JP2008218460A - 半導体発光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 チップ実装部16a及び電極部17aを構成する導電部材16,17を備えた基板11と、この基板上にてチップ実装部に実装された半導体発光素子チップ12と、この基板上にて半導体発光素子チップを包囲するように形成されたリフレクタ13と、このリフレクタ内に分散配置された蛍光体及び光拡散材と、を含んでいる半導体発光装置10であって、上記半導体発光素子チップが、その上面からのみ光を出射すると共に、上記蛍光体14aを含む第一の光透過性樹脂14が、半導体発光素子チップの上面のみに塗布されるように、半導体発光装置10を構成する。
【選択図】 図1
Description
即ち、特許文献1においては、半導体発光装置は、表面にキャビティを有する基板上にて、キャビティ凹部内に半導体発光素子を実装し、キャビティ凹部内に蛍光体及び光拡散材を含有する透光性モールド部材を充填・硬化させることにより、構成されている。
ここで、上記光拡散材は、外部からの光を反射し、半導体発光素子から出射する光により励起され、蛍光体から出射する蛍光を散乱させるようになっている。
その際、光透過性樹脂と蛍光体との比重差に基づいて、蛍光体が重力により沈降することにより、蛍光体濃度の高い蛍光体層を形成するようになっている。
例えば、青色発光素子と黄色系蛍光体の組合せの場合には、黄色味が強くなってしまい、半導体発光装置の発光面全体として色ムラが発生することになる。
また、これらの部分は、上述した蛍光体濃度差に基づいて、半導体発光素子からの励起強度が低い。このため、蛍光の輝度が低くなり、半導体発光装置の発光面全体として輝度ムラが顕著に発生することになる。
従って、同様に色ムラ及び輝度ムラが発生することになり、面光源として利用することはできない。
半導体発光素子チップから出射した光は、蛍光体を含む第一の光透過性樹脂を透過して外部に出射する。
従って、半導体発光素子チップの上面から出射した光は、出射直後に、その上面に塗布された第一の光透過性樹脂中に含まれる蛍光体を励起することもあって、その混色光の色がほぼ均一化され得る。このため、色ムラの発生が低減され得ることになる。
尚、以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
図1及び図2は、本発明による半導体発光装置の第一の実施形態の構成を示している。
図1及び図2において、半導体発光装置10は、基板11と、基板11上に搭載された半導体発光素子チップとしての複数個(図示の場合、四個)のLEDチップ12と、これらのLEDチップ12を包囲するように基板11上に形成された枠状のリフレクタ13と、各LEDチップ12の上面に配置された蛍光体層14と、リフレクタ13の凹部13a内に配置された光拡散層15と、から構成されている。
これらの導電パターン16,17は、図2に示すように、その先端の上面にてチップ実装部16a,電極部17aと、これらから両端縁を介して上面または下面に回り込む表面実装用端子部(図示せず)と、を備えている。
上記LEDチップ12は、基板11の一方の導電パターン16のチップ実装部16a上に、例えばAu−Sn合金,Pbフリーハンダ,銀ペースト等の接合材を使用して、ダイボンディング等により接合される。また、その表面の電極部が他方の導電パターン17の電極部17aに対して金線等によりワイヤボンディングにより電気的に接続されるようになっている。
この場合、LEDチップ12は、一般的にウェハーからの微細化工程にて、機械的なダイシング,レーザースクライブ等によって、直角形状に形成されている。このため、このLEDチップ12の上面に塗布された蛍光体層14は、光透過性樹脂の表面張力によって、凸状に盛り上がって、厚みをもって形成されることになる。
ここで、近年のLEDの大電流化に伴って、LEDチップのサイズが大型化しているので、1mm角程度のチップサイズであれば、ディスペンサー装置による蛍光体層の定量塗布は、十分に可能である。
ここで、上記光拡散材は、光透過性樹脂の屈折率とは異なる屈折率を有する材料、例えば酸化ケイ素,酸化アルミニウム,酸化チタン,シリコーンビーズ等の微粉末が使用される。
各LEDチップ12の上面から出射した光は、蛍光体層14に入射し、その一部が蛍光体層14内の蛍光体14aの粒子に当たって、蛍光体を励起する。
これにより、蛍光体から蛍光が出射し、各LEDチップ12からの光と混色されて、蛍光体層14から光拡散層15内に入射する。
蛍光体層14が表面張力により厚みをもって形成されている。このため、各LEDチップ12からの出射光に対して、十分な蛍光体濃度が得られる。従って、蛍光体14aから出射する蛍光も十分な光量となる。
さらに、蛍光体14aが蛍光体層14内にのみ存在し、光拡散層15内には存在しない。このため、色ムラの発生が低減され得ることになる。
その際、光拡散層15内に入射した混色光は、その一部が光拡散層15内の光拡散材の粒子に当たって、散乱する。これにより、混色光は、光拡散層15内で十分に拡散された後、光拡散層15の上面から外部に出射することになる。
従って、この光拡散層15の上面から外部に出射する光は、各LEDチップ12の間の領域にも、光拡散層15による拡散によって十分に周り込むことになり、輝度の低下が抑制される。
このようにして、光拡散層15の上面から出射する光の輝度ムラが低減され得る。また、さらにこのような散乱によって、色ムラもより一層低減され得ることになる。
LEDの相対効率は、符号Aで示すように、LEDの光取出し効率を示しており、b/aが大きくなるにつれて、即ちリフレクタ13の高さbが高くなるにつれて、徐々に低下する。
これに対して、輝度バラツキは、その値が1に近いほど、輝度バラツキが小さくなり、リフレクタの高さbが高くなるにつれて、1に近づくようになっている。
従って、LEDの相対効率を低下させずに、輝度バラツキを抑制するためには、b/aが1.0〜2.0の範囲内にあることが望ましい。
まず、LEDチップ12の大きさaを1mm,リフレクタ13の高さbを1.5mmとして、蛍光体及び光拡散材を含む光透過性樹脂をリフレクタ内に充填し、加熱硬化によりLEDチップ及び基板上面全体に蛍光体を沈降させた従来構造の半導体発光装置と、図1に示した本発明実施形態による半導体発光装置とを作製し、各半導体発光装置の長手方向の輝度及び色度を測定して、規格化した。
従って、従来構造の半導体発光装置と比較して、本発明実施形態による半導体発光装置10は、光拡散層15による光の散乱によって、LEDチップ12の間の輝度低下が抑制されていることが分かる。
従って、従来構造の半導体発光装置では、LEDチップ12の周囲の基板11の上面に沈降した蛍光体の発光によって色度にバラツキが発生するのに対して、本発明実施形態による半導体発光装置10は、LEDチップ12の周囲における色度のバラツキが抑制されていることが分かる。
図6は、本発明による半導体発光装置の第二の実施形態の構成を示している。 図6において、半導体発光装置20は、図1及び図2に示した半導体発光装置10とほぼ同様の構成であって、光拡散層15の代わりに、リフレクタ13の上部付近に配置された光拡散シート21と、リフレクタ13の凹部13a内に封入された不活性ガス22と、を備えている点でのみ異なる構成になっている。
尚、光拡散シート21は、本半導体発光装置20の実装時におけるハンダリフロー実装工程を可能にするために、好ましくは300℃以上の耐熱性を有する材料から構成されている。
光拡散シート21は、その周縁が、リフレクタ13の凹部13aの内面の上縁付近に形成された段部13b上に載置され、例えばエポキシ系接着剤,シリコーン系接着剤,低融点ガラス等により段部13bに対して接合されている。
その際、封止装置内を当該不活性ガスの雰囲気に調整することにより、あるいは光拡散シート21のリフレクタ13の段部13bへの載置直前に、ガス供給ノズル等によりリフレクタ13の凹部13a内に当該不活性ガスを局所注入することにより、不活性ガス22がリフレクタ13の凹部13a内に封入され得る。
また、リフレクタ13の凹部13a内に実装されたLEDチップ12は、リフレクタ13の凹部13a内に不活性ガス22が封入される。これにより、酸化等から保護され得ることになる。
また、上述した実施形態においては、半導体発光素子チップとしてLEDチップ12が使用されているが、これに限らず、他の種類の半導体発光素子チップ、例えば半導体レーザ素子チップ等が使用されてもよい。
11 基板
12 LEDチップ
13 リフレクタ
13a 凹部
13b 段部
14 蛍光体層
14a 蛍光体
15 光拡散層
16,17 導電パターン(導電部材)
16a チップ実装部
17a 電極部
20 半導体発光装置
21 光拡散シート
22 不活性ガス
Claims (6)
- チップ実装部及び電極部を構成する導電部材を備えた基板と、この基板上にてチップ実装部に実装された半導体発光素子チップと、この基板上にて半導体発光素子チップを包囲するように形成されたリフレクタと、このリフレクタ内に分散配置された蛍光体及び光拡散材と、を含んでいる半導体発光装置であって、
上記半導体発光素子チップが、その上面からのみ光を出射すると共に、
上記蛍光体を含む第一の光透過性樹脂が、半導体発光素子チップの上面のみに塗布されていることを特徴とする、半導体発光装置。 - 上記蛍光体のみを含む第一の光透過性樹脂が、半導体発光素子チップの上面にて、表面張力により凸状に盛り上がった状態で硬化されていることを特徴とする、請求項1に記載の半導体発光装置。
- 上記光拡散材のみを含む第二の光透過性樹脂が、上記第一の光透過性樹脂を覆うように上記リフレクタ内に充填されていることを特徴とする、請求項2に記載の半導体発光装置。
- 上記リフレクタが、その内面上部に段差を備えており、
この段差部上に、リフレクタ凹部内を覆うように光拡散シートが載置されていることを特徴とする、請求項1から3の何れかに記載の半導体発光装置。 - 上記リフレクタの凹部内に、不活性ガスが封入されていることを特徴とする、請求項4に記載の半導体発光装置。
- 上記リフレクタの高さが、上記半導体発光素子チップの高さの1.0〜2.0倍であることを特徴とする、請求項1から5の何れかに記載の半導体発光装置。
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