JP2005316166A - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005316166A JP2005316166A JP2004134440A JP2004134440A JP2005316166A JP 2005316166 A JP2005316166 A JP 2005316166A JP 2004134440 A JP2004134440 A JP 2004134440A JP 2004134440 A JP2004134440 A JP 2004134440A JP 2005316166 A JP2005316166 A JP 2005316166A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- exposed
- exposure apparatus
- optical system
- imaging
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7007—Alignment other than original with workpiece
- G03F9/7011—Pre-exposure scan; original with original holder alignment; Prealignment, i.e. workpiece with workpiece holder
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
- G03F9/7007—Alignment other than original with workpiece
- G03F9/7015—Reference, i.e. alignment of original or workpiece with respect to a reference not on the original or workpiece
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7088—Alignment mark detection, e.g. TTR, TTL, off-axis detection, array detector, video detection
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】 露光光学系3によりレーザビームをガラス基板8に対して相対的に走査し、該ガラス基板8上に機能パターンを直接露光する露光装置1であって、前記ガラス基板8に対して前記露光光学系3と同じ側に配設され、前記ガラス基板8に予め形成された基準となるブラックマトリクス21のピクセル22を撮像する撮像手段5と、前記ガラス基板8に対して上下方向の少なくとも一方に配設され、前記ピクセル22を照明して前記撮像手段5による撮像を可能にする照明手段6と、前記撮像手段5で撮像された前記ピクセル22に予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にして前記レーザビームの照射開始又は照射停止の制御を行う光学系制御手段7とを備えたものである。
【選択図】 図1
Description
図1は本発明による露光装置の第1の実施形態を示す概念図である。この露光装置1は、被露光体上に機能パターンを直接露光するもので、レーザ光源2と、露光光学系3と、搬送手段4と、撮像手段5と、照明手段6と、光学系制御手段7とを備えてなる。なお、上記機能パターンとは、製品が本来の目的の動作をするのに必要な構成部分のパターンであり、例えば、カラーフィルターにおいては、ブラックマトリクスのピクセルパターンや赤、青、緑の各色フィルターのパターンであり、半導体部品においては、配線パターンや各種電極パターン等である。以下の説明においては、被露光体としてカラーフルター用のガラス基板を用いた例を説明する。
先ず、露光装置1に電源が投入されると、光学系制御手段7が駆動する。これにより、レーザ光源2が起動してレーザビームが発射される。同時に、ポリゴンミラー12が回転を開始し、レーザビームの走査が可能になる。ただし、このときはまだ、光スイッチ9はオフされているためレーザビームは照射されない。
図14に示す本第4の実施形態の露光装置1は、撮像手段5と照明手段6とを共に搬送手段4の下方に配設しており、ガラス基板8上の反射照明により該ガラス基板8の表面に予め形成されたブラックマトリクス21のピクセル22を撮像できるようにしたものである。
図15に示す本第3の実施形態の露光装置1は、撮像手段5を搬送手段6の上方に配設すると共に、照明手段6a,6bを搬送手段4の上下両側に配設し、互いに切換えて使用可能にしたものである。
図16に示す本第4の実施形態の露光装置1は、撮像手段5と、照明手段6とを共に搬送手段4の下方に配設し、透明なガラス基板8を透して下方から該ガラス基板8の表面に予め形成されたブラックマトリクス21のピクセル22を撮像できるようにしたものである。
図15に示す本第5の実施形態に係る露光装置1は、撮像手段5を搬送手段4の下方に配設し、照明手段6を搬送手段4の上方に配設しており、透明なガラス基板8を透して下方から該ガラス基板8の表面に予め形成されたブラックマトリクス21のピクセル22を撮像できるようにしたものである。
3…露光光学系
5…撮像手段
6,6a,6b…照明手段
7…光学系制御手段
8…ガラス基板(被露光体)
21…ブラックマトリクス
22…ピクセル(機能パターン)
Claims (8)
- 露光光学系により光ビームを被露光体に対して相対的に走査し、該被露光体上に機能パターンを直接露光する露光装置であって、
前記被露光体に対して前記露光光学系と同じ側に配設され、前記被露光体に予め形成された露光位置の基準となる機能パターンを撮像する撮像手段と、
前記被露光体に対して上下方向の少なくとも一方に配設され、前記基準となる機能パターンを照明して前記撮像手段による撮像を可能にする照明手段と、
前記撮像手段で撮像された前記基準となる機能パターンに予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にして前記光ビームの照射開始又は照射停止の制御を行う光学系制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記照明手段は、前記被露光体に対して前記撮像手段と同じ側に配設したことを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記被露光体は透明な基板であり、前記照明手段は前記被露光体に対して前記撮像手段と反対側に配設したことを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記照明手段は、前記被露光体に対して上下方向の両側に配設し、互いに切換えて使用可能にしたことを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 露光光学系により光ビームを透明な被露光体に対して相対的に走査し、該被露光体上に機能パターンを直接露光する露光装置であって、
前記被露光体に対して前記露光光学系と反対側に配設され、前記被露光体に予め形成された露光位置の基準となる機能パターンを撮像する撮像手段と、
前記被露光体に対して上下方向の少なくとも一方に配設され、前記基準となる機能パターンを照明して前記撮像手段による撮像を可能にする照明手段と、
前記撮像手段で撮像された前記基準となる機能パターンに予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にして前記光ビームの照射開始又は照射停止の制御を行う光学系制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記照明手段は、前記被露光体に対して前記撮像手段と同じ側に配設したことを特徴とする請求項5記載の露光装置。
- 前記照明手段は、前記被露光体に対して前記撮像手段と反対側に配設したことを特徴とする請求項5記載の露光装置。
- 前記照明手段は、前記被露光体に対して上下方向の両側に配設し、互いに切換えて使用可能にしたことを特徴とする請求項5記載の露光装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004134440A JP4338577B2 (ja) | 2004-04-28 | 2004-04-28 | 露光装置 |
TW94113744A TWI394007B (zh) | 2004-04-28 | 2005-04-28 | 曝光裝置 |
PCT/JP2005/008114 WO2005106590A1 (ja) | 2004-04-28 | 2005-04-28 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004134440A JP4338577B2 (ja) | 2004-04-28 | 2004-04-28 | 露光装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005316166A true JP2005316166A (ja) | 2005-11-10 |
JP2005316166A5 JP2005316166A5 (ja) | 2007-05-24 |
JP4338577B2 JP4338577B2 (ja) | 2009-10-07 |
Family
ID=35241829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004134440A Expired - Fee Related JP4338577B2 (ja) | 2004-04-28 | 2004-04-28 | 露光装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4338577B2 (ja) |
TW (1) | TWI394007B (ja) |
WO (1) | WO2005106590A1 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007113933A1 (ja) * | 2006-04-05 | 2007-10-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | 露光方法および露光装置 |
JP2008076709A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
JP2008096654A (ja) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造装置および製造方法 |
JP2009188012A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Nsk Ltd | 露光装置 |
JP2009186555A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Nsk Ltd | 露光装置 |
JP2009251290A (ja) * | 2008-04-07 | 2009-10-29 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
US8815477B2 (en) | 2008-05-28 | 2014-08-26 | Toppan Printing Co., Ltd. | Color filter manufacturing method, patterned substrate manufacturing method, and small photomask |
JP2019148825A (ja) * | 2015-12-17 | 2019-09-05 | 株式会社ニコン | パターン描画装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI386762B (zh) * | 2005-05-24 | 2013-02-21 | V Technology Co Ltd | 曝光裝置及圖形形成方法 |
DE102006014380A1 (de) * | 2006-03-27 | 2007-10-11 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage mit negativer Schnittweite der Eintrittspupille |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09320939A (ja) * | 1996-05-29 | 1997-12-12 | Nikon Corp | 位置検出方法及び装置 |
FR2800565B1 (fr) * | 1999-11-03 | 2002-10-25 | Automa Tech Sa | Dispositif de mesure d'erreur de position relative |
BR0002187A (pt) * | 2000-03-30 | 2001-11-13 | Brasil Compressores Sa | Processo de formação de pacote anelar delâminas metálicas de estator de motor linear e opacote anelar de lâminas metálicas formado |
JP2002040669A (ja) * | 2000-07-19 | 2002-02-06 | Toray Eng Co Ltd | 描画装置 |
JP2004012903A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
-
2004
- 2004-04-28 JP JP2004134440A patent/JP4338577B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-04-28 TW TW94113744A patent/TWI394007B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-04-28 WO PCT/JP2005/008114 patent/WO2005106590A1/ja active Application Filing
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007113933A1 (ja) * | 2006-04-05 | 2007-10-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | 露光方法および露光装置 |
US8055099B2 (en) | 2006-04-05 | 2011-11-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Exposure method and exposure device |
US8159674B2 (en) | 2006-04-05 | 2012-04-17 | Sharp Kabushiki Kaisha | Exposure method and exposure device |
JP5133239B2 (ja) * | 2006-04-05 | 2013-01-30 | シャープ株式会社 | 露光方法および露光装置 |
JP2008076709A (ja) * | 2006-09-21 | 2008-04-03 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
JP2008096654A (ja) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造装置および製造方法 |
JP2009188012A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Nsk Ltd | 露光装置 |
JP2009186555A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Nsk Ltd | 露光装置 |
JP2009251290A (ja) * | 2008-04-07 | 2009-10-29 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
US8815477B2 (en) | 2008-05-28 | 2014-08-26 | Toppan Printing Co., Ltd. | Color filter manufacturing method, patterned substrate manufacturing method, and small photomask |
JP2019148825A (ja) * | 2015-12-17 | 2019-09-05 | 株式会社ニコン | パターン描画装置 |
CN110221527A (zh) * | 2015-12-17 | 2019-09-10 | 株式会社尼康 | 图案描绘装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200537257A (en) | 2005-11-16 |
JP4338577B2 (ja) | 2009-10-07 |
TWI394007B (zh) | 2013-04-21 |
WO2005106590A1 (ja) | 2005-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5780659B2 (ja) | 3次元形状測定装置 | |
JP5086687B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
US7812920B2 (en) | Production method of substrate for liquid crystal display using image-capturing and reference position detection at corner of pixel present in TFT substrate | |
JP2006017895A (ja) | 露光装置 | |
JP4338577B2 (ja) | 露光装置 | |
US20180061041A1 (en) | Wafer inspection apparatus and wafer inspection method using the same | |
JP2003162068A (ja) | レーザ描画方法とその装置 | |
JP4253707B2 (ja) | 露光パターン形成方法 | |
JP4253708B2 (ja) | 露光装置 | |
JP4235584B2 (ja) | 露光装置及びパターン形成方法 | |
JP4195413B2 (ja) | 露光装置及びパターン形成方法 | |
KR101098729B1 (ko) | 노광 장치 및 패턴 형성 방법 | |
JP2003237031A (ja) | スクリーン印刷用アライメント装置 | |
JP2009058698A (ja) | 露光装置 | |
JP4338628B2 (ja) | 露光装置 | |
JP4613098B2 (ja) | 露光装置 | |
TWI386762B (zh) | 曝光裝置及圖形形成方法 | |
JP6879484B2 (ja) | 画像取得装置、露光装置、及び画像取得方法 | |
JP2009239310A (ja) | 露光装置 | |
JPH10162145A (ja) | パターンマッチング法における登録パターンの中心座標データの補正データを演算する演算装置及びそれを用いるレーザ描画装置 | |
JP2003153063A (ja) | 撮像装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070330 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070330 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080916 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081112 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081209 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20081212 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20081212 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20081215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090203 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20090218 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090421 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090508 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090515 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090623 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090630 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4338577 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120710 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120710 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150710 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |