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JP2009058571A - Manufacturing apparatus and manufacturing method for electro-optical device - Google Patents

Manufacturing apparatus and manufacturing method for electro-optical device Download PDF

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JP2009058571A
JP2009058571A JP2007223554A JP2007223554A JP2009058571A JP 2009058571 A JP2009058571 A JP 2009058571A JP 2007223554 A JP2007223554 A JP 2007223554A JP 2007223554 A JP2007223554 A JP 2007223554A JP 2009058571 A JP2009058571 A JP 2009058571A
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JP
Japan
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substrate
glass substrate
electro
liquid crystal
pressure
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Application number
JP2007223554A
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Inventor
Seiichi Matsushima
清一 松島
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an image having high display quality by eliminating turbulence in an alignment state of liquid crystal molecules even if external force is applied to a glass substrate in sticking the glass substrate to an outer surface of a liquid crystal panel. <P>SOLUTION: Opposite substrates 20 are stuck through a sealing member 52 to areas where the respective TFT substrates 10 are formed in a large-sized substrate 110 from which a number of TFT substrates 10 can be obtained, and a void surrounded by the TFT substrate 10, the opposite substrate 20 and the sealing member 52 is filled with liquid crystal 50. In press-bonding a dust-proof glass substrate 31 to the outer surface of the opposite substrate 20 by a pressing surface 47a of a press-bonding head 47, the whole surface of the dust-proof glass substrate 31 is pressed to be substantially equally distributed by the pressing surface 47a of the press-bonding head 47. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、大型基板に貼り合わされている第2の基板の外表面に、ガラス基板を貼り合わせる電気光学装置の製造装置、及び製造方法に関する。   The present invention relates to an electro-optical device manufacturing apparatus and a manufacturing method in which a glass substrate is bonded to the outer surface of a second substrate bonded to a large substrate.

従来、電気光学装置の代表である投射型表示装置では、表示パネルの表面付近に塵埃等が付着すると、それが投射レンズ等により拡大されてスクリーン上に投射され、表示品質を著しく低下させてしまうことになる。これを防止する技術として、例えば特許文献1(特開2003−140125号公報)に開示されているように、表示パネルの外表面に防塵機能を有する透明なガラス基板を貼付する技術が多く採用されている。   Conventionally, in a projection type display device that is representative of an electro-optical device, if dust or the like adheres to the vicinity of the surface of the display panel, it is enlarged by a projection lens or the like and projected onto a screen, thereby significantly reducing display quality. It will be. As a technique for preventing this, for example, as disclosed in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-140125), a technique of sticking a transparent glass substrate having a dustproof function to the outer surface of the display panel is often employed. ing.

表示パネルの外表面をガラス基板で保護することで、表示パネル面に対する塵埃等の付着が防止できる。更に、ガラス基板外表面に塵埃等が付着しても、この塵埃等と液晶等の電気光学物質との間の距離がガラス基板の厚み分だけ長くなり、塵埃等の像がデフォーカスされ、スクリーン上に大きくぼやけて表示されるので目立たなくなる。   By protecting the outer surface of the display panel with a glass substrate, dust and the like can be prevented from adhering to the display panel surface. Furthermore, even if dust or the like adheres to the outer surface of the glass substrate, the distance between the dust and the electro-optical material such as liquid crystal is increased by the thickness of the glass substrate, and the image of dust and the like is defocused, and the screen Since it is displayed with a large blur on the top, it becomes inconspicuous.

このガラス基板を表示パネル表面に貼り合わせるに際しては、例えば特許文献2(特開2006−11353号公報)開示されているように、テーブルにセットされている基板の表面に接着剤を点描した後、この基板に対し上方から、圧着ヘッドの下端面に吸着されているガラス基板を当接させ、所定に加圧してガラス基板を基板上に圧着する技術が多く採用されている。
特開2003−140125号公報 特開2006−11353号公報
When the glass substrate is bonded to the display panel surface, for example, as disclosed in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2006-11353), after spotting an adhesive on the surface of the substrate set on the table, A technique is often employed in which a glass substrate adsorbed to the lower end surface of the crimping head is brought into contact with the substrate from above and pressed to a predetermined pressure to crimp the glass substrate onto the substrate.
JP 2003-140125 A JP 2006-11353 A

ところで、表示パネルの代表である液晶パネルは、画素電極、TFT(Thin Film Transistor)素子、複数の走査線(ゲート線)、複数の信号線(ソース線)及びドライバICなどが形成、若しくは実装されている素子基板と、対向電極などが形成されている対向基板とが枠状のシール部材を介して貼り合わされ、両基板間に電気光学物質としての液晶が充填されている。ガラス基板は、TFT基板と対向基板との両外表面に貼り合わされる。   By the way, a liquid crystal panel, which is a representative display panel, has a pixel electrode, a TFT (Thin Film Transistor) element, a plurality of scanning lines (gate lines), a plurality of signal lines (source lines), a driver IC, and the like formed or mounted. The element substrate and the counter substrate on which the counter electrode and the like are formed are bonded to each other through a frame-shaped seal member, and liquid crystal as an electro-optical material is filled between both the substrates. The glass substrate is bonded to both outer surfaces of the TFT substrate and the counter substrate.

図11、図12には、液晶パネルの製造過程(いわゆる前工程)において、大型基板からチップ状に切り出された対向基板20上にガラス基板31を貼り合わせる工程が示されている。ステージ200上には、多数のTFT基板が形成されている大型基板110が所定に位置決めされた状態で載置固定されており、この各TFT基板の領域に枠状のシール部材52を介して対向基板20が貼り合わされている。液晶は両基板20,110とシール部材52とで囲まれた空隙に滴下注入法(ODF:One Drop Filling)により注入されており、この状態では、前工程が既に完了しているので、液晶の配向状態も調整済みである。   11 and 12 show a process of bonding a glass substrate 31 on the counter substrate 20 cut out in a chip shape from a large substrate in the manufacturing process of the liquid crystal panel (so-called pre-process). On the stage 200, a large substrate 110 on which a large number of TFT substrates are formed is placed and fixed in a predetermined position, and is opposed to each TFT substrate region via a frame-shaped seal member 52. The substrate 20 is bonded. The liquid crystal is injected into the space surrounded by the substrates 20 and 110 and the seal member 52 by the drop injection method (ODF: One Drop Filling). In this state, the previous process has already been completed. The alignment state has also been adjusted.

この対向基板20の外表面にガラス基板31を貼り合わせるに際しては、先ず、対向基板20の外表面に透明接着剤を点描し、その後、上方からガラス基板31を圧着させる。ガラス基板31は圧着ヘッド210からの押圧力により圧着される。この圧着ヘッド210の下端縁に、ガラス基板31を吸着する押圧面210aが形成されており、その内周に吸引凹部210bが形成され、この吸引凹部210bに、吸引通路210cを介して吸引圧が導入されている。従って、ガラス基板31は吸引凹部210bに導入される吸引圧により、押圧面210aに吸着される。   When the glass substrate 31 is bonded to the outer surface of the counter substrate 20, first, a transparent adhesive is spotted on the outer surface of the counter substrate 20, and then the glass substrate 31 is pressure-bonded from above. The glass substrate 31 is pressure bonded by the pressing force from the pressure bonding head 210. A pressing surface 210a for adsorbing the glass substrate 31 is formed at the lower end edge of the crimping head 210, and a suction recess 210b is formed on the inner periphery thereof. A suction pressure is applied to the suction recess 210b via the suction passage 210c. Has been introduced. Therefore, the glass substrate 31 is attracted to the pressing surface 210a by the suction pressure introduced into the suction recess 210b.

このガラス基板31を対向基板20の表面に貼り合わせるに際しては、対向基板20上に点描されている透明接着剤を、気泡を混入させることなく押し広げる必要がある。又、完成される液晶パネルの画像表示領域のサイズは、用途に応じて様々な大きさを有しており、圧着ヘッド210の大きさは、全ての機種に共用できるように最小の液晶パネルサイズに合わせて設定されている。   When the glass substrate 31 is bonded to the surface of the counter substrate 20, it is necessary to spread the transparent adhesive drawn on the counter substrate 20 without introducing bubbles. The size of the image display area of the completed liquid crystal panel has various sizes depending on the application, and the size of the crimping head 210 is the smallest liquid crystal panel size so that it can be shared by all models. Is set to match.

そのため、比較的大きなサイズの液晶パネルでは、圧着ヘッド210の大きさが相対的に小さくなり、図11の矢印aで示すように、対向基板20の中心付近に圧着力が集中することになる。その結果、ガラス基板31を介して対向基板20の中央付近が押圧される。対向基板20は、その外縁がシール部材52に支持され、中央付近の大型基板110との間には液晶が充填されているため、圧着ヘッド210から押圧力により対向基板20に曲げ応力が発生し易く、この曲げ応力により中央付近が湾曲されると、液晶分子が押圧される。   Therefore, in a relatively large liquid crystal panel, the size of the pressure bonding head 210 is relatively small, and the pressure bonding force is concentrated near the center of the counter substrate 20 as indicated by an arrow a in FIG. As a result, the vicinity of the center of the counter substrate 20 is pressed through the glass substrate 31. Since the counter substrate 20 is supported by the sealing member 52 at the outer edge and is filled with liquid crystal between the large substrate 110 near the center, bending stress is generated in the counter substrate 20 by the pressing force from the pressure bonding head 210. When the vicinity of the center is bent by this bending stress, the liquid crystal molecules are pressed.

押圧された液晶分子は移動するため、その部分の配向状態に乱れが生じる。液晶配向の乱れは、圧着ヘッド210による対向基板20への荷重が開放されても、その一部が残ることがあり、画像の表示品位を著しく低下させる原因となる。   Since the pressed liquid crystal molecules move, the alignment state of the portion is disturbed. Even if the load applied to the counter substrate 20 by the pressure-bonding head 210 is released, the liquid crystal orientation is disturbed, and a part of the liquid crystal orientation may remain, causing the display quality of the image to be remarkably deteriorated.

本発明は、上記事情に鑑み、表示パネルの外表面にガラス基板を貼り合わせる際に、この表示パネルに外力が印加されても、電気光学物質の配向状態に乱れが生じることが無く、表示品位の高い画像を得ることのできる電気光学装置の製造装置、及び製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above circumstances, the present invention provides a display quality without disturbing the orientation state of the electro-optic material even when an external force is applied to the display panel when a glass substrate is bonded to the outer surface of the display panel. An object of the present invention is to provide an electro-optical device manufacturing apparatus and a manufacturing method capable of obtaining a high-quality image.

上記目的を達成するため第1発明は、第1の基板が多数枚取り可能に形成されている大型基板の、該各第1の基板が形成されている領域に第2の基板がシール部材を介して貼り合わされていると共に、前記第1の基板と前記第2の基板と前記シール部材とで囲まれた空隙に電気光学物質が充填されており、前記第2の基板の外表面にガラス基板を圧着ヘッドの押圧面にて押圧して圧着させる電気光学装置の製造装置において、前記圧着ヘッドの前記押圧面が前記ガラス基板表面の略全体に面当接される形状に形成されていることを特徴とする。   In order to achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, a second substrate has a sealing member in a region where each first substrate is formed in a large substrate on which a large number of first substrates are formed. And a gap surrounded by the first substrate, the second substrate, and the sealing member is filled with an electro-optical material, and an outer surface of the second substrate is a glass substrate. In the electro-optical device manufacturing apparatus in which the pressure is pressed by the pressing surface of the pressure-bonding head, the pressure surface of the pressure-bonding head is formed in a shape that is in surface contact with substantially the entire surface of the glass substrate. Features.

このような構成では、圧着ヘッドのガラス基板を第2の基板方向へ押圧する押圧面が、ガラス基板表面の略全体に面当接される形状に形成されているので、圧着ヘッドからの荷重がガラス基板を介して第2の基板にほぼ等分布に印加される。従って、第2の基板に曲げ応力が作用せず、この第2の基板が湾曲することがない。その結果、電気光学物質に外力が印加されず、この電気光学物質の配向状態に乱れが生じることが無く、表示品位の高い画像を得ることができる。   In such a configuration, the pressing surface that presses the glass substrate of the crimping head in the second substrate direction is formed in a shape that comes into surface contact with substantially the entire surface of the glass substrate. A substantially uniform distribution is applied to the second substrate through the glass substrate. Therefore, bending stress does not act on the second substrate, and the second substrate is not curved. As a result, no external force is applied to the electro-optic material, and the orientation state of the electro-optic material is not disturbed, and an image with high display quality can be obtained.

第2発明は、第1発明において、前記圧着ヘッドの前記押圧面の外形が前記ガラス基板の外形と略同一に形成されていることを特徴とする。   A second invention is characterized in that, in the first invention, the outer shape of the pressing surface of the crimping head is formed substantially the same as the outer shape of the glass substrate.

このような構成では、圧着ヘッドの押圧面の外形がガラス基板の外形と略同一に形成されているので、ガラス基板を均一な押圧力で圧着させることができる。   In such a configuration, since the outer shape of the pressing surface of the crimping head is formed substantially the same as the outer shape of the glass substrate, the glass substrate can be crimped with a uniform pressing force.

第3発明は、第1発明において、前記圧着ヘッドの前記押圧面の外形が前記ガラス基板の外形よりも大きく形成されていることを特徴とする。   A third invention is characterized in that, in the first invention, an outer shape of the pressing surface of the crimping head is formed larger than an outer shape of the glass substrate.

このような構成では、圧着ヘッドの前記押圧面の外形が前記ガラス基板の外形よりも大きく形成されているので、ガラス基板を均一な押圧力で圧着させることができる
第4発明、第1〜第3発明において、前記吸着ヘッドの前記押圧面の中央に、前記ガラス基板を該押圧面に吸着させる吸引圧を導入する吸引通路が形成されていることを特徴とする。
In such a configuration, since the outer shape of the pressing surface of the crimping head is formed larger than the outer shape of the glass substrate, the glass substrate can be crimped with a uniform pressing force. In a third aspect of the present invention, a suction passage is formed in the center of the pressing surface of the suction head to introduce a suction pressure for attracting the glass substrate to the pressing surface.

このような構成では、吸着ヘッドの押圧面の中央に、ガラス基板を押圧面に吸着させる吸引圧を導入する吸引通路を形成したので、ガラス基板を圧着ヘッドの中央部分でバランス良く吸着させることができる。   In such a configuration, since the suction passage for introducing the suction pressure for attracting the glass substrate to the pressing surface is formed in the center of the pressing surface of the suction head, the glass substrate can be attracted in a balanced manner at the central portion of the crimping head. it can.

第5発明は、第1の基板が多数枚取り可能に形成されている大型基板の、該各第1の基板が形成されている領域に第2の基板がシール部材を介して貼り合わされていると共に、前記第1の基板と前記第2の基板と前記シール部材とで囲まれた空隙に電気光学物質が充填されており、前記第2の基板の外表面にガラス基板を圧着ヘッドの押圧面にて押圧して圧着させる電気光学装置の製造方法において、前記圧着ヘッドの前記押圧面にて、前記ガラス基板の表面全体を略等分布に押圧して該ガラス基板を前記第2の基板に圧着させることを特徴とする。   According to a fifth aspect of the present invention, a second substrate is bonded to a region where each first substrate is formed on a large substrate on which a large number of first substrates can be taken. In addition, an electro-optical material is filled in a space surrounded by the first substrate, the second substrate, and the seal member, and a glass substrate is pressed on the outer surface of the second substrate. In the method of manufacturing an electro-optical device that is pressed and pressure-bonded by the pressing surface of the pressure-bonding head, the entire surface of the glass substrate is pressed in a substantially equal distribution and the glass substrate is pressure-bonded to the second substrate. It is characterized by making it.

このような構成では、圧着ヘッドの押圧面にて、ガラス基板の表面全体を略等分布に押圧して該ガラス基板を前記第2の基板に圧着させるようにしたので、圧着ヘッドからの荷重がガラス基板を介して第2の基板にほぼ等分布に印加される。従って、第2の基板に曲げ応力が作用せず、この第2の基板が湾曲することがない。その結果、電気光学物質に外力が印加されず、この電気光学物質の配向状態に乱れが生じることが無く、表示品位の高い画像を得ることができる。   In such a configuration, the entire surface of the glass substrate is pressed with substantially equal distribution on the pressing surface of the crimping head so that the glass substrate is crimped to the second substrate. A substantially uniform distribution is applied to the second substrate through the glass substrate. Therefore, bending stress does not act on the second substrate, and the second substrate is not curved. As a result, no external force is applied to the electro-optic material, and the orientation state of the electro-optic material is not disturbed, and an image with high display quality can be obtained.

以下、図面に基づいて本発明の一実施形態を説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

[第1実施形態]
図1〜図7に本発明の第1実施形態を示す。図1は液晶パネルの平面図、図2はTFT基板と対向基板とを貼り合わせて液晶を封入する組立工程終了後の液晶装置であって、図1のH-H'断面図、図3は多数のTFT基板を多数枚取りできる大型基板に対してチップ状の対向基板が貼り合わされた状態を示す斜視図である。尚、以下においては、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;TFT)を画素スイッチング素子として備えたアクティブマトリクス型の液晶装置を例に挙げて説明する。
[First Embodiment]
1 to 7 show a first embodiment of the present invention. 1 is a plan view of a liquid crystal panel, FIG. 2 is a liquid crystal device after the assembly process in which a TFT substrate and a counter substrate are bonded together to enclose liquid crystal, and is a cross-sectional view taken along the line HH ′ of FIG. It is a perspective view which shows the state by which the chip-shaped counter substrate was bonded with respect to the large sized board | substrate which can take many TFT substrates. In the following description, an active matrix liquid crystal device including a thin film transistor (TFT) as a pixel switching element will be described as an example.

先ず、図1、図2を用いて、電気光学装置の一例である、一般的な液晶装置100の全体構成について説明する。液晶装置100は、液晶パネル120と、この液晶パネル120の両外表面に貼り合わされている、防塵機能を有する透明なガラス基板(以下「防塵ガラス基板」と称する)30,31とを備えている。   First, the overall configuration of a general liquid crystal device 100, which is an example of an electro-optical device, will be described with reference to FIGS. The liquid crystal device 100 includes a liquid crystal panel 120 and transparent glass substrates (hereinafter referred to as “dust-proof glass substrates”) 30 and 31 having a dustproof function, which are bonded to both outer surfaces of the liquid crystal panel 120. .

液晶パネル120は、第1の基板としてのTFT基板10と、これに対向配置される第2の基板としての対向基板20とを有し、両基板10,20の対向面間の画像表示領域10aの周囲に設けたシール領域がシール部材52を介して貼り合わされている。尚、シール部材52の外形と対向基板20の外形とはほぼ同じ大きさに形成されている。   The liquid crystal panel 120 includes a TFT substrate 10 as a first substrate and a counter substrate 20 as a second substrate disposed to face the TFT substrate 10, and an image display area 10 a between the opposing surfaces of both the substrates 10 and 20. A seal region provided around is bonded together with a seal member 52 interposed therebetween. Note that the outer shape of the seal member 52 and the outer shape of the counter substrate 20 are formed to be approximately the same size.

更に、この両基板10,20の対向面間とシール部材52とで囲まれた空隙に、電気光学物質である液晶50が滴下注入法(ODF)により充填されている。対向基板20の4隅には、上下導通材106が設けられており、TFT基板10に設けられた上下導通端子107と対向基板20に設けられた対向電極21との間で電気的に導通されている。   Further, a liquid crystal 50, which is an electro-optical material, is filled in a space surrounded by the seal member 52 between the opposing surfaces of the substrates 10 and 20 by a drop injection method (ODF). Vertical conduction members 106 are provided at four corners of the counter substrate 20, and are electrically connected between the vertical conduction terminals 107 provided on the TFT substrate 10 and the counter electrode 21 provided on the counter substrate 20. ing.

又、シール部材52が配置されたシール領域の内側に並行して、画像表示領域10aを規定する遮光性の周辺遮光膜53が対向基板20側に設けられている。又、画像表示領域の周辺に広がる周辺領域のうち、シール部材52が配置されたシール領域の外側部分には、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102がTFT基板10の一辺に沿って設けられており、走査線駆動回路104が、この一辺に隣接する2辺に沿って設けられている。   Further, a light-shielding peripheral light-shielding film 53 that defines the image display region 10a is provided on the counter substrate 20 side in parallel with the inside of the seal region where the seal member 52 is disposed. In addition, the data line driving circuit 101 and the external circuit connection terminal 102 are provided along one side of the TFT substrate 10 on the outer side of the seal area where the seal member 52 is arranged in the peripheral area extending around the image display area. The scanning line driving circuit 104 is provided along two sides adjacent to the one side.

更に、TFT基板10の残る一辺には、画像表示領域10aの両側に設けられた走査線駆動回路104間を電気的に接続するための複数の配線105が設けられている。尚、走査線駆動回路104、及び配線105は、シール部材52の内側の周辺遮光膜53に対向する位置に配設されている。   Further, on the remaining side of the TFT substrate 10, a plurality of wirings 105 are provided for electrically connecting the scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the image display region 10a. Note that the scanning line driving circuit 104 and the wiring 105 are disposed at positions facing the peripheral light shielding film 53 inside the seal member 52.

更に、TFT基板10上には、後述する画素スイッチング用のTFT素子や走査線、データ線等の配線が形成された後の画素電極9a上に配向膜16が形成されている。他方、対向基板20上には、対向電極(ITO)21の他、最上層部分に配向膜22が形成されており、これら一対の配向膜16,22間で、所定の配向状態が設定される。尚、各配向膜16,22は、ポリイミド膜等の透明な有機膜で構成されている。   Further, on the TFT substrate 10, an alignment film 16 is formed on the pixel electrode 9 a after forming a pixel switching TFT element, which will be described later, and wiring such as a scanning line and a data line. On the other hand, on the counter substrate 20, in addition to the counter electrode (ITO) 21, an alignment film 22 is formed in the uppermost layer portion, and a predetermined alignment state is set between the pair of alignment films 16 and 22. . The alignment films 16 and 22 are made of a transparent organic film such as a polyimide film.

液晶パネル120の両外表面に貼り合わされている防塵ガラス基板30,31は、塵埃等が液晶パネル120の表面に付着することを防止すると共に、塵埃等が液晶表示面から離間させてデフォーカスすることで、塵埃等の像を目立たなくさせる機能をも有する。このような機能を実現するために、防塵ガラス基板30,31は、板厚が1〜3mm程度と比較的厚く形成されており、その材質は、TFT基板10や対向基板20と同一のものが使用されている。又、防塵ガラス基板30,31は、液晶パネル120の表面に対し、TFT基板10や対向基板20(及び防塵ガラス基板30,31)と同じ屈折率に調整されたシリコン系接着剤やアクリル系接着剤等からなる熱硬化型、或いは紫外線硬化型等の透明接着剤を介して、両基板10,20の外表面に接着されている。   The dust-proof glass substrates 30 and 31 bonded to both outer surfaces of the liquid crystal panel 120 prevent dust and the like from adhering to the surface of the liquid crystal panel 120 and defocus the dust and the like away from the liquid crystal display surface. Thus, it also has a function of making an image such as dust inconspicuous. In order to realize such a function, the dust-proof glass substrates 30 and 31 are formed to be relatively thick with a plate thickness of about 1 to 3 mm, and the material is the same as that of the TFT substrate 10 and the counter substrate 20. in use. Further, the dust-proof glass substrates 30 and 31 are a silicon-based adhesive or acrylic-based adhesive adjusted to the same refractive index as the TFT substrate 10 and the counter substrate 20 (and the dust-proof glass substrates 30 and 31) with respect to the surface of the liquid crystal panel 120 It is bonded to the outer surfaces of both substrates 10 and 20 through a transparent adhesive such as a thermosetting type or an ultraviolet curable type made of an agent.

TFT基板10と対向基板20とは、前工程において、それぞれ多数枚取りできる大型基板の状態で製造される。そして、先ず、対向基板20のみが大型基板からチップ状に切り出される。大型基板から切り出された対向基板20は、TFT基板10を多数枚取りできる大型基板110のTFT基板10が形成されている領域に各々貼り合わされる(図3参照)。尚、大型基板110と対向基板20との間には液晶が滴下注入法(ODF)により充填されている。又、1枚の大型基板110から切り出すことのできるチップ状のTFT基板10の枚数は、この大型基板110の大きさ、及び製造する液晶パネルのサイズにより決定される。従って、図3に記載されているTFT基板10の切り出し枚数(12枚)は一例に過ぎない。更に、本実施形態による大型基板110は円板状に形成されているが、形状はこれに限定されるものではなく矩形状であっても良い。   The TFT substrate 10 and the counter substrate 20 are manufactured in a state of a large substrate in which a large number of each can be obtained in the previous process. First, only the counter substrate 20 is cut out from the large substrate into a chip shape. The counter substrate 20 cut out from the large substrate is bonded to each region of the large substrate 110 on which the TFT substrate 10 can be obtained (see FIG. 3). Note that liquid crystal is filled between the large substrate 110 and the counter substrate 20 by a drop injection method (ODF). The number of chip-like TFT substrates 10 that can be cut out from one large substrate 110 is determined by the size of the large substrate 110 and the size of the liquid crystal panel to be manufactured. Therefore, the number of cutouts (12 pieces) of the TFT substrate 10 shown in FIG. 3 is merely an example. Furthermore, although the large substrate 110 according to the present embodiment is formed in a disc shape, the shape is not limited to this and may be a rectangular shape.

又、防塵ガラス基板30を多数枚取りすることのできる大型防塵ガラス基板300は、大型基板110の底面に、この大型基板110とほぼ同一の大きさで実装される。又、他方の防塵ガラス基板31は、大型基板110に貼り合わされている対向基板20上に実装される。   A large dust-proof glass substrate 300 from which a large number of dust-proof glass substrates 30 can be taken is mounted on the bottom surface of the large substrate 110 with approximately the same size as the large substrate 110. The other dustproof glass substrate 31 is mounted on the counter substrate 20 bonded to the large substrate 110.

図4に、大型基板110の外表面と、この大型基板110の上面に貼り合わされている対向基板20の外表面とに防塵ガラス基板30,31をそれぞれ実装する工程を示す。尚、この作業はクリーンルーム内で行われる。   FIG. 4 shows a process of mounting the dust-proof glass substrates 30 and 31 on the outer surface of the large substrate 110 and the outer surface of the counter substrate 20 bonded to the upper surface of the large substrate 110, respectively. This work is performed in a clean room.

工程(a):先ず、大型基板110のTFT基板10が形成されている領域上に対向基板20を所定に位置決めして貼り合わせた後、動作状態等の検査を行う。   Step (a): First, the counter substrate 20 is positioned and bonded on the region of the large substrate 110 where the TFT substrate 10 is formed, and then the operation state and the like are inspected.

工程(b):次いで、各対向基板20の外表面に対向基板20とほぼ同一形状の防塵ガラス基板31を貼付する。   Step (b): Next, a dust-proof glass substrate 31 having substantially the same shape as the counter substrate 20 is attached to the outer surface of each counter substrate 20.

工程(c):その後、全体を洗浄した後、大型基板110の、対向基板20が貼り合わされている面と反対側の面である外表面に、大型基板110とほぼ同一かやや小さい形状の大型防塵ガラス基板300を貼り合わせる。   Step (c): After cleaning the whole, a large-sized substrate 110 having a shape substantially the same as or slightly smaller than the large-sized substrate 110 is formed on the outer surface of the large-sized substrate 110 on the side opposite to the surface on which the counter substrate 20 is bonded. The dust-proof glass substrate 300 is bonded.

工程(d):大型基板110の対向基板20が張り合わされている側の面の、対向基板20間にスクライブラインを形成し、このスクライブラインに沿って大型基板110を分割し、チップ状の液晶装置100を切り出す。このとき大型防塵ガラス基板300も、チップ状の防塵ガラス基板30に切り出される。   Step (d): A scribe line is formed between the opposing substrates 20 on the surface of the large substrate 110 on which the counter substrate 20 is bonded, and the large substrate 110 is divided along the scribe lines to form a chip-like liquid crystal. The apparatus 100 is cut out. At this time, the large dustproof glass substrate 300 is also cut out into the chip-shaped dustproof glass substrate 30.

尚、防塵ガラス基板30,31の実装工程においては、工程(b)と工程(c)とを入れ換え、対向基板20に対して防塵ガラス基板31を貼付する前に、大型基板110に大型防塵ガラス基板300を貼付するようにしても良い。   In the mounting process of the dustproof glass substrates 30 and 31, the process (b) and the process (c) are interchanged, and the large dustproof glass is applied to the large substrate 110 before the dustproof glass substrate 31 is attached to the counter substrate 20. The substrate 300 may be attached.

次に、図4(b)に示す防塵ガラス基板(以下、「小型防塵ガラス基板」と称する)31の実装工程について、図5の工程図を参照しながら更に詳しく説明する。尚、小型防塵ガラス基板31の貼り合わせは常圧下で行われる。   Next, the mounting process of the dustproof glass substrate (hereinafter referred to as “small dustproof glass substrate”) 31 shown in FIG. 4B will be described in more detail with reference to the process diagram of FIG. The small dust-proof glass substrate 31 is bonded under normal pressure.

工程(a):先ず、ステージ200上に大型基板110を所定に位置決めした状態で載置固定する。次いで、1つの対向基板20の上面中央に、熱硬化或いは紫外線硬化型の透明接着剤41を滴下する。尚、このステージ200は、所定温度に加熱されているホットプレートであっても良く、この場合、透明接着剤41としては熱硬化型を使用する。   Step (a): First, the large substrate 110 is placed and fixed on the stage 200 in a predetermined position. Next, a thermosetting or ultraviolet curable transparent adhesive 41 is dropped on the center of the upper surface of one counter substrate 20. The stage 200 may be a hot plate heated to a predetermined temperature. In this case, a thermosetting type is used as the transparent adhesive 41.

又、この対向基板20の上方に圧着ヘッド47が待機している。この圧着ヘッド47はエアシリンダ(図示せず)等のアクチュエータに着脱自在に支持されており、このアクチュエータの動作により昇降自在にされている。又、圧着ヘッド47と、大型基板110を載置するステージ200とは、水平方向へ相対移動自在にされており、この圧着ヘッド47とステージ200とは、予め記憶されている各対向基板20の位置を示すX−Y座標データに従い、自動的に位置決めされる。   The pressure bonding head 47 is waiting above the counter substrate 20. The crimping head 47 is detachably supported by an actuator such as an air cylinder (not shown), and can be moved up and down by the operation of the actuator. The pressure bonding head 47 and the stage 200 on which the large substrate 110 is placed are relatively movable in the horizontal direction, and the pressure bonding head 47 and the stage 200 are provided for each counter substrate 20 stored in advance. Positioning is automatically performed according to the XY coordinate data indicating the position.

この圧着ヘッド47の下端面に、小型防塵ガラス基板31を吸着する押圧面47aが形成されている。図6、図7に示すように、この圧着ヘッド47の押圧面47aの外形は、防塵ガラス基板31の外形とほぼ同一形状に形成されていると共に、平坦に仕上げ加工されている。従って、この圧着ヘッド47は、防塵ガラス基板31の大きさ毎に専用化されている。   A pressing surface 47 a that adsorbs the small dustproof glass substrate 31 is formed on the lower end surface of the pressure bonding head 47. As shown in FIGS. 6 and 7, the outer shape of the pressing surface 47 a of the pressure-bonding head 47 is formed in substantially the same shape as the outer shape of the dust-proof glass substrate 31 and is finished flat. Therefore, the pressure bonding head 47 is dedicated for each size of the dust-proof glass substrate 31.

又、圧着ヘッド47の中央に、比較的小径の吸引通路47cが形成されており、この吸引通路47cが真空ポンプ(図示せず)に連通されている。小型防塵ガラス基板31が、圧着ヘッド47の押圧面47aに、所定に位置決めされた状態で当接されると、真空ポンプ(図示せず)からの吸引圧が吸引通路47cに導入され、この吸引通路47cの押圧面47aに開口する端部に発生する吸引圧により、小型防塵ガラス基板31が押圧面47aに吸着される。この押圧面47aは平坦に仕上げ加工されているため、小型防塵ガラス基板31は押圧面47aに密着される。更に、吸引通路47cが圧着ヘッド47の中央に形成されているため、小型防塵ガラス基板31の吸着状態をバランス良く維持させることができる。   A suction passage 47c having a relatively small diameter is formed at the center of the pressure bonding head 47, and the suction passage 47c communicates with a vacuum pump (not shown). When the small dustproof glass substrate 31 is brought into contact with the pressing surface 47a of the crimping head 47 in a predetermined position, suction pressure from a vacuum pump (not shown) is introduced into the suction passage 47c, and this suction The small dust-proof glass substrate 31 is adsorbed to the pressing surface 47a by the suction pressure generated at the end opening on the pressing surface 47a of the passage 47c. Since the pressing surface 47a is finished flat, the small dust-proof glass substrate 31 is in close contact with the pressing surface 47a. Furthermore, since the suction passage 47c is formed at the center of the pressure-bonding head 47, the suction state of the small dust-proof glass substrate 31 can be maintained in a well-balanced manner.

工程(b):圧着ヘッド47を下降させ押圧面47aに吸着されている小型防塵ガラス基板31を、対向基板20の上面に所定に位置合わせした状態で当接させる(図6、図7参照)。そして、この状態で、所定時間(例えば10〜20[sec]程度)、所定圧着力(例えば0.15[Kg/cm2]程度)で押圧し、小型防塵ガラス基板31を対向基板20に圧着させる。   Step (b): The pressure-bonding head 47 is lowered and the small dustproof glass substrate 31 adsorbed on the pressing surface 47a is brought into contact with the upper surface of the counter substrate 20 in a predetermined position (see FIGS. 6 and 7). . In this state, pressing is performed with a predetermined pressure (for example, about 0.15 [Kg / cm 2]) for a predetermined time (for example, about 10 to 20 [sec]), and the small dustproof glass substrate 31 is bonded to the counter substrate 20.

すると、透明接着剤41が気泡の混入を阻止しながら周囲へ拡散し、小型防塵ガラス基板31が対向基板20上に接着される。尚、圧着ヘッド47の圧着時間、圧着力は、透明接着剤41を気泡の混入を阻止しながら全体に拡散させるに要する時間、及び透明接着剤41の硬化に要する時間に応じて設定される。   Then, the transparent adhesive 41 diffuses to the surroundings while preventing air bubbles from entering, and the small dust-proof glass substrate 31 is bonded onto the counter substrate 20. Note that the pressure bonding time and the pressure bonding force of the pressure bonding head 47 are set according to the time required for the transparent adhesive 41 to diffuse throughout the air while preventing air bubbles from entering and the time required for the transparent adhesive 41 to cure.

又、図6、図7に示すように、圧着ヘッド47の押圧面47aには、小型防塵ガラス基板31の外表面全体が吸着されている。そのため、圧着ヘッド47からの荷重は、図6の矢印aで示すように、小型防塵ガラス基板31の外表面に等分布で印加される。尚、圧着ヘッド47の中央に形成されている吸引通路47cは、比較的小径であるため、この吸引通路47cの外縁に荷重が集中することはない。   As shown in FIGS. 6 and 7, the entire outer surface of the small dust-proof glass substrate 31 is adsorbed to the pressing surface 47 a of the pressure-bonding head 47. Therefore, the load from the pressure bonding head 47 is applied to the outer surface of the small dust-proof glass substrate 31 at an equal distribution as shown by an arrow a in FIG. Since the suction passage 47c formed in the center of the crimping head 47 has a relatively small diameter, the load does not concentrate on the outer edge of the suction passage 47c.

その結果、小型防塵ガラス基板31を介して対向基板20に、等分布荷重が印加されるため、この対向基板20に曲げ応力が作用せず、内部に充填されている液晶分子が押圧されることがない。従って、液晶分子の配向状態に乱れが生じることが無く、表示品位の高い画像を得ることができる。   As a result, an evenly distributed load is applied to the counter substrate 20 via the small dust-proof glass substrate 31, so that no bending stress acts on the counter substrate 20 and the liquid crystal molecules filled therein are pressed. There is no. Therefore, there is no disturbance in the alignment state of the liquid crystal molecules, and an image with high display quality can be obtained.

工程(c):圧着ヘッド47による小型防塵ガラス基板31の圧着時間が所定圧着時間に達した後、透明接着剤41を硬化させ、その後、圧着ヘッド47を上昇させる。すると、小型防塵ガラス基板31は透明接着剤41により対向基板20に接着されているため、圧着ヘッド47の押圧面47aから離間し、小型防塵ガラス基板31の接着が完了する。   Step (c): After the pressure bonding time of the small dust-proof glass substrate 31 by the pressure bonding head 47 reaches a predetermined pressure bonding time, the transparent adhesive 41 is cured, and then the pressure bonding head 47 is raised. Then, since the small dustproof glass substrate 31 is bonded to the counter substrate 20 by the transparent adhesive 41, the small dustproof glass substrate 31 is separated from the pressing surface 47 a of the pressure bonding head 47, and the bonding of the small dustproof glass substrate 31 is completed.

次いで、ステージ200と圧着ヘッド47とを相対移動させて、隣の対向基板20上に圧着ヘッド47を対設させると共に、上述した各工程(a)〜(c)と同一の工程を繰り返して、当該対向基板20に小型防塵ガラス基板31を接着する。これを残りの対向基板20に対して繰り返すことで、大型基板110に貼り合わされている全ての対向基板20の外表面に対して小型防塵ガラス基板31を貼り合わせる。   Next, the stage 200 and the pressure-bonding head 47 are moved relative to each other so that the pressure-bonding head 47 is provided on the adjacent counter substrate 20, and the same steps as the steps (a) to (c) described above are repeated. A small dust-proof glass substrate 31 is bonded to the counter substrate 20. By repeating this for the remaining counter substrates 20, the small dust-proof glass substrate 31 is bonded to the outer surface of all the counter substrates 20 bonded to the large substrate 110.

このように、本実施形態によれば、対向基板20の外表面に対して小型防塵ガラス基板31を実装する工程では、圧着ヘッド47の押圧面47aが小型防塵ガラス基板31の外表面全体を吸着するようにしたので、圧着ヘッド47からの押圧力が対向基板20全体に等分布で印加される。従って、対向基板20が湾曲せず、内部に充填されている液晶分子が押圧されることがなく、液晶分子の配向状態に乱れが生じることが無いため、表示品位の高い画像を得ることができる。   Thus, according to this embodiment, in the process of mounting the small dustproof glass substrate 31 on the outer surface of the counter substrate 20, the pressing surface 47 a of the crimping head 47 sucks the entire outer surface of the small dustproof glass substrate 31. Thus, the pressing force from the pressure-bonding head 47 is applied to the entire counter substrate 20 with equal distribution. Accordingly, the counter substrate 20 is not curved, the liquid crystal molecules filled therein are not pressed, and the alignment state of the liquid crystal molecules is not disturbed, so that an image with high display quality can be obtained. .

尚、上述した実施形態では、1つの圧着ヘッド47で小型防塵ガラス基板31を1枚ずつ対向基板20に圧着させるシングルヘッド方式について説明したが、本発明は、複数配列の圧着ヘッドを用いて、複数の小型防塵ガラス基板31を同時に圧着させるマルチヘッド方式であっても良い。   In the above-described embodiment, the single head method in which the small dust-proof glass substrates 31 are pressure-bonded to the counter substrate 20 one by one with one pressure-bonding head 47 has been described, but the present invention uses a plurality of arrayed pressure-bonding heads. A multi-head method in which a plurality of small dust-proof glass substrates 31 are simultaneously pressed may be used.

[第2実施形態]
図8、図9に本発明の第2実施形態による、図6、図7相当の側面図及び平面図を示す。上述した第1実施形態では、圧着ヘッド47を、製造する液晶パネル120に適用する小型防塵ガラス基板31のサイズ毎に専用化したが、本実施形態で採用する圧着ヘッド48の押圧面48aの外形を、製造する液晶パネル120に適用する小型防塵ガラス基板31の中で最大の大きさの外形に合わせて形成することで共用化するようにしたものである。
[Second Embodiment]
FIGS. 8 and 9 show a side view and a plan view corresponding to FIGS. 6 and 7 according to the second embodiment of the present invention. In the first embodiment described above, the pressure-bonding head 47 is dedicated for each size of the small dust-proof glass substrate 31 applied to the liquid crystal panel 120 to be manufactured. However, the outer shape of the pressing surface 48a of the pressure-bonding head 48 employed in this embodiment is used. Is used in common by forming it in accordance with the outer shape of the maximum size in the small dustproof glass substrate 31 applied to the liquid crystal panel 120 to be manufactured.

従って、図8、図9に示すように、サイズの小さい小型防塵ガラス基板31を圧着ヘッド48の押圧面48aに、小径の吸引通路48cに導入されている吸引力にて吸着させ、この小型防塵ガラス基板31を対向基板20に押圧した場合、第1実施形態と同様、圧着ヘッド48からの押圧力が対向基板20に等分布に伝達される。そのため、この対向基板20が湾曲することが無く、液晶分子の配列状態に乱れが生じることがない。   Therefore, as shown in FIGS. 8 and 9, the small dust-proof glass substrate 31 having a small size is adsorbed to the pressing surface 48a of the pressure-bonding head 48 by the suction force introduced into the small-diameter suction passage 48c. When the glass substrate 31 is pressed against the counter substrate 20, the pressing force from the pressure bonding head 48 is transmitted to the counter substrate 20 in the same distribution as in the first embodiment. For this reason, the counter substrate 20 is not curved, and the alignment state of the liquid crystal molecules is not disturbed.

又、圧着ヘッド48の形状が、適用される小型防塵ガラス基板31の最大の大きさに合わせて形成されているため、製造する液晶パネル120によっては、図10に示すように、圧着ヘッド48の押圧面48aが、隣接する貼り合わせ済みの小型防塵ガラス基板31側にオーバハングする場合も考えられる。   Further, since the shape of the pressure bonding head 48 is formed in accordance with the maximum size of the applied small dustproof glass substrate 31, depending on the liquid crystal panel 120 to be manufactured, as shown in FIG. It is also conceivable that the pressing surface 48a overhangs on the side of the adjacent small dust-proof glass substrate 31 that has been bonded.

しかし、貼り合わせ済みの小型防塵ガラス基板31の高さと、今回貼り合わせを行う小型防塵ガラス基板31の高さとは同一であるため、圧着ヘッド48の押圧面48aによって、隣接する貼り合わせ済みの小型防塵ガラス基板31の外表面が傷付けられることはない。   However, since the height of the small dust-proof glass substrate 31 that has been bonded is the same as the height of the small dust-proof glass substrate 31 to be bonded this time, the adjacent small size that has been bonded by the pressing surface 48a of the pressure-bonding head 48. The outer surface of the dustproof glass substrate 31 is not damaged.

このように、本実施形態によれば、圧着ヘッド48を、製造する液晶パネル120に適用する小型防塵ガラス基板31の中で最大の大きさのものに合わせて形成したので、圧着ヘッド48の共用化を実現することができる。その結果、圧着ヘッド48の交換に要する段取り時間が不要となり、工数の削減を実現することができるばかりでなく、複数種類の圧着ヘッドを揃える必要がないので経済的である。   Thus, according to the present embodiment, the pressure bonding head 48 is formed in accordance with the largest size among the small dustproof glass substrates 31 applied to the liquid crystal panel 120 to be manufactured. Can be realized. As a result, the setup time required for replacing the crimping head 48 is not required, and not only can the man-hours be reduced, but there is no need to prepare a plurality of types of crimping heads, which is economical.

尚、圧着ヘッド48の押圧面48aの外形は、製造する液晶パネル120に適用する小型防塵ガラス基板31の中で最大の大きさの外形よりも大きい形状に形成されていても良い。   Note that the outer shape of the pressing surface 48a of the pressure-bonding head 48 may be larger than the maximum size of the small dust-proof glass substrate 31 applied to the liquid crystal panel 120 to be manufactured.

本発明による電気光学装置は、TFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置に限らず、パッシブマトリックス型の液晶装置、TFD(薄型ダイオード)をスイッチング素子として備えた液晶装置に適用することができる。   The electro-optical device according to the present invention is not limited to a TFT active matrix driving type liquid crystal device, but can be applied to a passive matrix type liquid crystal device and a liquid crystal device including a TFD (thin diode) as a switching element.

第1実施形態による液晶装置をその上に形成された各構成要素と共に対向基板側から見た平面図The top view which looked at the liquid crystal device by a 1st embodiment from the counter substrate side with each component formed on it 同、図1のH-H'断面図HH 'sectional view of Fig. 1 同、大型基板に対してチップ状の対向基板が貼り合わされた状態の斜視図The perspective view of a state where a chip-like counter substrate is bonded to the large substrate 同、液晶パネルの外表面に防塵ガラス基板を実装する工程を示す工程図Process diagram showing the process of mounting a dust-proof glass substrate on the outer surface of the liquid crystal panel 同、小型防塵ガラス基板の実装工程を示す工程図Process diagram showing the mounting process of a small dustproof glass substrate 同、図5(b)の拡大縦断面図Same as above, enlarged vertical sectional view of FIG. 同、図6のVII−VII断面図VII-VII sectional view of FIG. 第2実施形態による図6相当の拡大縦断面側面図Enlarged longitudinal sectional side view corresponding to FIG. 6 according to the second embodiment 同、図8のIX-IX断面図IX-IX cross-sectional view of Fig. 8 同、図8の別態様の縦断面側面図FIG. 8 is a vertical sectional side view of another embodiment of FIG. 従来の小型防塵ガラス基板の実装工程を示す拡大縦断面側面図Enlarged longitudinal sectional side view showing the mounting process of a conventional small dustproof glass substrate 図11のXII-XII断面図XII-XII sectional view of Fig. 11

符号の説明Explanation of symbols

10…TFT基板,20…対向基板、30,31…防塵ガラス基板、41…透明接着剤、47,48…圧着ヘッド、47a,48a…押圧面、47c,48c…吸引通路、50…液晶
52…シール部材、100…液晶装置、110…大型基板、120…液晶パネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... TFT substrate, 20 ... Opposite substrate, 30, 31 ... Dust-proof glass substrate, 41 ... Transparent adhesive, 47, 48 ... Crimp head, 47a, 48a ... Press surface, 47c, 48c ... Suction passage, 50 ... Liquid crystal 52 ... Seal member, 100 ... Liquid crystal device, 110 ... Large substrate, 120 ... Liquid crystal panel

Claims (5)

第1の基板が多数枚取り可能に形成されている大型基板の、該各第1の基板が形成されている領域に第2の基板がシール部材を介して貼り合わされていると共に、前記第1の基板と前記第2の基板と前記シール部材とで囲まれた空隙に電気光学物質が充填されており、前記第2の基板の外表面にガラス基板を圧着ヘッドの押圧面にて押圧して圧着させる電気光学装置の製造装置において、
前記圧着ヘッドの前記押圧面が前記ガラス基板表面の略全体に面当接される形状に形成されている
ことを特徴とする電気光学装置の製造装置。
A second substrate is bonded to a region where each first substrate is formed on a large substrate on which a large number of first substrates can be taken, and the first substrate is bonded to the first substrate. The space surrounded by the substrate, the second substrate, and the seal member is filled with an electro-optical material, and the glass substrate is pressed against the outer surface of the second substrate by the pressing surface of the crimping head. In an electro-optical device manufacturing apparatus for pressure bonding,
The electro-optical device manufacturing apparatus, wherein the pressing surface of the pressure-bonding head is formed in a shape that is in surface contact with substantially the entire surface of the glass substrate.
前記圧着ヘッドの前記押圧面の外形が前記ガラス基板の外形と略同一に形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の電気光学装置の製造装置。
The electro-optical device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein an outer shape of the pressing surface of the crimping head is substantially the same as an outer shape of the glass substrate.
前記圧着ヘッドの前記押圧面の外形が前記ガラス基板の外形よりも大きく形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の電気光学装置の製造装置。
The electro-optical device manufacturing apparatus according to claim 1, wherein an outer shape of the pressing surface of the crimping head is formed larger than an outer shape of the glass substrate.
前記吸着ヘッドの前記押圧面の中央に、前記ガラス基板を該押圧面に吸着させる吸引圧を導入する吸引通路が形成されている
ことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の電気光学装置の製造装置。
The suction path which introduces the suction pressure which makes the said glass substrate adsorb | suck to this press surface is formed in the center of the said press surface of the said suction head, The any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned. Electro-optical device manufacturing equipment.
第1の基板が多数枚取り可能に形成されている大型基板の、該各第1の基板が形成されている領域に第2の基板がシール部材を介して貼り合わされていると共に、前記第1の基板と前記第2の基板と前記シール部材とで囲まれた空隙に電気光学物質が充填されており、前記第2の基板の外表面にガラス基板を圧着ヘッドの押圧面にて押圧して圧着させる電気光学装置の製造方法において、
前記圧着ヘッドの前記押圧面にて、前記ガラス基板の表面全体を略等分布に押圧して該ガラス基板を前記第2の基板に圧着させる
ことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A second substrate is bonded to a region where each first substrate is formed on a large substrate on which a large number of first substrates can be taken, and the first substrate is bonded to the first substrate. The space surrounded by the substrate, the second substrate, and the seal member is filled with an electro-optical material, and the glass substrate is pressed against the outer surface of the second substrate by the pressing surface of the crimping head. In the manufacturing method of the electro-optical device to be crimped,
A method for manufacturing an electro-optical device, comprising pressing the entire surface of the glass substrate with substantially equal distribution by the pressing surface of the pressure-bonding head to pressure-bond the glass substrate to the second substrate.
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