JP2007012623A - 有機発光ダイオードおよびいくつかの有機発光ダイオードの配列 - Google Patents
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Abstract
【課題】簡単な構造配置による有機発光ダイオードの提供。
【解決手段】電極と、対電極と、電極および対電極間に配置された有機層連続体とを備えてなる層配列を有し、該有機層連続体が金属基板上に配置され、１または数個の有機輸送層が導電性を増す混合物を各ケースで含有して、電荷キャリア輸送および電荷キャリア注入の特徴群のうち少なくとも１つの特徴で形成されている、有機発光ダイオード、及び有機発光ダイオードの配列。
【選択図】図１
【解決手段】電極と、対電極と、電極および対電極間に配置された有機層連続体とを備えてなる層配列を有し、該有機層連続体が金属基板上に配置され、１または数個の有機輸送層が導電性を増す混合物を各ケースで含有して、電荷キャリア輸送および電荷キャリア注入の特徴群のうち少なくとも１つの特徴で形成されている、有機発光ダイオード、及び有機発光ダイオードの配列。
【選択図】図１
Description
本発明は、エレクトロルミネセンス発光体の分野に関する。
Tangら〔C.W.Tang et al.:Appl.Phys.Lett.51(12),913(1987)〕による低使用電圧の実証以来、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）は大画面ディスプレーおよび照明エレメントの実現のために有望な候補となっている。それらは、好ましくは真空中で蒸着されまたはポリマー形でスピンコートされた有機物質からなる、一連の薄層（典型的には１ｎｍ〜１μｍ）を含んでなる。導電層により電気的接触させることで、それらは発光ダイオード、ディスプレーおよび照明エレメントのような様々な部品を形成する。それら各々の特性のせいで、それらは無機層をベースにした従来からの部品と競合している。
有機発光ダイオードの場合には、外部印加電圧の結果として接点から隣接有機層への電荷キャリア（一方から電子、他方からホール）の注入、次いで活性ゾーンでエキシトン（電子‐ホール対）の形成およびこれらエキシトンの輻射再結合により、光が発光ダイオードから発生および放出される。通常、有機発光ダイオードは数層の連続からなる。これは、電極から電荷キャリアの注入、電荷キャリア輸送および放出といった機能が様々な層で頻繁に発揮される、真空中蒸着で製造された部品について特に当てはまる。
従来の無機ベース部品（シリコン、ガリウムヒ素のような半導体）と比較したこのような有機ベース部品の利点は、非常に大きな画面のエレメント、即ち大ディスプレーエレメント（モニター、スクリーン）または照明エレメントを製造することが可能なことである。有機ベース物質は無機物質と比べて比較的安価である（低レベルの物質およびエネルギー要求）。更に、これらの物質は、無機物質と比べて低いプロセス温度のおかげで、軟質または自由成形基板上に置くことができる。この事実は、ディスプレーおよび照明テクノロジーで完全な一連の新規用途への道を開くことになる。
技術水準によると、透明伝導性酸化物層（通常酸化インジウムスズ、ＩＴＯ）で被覆されたガラス基板上に有機発光ダイオードが通常配置されている。しかしながら、多くの適用の結果として、この基板および伝導層のコストが高すぎるのである：第一に、必要な高品質ガラス自体が高価格を招いている；第二に、導電性酸化物が比較的高価である。これらの理由から、安価な基板上で有機発光ダイオードを実現できれば、非常に有利になるであろう。この場合には、発光ダイオードにこれまで通り接点を設けねばならないという、問題の多い状況が通常存在する。このことは、最初に基板に絶縁層を設けねばならず、次いで再び有機発光ダイオードのベース電極として働く電極層が形成されねばならないことを要する。従来の有機発光ダイオードの別な欠点は、透明基板で通常選択される配列である：発光ダイオードの光放出はこの場合に透明電極および基板から行われ、一方反対側に配置された接点（ほとんどの場合に基板）は光に対して不透過性であり、関与するスペクトル領域で高度に反射性である。適用に際して、次いで、高透明基板および透明接点層が必要であり、そのことが多くの場合に基板選択を極めて制限し、特に安価な基板の選択を妨げている。
金属基板上で有機発光ダイオードに関する提案が既に行われていた。これらの基板は様々な利点を有している。第一に、金属基板は状況に応じて比較的安価に製造される。第二に、金属基板の高い熱伝導性は良い放熱輸送に寄与しうる。第三に、金属基板は比較的薄く作製でき、結果としてフレキシブルである。
米国特許第６，８３５，４７０号では、金属箔、好ましくはスチール箔上の有機発光ダイオードが提案されている。最初に絶縁層、その後で伝導性電極が基板上に配置された、発光ダイオードが実現されている。既知の配列は、金属基板が陰極であると考えている。
本発明の課題は、有機発光ダイオードおよび簡単な構造配置によるいくつかの有機発光ダイオードの配列について言及および提供することである。
この課題は、本発明に、独立請求項１による有機発光ダイオードで、および独立請求項２８によるいくつかの有機発光ダイオードの配列で解決されている。
本発明の一面によると、有機発光ダイオードは、電極と、対電極と、電極および対電極間に配置された有機層連続体とを備えた層配列で作製され、該有機層連続体が金属基板上に配置され、１または数個の有機輸送層が導電性を増す混合物を各ケースで含有して、電荷キャリア輸送および電荷キャリア注入からなる特徴群のうち少なくとも１つの特徴を伴って形成されている。
本発明の別な面によると、電気的に分かれたエリアの形成のために絶縁層を金属基板へ部分的に設けることにより、金属基板の電気的に分かれた個別のエリアにいくつかの有機発光ダイオードが形成されている、いくつかの有機発光ダイオードの配列が作製される。
１または数個の電気的にドープされた輸送層の使用に基づくと、金属基板またはその上で分離された伝導もしくは絶縁層で、より高度の粗さも受け入れられるようになる。
金属基板の使用により、特に、安価に製造しうる有機発光ダイオードの簡単な構造配置が作製されるが、これは安価な金属基板が通常適用される基板物質の代わりに用いられるからである。金属基板は、複雑でない手法、例えばロール・ツー・ロール法により、有機発光ダイオードの層で被覆しうる。
有機層連続体は、電荷キャリア注入および／または電荷キャリア輸送する、導電性を増す目的の混合物（ドーピング）で形成される、１または数個の有機層を含んでなる。より短い形で、このような層は、以下で、輸送層とも一部称される。
マトリクス物質の電気的性質の改善のために、このような混合物（ドーピング）の使用そのものは公知である（ｃｆ．ＤＥ１００ ５８ ５７８）。金属基板は、特に安価な製造法のときに、通常高度の粗さで特徴付けられるため、このようなドープされた層は特に有利であることがわかった。ドープされた電荷キャリア輸送層の使用の場合、この粗さはドープされていない有機発光ダイオードの場合より許容しうることを、試験では意外にも示した。この観察は、ドープされていない有機発光ダイオードの電流が通常空間電荷により制限され、したがって層厚と立体的に依存する、という事実により説明しうる。しかしながら、ドープされた輸送層では、電流が厚さと直線的に依存するため、層厚の程度が粗面基板による影響をほとんど受けないのである。
更に、ドープされた輸送層では、輸送層の厚さを自由に選択すること、特に、高い使用電圧の不都合なしに厚くても選択することが可能である。そのため、５００ｎｍ以内の層厚であれば何の問題もなく実現しうる。しかも、基板上の金属針により生じる短絡の危険性が結果として減少する。これらの厚い輸送層の場合、発光ダイオードの光抽出を最適化することが更に可能である。これは金属基板で特に重要であるが、これら基板の高い反射性のせいで、両方向で光放出の構築的重ね合せが特に重要となる状況に至ったためである。ドープされた輸送層の場合には、層厚のほぼ自由な選択のおかげで、発光のスペクトル位置さえも頻繁に最適化しうる、有機層連続体で生じる光について特に好ましい構築的干渉があるように、これを選択することが可能である。有機発光ダイオードのほとんどについて、例えば、構築的干渉が生じるように反射電極からの放出ゾーンの距離が選択される。これは通常、電極までの距離が波長の約１／４となる場合である。ドープされた輸送層を用いる場合には、高度の構築的干渉、例えば波長の約３／４を選択し、こうして粗面基板による短絡の可能性を減少させられる好ましい性質を維持することが可能となる。
加えて、ドープされた輸送層を用いる場合には、アノード側の基板で可能な最大仕事関数を要するドープされていない輸送層を有した有機発光ダイオードとは反対に、例えば価格、光学的性質および加工性のような他の基準に従い基板物質を選択するオプションを付与するベース接点の物質を、その仕事関数とは比較的無関係に選択することが可能である。特に、アノードとしてアルミニウムまたは銀のような金属も用いることが可能となる。
本発明の好ましい別な開発では、平面電気接点が金属基板と有機層連続体との間に形成され、該接点に絶縁層が無いように考えられている。
本発明の意図的態様では、金属基板が該金属基板の表面を滑らかにする層で被覆され、該層が選択的にワニスまたはポリマー物質からなるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、有機層連続体が金属基板上に直接配置され、該金属基板で電極が形成されるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、電極が金属基板上で導電層として形成されるように考えられている。
本発明の意図的態様では、電極が正電気接点で、対電極が負電気接点であるように考えられている。
本発明の有利な態様では、電極が負電気接点で、対電極が正電気接点であるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、導電層が少なくとも部分的に銀からなるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、金属基板がアルミニウムからなるように考えられている。
本発明の有利な態様では、金属基板がスチールからなるように考えられている。
本発明の有利な態様では、金属基板がフレキシブルであるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、金属基板に面する電荷キャリア輸送層が、構築的放出により光放出を支えられる層厚で形成されるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、金属基板に面する電荷キャリア輸送層の層厚が少なくとも（３／４）λとなるように考えられており、ここでλは層配列から発せられる光の放出波長である。
本発明の意図的態様では、金属基板から離れて面する電荷キャリア輸送層が、構築的放出により光放出を支えられる層厚で形成されるように考えられている。
本発明の有利な態様では、電荷キャリア輸送層が滑らかに形成されるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、電荷キャリア輸送層がマトリクス物質としてＣ６０を含有するように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、金属基板が有機層連続体で生じる光の光抽出を改善する構造を有し、該構造が周期的または非周期的構造として選択的に形成されるように考えられている。
本発明の意図的態様では、環境的影響から保護のためトップ電極上で１層以上の透明層系が存在するように考えられている。
本発明の有利な態様では、透明層系がラミネーションで適用されるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、層配列が白色発光式で形成されるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、有機層連続体で封入されている発光層が、次の配置：横方向に配置されたストリップ、周期幾何学的エレメントおよび非周期幾何学的エレメントのうち１以上に従い、様々なエミッタ物質で形成されるように考えられている。
本発明の意図的態様では、光散乱層が考えられる。
本発明の有利な態様では、層配列が金属基板上にモノリシックに配置されるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、平滑層が電気的に絶縁するように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、いくつかの有機発光ダイオードユニットが互いにモノリシックに積み重ねられ、層配列が白色発光式で形成されるように考えられている。
本発明の意図的態様では、層配列がロール・ツー・ロールから連続的に製造されるように考えられている。本発明の有利な態様では、この場合に、金属基板の幅が１ｃｍ〜約６ｍとなるように考えられている。
ロール・ツー・ロールプラントで、基板（金属基板）がロールからほどかれる。真空中で、例えば直線源から連続的に、有機層およびカソードが配置され、次いで封入用に数層を重ねた後で、最終製品がロールに再び巻かれる。透明基板上におけるＯＬＥＤディスプレーのロール・ツー・ロール製造の原理とこの目的のために可能なプラントが、ＥＰ１ １１５ ２６８Ａ１でそのように記載されている。そこで記載された技術的に高度なケースは、請求項１によるトップ放射ＯＬＥＤの製造でより安価で簡単に実現でき、安価に製造された大規模技術的金属箔がロール・ツー・ロールによりＯＬＥＤで被覆される。本発明の別な特徴として、構築、非構築または積重ねＯＬＥＤを選択的に含んだ請求項１によるＯＬＥＤが照明目的で用いられている。この場合には、例えばポリマー絶縁層のプリントにより、局部蒸発またはスパッタリングの助けで絶縁層の分離により、またはシャドーマスクを付した蒸発またはスパッタリングにより、分別された有機発光ダイオードを得る際に、絶縁層による必要な構築をこのプロセスに組み込むことも可能である。
本発明の有利な態様では、電気的に分かれたエリアを形成するために金属基板に絶縁層を部分的に設けることにより、金属基板の電気的に分かれた個別のエリアにいくつかの有機発光ダイオードが形成されるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、絶縁層が金属基板上にプリントされるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、絶縁層が金属基板上に蒸着されるように考えられている。
本発明の意図的態様では、絶縁層が金属基板上にスパッタされるように考えられている。
本発明の有利な態様では、絶縁層が金属基板上にラミネートされるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、金属基板に面する電極が別な絶縁層によりストリップエレメントに分割され、金属基板から離れて面する対電極が該ストリップエレメントと垂直な別のストリップエレメントに再分割され、こうして受動マトリクス配列の個別に制御可能な画像ポイントが形成されるように考えられている。
本発明の好ましい別な開発では、対電極が横方向に制限されたエレメントに再分割されるように考えられている。
本発明の意図的態様では、いくつかの有機発光ダイオードの層配列がロール・ツー・ロールから１本のバンド上で連続的に製造され、蒸発源が該バンドと横向きに空間的に離れた蒸気ローブを放射するようにストリップエレメントが形成されるように考えられている。
好ましい特徴として、平滑層として輸送層を形成することで平滑効果を発揮するドープされた輸送層が用いられる。このような層のオーム電流輸送に基づき、短絡および部品の破壊に至ることがある、過大電流という局部電流路の危険性が減少する。
別の好ましい態様では、光抽出が基板の特別な粗面化または構築により増加した有機発光ダイオードを用いる。通常の平面発光ダイオードでは、光放出の必須部分が外部方式ではなく、むしろ基板方式またはフィルム方式の有機発光ダイオードに入る、という問題がある。光抽出が基板から離れた（トップエミッタ）金属基板の使用の場合、基板方式は既に抑制されている。フィルム方式による光の伝播は、基板に周期的または非周期的粗さを施すことで抑制しうる。これは特にロール・ツー・ロール生産によると極めて簡単に可能であり、この場合には例えば、ロールによるローリングプロセスに際して基板の直接成形が可能だからである；好ましい場合には、通常意図せずにローリングプロセスで生じる構造が有利に用いられる。基板自体が追加の粗面電極層を基板上に設ける必要性なしに粗面層として働くため、該配列が非高度生産プロセスで特に有利である。
金属箔、例えば受動マトリクスディスプレー上で画像ポイントの配列も実現することが更に考えられる。この場合には、下部電極がストリップに再分割される；これと垂直に上部電極もストリップで蒸着される。この配列の場合には、個別の画像ポイントが励起されて、画像情報が代わる代わる表示される。
スペクトル的に広いまたは白色の光の発生にとり特に好ましい配列は、発光ダイオードの個別セグメントが互いに異なる放出スペクトルで配列されているものである。こうすると、広域スペクトル光を効率的に発することが可能である。この配列はストリップでまたは他の周期的もしくは非周期的反復エレメントで形成しうる。最大に可能な程度まで均等に放射しているように部品を観察者に見せるために、光散乱層を配列上に置くことも可能である。この層は配列上で直接分離させても、あるいはラミネートによりまたは接着法により適用してもよい。特に好ましい配列は、光散乱の機能を同時に発揮するように、封入の必要性に合わせて各層を設計することである。
本発明は、図面を参考にして、具体例に基づき、以下で更に詳細に説明されている。
以下の記載において、電荷キャリア輸送／注入層は、対応層を通る電荷キャリアの好ましいまたは本質的に排他的な伝導または輸送タイプに応じて、ホール輸送または電子輸送層と称されている。
具体例１
青色発光ＯＬＥＤの態様は下記層を含んでなる：
１ 基板、アルミニウム箔
２ 銀層、スパッタされている
３ ホール輸送層：スピロＴＴＢ、２％ＮＤＰ‐２でｐ‐ドープ、３５ｎｍ厚
４ 電子ブロック層、スピロＴＡＤ、１０ｎｍ
５ エミッタ層‐青色エミッタ、２０ｎｍ
６ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１０ｎｍ
７ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１：１比でＣｓでｎ‐ドープ、１３０ｎｍ
８ 透明カソード、Ａｇ蒸着、１５ｎｍ
青色発光ＯＬＥＤの態様は下記層を含んでなる：
１ 基板、アルミニウム箔
２ 銀層、スパッタされている
３ ホール輸送層：スピロＴＴＢ、２％ＮＤＰ‐２でｐ‐ドープ、３５ｎｍ厚
４ 電子ブロック層、スピロＴＡＤ、１０ｎｍ
５ エミッタ層‐青色エミッタ、２０ｎｍ
６ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１０ｎｍ
７ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１：１比でＣｓでｎ‐ドープ、１３０ｎｍ
８ 透明カソード、Ａｇ蒸着、１５ｎｍ
図１はこのタイプの有機発光部品２種の電流‐電圧特性曲線を示している（四角および丸）；これとの比較として、クリーンルーム条件下で生産されたＣｒ／Ａｇ接点を有する高品質ガラス基板で実現された類似部品（三角）が示されている。ＯＬＥＤが有意に良いブロック特性曲線を有することは明らかである。ここで意外な面は、この効果が例外的に厚い電子輸送層を単に要するという事実である。
具体例２
緑色発光ＯＬＥＤの態様は下記層を含んでなる：
１０ 基板、アルミニウム箔
１１ 銀層、スパッタされている
１２ ホール輸送層：スピロＴＴＢ、２％ＮＤＰ‐２でｐ‐ドープ、４８ｎｍ厚
１３ 電子ブロック層、スピロＴＡＤ、１０ｎｍ
１４ エミッタ層Ｉ、ＴＣＴＡ：Ｉｒ（ｐｐｙ）３（９％）、５ｎｍ
１５ エミッタ層II、ＴＰＢＩ：Ｉｒ（ｐｐｙ）３（９％）、１０ｎｍ
１６ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１０ｎｍ
１７ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１：１比でＣｓでｎ‐ドープ、１３０ｎｍ
１８ 透明カソード、Ａｇ蒸着、１５ｎｍ
１９ 被覆層：スピロＴＴＢ、９０ｎｍ
緑色発光ＯＬＥＤの態様は下記層を含んでなる：
１０ 基板、アルミニウム箔
１１ 銀層、スパッタされている
１２ ホール輸送層：スピロＴＴＢ、２％ＮＤＰ‐２でｐ‐ドープ、４８ｎｍ厚
１３ 電子ブロック層、スピロＴＡＤ、１０ｎｍ
１４ エミッタ層Ｉ、ＴＣＴＡ：Ｉｒ（ｐｐｙ）３（９％）、５ｎｍ
１５ エミッタ層II、ＴＰＢＩ：Ｉｒ（ｐｐｙ）３（９％）、１０ｎｍ
１６ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１０ｎｍ
１７ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１：１比でＣｓでｎ‐ドープ、１３０ｎｍ
１８ 透明カソード、Ａｇ蒸着、１５ｎｍ
１９ 被覆層：スピロＴＴＢ、９０ｎｍ
図２は、第二態様による有機発光部品２種の輝度‐電圧特性曲線を示している（四角および丸、各々で層１９有および無）。１００Ｃｄ／ｍ２の明るさが既に２．９Ｖで得られ、最大性能効率は１０，０００Ｃｄ／ｍ２のとき５０ｌｍ／Ｗである。これは、ＯＬＥＤが金属基板で優れたパラメーターで実現しうることを示している。
上記のような態様は、金属基板と有機層連続体の最下層との間にどのような絶縁層も形成されていない、という共通点を有している。ここで記載された態様の代わりに、有機発光ダイオードの下部電極として、金属基板、例えばアルミニウム箔が形成されるように、有機層連続体が金属基板上に直接配置されることが考えられる。こうすると、金属基板とは別に生産される電極を形成するための物質が省かれる。加えて、有機発光ダイオードの生産に際してこの場合に必要なプロセスステップが省ける。
具体例３
具体例３では、金属基板上の追加ワニス層が漏電の減少、ひいては電気的性質の改善にどの程度寄与するかが示されている。同時に、表面の更なる均質化に寄与する厚いｐ側が用いられている。この目的のため、設計上類似した下記構造のＯＬＥＤ２種を図３では比較している：一方は平滑層２１付きで作製され、他方はそれなしで作製された。
２０ 基板、アルミニウム箔
２１ 平滑層、ワニス（任意）
２２ 銀層、スパッタされている
２３ ホール輸送層：ＭｅＯ‐ＴＰＤ、４％Ｆ４‐ＴＣＮＱでｐ‐ドープ、１５０ｎｍ厚
２４ 電子ブロック層、スピロＴＡＤ、１０ｎｍ
２５ エミッタ層、ＴＣＴＡ：Ｉｒ（ｐｐｙ）３（８％）、２０ｎｍ
２６ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１０ｎｍ
２７ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１：１比でＣｓでｎ‐ドープ、３０ｎｍ
２８ 透明カソード、Ａｇ蒸着、１５ｎｍ
具体例３では、金属基板上の追加ワニス層が漏電の減少、ひいては電気的性質の改善にどの程度寄与するかが示されている。同時に、表面の更なる均質化に寄与する厚いｐ側が用いられている。この目的のため、設計上類似した下記構造のＯＬＥＤ２種を図３では比較している：一方は平滑層２１付きで作製され、他方はそれなしで作製された。
２０ 基板、アルミニウム箔
２１ 平滑層、ワニス（任意）
２２ 銀層、スパッタされている
２３ ホール輸送層：ＭｅＯ‐ＴＰＤ、４％Ｆ４‐ＴＣＮＱでｐ‐ドープ、１５０ｎｍ厚
２４ 電子ブロック層、スピロＴＡＤ、１０ｎｍ
２５ エミッタ層、ＴＣＴＡ：Ｉｒ（ｐｐｙ）３（８％）、２０ｎｍ
２６ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１０ｎｍ
２７ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１：１比でＣｓでｎ‐ドープ、３０ｎｍ
２８ 透明カソード、Ａｇ蒸着、１５ｎｍ
図３でみられるように、輝度‐電圧特性の更なる改善が、金属基板上で追加の平滑層、例えばワニスの使用により得られる。厚いドープされた輸送層の同時使用で、低使用電圧、ひいては性能効率が実現されることが強調されねばならない。
具体例４
別な特徴として、例えば、金属基板、有機発光ダイオードおよび少なくとも１つのドープされた電荷キャリア輸送層を含有した、照明または広告目的の物品も取扱える。ここで提示されているような特許の請求項に従いＯＬＥＤ用の基板として働くコーク缶が、例としてここでは示されており、ＯＬＥＤ‐基板としてうまく働いている。
別な特徴として、例えば、金属基板、有機発光ダイオードおよび少なくとも１つのドープされた電荷キャリア輸送層を含有した、照明または広告目的の物品も取扱える。ここで提示されているような特許の請求項に従いＯＬＥＤ用の基板として働くコーク缶が、例としてここでは示されており、ＯＬＥＤ‐基板としてうまく働いている。
層構造配置：
３０ 基板、コーク缶（ワニス付シート金属）
３１ 銀層、スパッタされている
３２ ホール輸送層：ＭｅＯ‐ＴＰＤ、４％Ｆ４‐ＴＣＮＱでｐ‐ドープ、１５０ｎｍ厚
３３ 電子ブロック層、スピロＴＡＤ、１０ｎｍ
３４ エミッタ層、ＴＣＴＡ：Ｉｒ（ｐｐｙ）３（８％）、２０ｎｍ
３６ 電子輸送層、ＴＰＢｉ、１０ｎｍ
３７ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１：１比でＣｓでｎ‐ドープ、３０ｎｍ
３８ 透明カソード、Ａｇ蒸着、１５ｎｍ
３０ 基板、コーク缶（ワニス付シート金属）
３１ 銀層、スパッタされている
３２ ホール輸送層：ＭｅＯ‐ＴＰＤ、４％Ｆ４‐ＴＣＮＱでｐ‐ドープ、１５０ｎｍ厚
３３ 電子ブロック層、スピロＴＡＤ、１０ｎｍ
３４ エミッタ層、ＴＣＴＡ：Ｉｒ（ｐｐｙ）３（８％）、２０ｎｍ
３６ 電子輸送層、ＴＰＢｉ、１０ｎｍ
３７ 電子輸送層、ＢＰｈｅｎ、１：１比でＣｓでｎ‐ドープ、３０ｎｍ
３８ 透明カソード、Ａｇ蒸着、１５ｎｍ
しかしながら、基板に別な層を施すことも有利である。これらには例えば、例えば反射を増すために用いうる誘電層、または絶縁有機中間層がある。特に有利な配列は、例えば、電極としてフォローアップ薄銀層を付した誘電層である。このような配列も、記載されているような受動マトリクス配列で特に有利である。
この記載、請求項および図面で開示されているような本発明の特徴は、様々な態様で本発明の実現のために、個別的およびランダムな組合せの双方で重要となりうる。
図は以下を示している：
本発明の一態様による有機発光部品の電流‐電圧特性曲線である。
本発明の別な態様による有機発光部品の輝度‐電圧特性曲線である。
平滑中間層を有する本発明の他の態様による有機発光部品の輝度‐電圧特性曲線である。
工業生産基板（コーク缶）上の有機発光部品に関するイラストと輝度‐電圧特性曲線である。
Claims (34)
- 電極と、対電極と、電極および対電極間に配置された有機層連続体を備えた層配列を有する有機発光ダイオードであって、該有機層連続体が金属基板上に配置され、１または数個の有機輸送層が導電性を増す混合物を各々含有するとともに、電荷キャリア輸送および電荷キャリア注入からなる特徴群のうち少なくとも１つの特徴を伴って形成されている、有機発光ダイオード。
- 平面電気接点が金属基板と有機層連続体との間に形成され、該接点に絶縁層が無い、請求項１に記載の有機発光ダイオード。
- 金属基板が該金属基板の表面を滑らかにする層で被覆され、該層が所望のようにワニスまたはポリマー物質からなる、請求項１に記載の有機発光ダイオード。
- 有機層連続体が金属基板上に直接堆積され、該金属基板で電極が形成されている、請求項１または２に記載の有機発光ダイオード。
- 電極が金属基板上で導電層として形成されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 電極が正電気接点で、対電極が負電気接点である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 電極が負電気接点で、対電極が正電気接点である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 導電層が少なくとも部分的に銀からなる、請求項６〜８のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 金属基板がアルミニウムからなる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 金属基板がスチールからなる、請求項１〜８のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 金属基板がフレキシブルである、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 金属基板に面する電荷キャリア輸送層が、構築的放出により光放出を支えられる層厚で形成されている、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 金属基板に面する電荷キャリア輸送層の層厚が少なくとも（３／４）λであり、ここでλが層配列から発せられる光の放出波長である、請求項１２に記載の有機発光ダイオード。
- 金属基板から離れて面する電荷キャリア輸送層が、構築的放出により光放出を支えられる層厚で形成されている、請求項１〜１１および１３のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 電荷キャリア輸送層が滑らかに形成されている、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 電荷キャリア輸送層がマトリクス物質としてＣ６０を含有している、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 金属基板が有機層連続体で生じる光の光抽出を改善する構造を有し、該構造が所望のように周期的または非周期的構造として形成されている、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 環境的影響から保護のためトップ電極上で１または数層の透明層系により特徴付けられる、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 透明層系がラミネーションで適用されている、請求項１８に記載の有機発光ダイオード。
- 配列が白色発光式で形成されている、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 有機層連続体で封入されている発光層が、横方向に配置されたストリップ、周期幾何学的エレメント、および非周期幾何学的エレメントのうち１以上の配置に従い、様々なエミッタ物質で形成されている、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 光散乱層で特徴付けられる、請求項２１に記載の有機発光ダイオード。
- 層配列が金属基板上にモノリシックに配置されている、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 平滑層が電気的に絶縁している、請求項３〜２３のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- いくつかの有機発光ダイオードユニットが互いにモノリシックに積み重ねられ、層配列が白色発光式で形成されている、請求項１〜２４のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 層配列がロール・ツー・ロールから連続的に生産される、請求項１〜２５のいずれか一項に記載の有機発光ダイオード。
- 電気的に分かれたエリアを形成するために金属基板に絶縁層を設けることにより、いくつかの有機発光ダイオードが金属基板の電気的に分かれた個別のエリアに形成されている、請求項１〜２６のいずれか一項に記載の有機発光ダイオードの配列。
- 絶縁層が金属基板上にプリントされている、請求項２７に記載の配列。
- 絶縁層が金属基板上に蒸着されている、請求項２７に記載の配列。
- 絶縁層が金属基板上にスパッタされている、請求項２７に記載の配列。
- 絶縁層がラミネーションにより金属基板へ適用されている、請求項２７に記載の配列。
- 金属基板に面する電極が別な絶縁層によりストリップエレメントに分割され、金属基板から離れて面する対電極が該ストリップエレメントと垂直な別のストリップエレメントに再分割され、こうして受動マトリクス配列の個別に制御可能な画像ポイントが形成されている、請求項２７〜３１のいずれか一項に記載の配列。
- 対電極が横方向に制限されたエレメントに再分割されている、請求項２７〜３２のいずれか一項に記載の配列。
- いくつかの有機発光ダイオードの層配列がロール・ツー・ロールから１本のバンド上で連続的に製造され、蒸発源が該バンドと横向きに空間的に離れた蒸気ローブを放射するようにストリップエレメントが形成されている、請求項３２または３３に記載の配列。
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