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JP2009058565A - Device and method for manufacturing electrooptical device - Google Patents

Device and method for manufacturing electrooptical device Download PDF

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Publication number
JP2009058565A
JP2009058565A JP2007223547A JP2007223547A JP2009058565A JP 2009058565 A JP2009058565 A JP 2009058565A JP 2007223547 A JP2007223547 A JP 2007223547A JP 2007223547 A JP2007223547 A JP 2007223547A JP 2009058565 A JP2009058565 A JP 2009058565A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
distance
pressure
glass substrate
bonding head
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007223547A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiichi Matsushima
清一 松島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2007223547A priority Critical patent/JP2009058565A/en
Publication of JP2009058565A publication Critical patent/JP2009058565A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To press-bond a dust-proof glass substrate with respect to counter substrates adhered to a large board, without the occurrence of poor adhesion or unevenness in alignment, even if the large board is warped. <P>SOLUTION: The plurality of counter substrates 20 are adhered against the large substrate 110 which is formed so that a large number of TFT substrates 10 can be placed thereon. When press-bonding the dust-proof glass substrate 31 against the outer side of each counter substrate 20, the spacing distance hm from each counter substrate 20 to the reference position Lh is read (S11); and based on the spacing distance hm, the descent distance he from the reference position Lh to the proximate distance ho on the counter substrate 20 is determined (S12). A press-bonding head 47 is dropped at a quickly moving speed, until reaching this descent distance he (S13-S15). After reaching the proximate distance ho, the press-bonding head 47 is dropped by a very low speed (S17); and when the pressing force P to the counter board 20 of the dust-proof glass substrate 31 by the press-bonding head 47 reaches a set pressure Po, very low speed moving of the press-bonding head is stopped (S20). <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、大型基板に貼り合わされている第2の基板に対し、常に一定の近接距離から
ガラス基板を微速移動させて圧着させることのできる電気光学装置の製造装置、及び製造
方法に関する。
The present invention relates to a manufacturing apparatus and a manufacturing method of an electro-optical device that can always make a glass substrate move at a low speed from a predetermined proximity distance to be bonded to a second substrate bonded to a large substrate.

従来、各種の電気光学装置のうち、液晶等の電気光学物質を用いた表示パネルは、投射
型表示装置のライトバルブ、各種電子機器の表示装置等として広い分野にわたって使用さ
れている。ここで、表示パネルは、対向基板と電極基板としての素子基板との間に液晶等
の電気光学物質を挟持して構成される。対向基板は、基板上に対向電極が配置されて構成
され、一方、素子基板は、基板上に、互いに交差する複数の走査線と複数のデータ線が配
設されていると共に、これらの走査線とデータ線との交差部毎に、スイッチング素子及び
画素電極とが配置されて構成される。
Conventionally, among various electro-optical devices, display panels using an electro-optical material such as liquid crystal are used in a wide range of fields as light valves for projection display devices, display devices for various electronic devices, and the like. Here, the display panel is configured by sandwiching an electro-optical material such as liquid crystal between a counter substrate and an element substrate as an electrode substrate. The counter substrate is configured by disposing a counter electrode on the substrate, while the element substrate is provided with a plurality of scanning lines and a plurality of data lines intersecting with each other on the substrate. A switching element and a pixel electrode are arranged at each intersection of the data line and the data line.

又、投射型表示装置では、表示パネルの表面付近に塵埃等が付着すると、それが投射レ
ンズ等により拡大されてスクリーン上に投射され、表示品質を著しく低下させてしまうこ
とになる。この対策として、例えば特許文献1(特開2003−140125号公報)に
開示されているように、表示パネルの外表面に防塵機能を有する透明なガラス基板を貼り
合わせるようにしている。
Further, in the projection type display device, when dust or the like adheres to the vicinity of the surface of the display panel, it is enlarged by a projection lens or the like and projected onto the screen, and the display quality is significantly lowered. As a countermeasure, for example, as disclosed in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-140125), a transparent glass substrate having a dustproof function is bonded to the outer surface of the display panel.

表示パネルの外表面をガラス基板で保護することで、表示パネル面に対する塵埃等の付
着が防止できる。更に、ガラス基板外表面に塵埃等が付着しても、この塵埃等と液晶等の
電気光学物質との間の距離がガラス基板の厚み分だけ長くなり、塵埃等の像がデフォーカ
スされ、スクリーン上に大きくぼやけて表示されるので目立たなくなる。
By protecting the outer surface of the display panel with a glass substrate, dust and the like can be prevented from adhering to the display panel surface. Furthermore, even if dust or the like adheres to the outer surface of the glass substrate, the distance between the dust and the electro-optical material such as liquid crystal is increased by the thickness of the glass substrate, and the image of dust and the like is defocused, and the screen Since it is displayed with a large blur on the top, it becomes inconspicuous.

このガラス基板を表示パネル表面に貼り合わせるに際しては、例えば特許文献2(特開
2006−11353号公報)に開示されているように、素子基板を多数枚取り可能に形
成されている大型基板の段階(いわゆる前工程)で、この大型基板の素子基板の形成され
ている領域に、チッブ状に切り出された対向基板を貼り合わせておき、この対向基板の外
表面にガラス基板を圧着させる技術が知られている。
特開2003−140125号公報 特開2006−11353号公報
When the glass substrate is bonded to the surface of the display panel, as disclosed in, for example, Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-11353), a large-sized substrate formed so that a large number of element substrates can be taken. In the so-called pre-process, a technology is known in which a counter substrate cut out in a chip shape is bonded to a region where an element substrate of this large substrate is formed, and a glass substrate is pressure-bonded to the outer surface of the counter substrate. It has been.
JP 2003-140125 A JP 2006-11353 A

ところで、素子基板は多数枚取り可能な大型基板において一括して製造される。素子基
板は片面にのみ、絶縁膜と金属膜とが交互に積層されて形成されている。絶縁膜は平坦化
するために約900℃前後の温度下でアニール処理が施されている。大型基板と絶縁膜と
金属膜とはそれぞれ膨張係数が異なっているため、アニール処理により応力のバランスに
崩れが生じ、大型基板に反りが発生する。
By the way, the element substrates are manufactured in a lump on a large substrate that can be obtained in large numbers. The element substrate is formed by alternately laminating insulating films and metal films only on one side. The insulating film is annealed at a temperature of about 900 ° C. for planarization. Since the large substrate, the insulating film, and the metal film have different expansion coefficients, the stress balance is lost by the annealing process, and the large substrate is warped.

又、電気光学物質として液晶が採用されている場合、この液晶を滴下注入法(ODF:O
ne Drop Filling)により注入する場合、大型基板を複数の素子基板に切り出す前に、大型
基板と、この大型基板に貼り合わされる対向基板との間に液晶が注入される。従って、液
晶配向のばらつきを解消するための等方処理も大型基板の状態で行われる。等方処理は液
晶を一旦等方相まで加熱し、次いでネマチック相に急冷することで液晶の再配列を行うも
のであり、この等方処理によっても大型基板に反りが発生する。大型基板の反りの量は数
μm〜数百μmの間でバラツキがあり、又、反りの方向も一定していない。
When liquid crystal is used as the electro-optic material, this liquid crystal is added by a drop injection method (ODF: O
In the case of injection by ne drop filling), before the large substrate is cut into a plurality of element substrates, liquid crystal is injected between the large substrate and the counter substrate bonded to the large substrate. Therefore, an isotropic process for eliminating variations in liquid crystal alignment is also performed in the state of a large substrate. In the isotropic treatment, the liquid crystal is once heated to the isotropic phase and then rapidly cooled to the nematic phase to rearrange the liquid crystal. This isotropic treatment also causes warping of the large substrate. The amount of warpage of the large substrate varies between several μm to several hundred μm, and the direction of warpage is not constant.

この大型基板に貼り合わされている対向基板の外表面に防塵ガラス基板を実装する工程
では、先ず、対向基板の外表面中央に透明接着剤を点描し、次いで、防塵ガラス基板を対
向基板の外表面に押圧し、透明接着剤を気泡を混入させることなく押し広げて圧着させる
In the step of mounting the dust-proof glass substrate on the outer surface of the counter substrate bonded to the large substrate, first, a transparent adhesive is spotted on the center of the outer surface of the counter substrate, and then the dust-proof glass substrate is attached to the outer surface of the counter substrate. The transparent adhesive is spread and crimped without mixing bubbles.

透明接着剤を押し広げさせるためには、防塵ガラス基板に充分な荷重を印加する必要が
あるが、必要以上に大きな荷重を印加してしまうと対向基板が変形し、対向基板と大型基
板との間に充填されている電気光学物質が押圧されて配向ムラが生じてしまう。
In order to spread the transparent adhesive, it is necessary to apply a sufficient load to the dust-proof glass substrate, but if a load larger than necessary is applied, the counter substrate deforms, and the counter substrate and the large substrate The electro-optical material filled in between is pressed and uneven alignment occurs.

しかし、上述したように、大型基板に反りが発生していると、防塵ガラス基板に印加す
る荷重が一定せず、荷重不足の場合は気泡の混入などによる接着不良が発生し、過荷重の
場合は配向ムラが発生してしまう。
However, as described above, when warping occurs on a large substrate, the load applied to the dust-proof glass substrate is not constant, and in the case of insufficient load, adhesion failure occurs due to mixing of bubbles, etc. Causes orientation unevenness.

この対策として防塵ガラス基板を対向基板に対し、圧力を徐々に増加させ、比較的長い
時間をかけて圧着することも考えられるが、サイクルタイムが長くなり生産性が低下する
問題がある。
As a countermeasure, it is conceivable to gradually increase the pressure of the dust-proof glass substrate against the counter substrate and perform pressure bonding over a relatively long time, but there is a problem that the cycle time becomes long and the productivity is lowered.

本発明は、上記事情に鑑み、大型基板に反りが発生していても、この大型基板に貼り合
わされている基板に対してガラス基板を、接着不良や配向ムラを発生させることなく圧着
させることが可能で、ガラス基板の圧着に要するサイクルタイムの短縮による生産性の向
上を実現することのできる電気光学装置の製造装置、及び製造方法を提供することを目的
とする。
In view of the above circumstances, the present invention allows a glass substrate to be bonded to a substrate bonded to the large substrate without causing poor adhesion or uneven alignment even when the large substrate is warped. An object of the present invention is to provide an electro-optical device manufacturing apparatus and a manufacturing method capable of improving productivity by reducing the cycle time required for pressure bonding of a glass substrate.

上記目的を達成するため第1発明は、第1の基板が多数枚取り可能に形成されている大
型基板の、該各第1の基板が形成されている領域に第2の基板が貼り合わされており、該
第2の基板の外表面に、圧着ヘッドに支持されているガラス基板を押圧して圧着させる電
気光学装置の製造装置において、前記大型基板に貼り合わされている前記各第2の基板か
ら基準位置までの離間距離を計測する測距手段と、前記測距手段で計測した前記離間距離
に基づき、前記圧着ヘッドに支持されている前記ガラス基板を前記第2の基板に対して予
め設定した近接距離まで速い移動速度で移動させた後、微速移動させる移動制御手段と、
前記圧着ヘッドによる前記ガラス基板の前記第2の基板に対する押圧力を計測する圧力検
出手段と、前記圧力検出手段で検出した押圧力が設定圧力に達したとき前記圧着ヘッドの
微速移動を停止させる移動停止制御手段とを備えることを特徴とする。
In order to achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, a second substrate is bonded to a region where each first substrate is formed in a large substrate on which a large number of first substrates are formed. In the electro-optical device manufacturing apparatus in which the glass substrate supported by the pressure-bonding head is pressed against the outer surface of the second substrate, and the second substrate is bonded to the large-sized substrate. A distance measuring unit that measures a separation distance to a reference position, and the glass substrate supported by the pressure-bonding head is preset with respect to the second substrate based on the separation distance measured by the distance measuring unit. A movement control means for moving the object at a short speed after moving it to a close distance at a high speed,
Pressure detecting means for measuring the pressing force of the glass substrate against the second substrate by the pressure bonding head, and movement for stopping the slow movement of the pressure bonding head when the pressure detected by the pressure detection means reaches a set pressure. And a stop control means.

このような構成では、大型基板に貼り合わされている各第2の基板から基準位置までの
離間距離を測距手段で計測し、この離間距離に基づき圧着ヘッドに支持されているガラス
基板と第2の基板との近接距離を求め、この近接距離に達するまで圧着ヘッドを速い移動
速度で移動させ、この近接距離に達した後は微速移動させるようにしたので、大型基板に
反りが発生していても、この大型基板に貼り合わされている第2の基板に対し、ガラス基
板を接着不良や配向ムラを発生させることなく圧着させることができる。又、近接距離に
達するまでは圧着ヘッドを高速で移動させることができるので、ガラス基板の圧着に要す
るサイクルタイムを短縮することが可能となり、生産性の向上を実現することができる。
In such a configuration, the distance from the second substrate bonded to the large substrate to the reference position is measured by the distance measuring means, and the glass substrate supported by the pressure-bonding head and the second distance are measured based on the distance. The proximity distance to the substrate is calculated, the crimping head is moved at a high moving speed until the proximity distance is reached, and after reaching this proximity distance, it is moved at a slow speed, so the large substrate is warped. However, the glass substrate can be pressure-bonded to the second substrate bonded to the large substrate without causing adhesion failure or alignment unevenness. Further, since the pressure-bonding head can be moved at high speed until the proximity distance is reached, the cycle time required for pressure-bonding the glass substrate can be shortened, and productivity can be improved.

第2発明は、第1発明において、前記測距手段は非接触式センサであることを特徴とす
る。
According to a second invention, in the first invention, the distance measuring means is a non-contact sensor.

このような構成では、測距手段を非接触式センサとしたので、第2の基板の表面を傷付
けたり、汚損させたすることが無く、製品不良の発生を低減させることができる。
In such a configuration, since the distance measuring means is a non-contact sensor, the surface of the second substrate is not damaged or soiled, and the occurrence of product defects can be reduced.

第3発明は、第1或いは第2発明において、前記移動制御手段は、前記近接距離に達す
る前の設定移動距離間では前記移動速度を減速することを特徴とする。
A third invention is characterized in that, in the first or second invention, the movement control means decelerates the moving speed during a set moving distance before reaching the proximity distance.

このような構成では、近接距離に達する前の設定移動距離間では圧着ヘッドの移動速度
を減速するようにしたので、設定移動距離間に達する前の移動速度をより速く設定するこ
とができ、ガラス基板の圧着に要するサイクルタイムをより短縮することができる。
In such a configuration, the moving speed of the crimping head is decelerated between the set moving distances before reaching the proximity distance, so the moving speed before reaching the set moving distance can be set faster, and the glass The cycle time required for pressure bonding of the substrate can be further shortened.

第4発明は、第1の基板が多数枚取り可能に形成されている大型基板の、該各第1の基
板が形成されている領域に第2の基板が貼り合わされており、該第2の基板の外表面に、
圧着ヘッドに支持されているガラス基板を押圧して圧着させる電気光学装置の製造方法に
おいて、前記大型基板に貼り合わされている前記各第2の基板から基準位置までの離間距
離を計測する第1のステップと、前記離間距離に基づき、前記圧着ヘッドに支持されてい
る前記ガラス基板を前記第2の基板に対して予め設定した近接距離まで速い移動速度で移
動させる第2のステップと、前記近接距離から前記圧着ヘッドを微速移動させる第3のス
テップと、前記圧着ヘッドによる前記ガラス基板の前記第2の基板に対する押圧力を計測
する第4のステップと、前記押圧力が設定圧力に達したとき前記圧着ヘッドの微速移動を
停止させる第5のステップとを経ることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, a second substrate is bonded to a region where each first substrate is formed on a large substrate on which a large number of first substrates can be taken. On the outer surface of the board,
In a method of manufacturing an electro-optical device that presses and presses a glass substrate supported by a pressure-bonding head, a first distance is measured from each second substrate bonded to the large-sized substrate to a reference position. A second step of moving the glass substrate supported by the pressure-bonding head to a proximity distance set in advance with respect to the second substrate at a high moving speed based on the separation distance; and the proximity distance A third step of moving the crimping head at a slow speed, a fourth step of measuring the pressing force of the glass substrate against the second substrate by the crimping head, and when the pressing force reaches a set pressure, And a fifth step of stopping the slow movement of the pressure-bonding head.

このような構成では、大型基板に貼り合わされている各第2の基板から基準位置までの
離間距離を計測し、この離間距離に基づき圧着ヘッドに支持されているガラス基板と第2
の基板との近接距離を求め、この近接距離に達するまで圧着ヘッドを速い移動速度で移動
させ、この近接距離に達した後は微速移動させるようにしたので、大型基板に反りが発生
していても、この大型基板に貼り合わされている第2の基板に対し、ガラス基板を接着不
良や配向ムラを発生させることなく圧着させることができる。又、近接距離に達するまで
は圧着ヘッドを高速で移動させることができるので、ガラス基板の圧着に要するサイクル
タイムを短縮することが可能となり、生産性の向上を実現することができる。
In such a configuration, the distance from each second substrate bonded to the large substrate to the reference position is measured, and the glass substrate supported by the pressure-bonding head and the second distance are measured based on the distance.
The proximity distance to the substrate is determined, the crimping head is moved at a high moving speed until this proximity distance is reached, and after reaching this proximity distance, it is moved at a slow speed, so the large substrate is warped. However, the glass substrate can be pressure-bonded to the second substrate bonded to the large substrate without causing adhesion failure or alignment unevenness. Further, since the pressure-bonding head can be moved at high speed until the proximity distance is reached, the cycle time required for pressure-bonding the glass substrate can be shortened, and productivity can be improved.

第5発明は、第4発明において、前記第2のステップは、前記近接距離に達する前の設
定移動距離間では前記移動速度を減速することを特徴とする。
A fifth invention is characterized in that, in the fourth invention, the second step decelerates the moving speed during a set moving distance before reaching the proximity distance.

このような構成では、近接距離に達する前の設定移動距離間では圧着ヘッドの移動速度
を減速するようにしたので、設定移動距離間に達する前の移動速度をより速く設定するこ
とができ、ガラス基板の圧着に要するサイクルタイムをより短縮することができる。
In such a configuration, the moving speed of the crimping head is decelerated between the set moving distances before reaching the proximity distance, so the moving speed before reaching the set moving distance can be set faster, and the glass The cycle time required for pressure bonding of the substrate can be further shortened.

以下、図面に基づいて本発明の一実施形態を説明する。図1は液晶表示装置の概略断面
図、図2は液晶パネルの外表面に防塵ガラス基板を実装する工程を示す工程図である。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view of a liquid crystal display device, and FIG. 2 is a process diagram showing a process of mounting a dust-proof glass substrate on the outer surface of the liquid crystal panel.

先ず、図1を参照して液晶表示装置の全体構成について簡単に説明する。尚、図1には
駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶表示装置が示されている。
First, the overall configuration of the liquid crystal display device will be briefly described with reference to FIG. FIG. 1 shows a TFT active matrix drive type liquid crystal display device with a built-in drive circuit.

図1の符号1は、電気光学装置の代表である液晶表示装置であり、表示パネルとしての
液晶パネル120と、この液晶パネル120の両外表面に貼り合わされている、防塵機能
を有する透明なガラス基板(以下「防塵ガラス基板」と称する)30,31とを備えてい
る。
Reference numeral 1 in FIG. 1 denotes a liquid crystal display device, which is a representative electro-optical device, and includes a liquid crystal panel 120 as a display panel and a transparent glass having a dustproof function that is bonded to both outer surfaces of the liquid crystal panel 120. Substrate (hereinafter referred to as “dust-proof glass substrate”) 30 and 31 are provided.

液晶パネル120は、第1の基板としての薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Tran
sistor)基板10と、これに対向配置される第2の基板としての対向基板20とがシール
材52を介して貼り合わされて液晶パネル120が形成されており、このシール材52に
よって形成された両基板10,20の対向面間の空隙に、電気光学物質としての液晶50
が封入されている。
The liquid crystal panel 120 includes a thin film transistor (TFT) as a first substrate.
A liquid crystal panel 120 is formed by bonding a sistor) substrate 10 and a counter substrate 20 as a second substrate disposed opposite to each other via a sealing material 52, and both of the substrates formed by the sealing material 52 are formed. A liquid crystal 50 as an electro-optical material is placed in the gap between the opposing surfaces of the substrates 10 and 20.
Is enclosed.

TFT基板10上には画素を構成する画素電極(ITO)9a等がマトリクス状に配置
され、又、対向基板20上には全面に対向電極(ITO)21が設けられている。更に、
TFT基板10の画素電極9a上、及び対向基板20上の全面に渡って、ラビング処理が
施された配向膜16,22が各々形成されている。尚、各配向膜16,22は、ポリイミ
ド膜等の透明な有機膜で構成されている。又、TFT基板10のシール材52が形成され
た領域の外側の一辺に、データ線駆動回路101、及び外部接続端子102が形成されて
いる。尚、図示しないが、この一辺に隣接する2辺に沿って走査線駆動回路が設けられ、
更に、残る一辺に、走査線駆動回路間をつなぐ配線パターンが形成されている。
Pixel electrodes (ITO) 9a constituting pixels are arranged in a matrix on the TFT substrate 10, and a counter electrode (ITO) 21 is provided on the entire surface of the counter substrate 20. Furthermore,
On the entire surface of the pixel electrode 9a of the TFT substrate 10 and the counter substrate 20, the alignment films 16 and 22 subjected to the rubbing process are formed. The alignment films 16 and 22 are made of a transparent organic film such as a polyimide film. A data line driving circuit 101 and an external connection terminal 102 are formed on one side outside the region where the sealing material 52 of the TFT substrate 10 is formed. Although not shown, a scanning line driving circuit is provided along two sides adjacent to the one side,
Further, a wiring pattern for connecting the scanning line driving circuits is formed on the remaining side.

又、防塵ガラス基板30,31は、塵埃等が液晶パネル120の表面に付着することを
防止すると共に、塵埃等が液晶表示面から離間させてデフォーカスすることで、塵埃等の
像を目立たなくさせる機能を有する。このような機能を実現するために、防塵ガラス基板
30,31は、板厚が1〜3mm程度と比較的厚く形成されており、その材質は、TFT
基板30や対向基板20と同一のものが使用されている。又、防塵ガラス基板30,31
は、液晶パネル120の表面に対し、TFT基板30や対向基板20(及び防塵ガラス基
板30,31)と同じ屈折率に調整されたシリコン系接着剤やアクリル系接着剤等からな
る熱硬化型或いは光硬化型等の透明接着剤を用いて、TFT基板30と対向基板20の外
表面に対し気泡を除去した状態で接着されている。
Further, the dust-proof glass substrates 30 and 31 prevent dust and the like from adhering to the surface of the liquid crystal panel 120 and make the image such as dust inconspicuous by defocusing the dust and the like away from the liquid crystal display surface. It has a function to make it. In order to realize such a function, the dust-proof glass substrates 30 and 31 are formed to be relatively thick with a plate thickness of about 1 to 3 mm.
The same substrate 30 and counter substrate 20 are used. Also, dust-proof glass substrates 30, 31
Is a thermosetting type made of a silicon adhesive or an acrylic adhesive adjusted to the same refractive index as that of the TFT substrate 30 and the counter substrate 20 (and the dustproof glass substrates 30 and 31), or the surface of the liquid crystal panel 120. A transparent adhesive such as a photo-curing type is used to adhere the TFT substrate 30 and the outer surface of the counter substrate 20 with air bubbles removed.

TFT基板10と対向基板20とは、前工程において、それぞれ多数枚取りできる大型
基板の状態で製造される。そして、先ず、対向基板20のみが大型基板からチッブ状に切
り出される。大型基板から切り出された対向基板20は、TFT基板10を多数枚取りで
きる大型基板110のTFT基板10が形成されている領域に各々貼り合わされる(図5
参照)。尚、大型基板110と対向基板20との間には液晶が滴下注入法(ODF)によ
り充填されている。又、1枚の大型基板110から切り出すことのできるチップ状のTF
T基板10の枚数は、この大型基板110の大きさ、及び製造する液晶パネルのサイズに
より決定される。従って、図5に記載されているTFT基板10の切り出し枚数(12枚
)は一例に過ぎない。更に、本実施形態による大型基板110は円板状に形成されている
が、形状はこれに限定されるものではなく矩形状であっても良い。
The TFT substrate 10 and the counter substrate 20 are manufactured in a state of a large substrate in which a large number of each can be obtained in the previous process. First, only the counter substrate 20 is cut out in a chip shape from the large substrate. The counter substrate 20 cut out from the large substrate is bonded to each of the regions of the large substrate 110 on which the TFT substrate 10 can be obtained (FIG. 5).
reference). Note that liquid crystal is filled between the large substrate 110 and the counter substrate 20 by a drop injection method (ODF). In addition, chip-shaped TF that can be cut out from one large substrate 110
The number of T substrates 10 is determined by the size of the large substrate 110 and the size of the liquid crystal panel to be manufactured. Therefore, the number of cutouts (12) of the TFT substrate 10 illustrated in FIG. 5 is merely an example. Furthermore, although the large substrate 110 according to the present embodiment is formed in a disc shape, the shape is not limited to this and may be a rectangular shape.

その後、対向基板20と大型基板110との外表面に防塵ガラス基板31,300を貼
り合わせる。図2に両基板20,110の外表面に防塵ガラス基板31,300をそれぞ
れ実装する工程を示す。尚、この作業はクリーンルーム内で行われる。
Thereafter, the dust-proof glass substrates 31 and 300 are bonded to the outer surfaces of the counter substrate 20 and the large substrate 110. FIG. 2 shows a process of mounting the dust-proof glass substrates 31 and 300 on the outer surfaces of both the substrates 20 and 110, respectively. This work is performed in a clean room.

工程(a):先ず、大型基板110のTFT基板10が形成されている領域上に対向基
板20を所定に位置決めして貼り合わせた後、動作状態等の検査を行う。
Step (a): First, the counter substrate 20 is positioned and bonded on the region of the large substrate 110 where the TFT substrate 10 is formed, and then the operation state and the like are inspected.

工程(b):次いで、各対向基板20の外表面に対向基板20とほぼ同一形状の防塵ガ
ラス基板31を貼り合わせる。この防塵ガラス基板31は圧着ヘッド47(図7参照)の
下端面に吸着支持されており、この圧着ヘッド47を下降させることにより対向基板20
に圧着される(図8参照)。尚、この圧着ヘッド47は、サーボ機構(図示せず)により
下降速度が制御される。
Step (b): Next, a dust-proof glass substrate 31 having substantially the same shape as the counter substrate 20 is bonded to the outer surface of each counter substrate 20. The dust-proof glass substrate 31 is adsorbed and supported on the lower end surface of the pressure-bonding head 47 (see FIG. 7).
(See FIG. 8). The lowering speed of the crimping head 47 is controlled by a servo mechanism (not shown).

工程(c):その後、全体を洗浄した後、大型基板110の、対向基板20が貼り合わ
されている面と反対側の面である外表面に、大型基板110とほぼ同一かやや小さい形状
の大型防塵ガラス基板300を貼付する。
Step (c): After cleaning the whole, a large-sized substrate 110 having a shape substantially the same as or slightly smaller than the large-sized substrate 110 is formed on the outer surface of the large-sized substrate 110 on the side opposite to the surface on which the counter substrate 20 is bonded. A dust-proof glass substrate 300 is attached.

工程(d):大型基板110の対向基板20が張り合わされている側の面の、対向基板
20間にスクライブラインを形成し、このスクライブラインに沿って大型基板110を分
割し、チップ状の液晶装置100を切り出す。このとき大型防塵ガラス基板300も、チ
ップ状の防塵ガラス基板30に切り出される。
Step (d): A scribe line is formed between the opposing substrates 20 on the surface of the large substrate 110 on which the counter substrate 20 is bonded, and the large substrate 110 is divided along the scribe lines to form a chip-like liquid crystal. The apparatus 100 is cut out. At this time, the large dustproof glass substrate 300 is also cut out into the chip-shaped dustproof glass substrate 30.

尚、防塵ガラス基板30,31の実装工程においては、工程(b)と工程(c)とを入
れ換え、対向基板20に対して防塵ガラス基板31を貼付する前に、大型基板110に大
型防塵ガラス基板300を貼り合わせるようにしても良い。
In the mounting process of the dustproof glass substrates 30 and 31, the process (b) and the process (c) are interchanged, and the large dustproof glass is applied to the large substrate 110 before the dustproof glass substrate 31 is attached to the counter substrate 20. The substrate 300 may be attached.

次に、図2(b)に示す防塵ガラス基板(以下、「小型防塵ガラス基板」と称する)3
1の実装工程について、図3、図4のフローチャートに従って、更に詳しく説明する。尚
、この小型防塵ガラス基板31の貼り合わせは常圧下で行われる。又、以下に説明する各
制御は、図示しない制御装置において行われる。
Next, a dust-proof glass substrate (hereinafter referred to as “small dust-proof glass substrate”) 3 shown in FIG.
The mounting process 1 will be described in more detail with reference to the flowcharts of FIGS. The small dustproof glass substrate 31 is bonded under normal pressure. Each control described below is performed by a control device (not shown).

先ず、図3に示す基板距離計測ルーチンが実行される。このルーチンでは、ステップS
1において、図5に示すような、TFT基板10が形成されている領域に対向基板20が
所定に貼り合わされている大型基板110を、図6に示すステージ200に、所定に位置
決めした状態で載置すると、ステップS2において、測距手段としての測距センサ201
が大型基板110上をX−Y方向(水平方向)にスキャンする(図5参照)。
First, a substrate distance measurement routine shown in FIG. 3 is executed. In this routine, step S
1, a large substrate 110 in which a counter substrate 20 is bonded to a predetermined region as shown in FIG. 5 in a region where the TFT substrate 10 is formed is mounted on the stage 200 shown in FIG. Then, in step S2, the distance measuring sensor 201 as the distance measuring means.
Scans the large substrate 110 in the XY direction (horizontal direction) (see FIG. 5).

図6に示すように、測距センサ201は、測定媒体を光や超音波とする非接触式であり
、計測ヘッド201aの先端と対向基板20の上面との離間距離hmを計測する。この測
距センサ201の計測ヘッド201aの先端高さLhはステージ200の載置面を基準に
設定されている。尚、以下においては、この先端高さLhを基準位置Lhと読み換えて説
明する。
As shown in FIG. 6, the distance measuring sensor 201 is a non-contact type using a measurement medium as light or ultrasonic waves, and measures a separation distance hm between the tip of the measurement head 201 a and the upper surface of the counter substrate 20. The tip height Lh of the measuring head 201 a of the distance measuring sensor 201 is set with reference to the mounting surface of the stage 200. In the following description, the tip height Lh is read as the reference position Lh.

そして、測距センサ201にて大型基板110上をスキャンして、全ての対向基板20
の離間距離hmを計測する。ところで、上述したように、大型基板110は、アニール処
理、等方処理等の熱処理の影響を受けて反りが発生しており、しかも、反りの量にはバラ
ツキがあり、又、反り方向も一定していない。従って、測距センサ201で計測される離
間距離hmは、1つの対向基板20においても計測位置によって異なる値が示される。
Then, the distance measurement sensor 201 scans the large substrate 110 and all the counter substrates 20 are scanned.
The separation distance hm is measured. Incidentally, as described above, the large substrate 110 is warped due to the influence of heat treatment such as annealing or isotropic treatment, and the amount of warpage varies, and the warping direction is also constant. Not done. Accordingly, the separation distance hm measured by the distance measuring sensor 201 also shows a different value depending on the measurement position even in one counter substrate 20.

そして、全ての対向基板20の計測が終了すると、ステップS3へ進み、対向基板20
毎に計測された離間距離hmのうち最短の値を、その対向基板20の離間距離hmとして
記憶し、ルーチンを終了する。
Then, when the measurement of all the counter substrates 20 is completed, the process proceeds to step S3 and the counter substrate 20 is reached.
The shortest value among the separation distances hm measured every time is stored as the separation distance hm of the counter substrate 20, and the routine is terminated.

次いで、各対向基板20の外表面中央に透明接着剤を点描する。そして、全ての対向基
板20に対して透明接着剤の点描が終了すると、図4に示す防塵ガラス貼り合わせルーチ
ンが実行される。
Next, a transparent adhesive is spotted at the center of the outer surface of each counter substrate 20. When the transparent adhesive stippling is completed for all the counter substrates 20, a dust-proof glass bonding routine shown in FIG. 4 is executed.

このルーチンでは、先ず、ステップS11で、貼り合わせ対象となる対向基板20の離
間距離hmを読込み、次いで、ステップS12で、予め設定されている、圧着ヘッド47
の下端面に吸着されている小型防塵ガラス基板31の下端面と対向基板20の上端面との
近接距離hoと、当該対向基板20の離間距離hmとに基づき、次式から小型防塵ガラス
基板31の下端面の降下距離he、すなわち基準位置Lhから近接距離hoまでの設定移
動距離を算出する。この近接距離hoは、圧着ヘッド47の下端面に吸着されている小型
防塵ガラス基板31が対向基板20の最上端に接触する直前の距離(例えば、10[μm]程
度)であり、圧着ヘッド47の下端面に吸着されている小型防塵ガラス基板31を、この
近接距離hoに達するまで比較的速い移動速度で降下させる。
In this routine, first, in step S11, the separation distance hm of the counter substrate 20 to be bonded is read, and then, in step S12, a preset pressure bonding head 47 is read.
On the basis of the proximity distance ho between the lower end surface of the small dust-proof glass substrate 31 adsorbed to the lower end surface and the upper end surface of the counter substrate 20 and the separation distance hm of the counter substrate 20, Of the lower end surface of the head, that is, a set movement distance from the reference position Lh to the proximity distance ho is calculated. The proximity distance ho is a distance (for example, about 10 [μm]) immediately before the small dust-proof glass substrate 31 adsorbed on the lower end surface of the pressure-bonding head 47 contacts the uppermost end of the counter substrate 20. The small dust-proof glass substrate 31 adsorbed on the lower end surface of the glass plate is lowered at a relatively high moving speed until the proximity distance ho is reached.

he←hm−ho
図7に示すように、この降下距離heは計測ヘッド201aの先端高さ(基準位置)L
hを基準とする距離であり、圧着ヘッド47に吸着されている小型防塵ガラス基板31の
下端面が近接距離hoに到達するまでを逆算する際に読込まれる。
he ← hm-ho
As shown in FIG. 7, the descending distance he is the tip height (reference position) L of the measuring head 201a.
The distance is based on h, and is read when calculating backward until the lower end surface of the small dust-proof glass substrate 31 adsorbed by the pressure-bonding head 47 reaches the proximity distance ho.

次いで、ステップS13へ進み、図示しないサーボ機構へ駆動信号を出力して圧着ヘッ
ド47の降下を開始させる。このときの降下速度は比較的速い移動速度(例えば、100〜1
50[mm/sec])に設定されており、この降下速度を速くすることで、サイクルタイムが短縮
され生産性の向上を実現することができる。
Next, the process proceeds to step S13, where a drive signal is output to a servo mechanism (not shown) to start the lowering of the crimping head 47. The descent speed at this time is a relatively fast moving speed (for example, 100 to 1
50 [mm / sec]), and by increasing the descending speed, cycle time can be shortened and productivity can be improved.

その後、ステップS14へ進み、圧着ヘッド47の下端に吸着されている小型防塵ガラ
ス基板31の下端が基準位置Lhに到達したか否かを調べ、基準位置Lhに到達するまで
、圧着ヘッド47を比較的速い速度で降下させる。尚、基準位置Lhに到達したか否かは
、圧着ヘッド47の移動量から割り出す。
Then, it progresses to step S14, it is investigated whether the lower end of the small dustproof glass substrate 31 adsorbed by the lower end of the crimping head 47 has reached the reference position Lh, and the crimping head 47 is compared until it reaches the reference position Lh. Descent at high speed. Whether or not the reference position Lh has been reached is determined from the amount of movement of the crimping head 47.

そして、圧着ヘッド47の下端に吸着されている小型防塵ガラス基板31の下端が基準
位置Lhに到達すると、ステップS15へ進み、降下速度を減速させる(例えば50〜70[m
m/sec])。次いで、ステップS16へ進み、減速された降下速度にて、圧着ヘッド47を
基準位置Lhから降下距離heまで降下させる。
Then, when the lower end of the small dust-proof glass substrate 31 adsorbed to the lower end of the pressure bonding head 47 reaches the reference position Lh, the process proceeds to step S15 and the descending speed is reduced (for example, 50 to 70 [m
m / sec]). Next, the process proceeds to step S16, and the crimping head 47 is lowered from the reference position Lh to the lowering distance he at the reduced lowering speed.

そして、圧着ヘッド47が降下距離heに達したとき(図7の状態)、ステップS17
へ進み、降下速度を微少速度(例えば、1〜5[mm/sec])に設定し、圧着ヘッド47を微速
降下させる。図7に示すように、圧着ヘッド47を基準位置Lhから降下距離heまで移
動させると、この圧着ヘッド47の下端面に吸着されている小型防塵ガラス基板31と対
向基板20の最上面との距離が近接距離ho(例えば、10[μm])となり、ここから圧
着ヘッド47を微速降下させることで、小型防塵ガラス基板31を、対向基板20に衝撃
を与えることなく接触させることができる。尚、ステップS13〜S17での処理が、本
発明の移動制御手段に相当する。
When the pressure-bonding head 47 reaches the lowering distance he (state of FIG. 7), step S17.
Then, the lowering speed is set to a very small speed (for example, 1 to 5 [mm / sec]), and the pressure-bonding head 47 is lowered slightly. As shown in FIG. 7, when the pressure bonding head 47 is moved from the reference position Lh to the lowering distance he, the distance between the small dust-proof glass substrate 31 adsorbed on the lower end surface of the pressure bonding head 47 and the uppermost surface of the counter substrate 20. Becomes a proximity distance ho (for example, 10 [μm]), and the pressure-bonding head 47 is slowly lowered from here, whereby the small dust-proof glass substrate 31 can be brought into contact with the counter substrate 20 without giving an impact. Note that the processing in steps S13 to S17 corresponds to the movement control means of the present invention.

次いで、ステップS18へ進み、圧着ヘッド47から対向基板20に印加されている押
圧力Pを読込む。この押圧力Pは、例えば圧着ヘッド47の下端面に備えられた、圧力検
出手段としての圧電センサ(図示せず)からの信号に基づいて検出する。そして、ステッ
プS19で、押圧力Pが予め設定した圧力(設定圧)Po(例えば、4[Kgf])に達したか
否かを調べる。この設定圧Poは、小型防塵ガラス基板31に対して上方から緩やかに荷
重を印加した際に、この小型防塵ガラス基板31と対向基板20との間に点描されている
透明接着剤が、気泡を混入させることなく押し広げることのできる圧力であり、貼り合わ
せる小型防塵ガラス基板31と対向基板20間の接合面の面積に応じて予め設定されてい
る。尚、図8に示すように、圧着ヘッド47に吸着されている小型防塵ガラス基板31を
対向基板20に押し当てると、大型基板110がステージ200から離間する方向へ反っ
ている場合、圧着ヘッド47からの押圧力Pにより反りが戻されて、圧着ヘッド47に吸
着されている小型防塵ガラス基板31と対向基板20との間の接合面が互いに平行になり
、接合面全体に等分布な荷重が印加される。
Next, the process proceeds to step S18, and the pressing force P applied to the counter substrate 20 from the pressure bonding head 47 is read. This pressing force P is detected based on a signal from a piezoelectric sensor (not shown) as pressure detecting means provided on the lower end surface of the crimping head 47, for example. In step S19, it is checked whether or not the pressing force P has reached a preset pressure (set pressure) Po (for example, 4 [Kgf]). This set pressure Po is such that when a load is gently applied to the small dustproof glass substrate 31 from above, the transparent adhesive drawn between the small dustproof glass substrate 31 and the counter substrate 20 creates bubbles. The pressure can be expanded without mixing, and is set in advance according to the area of the bonding surface between the small dust-proof glass substrate 31 and the counter substrate 20 to be bonded. As shown in FIG. 8, when the small dust-proof glass substrate 31 adsorbed by the pressure-bonding head 47 is pressed against the counter substrate 20, if the large-sized substrate 110 is warped in the direction away from the stage 200, the pressure-bonding head 47. The warping is restored by the pressing force P from the surface, and the joint surface between the small dust-proof glass substrate 31 adsorbed to the pressure-bonding head 47 and the counter substrate 20 becomes parallel to each other, and an equally distributed load is applied to the entire joint surface. Applied.

そして、押圧力Pが設定圧Poに達したときステップS20へ進み、サーボ機構に対し
て圧着ヘッド47の降下を停止する信号を出力すると共に、この停止状態を一定時間保持
させる。この保持時間は、透明接着剤が接合面全体に押し広がるのに必要な時間であり、
予め実験などから求めて設定されている。
When the pressing force P reaches the set pressure Po, the process proceeds to step S20, and a signal for stopping the lowering of the pressure-bonding head 47 is output to the servo mechanism, and this stopped state is held for a certain time. This holding time is the time required for the transparent adhesive to spread over the entire joining surface,
It is set in advance by experiments.

その後、保持時間が経過したら、サーボ機構に対して圧着ヘッド47を上昇させる駆動
信号を出力し、この圧着ヘッド47を上昇させて、1つの対向基板20に対する小型防塵
ガラス基板31の貼り合わせを終了し、ルーチンを抜ける。尚、ステップS18〜S20
での処理が、本発明の移動停止制御手段に対応している。
After that, when the holding time has elapsed, a drive signal for raising the pressure bonding head 47 is output to the servo mechanism, and the pressure bonding head 47 is raised to complete the bonding of the small dustproof glass substrate 31 to one counter substrate 20. And exit the routine. Steps S18 to S20
The processing in the above corresponds to the movement stop control means of the present invention.

そして、1つの対向基板20に対する小型防塵ガラス基板31の貼り合わせが終了した
ら、図9に示すように、隣の小型基板20に対して、上述した図4に示す防塵ガラス貼り
合わせルーチンを実行させて、小型防塵ガラス基板31の貼り合わせを行う。これを、全
ての対向基板20に対して繰り返し実行して、全ての対向基板20に小型防塵ガラス基板
31を貼り合わせる。
When the bonding of the small dustproof glass substrate 31 to one counter substrate 20 is completed, the dustproof glass bonding routine shown in FIG. 4 described above is executed on the adjacent small substrate 20 as shown in FIG. Then, the small dustproof glass substrate 31 is bonded. This is repeatedly performed on all the counter substrates 20, and the small dust-proof glass substrates 31 are bonded to all the counter substrates 20.

このように、本実施形態では、大型基板110に貼り合わされているチッブ状の対向基
板20に対して小型防塵ガラス基板31を貼り合わせるに際し、各対向基板20と基準位
置Lhとの距離を個別に計測したので、大型基板110に反りが発生していても、各対向
基板20に対して常に一定の近接距離hoに達するまで、小型防塵ガラス基板31を吸着
する圧着ヘッド47を比較的高速で降下させることができる。その結果、小型防塵ガラス
基板31の貼り付けに要するサイクルタイムが短縮され、生産性を向上させることができ
る。
Thus, in this embodiment, when the small dust-proof glass substrate 31 is bonded to the chip-shaped counter substrate 20 bonded to the large substrate 110, the distance between each counter substrate 20 and the reference position Lh is individually set. Since the measurement is performed, even if the large substrate 110 is warped, the pressure-bonding head 47 that adsorbs the small dust-proof glass substrate 31 is lowered at a relatively high speed until it always reaches a certain proximity distance ho to each counter substrate 20. Can be made. As a result, the cycle time required for attaching the small dustproof glass substrate 31 is shortened, and the productivity can be improved.

又、対向基板20に対して近接距離hoに達した後は、降下速度を微少速度に設定し、
この小型防塵ガラス基板31を対向基板20に貼り合わせるようにしたので、圧着ヘッド
47からの押圧力に荷重不足や過荷重が発生せず、接着不良や配向ムラの発生を有効に回
避することができる。
Also, after reaching the proximity distance ho with respect to the counter substrate 20, the descent speed is set to a very small speed,
Since the small dust-proof glass substrate 31 is bonded to the counter substrate 20, the pressing force from the pressure-bonding head 47 does not cause insufficient load or overload, and it is possible to effectively avoid the occurrence of poor adhesion and uneven orientation. it can.

尚、測距センサ201は接触式であっても良いが、非接触式を採用することで、対向基
板20の表面を傷付けたり、汚損させたりすることが無くなり、製品不良の発生を低減さ
せることができる。
The distance measuring sensor 201 may be a contact type, but by adopting a non-contact type, the surface of the counter substrate 20 is not damaged or soiled, and the occurrence of product defects is reduced. Can do.

本発明における電気光学装置は、TFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置以外
に、パッシブマトリックス型の液晶装置、TFD(薄型ダイオード)をスイッチング素子
として備えた液晶装置であっても良く、更に、液晶装置に限らず、エレクトロルミネッセ
ンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動デ
ィスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置(Field Emission Display、及びSurface-Co
nductin Electron-Emitter Display)、更には、DLP(Digital Light Processing)や
DMD(Digital Micromirror Device)、半導体基板に素子を形成するLCOS(Liquid
Crystal On Silicon)等であって、表示面に防塵機能等を有するガラス基板が貼り付けら
れている各種の電気光学装置に適用することができる。
The electro-optical device in the present invention may be a liquid crystal device including a passive matrix type liquid crystal device or a TFD (thin diode) as a switching element in addition to a TFT active matrix driving type liquid crystal device. Not limited to, an electroluminescence device, an organic electroluminescence device, a plasma display device, an electrophoretic display device, a device using an electron-emitting device (Field Emission Display, and Surface-Co
nductin Electron-Emitter Display (DLP), DLP (Digital Light Processing) and DMD (Digital Micromirror Device), LCOS (Liquid
The present invention can be applied to various electro-optical devices in which a glass substrate having a dustproof function or the like is attached to a display surface.

液晶表示装置の概略断面図Schematic sectional view of a liquid crystal display device 液晶パネルの外表面に防塵ガラス基板を実装する工程を示す工程図Process diagram showing the process of mounting a dust-proof glass substrate on the outer surface of the liquid crystal panel 基板距離計測ルーチンを示すフローチャートFlow chart showing substrate distance measurement routine 防塵ガラス貼り合わせルーチンを示すフローチャートFlow chart showing dust-proof glass laminating routine チップ状の対向基板が貼り合わされた大型基板上を測距センサでスキャンする状態を示す斜視図A perspective view showing a state where a distance measuring sensor scans a large substrate on which a chip-like counter substrate is bonded. チップ状の対向基板が貼り合わされた大型基板上を測距センサでスキャンする状態を示す側面図Side view showing a state where a distance measuring sensor scans a large substrate on which a chip-like counter substrate is bonded. 大型基板に貼り合わされている対向基板に対し防塵ガラス基板を貼り合わせる状態を示す側面図Side view showing a state in which a dust-proof glass substrate is bonded to a counter substrate bonded to a large substrate 図7の別状態の側面図Side view of another state of FIG. 図7の更に別状態の側面図FIG. 7 is a side view of still another state.

符号の説明Explanation of symbols

10…TFT基板、20…対向基板、30,31…防塵ガラス基板、47…圧着ヘッド、
110…大型基板、200…ステージ、201…測距センサ、201a…計測ヘッド、L
h…基準位置、P…押圧力、Po…設定圧、he…降下距離、hm…離間距離、ho…近
接距離
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... TFT substrate, 20 ... Counter substrate, 30, 31 ... Dust-proof glass substrate, 47 ... Crimp head,
110 ... large substrate, 200 ... stage, 201 ... ranging sensor, 201a ... measuring head, L
h: Reference position, P: Pressing force, Po: Set pressure, he ... Descent distance, hm ... Separation distance, ho ... Proximity distance

Claims (5)

第1の基板が多数枚取り可能に形成されている大型基板の、該各第1の基板が形成され
ている領域に第2の基板が貼り合わされており、該第2の基板の外表面に、圧着ヘッドに
支持されているガラス基板を押圧して圧着させる電気光学装置の製造装置において、
前記大型基板に貼り合わされている前記各第2の基板から基準位置までの離間距離を計
測する測距手段と、
前記測距手段で計測した前記離間距離に基づき、前記圧着ヘッドに支持されている前記
ガラス基板を前記第2の基板に対して予め設定した近接距離まで速い移動速度で移動させ
た後、微速移動させる移動制御手段と、
前記圧着ヘッドによる前記ガラス基板の前記第2の基板に対する押圧力を計測する圧力
検出手段と、
前記圧力検出手段で検出した押圧力が設定圧力に達したとき前記圧着ヘッドの微速移動
を停止させる移動停止制御手段と
を備えることを特徴とする電気光学装置の製造装置。
A second substrate is bonded to a region where each first substrate is formed on a large substrate on which a large number of first substrates can be taken, and the outer surface of the second substrate is attached to the second substrate. In the manufacturing apparatus of the electro-optical device that presses and presses the glass substrate supported by the pressure bonding head,
Ranging means for measuring a separation distance from each of the second substrates bonded to the large substrate to a reference position;
Based on the separation distance measured by the distance measuring means, the glass substrate supported by the crimping head is moved at a fast moving speed to a preset proximity distance with respect to the second substrate, and then moved at a slow speed. Movement control means for causing
Pressure detecting means for measuring a pressing force of the glass substrate against the second substrate by the crimping head;
An electro-optical device manufacturing apparatus comprising: a movement stop control unit that stops the slow movement of the crimping head when the pressing force detected by the pressure detection unit reaches a set pressure.
前記測距手段は非接触式センサ
であることを特徴とする請求項1記載の電気光学装置の製造装置。
2. The electro-optical device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the distance measuring means is a non-contact sensor.
前記移動制御手段は、前記近接距離に達する前の設定移動距離間では前記移動速度を減
速させる
ことを特徴とする請求項1或いは2記載の電気光学装置の製造装置。
The electro-optical device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the movement control unit decelerates the moving speed during a set moving distance before reaching the proximity distance.
第1の基板が多数枚取り可能に形成されている大型基板の、該各第1の基板が形成され
ている領域に第2の基板が貼り合わされており、該第2の基板の外表面に、圧着ヘッドに
支持されているガラス基板を押圧して圧着させる電気光学装置の製造方法において、
前記大型基板に貼り合わされている前記各第2の基板から基準位置までの離間距離を計
測する第1のステップと、
前記離間距離に基づき、前記圧着ヘッドに支持されている前記ガラス基板を前記第2の
基板に対して予め設定した近接距離まで速い移動速度で移動させる第2のステップと、
前記近接距離から前記圧着ヘッドを微速移動させる第3のステップと、
前記圧着ヘッドによる前記ガラス基板の前記第2の基板に対する押圧力を計測する第4
のステップと、
前記押圧力が設定圧力に達したとき前記圧着ヘッドの微速移動を停止させる第5のステ
ップと
を経ることを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A second substrate is bonded to a region where each first substrate is formed on a large substrate on which a large number of first substrates can be taken, and the outer surface of the second substrate is attached to the second substrate. In the method of manufacturing an electro-optical device that presses and presses the glass substrate supported by the pressure-bonding head,
A first step of measuring a separation distance from each second substrate bonded to the large substrate to a reference position;
A second step of moving the glass substrate supported by the pressure-bonding head based on the separation distance to a proximity distance set in advance with respect to the second substrate at a high moving speed;
A third step of moving the crimping head at a slow speed from the proximity distance;
4th which measures the pressing force with respect to the said 2nd board | substrate of the said glass substrate by the said crimping | compression-bonding head.
And the steps
And a fifth step of stopping the slow movement of the pressure-bonding head when the pressing force reaches a set pressure.
前記第2のステップは、前記近接距離に達する前の設定移動距離間では前記移動速度を
減速する
ことを特徴とする請求項4記載の電気光学装置の製造方法。
5. The method of manufacturing an electro-optical device according to claim 4, wherein in the second step, the moving speed is reduced during a set moving distance before reaching the proximity distance.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014063087A (en) * 2012-09-24 2014-04-10 Toshiba Corp Manufacturing device and method of display device
JP2016148457A (en) * 2008-12-10 2016-08-18 スウエイジロク・カンパニー Cartridge ferrule having axial load

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016148457A (en) * 2008-12-10 2016-08-18 スウエイジロク・カンパニー Cartridge ferrule having axial load
JP2014063087A (en) * 2012-09-24 2014-04-10 Toshiba Corp Manufacturing device and method of display device
KR101522461B1 (en) * 2012-09-24 2015-05-21 가부시끼가이샤 도시바 Manufacturing apparatus of display device and manufacturing method of display device

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