JP2002277590A - 放射線像変換パネルおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 感度、鮮鋭性が共に優れた放射線像変換パネ
ルおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 支持体、下引き層、蛍光体層がこの順に
積層されてなる放射線像変換パネルで、該下引き層の長
さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、乾燥膜厚１００μｍの単膜を１０
分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸び率が
１．８倍（１８０％）以下であり、該下引き層を乾燥膜
厚１００μｍになるよう２５μｍ厚の透明ＰＥＴに塗設
し、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁して、シクロヘキサノ
ン中に浸せきした時のカール度１／ｒのｒが５（ｃｍ）
≦ｒ≦１０００（ｃｍ）であることを特徴とする放射線
像変換パネル及びその製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、放射線像変換パネ
ル及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる方法とし
て、例えば特開昭５５−１２１４５号公報に記載されて
いるような輝尽性蛍光体を用いる放射線像記録再生方法
が知られている。

【０００３】この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射
線像変換パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもの
で、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられた
放射線を該パネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後に
輝尽性蛍光体を可視光線、紫外線などの電磁波（励起
光）で時系列的に励起することにより、該輝尽性蛍光体
中に蓄積されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光
光）として放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電
気信号を得、次いで得られた電気信号に基づいて被写体
あるいは被検体の放射線画像を可視像として再生するも
のである。読取を終えた該パネルは、残存する画像の消
去が行われた後、次の撮影のために備えられる。すなわ
ち、放射線像変換パネルは繰り返し使用することができ
る。上記の放射線像記録再生方法によれば、従来の放射
線写真フィルムと増感紙との組み合わせを用いる放射線
写真法による場合に比較して、はるかに少ない被爆線量
で情報量の豊富な放射線画像を得ることができるという
利点がある。

【０００４】さらに、従来の放射線写真法では１回の撮
影毎に放射線写真フィルムを消費するのに対して、この
放射線像変換方法では放射線像変換パネルを繰り返し使
用するので、資源保護、経済効率の面からも有利であ
る。

【０００５】輝尽性蛍光体は放射線を照射した後、励起
光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが実用上で
は、波長が４００〜９００ｎｍの範囲にある励起光によ
って３００〜５００ｎｍの波長範囲の輝尽発光を示す蛍
光体が一般的に利用される。

【０００６】従来、放射線像変換パネルに用いられてき
た輝尽性蛍光体の例としては下記のものが一例として挙
げられる。

【０００７】（１）特開昭５５−１２１４５号公報に記
載されている（Ｂａ_1-x、Ｍ²⁺ _x）ＦＸ：ｙＡ（但し、Ｍ
²⁺はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ及びＣｄのうちの少なくと
も一種、ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩのうちの少なくとも一
種、ＡはＥｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、
Ｎｄ、Ｙｂ及びＥｒのうち少なくとも一種、そしてｘは
０≦ｘ≦０．６、ｙは０≦ｙ≦０．２である）の組成式
で表わされる希土類元素付活アルカリ土類金属弗化ハロ
ゲン化物蛍光体；また、この蛍光体には以下のような添
加物が含まれていてもよい；特開昭５６−７４１７５号
公報に記載されている、Ｘ′、ＢｅＸ″、Ｍ₃Ｘ″′
₃（ただし、Ｘ′、Ｘ″、およびＸ″′はそれぞれＣ
ｌ、ＢｒおよびＩのうち少なくとも一種であり、Ｍ₃は
三価金属である）；特開昭５５−１６００７８号公報に
記載されているＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、Ｂａ
Ｏ、ＺｎＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、
ＳｉＯ₂、ＴｌＯ₂、ＺｒＯ₂、ＧｅＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂
Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅及びＴｈＯ₂などの金属酸化物；特開昭５
６−１１６７７７号公報に記載されているＺｒ、Ｓｃ；
特開昭５７−２３６７３号公報に記載されているＢ；特
開昭５７−２３６７５号公報に記載されているＡｓ、Ｓ
ｉ；特開昭５８−２０６６７８号公報に記載されている
Ｍ・Ｌ（ただし、ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、およびＣ
ｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金
属であり；ＬはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ
ｍ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙ
ｂ、Ｌｕ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、およびＴｌからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の三価金属である）；特開昭
５９−２７９８０号公報に記載されているテトラフルオ
ロホウ酸化合物の焼成物；特開昭５９−２７２８９号公
報に記載されているヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフル
オロチタン酸およびヘキサフルオロジルコニム酸の一価
もしくは二価金属の塩の焼成物；特開昭５９−５６４７
９号公報に記載されているＮａＸ′（ただし、Ｘ′はＣ
ｌ、ＢｒおよびＩのうちの少なくとも一種である）；特
開昭５９−５６４８０号公報に記載されているＶ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、ＣｏおよびＮｉなどの遷移金属；特開
昭５９−７５２００号公報に記載されているＭ¹Ｘ′、
Ｍ²Ｘ′′、Ｍ³Ｘ′′′、Ａ（ただし、Ｍ¹はＬｉ、Ｎ
ａ、Ｋ、Ｒｂ、およびＣｓからなる群より選ばれる少な
くとも一種のアルカリ金属であり、Ｍ²はＢｅおよびＭ
ｇからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価金属で
あり；Ｍ³はＡｌ、Ｇａ、Ｉｎ、およびＴｌからなる群
より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり；Ａは金
属酸化物であり；Ｘ′、Ｘ′′およびＸ′′′はそれぞ
れＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンである）；特開昭６０−１０１１
７３号公報に記載されているＭ¹Ｘ′（ただし、Ｍ¹はＲ
ｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種の
アルカリ金属であり；Ｘ′はＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
る）；特開昭６１−２３６７９号公報に記載されている
Ｍ²′Ｘ′₂・Ｍ²′Ｘ″₂（ただし、Ｍ²′は、Ｂａ、Ｓ
ｒおよびＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種の
アルカリ土類金属であり、Ｘ′およびＸ″はそれぞれＣ
ｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一
種のハロゲンであって、かつＸ′≠Ｘ″である）；およ
び特開昭６１−２６４０８４号公報に記載されているＬ
ｎＸ″₃（ただし、ＬｎはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐ
ｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅ
ｒ、Ｔｍ、ＹｂおよびＬｕからなる群より選ばれる少な
くとも一種の希土類元素であり；Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ
およびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンである）。

【０００８】（２）特開昭６０−８４３８１号公報に記
載されているＭ²Ｘ₂・ａＭ²′₂：ｘＥｕ²⁺（ただし、Ｍ
²およびＭ²′はＢａ、ＳｒおよびＣａからなる群より選
ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｘは
Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも
一種のハロゲンであり；そしてａは０．１≦ａ≦０．
０、ｘは０＜ｘ≦０．２である）の組成式で表わされる
二価ユーロピウム付活アルカリ土類金属ハロゲン化物蛍
光体；また、この蛍光体には以下のような添加物が含ま
れていてもよい；特開昭６０−１６６３７９号公報に記
載されているＭ¹Ｘ′′（ただし、Ｍ¹はＲｂおよびＣｓ
からなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属
であり；Ｘ′′はＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）；特開昭
６０−２２１４８３号公報に記載されているＫＸ′′、
ＭｇＸ′′′₂、Ｍ³Ｘ′′′′₃（ただし、Ｍ³はＳｃ、
Ｙ、Ｌａ、ＧｄおよびＬｕからなる群より選ばれる少な
くとも一種の三価金属であり；Ｘ′′、Ｘ′′′および
Ｘ′′′′はいずれもＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる
群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）；特
開昭６０−２２８５９２号公報に記載されているＢ；特
開昭６０−２２８５９３号公報に記載されているＳｉＯ
₂、Ｐ₂Ｏ₅等の酸化物；特開昭６１−１２０８８２号公
報に記載されているＬｉＸ″、ＮａＸ″（ただし、Ｘ″
はＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンである）；特開昭６１−１２０８
８３号公報に記載されているＳｉＯ₂；特開昭６１−１
２０８８５号公報に記載されているＳｎＸ″₂（ただ
し、Ｘ″はＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ば
れる少なくとも一種のハロゲンである）；特開昭６１−
２３５４８６号公報に記載されているＣｓＸ″、Ｓｎ
Ｘ′′′₂（ただし、Ｘ″およびＸ′′′はそれぞれ
Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なく
とも一種のハロゲンである）；および、特開昭６１−２
３５４８７号公報に記載されているＣｓＸ″、Ｌｎ
³⁺（ただし、Ｘ″はＦ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群
より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；Ｌｎは
Ｓｃ、Ｙ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄ
ｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、ＹｂおよびＬｕからなる群より
選ばれる少なくとも一種の希土類元素である）。

【０００９】（３）特開昭５５−１２１４４号に記載さ
れているＬｎＯＸ：ｘＡ、（式中、ＬｎはＬａ、Ｙ、Ｇ
ｄ、およびＬｕのうち少なくとも一つ；ＸはＣｌ、Ｂ
ｒ、およびＩのうち少なくとも一つ；ＡはＣｅおよびＴ
ｂのうち少なくとも一つ；ｘは、０＜ｘ＜０．１であ
る）の組成式で表される希土類元素付活希土類オキシハ
ライド蛍光体。

【００１０】（４）特開昭５８−６９２８１号に記載さ
れているＭ（II）ＯＸ：ｘＣｅ、（式中、Ｍ（II）はＰ
ｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅ
ｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、およびＢｉからなる群より選ばれる少
なくとも一種の酸化金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ、およ
びＩのうち少なくとも一つであり；ｘは０＜ｘ＜０．１
である）の組成式で表されるセリウム付活三価金属オキ
シハライド蛍光体。

【００１１】（５）特開昭６２−２５１８９号明細書に
記載されているＭ（Ｉ）Ｘ：ｘＢｉ、（式中、Ｍ（Ｉ）
はＲｂおよびＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一
種のアルカリ金属であり；ＸはＣｌ、ＢｒおよびＩから
なる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；
そしてｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成
式で表されるビスマス付活アルカリ金属ハロゲン化物蛍
光体。

【００１２】（６）特開昭６０−１４１７８３号に記載
されているＭ（II）₅（ＰＯ₄）₃Ｘ：ｘＥｕ²⁺、（式
中、Ｍ（II）はＣａ、ＳｒおよびＢａからなる群より選
ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｘは
Ｆ、Ｃｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なく
とも一種のハロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲
の数値である）の組成式で表される二価ユーロピウム付
活アルカリ土類金属ハロリン酸塩蛍光体。

【００１３】（７）特開昭６０−１５７０９９号に記載
されているＭ（II）₂ＢＯ₃Ｘ：ｘＥｕ²⁺、（式中、Ｍ
（II）はＣａ、ＳｒおよびＢａからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣｌ、
ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値であ
る）の組成式で表される二価ユーロピウム付活アルカリ
土類金属ハロホウ酸塩蛍光体。

【００１４】（８）特開昭６０−１５７１００号に記載
されているＭ（II）₂（ＰＯ₄）₃Ｘ：ｘＥｕ²⁺、（式
中、Ｍ（II）はＣａ、ＳｒおよびＢａからなる群より選
ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｘは
Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一
種のハロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値
である）の組成式で表される二価ユーロピウム付活アル
カリ土類金属ハロリン酸塩蛍光体。

【００１５】（９）特開昭６０−２１７３５４号に記載
されているＭ（II）ＨＸ：ｘＥｕ²⁺、（式中、Ｍ（II）
はＣａ、ＳｒおよびＢａからなる群より選ばれる少なく
とも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒお
よびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の
組成式で表される二価ユーロピウム付活アルカリ土類金
属水素化ハロゲン化物蛍光体。

【００１６】（１０）特開昭６１−２１１７３号に記載
されているＬｎＸ₃・ａＬｎ′Ｘ′₃：ｘＣｅ³⁺、（式
中、ＬｎおよびＬｎ′はそれぞれＹ、Ｌａ、Ｇｄおよび
Ｌｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元
素であり；ＸおよびＸ′はそれぞれＦ、Ｃｌ、Ｂｒおよ
びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲン
であって、かつＸ≠Ｘ′であり；そしてａは０．１＜ａ
≦１０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の
範囲の数値である）の組成式で表されるセリウム付活希
土類複合ハロゲン化物蛍光体。

【００１７】（１１）特開昭６１−２１１８２号に記載
されているＬｎＸ₃・ａＭ（Ｉ）Ｘ′３：ｘＣｅ³⁺、
（式中、ＬｎはＹ、Ｌａ、ＧｄおよびＬｕからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり；Ｍ
（Ｉ）はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、ＣｓおよびＲｂからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘお
よびＸ′はそれぞれＣｌ、ＢｒおよびＩからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａは
０＜ａ≦１０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦
０．２の範囲の数値である）の組成式で表されるセリウ
ム付活希土類複合ハロゲン化物系蛍光体。

【００１８】（１２）特開昭６１−４０３９０号に記載
されているＬｎＰＯ₄・ａＬｎＸ₃：ｘＣｅ³⁺、（式中、
ＬｎはＹ、Ｌａ、ＧｄおよびＬｕからなる群より選ばれ
る少なくとも一種の希土類元素であり；ＸはＦ、Ｃｌ、
ＢｒおよびＩからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり；そしてａは０．１≦ａ≦１０．０の範
囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値であ
る）の組成式で表されるセリウム付活希土類ハロ燐酸塩
蛍光体。

【００１９】（１３）特開昭６１−２３６８８８号明細
書に記載されているＣｓＸ：ａＲｂＸ′：ｘＥｕ²⁺、
（式中、ＸおよびＸ′はそれぞれＣｌ、ＢｒおよびＩか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り；そしてａは０＜ａ≦１０．０の範囲の数値であり、
ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表
される二価ユーロピウム付活ハロゲン化セシウム・ルビ
ジウム蛍光体。

【００２０】（１４）特開昭６１−２３６８９０号に記
載されているＭ（II）Ｘ₂・ａＭ（Ｉ）Ｘ′：ｘＥ
ｕ²⁺、（式中、Ｍ（II）はＢａ、ＳｒおよびＣａからな
る群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属で
あり；Ｍ（Ｉ）はＬｉ、ＲｂおよびＣｓからなる群より
選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘおよ
びＸ′はそれぞれＣｌ、ＢｒおよびＩからなる群より選
ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａは
０．１≦ａ≦２０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ
≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表される二価
ユーロピウム付活複合ハロゲン化物蛍光体。

【００２１】上記の輝尽性蛍光体のうちで、ヨウ素を含
有する二価ユーロピウム付活アルカリ土類金属弗化ハロ
ゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する二価ユーロピウム
付活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を
含有する希土類元素付活希土類オキシハロゲン化物系蛍
光体、およびヨウ素を含有するビスマス付活アルカリ金
属ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を示す。

【００２２】放射線像記録再生方法に用いられる放射線
像変換パネルは、従来基本構造として、支持体とその表
面に設けられた輝尽性蛍光体層からなるものである。こ
のときの支持体は蛍光体層中の蛍光体が吸収しない余分
な励起光を吸収するよう、励起光を吸収するような黒色
支持体を使用してきた。しかし最近の検討で、輝度、鮮
鋭度両方ともに改良しようとしたところ発泡ＰＥＴなど
の白色支持体を使用して、輝尽光を反射させる必要があ
ることがわかった。

【００２３】ところが、ただ発泡ＰＥＴに蛍光体層を塗
設するだけでは、鮮鋭度が低下することがわかった。そ
こで蛍光体層と支持体の間に輝尽光は吸収せず、励起光
のみを吸収する下引き層を設けた。しかしこの下引き層
はトルエンなどの溶剤によって膨潤する層であるため、
伸びたり、収縮するという難点があった。

【００２４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、感
度、鮮鋭性で表される画像特性が共に優れた放射線像変
換パネルおよびその製造方法を提供することにある。

【００２５】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成によって達成された。

【００２６】１．支持体、下引き層、蛍光体層がこの順
に積層されてなる放射線像変換パネルで、該下引き層の
長さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、乾燥膜厚１００μｍの単膜を１
０分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸び率が
１．８倍（１８０％）以下であることを特徴とする放射
線像変換パネル。

【００２７】２．支持体、下引き層、蛍光体層がこの順
に積層されてなる放射線像変換パネルで、該下引き層を
乾燥膜厚１００μｍになるよう２５μｍ厚の透明ＰＥＴ
に塗設し、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁して、シクロヘ
キサノン中に浸せきした時のカール度１／ｒのｒが５
（ｃｍ）≦ｒ≦１０００（ｃｍ）であることを特徴とす
る放射線像変換パネル。

【００２８】３．蛍光体層の蛍光体層中の樹脂量と蛍光
体の質量比が３：９７〜１０：９０であることを特徴と
する前記１又は２記載の放射線像変換パネル。

【００２９】４．下引き層の樹脂が高分子量のポリエス
テル、ポリウレタンであることを特徴とする前記１〜３
のいずれか１項記載の放射線像変換パネル。

【００３０】５．下引き層が硬化剤によって硬化された
樹脂からなることを特徴とする前記１〜４のいずれか１
項記載の放射線像変換パネル。

【００３１】６．下引き層の硬化剤がイソシアネートお
よびその誘導体であることを特徴とする前記５記載の放
射線像変換パネル。

【００３２】７．下引き層に銅−フタロシアニン色素を
含有することを特徴とする前記１〜６のいずれか１項記
載の放射線像変換パネル。

【００３３】８．支持体が発泡ＰＥＴであることを特徴
とする前記１〜７のいずれか１項記載の放放射線像変換
パネル。

【００３４】９．蛍光体層の蛍光体が下記一般式（１）
で表されるものであることを特徴とする前記１〜８のい
ずれか１項記載の放放射線像変換パネル。

【００３５】一般式（１） Ｂａ_(1-x)Ｍ_2(x)ＦＢｒ_(y)Ｉ_(1-y)：ａＭ₁，ｂＬｎ，ｃ
Ｏ 〔式中、Ｍ₁はＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ及びＣｓから選ば
れる少なくとも１種のアルカリ金属、Ｍ₂はＢｅ，Ｍ
ｇ，Ｓｒ及びＣａから選ばれる少なくとも１種のアルカ
リ土類金属、ＬｎはＣｅ，Ｐｒ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔ
ｂ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｅｒ及びＹｂから選ばれ
る少なくとも１種の希土類元素を表し、ｘ，ｙ，ａ，ｂ
及びｃは、それぞれ０≦ｘ≦０．３，０＜ｙ≦０．３，
０≦ａ≦０．０５，０＜ｂ≦０．２，０≦ｃ≦０．１で
ある。〕 １０．蛍光体層の蛍光体が下記一般式（２）で表される
ものであることを特徴とする前記１〜８のいずれか１項
記載の放放射線像変換パネル。

【００３６】一般式（２） Ｂａ_(1-x)Ｍ_2(x)ＦＩ：ａＭ₁，ｂＬｎ，ｃＯ 〔式中、Ｍ₁はＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ及びＣｓから選ば
れる少なくとも１種のアルカリ金属、Ｍ₂はＢｅ，Ｍ
ｇ，Ｓｒ及びＣａから選ばれる少なくとも１種のアルカ
リ土類金属、ＬｎはＣｅ，Ｐｒ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔ
ｂ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｅｒ及びＹｂから選ばれ
る少なくとも１種の希土類元素を表し、ｘ，ａ，ｂ及び
ｃは、それぞれ０≦ｘ≦０．３，０≦ａ≦０．０５，０
＜ｂ≦０．２，０≦ｃ≦０．１である。〕 １１．前記１〜１０のいずれか１項記載の放射線像変換
パネルの製造方法において、乾燥膜厚１００μｍの下引
き層の長さ５ｃｍ、幅１ｃｍの単膜を１０分間シクロヘ
キサノン中で浸せきしたときの伸び率が１．８倍（１８
０％）以下である下引き層を支持体上に塗設し、その上
に質量で７５％以上の高い固形分の蛍光体層を塗設して
製造したことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方
法。

【００３７】１２．前記１〜１０のいずれか１項記載の
放射線像変換パネルの製造方法において、下引き層を乾
燥膜厚１００μｍになるよう２５μｍ厚の透明ＰＥＴに
塗設し乾燥した後、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁して、
シクロヘキサノン中に浸せきした時のカール度１／ｒの
ｒが５（ｃｍ）≦ｒ≦１０００（ｃｍ）である下引き層
を支持体上に塗設し、その上に質量で７５％以上の高い
固形分の蛍光体層を塗設して製造したことを特徴とする
放射線像変換パネルの製造方法。

【００３８】本発明を更に詳しく説明する。上記の問題
は前記記載の方法で解決される。即ち、前記１又は２の
ように下引き層の伸び率と収縮量を制御し、また前記１
１又は１２のようにその上に塗設される蛍光体層の固形
分をできるだけ高くし、また前記３のように特性を落と
さない範囲で樹脂量を多くすることで解決された。下引
き層の伸び率と収縮量は樹脂の分子量とＴｇを選択する
ことで制御可能だが、前記５又は６のように硬化剤を使
用することで制御してもよい。

【００３９】本発明において、乾燥膜厚１００μｍの下
引き層の単膜を長さ５ｃｍ、幅１ｃｍに断裁し、１０分
間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸び率は１．
８倍（シクロヘキサノンに浸せきする前を１００％と
し、１．８倍になった場合を１８０％の伸び率として算
出する）以下である。また、下引き層を乾燥膜厚１００
μｍになるよう２５μｍ厚の透明ＰＥＴに塗設し、長さ
５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁して、シクロヘキサノン中に浸
せきした時のカール度１／ｒのｒは５（ｃｍ）≦ｒ≦１
０００（ｃｍ）であるが、６（ｃｍ）≦ｒ≦１００（ｃ
ｍ）が好ましい。尚、カール度１／ｒのｒは上記サンプ
ルのカールしたものの両端をつないで円にしたときの半
径（ｃｍ）を言う。

【００４０】本発明において、下引き層に用いられる樹
脂の例としては、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等
のポリサッカライド、またはアラビアゴムのような天然
高分子物質；及びポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニ
ル、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリ
デン、塩化ビニルコポリマー、ポリアクリル（メタ）ア
クリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、ポリ
ウレタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニ
ルアルコール、線上ポリエステル等のような合成高分子
物質等により代表される樹脂を挙げることができる。樹
脂で特に好ましいものは、（線状）ポリエステル、ポリ
ウレタンなどで数平均分子量は１万５０００以上のもの
が好ましい。

【００４１】これらの樹脂は架橋剤によって架橋された
ものであってもよい。架橋剤としてはイソシアネートお
よびその誘導体が好ましい。

【００４２】下引き層には余分な励起光を吸収するため
に色素を含むのが好ましいが、そのなかでも輝尽光を殆
ど吸収しない銅−フタロシアニン色素が最も好ましい。
添加量としては樹脂：色素が８９．９９：０．０１〜８
５：５（質量部）が好ましく、８９．９５：０．０３〜
８７：３がさらにこのましい。

【００４３】下引き層の塗布液の固形分としては７５質
量％以上が好ましい。さらに好ましくは７７質量％以上
である。

【００４４】上記のような素材で調製した塗布液を、支
持体の表面に均一に塗布することにより塗布液の塗膜を
形成する。この塗布操作は通常の塗布手段、例えばドク
ターブレード、ロールコーター、ナイフコーター等を用
いて行うことができる。次いで、形成された塗膜を徐々
に加熱することにより乾燥し、支持体上への下引き層の
形成を完了する。

【００４５】下引き層用塗布液の調製は、ボールミル、
サンドミル、アトライター、三本ロールミル、高速イン
ペラー分散機、Ｋａｄｙミル、及び超音波分散機などの
分散装置を用いて行われる。調製された塗布液をドクタ
ーブレード、ロールコーター、ナイフコーター等の塗布
装置を用いて支持体上に塗布し、乾燥することにより下
引き層が形成される。

【００４６】下引き層の層厚としては、１μｍ〜１００
μｍが好ましく、最も好ましくは３μｍ〜５０μｍであ
る。

【００４７】本発明の希土類付活アルカリ土類金属弗化
ハロゲン化物系輝尽性蛍光体の製造方法の代表的な態様
を以下に詳しく説明する。

【００４８】液相法による輝尽性蛍光体前駆体製造につ
いては、公知の前駆体製造方法及び装置が好ましく利用
できる。ここで輝尽性蛍光体前駆体とは、前記一般式
（１）の物質が６００℃以上の高温を経ていない状態を
示し、輝尽性蛍光体前駆体は、輝尽発光性や瞬時発光性
を殆ど示さない。

【００４９】本発明では以下の液相合成法により前駆体
を得ることが好ましい。前記一般式（１）で示される希
土類付活アルカリ土類金属弗化沃化物系輝尽性蛍光体の
製造は、粒子形状の制御が難しい固相法ではなく、粒径
の制御が容易である液相法により行うことが好ましい。
特に、下記の液相合成法により輝尽性蛍光体を得ること
が好ましい。

【００５０】（製造法）ＢａＩ₂とＬｎのハロゲン化物
を含み、前記一般式（１）のｘが０でない場合には、更
にＭ₂のハロゲン化物を、ｙが０でない場合はＢａＢｒ₂
を、そしてＭ₁のハロゲン化物を含み、それらが溶解し
た後、ＢａＩ₂濃度が３．３ｍｏｌ／Ｌ以上、好ましく
は３．５ｍｏｌ／Ｌ以上の溶液を調製する工程；上記溶
液を５０℃以上、好ましくは８０℃以上の温度に維持し
ながら、これに濃度５ｍｏｌ／Ｌ以上、好ましくは８ｍ
ｏｌ／Ｌ以上の無機弗化物（弗化アンモニウム又はアル
カリ金属の弗化物）の溶液を添加して、希土類付活アル
カリ土類金属弗化沃化物系輝尽性蛍光体前駆体結晶の沈
澱物を得る工程；上記無機弗化物を添加しつつ、又は添
加終了後、反応液から溶媒を除去する工程；上記前駆体
結晶沈澱物を反応液から分離する工程；そして、分離し
た前駆体結晶沈澱物を焼結を避けながら焼成する工程を
含む製造方法である。

【００５１】尚、本発明に係る粒子（結晶）は、平均粒
径が１〜１０μｍで、かつ単分散性のものが好ましく、
平均粒径が１〜５μｍ、平均粒径の分布（％）が２０％
以下のものがより好ましく、特に平均粒径が１〜３μ
ｍ、平均粒径の分布が１５％以下のものが良い。

【００５２】本発明における平均粒径とは、粒子（結
晶）の電子顕微鏡写真より無作為に粒子２００個を選
び、球換算の体積粒子径で平均を求めたものである。

【００５３】以下に輝尽性蛍光体の製造法の詳細につい
て説明する。 （前駆体結晶の沈澱物の作製、輝尽性蛍光体の作製）最
初に、水系媒体中を用いて弗素化合物以外の原料化合物
を溶解させる。即ち、ＢａＩ₂とＬｎのハロゲン化物、
そして必要により更にＭ₂のハロゲン化物、そして更に
Ｍ₁のハロゲン化物を水系媒体中に入れ、充分に混合
し、溶解させて、それらが溶解した水溶液を調製する。
ただし、ＢａＩ₂濃度が３．３ｍｏｌ／Ｌ以上、好まし
くは３．５ｍｏｌ／Ｌ以上となるように、ＢａＩ₂濃度
と水系溶媒との量比を調整しておく。この時、バリウム
濃度が低いと、所望の組成の前駆体が得られないか、得
られても粒子が肥大化する。よって、バリウム濃度は適
切に選択する必要があり、本発明者らの検討の結果、
３．３ｍｏｌ／Ｌ以上で微細な前駆体粒子を形成するこ
とができることが判った。この時、所望により少量の
酸、アンモニア、アルコール、水溶性高分子ポリマー、
水不溶性金属酸化物微粒子粉体などを添加してもよい。
ＢａＩ₂の溶解度が著しく低下しない範囲で低級アルコ
ール（メタノール、エタノール等）を適当量添加してお
くのも好ましい態様である。この水溶液（反応母液）は
５０℃に維持される。

【００５４】次に、この５０℃に維持され、撹拌されて
いる水溶液に、無機弗化物（弗化アンモニウム、アルカ
リ金属の弗化物など）の水溶液をポンプ付きのパイプ等
を用いて注入する。この注入は、撹拌が特に激しく実施
されている領域部分に行うのが好ましい。この無機弗化
物水溶液の反応母液への注入によって、前記一般式
（１）に該当する希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロ
ゲン化物系蛍光体前駆体結晶が沈澱する。

【００５５】次に反応液から溶媒を除去する。溶媒を除
去する時期は特に問わない。無機弗化物溶液の添加開始
から、固液分離する迄の間であれば何時でもよい。最も
好ましいのは無機弗化物溶液を添加し終えた直後から除
去を始める態様である。

【００５６】溶媒の除去量は、除去前と除去後の質量比
で２％以上が好ましい。これ以下では結晶が好ましい組
成に成りきらない場合がある。そのため除去量は２％以
上が好ましく、５％以上がより好ましい。又、除去し過
ぎても、反応溶液の粘度が過剰に上昇するなど、ハンド
リングの面で不都合が生じる場合がある。そのため、溶
媒の除去量は、除去前と除去後の質量比で５０％以下が
好ましい。

【００５７】溶媒の除去に要する時間は、生産性に大き
く影響するばかりでなく、粒子の形状、粒径分布も溶媒
の除去方法に影響されるので、除去方法は適切に選択す
る必要がある。一般的に、溶媒の除去に際しては、溶液
を加熱し、溶媒を蒸発する方法が選択される。本発明に
おいても、この方法は有用である。溶媒の除去により、
意図した組成の前駆体を得ることができる。

【００５８】更に、生産性を上げるため、又、粒子形状
を適切に保つため、他の溶媒除去方法を併用することが
好ましい。併用する溶媒の除去方法は特に問わない。逆
浸透膜などの分離膜を用いる方法を選択することも可能
である。本発明では生産性の面から、以下の除去方法を
選択することが好ましい。

【００５９】１．乾燥気体を通気 反応容器を密閉型とし、少なくとも２箇所以上の気体が
通過できる孔を設け、そこから乾燥気体を通気する。気
体の種類は任意に選ぶことができる。安全性の面から、
空気、窒素が好ましい。通気する気体の飽和水蒸気量に
依存して溶媒が気体に同伴、除去される。反応容器の空
隙部分に通気する方法の他、液相中に気体を気泡として
噴出させ、気泡中に溶媒を吸収させる方法も、又、有効
である。

【００６０】２．減圧 よく知られるように、減圧にすることで溶媒の蒸気圧は
低下する。蒸気圧降下により効率的に溶媒を除去するこ
とができる。減圧度としては溶媒の種類により適宜選択
することができる。溶媒が水の場合、８６，４５０Ｐａ
以下が好ましい。

【００６１】３．液膜 蒸発面積を拡大することにより溶媒の除去を効率的に行
うことができる。本発明のように、一定容積の反応容器
を用いて加熱、攪拌し、反応を行わせる場合、加熱方法
としては、加熱手段を液体中に浸漬するか、容器の外側
に加熱手段を装着する方法が一般的である。該方法によ
ると、伝熱面積は液体と加熱手段が接触する部分に限定
され、溶媒除去に伴い伝熱面積が減少し、よって、溶媒
除去に要する時間が長くなる。これを防ぐため、ポンプ
又は攪拌機を用いて反応容器の壁面に散布し、伝熱面積
を増大させる方法が有効である。

【００６２】このように反応容器壁面に液体を散布し、
液膜を形成する方法は“濡れ壁”として知られている。
濡れ壁の形成方法としては、ポンプを用いる方法の他、
特開平６−３３５６２７号、同１１−２３５５２２号に
記載の攪拌機を用いる方法が挙げられる。

【００６３】これらの方法は単独のみならず、組み合わ
せて用いても構わない。液膜を形成する方法と容器内を
減圧にする方法の組合せ、液膜を形成する方法と乾燥気
体を通気する方法の組合せ等が有効である。特に前者が
好ましく、特開平６−３３５６２７号に記載の方法が好
ましく用いられる。

【００６４】次に、上記の蛍光体前駆体結晶を、濾過、
遠心分離などにより溶液から分離し、メタノール等で充
分に洗浄し、乾燥する。この乾燥蛍光体前駆体結晶に、
アルミナ微粉末、シリカ微粉末などの焼結防止剤を添
加、混合し、結晶表面に焼結防止剤微粉末を均一に付着
させる。尚、焼成条件を選ぶことにより焼結防止剤の添
加を省略することも可能である。

【００６５】次に、蛍光体前駆体の結晶を、石英ポー
ト、アルミナ坩堝、石英坩堝などの耐熱性容器に充填
し、電気炉の炉心に入れて焼結を避けながら焼成を行
う。焼成温度は４００〜１，３００℃の範囲が適当であ
り、５００〜１，０００℃の範囲が好ましい。焼成時間
は、蛍光体原料混合物の充填量、焼成温度及び炉からの
取出し温度などによっても異なるが、一般には０．５〜
１２時間が適当である。

【００６６】焼成雰囲気としては、窒素ガス雰囲気、ア
ルゴンガス雰囲気等の中性雰囲気、あるいは少量の水素
ガスを含有する窒素ガス雰囲気、一酸化炭素を含有する
二酸化炭素雰囲気などの弱還元性雰囲気、あるいは微量
酸素導入雰囲気が利用される。焼成方法については、特
開２０００−８０３４号に記載の方法が好ましく用いら
れる。

【００６７】上記の焼成によって目的の希土類付活アル
カリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体が得られ
る。

【００６８】（放射線像変換パネルの作製）本発明の放
射線像変換パネルに用いられる支持体としては、各種高
分子材料、ガラス、金属等が用いられる。特に情報記録
材料としての取扱い上、可撓性のあるシート又はウェブ
に加工できるものが好適であり、この点から言えばセル
ロースアセテート、ポリエステル、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、
ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルム；
アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シート又は該金
属酸化物の被覆層を有する金属シート等が好ましい。

【００６９】これら支持体の層厚は、用いる支持体の材
質等によって異なるが、一般的には８０〜１０００μｍ
であり、取扱い上の点から、更に好ましくは８０〜５０
０μｍである。

【００７０】これら支持体は、蛍光体層との接着性を向
上させる目的で、蛍光体層が設けられる面に上述した下
引層を設ける。

【００７１】蛍光体層に用いられる結合剤の例として
は、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等のポリサッカ
ライド、又はアラビアゴムのような天然高分子物質；ポ
リビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセルロー
ス、エチルセルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニルコ
ポリマー、ポリアルキル（メタ）アクリレート、塩化ビ
ニル・酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタン、セルロー
スアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、線状
ポリエステル等のような合成高分子物質などにより代表
される結合剤を挙げることができる。これらの中で特に
好ましいものは、ニトロセルロース、線状ポリエステ
ル、ポリアルキル（メタ）アクリレート、ニトロセルロ
ースと線状ポリエステルとの混合物、ニトロセルロース
とポリアルキル（メタ）アクリレートとの混合物及びポ
リウレタンとポリビニルブチラールとの混合物である。
尚、これらの結合剤は、架橋剤によって架橋されたもの
でもよい。

【００７２】蛍光体層は、例えば次のような方法により
下引き層上に形成することができる。

【００７３】まず、沃素含有輝尽性蛍光体、黄変防止の
ための亜燐酸エステル等の化合物及び結合剤を適当な溶
剤に添加し、これらを充分に混合して結合剤溶液中に蛍
光体粒子及び該化合物の粒子が均一に分散した塗布液を
調製する。

【００７４】本発明に用いられる結着剤としては、例え
ばゼラチンの如き蛋白質、デキストランの如きポリサッ
カライド又はアラビアゴム、ポリビニルブチラール、ポ
リ酢酸ビニル、ニトロセルロース、エチルセルロース、
塩化ビニルデン・塩化ビニルコポリマー、ポリメチルメ
タクリレート、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、ポ
リウレタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビ
ニルアルコール等のような、通常、層構成に用いられる
造膜性の結着剤が使用される。

【００７５】一般に、結着剤は輝尽性蛍光体９９質量部
に対して１乃至９９質量部の範囲で使用される。しかし
ながら得られる放射線変換パネルの感度、鮮鋭性と下引
き層との相性から輝尽性蛍光体と結合剤の比は９７：３
〜９０：１０（質量部）の範囲が好ましい。

【００７６】蛍光体層用塗布液の調製に用いられる溶剤
の例としては、メタノール、エノタール、１−プロパノ
ール、２−プロパノール、ブタノール等の低級アルコー
ル；メチレンクロライド、エチレンクロライド等の塩素
原子含有炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等の低級脂肪酸と低級アルコールとの
エステル；ジオキサン、エチレングリコールエチルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエー
テル；トルエン；そして、それらの混合物を挙げること
ができる。

【００７７】尚、塗布液には、該塗布液中における蛍光
体の分散性を向上させるための分散剤、又、形成後の蛍
光体層中における結合剤と蛍光体との結合力を向上させ
るための可塑剤など、種々の添加剤が混合されてもよ
い。そのような目的に用いられる分散剤の例としては、
フタル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面活性
剤などを挙げることができる。又、可塑剤の例として
は、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェ
ニルなどの燐酸エステル；フタル酸ジエチル、フタル酸
ジメトキシエチル等のフタル酸エステル；グリコール酸
エチルフタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリルブ
チルなどのグリコール酸エステル；トリエチレングリコ
ールとアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリコ
ールとコハク酸とのポリエステル等のポリエチレングリ
コールと脂肪族二塩基酸とのポリエステル等を挙げるこ
とができる。

【００７８】蛍光体層の塗布液の固形分としては７５質
量％以上が好ましい。さらに好ましくは７７質量％以上
である。

【００７９】上記のような素材で調製した塗布液を、下
引き層の表面に均一に塗布することにより塗布液の塗膜
を形成する。この塗布操作は通常の塗布手段、例えばド
クターブレード、ロールコーター、ナイフコーター等を
用いて行うことができる。次いで、形成された塗膜を徐
々に加熱することにより乾燥し、下引き層上への蛍光体
層の形成を完了する。

【００８０】蛍光体層用塗布液の調製は、ボールミル、
サンドミル、アトライター、三本ロールミル、高速イン
ペラー分散機、Ｋａｄｙミル、及び超音波分散機などの
分散装置を用いて行われる。調製された塗布液をドクタ
ーブレード、ロールコーター、ナイフコーター等の塗布
装置を用いて下引き層上に塗布し、乾燥することにより
蛍光体層が形成される。

【００８１】放射線像変換パネルの蛍光体層の膜厚は、
目的とする放射線像変換パネルの特性、輝尽性蛍光体の
種類、結着剤と輝尽性蛍光体との混合比等によって異な
るが、１０〜１，０００μｍの範囲から選ばれるのが好
ましく、１０〜５００μｍの範囲から選ばれるのがより
好ましい。

【００８２】

【実施例】実施例１ まず下引き層塗布液を次のようにして調製した。ポリエ
ステル樹脂溶解品（東洋紡バイロン３０ＳＳ：固形分３
０％）２９９．８ｇにβ−銅フタロシアニン分散品０．
１６ｇ（固形分３０％）を混ぜ、プロペラミキサーで分
散して用意した。

【００８３】この下引き層塗布液を発泡ＰＥＴ、１８８
Ｅ６０Ｌ（東レ）に塗布、１００℃で５分乾燥し、３０
μｍ厚の下引き層を形成した。

【００８４】次にユウロピウム付活弗化沃化バリウムの
輝尽性蛍光体前駆体を合成するために、ＢａＩ₂水溶液
（４．０ｍｏｌ／ｌ）２５００ｍｌとＥｕＢｒ₃水溶液
（０．２ｍｏｌ／ｌ）１２５ｍｌを反応器に入れた。こ
の反応器中の反応母液を撹拌しながら７０度で保温し
た。弗化アンモニウム水溶液（８ｍｏｌ／ｌ）２５０ｍ
ｌを反応母液中にローラーポンプを用いて注入し、沈殿
物を生成させた。注入終了後も保温と撹拌を２時間続け
て沈殿物の熟成を行った。

【００８５】次に沈殿物を濾別後、エタノールにより洗
浄した後、真空乾燥させてユーロピウム付活弗化沃化バ
リウムの結晶を得た。

【００８６】焼成時の焼結により粒子形状の変化、粒子
間融着による粒子サイズ分布の変化を防止するためにア
ルミナの超微粒子粉体を０．１質量％添加し、ミキサー
で充分撹拌して結晶表面にアルミナの超微粒子粉体を均
一に付着させた。

【００８７】これを石英ボートに充填してチューブ炉を
用いて水素ガス雰囲気中、８５０℃で２時間焼成してユ
ーロピウム付活弗化沃化バリウム蛍光体粒子を得た。

【００８８】次に上記蛍光体粒子を分級することにより
平均粒径３μｍの粒子を得た。蛍光体層形成材料として
上記で得たユウロピウム付活弗化沃化バリウム蛍光体４
２７ｇ、ポリエステル樹脂（東洋紡バイロン５３０）１
８ｇをメチルエチルケトンとトルエン、シクロヘキサノ
ンの混合溶媒に添加、プロペラミキサーによって分散
し、固形分８０％の塗布液を調製した。

【００８９】この塗布液をドクターブレードを用いて、
上記下引き層上に塗布した後、１００℃で１５分間乾燥
させて、２４０μｍの蛍光体層を形成させた。蛍光体層
は下引き層上にむらなく塗布され、膜厚分布は良好であ
った。

【００９０】次に保護膜形成材料としてフッ素樹脂：フ
ルオロオレフィン−ビニルエーテル共重合体（旭硝子社
製ルミフロンＦ１００）７０ｇ架橋剤：イソシアネート
（日本ポリウレタンｃ−３０４１）２５ｇをトルエン−
イソプロピルアルコール（１：１）混合溶媒に添加し、
塗布液を作った。

【００９１】この塗布液を上記のようにして予め形成し
ておいた蛍光体層上にドクターブレードを用いて塗布
し、次に１２０℃で３０分間熱処理をして熱硬化させる
と共に乾燥し、厚さ１０μｍの保護膜を設けた。以上の
方法により輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネル
を得た。

【００９２】上記特放射線像変換パネルの特性評価（感
度、鮮鋭性）の結果は表１に示す。このときの下引き層
の長さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、乾燥膜厚１００μｍの単膜を
１０分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸び率
は１７８％であった。

【００９３】また乾燥膜厚１００μｍになるよう２５μ
ｍ厚の透明ＰＥＴに塗設し、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断
裁して、シクロヘキサノン中に浸せきした時のカール量
は下引き層１００μｍ厚で半径ｒ＝７ｃｍであった。

【００９４】実施例２ 実施例１の下引き層塗布液を以下のように調製した以外
は、実施例１と同様に放射線像変換パネルを作製した。

【００９５】ポリエステル樹脂溶解品（東洋紡バイロン
３０ＳＳ：Ｍｎ２３，０００，固形分３０％）２８７ｇ
にイソシアネート９．６ｇ（日本ポリウレタン社製コロ
ネートＨＸ）、β−銅フタロシアニン分散品０．１６７
ｇ（固形分３０％）、メチルエチルケトン、トルエンを
混ぜ、プロペラミキサーで分散して下引き層塗布液を用
意した。

【００９６】作製した放射線像変換パネルの特性評価
（感度、鮮鋭性）の結果は表１に示す。このときの下引
き層の長さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、乾燥膜厚１００μｍの単
膜を１０分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸
び率および乾燥膜厚１００μｍになるよう２５μｍ厚の
透明ＰＥＴに塗設し、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁し
て、シクロヘキサノン中に浸せきした時のカール量も表
１に示す。

【００９７】比較例１ 実施例１の下引き層塗布液を以下のように調製した以外
は、実施例１と同様に放射線像変換パネルを作製した。

【００９８】ポリエステル樹脂溶解品（東洋紡バイロン
９６ＣＳ：Ｍｎ１１，０００，固形分４０％）２９２ｇ
にβ−銅フタロシアニン分散品０．２１ｇ（固形分３０
％）、メチルエチルケトン、トルエンを混ぜ、プロペラ
ミキサーで分散して下引き層塗布液を用意した。

【００９９】作製した放射線像変換パネルの特性評価
（感度、鮮鋭性）の結果は表１に示す。このときの下引
き層の長さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、乾燥膜厚１００μｍの単
膜を１０分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸
び率および乾燥膜厚１００μｍになるよう２５μｍ厚の
透明ＰＥＴに塗設し、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁し
て、シクロヘキサノン中に浸せきした時のカール量も表
１に示す。

【０１００】比較例２ 実施例１の蛍光体層塗布液を以下のように調製した以外
は、実施例１と同様に放射線像変換パネルを作製した。

【０１０１】蛍光体層形成材料として実施例１と同じユ
ウロピウム付活弗化沃化バリウム蛍光体４２７ｇ、ポリ
エステル樹脂（東洋紡バイロン３０ＳＳ）１８ｇをメチ
ルエチルケトンとトルエン、シクロヘキサノンの混合溶
媒に添加、プロペラミキサーによって分散し、固形分７
０％の塗布液を調製した。

【０１０２】作製した放射線像変換パネルの特性評価
（感度、鮮鋭性）の結果は表１に示す。このときの下引
き層の長さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、乾燥膜厚１００μｍの単
膜を１０分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸
び率および乾燥膜厚１００μｍになるよう２５μｍ厚の
透明ＰＥＴに塗設し、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁し
て、シクロヘキサノン中に浸せきした時のカール量も表
１に示す。

【０１０３】比較例３ 実施例１の蛍光体層塗布液を以下のように調製した以外
は、実施例１と同様に放射線像変換パネルを作製した。

【０１０４】蛍光体層形成材料として実施例１と同じユ
ウロピウム付活弗化沃化バリウム蛍光体２００ｇ、ポリ
エステル樹脂（東洋紡バイロン５３０）２５ｇをメチル
エチルケトンとトルエン、シクロヘキサノンの混合溶媒
に添加、プロペラミキサーによって分散し、固形分７５
％の塗布液を調製した。

【０１０５】作製した放射線像変換パネルの特性評価
（感度、鮮鋭性）の結果は表１に示す。このときの下引
き層の長さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、乾燥膜厚１００μｍの単
膜を１０分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸
び率および乾燥膜厚１００μｍになるよう２５μｍ厚の
透明ＰＥＴに塗設し、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁し
て、シクロヘキサノン中に浸せきした時のカール量も表
１に示す。

【０１０６】比較例４ 実施例１の下引き層塗布液を以下のように調製した以外
は、実施例１と同様に放射線像変換パネルを作製した。

【０１０７】ポリエステル樹脂溶解品（東洋紡バイロン
３０ＳＳ：固形分３０％）３００ｇにメチルエチルケト
ン、トルエンを混ぜ、プロペラミキサーで分散して用意
した。この下引き層塗布液を発泡ＰＥＴ、１８８Ｅ６０
Ｌ（東レ）に塗布、１００℃で５分乾燥し、３０μｍ厚
の下引き層を形成した。

【０１０８】作製した放射線像変換パネルの特性評価
（感度、鮮鋭性）の結果は表１に示す。このときの下引
き層の長さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、乾燥膜厚１００μｍの単
膜を１０分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸
び率および乾燥膜厚１００μｍになるよう２５μｍ厚の
透明ＰＥＴに塗設し、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁し
て、シクロヘキサノン中に浸せきした時のカール量も表
１に示す。

【０１０９】比較例５ 実施例１の支持体に１８８Ｘ３０（東レ）を用いた以外
は、実施例１と同様に放射線像変換パネルを作製した。

【０１１０】ポリエステル樹脂溶解品（東洋紡バイロン
３０ＳＳ：固形分３０％）３００ｇにメチルエチルケト
ン、トルエンを混ぜ、プロペラミキサーで分散して用意
した。この下引き層塗布液を発泡ＰＥＴ、１８８Ｅ６０
Ｌ（東レ）に塗布、１００℃で５分乾燥し、３０μｍ厚
の下引き層を形成した。

【０１１１】作製した放射線像変換パネルの特性評価
（感度、鮮鋭性）の結果は表１に示す。このときの下引
き層の長さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、乾燥膜厚１００μｍの単
膜を１０分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸
び率および乾燥膜厚１００μｍになるよう２５μｍ厚の
透明ＰＥＴに塗設し、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁し
て、シクロヘキサノン中に浸せきした時のカール量も表
１に示す。

【０１１２】（放射線像変換パネルの特性評価） 感度の評価 感度の測定は放射線像変換パネルに管電圧８０ｋＶｐの
Ｘ線を照射した後、パネルをＨｅ−Ｎｅレーザー光（６
３３ｎｍ）で操作して励起し、蛍光体層から放射される
輝尽発光を受光器（分光感度Ｓ−５の光電子像倍管）で
受光してその強度を測定することで行った。表中の感度
は蛍光体面全体の平均値であり、試料１の感度を１とし
た場合の相対感度である。

【０１１３】鮮鋭性の評価 鮮鋭性については、放射線像変換パネルに鉛製のＭＴＦ
チャートを通して管電圧８０ｋＶｐのＸ線を照射した後
パネルＨｅ−Ｎｅレーザー光で操作して励起し、蛍光体
層から放射される輝尽発光を上記と同じ受光器で受光し
て電気信号に変換し、これをアナログ／デジタル変換し
て磁気テープに記録し、磁気テープをコンピューターで
分析して磁気テープに記録されているＸ線像の変調伝達
関数（ＭＴＦ）を調べた。下記の表１には空間周波数２
サイクル／ｍｍにおけるＭＴＦ値（％）が示されてい
る。この場合ＭＴＦ値が高いほど鮮鋭性がよい。

【０１１４】

【表１】

【０１１５】表１から、本発明の放射線像変換パネル
は、感度、鮮鋭性が優れていることが判る。

【０１１６】

【発明の効果】本発明により、感度、鮮鋭性が共に優れ
た放射線像変換パネルおよびその製造方法を提供するこ
とができた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G083 AA03 BB01 CC02 CC04 CC06 CC08 DD01 DD02 DD06 DD11 DD12 EE02 EE03 4H001 CA08 XA04 XA09 XA12 XA20 XA35 XA38 XA53 XA56 YA03 YA08 YA11 YA19 YA37 YA55 YA58 YA59 YA60 YA62 YA63 YA64 YA65 YA66 YA67 YA68 YA69 YA70

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体、下引き層、蛍光体層がこの順に
   積層されてなる放射線像変換パネルで、該下引き層の長
   さ５ｃｍ、幅１ｃｍ、乾燥膜厚１００μｍの単膜を１０
   分間シクロヘキサノン中で浸せきしたときの伸び率が
   １．８倍（１８０％）以下であることを特徴とする放射
   線像変換パネル。
2. 【請求項２】 支持体、下引き層、蛍光体層がこの順に
   積層されてなる放射線像変換パネルで、該下引き層を乾
   燥膜厚１００μｍになるよう２５μｍ厚の透明ＰＥＴに
   塗設し、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁して、シクロヘキ
   サノン中に浸せきした時のカール度１／ｒのｒが５（ｃ
   ｍ）≦ｒ≦１０００（ｃｍ）であることを特徴とする放
   射線像変換パネル。
3. 【請求項３】 蛍光体層の蛍光体層中の樹脂量と蛍光体
   の質量比が３：９７〜１０：９０であることを特徴とす
   る請求項１又は２記載の放射線像変換パネル。
4. 【請求項４】 下引き層の樹脂が高分子量のポリエステ
   ル、ポリウレタンであることを特徴とする請求項１〜３
   のいずれか１項記載の放射線像変換パネル。
5. 【請求項５】 下引き層が硬化剤によって硬化された樹
   脂からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１
   項記載の放射線像変換パネル。
6. 【請求項６】 下引き層の硬化剤がイソシアネートおよ
   びその誘導体であることを特徴とする請求項５記載の放
   射線像変換パネル。
7. 【請求項７】 下引き層に銅−フタロシアニン色素を含
   有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項記
   載の放射線像変換パネル。
8. 【請求項８】 支持体が発泡ＰＥＴであることを特徴と
   する請求項１〜７のいずれか１項記載の放放射線像変換
   パネル。
9. 【請求項９】 蛍光体層の蛍光体が下記一般式（１）で
   表されるものであることを特徴とする請求項１〜８のい
   ずれか１項記載の放放射線像変換パネル。 一般式（１） Ｂａ_(1-x)Ｍ_2(x)ＦＢｒ_(y)Ｉ_(1-y)：ａＭ₁，ｂＬｎ，ｃ
   Ｏ 〔式中、Ｍ₁はＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ及びＣｓから選ば
   れる少なくとも１種のアルカリ金属、Ｍ₂はＢｅ，Ｍ
   ｇ，Ｓｒ及びＣａから選ばれる少なくとも１種のアルカ
   リ土類金属、ＬｎはＣｅ，Ｐｒ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔ
   ｂ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｅｒ及びＹｂから選ばれ
   る少なくとも１種の希土類元素を表し、ｘ，ｙ，ａ，ｂ
   及びｃは、それぞれ０≦ｘ≦０．３，０＜ｙ≦０．３，
   ０≦ａ≦０．０５，０＜ｂ≦０．２，０≦ｃ≦０．１で
   ある。〕
10. 【請求項１０】 蛍光体層の蛍光体が下記一般式（２）
    で表されるものであることを特徴とする請求項１〜８の
    いずれか１項記載の放放射線像変換パネル。 一般式（２） Ｂａ_(1-x)Ｍ_2(x)ＦＩ：ａＭ₁，ｂＬｎ，ｃＯ 〔式中、Ｍ₁はＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ及びＣｓから選ば
    れる少なくとも１種のアルカリ金属、Ｍ₂はＢｅ，Ｍ
    ｇ，Ｓｒ及びＣａから選ばれる少なくとも１種のアルカ
    リ土類金属、ＬｎはＣｅ，Ｐｒ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔ
    ｂ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｅｒ及びＹｂから選ばれ
    る少なくとも１種の希土類元素を表し、ｘ，ａ，ｂ及び
    ｃは、それぞれ０≦ｘ≦０．３，０≦ａ≦０．０５，０
    ＜ｂ≦０．２，０≦ｃ≦０．１である。〕
11. 【請求項１１】 請求項１〜１０のいずれか１項記載の
    放射線像変換パネルを、乾燥膜厚１００μｍの下引き層
    の長さ５ｃｍ、幅１ｃｍの単膜を１０分間シクロヘキサ
    ノン中で浸せきしたときの伸び率が１．８倍（１８０
    ％）以下である下引き層を支持体上に塗設し、その上に
    質量で７５％以上の高い固形分の蛍光体層を塗設して製
    造したことを特徴とする放射線像変換パネルの製造方
    法。
12. 【請求項１２】 請求項１〜１０のいずれか１項記載の
    放射線像変換パネルを、下引き層を乾燥膜厚１００μｍ
    になるよう２５μｍ厚の透明ＰＥＴに塗設し乾燥した
    後、長さ５ｃｍ、幅２ｍｍに断裁して、シクロヘキサノ
    ン中に浸せきした時のカール度１／ｒのｒが５（ｃｍ）
    ≦ｒ≦１０００（ｃｍ）である下引き層を支持体上に塗
    設し、その上に質量で７５％以上の高い固形分の蛍光体
    層を塗設して製造したことを特徴とする放射線像変換パ
    ネルの製造方法。