JP2004349294A

JP2004349294A - 半導体レーザモジュール

Info

Publication number: JP2004349294A
Application number: JP2003141617A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Moriya; 浩志守谷; Yoshiaki Ashida; 喜章芦田; Yoshiaki Niwa; 善昭丹羽
Original assignee: Hitachi Ltd; Opnext Japan Inc
Current assignee: Hitachi Ltd; Opnext Japan Inc
Priority date: 2003-05-20
Filing date: 2003-05-20
Publication date: 2004-12-09
Anticipated expiration: 2023-05-20
Also published as: US6961357B2; US20040233951A1; JP4072093B2

Abstract

【課題】応力を十分に低減でき、歩留まりの向上した半導体レーザモジュールを提供することにある。
【解決手段】半導体レーザ素子１と、半導体レーザ素子１を半田材３を介して接合して搭載するサブマウント２と、サブマウント２を半田材５を介して接合して搭載する台座４とを有する。ここで、半導体レーザ素子１の光軸方向に垂直な方向におけるサブマウント２の幅をＷとし、サブマウント２の厚さをＴとするとき、Ｔ／Ｗ≧０．１５としている。
【選択図】図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体レーザモジュールに係り、特に、実装時の素子発生応力を低減するに好適な構造を有する半導体レーザモジュールに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、光通信用半導体レーザモジュールに搭載される半導体レーザ素子は、高出力化および波長の高精度化が要求されている。また、歩留りを向上するために、キンク発生や電流閾値増加等の素子特性劣化を防止する必要がある。これらの要求を満足するためには、半導体レーザ素子をサブマウントや台座に半田接合する際に発生する熱応力を低減する必要がある。
そこで、従来、例えば、特開平５−２９９６９９号公報に記載のように、鉄系材料の台座上に、半導体レーザ素子と線膨張係数の近いＡｌＮ（窒化アルミニウム）を母材とするサブマウントを使用する構成とし、さらに、サブマウントの厚さ寸法を適正化することで応力を低減するものが知られている。
【０００３】
また、例えば、特開２００１−１６８４４５号公報に記載のように、鉄系材料（もしくは銅系材料）の台座上にマウントする場合に、半導体レーザチップの幅寸法と、半導体レーザチップの厚さ寸法＋サブマウントの厚さ寸法を適正化して、応力を低減するものも知られている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平５−２９９６９９号公報
【特許文献２】
特開２００１−１６８４４５号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、本願発明者らが、特開平５−２９９６９９号公報に記載のようにサブマウントの厚さ寸法や、特開２００１−１６８４４５号公報に記載のように半導体レーザチップの厚さ寸法＋サブマウントの厚さ寸法に着目して研究を進めた結果、サブマウントの厚さだけでは、十分な応力低減が不可能な場合があることが判明した。応力を十分に低減できない場合には、電流閾値変動やキンク等の不良が発生するため、半導体レーザモジュールの製造時の歩留まりが低下するという問題があった。
【０００６】
本発明の目的は、応力を十分に低減でき、歩留まりの向上した半導体レーザモジュールを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
（１）上記目的を達成するために、本発明は、半導体レーザ素子と、この半導体レーザ素子を半田材を介して接合して搭載するサブマウントと、このサブマウントを半田材を介して接合して搭載する台座とを有する半導体レーザモジュールにおいて、前記半導体レーザ素子の光軸方向に垂直な方向における前記サブマウントの幅をＷとし、前記サブマウントの厚さをＴとするとき、Ｔ／Ｗ≧０．１５としたものである。
かかる構成によれば、応力を十分に低減でき、歩留まりを向上し得るものとなる。
【０００８】
（２）上記（１）において、好ましくは、前記半導体レーザ素子の主構成材料がインジウムリンであり、前記サブマウントを構成する部材が窒化アルミニウムであり、前記台座の主構成材料が銅タングステンとしたものである。
【０００９】
（３）上記目的を達成するために、本発明は、半導体レーザ素子と、この半導体レーザ素子を半田材を介して接合して搭載するサブマウントと、このサブマウントを半田材を介して接合して搭載する台座とを有する半導体レーザモジュールにおいて、前記サブマウントが少なくとも二つの部材の積層構造からなり、前記サブマウントを構成する第１の部材と第２の部材は、半田材Ａにより接合され、前記サブマウントの上面に前記半導体レーザ素子が半田材Ｂにより接合され、前記サブマウントの下面に前記台座が半田材Ｃにより接合され、上記半田材Ａ，Ｂ，Ｃの融点をそれぞれαＡ，αＢ，αＣとするとき、αＡ＞αＢ＞αＣとしたものである。
かかる構成によれば、応力を十分に低減でき、歩留まりを向上し得るものとなる。
【００１０】
（４）上記（３）において、好ましくは、前記半導体レーザ素子の主構成材料がインジウムリンであり、前記台座の主構成材料が銅タングステンであり、積層構造を有する前記サブマウントを構成する二つの部材の内、半導体レーザ素子側に位置する第１の部材がが窒化アルミニウムであり、台座側に位置する第２の部材が銅タングステンとしたものである。
【００１１】
（５）上記（３）において、好ましくは、前記半田材Ａの主構成材料が金ゲルマニウムであり、前記半田材Ｂの主構成材料が金錫であり、前記半田材Ｃの主構成材料が錫銀としたものである。
【００１２】
（６）上記目的を達成するために、本発明は、半導体レーザ素子と、この半導体レーザ素子を半田材を介して接合して搭載するサブマウントと、このサブマウントを半田材を介して接合して搭載する台座とを有する半導体レーザモジュールにおいて、前記半導体レーザ素子に働く応力を±２０ＭＰａ以下としたものである。
かかる構成によれば、応力を十分に低減でき、歩留まりを向上し得るものとなる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図１〜図８を用いて、本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールの構造について説明する。
最初に、図１を用いて、本実施形態による半導体レーザモジュールの構造について説明する。
図１は、本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールの構造を示す要部上面図である。
【００１４】
半導体レーザモジュール１００は、例えば、箱状のパッケージ本体１０１と蓋体１０２とで構成されるパッケージ１０３を有する。また、半導体レーザモジュール１００は、パッケージ１０３の内外に亘って延在する光ケーブル（光ファイバー）１０４を有する。光ケーブル１０４は、パッケージ本体１０１に貫通状態に設けられたガイドパイプ１０６に挿入されるとともに、図示しない接合材で固定されている。
【００１５】
パッケージ本体１０１の底部の中央上面には、サブマウント２および台座４を介して、半導体レーザ素子１が搭載されている。半導体レーザ素子１の搭載状態の詳細については、図２を用いて後述する。光ケーブル１０４の先端部分は、アイソレータ１０７に光学的に接続されている。このアイソレータ１０７と半導体レーザ素子１の出射面との間には、レンズ６が配置されている。
【００１６】
パッケージ本体１０１の両側面には、複数の電極端子１０５が配列されて電極端子付きパッケージとなっている。これらの電極端子１０５は、パッケージ本体１０１の内外に亘って延在している。
【００１７】
また、半導体レーザ素子１は、電極パッド１０８，１０９を経由して、ワイヤ１１０により電極端子１０５に電気的に接続されている。
【００１８】
また、パッケージ本体１０１の底部の上面には、サブマウント１１１を介して受光素子１１２が固定されている。受光素子１１２の電極およびサブマウント１１１は、ワイヤ１１３を介して電極端子１０５に電気的に接続されている。
【００１９】
次に、図２を用いて、本実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１のサブマウント２及び台座４への搭載状態について説明する。
図２は、本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１のサブマウント２及び台座４への搭載状態を示す斜視図である。
【００２０】
半導体レーザ素子１は、半田材３を介してサブマウント２に接合されている。また、サブマウント２は、半田材５を介して台座４に接合されている。また、半導体レーザ素子１の光軸７の方向には、レンズ６が半田材（図示せず）を介してサブマウント２に接合されている。なお、レンズ６の接合箇所は、サブマウント２に限らず、これ以外に台座などであってもよいものである。
【００２１】
ここで、サブマウント２の厚さＴは、レーザ素子１が搭載されている位置におけるサブマウントの厚さを示している。また、サブマウント２の幅Ｗは、レーザ素子１が搭載されている位置における光軸７に直角な方向のサブマウント２の幅を示している。
【００２２】
半導体レーザモジュールの製造においては、レーザ素子の特性（電流閾値，微分効率，キンク発生の有無等）の検査が、レーザ素子組立て工程後およびモジュール組立て工程後で行われる。レーザ素子組立て工程とは、半導体レーザ素子をサブマウントおよび検査用台座に搭載する工程である。また、モジュール組立て工程とは、半導体レーザ素子が搭載されたサブマウントを検査用台座から取り外し、製品用台座および光ケーブル，アイソレータ，レンズ等の光部品を有するパッケージ本体に搭載する工程である。
【００２３】
そして、検査用台座としては、例えば、熱伝導率の大きく安価な銅（Ｃｕ）が用いられ、製品用台座としては、銅よりは熱伝導率は小さいが、線膨張係数が銅より小さい銅タングステン（ＣｕＷ）が用いられる。検査用台座と製品用台座とは、本来は同じ材質のものを用いた方がレーザ素子の特性を検査する上では好ましいものである。しかしながら、検査用台座は数回使用すると廃棄するしかないため、高価な銅タングステンを使用することができない。そこで、検査用台座としては銅を用い、製品用台座としては、銅よりも線膨張係数が小さく、サブマウントやレーザ素子の線膨張係数により近い線膨張係数を有する高価な銅タングステンを使用している。以上のように、検査用台座と製品用台座の材質が異なるため、例えば、検査用台座を用いたレーザ素子組立工程後の検査では良品と判断されても、その後の製品用台座を用いたモジュール組立工程後の検査では不良と判断される場合もある。
【００２４】
次に、図３及び図４を用いて、本実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力について説明する。
図３及び図４は、本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力の説明図である。
【００２５】
図３は、半導体レーザ素子１の光活性層（図示せず）に働く応力とサブマウント厚Ｔとの関係を示している。図３の縦軸は、半導体レーザ素子１の光活性層に働くレーザ素子応力（ＭＰａ）を示している。ここで、負の応力値は圧縮応力を、正の応力値は引張応力を示している。また、図３の横軸は、サブマウント２の厚さＴ（μｍ）を示している。すなわち、図３は、レーザ素子応力のサブマウント厚さＴに対する依存性を示している。
【００２６】
図３において、レーザ素子応力とは、図２に示したように、レーザ素子１、サブマウント２および台座４を半田３，５により接合した際に発生する熱応力を示し、室温での値である。また、図３に示した結果は、有限要素法（ＦＥＭ：ＦｉｎｉｔｅＥｌｅｍｅｎｔＭｅｔｈｏｄ）解析より得られた計算結果である。ここで、半導体レーザ素子１はインジウムリン（ＩｎＰ）からなる。半導体レーザ素子１の光軸７の方向の長さが２００μｍであり、光軸７に直交する方向の幅が４００μｍであり、厚さが１００μｍの場合である。また、台座４の材質は、検査用台座として用いられる銅（Ｃｕ）であり、サブマウント２の材質は窒化アルミニウム（ＡｌＮ）である。さらに、半田材３として金錫（ＡｕＳｎ）を用い、半田材５として錫鉛（ＰｂＳｎ）を用いている。
【００２７】
そして、図３は、サブマウント厚さＴに対するレーザ素子応力の変化を求めた結果を示している。このとき、本例では、サブマウント幅Ｗが２８００μｍの場合（実線Ａ１）と、４８００μｍの場合（実線Ａ２）について、サブマウント厚さＴに対するレーザ素子応力の変化を求めている。
【００２８】
図３に示すように、サブマウント２の厚さＴにより半導体レーザ素子１に働く応力が変化する。特に、サブマウント厚さＴが薄い場合には圧縮応力が、厚い場合には引張応力が半導体レーザ素子１に働くことがわかる。また、半導体レーザ素子１に働く応力は、サブマウント２の幅Ｗにも依存することもわかる。したがって、サブマウント２の厚さＴを規定するだけでは、必ずしも十分に応力を低減できない場合があることになる。
【００２９】
キンク等の素子不良を防止するためには、レーザ素子に働く応力を小さくする必要がある。図３より、サブマウント幅Ｗが２８００μｍの場合は、厚さＴを約７００μｍとすることで、応力をほぼゼロにすることができることがわかる。また、サブマウント幅Ｗが４８００μｍの場合は、厚さＴを１０００μｍとすることで、応力をほぼゼロにすることができる。
【００３０】
また、図４は、半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力と、サブマウント厚Ｔ／幅Ｗとの関係を示す図である。図４の横軸は、サブマウント厚Ｔ／幅Ｗを示している。
【００３１】
図４は、図３に示した応力値を、サブマウント厚Ｔ／幅Ｗで整理し直した結果である。実線Ｂ１が幅Ｔが２８００μｍの場合であり、実線Ｂ２が幅Ｔが４８００μｍの場合である。これより、素子応力とＴ／Ｗとの関係がサブマウント幅Ｗによらない関係になっていることがわかる。すなわち、図４より、サブマウント厚さＴ／サブマウント幅Ｗを０．２２とすることで、サブマウントの幅によらず素子応力をほぼゼロにすることができることがわかる。
【００３２】
ここで、図５を用いて、本実施形態による半導体レーザモジュールにおける応力と不良率との関係について説明する。
図５は、本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールにおける応力と不良率との関係の説明図である。
【００３３】
図５は、図３と同様に、半導体レーザ素子１はインジウムリン（ＩｎＰ）からなり、半導体レーザ素子１の長さが２００μｍであり、幅が４００μｍであり、厚さが１００μｍのものを用いて、台座４の材質は、銅（Ｃｕ）として、サブマウント２の材質は窒化アルミニウム（ＡｌＮ）とし、さらに、半田材３として金錫（ＡｕＳｎ）を用い、半田材５として錫鉛（ＰｂＳｎ）を用いて、半導体レーザ素子１をサブマウント及び台座に搭載して、不良率を求めている。このとき、サブマウント２の幅Ｗは４８００μｍとして、サブマウント２の厚さＴを変えたサンプルを複数製造し、それぞれのサンプルについて図３の解析結果に基づき応力を求め、その応力と不良率の関係を求めたものである。ここで、横軸の応力は、引張り応力及び圧縮応力の両方を含むものである。但し、図３から理解されるように、引張り応力は＋２０ＭＰａ程度までしか発生しないため、横軸の２０ＭＰａ以上の不良率のデータは、圧縮応力に対するものである。しかしながら、２０ＭＰａ以下の領域においては、圧縮応力の場合も、引張り応力の場合も同様の不良率を示しているため、２０ＭＰａ以上の領域における引張り応力に対する不良率も同様の傾向を示すものと考えられる。
【００３４】
図５から理解されるように、応力が２０ＭＰａ以下の領域では、応力の増加とともに、不良率は変化しない。一方、応力が２０ＭＰａ以上になると、急激に不良率が増加する。この原因としては、半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力が２０ＭＰａ以上になると、光活性層内部の挙動が急激に変化するものと考えられる。
【００３５】
以上の結果、高出力化，波長高精度化に対応した半導体レーザ素子としては、レーザ素子に働く応力を−２０ＭＰａ以上＋２０ＭＰａ以下とすることで、キンク等の不良が低減できるものである。
【００３６】
以上の図５の結果に基づいて、図３の結果を評価すると、サブマウント幅Ｗが２８００μｍの場合はＴ≧４００μｍとすることにより、応力を±２０ＭＰａとすることができ、結果として不良率を低減でき、歩留まりを向上できる。また、サブマウント幅Ｗが４８００μｍの場合はＴ≧７００μｍとすることにより、応力を±２０ＭＰａとすることができ、結果として不良率を低減でき、歩留まりを向上できる。なお、サブマウント厚Ｔが厚すぎると熱抵抗の増加に繋がるため、厚さＴの上限値は１５００ｍ以下が望ましいものである。
【００３７】
また、図５の結果に基づいて、図４の結果を評価すると、高出力化，波長高精度化に対応した半導体レーザ素子としては、レーザ素子に働く応力を−２０ＭＰａ以上＋２０ＭＰａ以下とするには、
Ｔ／Ｗ≧０．１５
とすることにより、応力を±２０ＭＰａとすることができ、結果として不良率を低減でき、キンク等の不良が防止でき、歩留まりを向上できる。また、上述したように、サブマウント厚Ｔが厚すぎると熱抵抗の増加に繋がるため、厚さＴの上限値は１５００ｍ以下が望ましいものである。
【００３８】
次に、図６〜図８を用いて、本実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力の台座の材質の相違について説明する。
図６〜図８は、本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力の台座の材質による相違の説明図である。
【００３９】
図６は、半導体レーザ素子１の光活性層（図示せず）に働く応力とサブマウント厚Ｔとの関係を示している。図６の縦軸は、半導体レーザ素子１の光活性層に働くレーザ素子応力（ＭＰａ）を示しており、負の応力値は圧縮応力を、正の応力値は引張応力を示している。また、図６の横軸は、サブマウント２の厚さＴ（μｍ）を示している。すなわち、図６は、レーザ素子応力のサブマウント厚さＴに対する依存性を示している。
【００４０】
図６は、台座の材質を製品用台座として用いるＣｕＷとした場合の、半導体レーザ素子１の光活性層（図示せず）に働く応力とサブマウント厚Ｔとの関係を示している。図３に示した条件とは、台座の材質のみが異なっている。図６では、図３と同様にサブマウント幅Ｗが、２８００μｍと４８００μｍの場合について示している。
【００４１】
図６より、サブマウント幅Ｗが２８００μｍの場合（実線Ｃ１）は、厚さＴを８００μｍとすることで、応力をほぼゼロにすることができることがわかる。また、サブマウント幅Ｗが４８００μｍの場合（実線Ｃ２）は、厚さＴを１４００μｍとすることで、応力をほぼゼロにすることができる。また、キンク等の不良を防止するためにレーザ素子に働く応力を−２０ＭＰａ以上２０ＭＰａ以下するには、サブマウント幅Ｗが２８００μｍの場合はＴ≧２５０μｍとし、サブマウント幅Ｗが４８００μｍの場合はＴ≧４００μｍとすれば良いものである。ただし、サブマウント厚Ｔが厚すぎると熱抵抗の増加に繋がるため、厚さの上限値としては１５００ｍ以下が望ましいものである。
【００４２】
図７は、半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力と、サブマウント厚Ｔ／幅Ｗとの関係を示す図である。図７の横軸は、サブマウント厚Ｔ／幅Ｗを示している。図７は、図６に示した応力値を、サブマウント厚Ｔ／幅Ｗで整理し直した結果である。これより、素子応力とＴ／Ｗとの関係がサブマウント幅Ｗによらない関係になっていることがわかる。すなわち、図７より、サブマウント厚さＴ／サブマウント幅Ｗを０．３とすることで、サブマウントの幅によらず素子応力をほぼゼロにすることができることがわかる。
【００４３】
図７から理解されるように、高出力化，波長高精度化に対応した半導体レーザ素子としては、レーザ素子に働く応力を−２０ＭＰａ以上＋２０ＭＰａ以下とするには、Ｔ／Ｗ≧０．１とし、これにより、結果として不良率を低減でき、歩留まりを向上できる。なお、サブマウント厚Ｔが厚すぎると熱抵抗の増加に繋がるため、望ましくは、厚さＴの上限値は１５００ｍ以下が望ましいものである。
【００４４】
図８は、図４と図７の結果を一つのグラフにまとめた結果を示す図である。すなわち、図７は、台座の材質をＣｕとした場合、およびＣｕＷとした場合の半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力とサブマウント厚Ｔ／幅Ｗとの関係を示す図である。
【００４５】
前述したように、検査用台座としては熱伝導率の大きく安価な銅を用い、製品用台座としては銅よりは熱伝導率は小さいが、線膨張係数が銅より小さい銅タングステンを用いた場合のように台座の材質が異なる場合、キンク発生等の不良を防止には、台座の材質が変わった場合でも、素子に発生する応力が小さくなるようにサブマウント厚さと幅を適正化すれば良いものである。
【００４６】
図８から理解されるように、台座として銅タングステンを用いた場合の方が、台座として銅を用いた場合よりも、応力が小さくなる。したがって、図８から、高出力化，波長高精度化に対応した半導体レーザ素子として、レーザ素子に働く応力を−２０ＭＰａ以上＋２０ＭＰａ以下とするには、銅台座の場合のデータより、Ｔ／Ｗ≧０．１５とすれば良いものである。ただし、図３の説明で述べたように、サブマウント厚Ｔが厚すぎると熱抵抗の増加に繋がるため、厚さの上限値としては１５００ｍ以下が望ましい。
【００４７】
また、発明者らの研究によれば、半導体レーザ素子から出射されるレーザ光の波長は、素子応力に依存することがわかった。すなわち、同じ素子であっても検査時の素子応力によって、素子から出射される波長が異なる場合があることがわかった。素子工程後の検査とモジュール工程後の検査で素子応力が異なることは、モジュール工程後の検査で良品と判定されるはずの素子が、素子工程後の検査で不良と判定される場合があることを示し、歩留まり低下につながる。歩留まり低下を防止するためには、検査ごとに検査用台座と製品用台座の材質が異なる場合においても、素子応力が台座の材質に依らないようにすればよいものである。そこで、台座の材質差による波長変動の影響について調べた結果、第１の台座（例えば、銅）を用いた時のレーザ素子応力と、第２の台座（例えば、銅タングステン）を用いた時のレーザ素子応力の差（素子応力差）が、少なくとも±１５ＭＰａであれば良いことが判明した。この観点からすると、図８より、０．１≦Ｔ／Ｗとすれば、検査時の素子の応力差は、台座の材質が変わっても±１５ＭＰａに抑えることができる。
【００４８】
一方、前述したように、キンク等の不良を防止するためには、素子応力を±２０ＭＰ以下にするには、Ｔ／Ｗ ≧０．１５とするのが良いものである。したがって、Ｔ／Ｗ≧０．１５とすれば、このときには、台座の相違による波長変動の影響も受けなくなるものである。
【００４９】
以上説明したように、本実施形態によれば、実装時の素子応力を低減することで、電流閾値変動やキンク等の不良を防止し、半導体レーザ素子及び半導体レーザーモジュールの歩留まりを向上することができる。
【００５０】
次に、図９〜図１２を用いて、本発明の第２の実施形態による半導体レーザモジュールの構造について説明する。
最初に、図９を用いて、本実施形態による半導体レーザモジュールの構造について説明する。
図９は、本発明の第２の実施形態による半導体レーザモジュールの構造を示す斜視図である。なお、本実施形態による半導体レーザモジュールの全体構造は、図１に示したものと同様である。また、図２と同一符号は同一部分を示している。
【００５１】
半導体レーザ素子１は、例えば，ＩｎＰ基板（幅４００μｍ×長さ２００μｍ×厚さ１００μｍ）に、光活性層，絶縁膜，電極等が形成されている。また、半導体レーザ素子１を搭載するサブマウント２は、半導体レーザ素子１の側のサブマウント上層部材２ａと、台座４の側のサブマウント下層部材２ｂとからなる厚さ方向に少なくとも二層以上の積層構造となっている。例えば、サブマウント上層部材２ａは、半導体レーザ素子の主材料であるＩｎＰ（線膨張係数４．３×１０^−６／℃）と線膨張係数が近い窒化アルミニウム（ＡｌＮ）（線膨張係数４．５×１０^−６／℃、熱伝導率１７０Ｗ／ｍ℃、４ｍｍ×２ｍｍ×厚さ０．３ｍｍ）である。サブマウント下層部材２ｂは、熱伝導率がサブマウント上層部材２ａよりも大きい銅タングステン（Ｃｕ２０Ｗ８０）（線膨張係数８．３×１０^−６／℃、熱伝導率２００Ｗ／ｍ℃、幅４ｍｍ×長さ２ｍｍ×厚さ１ｍｍ）である。
【００５２】
サブマウント上層部材２ａとサブマウント下層部材２ｂは、半田材Ｂにより半田接合されている。サブマウント上２に半導体レーザ素子１００が半田材Ａにより接合されている。さらに、サブマウント下層部材２ｂは、半田材Ｃにより台座４に接合されている。台座４は、銅タングステン（Ｃｕ２０Ｗ８０）（線膨張係数８．３×１０−６／℃、熱伝導率Ｗ／ｍ℃、厚さ２ｍｍ）である。なお、サブマウントの積層構造とは、少なくとも０．１ｍｍ以上の厚さを有する部材を組合せて構成される積層構造を言う。
【００５３】
ここで、半田材Ａ，Ｂ，Ｃの融点を、それぞれαＡ，αＢ，αＣとした場合、αＢ＞αＡ＞αＣの順となっている。例えば、半田材Ｂは金ゲルマニウム（ＡｕＧｅ）（融点３５６℃）であり、半田材Ａは金錫（ＡｕＳｎ）（融点２８０℃）であり、半田材Ｃは錫鉛（ＰｂＳｎ）（融点１８３℃）である。
【００５４】
次に、図１０を用いて、本実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子をサブマウント及び台座の搭載する第１の手順について説明する。
図１０は、本発明の第２の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子をサブマウント及び台座の搭載する第１の手順を示す工程図である。
【００５５】
図１０（Ａ）に示すように、サブマウント上層部材（ＡｌＮ）２ａとサブマウント下層部材（Ｃｕ２０Ｗ８０）２ｂは、半田材（ＡｕＧｅ）Ｂの融点３５６℃以上に熱せされた後、室温まで冷却されることによって接合され、サブマウント２が形成される。さらに、図１０（Ｂ）に示すように、サブマウント２の上に半導体レーザ素子１が、半田材（ＡｕＧｅ）Ａの融点２８０℃以上に熱せされた後、冷却されて接合される。さらに、図１０（Ｃ）に示すように、半導体レーザ素子１を搭載したサブマウント２は、半田材（ＰｂＳｎ）Ｃの融点１８３℃以上に熱せされた後冷却されて接合される。
【００５６】
本実施形態における半導体モジュールでは、サブマウント２が積層構造となっており、特にレーザ素子側のサブマウント上層部材２ａの線膨張係数がレーザ素子１００の線膨張係数に近い（線膨張係数の差が１×１０^‐６以下）ので、熱応力が働きにくいものである。また、サブマウント下層部材２ｂの熱伝導率がサブマウント上層部材２ａより大きいため、熱抵抗が小さく、高発熱のレーザ素子の放熱性に優れている。また、特に、サブマウント上層部材２ａとサブマウント下層部材２ｂとを接続している半田材Ｂと、半導体レーザ素子１とサブマウント上層部材２ａとを接合している半田材Ａ、およびサブマウント下層部材２ｃと台座４とを接続している半田材Ｃとの融点の大小関係が、αＢ＞αＡ＞αＣとなっている。すなわち、半導体レーザ素子１とサブマウント上層部材２ａ、サブマウント下層部材２ｂおよび台座４を接合する順番が、まず、サブマウント上層部材２ａとサブマウント下層部材２ｂとを接合した後、これに半導体レーザ素子１を接合し、さらにこれらと台座４を接合するという順番となっている。これにより、半導体レーザ素子に発生する熱応力を大幅に低く抑えることができる。
【００５７】
ここで、図１１を用いて、本実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子をサブマウント及び台座の搭載する第２の手順について説明する。この手順は、図１０に示した手順に対する比較例である。
【００５８】
図１１は、本発明の第２の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子をサブマウント及び台座の搭載する第２の手順を示す工程図である。
【００５９】
ここで、半田材Ａ，Ｂ，Ｃの融点をαＡ，αＢ，αＣとすると、αＣ＞αＡ＞αＢの順となっている。そして、図１０（Ａ）に示すように、半導体レーザ素子１をサブマウント上層部材２ａに半田材Ａにより接合し、別にサブマウント下層部材２ｂと台座４を半田材Ｃにより接合する。その後、図１０（Ｂ）に示すように、サブマウント上層部材２ａとサブマウント下層２ｂを半田材Ｂにより接合する。ここで、半田材ＡはＡｕＳｎであり、半田材ＢはＰｂＳｎであり、半田材ＣはＡｕＧｅである。
【００６０】
次に、図１２を用いて、本実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力について説明する。
図１２は、本発明の第２の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力の説明図である。
【００６１】
図１２（Ａ）は、半導体レーザ素子１の光活性層（図示せず）に働く応力とサブマウント厚Ｔとの関係を示している。図１２（Ａ）の縦軸は、半導体レーザ素子１の光活性層に働くレーザ素子応力（ＭＰａ）を示している。ここで、負の応力値は圧縮応力を、正の応力値は引張応力を示している。また、図１２（Ａ）の横軸は、サブマウント２の厚さＴ（μｍ）を示している。サブマウント厚さＴは、図１２（Ｂ）に示すようにサブマウント上層部材２ａの厚さＴ１と下層部材２ｂの厚さＴ２の和である。
【００６２】
ここで、接合方法１とは、図１０で示した順番で、半導体レーザ素子、サブマウントおよび台座を接合する場合を示す。また、接合方法２とは、図１１で示した順番で、半導体レーザ素子、サブマウントおよび台座を接合する場合を示す。
【００６３】
図１２（Ａ）は、有限要素法（ＦＥＭ：ＦｉｎｉｔｅＥｌｅｍｅｎｔＭｅｔｈｏｄ）解析より得られた計算結果である。ここで、半導体レーザ素子１の主構成材料はＩｎＰであり、厚さは１００μｍで幅を４００μｍとしている。サブマウント上層部材２ａはＡｌＮからなり、厚さＴ１が３００μｍで幅Ｗを１４００μｍとしている。サブマウント下層部材２ｂはＣｕ２０Ｗ８０からなり、厚さをＴ２としている。台座４はＣｕ２０Ｗ８０からなり、厚さを３０００μｍとした場合である。図１２（Ａ）は、レーザ素子の活性層に働く応力のサブマウント上層部材と下層部材の厚さの和Ｔ１＋Ｔ２の依存性、すなわちサブマウントの厚さ依存性を示したものである。
【００６４】
図１２（Ａ）に示すように、接合方法１では、接合方法２に比べ半導体レーザ素子に働く応力を低減できる。特に、サブマウントの厚さ（Ｔ１＋Ｔ２）を７５０μｍとすることで、半導体レーザ素子にほとんど応力が働かないようにすることが可能である。同様にして、サブマウント上層部材Ｗの幅が異なる場合においても、サブマウントを積層として半田材の融点の関係を接合方法１とすることで、応力を低減するサブマウント上層部材および下層部材の厚さＴ１とＴ２を決めることができる。
【００６５】
以上の用に、本実施形態においては、半導体レーザモジュールは、半導体レーザ素子を搭載するサブマウントを半導体レーザ素子の線膨張係数に近い部材と熱伝導率が大きい部材との積層構造とし、寸法，構成を適正化することで、半導体レーザ素子に働く応力発生を抑制することができ、素子劣化を防止することができる。これにより、実装時の素子発生応力を低減することができ、電流閾値変動やキンク等の不良を防止し、素子の高歩留まり化を実現した半導体レーザ素子及び半導体レーザモジュールを得ることができる。
【００６６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、応力を十分に低減でき、歩留まりを向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールの構造を示す要部上面図である。
【図２】本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１のサブマウント２及び台座４への搭載状態を示す斜視図である。
【図３】本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力の説明図である。
【図４】本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力の説明図である。
【図５】本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールにおける応力と不良率との関係の説明図である。
【図６】本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力の台座の材質による相違の説明図である。
【図７】本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力の台座の材質による相違の説明図である。
【図８】本発明の第１の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力の台座の材質による相違の説明図である。
【図９】本発明の第２の実施形態による半導体レーザモジュールの構造を示す斜視図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子をサブマウント及び台座の搭載する第１の手順を示す工程図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子をサブマウント及び台座の搭載する第２の手順を示す工程図である。
【図１２】本発明の第２の実施形態による半導体レーザモジュールにおける半導体レーザ素子１の光活性層に働く応力の説明図である。
【符号の説明】
１…半導体レーザ素子
２…サブマウント
２ａ…サブマウント上層部材
２ｂ…サブマウント下層部材
３…半田材
４…台座
１００…半導体レーザモジュール
１０１…パッケージ本体
１０２…蓋体
１０３…パッケージ
１０４…光ケーブル
１０５…電極端子
１０６…ガイドパイプ
１０７…アイソレータ
６…レンズ
１０３，１１０…ワイヤ
１０９…電極パッド

Claims

半導体レーザ素子と、この半導体レーザ素子を半田材を介して接合して搭載するサブマウントと、このサブマウントを半田材を介して接合して搭載する台座とを有する半導体レーザモジュールにおいて、
前記半導体レーザ素子の光軸方向に垂直な方向における前記サブマウントの幅をＷとし、前記サブマウントの厚さをＴとするとき、Ｔ／Ｗ≧０．１５としたことを特徴とする半導体レーザモジュール。
請求項１記載の半導体レーザモジュールにおいて、
前記半導体レーザ素子の主構成材料がインジウムリンであり、前記サブマウントを構成する部材が窒化アルミニウムであり、前記台座の主構成材料が銅タングステンであることを特徴とする半導体レーザモジュール。
半導体レーザ素子と、この半導体レーザ素子を半田材を介して接合して搭載するサブマウントと、このサブマウントを半田材を介して接合して搭載する台座とを有する半導体レーザモジュールにおいて、
前記サブマウントが少なくとも二つの部材の積層構造からなり、
前記サブマウントを構成する第１の部材と第２の部材は、半田材Ａにより接合され、
前記サブマウントの上面に前記半導体レーザ素子が半田材Ｂにより接合され、
前記サブマウントの下面に前記台座が半田材Ｃにより接合され、
上記半田材Ａ，Ｂ，Ｃの融点をそれぞれαＡ，αＢ，αＣとするとき、αＡ＞αＢ＞αＣとしたことを特徴とする半導体レーザモジュール。
請求項３記載の半導体レーザモジュールにおいて、
前記半導体レーザ素子の主構成材料がインジウムリンであり、前記台座の主構成材料が銅タングステンであり、積層構造を有する前記サブマウントを構成する二つの部材の内、半導体レーザ素子側に位置する第１の部材がが窒化アルミニウムであり、台座側に位置する第２の部材が銅タングステンであることを特徴とする半導体レーザモジュール。
請求項３記載の半導体レーザモジュールにおいて、
前記半田材Ａの主構成材料が金ゲルマニウムであり、前記半田材Ｂの主構成材料が金錫であり、前記半田材Ｃの主構成材料が錫銀であることを特徴とする半導体レーザモジュール。
半導体レーザ素子と、この半導体レーザ素子を半田材を介して接合して搭載するサブマウントと、このサブマウントを半田材を介して接合して搭載する台座とを有する半導体レーザモジュールにおいて、
前記半導体レーザ素子に働く応力を±２０ＭＰａ以下としたことを特徴とする半導体レーザモジュール。