圓偏光板使用的情況，第1相位差層為反向波長分散性的1/4波長相位差層，第2相位差層為正C板，或者第1相位差層為1/2波長相位差層，第2相位差層為1/4波長相位差層。

對於相位差積層體，一邊參照圖式並加以說明。

第2圖呈示相位差積層體的一實施型態的示意圖。相位差積層體20依序具有第1基材層31、第1配向層32、第1相位差層33、接著層34、第2相位差層35、第2配向層36及第2基材層37。

由第1基材層31、第1配向層32及第1相位差層33所構成的第1積層體21可由上述本發明的光學膜10構成。

由第2相位差層35、第2配向層36及第2基材層37所構成的第2積層體22可由上述本發明的光學膜10構成。

接著層34，可由黏著劑、接著劑或該等的組合形成。接著層34，通常為1層，可為2層以上。接著層34係可藉由將接著劑組成物塗佈於基材層、相位差層的接合面而形成。塗佈方法可採用模頭塗佈機、缺角輪塗佈機、反式滾輪塗佈機、凹版塗佈機、棒塗機、線棒塗佈機、刮刀塗佈機、空氣刀塗佈機等通常的塗佈技術。

黏著劑係可使用(甲基)丙烯酸系黏著劑、苯乙烯系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、橡膠系黏著劑、胺酯系黏著劑、聚酯系黏著劑、環氧系共聚物黏著劑等。

接著劑係可將例如水系接著劑、活性能量線硬化型接著劑、黏著劑等中之1種或組合2種以上形成。作為水系接著劑，係可列舉例如：聚乙烯醇系樹脂水溶液、水系二液型胺酯系乳液接著劑等。作為活性能量線硬化型接著劑係例如藉由照射紫外線等活性能量線而硬化的接著劑，可列舉例如：包含聚合性化合物及光聚合性引發劑者、包含光反應性樹脂者、包含黏結劑樹脂及光反應性交聯劑者等。作為上述聚合性化合物，可列舉例如：光硬化性環氧系單體、光硬化性丙烯酸系單體、光硬化性胺酯系單體等光聚合性單體、來自該等單體的寡聚物等。作為上述光聚合引發劑，可列舉如：包含照射紫外線等活性能量線而產生中性自由基、陰離子自由基、陽離子自由基的活性物種的物質者。

接著層34的厚度可為例如0.1μm以上25μm以下，以0.5μm以上20μm以下為佳，以1μm以上15μm以下更佳，以2μm以上10μm以下又更佳，以2.5μm以上5μm以下為特佳。

相位差積層體20例如可藉由包含以下步驟製造：準備第1積層體21及第2相位差層22的步驟、於第1積層體21的第1相位差層33側表面形成接著層34的步驟、第1積層體21與第2相位差層22以分別的相位差層面側為貼合面進行貼合的步驟。

[偏光板]

藉由組合上述相位差積層體及偏光片，提供偏光板，例如橢圓偏光板及圓偏光板。

本發明的偏光板因具有膜強度、加工性改善的光學各向異性層，即使裁切時，亦有不易引起龜裂等的傾向。因此，本發明的偏光板適合為具有切斷面的偏光板及變形偏光板。變形偏光板例如可為平面形狀之矩形及正方形以外的形狀的偏光板，亦可為從最外圍朝內側的平面區域具有貫穿孔的偏光板。偏光板可為長條狀，亦可為片狀。

第3圖呈示偏光板的一實施型態的示意圖。偏光板40依序具有偏光片39、黏著層38、第1配向層32、第1相位差層33、接著層34、第2相位差層35、第2配向層36及第2基材層37。

偏光片39係可採用任意適合的偏光片。所謂偏光片係指具有無偏光的光入射時使具有與吸收軸正交的振動面的直線偏光透過的性質的直線偏光片。舉例而言，形成偏光片的樹脂膜可為單層的樹脂膜，可為 2層以上的積層膜。偏光片39可為二色性色素配向於聚合性液晶化合物而使聚合性液晶化合物聚合的硬化膜。

作為單層的樹脂膜所構成的偏光片的具體例，可列舉如：對聚乙烯醇(以下有簡稱為「PVA」)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化之膜等親水性高分子膜實施藉由碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及拉伸處理而得者，PVA的脫水處理物、聚氯乙烯的脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。由於光學特性佳，故以使用PVA系膜以碘染色後進行單軸拉伸所得之偏光片為佳。

聚乙烯醇系樹脂係可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂進行皂化而製造。聚乙酸乙烯酯系樹脂，除了乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，亦可為例如乙酸乙烯酯與可和乙酸乙烯酯共聚的其它單體的共聚物。作為可與乙酸乙烯酯共聚的其它單體，可列舉例如：不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯醚類、不飽和磺酸類及具有銨基的丙烯醯胺類等。

聚乙烯醇系樹脂的皂化度通常為85莫耳%以上100莫耳%以下，以98莫耳%以上為佳。聚乙烯醇系樹脂可經改性，亦可使用例如經醛類改性的聚乙烯醇縮甲醛或聚乙烯醇縮乙醛等。聚乙烯醇系樹脂的聚合度，通常為1,000以上10,000以下，以1,500以上5,000以下為佳。

如此的聚乙烯醇系樹脂的製膜者，係使用作為偏光片的胚膜。聚乙烯醇系樹脂的製膜方法並無特別限制，可用習知方法製膜。聚乙烯醇系樹脂胚膜的膜厚例如為10μm以上100μm以下，以10μm以上60μm以下為佳，以15μm以上30μm以下更佳。

作為其它偏光片39的製造方法，可列舉如包含以下步驟者：首先準備基材膜，在基材膜上塗佈聚乙烯醇系樹脂等的樹脂溶液，進行除去溶劑的乾燥等，於基材膜上形成樹脂層的步驟。再者，在基材膜之形成樹脂層的面，可預先形成底塗層。基材膜可使用PET等樹脂膜。作為底塗層的材料，可列舉如：偏光片所使用的親水性樹脂經交聯的樹脂等。

然後，依需要，調整樹脂層的水分等的溶劑量後，將基材膜及樹脂層進行單軸拉伸，接著樹脂層以碘等二色性色素染色，使二色性色素吸附配向於樹脂層。接著，依需要，以硼酸水溶液對吸附配向有二色性色素的樹脂層進行處理，進行洗掉硼酸水溶液的清洗步驟。藉此，製造二色性色素吸附配向的樹脂層，亦即偏光片的膜。各步驟係可採用習知方法。

基材膜及樹脂層的單軸拉伸，可在染色前進行、可在染色中進行，可在染色後的硼酸處理中進行，亦可在該等的複數階段中分別進行單軸拉伸。基材膜及樹脂層，可在MD方向(膜的傳送方向)進行單軸拉伸，於該情況，可在轉速不同的滾輪間進行單軸拉伸，亦可使用熱滾輪進行單軸拉伸。而且，基材膜及樹脂層，可在TD方向(垂直膜的傳送方向)進行單軸拉伸，於該情況，可使用拉幅法。而且，基材膜及樹脂層的拉伸，可為在大氣中進行拉伸的乾式拉伸，亦可為以溶劑使樹脂層在膨潤的狀態下進行拉伸的濕式拉伸。為了呈現偏光片的性能，拉伸倍率為4倍以上，以5倍以上為佳，以5.5倍以上為特佳。拉伸倍率的上限並無特別限制，從抑制破裂等的觀點而言，以8倍以下為佳。

上述方法製作的偏光片39，可在積層後述保護層之後，藉由剝離基材膜而得。根據該方法，可使偏光片更薄膜化。

作為使二色性色素配向於聚合性液晶化合物而使聚合性液晶化合物聚合的硬化膜的偏光片39的製造方法，係可列舉如：在基材膜上，塗佈包含聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片形成用組成物，聚合性液晶化合物保持液晶狀態下聚合而使其硬化，形成偏光片的方法。如此所得之偏光片，係積層於基材膜的狀態，可使用作為附基材膜的偏光片。或者，附基材膜的偏光片，隔著黏著層積層於相位差積層體後，或積層於附剝離層的黏著層後，剝離基材膜使用。

作為二色性色素，可使用具有分子的長軸方向的吸光度與短軸方向的吸光度不同的性質的色素，例如以300nm以上700nm以下的範圍具有最大吸收波長(λmax)的色素為佳。作為如此的二色性色素，可列舉例如：吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、蒽醌色素等，其中以偶氮色素為佳。作為偶氮色素，可列舉如：單偶氮色素、雙偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素、二苯乙烯偶氮色素等，以雙偶氮色素、三偶氮色素為佳。

偏光片形成用組成物可包含溶劑、光聚合引發劑等的聚合引發劑、光增感劑、聚合抑制劑等。偏光片形成用組成物所包含的聚合性液晶化合物、二色性色素、溶劑、聚合引發劑、光增感劑、聚合抑制劑等係可使用習知者，可使用例如日本特開2017-102479號公報、日本特開2017-83843號公報之例示者。而且，聚合性液晶化合物係可使用為了得到上述光學各向異性層所使用的聚合性液晶化合物例示的化合物之相同者。使用偏光片形成用組成物形成偏光片的方法，可採用上述公報例示的方法。

偏光片39的厚度可為例如2μm以上，以3μm以上為佳。另一方面，偏光片39的厚度可為例如25μm以下，以15μm以下為佳。再者，上述的上限值及下限值係可任意組合。偏光片39的厚度越薄，剛性變小，上述光學各向異性層的收縮應力有容易受影響的傾向。

於偏光片39的單面或兩面可隔著習知黏著層或接著層而積層保護層。作為可積層於偏光片39的單面或兩面的保護層，可使用例如由透明性、機械強度、熱安定性、水分阻斷性、等向性、拉伸性等優異的熱塑性樹脂所形成的膜。作為如此的熱塑性樹脂的具體例，可列舉例如：三乙醯基纖維素等纖維素酯系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚醚碸樹脂；聚碸樹脂；聚碳酸酯樹脂；尼龍、芳香族聚醯胺等聚醯胺樹脂；聚醯亞胺樹脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯/丙烯共聚物等聚烯烴樹脂；環系及具有降莰烯構造的環狀聚烯烴樹脂(亦稱為降莰烯系樹脂)；(甲基)丙烯酸樹脂；聚芳酯樹脂；聚苯乙烯樹脂；聚乙烯醇樹脂以及該等的混合物。於偏光片39的兩面積層保護層的情況，2個保護層的樹脂組成可為相同亦可為不同。於本說明書，所謂「(甲基)丙烯酸」，係指丙烯酸或甲基丙烯酸的任一者。(甲基)丙烯酸酯等的「(甲基)」也具有相同的意義。

由熱塑性樹脂形成的膜，為了提高與PVA系樹脂及二色性物質所構成的偏光片的密著性，可實施表面處理(例如電暈處理等)，亦可形成底漆層(亦稱為底塗層)等薄層。

保護層可為例如前述熱塑性樹脂經拉伸者，亦可為無拉伸者(以下稱為「未拉伸樹脂」)。作為拉伸處理，可列舉如：單軸拉伸、雙軸拉伸等。

保護層的厚度可為例如3μm以上，以5μm以上為佳。另一方面，保護層的厚度可為例如50μm以下，以30μm以下為佳。再者，上述的上限值及下限值係可任意組合。

保護層的與偏光片相反側的表面可具有表面處理層，例如可具有硬塗層、抗反射層、抗黏層、防眩層、擴散層等。表面處理層，可為積層於保護層上的其它層，亦可為在保護層表面實施表面處理所形成者。

硬塗層係以防止偏光板表面的刮痕等的目的而成者，可藉由例如丙烯酸系、聚矽氧系等紫外線硬化型樹脂之硬度、滑動特性等優異的硬化膜附加於保護層的表面的方式等形成。抗反射層係以在偏光板表面防止外光的反射為目的而成者，可依據傳統的技術藉由形成抗反射膜等而達成。而且，抗黏層係以防止與鄰接層之密著為目的而成者。

防眩層係在偏光板的表面反射外光，以防止偏光板的穿透光的觀識受到阻礙等為目的而形成者，例如可藉由噴砂方式、壓花加工方式的糙面化方式、調配透明微粒子的方式，在保護層的表面賦予細微凹凸構造而形成。作為為了在保護層表面賦予細微凹凸構造所使用的透明微粒子，例如平均粒徑為0.5μm以上50μm以下的氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等可具有導電性的無機系微粒子、交聯或未交聯的聚合物等有機系微粒子等微粒子。相對於成為形成細微凹凸構造的層的樹脂100質量份，透明微粒子的含量一般為2質量份以上50 質量份以下，以5質量份以上25質量份以下為佳。防眩層可為兼具擴散偏光板的穿透光而擴大視角等的擴散層(視角擴大功能等)者。

於表面處理層為積層於偏光板的保護層上的其它層的情況，表面處理層的厚度可為例如0.5μm以上，以1μm以上為佳。另一方面，表面處理層的厚度可為例如10μm以下，以8μm以下為佳。厚度為上述範圍內時，容易有效地防止偏光板表面的刮痕，抑制硬化收縮，有容易抑制偏光板的反向翹曲的傾向。

黏著層38可由黏著劑所構成。作為黏著劑，可使用傳統習知的光學透明性佳的黏著劑而無特別限制，可使用例如具有丙烯酸系、胺酯系、聚矽氧系、聚乙烯醚系等基質聚合物的黏著劑。而且，可為活性能量線硬化型黏著劑、熱硬化型黏著劑等。該等之中，適合為透明性、黏著力、再剝離性、耐候性、耐熱性等優異的丙烯酸系樹脂為基質聚合物的黏著劑。黏著層係以包含(甲基)丙烯酸系樹脂、交聯劑、矽烷化合物的黏著劑組成物的反應生成物所構成者為佳。

於黏著劑組成物調配多官能性丙烯酸酯等紫外線硬化性化合物而形成活性能量線硬化型黏著劑，在形成活性能量線硬化型黏著劑的黏著層後，照射紫外線使其硬化成為更硬的黏著層亦為有用者。活性能量線硬化型黏著劑係具有受到紫外線、電子束等能量線的照射而硬化的性質。活性能量線硬化型黏著劑即使在照射能量線前亦具有黏著性，故能與光學膜、液晶層等被黏著體密著，具有藉由能量線的照射硬化而可調整密著力的性質。

活性能量線硬化型黏著劑一般包含丙烯酸系黏著劑及能量線聚合性化合物為主成分。通常更調配交聯劑，而且依需要，可調配光聚合引發劑、光增感劑等。

黏著層38的厚度可為例如3μm以上40μm以下，以3μm以上30μm以下為佳。

[可撓性影像顯示裝置]

可撓性影像顯示裝置係由可撓性影像顯示裝置用積層體及有機EL顯示面板所構成，對有機EL顯示面板於觀識側配置可撓性影像顯示裝置用積層體，而構成為可彎曲者。所謂可彎曲係指可彎曲但不產生龜裂及斷裂。作為可撓性影像顯示裝置用積層體者，可為具備前面板或觸碰感測器的至少一者的偏光板。於偏光板具有前面板及觸碰感測器兩者的情況，此等的積層順序可為任意者，惟以從觀識側依序積層前面板、偏光板、觸碰感測器，或從觀識側依序積層前面板、觸碰感測器、偏光板者為佳。偏光板存在於觸碰感測器的觀識側時，由於觸碰感測器的圖案變得不易觀識而使顯示影像的觀識性變好，因而為佳。各構件係可使用接著劑、黏著劑等積層。而且，可具備形成於前面板、偏光板、觸碰感測器的任一層的至少一面的遮光圖案。形成可撓性影像顯示裝置用積層體的各層(前面板、偏光板、觸碰感測器)，以及構成各層的膜構件(直線偏光板、1/4波長相位差板等)可藉由接著劑形成。偏光板係包含本發明的光學膜或相位差積層體的偏光板，以圓偏光板為佳。而且，偏光板可為具有切斷面的偏光板、變形偏光板。

(前面板)

前面板係以可透過光的板狀體為佳。面板可只由1層所構成，亦可由2層以上所構成。面板不僅具有保護影像顯示裝置的前表面(畫面)的功能(窗膜)，亦可具有作為觸碰感測器的功能、阻斷藍光的功能、調整視角的功能等。面板係以窗膜為佳。

(窗膜)

窗膜係配置於例如後述可撓性影像顯示裝置的觀識側，擔負保護其它構成要件不受來自外部的衝擊或溫濕度等的環境變化的任務。傳統上作為如此的保護層係使用玻璃，而後述可撓性影像顯示裝置的窗膜不像玻璃般地堅硬，但具有可撓性。窗膜係由可撓性的透明基材所構成，在至少一面包含硬塗層。

(透明基材)

透明基材之可見光的透過率為70%以上，以80%以上為佳。透明基材可使用任何透明的高分子膜。具體而言，可為經：包含聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、降莰烯或環烯烴的單體單元的環烯烴系衍生物等聚烯烴類；二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素、丙醯基纖維素等(改性)纖維素類；甲基丙烯酸甲酯(共)聚物等丙烯酸類；苯乙烯(共)聚物等聚苯乙烯類；丙烯腈/丁二烯/苯乙烯共聚物類；丙烯腈/苯乙烯共聚物類；乙烯-乙酸乙烯酯共聚物類；聚氯乙烯類；聚偏二氯乙烯類；聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚芳酯等聚酯類；尼龍等聚醯胺類；聚醯亞胺類；聚醯胺醯亞胺類；聚醚醯亞胺類；聚醚碸類；聚碸類；聚乙烯醇類；聚乙烯縮醛類；聚胺酯類；環氧樹脂類等高分子所形成的膜，可使用未拉伸的單軸或雙軸拉伸的膜。該等高分子可分別單獨或混合2種 以上使用。較佳者係上述透明基材中，透明性及耐熱性優異的聚醯胺膜、聚醯胺醯亞胺膜或聚醯亞胺膜、聚酯系膜、烯烴系膜、丙烯酸膜、纖維素系膜。高分子膜中，以使氧化矽等無機粒子、有機微粒子、橡膠粒子等分散者為佳。再者，亦可含有如顏料、染料的著色劑、螢光增白劑、分散劑、塑化劑、熱安定劑、光安定劑、紅外線吸收劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等調配劑。透明基材的厚度為5μm以上200μm以下，以20μm以上100μm以下為佳。

(硬塗層)

窗膜中，可在透明基材的至少一面設置硬塗層。硬塗層的厚度並無特別限制，可為例如2μm以上100μm以下。於硬塗層的厚度未達2μm的情況，不易確保充分的耐擦傷性，超過100μm時，耐彎曲性低，有產生硬化收縮造成的翹曲的問題。

硬塗層係以可藉由包含照射活性能量線或熱能而形成交聯構造的反應性材料的硬塗組成物的硬化而形成的活性能量線硬化者為佳。所謂活性能量線定義為產生活性物種的化合物分解而可產生活性物種的能量線。作為活性能量線，可列舉如：可見光、紫外線、紅外線、X射線、α線、β線及γ線及電子束等。以紫外線為特佳。硬塗組成物係含有自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物的至少1種聚合物。

所謂自由基聚合性化合物，係指具有自由基聚合性基的化合物。作為自由基聚合性化合物所具有的自由基聚合性基，只要是可產生自由基聚合反應的官能基即可，可列舉如：包含碳-碳不飽和雙鍵的基等。具體上可列舉如：乙烯基、(甲基)丙烯醯基等。再者，於自由基聚合性化合物 具有2個以上的自由基聚合性基的情況，該等自由基聚合性基可各為相同，亦可不同。於自由基聚合性化合物1分子中所具有的自由基聚合性基的數目，從提高硬塗層的硬度的觀點而言，以2個以上為佳。作為自由基聚合性化合物，從反應性高的觀點而言，其中以具有(甲基)丙烯醯基的化合物為佳，可使用1分子中具有2至6個(甲基)丙烯醯基的稱為多官能丙烯酸酯單體的化合物、或稱為環氧基(甲基)丙烯酸酯、胺酯(甲基)丙烯酸酯、聚酯(甲基)丙烯酸酯的分子內具有數個(甲基)丙烯醯基的分子量為數百至數千的寡聚物。以包含選自環氧基(甲基)丙烯酸酯、胺酯(甲基)丙烯酸酯及聚酯(甲基)丙烯酸酯中的1種以上為佳。

所謂陽離子聚合性化合物，係指具有環氧基、氧環丁烷基、乙烯醚基等陽離子聚合性基的化合物。陽離子聚合性化合物之1分子中具有的陽離子聚合性基的數目，從提高硬塗層的硬度的觀點而言，以2個以上為佳，以3個以上更佳。而且，作為陽離子聚合性化合物，其中以具有環氧基及氧環丁烷基的至少1種作為陽離子聚合性基的化合物為佳。環氧基、氧環丁烷基等環狀醚基，從伴隨聚合反應的收縮小的觀點為佳。而且，環狀醚基中，具有環氧基的化合物，容易以多種構造的化合物取得，不會對所得的硬塗層的耐久性有不良影響，具有與自由基聚合性化合物的相溶性也容易控制的優點。而且，環狀醚基中，相較於環氧基，氧環丁烷基之聚合度變高，毒性低，加速從所得之硬塗層的陽離子聚合性化合物所得的網絡形成速度，即使在與自由基聚合性化合物混合的區域，在膜中不會殘留未反應的單體，有形成獨立的網絡等的優點。

作為具有環氧基的陽離子聚合性化合物，可列舉例如：具有脂環族環的多元醇的聚環氧丙基醚或含有環己烯環、環戊烯環的化合物，以過氧化氫、過酸等適當的氧化劑藉由環氧化所得之脂環族環氧樹脂；脂肪族多元醇或其環氧烷加成物的聚環氧丙基醚、脂肪族長鏈多元酸的聚環氧丙基酯、(甲基)丙烯酸環氧丙基酯的均聚物、共聚物等脂肪族環氧樹脂；雙酚A、雙酚F、氫化雙酚A等雙酚類或該等的環氧烷加成物、己內酯加成物等衍生物與環氧氯丙烷的反應所製造的環氧丙基醚以及酚醛清漆環氧樹脂等由雙酚類衍生的環氧丙基醚型環氧樹脂等。

硬塗組成物可更包含聚合引發劑。作為聚合引發劑，係有自由基聚合引發劑、陽離子聚合引發劑、自由基及陽離子聚合引發劑等，可適當地選擇使用。該等聚合引發劑，係藉由活性能量線照射及加熱的至少1種，使其分解，產生自由基或陽離子，進行自由基聚合及陽離子聚合者。

自由基聚合引發劑，只要是藉由活性能量線照射及加熱的至少任一者而放出引發自由基聚合的物質即可。例如，作為熱自由基聚合引發劑，可列舉如：過氧化氫、過苯甲酸等的有機過氧化物、偶氮雙異丁腈等偶氮化合物等。

作為活性能量線自由基聚合引發劑，係有藉由分子的分解而生成自由基的Type 1型自由基聚合引發劑及與3級胺共存藉由氫提取型反應生成自由基的Type 2型自由基聚合引發劑，可分別單獨使用或可併用。

陽離子聚合引發劑，只要是藉由活性能量線照射及加熱的至少任一者而放出引發陽離子聚合的物質即可。作為陽離子聚合引發劑，可 使用芳香族錪鹽、芳香族鋶鹽、環戊二烯基鐵(II)錯合物等。該等可依構造而異，通過活性能量線照射或加熱的任一者或任一種均可引發陽離子聚合。

相對於硬塗組成物全部100重量%，可包含0.1至10重量%之聚合引發劑。聚合引發劑的含量未達0.1重量%的情況，無法充分進行硬化，最終所得之塗膜的機械物性、密著力不易實現，超過10重量%的情況，會有產生硬化收縮造成的接著力不佳、破裂現象及翹曲現象。

硬塗組成物可再包含選自由溶劑、添加劑所成群組中的1者以上。溶劑係可溶解或分散聚合性化合物及聚合引發劑，故可使用已知作為本技術領域的硬塗組成物的溶劑而無特別限制。添加劑係可再包含無機粒子、調平劑、安定劑、界面活性劑、抗靜電劑、潤滑劑、防污劑等。

(圓偏光板)

圓偏光板係藉由在直線偏光板積層1/4波長相位差層(以下亦稱為λ/4相位差層)，具有只讓右或左圓偏光成分透過的功能之功能層。例如，外部光轉換為右圓偏光，由有機EL面板反射，遮斷成為左圓偏光的外部光，藉由只透過有機EL的發光成分，抑制反射光的影響，容易看到影像而使用。為了達成圓偏光功能，直線偏光片或直線偏光板的吸收軸與λ/4相位差層的慢軸，理論上要成為45°，實際上為45±10°。直線偏光片或直線偏光板與λ/4相位差層，不一定要彼此相鄰地積層，只要是吸收軸與慢軸的關係滿足前述範圍即可。宜在全部波長達成完全的圓偏光者，在實際上不一定需要如此，本發明的圓偏光板亦包含橢圓偏光板。在直線偏光片或直線偏光板的觀識側，可再積層λ/4相位差膜，藉由射出光為圓偏光，改善戴偏光太陽眼鏡的狀態下的觀識性者亦佳。

直線偏光板係具有通過在透過軸方向振動的光而阻斷與其垂直的振動成分的偏光的功能之功能層。直線偏光板可為具備單獨之直線偏光片，或直線偏光片及貼附於其至少一面的保護膜的構成。直線偏光板的厚度可為200μm以下，以0.5μm以上100μm以下為佳。厚度超過200μm時，柔軟性低。

直線偏光片可為將聚乙烯醇(PVA)系膜進行染色、拉伸而製造的薄膜型偏光片。在藉由拉伸而配向的PVA系膜，使碘等二色性色素吸附或在吸附於PVA的狀態下拉伸而使二色性色素配向，發揮偏光功能。於薄膜型偏光片的製造，可具有其它膨潤、藉由硼酸之交聯、藉由水溶液之清洗、乾燥等步驟。拉伸、染色步驟可用PVA系膜單獨進行，亦可在與聚對苯二甲酸乙二酯的其它膜積層的狀態下進行。作為所使用的PVA系膜，以10μm以上100μm以下，拉伸倍率為2至10倍為佳。

再者，作為直線偏光片的其它之一例，可為塗佈液晶偏光組成物而形成的液晶塗佈型偏光片。液晶偏光組成物可包含液晶性化合物及二色性色素化合物。作為液晶性化合物，只要是具有顯示液晶狀態的性質即可，特別是具有層列相等的高階配向狀態，因可發揮高偏光性能，因而為佳。而且，具有聚合性官能基者亦佳。二色性色素化合物係與液晶性化合物一起配向並顯示二色性的色素，二色性色素本身可具有液晶性，亦可具有聚合性官能基。液晶偏光組成物中的任一化合物具有聚合性官能基。液晶偏光組成物可再包含引發劑、溶劑、分散劑、調平劑、安定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。液晶偏光層係可藉由在配向膜上塗佈液晶偏光組成物以形成液晶偏光層而製造。液晶偏光層係可形成厚度比薄膜 型偏光片者薄。液晶偏光層的厚度為0.5μm以上10μm以下，以1μm以上5μm以下為佳。

配向膜係例如在基材上塗佈配向膜形成組成物，藉由擦刷、偏光照射等，賦予配向性而製造。配向膜形成組成物除了配向劑以外，可再包含溶劑、交聯劑、引發劑、分散劑、調平劑、矽烷偶合劑等。配向劑可使用例如聚乙烯醇類、聚丙烯酸酯類、聚醯胺酸類、聚醯亞胺類。於應用光配向的情況，以使用包含肉桂酸酯基的配向劑為佳。使用作為配向劑的高分子，其重量平均分子量可為10,000至1000,000左右。配向膜以5nm以上10000nm以下為佳，特別是10nm以上500nm以下時，因可呈現充分的配向控制力而佳。液晶偏光層亦可從基材剝離、轉印而積層，或者直接積層基材。基材亦以具有作為保護膜、相位差板、窗膜的透明基材的作用為佳。

作為保護膜者，只要是透明的高分子膜即可，可使用透明基材所使用的材料、添加劑。較佳為纖維素系膜、烯烴系膜、丙烯酸膜、聚酯系膜。亦可為塗佈環氧樹脂等陽離子硬化組成物或丙烯酸酯等自由基硬化組成物使其硬化所得之塗佈型的保護膜。依需要，可包含塑化劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、如顏料或染料的著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱安定劑、光安定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。保護膜的厚度，可為200μm以下，以1μm以上100μm以下為佳。厚度超過200μm時，柔軟性低。亦可兼具窗膜的透明基材的作用。

λ/4相位差層可為本發明的光學膜，亦可為在與入射光的前進方向正交的方向(膜的面內方向)賦予λ/4的相位差的膜。賦予λ/4的相位 差的膜，可為纖維素系膜、烯烴系膜、聚碳酸酯系膜等高分子膜藉由拉伸而製造的拉伸型相位差板。依需要，可包含相位差調整劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、如顏料或染料的著色劑、螢光增白劑、分散劑、熱安定劑、光安定劑、抗靜電劑、抗氧化劑、潤滑劑、溶劑等。拉伸型相位差板的厚度可為200μm以下，以1μm以上100μm以下為佳。厚度超過200μm時，柔軟性低。λ/4相位差層，從加工性、彎曲性的觀點而言，以本發明的光學膜為佳。

再者，作為λ/4相位差層的其它之一例，可為塗佈液晶組成物而形成的液晶塗佈型相位差板。液晶組成物係包含具有顯示向列型、膽固醇型、層列型等液晶狀態的性質的液晶性化合物。液晶組成物中包含液晶性化合物的任何化合物係具有聚合性官能基。液晶塗佈型相位差板，可再包含引發劑、溶劑、分散劑、調平劑、安定劑、界面活性劑、交聯劑、矽烷偶合劑等。液晶塗佈型相位差板，與液晶偏光層的記載相同地，可藉由在配向膜上塗佈液晶組成物使其硬化，形成液晶相位差層而製造。液晶塗佈型相位差板，可形成厚度比拉伸型相位差板者薄。液晶偏光層的厚度為0.5μm以上10μm以下，以1μm以上5μm以下為佳。液晶塗佈型相位差板可從基材剝離、轉印而積層，或者直接積層基材。基材亦以具有保護膜、相位差板、窗膜的透明基材的作用為佳。

一般材料大多顯示越短波長，雙折射越大，越長波長，雙折射越小。於該情況，在全部可見光區域，因無法達成λ/4的相位差，於大多設計成對於視感度高的560nm附近成為λ/4的面內相位差為100nm以上180nm以下，以130nm以上150nm以下為佳。具有與一般相反的雙折 射率波長分散特性的材料之反分散λ/4相位差層的使用，因觀識性良好而佳。作為如此的材料，拉伸型相位差板的情況以使用日本特開2007-232873號公報等記載者為佳，於液晶塗佈型相位差板的情況以使用日本特開2010-30979號公報等記載者為佳。

而且，作為其它方法，已知有與1/2波長相位差層(以下亦稱為λ/2相位差層)組合而得到寬帶λ/4相位差層的技術(日本特開平10-90521號公報)。λ/2相位差層可為本發明的光學膜，亦可為以與λ/4相位差層相同的材料及方法所製造者。拉伸型相位差板與液晶塗佈型相位差板的組合可為任意，由於使用液晶塗佈型相位差板者均可減少膜厚，因而為佳。λ/2相位差層從加工性、彎曲性的觀點而言，以本發明的光學膜為佳。

為了提高圓偏光板在斜方向的觀識性，已知有積層正C板的方法(日本特開2014-224837號公報)。正C板可為本發明的光學膜，亦可為液晶塗佈型相位差板或拉伸型相位差板。厚度方向的相位差可為例如-200nm以上-20nm以下，以-140nm以上-40nm以下為佳。正C板從偏光板之加工性、彎曲性的觀點而言，以本發明的光學膜為佳。正C板亦可與λ/4相位差層組合作為相位差積層體使用。

(觸碰感測器)

觸碰感測器係作為輸入手段使用。作為觸碰感測器已提出電阻膜方式、表面聲波方式、紅外線方式、電磁感應方式、電容方式等各種方式，可以使用任何方式。其中，以電容方式為佳。電容方式觸碰感測器分為活性區域及位於活性區域外圍部的非活性區域。活性區域係在顯示面板中與會顯示畫面的區域(顯示部)對應的區域，且為感測使用者的觸摸的區域，非活性 區域係在影像顯示裝置中與不顯示畫面的區域(非顯示部)對應的區域。觸碰感測器係可包含：具有可撓特性的基板；形成於基板的活性區域的感測圖案；形成於基板的非活性區域並隔著感測圖案及焊墊部連接外部驅動電路的各感測線。作為具有可撓特性的基板，可使用與上述窗膜的透明基板相同的材料。觸碰感測器的基板之韌性為2,000MPa%以上者，從抑制觸碰感測器的龜裂的點為佳。更佳者係韌性可為2,000MPa%以上30,000MPa%以下。

感測圖案係可具備形成於第1方向的第1圖案及形成於第2方向的第2圖案。第1圖案與第2圖案係配置於互相不同的方向。第1圖案與第2圖案可形成於相同層，為了感測被觸摸的點，各圖案必須電連接。第1圖案是各單位圖案隔著接頭彼此連接的形式，第2圖案是各單元圖案以島形態互相分離的結構，為了電連接第2圖案而需要其它的橋電極。感測圖案可應用已知的透明電極材料。例如氧化銦錫(ITO)、氧化銦鋅(IZO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銦鋅錫(IZTO)、氧化鎘錫(CTO)、PEDOT(聚(3,4-伸乙基二氧噻吩))、碳奈米管(CNT)、石墨烯、金屬線等，該等可單獨使用或混合2種以上使用。較佳者係可使用ITO。金屬線中使用的金屬並無特別限制，可列舉例如：銀、金、鋁、銅、鐵、鎳、鈦、碲、鉻等。該等可單獨使用或混合2種以上使用。

橋電極係可在感測圖案上部隔著絕緣層而形成於絕緣層上部，在基板上形成橋電極，於其上可形成絕緣層及感測圖案。橋電極係可用與感測圖案相同的材料形成，可用鉬、銀、鋁、銅、鈀、金、鉑、鋅、錫、鈦或該等之中的2種以上的合金等金屬形成。因第1圖案與第2圖案 必須電性絕緣，故在感測圖案與橋電極之間形成絕緣層。絕緣層可只形成於第1圖案的接頭與橋電極之間，亦可形成於覆蓋感測圖案之層的構造。於後者的情況，橋電極可通過形成於絕緣層的接觸孔而連接第2圖案。觸碰感測器在基板與電極之間可更包含光學調節層，由於形成圖案的圖案區域與未形成圖案的非圖案區域間的透過率的差異，更具體而言由於該等區域的折射率差所引發的光透過率差，故光學調節層可包含無機絕緣物質或有機絕緣物質做為適當的補償手段。光學調節層係可將包含光硬化性有機黏結劑及溶劑的光硬化組成物塗佈於基板上而形成。光硬化組成物可更包含無機粒子。藉由無機粒子，可增加光學調節層的折射率。

光硬化性有機黏結劑係可包含例如丙烯酸酯系單體、苯乙烯系單體、羧酸系單體等各單體的共聚物。光硬化性有機黏結劑可為例如含有環氧基的重複單元、丙烯酸酯重複單元、羧酸重複單元等互相不同的各重複單元的共聚物。無機粒子可包含例如氧化鋯粒子、氧化鈦粒子、氧化鋁粒子等。光硬化組成物可再包含光聚合引發劑、聚合性單體、硬化助劑等各種添加劑。

(接著層)

各層(窗膜、圓偏光板、觸碰感測器)以及構成各層的膜構件(直線偏光板、λ/4相位差板等)係可藉由接著劑形成。作為接著劑係可使用水系接著劑、有機溶劑系、無溶劑系接著劑、固體接著劑、溶劑揮發型接著劑、濕氣硬化型接著劑、加熱硬化型接著劑、厭氧硬化型、活性能量線硬化型接著劑、硬化劑混合型接著劑、熱熔融型接著劑、感壓型接著劑(黏著劑)、再濕型接著劑等廣泛使用者。其中，大多使用水系溶劑揮發型接著劑、活性 能量線硬化型接著劑、黏著劑。接著劑層的厚度係可依據所要求的接著力等而適當地調整，可為0.01μm以上500μm以下，以0.1μm以上300μm以下為佳，存在複數的接著層的情況，各個厚度種類可為相同，亦可為不同。

作為水系溶劑揮發型接著劑，可使用聚乙烯醇系聚合物、澱粉等水溶性聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯系乳液、苯乙烯-丁二烯系乳液等水分散狀態的聚合物作為主要聚合物。除了水、主要聚合物以外，可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、染料、顏料、無機填充劑、有機溶劑等。於藉由水系溶劑揮發型接著劑接著的情況，將水系溶劑揮發型接著劑注入被接著層之間，貼合被接著層後使其乾燥而可賦予接著性。於使用水系溶劑揮發型接著劑的情況的接著層的厚度為0.01μm以上10μm以下，較佳者可為0.1μm以上1μm以下。於使用複數層的水系溶劑揮發型接著劑的情況，各層的厚度種類可為相同，亦可為不同。

活性能量線硬化型接著劑係可藉由包含照射活性能量線而形成接著劑層的反應性材料的活性能量線硬化組成物的硬化而形成。活性能量線硬化組成物係可含有與硬塗組成物相同的自由基聚合性化合物及陽離子聚合性化合物的至少1種聚合物。所謂自由基聚合性化合物，係指與硬塗組成物相同，可使用與硬塗組成物相同的種類者。作為接著劑所使用的自由基聚合性化合物，以具有丙烯醯基的化合物為佳。為了降低作為接著劑組成物的黏度而以包含單官能基的化合物為佳。

陽離子聚合性化合物與硬塗組成物相同，可使用與硬塗組成物相同種類者。作為活性能量線硬化型接著劑所使用的陽離子聚合性化合 物，以環氧化合物為特佳。為了降低接著劑組成物的黏度，以包含單官能基的化合物作為反應性稀釋劑者為佳。

活性能量線硬化組成物可再包含聚合引發劑。作為聚合引發劑係有自由基聚合引發劑、陽離子聚合引發劑、自由基及陽離子聚合引發劑等，可適當地選擇使用。該等聚合引發劑係藉由活性能量線照射及加熱的至少1種使其分解，產生自由基或陽離子而進行自由基聚合及陽離子聚合者。硬塗組成物的記載中，可使用藉由活性能量線照射而引發自由基聚合或陽離子聚合中的至少之一的引發劑。

活性能量線硬化組成物可再包含離子捕獲劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增黏劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動黏度調整劑、塑化劑、消泡劑、添加劑、溶劑。於藉由活性能量線硬化型接著劑接著的情況，在被接著層的任一者或兩者塗佈活性能量線硬化組成物後貼合，通過任一者或兩者的被接著層照射活性能量線使其硬化而可接著。於使用活性能量線硬化型接著劑的情況的接著層的厚度為0.01μm以上20μm以下，較佳者係可為0.1μm以上10μm以下。於使用複數層的活性能量線硬化型接著劑的情況，各層的厚度種類可為相同，亦可為不同。

黏著劑依據主要聚合物，可使用任何分類為丙烯酸系黏著劑、胺酯系黏著劑、橡膠系黏著劑、聚矽氧系黏著劑等。於黏著劑，除了主要聚合物以外，可調配交聯劑、矽烷系化合物、離子性化合物、交聯觸媒、抗氧化劑、增黏劑、塑化劑、染料、顏料、無機填充劑等。將構成黏著劑的各成分溶解/分散於溶劑而得到黏著劑組成物，在基材上塗佈黏著劑組成物後使其乾燥而形成黏著層。黏著層係可直接形成，亦可轉印已形成於 其它基材者。為了覆蓋接著前的黏著面，使用離型膜亦佳。於使用活性能量線硬化型接著劑的情況的接著層的厚度為0.1μm以上500μm以下，較佳者可為1μm以上300μm以下。於使用複數層的黏著劑的情況，各層的厚度種類可為相同，亦可為不同。

(遮光圖案)

遮光圖案係可應用作為可撓性影像顯示裝置的表框或外殼的至少一部分。藉由遮光圖案可隱藏配置於可撓性影像顯示裝置的邊緣部的配線而不被看到，提高影像的觀識性。遮光圖案可為單層或複數層的形態。遮光圖案的顏色並無特別限制，具有黑色、白色、金屬色等各種顏色。遮光圖案係可用為了展現顏色的顏料、丙烯酸系樹脂、酯系樹脂、環氧系樹脂、聚胺酯、聚矽氧等高分子而形成。該等可單獨使用或使用2種上的混合物。遮光圖案係可用印刷、微影法、噴墨等各種方法形成。遮光圖案的厚度可為1μm以上100μm以下，以2μm以上50μm以下為佳。而且，光圖案的厚度方向以賦予傾斜等的形狀為佳。

第4圖係可撓性影像顯示裝置的一個態樣的剖面示意圖。第4圖所示的圓偏光板100依序具備面板101、圓偏光板102、觸碰感測器103、有機EL顯示面板104。

[實施例]

以下，使用實施例，更詳細地說明本發明，但本發明不限於該等的實施例。例中的「%」及「份」，除非另有說明，係指質量%及質量份。各種測定及評定係如以下進行。

[光學各向異性層的缺陷的個數]

〈缺陷的確認〉

將所得之光學膜切成50mm×50mm，使用光學顯微鏡(ECLIPSE ME600、NIKON公司製)，確認畫面上的配向缺陷的實際尺寸及個數。觀察時，在光學顯微鏡的載物台下部，插入直線偏光板。然後，所得之光學膜的慢軸方向與插入載物台下部的直線偏光板的吸收軸方向一致。再者，旋轉光學顯微鏡的偏光片，成為正交尼柯爾狀態，成為亮點的區域為配向缺陷。該區域解除偏光狀態並觀察時，測定確認成為缺陷的區域的尺寸為最大部分的長度，作為配向缺陷的實際尺寸。觀察的結果，缺陷全部為聚合性液晶化合物所引發的結晶。結果呈示於表2。再者，表2所示的缺陷實際尺寸係測定的實際尺寸的平均值。所裁切的光學膜之實際尺寸均超過50μm的缺陷為6個/mm²以下。在任一實施例，配向缺陷的實際尺寸為20μm以下。

〈ECLIPSE的觀察設定〉

燈的照度：全開

載物台下光圈：0.5

曝光時間：200ms

GAIN：2.00

AWB：未設定

[光學各向異性層的缺陷率]

測定上述缺陷的個數後，在個人電腦上擷取光學顯微鏡的正交尼柯爾狀態下的一視野影像(包含缺陷部分)，使最亮部分與最暗部分之間分成256 階度，將擷取的影像使用附在個人電腦的影像處理軟體，以閾值127的條件二值化，求得配向缺陷的面積，算出缺陷率。結果呈示於表2。

[穿刺強度的測定]

穿刺試驗，係使用前端配有球形(前端直徑1mm

、0.5R)針的KATO TECH公司製的便攜式壓縮試驗機「KES-G5針穿透力試驗規範」，溫度23±3℃的環境下，穿刺速度0.0033cm/秒的測定條件下進行。穿刺試驗所測定的穿刺強度，係對3個試驗片進行穿刺試驗而獲得的平均值。結果呈示於表2。

[拉伸應力的測定]

拉伸試驗係使用島津製作所股份有限公司製的精密萬能試驗機「Autograph AG-IS」，溫度23±3℃的環境下，拉伸速度1mm/分的測定條件下進行。評定所使用的光學膜的尺寸為10×10mm。光學膜的慢軸方向或與慢軸方向正交的方向(亦即快軸方向)分別實施拉伸試驗。拉伸試驗所測定的拉伸應力，係對3個試驗片進行拉伸試驗而獲得的平均值。結果呈示於表2。

[液晶組成物溶液]

準備下述式所示的聚合性液晶化合物(A-1)(分子量1156)、聚合性液晶化合物(B-1)(分子量664)及聚合性液晶化合物(C-1)(分子量1083)。

聚合性液晶化合物(A-1)：

聚合性液晶化合物(B-1)：

聚合性液晶化合物(C-1)：

聚合性液晶化合物(A-1)係以日本特開2011-207765號公報記載的方法合成。

聚合性液晶化合物(B-1)係以日本特開2010-24438號公報記載的方法合成。

聚合性液晶化合物(C-1)係以日本特開2010-24438號公報記載的方法合成。

混合所得之聚合性液晶化合物(A-1)83質量份、聚合性液晶化合物(B-1)3質量份、聚合性液晶化合物(C-1)14質量份，得到液晶混合物(1)(總量100質量份)。

參照專利文獻(日本特開2017-179367)，根據表1記載的組成，饋入液晶混合物(1)、聚合引發劑、調平劑、聚合抑制劑及溶劑，調製液晶組成物溶液(1)。再者，表1所示的聚合引發劑、調平劑及聚合抑制劑的量，係相對於液晶混合物(1)100質量份的饋入量。而且，溶劑的調配量係液晶混合物(1)的質量%，相對於液晶組成物溶液全部量而設定為10質量%[液晶組成物溶液(1)1000質量份中，添加溶劑使得包含液晶混合物(1)100質量份]。

[表1]

聚合引發劑：2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)丁烷-1-酮(Irgacure 369；日本BASF公司製)

調平劑：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie日本公司製)

聚合抑制劑：BHT(和光純藥工業股份有限公司製)

溶劑：N-甲基吡咯啶酮(NMP；關東化學股份有限公司製)

[光配向膜形成用組成物]

混合下述成分，藉由將所得之混合物在80℃下攪拌1小時，得到光配向膜形成用組成物(1)。下述式所示的光配向性材料，係以日本特開2013-33248號公報記載的方法合成。

光配向性材料(5份)：

溶劑(95份)：環戊酮

[實施例1]

如以下方式製造光學膜。將環烯烴聚合物膜(COP)(ZF-14、日本ZEON股份有限公司製、厚度23μm、基材每1cm²的熱容量為0.004J/cm²‧℃)，使用電暈處理裝置(AGF-B10、春日電機股份有限公司製)，輸出0.3kW、處理速度3m/分的條件下，處理1次。在實施了電暈處理的表面，以棒塗器塗佈前述光配向膜形成用組成物(1)，80℃下乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；USHIO電機股份有限公司製)，以100mJ/cm²的累積光量實施偏光UV曝光。所得之配向膜的厚度，以雷射顯微鏡(LEXT、奧林巴斯股份有限公司製)測定時為100nm。

接著，室溫25℃、濕度30%RH下，將調製的液晶組成物溶液(1)通過孔徑0.2μm的PTFE製膜過濾器(Advantech Toyo股份有限公司製、商品編號：T300A025A)，使用棒塗器，塗佈所得之液晶組成物溶液(1)於25℃下保溫的附配向膜的基材上，120℃下乾燥1分鐘後，使用高壓汞 燈(Unicure VB-15201BY-A、USHIO電機股份有限公司製)，照射紫外線(氮氣環境下、波長：365nm、波長365nm的累積光量：1000mJ/cm²)，製作光學膜。所得之塗膜的厚度，以雷射顯微鏡(LEXT、奧林巴斯股份有限公司製)測定時為2μm。

[實施例2]

除了將附配向膜的基材在40℃下保溫的同時塗佈以外，與實施例1同樣地進行，製作光學膜。

[實施例3]

除了將附配向膜的基材於塗佈前在80℃下加熱10秒，然後進行塗佈以外，與實施例1同樣地進行，製作光學膜。

[實施例4]

除了聚合性液晶化合物的組成比係使(A-1)為82質量份、(B-1)為4質量份、(C-1)為14質量份以外，與實施例1同樣地進行，製作光學膜。

[實施例5]

除了聚合性液晶化合物的組成比係使(A-1)為77質量份、(B-1)為9質量份、(C-1)為14質量份以外，與實施例1同樣地進行，製作光學膜。

[實施例6]

製作COP的非塗佈面(不塗佈液晶組成物溶液的面)，以黏著劑貼合厚度0.3mm的鈉玻璃，作為基材。該基材係基材每1cm²的熱容量為0.05J/cm²‧℃。除了使用該基材以外，與實施例1同樣地進行，製作光學膜。

[比較例1]

除了設定塗佈時的濕度為65%RH以外，與實施例1同樣地進行，製作光學膜。

[比較例2]

除了聚合性液晶化合物的組成比係使(A-1)為99質量份、(B-1)為1質量份、(C-1)為0質量份以外，與實施例1同樣地進行，製作光學膜。

[比較例3]

除了聚合性液晶化合物的組成比係使(A-1)為92質量份、(B-1)為3質量份、(C-1)為5質量份以外，與實施例1同樣地進行，製作光學膜。

[比較例4]

製作COP的非塗佈面以黏著劑貼合厚度10mm的鈉玻璃，作為基材。該基材係基材每1cm²的熱容量為1.68J/cm²‧℃。除了使用該基材以外，與實施例1同樣地進行，製作光學膜。

[表2]

[相位差積層體]

〈第1相位差層的製造〉

作為第1相位差層係使用實施例1、4、5、比較例2、3製作的光學膜。

〈第2相位差層的製造〉

使用厚度38μm的PET基材作為透明基材，於其單面塗佈垂直配向層用組成物使膜厚成為3μm，照射紫外線製作配向層。再者，作為該垂直配向層用組成物，係使用將丙烯酸2-苯氧基乙酯、丙烯酸四氫呋喃甲酯、二新戊四醇三丙烯酸酯、雙(2-乙烯氧基乙基)醚以1：1：4：5的比例混合，再以4%的比例添加作為聚合引發劑之LUCIRIN TPO而成的混合物。

接著，在形成的配向層上，藉由模頭塗佈機，在配向層上塗佈含有光聚合性向列型液晶(默克公司製、RMM28B)的液晶組成物。此處，液晶組成物中，溶劑係使用甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、沸點155℃的環己酮(CHN)以質量比(MEK：MIBK：CHN)為35：30：35的比例混合的混合溶劑。然後，將固形分成為1至1.5g所調製的液晶組成物塗佈於配向層上，使塗佈量為4至5g(濕)。

然後，配向層上塗佈液晶組成物後，以乾燥溫度75℃、乾燥時間120秒，實施乾燥處理。接著，藉由照射紫外線(UV)使其聚合，得到光聚合性向列型液晶硬化的層、配向層、透明基材所構成的正C層。光聚合性向列型液晶硬化的層、配向層的總厚度為4μm。

〈相位差積層體的製造〉

將第1相位差層與第2相位差層，藉由紫外線硬化型接著劑，使各相位差層面(與透明基材相反側的面)成為貼合面之方式進行貼合。然後，照射紫外線使紫外線硬化型接著劑硬化。如此操作而製作包含第1相位差層及第2相位差層的2層相位差層的相位差積層體(1)。

[偏光片]

將平均聚合度約2400、皂化度99.9莫耳%以上、厚度30μm的聚乙烯醇膜，浸漬於30℃的純水後，又在30℃下浸漬於碘：碘化鉀：水的質量比為0.02：2：100的水溶液中進行碘的染色(以下亦稱為碘染色步驟)。經過碘染色步驟的聚乙烯醇膜，在56.5℃下浸漬於碘化鉀：硼酸：水的質量比為12：5：100的水溶液中進行硼酸處理(以下亦稱為硼酸處理步驟)。經過硼酸處理步驟的聚乙烯醇膜，以8℃的純水清洗後，在65℃下乾燥，得到碘吸附配向於聚乙烯醇的偏光片(拉伸後的厚度12μm)。此時，在碘染色步驟及硼酸處理步驟中進行拉伸。如此的拉伸的全部拉伸倍率為5.3倍。

在所得之偏光片的兩面，隔著水系接著劑，以夾持滾輪分別貼合經皂化處理的三乙醯基纖維素膜(Konica Minolta股份有限公司製KC4UYTAC 40μm)。所得之貼合物的張力保持在430N/m的同時在60℃下乾燥2分鐘，得到兩面具有三乙醯基纖維素膜作為保護膜的偏光片(1)。又，前述水系接著劑係對水100份添加羧基改性聚乙烯醇(KURARAY股份有限公司製KURARAY POVAL KL318)3份及水溶性聚醯胺環氧樹脂(田岡化學工業股份有限公司製SUMIREZ RESIN 650固形分濃度30%之水溶液)1.5份而調製。

對所得之偏光片(1)，使用分光光度計(V7100、日本分光股份有限公司製)測定光學特性。所得之視感度校正的單體透過率為42.1%，視感度校正的偏光度為99.996%，單體色相a*為-1.1，單體色相b*為3.7。

[偏光板]

將作為第1黏著劑層之黏著劑B轉移至偏光片(1)的單面，剝離分隔膜，積層於相位差積層體(1)的第1相位差層側的透明基材被剝離的面。在與相位差積層體(1)的偏光片積層的面相反側的面，積層作為第2黏著劑層之黏著劑F。如此操作，製作依序包含保護膜、偏光片、保護膜、第1黏著劑層、第1相位差層、接著層、第2相位差層及第2黏著劑層的偏光板。

[偏光板的加工性的評定方法]

用超級切割機切割所得之偏光板成100mm×100mm時，切出的端面，以光學顯微鏡觀察，在相位差積層體看到3個以上的裂縫者為×，看到1至2個者為○，沒有看到者為◎。此時產生的相位差積層體的裂縫長度均為300μm至400μm，長度上沒有差異。

[表3]

[附聚醯亞胺膜的偏光板]

剝離所得之偏光板的第2黏著劑層的分隔膜，積層於厚度75μm的聚醯亞胺膜(宇部興產製、Upilex S型號75S)上。如此操作，製作依序包含保護膜、偏光片、保護膜、第1黏著劑層、第1相位差層、接著層、第2相位差層及第2黏著劑層、聚醯亞胺膜的附聚醯亞胺膜的偏光板。

[附聚醯亞胺膜的偏光板的耐彎曲性的評定方法]

所得之附聚醯亞胺膜的偏光板，用超級切割機切割成100mm×10mm時，使聚醯亞胺膜凸出之方式彎曲成0.5R時，在相位差積層體看到5個以上的裂縫者為×，看到1至4個者為○，沒有看到者為◎。實施例1產生的裂縫長度為250μm，比較例3產生的裂縫長度為220μm至250μm，實施例1與比較例3的裂縫長度並無差異。

[表4]

10‧‧‧光學膜

11‧‧‧光學各向異性層

12‧‧‧配向層

13‧‧‧基材層

Claims (12)

1. 一種光學膜，其係具有由具有1個以上的聚合性官能基的聚合性液晶化合物在配向的狀態下聚合而成的聚合物所構成的光學各向異性層；

   前述光學各向異性層的每1mm ²中的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的配向缺陷的個數滿足下述式(1)：

   0≦配向缺陷的個數[個]≦14 (1)。
2. 一種光學膜，其係具有由具有1個以上的聚合性官能基的聚合性液晶化合物在配向的狀態下聚合而成的聚合物所構成的光學各向異性層；

   前述光學各向異性層中的下述式(2)定義的缺陷率滿足下述式(3)；

   

   式中，缺陷總面積係在光學顯微鏡的一個視野中觀察的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的配向缺陷的面積的總和，顯微鏡觀察視野為使光學各向異性層存在於光學顯微鏡的一個視野全部時的光學各向異性層的面積；

   0≦缺陷率[ppm]≦1000 (3)。
3. 一種光學膜，其係具有由具有1個以上的聚合性官能基的聚合性液晶化合物在配向的狀態下聚合而成的聚合物所構成的光學各向異性層；

   前述光學各向異性層的每1mm ²中的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的配向缺陷的個數滿足下述式(1)，且下述式(2)定義的缺陷率滿足下述式(3)；

   0≦配向缺陷的個數[個]≦14 (1)；

   

   式中，缺陷總面積係在光學顯微鏡的一個視野中觀察的實際尺寸為0.3μm以上50μm以下的配向缺陷的面積的總和，顯微鏡觀察視野為使光學各向異性層存在於光學顯微鏡的一個視野全部時的光學各向異性層的面積；

   0≦缺陷率[ppm]≦1000 (3)。
4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之光學膜，其中前述聚合性官能基為丙烯醯氧基。
5. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之光學膜，其中前述配向缺陷係包含由聚合性液晶化合物的微結晶所引起的缺陷。
6. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述之光學膜，其中光學各向異性層的厚度為0.05μm以上10μm以下。
7. 一種相位差積層體，其包含1個以上的如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述之光學膜。
8. 一種偏光板，其包含如申請專利範圍第7項所述之相位差積層體。
9. 如申請專利範圍第8項所述之偏光板，其具有切斷面。
10. 如申請專利範圍第8項所述之偏光板，其係變形偏光板。
11. 如申請專利範圍第8項所述之偏光板，其具備面板或觸碰感測器的至少一者。
12. 一種可撓性影像顯示裝置，其具備如申請專利範圍第8項至第11項中任一項所述之偏光板。

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