JP2014137560A5

JP2014137560A5 -

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Publication number: JP2014137560A5
Application number: JP2013007477A
Authority: JP
Filing date: 2013-01-18
Publication date: 2016-03-03
Anticipated expiration: 2033-01-18

Claims

表面層を有する電子写真感光体の製造方法であって、
該製造方法が、表面層用塗布液の塗膜を乾燥させて表面層を形成する工程を有し、
該表面層用塗布液が、
（α）末端にシロキサン構造を有さないポリカーボネート樹脂、及び末端にシロキサン構造を有さないポリエステル樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂、
（β）末端にシロキサン構造を有するポリカーボネート樹脂、末端にシロキサン構造を有するポリエステル樹脂、及び末端にシロキサン構造を有するアクリル樹脂からなる群より選択される少なくとも１種の樹脂、
（γ）トルエン、及びキシレンからなる群より選択される少なくとも１種の溶剤、および
（δ）下記式（１）で示される化合物のうち、該（γ）より１気圧における沸点が高い化合物、
を含有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。

（式（１）中、Ｒは、炭素数１〜５のアルキレン基を示す。ｎは、０または１の整数である。）
前記（δ）が、炭酸プロピレン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトンからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
前記（δ）の含有量が、前記（α）と前記（β）とを合計した質量に対して３質量％以上３００質量％以下であり、前記（γ）の含有量に対して０．５質量％以上１５０質量％以下である請求項１または２に記載の電子写真感光体の製造方法。
前記（δ）の含有量が、前記（α）と前記（β）とを合計した質量に対して５質量％以上８０質量％以下であり、前記（γ）の含有量に対して０．５質量％以上４０質量％以下である請求項１から３のいずれか一項に記載の電子写真感光体の製造方法。
前記（β）の含有量が、前記（α）の含有量に対して０．１質量％以上５０質量％以下である請求項１から４のいずれか一項に記載の電子写真感光体の製造方法。
前記表面層用塗布液が、さらに、
（ε）ジメトキシメタンおよびテトラヒドロフランの少なくとも１種
を含有する請求項１から５のいずれか一項に記載の電子写真感光体の製造方法。
前記（γ）、前記（δ）および前記（ε）を合計した質量に対して、
前記（γ）の含有量が１５質量％以上９９質量％以下であり、前記（δ）の含有量が０．５質量％以上３５質量％以下であり、前記（ε）の含有量が０．１質量％以上６５質量％以下である請求項６に記載の電子写真感光体の製造方法。
前記末端にシロキサン構造を有さないポリカーボネート樹脂が下記式（Ａ）で示される繰り返し構造単位を有するポリカーボネート樹脂Ａである請求項１から７のいずれか一項に記載の電子写真感光体の製造方法。

（式（Ａ）中、Ｒ^２１〜Ｒ^２４は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示す。Ｘ^１は、単結合、シクロヘキシリデン基、または下記式（Ｃ）で示される構造を有する２価の基を示す。）

（式（Ｃ）中、Ｒ^４１およびＲ^４２は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、またはフェニル基を示す。）
前記末端にシロキサン構造を有さないポリエステル樹脂が下記式（Ｂ）で示される繰り返し構造を有するポリエステル樹脂Ｂである請求項１から７のいずれか一項に記載の電子写真感光体の製造方法。

（式（Ｂ）中、Ｒ^３１〜Ｒ^３４は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示す。Ｘ^２は、単結合、シクロヘキシリデン基、または下記式（Ｃ）で示される構造を有する２価の基を示す。Ｙ^１は、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、または２つのｐ−フェニレン基が酸素原子を介して結合した２価の基を示す。）

（式（Ｃ）中、Ｒ^４１およびＲ^４２は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、またはフェニル基を示す。）
前記末端にシロキサン構造を有するポリカーボネート樹脂が下記式（Ａ’）で示される繰り返し構造単位と下記式（Ｄ）で示される末端構造とを有するポリカーボネート樹脂Ｄである請求項１から７のいずれか一項に記載の電子写真感光体の製造方法。

（式（Ａ’）中、Ｒ^２５〜Ｒ^２８は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示す。Ｘ^３は、単結合、シクロヘキシリデン基、または下記式（Ｃ’）で示される構造を有する２価の基を示す。）

（式（Ｃ’）中、Ｒ^４３およびＲ^４４は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、またはフェニル基を示す。）

（式（Ｄ）中、ａおよびｂは、それぞれ独立に、各括弧内の構造の繰り返し数を示し、ポリカーボネート樹脂Ｄに対するａの平均値は２０以上１００以下、ｂの平均値は１以上１０以下である。）
前記末端にシロキサン構造を有するポリエステル樹脂が下記式（Ｂ’）で示される繰り返し構造単位と下記式（Ｄ）で示される末端構造とを有するポリエステル樹脂Ｅである請求項１から７のいずれか一項に記載の電子写真感光体の製造方法。

（式（Ｂ’）中、Ｒ^３５〜Ｒ^３８は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を示す。Ｘ^４は、単結合、シクロヘキシリデン基、または下記式（Ｃ’）で示される構造を有する２価の基を示す。Ｙ^２は、ｍ−フェニレン基、ｐ−フェニレン基、または２つのｐ−フェニレン基が酸素原子を介して結合した２価の基を示す。）

（式（Ｃ’）中、Ｒ^４３およびＲ^４４は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基、またはフェニル基を示す。）

（式（Ｄ）中、ａおよびｂは、それぞれ独立に、各括弧内の構造の繰り返し数を示し、ポリエステル樹脂Ｅに対するａの平均値は２０以上１００以下、ｂの平均値は１以上１０以下である。）
前記末端にシロキサン構造を有するアクリル樹脂が、下記式（Ｆ−１）で示される末端構造と下記式（Ｆ−２）で示される繰り返し構造単位とを有するアクリル樹脂Ｆである、または下記式（Ｆ−１）で示される末端構造と下記式（Ｆ−３）で示される繰り返し構造単位とを有するアクリル樹脂Ｆである請求項１から７のいずれか一項に記載の電子写真感光体の製造方法。

（式（Ｆ−１）中、Ｒ^５１は、水素、またはメチル基を表す。ｃは、括弧内の構造の繰り返し数を示し、アクリル樹脂Ｆに対するｃの平均値は０以上５以下である。Ｒ^５２〜Ｒ^５４は、それぞれ独立に、下記式（Ｆ−１−２）で示される構造、メチル基、メトキシ基、またはフェニル基を示す。）

（式（Ｆ−１−２）中、ｄは、括弧内の構造の繰り返し数を示し、アクリル樹脂Ｆに対するｄの平均値は１０以上５０以下である。Ｒ^５５は、ヒドロキシ基またはメチル基を示す。）

（式（Ｆ−３）中、Ｒ^５６は水素、メチル基、またはフェニル基を示す。ｅは、０または１を示す。
前記（γ）が、キシレンである請求項１から１２のいずれか一項に記載の電子写真感光体の製造方法。