JP2018049279A5 - - Google Patents
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Claims (28)
- 物体を、光学系を介してエネルギビームで露光する露光装置であって、
ベースと、
前記物体上に形成されたマークを検出するマーク検出系と、
前記光学系を介した前記物体の露光が行われる露光部と前記マーク検出系を用いて前記マークの検出が行われる計測部との間で、前記物体を保持して移動可能な移動体と、
前記光学系を支持する第1フレーム部材と、
前記マーク検出系を支持する第2フレーム部材と、
前記第1フレーム部材と前記第2フレーム部材との位置関係を調整可能な調整装置と、
を備える露光装置。 - 前記調整装置は、前記ベースと前記第1フレーム部材との相対位置を計測する第1センサを有する請求項1に記載の露光装置。
- 前記調整装置は、前記第1フレーム部材を駆動する第1駆動系を有する請求項1又は2に記載の露光装置。
- 前記調整装置は、前記ベースと前記第1フレーム部材との相対位置を計測する第1センサを有し、
前記調整装置は、前記第1センサの計測結果を用いて前記第1駆動系により前記第1フレーム部材を駆動する請求項3に記載の露光装置。 - 前記調整装置は、前記ベースと前記第2フレーム部材との相対位置を計測する第2センサを有する請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記調整装置は、前記第2フレーム部材を駆動する第2駆動系を有する請求項1〜5のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記調整装置は、前記ベースと前記第2フレーム部材との相対位置を計測する第2センサを有し、
前記調整装置は、前記第2センサの計測結果を用いて前記第2駆動系により前記第2フレーム部材を駆動する請求項6に記載の露光装置。 - 前記調整装置は、前記ベースと前記第1フレーム部材との位置関係を制御する制御系を含む請求項1〜7のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記ベースと前記第1フレーム部材との位置関係の制御はフィードバック制御を含む請求項8に記載の露光装置。
- 前記調整装置は、前記ベースと前記第2フレーム部材との位置関係を制御する制御系を含む請求項1〜9のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記ベースと前記第2フレーム部材との位置関係の制御はフィードバック制御を含む請求項10に記載の露光装置。
- 前記制御系による前記ベースと前記第1フレーム部材との位置関係の制御と前記ベースと前記第2フレーム部材との位置関係の制御と、により、前記第1フレーム部材と前記第2フレーム部材との位置関係を調整する請求項8〜11のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記調整装置は、前記ベースと前記第1フレーム部材との位置関係を制御する第1の制御系と前記ベースと前記第2フレーム部材との位置関係を制御する第2の制御系とを含む
請求項1〜12のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記第1フレーム部材に少なくとも一部が設けられ、前記移動体の位置情報を計測する第1計測系を備える請求項1〜13のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第1計測系は、前記第1フレーム部材又は前記光学系に対する前記移動体の位置情報を計測する請求項14に記載の露光装置。
- 前記第1計測系は、前記第1フレーム部材及び前記移動体の一方に格子部が設けられ、前記第1フレーム部材及び前記移動体の他方に前記格子部に計測ビームを照射するヘッドが設けられた第1エンコーダシステムを含む請求項14又は15に記載の露光装置。
- 前記第2フレーム部材に少なくとも一部が設けられ、前記移動体の位置情報を計測する第2計測系を備える請求項1〜16のいずれか一項に記載の露光装置。
- 前記第2計測系は、前記第2フレーム部材又は前記マーク検出系に対する前記移動体の位置情報を計測する請求項17に記載の露光装置。
- 前記第2計測系は、前記第2フレーム部材及び前記移動体の一方に格子部が設けられ、前記第2フレーム部材及び前記移動体の他方に前記格子部に計測ビームを照射するヘッドが設けられた第2エンコーダシステムを含む請求項17又は18に記載の露光装置。
- 前記第1フレーム部材に少なくとも一部が設けられ、前記移動体の位置情報を計測する第1計測系と前記第2フレーム部材に少なくとも一部が設けられ、前記移動体の位置情報を計測する第2計測系とを備え、
前記第1計測系の計測する前記移動体の位置情報及び前記第2計測系の計測する前記移動体の位置情報の少なくともいずれか一方と、前記第1フレーム部材と前記第2フレーム部材との位置関係の情報と、を用いて前記移動体の移動を制御する制御装置をさらに備える請求項1〜19のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記制御装置は、前記露光部においては前記第1計測系の計測する前記移動体の位置情報を用いて前記移動体の移動を制御し、前記計測部においては前記第2計測系の計測する前記移動体の位置情報を用いて前記移動体の移動を制御する請求項20に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記移動体の前記露光部と前記計測部との間の移動を制御する請求項20又は21に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記移動体の前記露光部と前記計測部との間を移動するとき、前記第1フレーム部材と前記第2フレーム部材との位置関係の情報を用いる請求項22に記載の露光装置。
- 前記制御装置は、前記移動体の制御に用いる前記移動体の位置情報を、前記第1計測系の計測する前記移動体の位置情報と前記第2計測系の計測する前記移動体の位置情報との一方から他方に切り換えるとき、前記第1フレーム部材と前記第2フレーム部材との位置関係の情報を用いる請求項23に記載の露光装置。
- 前記第1フレーム部材と前記第2フレーム部材との位置関係の情報をオフセットとして用いる請求項24に記載の露光装置。
- 前記移動体として、第1及び第2移動体が設けられ、
前記制御装置は、前記露光部において前記第1及び第2移動体の一方に保持された物体の露光が行なわれるのと並行して、前記計測部において前記第1及び第2移動体の他方に保持された物体上に形成された前記マークの検出が行われるように前記第1及び第2移動体の移動を制御する請求項20〜25のいずれか一項に記載の露光装置。 - 前記マーク検出系は前記光学系から離れて配置される請求項1〜26のいずれか一項に記載の露光装置。
- 請求項1〜27のいずれか一項に記載の露光装置を用いて前記物体を露光することと、
露光された前記物体を現像することと、を含むデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017202218A JP6493481B2 (ja) | 2017-10-18 | 2017-10-18 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017202218A JP6493481B2 (ja) | 2017-10-18 | 2017-10-18 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013111695A Division JP6229311B2 (ja) | 2013-05-28 | 2013-05-28 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018049279A JP2018049279A (ja) | 2018-03-29 |
JP2018049279A5 true JP2018049279A5 (ja) | 2018-07-05 |
JP6493481B2 JP6493481B2 (ja) | 2019-04-03 |
Family
ID=61767597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017202218A Active JP6493481B2 (ja) | 2017-10-18 | 2017-10-18 | 露光装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6493481B2 (ja) |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005081290A1 (ja) * | 2004-02-19 | 2005-09-01 | Nikon Corporation | 露光装置及びデバイス製造方法 |
US7483120B2 (en) * | 2006-05-09 | 2009-01-27 | Asml Netherlands B.V. | Displacement measurement system, lithographic apparatus, displacement measurement method and device manufacturing method |
JP2008098311A (ja) * | 2006-10-10 | 2008-04-24 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
WO2009011356A1 (ja) * | 2007-07-18 | 2009-01-22 | Nikon Corporation | 計測方法、ステージ装置、及び露光装置 |
US8514395B2 (en) * | 2009-08-25 | 2013-08-20 | Nikon Corporation | Exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
2017
- 2017-10-18 JP JP2017202218A patent/JP6493481B2/ja active Active
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