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JP2000243277A - 気密容器、及び気密容器の製造方法 - Google Patents

気密容器、及び気密容器の製造方法

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Publication number
JP2000243277A
JP2000243277A JP11045084A JP4508499A JP2000243277A JP 2000243277 A JP2000243277 A JP 2000243277A JP 11045084 A JP11045084 A JP 11045084A JP 4508499 A JP4508499 A JP 4508499A JP 2000243277 A JP2000243277 A JP 2000243277A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
manufacturing
airtight container
substrate
pedestal
Prior art date
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Pending
Application number
JP11045084A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Yakou
猛 谷古宇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP11045084A priority Critical patent/JP2000243277A/ja
Publication of JP2000243277A publication Critical patent/JP2000243277A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 気密容器の上・下プレートの封着を精度よく
行う。製造のスループットを増す効率的な生産を行う。 【解決手段】 第1及び第2の基板271,273を所
定の間隔で対向させ封着材を用いて封着する気密容器の
製造方法において、第1の基板271に複数の薄板2の
一辺を接着剤3にて接合し、第2の基板273に薄板の
他の一辺が当接する台座を接着剤4で接合し、前記第1
及び第2の基板の水平方向の位置合わせを行った後、薄
板の他の一辺と台座の当設部を樹脂接着剤5にて仮接合
し、その後に耐熱性接着剤23にて本固定し、封着材の
溶融温度に昇温し、第1及び第2の基板を加圧し、降温
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は気密容器及び気密容
器の製造方法に係わり、特に平面型画像表示装置用の気
密容器の製造に好適に用いられる気密容器の製造方法お
よびそれを用いた気密容器に関する。
【0002】
【従来の技術】電子ビームを用いた画像表示装置には、
例えばフェースプレート(基板)とリアプレート(基
板)に挟まれた真空容器内に電子ビームを発生する電子
放出源を備え、その電子放出源から放出される電子ビー
ムを加速して蛍光体に照射することで発光させ、画像を
表示する薄型の平面型画像表示装置が開発されている。
【0003】図11は画像表示装置の構成を示す分解模
式図であり、図12(a)、(b)は図11に示した画
像表示装置を組立てた様子を示す図であり、図12
(a)は斜視図、図12(b)は側面図である。
【0004】図11において、画像表示装置は、画像を
表示するための赤、青、緑の発光体271cが電子放出
源と対向した面に形成されたフェースプレート271
と、電子放出源273cが形成されたリアプレート27
3と、フェースプレート271、およびリアプレート2
73に挟まれた真空容器を構成するために、例えば中抜
きのガラスで製造された外枠272とによって構成され
ている。また、真空容器に加わる大気圧から真空容器の
破壊を防ぐために、図12(b)に示すスペーサー74
を配置する場合がある。
【0005】フェースプレート271には発光体271
cと電子放出源273cとの位置関係を合わせるための
アライメントマーク271a,271bが形成され、リ
アプレート273にも同様にアライメントマーク273
a,273bが形成されている。なお、これらのアライ
メントマークは発光体271cおよび電子放出源273
cと干渉しない位置に形成されている。
【0006】フェースプレート271、およびリアプレ
ート273と接する外枠272の融着面272a,27
2bには、予めフリットガラス272c,272dが塗
布され、仮焼成がなされている。また、フェースプレー
ト271、外枠272、リアプレート273は同じ熱膨
張率を持った同じ材質の青板ガラス等から構成されてい
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このような構成におい
て、図12(a)、(b)に示すように、フェースプレ
ート271、およびリアプレート273は、外枠272
の両面に塗付されたフリットガラス272c,272d
によってそれぞれ融着され、密閉された容器を形成す
る。このとき、フェースプレート271のアライメント
マーク271aとリアプレート273のアライメントマ
ーク273a、およびフェースプレート271のアライ
メントマーク271bとリアプレート273のアライメ
ントマーク273bの位置がそれぞれ所定の位置関係に
なるように配置され、発光体271cと電子放出源27
3cの関係が正確に位置決めされる。このことによって
文字や画像等の色ズレや輝度ムラが防止される。なお、
一般にフリットガラスは、常温(室温)では固化した状
態であり、400℃以上で溶融した状態になるものが多
い。従って、フリットガラスによって各ガラスを融着す
るためには、昇温、降温の温度サイクルが必要となる。
【0008】また、真空容器としての気密性を確実にす
るには、外枠272に塗布されたフリットガラス272
c,272dを溶融させた状態で荷重を作用させ押しつ
ぶすことが求められる。
【0009】外枠272にフリットガラス272c,2
72dを塗布、仮焼成を行った状態では、フリットガラ
ス272c,272dは、凸状態で盛り上がっている。
従って、外枠とスペーサーが同じ高さの場合、スペーサ
ー74の下端とリアプレート273の上面とは、スキマ
ΔZがあるため、フリットの溶融(軟化)温度まで昇温
し、272c,272dのフリットガラスが溶融した状
態(フリットガラスは、溶融しても水状にはならず粘性
をもっている)でプレート271,273間に荷重を作
用させ、押しつぶすことが求められる。押しつぶしによ
って、スペーサー74の下端がリアプレート273の上
面に当接する。フリットガラス272c,272dは外
枠272の上下面272a,272bに広がり、図12
(b)の状態となり、気密性を確実なものとしている。
【0010】また、この場合の押しつぶしによって(Z
方向;垂直方向)、フェースプレート271とフェース
プレート273の水平方向(x,y,θ)の位置が保た
れなければならない。
【0011】複数のプレートの位置を合わせて組み立て
る従来の画像表示装置の製造方法には、特開昭58−2
14245号公報で提案された方法等がある。これらの
公報では、平面型画像表示装置を構成する複数のプレー
トを、プレートに空けられた穴と位置決めピンによって
位置合わせを行う方法等が開示されている。しかしなが
ら、位置決めピンを使用して位置合わせを行う方法で
は、プレートの穴、および位置決めピンの精度により、
位置合わせ精度が劣化する課題があった。
【0012】またピンと穴の摺動が悪く、フリット押し
つぶしのためのZ方向の下降ができない場合があるとい
う課題があった。
【0013】また、電子放出源が形成されたリアプレー
トと表示面であるフェースプレートとの位置合わせを、
画像表示の有効面の外に形成されたアライメントマーク
が一致するように顕微鏡等で見ながら位置合わせを行う
方法が考えられるが、アライメントマークによって位置
合わせを行う方法では、位置合わせを顕微鏡等を使用し
て室温で行った後、フリットガラスで封着(接着)する
ために加熱すると、プレート271,273は、水平方
向(x,y,θ)にプレートの熱膨張(約1mm)によ
って位置ずれを起こしてしまう場合があった。
【0014】
【課題を解決するための手段および作用】本発明の気密
容器の製造方法は、第1及び第2の基板を所定の間隔で
対向させ封着材を用いて封着する気密容器の製造方法に
おいて、前記第1の基板に複数の薄板の一辺を接着剤に
て接合し、前記第2の基板に該薄板の他の一辺が当接す
る台座を接着剤で接合し、前記第1及び第2の基板の水
平方向の位置合わせを行った後、前記薄板の他の一辺と
前記台座の当設部を樹脂接着剤にて仮接合し、その後に
耐熱性接着剤にて本固定し、前記封着材の溶融温度に昇
温し、前記第1及び第2の基板を加圧し、降温するもの
である。
【0015】また本発明の気密容器の製造方法は、第1
及び第2の基板を所定の間隔で対向させ封着材を用いて
封着する気密容器の製造方法において、前記第1の基板
に複数の薄板の一辺を樹脂接着剤にて仮接合し、耐熱性
接着剤にて本固定し、前記第2の基板に該薄板の他の一
辺が当接する台座を樹脂接着剤で仮接合し、耐熱性接着
剤にて本固定し、前記第1及び第2の基板の水平方向の
位置合わせを行った後、前記薄板の他の一辺と前記台座
の当設部を樹脂接着剤にて仮接合し、その後に耐熱性接
着剤にて本固定し、前記封着材の溶融温度に昇温し、前
記第1及び第2の基板を加圧し、降温するものである。
【0016】本発明の気密容器は、本発明の気密容器の
製造方法により製造されたものである。
【0017】本発明の気密容器の製造方法について図1
を用いて説明すると、プレート271,273に、上・
下方向(垂直方向)には弾性を持ち、水平(x,y,
θ)方向には固定の機能を有するガラスまたは金属の薄
板1a,1b,1c,1dを台座2を介し接合する。接
合後、フリットガラス272c,272dが溶融(軟
化)する温度(例えば、400℃)に昇温し、加圧、降
温し封着を行う。
【0018】上記製造方法により、封着時の加熱におい
ても、フェースプレートとリアプレート間の相対位置
が、室温にて位置決めした状態のまま、x,y,θ(水
平)方向において位置ずれをおこすことがない。そし
て、上記薄板により、Z(垂直)方向には動くことが許
容されるので、前述のフリットの押しつぶしができ、そ
の結果、高精度に位置決め、封着された、フラットパネ
ルディスプレー等として用いられる気密容器が作製され
る。
【0019】なお、本発明の製造方法は、第1及び第2
の基板と、該第1及び第2の基板に狭持される支持枠と
を封着材を用いて封着する気密容器を製造する場合に用
いられ、特に用途は限定されないが、フラットパネルデ
ィスプレー、例えば後述する電子放出素子を電子放出源
とする画像表示装置、プラズマディスプレイ装置、蛍光
表示管等に好適に用いることができる。
【0020】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
詳細に説明する。
【0021】(第1の実施例)図1に本発明の気密容器
の製造方法を示す説明図であり、図1(a)は斜視図、
図1(b)は断面図である。同図において、271はガ
ラスからなるフェースプレート、273はガラスからな
るリアプレート、272は外枠、74はスペーサーであ
る。
【0022】1a,1b,1c,1dは薄板で、厚さ,
幅,長さ,材料は作製する気密容器の大きさによって適
宜設定されるが、例えば、厚さt=0.05〜0.2m
m、幅10〜20mm、長さ20〜50mmで、ガラス
または金属セラミックスが好適に用いられる。本実施例
では、t=0.1mm、幅20mm、長さ50mmの青
板ガラスを用いた。なお、薄板の数も作製する気密容器
の大きさによって適宜設定される。
【0023】薄板1a〜1dは、予めフェースプレート
271の外周に2〜4ヶ所、接着剤で接着した。図2
(a)において、3a,3b,3c,3dは薄板1a,
1b,1c,1dを接着する接着剤部分を示す。図2
(a)にその斜視図を示す。2a,2b,2c,2dは
薄板1a,1b,1c,1dが当接する台座ブロック
(外枠より高さが高く、本実施例では高さ6mm)であ
り、ガラス(または薄板と同様の金属またはセラミック
ス)であり、リアプレート273に予め接着する(図2
(c))。図2(c)において、4a,4b,4c,4
dは台座ブロック2a,2b,2c,2dを接着する接
着剤部分を示す。尚、本実施例の台座ブロックは、薄板
と同様青板ガラスから構成されている。
【0024】図2(a)に示すフェースプレート+薄
板、図2(b)に示す外枠+(フリット)、図2(c)
に示すリアプレート+台座ブロックを図12に示すアラ
イメントマーク271a,271b、273a,273
bにより、室温にて図3の装置にて位置合わせを行う。
その後、台座ブロック2a,2b,2c,2dと薄板1
a,1b,1c,1dの接着を行い固定する(図4)。
その後、図5の装置でフリットを溶融、固着する(本例
では400℃)。この製造工程には、以下の条件を満た
すようにする。
【0025】(1).薄板1と台座2との接合に使う接
着剤は、フリットの溶融温度(本実施例では400℃)
においても接着強度が得られる耐熱性接着剤であるこ
と。
【0026】(2).薄板1は、プレート271,27
3とフリットの溶融温度(本実施例では400℃)にお
ける熱膨張による寸法変化、およびフリットの厚み分
(本実施例では2mm)の押しつぶしによる寸法変化を
考慮すること。薄板1が長くなりたるんだ状態では、水
平精度を悪化させてしまい、また短かくなれば接着がは
がれたり、薄板1が破損してしまうことになる。
【0027】上記(1)の条件については次の対応をと
ることができる。
【0028】耐熱性接着剤として、セラミックス接着剤
を使用することで対応する。この場合、接合するプレー
ト271,273とある程度熱膨張を合わせたセラミッ
クス接着剤を使用する。これは、熱膨張差によって室温
にて位置合わせした相対位置がずれたり、或いは、接合
がはがれてしまう場合があるからである。次にセラミッ
クス接着剤の硬化は、自然乾燥による半硬化、及び本硬
化(本実施例では150℃、1時間)を行う。自然乾燥
による半硬化は一般に数時間を要し、また接合力も弱い
ため、アライメント装置(図3)にて、アライメント
後、セラミックス接着剤で接着を行うと、数時間その装
置が占有されてしまう。これは、大量生産する上では不
利になる。
【0029】従って、セラミックス接着剤の本硬化温度
(本実施例では150℃)に耐えられ速く硬化する他の
接着剤にてプレートと薄板との仮止めを行う方が効率が
良い。
【0030】そこで、図3のアライメント装置でアライ
メント後、UV接着剤を塗布、UV光を照射することに
より、数秒で仮固定を行うことが好ましい。UV接着剤
にて仮固定後、図3のアライメント装置からプレートを
はずし仮の場所にて、前記セラミックス接着剤を塗布
し、バッチ式の炉へ多数入れ、150℃、1時間の本硬
化を行うことで、大量生産に対応できる。
【0031】上記(2)の条件については次の対応をと
ることができる。
【0032】本実施例で用いた青板ガラスのガラスプレ
ートの熱膨張率は85×10-7である。薄板1の自由部
の長さは本実施例では、40mmとする(図2
(a))。又、フリットガラスは400℃で溶融する低
融点フリットガラスを用いる。温度変化は室温(20
℃)から400℃なので380℃の上昇である。このと
き、薄板1の熱膨張量は、40mm×85×10-7×3
80℃=0.129mmから0.129mmの熱膨張が
ある。ステンレス等の熱膨張率は200×10-7なので
40×200×10-7×380℃=0.304mmとな
り、0.304−0.129=0.175mmで0.1
75mm薄板が長くなり、たるんでしまう。その結果、
水平方向の固定力がなくなり精度が悪化することにな
る。そこで薄板にはフェースプレート及びリアプレート
に用いる部材(本実施例ではガラス)と同じ膨張率の合
金、セラミックス、あるいはガラスの薄板を使うことが
望ましい。本実施例では、プレート271,273と同
じ青板ガラス薄板を使用した。
【0033】本実施例では、図2(a)に示すガラスか
らなるフェースプレート271と薄板1は、別工程に
て、セラミックス接着剤により接着し、予め本硬化して
おいた。リアプレート273と台座2もセラミックス接
着剤により接着し、本硬化しておいた。ただしこの両工
程も、UV接着剤にて仮固定した後、あらためて、セラ
ミックス接着剤を塗布し、本硬化しても良い。前述のプ
レート271と273をアライメントするための本実施
例で用いた装置を図3を用いて以下に説明する。
【0034】図3において、10は組立接合装置、11
は架台である。12はZテーブルで架台11上方に設置
され、バキュームハンド13を上・下動する。バキュー
ムハンド13は、フェースプレート271をバキューム
吸着する。14はx,y,θテーブルで架台11に設置
され、上面は、リアプレート273を置くテーブルにな
っている。15a,15bはCCDカメラで、アライメ
ントマーク271a,271b、273a,273bを
画像認識する。16a〜16dは、UV接着剤塗布用の
ディスペンサーで、バー17a,17bに設置され、前
進ステージ18a,18b上にのっている。22a〜2
2dは、UV照射用のUVファイバーである。
【0035】以下、上記装置の動作説明をする。図2
(a)の薄板を接着したフェースプレート271をバキ
ュームハンド13に手動にて吸着する。
【0036】図2(c)の台座ブロックを接着したリア
プレート273をx,y,θテーブル14上に置く。図
2(b)の外枠272をリアプレート273上に置く。
これにて、ワークのセットが完了し、接合コントローラ
ー21を自動運転する。Zテーブル12が薄板1が台座
ブロック2に接触する位置まで下降し、フェースプレー
ト271のアライメントマーク271a,271bをC
CDカメラ15a,15bで読みとる。
【0037】次にリアプレート273のアライメントマ
ーク273a,273bをCCDカメラ15a,15b
で読みとる。
【0038】画像コントローラー20にて位置ズレ量を
算出し、接合コントローラー21により、x,y,θテ
ーブル14を移動し、フェースプレート271とリアプ
レート273の位置合わせを行う。位置合わせ終了後、
接合コントローラー21より、前進ステージ18a,1
8bに塗布コントローラー19を介して前進指令が出さ
れ、UV接着剤ディスペンサー16a,16b,16
c,16dの針先が薄板1a,1b,1c,1dの近く
に前進し、UV接着剤を塗布後、後退する。UVファイ
バー22a,22b,22c,22dからUV光を照射
するとUV接着剤5a,5b,5c,5dが固化しフェ
ースプレート271とリアプレート273の仮固定が完
了する。
【0039】図4はその状態を示す断面図である。薄板
1は台座ブロック2にUV接着剤5にて接着されてい
る。また、外枠272にあらかじめ塗布されたフリット
ガラス272c,272dが凸状にある。フェースプレ
ート271は、外枠272,フリットガラス272c,
272dに当接しているか、あるいは、薄板1に支えら
れ、フリットガラス272cの凸部とフェースプレート
271にスキマがあるか、どちらでも良い。スペーサー
を用いる場合には、薄板の接着と同様、予め、フェース
プレートに接着しておく。ただし、スペーサーのフェー
スプレートへの接着は、272c,272dのフリット
ガラスより軟化温度の高い非晶質フリットガラスか、結
晶性のフリットガラスにより、接着を行う。本実施例で
は、結晶性フリットガラスにより接着を行った。スペー
サー74の下端とリアプレート273の上面とは、ΔZ
のスキマができている。
【0040】この後、組立接合装置10のバキュームハ
ンド13の吸着をやめ、Zテーブル12のZ軸を上昇す
る。ワーク200を取り出し、別工程にて、セラミック
ス接着剤23a,23b,23c,23dを塗布する。
不図示の硬化炉にワーク200を多数入れ、150℃、
1時間にて本硬化する。ワーク200を取り出し、図5
に示す焼成炉にて、フリット接合を行う。30は焼成炉
本体、34は焼成炉のコントローラー、31は加圧用重
り40kgで、クサリ33にて、昇降装置32に支えら
れている。
【0041】先のワーク200を焼成炉30中へ入れ、
室温より昇温する(10℃/min)。400℃でフリ
ットガラス272c,272dが溶融する。この間プレ
ート271,273は熱膨張(約1mm)するが、薄板
1と台座ブロック2との接着により、水平(x,y,
θ)は拘束されているので、位置がズレることはない。
【0042】フリットガラスが溶融する温度(本例では
400℃)に炉内が達した後、昇降装置32により、加
圧用重り31をフェースプレート271へおろし、加圧
する。加圧によりフリットガラス272c,272dは
押しつぶされ、外枠の上・下面をまんべんなくおおう。
その様子を図1(b)に示す。
【0043】また、この時薄板1は、上・下に弾性変形
し、また、図4に示すようなスキマΔZはなくなり、ス
ペーサー74がリアプレート273の上面に当接してい
る。その後降温しフリットガラスを硬化させ、室温にて
とり出す。
【0044】この様にして、上・下プレート271,2
73の位置を保ったまま、フリット272c,272d
を押しつぶし、高真空の気密を確実にしたフラットディ
スプレイが製造される。
【0045】次に本発明の他の実施例を図6に示す。
【0046】上述した実施例では、薄板1の台座2への
仮固定用のUV接着剤と本固定用のセラミックス接着剤
を同じ位置にしたが、本固定用のセラミックス接着剤を
UV接着剤と異なる位置に塗布する方が接着強度が安定
する。
【0047】そこで、本実施例では、新たな台座ブロッ
ク25a,25bを設け、薄板26a,26bにより、
UV接着剤27a,27bで仮固定することとし、台座
ブロック2a,2b,2c,2dとは別にする。このこ
とにより台座25a,25b、と薄板26a,26bと
はUV接着剤27a,27bで仮固定を行い、薄板1
a,1b,1c,1dと台座ブロック2a,2b,2
c,2dとはセラミックス接着剤23a,23b,23
c,23dで本固定を行う。
【0048】また図7に示すように、台座ブロック2と
薄板1の固定に関し長手方向に少し長くして、5aの個
所をUV接着剤による仮固定とし、23aの個所をセラ
ミックス接着剤による本固定として場所を分けても良
い。
【0049】上記画像表示装置に用いることができる電
子放出源としては、たとえば表面伝導型電子放出素子
(以下表面伝導型放出素子と記す)や、電界放出型素子
(以下FE型と記す)や、金属/絶縁層/金属型放出素
子(以下MIM型と記す)、などを用いることができ
る。ただし、本発明は封着材を用いて基板同士を対向さ
せて封着する気密容器の製造方法に用いることができる
ので、電子放出素子を電子放出源とする画像表示装置の
他、プラズマディスプレイ装置、蛍光表示管等にも適用
することができる。
【0050】表面伝導型放出素子としては、たとえば、
M.I.Elinson,Radio Eng.Electron Phys.,10,1290,(196
5)や、後述する他の例が知られている。
【0051】表面伝導型放出素子は、基板上に形成され
た小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことにより
電子放出が生ずる現象を利用するものである。この表面
伝導型放出素子としては、前記エリンソン等によるSn
2 薄膜を用いたものの他に、Au薄膜によるもの[G.
Dittmer:“Thin Solid Films",9,317(1972)]や、In
2 3 /SnO2 薄膜によるもの[M.Hartwell and C.
G.Fonstad:“IEEE Trans.ED Conf.",519(1975)]や、カ
ーボン薄膜によるもの[荒木久 他:真空、第26巻、第
1号、22(1983)]等が報告されている。
【0052】これらの表面伝導型放出素子の素子構成の
典型的な例として、図8に前述のM.Hartwellらによる素
子の平面図を示す。同図において、3001は基板で、
3004はスパッタで形成された金属酸化物よりなる導
電性薄膜である。導電性薄膜3004は図示のようにH
字形の平面形状に形成されている。該導電性薄膜300
4に後述の通電フォーミングと呼ばれる通電処理を施す
ことにより、電子放出部3005が形成される。図中の
間隔Lは、0.5〜1[mm],Wは、0.1[mm]
で設定されている。尚、図示の便宜から、電子放出部3
005は導電性薄膜3004の中央に矩形の形状で示し
たが、これは模式的なものであり、実際の電子放出部の
位置や形状を忠実に表現しているわけではない。
【0053】M.Hartwellらによる素子をはじめとして上
述の表面伝導型放出素子においては、電子放出を行う前
に導電性薄膜3004に通電フォーミングと呼ばれる通
電処理を施すことにより電子放出部3005を形成する
のが一般的であった。すなわち、通電フォーミングと
は、前記導電性薄膜3004の両端に一定の直流電圧、
もしくは、例えば1V/分程度の非常にゆっくりとした
レートで昇圧する直流電圧を印加して通電し、導電性薄
膜3004を局所的に破壊もしくは変形もしくは変質せ
しめ、電気的に高抵抗な状態の電子放出部3005を形
成することである。尚、局所的に破壊もしくは変形もし
くは変質した導電性薄膜3004の一部には、亀裂が発
生する。前記通電フォーミング後に導電性薄膜3004
に適宜の電圧を印加した場合には、前記亀裂付近におい
て電子放出が行われる。
【0054】またFE型の例は、たとえば、W.P.Dyke&
W.W.Dolan,“Field emission",Advance in Electron Ph
ysics,8,89(1956)や、あるいは、C.A.Spindt,“Physica
lproperties of thin-film field emission cathodes w
ith molybdenium cones",J.Appl.Phys.,47,5248(1976)
などが知られている。
【0055】FE型の素子構成の典型的な例として、図
9に前述のC.A.Spindtらによる素子の断面図を示す。同
図において、3010は基板で、3011は導電材料よ
りなるエミッタ配線、3012はエミッタコーン、30
13は絶縁層、3014はゲート電極である。本素子
は、エミッタコーン3012とゲート電極3014の間
に適宜の電圧を印加することにより、エミッタコーン3
012の先端部より電界放出を起こさせるものである。
【0056】また、FE型の他の素子構成として、図9
のような積層構造ではなく、基板上に基板平面とほぼ平
行にエミッタとゲート電極を配置した例もある。
【0057】またMIM型の例としては、たとえば、C.
A.Mead,“Operation of tunnel-emission Devices,J.Ap
pl.Phys.,32,646(1961)などが知られている。MIM型
の素子構成の典型的な例を図10に示す。同図は断面図
であり、図において、3020は基板で、3021は金
属よりなる下電極、3022は厚さ100オングストロ
ーム程度の薄い絶縁層、3023は厚さ80〜300オ
ングストローム程度の金属よりなる上電極である。MI
M型においては、上電極3023と下電極3021の間
に適宜の電圧を印加することにより、上電極3023の
表面より電子放出を起こさせるものである。
【0058】上記表面伝導型放出素子は、冷陰極素子の
なかでも特に構造が単純で製造も容易であることから、
大面積にわたり多数の素子を形成できる利点がある。そ
こで、たとえば本出願人による特開昭64-31332号公報に
おいて開示されるように、多数の素子を配列して駆動す
るための方法が研究されている。
【0059】また、表面伝導型放出素子の応用について
は、たとえば、画像表示装置、画像記録装置などの画像
形成装置や、荷電ビーム源、等が研究されている。特
に、画像表示装置への応用としては、たとえば本出願人
による米国特許第5,066,883号や特開平2-257551号公報
や特開平4-28137号公報において開示されているよう
に、表面伝導型放出素子と電子ビームの照射により発光
する蛍光体とを組み合わせて用いた画像表示装置が研究
されている。表面伝導型放出素子と蛍光体とを組み合わ
せて用いた画像表示装置は、従来の他の方式の画像表示
装置よりも優れた特性が期待されている。たとえば、近
年普及してきた液晶表示装置と比較しても、自発光型で
あるためバックライトを必要としない点や、視野角が広
い点が優れていると言える。
【0060】またFE型を多数個ならべて駆動する方法
は、たとえば本出願人による米国特許第4,904,895号に
開示されている。また、FE型を画像表示装置に応用し
た例として、たとえば、R.Meyerらにより報告された平
板型表示装置[R.Meyer:“Recent Development on Micr
o-tips Display at LETI",Tech.Digest of 4th Int.Vac
uum Microelectronics Conf.,Nagahama,pp.6〜9(199
1)]が知られている。
【0061】また、MIM型を多数個並べて画像表示装
置に応用した例は、たとえば本出願人による特開平3-55
738号公報に開示されている。
【0062】上記のような電子放出素子を用いた画像形
成装置のうちで、奥行きの薄い平面型表示装置は省スペ
ースかつ軽量であることから、ブラウン管型の表示装置
に置き換わるものとして注目されている。
【0063】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
気密容器の上・下プレートの封着において、室温にて、
上・下プレートを精度よく位置合わせし、UV接着剤等
の樹脂接着剤にて仮固定し、耐熱性接着剤で本固定し、
封着材溶融温度に加熱しても、熱膨張により、位置がず
れることはなく、また、上・下プレートの固定を薄板に
て行っているので水平位置を保ちながら、封着材を押し
つぶすために、上・下方向には移動することができ、気
密容器の高真空の気密を確実にし、また、水平位置を精
度良く保ち封着が行える。また、コストの高いアライメ
ント装置の占有時間を数秒にでき製造のスループットを
増す効率的な生産が行える効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるフラットディスプレイの構造を示
す斜視図及び断面図である。
【図2】本発明によるフラットディスプレイの分解図で
ある。
【図3】本発明によるフラットディスプレイの組立接合
装置を示す斜視図である。
【図4】本発明によるフラットディスプレイの組立接合
図である。
【図5】封着炉を示す概略的斜視図である。
【図6】本発明による他の実施例を示す図である。
【図7】本発明による更に他の実施例を示す図である。
【図8】表面伝導型放出素子の素子構成例を示す平面図
である。
【図9】FE型の素子構成例を示す断面図である。
【図10】MIM型の素子構成例を示す断面図である。
【図11】フラットディスプレイの分解図である。
【図12】フラットディスプレイ斜視図と断面図であ
る。
【符号の説明】
1 薄板 2 台座ブロック 3,4 セラミックス接着剤 5 UV接着剤 10 組立接合装置 11 架台 12 Zテーブル 13 バキュームハンド 14 x,y,θテーブル 15 CCDカメラ 16 UV接着剤ディスペンサー 17 接着剤台 18 前進ステージ 19 塗布コントローラー 20 画像コントローラー 21 組立コントローラー 22 UV光源ファイバー 23 セラミックス接着剤 30 焼成炉 31 重り 32 重り印加機構 34 焼成コントローラー 74 スペーサー 271 フェースプレート 272 外枠 273 リアプレート

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1及び第2の基板を所定の間隔で対向
    させ封着材を用いて封着する気密容器の製造方法におい
    て、 前記第1の基板に複数の薄板の一辺を接着剤にて接合
    し、前記第2の基板に該薄板の他の一辺が当接する台座
    を接着剤で接合し、前記第1及び第2の基板の水平方向
    の位置合わせを行った後、前記薄板の他の一辺と前記台
    座の当設部を樹脂接着剤にて仮接合し、その後に耐熱性
    接着剤にて本固定し、前記封着材の溶融温度に昇温し、
    前記第1及び第2の基板を加圧し、降温する気密容器の
    製造方法。
  2. 【請求項2】 第1及び第2の基板を所定の間隔で対向
    させ封着材を用いて封着する気密容器の製造方法におい
    て、 前記第1の基板に複数の薄板の一辺を樹脂接着剤にて仮
    接合し、耐熱性接着剤にて本固定し、前記第2の基板に
    該薄板の他の一辺が当接する台座を樹脂接着剤で仮接合
    し、耐熱性接着剤にて本固定し、前記第1及び第2の基
    板の水平方向の位置合わせを行った後、前記薄板の他の
    一辺と前記台座の当設部を樹脂接着剤にて仮接合し、そ
    の後に耐熱性接着剤にて本固定し、前記封着材の溶融温
    度に昇温し、前記第1及び第2の基板を加圧し、降温す
    る気密容器の製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載の気密容器
    の製造方法において、前記樹脂接着剤はUV接着剤であ
    り、前記耐熱接着剤はセラミックス接着剤であることを
    特徴とする気密容器の製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項1又は請求項2に記載の気密容器
    の製造方法において、前記薄板は前記第1及び第2の基
    板の熱膨張係数と同程度の熱膨張係数を有する気密容器
    の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項1、2又は4のいずれかの請求項
    に記載の気密容器の製造方法において、前記薄板は合
    金、セラミックス、あるいはガラスからなる気密容器の
    製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項1又は請求項2に記載の気密容器
    の製造方法において、前記薄板の他の一辺と前記台座の
    当設部との接合は、前記仮接合のための樹脂接合個所
    と、前記本固定のための耐熱接着個所とが別であること
    を特徴とする気密容器の製造方法。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6のいずれかの気密容器の製
    造方法により製造された気密容器。
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