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JP2000243277A - Gastight container and manufacture of the gastight container - Google Patents

Gastight container and manufacture of the gastight container

Info

Publication number
JP2000243277A
JP2000243277A JP11045084A JP4508499A JP2000243277A JP 2000243277 A JP2000243277 A JP 2000243277A JP 11045084 A JP11045084 A JP 11045084A JP 4508499 A JP4508499 A JP 4508499A JP 2000243277 A JP2000243277 A JP 2000243277A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
adhesive
manufacturing
airtight container
substrate
pedestal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11045084A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Yakou
猛 谷古宇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP11045084A priority Critical patent/JP2000243277A/en
Publication of JP2000243277A publication Critical patent/JP2000243277A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately perform sealing of the upper and lower plates of a gastight container and to perform efficiency production to increase the throughput of manufacturing. SOLUTION: In this manufacturing method of a gastight container that is made to face a first and second boards 271, 273 to each other at a prescribed distance and seals them by using a sealing material, each one side of multiple thin plates 2 is bonded to the first board 271 by the use of an adhesive 3a, 3c, a seating on which each of other one sides of the thin plates abuts is bonded to the second board 273 by the use of an adhesive 4a, 4c, horizontal positioning of the first and second boards is carried out, and thereafter, the other one sides of the thin plates are tentatively bonded to the abutting parts of the seating by the use of a resin adhesive 5a, 5c and thereafter bonded by the use of a heat-resistant adhesive 23a, 23c, the temperature is raised to the melting temperature of the sealing member, the first and second boards are pressed and the temperature is lowered.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は気密容器及び気密容
器の製造方法に係わり、特に平面型画像表示装置用の気
密容器の製造に好適に用いられる気密容器の製造方法お
よびそれを用いた気密容器に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an airtight container and a method for manufacturing an airtight container, and more particularly to a method for manufacturing an airtight container suitably used for manufacturing an airtight container for a flat panel display and an airtight container using the same. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子ビームを用いた画像表示装置には、
例えばフェースプレート(基板)とリアプレート(基
板)に挟まれた真空容器内に電子ビームを発生する電子
放出源を備え、その電子放出源から放出される電子ビー
ムを加速して蛍光体に照射することで発光させ、画像を
表示する薄型の平面型画像表示装置が開発されている。
2. Description of the Related Art Image display devices using electron beams include:
For example, an electron emission source for generating an electron beam is provided in a vacuum vessel sandwiched between a face plate (substrate) and a rear plate (substrate), and the electron beam emitted from the electron emission source is accelerated to irradiate a phosphor. Accordingly, a thin flat-panel image display device that emits light to display an image has been developed.

【0003】図11は画像表示装置の構成を示す分解模
式図であり、図12(a)、(b)は図11に示した画
像表示装置を組立てた様子を示す図であり、図12
(a)は斜視図、図12(b)は側面図である。
FIG. 11 is an exploded schematic view showing the structure of an image display device, and FIGS. 12 (a) and 12 (b) are views showing a state where the image display device shown in FIG. 11 is assembled.
12A is a perspective view, and FIG. 12B is a side view.

【0004】図11において、画像表示装置は、画像を
表示するための赤、青、緑の発光体271cが電子放出
源と対向した面に形成されたフェースプレート271
と、電子放出源273cが形成されたリアプレート27
3と、フェースプレート271、およびリアプレート2
73に挟まれた真空容器を構成するために、例えば中抜
きのガラスで製造された外枠272とによって構成され
ている。また、真空容器に加わる大気圧から真空容器の
破壊を防ぐために、図12(b)に示すスペーサー74
を配置する場合がある。
[0004] In FIG. 11, an image display device has a face plate 271 in which red, blue, and green luminous bodies 271c for displaying an image are formed on a surface facing an electron emission source.
And the rear plate 27 on which the electron emission source 273c is formed.
3, the face plate 271, and the rear plate 2
An outer frame 272 made of hollow glass, for example, constitutes a vacuum container sandwiched between 73. Further, in order to prevent the vacuum vessel from being destroyed due to the atmospheric pressure applied to the vacuum vessel, a spacer 74 shown in FIG.
May be placed.

【0005】フェースプレート271には発光体271
cと電子放出源273cとの位置関係を合わせるための
アライメントマーク271a,271bが形成され、リ
アプレート273にも同様にアライメントマーク273
a,273bが形成されている。なお、これらのアライ
メントマークは発光体271cおよび電子放出源273
cと干渉しない位置に形成されている。
A luminous body 271 is provided on the face plate 271.
Alignment marks 271a and 271b for matching the positional relationship between the electron emission source 273c and the electron emission source 273c are formed, and the alignment mark 273 is similarly formed on the rear plate 273.
a, 273b are formed. Note that these alignment marks are provided by the light emitting body 271c and the electron emission source 273.
It is formed at a position that does not interfere with c.

【0006】フェースプレート271、およびリアプレ
ート273と接する外枠272の融着面272a,27
2bには、予めフリットガラス272c,272dが塗
布され、仮焼成がなされている。また、フェースプレー
ト271、外枠272、リアプレート273は同じ熱膨
張率を持った同じ材質の青板ガラス等から構成されてい
る。
[0008] The fusion surfaces 272 a and 27 of the outer frame 272 in contact with the face plate 271 and the rear plate 273.
Frit glass 272c, 272d is applied to 2b in advance, and pre-baked. In addition, the face plate 271, the outer frame 272, and the rear plate 273 are made of blue plate glass of the same material having the same coefficient of thermal expansion.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】このような構成におい
て、図12(a)、(b)に示すように、フェースプレ
ート271、およびリアプレート273は、外枠272
の両面に塗付されたフリットガラス272c,272d
によってそれぞれ融着され、密閉された容器を形成す
る。このとき、フェースプレート271のアライメント
マーク271aとリアプレート273のアライメントマ
ーク273a、およびフェースプレート271のアライ
メントマーク271bとリアプレート273のアライメ
ントマーク273bの位置がそれぞれ所定の位置関係に
なるように配置され、発光体271cと電子放出源27
3cの関係が正確に位置決めされる。このことによって
文字や画像等の色ズレや輝度ムラが防止される。なお、
一般にフリットガラスは、常温(室温)では固化した状
態であり、400℃以上で溶融した状態になるものが多
い。従って、フリットガラスによって各ガラスを融着す
るためには、昇温、降温の温度サイクルが必要となる。
In such a configuration, as shown in FIGS. 12A and 12B, a face plate 271 and a rear plate 273 are formed by an outer frame 272.
Frit glass 272c, 272d applied to both sides of
Respectively to form a sealed container. At this time, the alignment marks 271a of the face plate 271 and the alignment marks 273a of the rear plate 273, and the alignment marks 271b of the face plate 271 and the alignment marks 273b of the rear plate 273 are arranged so as to have a predetermined positional relationship. Light emitting body 271c and electron emission source 27
The relationship of 3c is accurately positioned. This prevents color shifts and uneven brightness of characters and images. In addition,
Generally, frit glass is in a solidified state at room temperature (room temperature), and is often in a molten state at 400 ° C. or higher. Therefore, in order to fuse each glass with the frit glass, a temperature cycle of raising and lowering the temperature is required.

【0008】また、真空容器としての気密性を確実にす
るには、外枠272に塗布されたフリットガラス272
c,272dを溶融させた状態で荷重を作用させ押しつ
ぶすことが求められる。
Further, in order to ensure airtightness as a vacuum vessel, frit glass 272 applied to outer frame 272 is required.
It is required to apply a load and crush the c and 272d in a molten state.

【0009】外枠272にフリットガラス272c,2
72dを塗布、仮焼成を行った状態では、フリットガラ
ス272c,272dは、凸状態で盛り上がっている。
従って、外枠とスペーサーが同じ高さの場合、スペーサ
ー74の下端とリアプレート273の上面とは、スキマ
ΔZがあるため、フリットの溶融(軟化)温度まで昇温
し、272c,272dのフリットガラスが溶融した状
態(フリットガラスは、溶融しても水状にはならず粘性
をもっている)でプレート271,273間に荷重を作
用させ、押しつぶすことが求められる。押しつぶしによ
って、スペーサー74の下端がリアプレート273の上
面に当接する。フリットガラス272c,272dは外
枠272の上下面272a,272bに広がり、図12
(b)の状態となり、気密性を確実なものとしている。
The frit glass 272c, 2 is attached to the outer frame 272.
In a state where 72d is applied and pre-baked, the frit glasses 272c and 272d are raised in a convex state.
Therefore, when the outer frame and the spacer are at the same height, the gap between the lower end of the spacer 74 and the upper surface of the rear plate 273 rises to the melting (softening) temperature of the frit, and the frit glass of 272c, 272d It is required that a load be applied between the plates 271 and 273 in a molten state (the frit glass does not become watery even when melted and has viscosity) to crush the frit glass. The lower end of the spacer 74 contacts the upper surface of the rear plate 273 by crushing. The frit glass 272c, 272d spreads over the upper and lower surfaces 272a, 272b of the outer frame 272, and
The state of (b) is reached, and the airtightness is ensured.

【0010】また、この場合の押しつぶしによって(Z
方向;垂直方向)、フェースプレート271とフェース
プレート273の水平方向(x,y,θ)の位置が保た
れなければならない。
In this case, the squash (Z
Direction; vertical direction), and the horizontal position (x, y, θ) of the face plate 271 and the face plate 273 must be maintained.

【0011】複数のプレートの位置を合わせて組み立て
る従来の画像表示装置の製造方法には、特開昭58−2
14245号公報で提案された方法等がある。これらの
公報では、平面型画像表示装置を構成する複数のプレー
トを、プレートに空けられた穴と位置決めピンによって
位置合わせを行う方法等が開示されている。しかしなが
ら、位置決めピンを使用して位置合わせを行う方法で
は、プレートの穴、および位置決めピンの精度により、
位置合わせ精度が劣化する課題があった。
A conventional method of manufacturing an image display apparatus in which a plurality of plates are aligned and assembled is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-2.
There is a method proposed in Japanese Patent No. 14245. These publications disclose a method of aligning a plurality of plates constituting a flat panel image display device with holes formed in the plates and positioning pins. However, in the method of performing alignment using the positioning pin, due to the hole of the plate and the accuracy of the positioning pin,
There was a problem that the alignment accuracy was deteriorated.

【0012】またピンと穴の摺動が悪く、フリット押し
つぶしのためのZ方向の下降ができない場合があるとい
う課題があった。
Further, there is a problem that the sliding between the pin and the hole is bad and the frit cannot be lowered in the Z direction for crushing.

【0013】また、電子放出源が形成されたリアプレー
トと表示面であるフェースプレートとの位置合わせを、
画像表示の有効面の外に形成されたアライメントマーク
が一致するように顕微鏡等で見ながら位置合わせを行う
方法が考えられるが、アライメントマークによって位置
合わせを行う方法では、位置合わせを顕微鏡等を使用し
て室温で行った後、フリットガラスで封着(接着)する
ために加熱すると、プレート271,273は、水平方
向(x,y,θ)にプレートの熱膨張(約1mm)によ
って位置ずれを起こしてしまう場合があった。
In addition, alignment between a rear plate on which an electron emission source is formed and a face plate as a display surface is performed.
A method of performing alignment using a microscope or the like so that alignment marks formed outside the effective surface of the image display match can be considered, but in the method of performing alignment using alignment marks, a microscope is used for alignment. After heating at room temperature for sealing (bonding) with frit glass, the plates 271 and 273 are displaced in the horizontal direction (x, y, θ) due to the thermal expansion (about 1 mm) of the plate. There was a case where it would wake up.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段および作用】本発明の気密
容器の製造方法は、第1及び第2の基板を所定の間隔で
対向させ封着材を用いて封着する気密容器の製造方法に
おいて、前記第1の基板に複数の薄板の一辺を接着剤に
て接合し、前記第2の基板に該薄板の他の一辺が当接す
る台座を接着剤で接合し、前記第1及び第2の基板の水
平方向の位置合わせを行った後、前記薄板の他の一辺と
前記台座の当設部を樹脂接着剤にて仮接合し、その後に
耐熱性接着剤にて本固定し、前記封着材の溶融温度に昇
温し、前記第1及び第2の基板を加圧し、降温するもの
である。
The method of manufacturing an airtight container according to the present invention is directed to a method of manufacturing an airtight container in which a first substrate and a second substrate are opposed to each other at a predetermined interval and sealed using a sealing material. Bonding one side of the plurality of thin plates to the first substrate with an adhesive, and bonding a pedestal on which the other side of the thin plate abuts to the second substrate with an adhesive; After performing the horizontal alignment of the substrate, the other side of the thin plate and the corresponding portion of the pedestal are temporarily joined with a resin adhesive, and then permanently fixed with a heat-resistant adhesive, and the sealing is performed. The temperature is raised to the melting temperature of the material, and the first and second substrates are pressurized to lower the temperature.

【0015】また本発明の気密容器の製造方法は、第1
及び第2の基板を所定の間隔で対向させ封着材を用いて
封着する気密容器の製造方法において、前記第1の基板
に複数の薄板の一辺を樹脂接着剤にて仮接合し、耐熱性
接着剤にて本固定し、前記第2の基板に該薄板の他の一
辺が当接する台座を樹脂接着剤で仮接合し、耐熱性接着
剤にて本固定し、前記第1及び第2の基板の水平方向の
位置合わせを行った後、前記薄板の他の一辺と前記台座
の当設部を樹脂接着剤にて仮接合し、その後に耐熱性接
着剤にて本固定し、前記封着材の溶融温度に昇温し、前
記第1及び第2の基板を加圧し、降温するものである。
Further, the method for producing an airtight container of the present invention comprises the following steps:
And a method for manufacturing an airtight container in which a second substrate is opposed at a predetermined interval and sealed using a sealing material, wherein one side of the plurality of thin plates is temporarily joined to the first substrate with a resin adhesive, The pedestal where the other side of the thin plate is in contact with the second substrate is temporarily fixed with a resin adhesive, and is permanently fixed with a heat-resistant adhesive. After performing horizontal alignment of the substrate, the other side of the thin plate and the abutting portion of the pedestal are temporarily joined with a resin adhesive, and then permanently fixed with a heat-resistant adhesive, and the sealing is performed. The temperature is raised to the melting temperature of the adhesive, and the first and second substrates are pressurized and cooled.

【0016】本発明の気密容器は、本発明の気密容器の
製造方法により製造されたものである。
The airtight container of the present invention is manufactured by the method for manufacturing an airtight container of the present invention.

【0017】本発明の気密容器の製造方法について図1
を用いて説明すると、プレート271,273に、上・
下方向(垂直方向)には弾性を持ち、水平(x,y,
θ)方向には固定の機能を有するガラスまたは金属の薄
板1a,1b,1c,1dを台座2を介し接合する。接
合後、フリットガラス272c,272dが溶融(軟
化)する温度(例えば、400℃)に昇温し、加圧、降
温し封着を行う。
FIG. 1 shows a method of manufacturing an airtight container according to the present invention.
When described using, the plates 271 and 273
It has elasticity in the downward direction (vertical direction) and horizontal (x, y,
In the direction θ), glass or metal thin plates 1 a, 1 b, 1 c, 1 d having a fixed function are joined via a pedestal 2. After the joining, the temperature is raised to a temperature (for example, 400 ° C.) at which the frit glasses 272c and 272d are melted (softened), pressurized and cooled, and sealing is performed.

【0018】上記製造方法により、封着時の加熱におい
ても、フェースプレートとリアプレート間の相対位置
が、室温にて位置決めした状態のまま、x,y,θ(水
平)方向において位置ずれをおこすことがない。そし
て、上記薄板により、Z(垂直)方向には動くことが許
容されるので、前述のフリットの押しつぶしができ、そ
の結果、高精度に位置決め、封着された、フラットパネ
ルディスプレー等として用いられる気密容器が作製され
る。
According to the above-described manufacturing method, even when heating at the time of sealing, the relative position between the face plate and the rear plate is displaced in the x, y, and θ (horizontal) directions while being positioned at room temperature. Nothing. Further, since the thin plate is allowed to move in the Z (vertical) direction, the above-described frit can be crushed, and as a result, an airtight used as a flat panel display or the like which is positioned and sealed with high precision can be obtained. A container is made.

【0019】なお、本発明の製造方法は、第1及び第2
の基板と、該第1及び第2の基板に狭持される支持枠と
を封着材を用いて封着する気密容器を製造する場合に用
いられ、特に用途は限定されないが、フラットパネルデ
ィスプレー、例えば後述する電子放出素子を電子放出源
とする画像表示装置、プラズマディスプレイ装置、蛍光
表示管等に好適に用いることができる。
The manufacturing method of the present invention comprises the first and second methods.
Is used to manufacture an airtight container for sealing a substrate and a support frame held between the first and second substrates by using a sealing material, and the use of the flat panel display is not particularly limited. For example, it can be suitably used for an image display device, a plasma display device, a fluorescent display tube and the like using an electron-emitting device described later as an electron-emitting source.

【0020】[0020]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を用いて
詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0021】(第1の実施例)図1に本発明の気密容器
の製造方法を示す説明図であり、図1(a)は斜視図、
図1(b)は断面図である。同図において、271はガ
ラスからなるフェースプレート、273はガラスからな
るリアプレート、272は外枠、74はスペーサーであ
る。
(First Embodiment) FIG. 1 is an explanatory view showing a method of manufacturing an airtight container of the present invention. FIG. 1 (a) is a perspective view,
FIG. 1B is a sectional view. In the drawing, reference numeral 271 denotes a face plate made of glass, 273 denotes a rear plate made of glass, 272 denotes an outer frame, and 74 denotes a spacer.

【0022】1a,1b,1c,1dは薄板で、厚さ,
幅,長さ,材料は作製する気密容器の大きさによって適
宜設定されるが、例えば、厚さt=0.05〜0.2m
m、幅10〜20mm、長さ20〜50mmで、ガラス
または金属セラミックスが好適に用いられる。本実施例
では、t=0.1mm、幅20mm、長さ50mmの青
板ガラスを用いた。なお、薄板の数も作製する気密容器
の大きさによって適宜設定される。
1a, 1b, 1c, 1d are thin plates having a thickness,
The width, length, and material are appropriately set depending on the size of the airtight container to be manufactured. For example, the thickness t = 0.05 to 0.2 m
m, a width of 10 to 20 mm, and a length of 20 to 50 mm, and glass or metal ceramics is suitably used. In this embodiment, a soda lime glass having t = 0.1 mm, width 20 mm, and length 50 mm was used. In addition, the number of thin plates is appropriately set according to the size of the airtight container to be manufactured.

【0023】薄板1a〜1dは、予めフェースプレート
271の外周に2〜4ヶ所、接着剤で接着した。図2
(a)において、3a,3b,3c,3dは薄板1a,
1b,1c,1dを接着する接着剤部分を示す。図2
(a)にその斜視図を示す。2a,2b,2c,2dは
薄板1a,1b,1c,1dが当接する台座ブロック
(外枠より高さが高く、本実施例では高さ6mm)であ
り、ガラス(または薄板と同様の金属またはセラミック
ス)であり、リアプレート273に予め接着する(図2
(c))。図2(c)において、4a,4b,4c,4
dは台座ブロック2a,2b,2c,2dを接着する接
着剤部分を示す。尚、本実施例の台座ブロックは、薄板
と同様青板ガラスから構成されている。
The thin plates 1a to 1d were previously bonded to the outer periphery of the face plate 271 at two to four places with an adhesive. FIG.
In (a), 3a, 3b, 3c, 3d are thin plates 1a,
1 shows an adhesive portion for bonding 1b, 1c, 1d. FIG.
(A) shows a perspective view thereof. 2a, 2b, 2c, and 2d are pedestal blocks (higher than the outer frame, and 6 mm in height in the present embodiment) with which the thin plates 1a, 1b, 1c, and 1d abut, and are made of glass (or a metal or metal similar to a thin plate). Ceramics), which is previously bonded to the rear plate 273 (FIG. 2).
(C)). In FIG. 2C, 4a, 4b, 4c, 4
"d" indicates an adhesive portion for bonding the pedestal blocks 2a, 2b, 2c and 2d. The pedestal block according to the present embodiment is made of soda lime glass like a thin plate.

【0024】図2(a)に示すフェースプレート+薄
板、図2(b)に示す外枠+(フリット)、図2(c)
に示すリアプレート+台座ブロックを図12に示すアラ
イメントマーク271a,271b、273a,273
bにより、室温にて図3の装置にて位置合わせを行う。
その後、台座ブロック2a,2b,2c,2dと薄板1
a,1b,1c,1dの接着を行い固定する(図4)。
その後、図5の装置でフリットを溶融、固着する(本例
では400℃)。この製造工程には、以下の条件を満た
すようにする。
FIG. 2 (a) shows a face plate + thin plate, FIG. 2 (b) shows an outer frame + (frit), FIG. 2 (c)
The rear plate + pedestal block shown in FIG. 12 is aligned with the alignment marks 271a, 271b, 273a, 273 shown in FIG.
According to b, the alignment is performed by the apparatus of FIG. 3 at room temperature.
Then, the pedestal blocks 2a, 2b, 2c, 2d and the thin plate 1
a, 1b, 1c, 1d are adhered and fixed (FIG. 4).
Thereafter, the frit is melted and fixed (400 ° C. in this example) by the apparatus shown in FIG. In this manufacturing process, the following conditions are satisfied.

【0025】(1).薄板1と台座2との接合に使う接
着剤は、フリットの溶融温度(本実施例では400℃)
においても接着強度が得られる耐熱性接着剤であるこ
と。
(1). The adhesive used for joining the thin plate 1 and the pedestal 2 is a frit melting temperature (400 ° C. in this embodiment).
A heat-resistant adhesive that can provide adhesive strength.

【0026】(2).薄板1は、プレート271,27
3とフリットの溶融温度(本実施例では400℃)にお
ける熱膨張による寸法変化、およびフリットの厚み分
(本実施例では2mm)の押しつぶしによる寸法変化を
考慮すること。薄板1が長くなりたるんだ状態では、水
平精度を悪化させてしまい、また短かくなれば接着がは
がれたり、薄板1が破損してしまうことになる。
(2). The thin plate 1 is composed of plates 271 and 27
Consider the dimensional change due to thermal expansion at the melting temperature of No. 3 and the frit (400 ° C. in this example) and the dimensional change due to crushing of the frit thickness (2 mm in this example). When the thin plate 1 is long and slack, the horizontal accuracy is deteriorated, and when the thin plate 1 is short, the adhesive is peeled off or the thin plate 1 is damaged.

【0027】上記(1)の条件については次の対応をと
ることができる。
With respect to the condition (1), the following measures can be taken.

【0028】耐熱性接着剤として、セラミックス接着剤
を使用することで対応する。この場合、接合するプレー
ト271,273とある程度熱膨張を合わせたセラミッ
クス接着剤を使用する。これは、熱膨張差によって室温
にて位置合わせした相対位置がずれたり、或いは、接合
がはがれてしまう場合があるからである。次にセラミッ
クス接着剤の硬化は、自然乾燥による半硬化、及び本硬
化(本実施例では150℃、1時間)を行う。自然乾燥
による半硬化は一般に数時間を要し、また接合力も弱い
ため、アライメント装置(図3)にて、アライメント
後、セラミックス接着剤で接着を行うと、数時間その装
置が占有されてしまう。これは、大量生産する上では不
利になる。
The use of a ceramics adhesive as a heat-resistant adhesive is a countermeasure. In this case, a ceramic adhesive having a certain degree of thermal expansion with the plates 271 and 273 to be joined is used. This is because the relative position adjusted at room temperature may be shifted or the bonding may be peeled off due to the difference in thermal expansion. Next, the hardening of the ceramic adhesive is performed by half-curing by natural drying and main curing (in the present embodiment, 150 ° C., 1 hour). The semi-curing by natural drying generally requires several hours, and the bonding strength is weak. Therefore, if the alignment is performed by the alignment device (FIG. 3) using a ceramic adhesive after alignment, the device is occupied for several hours. This is disadvantageous for mass production.

【0029】従って、セラミックス接着剤の本硬化温度
(本実施例では150℃)に耐えられ速く硬化する他の
接着剤にてプレートと薄板との仮止めを行う方が効率が
良い。
Therefore, it is more efficient to temporarily fix the plate and the thin plate with another adhesive that can withstand the main curing temperature of the ceramic adhesive (150 ° C. in this embodiment) and cures quickly.

【0030】そこで、図3のアライメント装置でアライ
メント後、UV接着剤を塗布、UV光を照射することに
より、数秒で仮固定を行うことが好ましい。UV接着剤
にて仮固定後、図3のアライメント装置からプレートを
はずし仮の場所にて、前記セラミックス接着剤を塗布
し、バッチ式の炉へ多数入れ、150℃、1時間の本硬
化を行うことで、大量生産に対応できる。
Therefore, it is preferable to perform temporary fixing within a few seconds by applying a UV adhesive and irradiating UV light after alignment by the alignment apparatus shown in FIG. After temporarily fixing with a UV adhesive, the plate is removed from the alignment device shown in FIG. 3, the ceramic adhesive is applied at a temporary place, and a large number of batch adhesives are put into a batch type furnace, and full curing is performed at 150 ° C. for one hour. By doing so, it can respond to mass production.

【0031】上記(2)の条件については次の対応をと
ることができる。
With respect to the condition (2), the following measures can be taken.

【0032】本実施例で用いた青板ガラスのガラスプレ
ートの熱膨張率は85×10-7である。薄板1の自由部
の長さは本実施例では、40mmとする(図2
(a))。又、フリットガラスは400℃で溶融する低
融点フリットガラスを用いる。温度変化は室温(20
℃)から400℃なので380℃の上昇である。このと
き、薄板1の熱膨張量は、40mm×85×10-7×3
80℃=0.129mmから0.129mmの熱膨張が
ある。ステンレス等の熱膨張率は200×10-7なので
40×200×10-7×380℃=0.304mmとな
り、0.304−0.129=0.175mmで0.1
75mm薄板が長くなり、たるんでしまう。その結果、
水平方向の固定力がなくなり精度が悪化することにな
る。そこで薄板にはフェースプレート及びリアプレート
に用いる部材(本実施例ではガラス)と同じ膨張率の合
金、セラミックス、あるいはガラスの薄板を使うことが
望ましい。本実施例では、プレート271,273と同
じ青板ガラス薄板を使用した。
The coefficient of thermal expansion of the glass plate of the soda lime glass used in this embodiment is 85 × 10 -7 . The length of the free portion of the thin plate 1 is 40 mm in this embodiment (see FIG. 2).
(A)). The frit glass used is a low-melting frit glass that melts at 400 ° C. Temperature change is room temperature (20
° C) to 400 ° C, which is a rise of 380 ° C. At this time, the thermal expansion amount of the thin plate 1 is 40 mm × 85 × 10 −7 × 3.
There is a thermal expansion of 80 ° C. = 0.129 mm to 0.129 mm. Since the coefficient of thermal expansion of stainless steel or the like is 200 × 10 −7, 40 × 200 × 10 −7 × 380 ° C. = 0.304 mm, and 0.304−0.129 = 0.175 mm.
The 75 mm thin plate becomes longer and sags. as a result,
The fixing force in the horizontal direction is lost, and the accuracy is deteriorated. Therefore, it is desirable to use a thin plate of an alloy, ceramics, or glass having the same expansion coefficient as the members (glass in this embodiment) used for the face plate and the rear plate. In this embodiment, the same blue glass sheet as the plates 271 and 273 was used.

【0033】本実施例では、図2(a)に示すガラスか
らなるフェースプレート271と薄板1は、別工程に
て、セラミックス接着剤により接着し、予め本硬化して
おいた。リアプレート273と台座2もセラミックス接
着剤により接着し、本硬化しておいた。ただしこの両工
程も、UV接着剤にて仮固定した後、あらためて、セラ
ミックス接着剤を塗布し、本硬化しても良い。前述のプ
レート271と273をアライメントするための本実施
例で用いた装置を図3を用いて以下に説明する。
In this embodiment, the face plate 271 made of glass and the thin plate 1 shown in FIG. 2 (a) are adhered by a ceramic adhesive in a separate step and have been fully cured in advance. The rear plate 273 and the pedestal 2 were also bonded with a ceramic adhesive, and were fully cured. However, in both of these steps, after temporarily fixing with a UV adhesive, a ceramic adhesive may be applied again and fully cured. The apparatus used in this embodiment for aligning the plates 271 and 273 will be described below with reference to FIG.

【0034】図3において、10は組立接合装置、11
は架台である。12はZテーブルで架台11上方に設置
され、バキュームハンド13を上・下動する。バキュー
ムハンド13は、フェースプレート271をバキューム
吸着する。14はx,y,θテーブルで架台11に設置
され、上面は、リアプレート273を置くテーブルにな
っている。15a,15bはCCDカメラで、アライメ
ントマーク271a,271b、273a,273bを
画像認識する。16a〜16dは、UV接着剤塗布用の
ディスペンサーで、バー17a,17bに設置され、前
進ステージ18a,18b上にのっている。22a〜2
2dは、UV照射用のUVファイバーである。
In FIG. 3, reference numeral 10 denotes an assembling / joining apparatus;
Is a stand. Reference numeral 12 denotes a Z table which is installed above the gantry 11 and moves the vacuum hand 13 up and down. The vacuum hand 13 vacuum sucks the face plate 271. Reference numeral 14 denotes an x, y, θ table which is installed on the gantry 11, and the upper surface of which is a table on which a rear plate 273 is placed. Reference numerals 15a and 15b denote CCD cameras for recognizing images of the alignment marks 271a, 271b, 273a and 273b. Reference numerals 16a to 16d denote dispensers for applying the UV adhesive, which are installed on the bars 17a and 17b and are mounted on the forward stages 18a and 18b. 22a-2
2d is a UV fiber for UV irradiation.

【0035】以下、上記装置の動作説明をする。図2
(a)の薄板を接着したフェースプレート271をバキ
ュームハンド13に手動にて吸着する。
The operation of the above device will be described below. FIG.
The face plate 271 to which the thin plate is adhered is manually sucked to the vacuum hand 13.

【0036】図2(c)の台座ブロックを接着したリア
プレート273をx,y,θテーブル14上に置く。図
2(b)の外枠272をリアプレート273上に置く。
これにて、ワークのセットが完了し、接合コントローラ
ー21を自動運転する。Zテーブル12が薄板1が台座
ブロック2に接触する位置まで下降し、フェースプレー
ト271のアライメントマーク271a,271bをC
CDカメラ15a,15bで読みとる。
The rear plate 273 to which the pedestal block shown in FIG. 2C is adhered is placed on the x, y, θ table 14. The outer frame 272 of FIG. 2B is placed on the rear plate 273.
Thus, the setting of the work is completed, and the joining controller 21 is automatically operated. The Z table 12 is lowered to a position where the thin plate 1 contacts the pedestal block 2, and the alignment marks 271a and 271b of the face plate 271 are
Read by CD cameras 15a and 15b.

【0037】次にリアプレート273のアライメントマ
ーク273a,273bをCCDカメラ15a,15b
で読みとる。
Next, the alignment marks 273a and 273b of the rear plate 273 are transferred to the CCD cameras 15a and 15b.
Read in.

【0038】画像コントローラー20にて位置ズレ量を
算出し、接合コントローラー21により、x,y,θテ
ーブル14を移動し、フェースプレート271とリアプ
レート273の位置合わせを行う。位置合わせ終了後、
接合コントローラー21より、前進ステージ18a,1
8bに塗布コントローラー19を介して前進指令が出さ
れ、UV接着剤ディスペンサー16a,16b,16
c,16dの針先が薄板1a,1b,1c,1dの近く
に前進し、UV接着剤を塗布後、後退する。UVファイ
バー22a,22b,22c,22dからUV光を照射
するとUV接着剤5a,5b,5c,5dが固化しフェ
ースプレート271とリアプレート273の仮固定が完
了する。
The image controller 20 calculates the amount of displacement, and the joining controller 21 moves the x, y, θ table 14 to align the face plate 271 and the rear plate 273. After alignment is completed,
From the joining controller 21, the forward stages 18a, 1
8b is issued a forward command via the coating controller 19, and the UV adhesive dispensers 16a, 16b, 16
The needle tips c and 16d advance near the thin plates 1a, 1b, 1c and 1d, and retreat after applying the UV adhesive. When UV light is irradiated from the UV fibers 22a, 22b, 22c and 22d, the UV adhesives 5a, 5b, 5c and 5d are solidified, and the temporary fixing of the face plate 271 and the rear plate 273 is completed.

【0039】図4はその状態を示す断面図である。薄板
1は台座ブロック2にUV接着剤5にて接着されてい
る。また、外枠272にあらかじめ塗布されたフリット
ガラス272c,272dが凸状にある。フェースプレ
ート271は、外枠272,フリットガラス272c,
272dに当接しているか、あるいは、薄板1に支えら
れ、フリットガラス272cの凸部とフェースプレート
271にスキマがあるか、どちらでも良い。スペーサー
を用いる場合には、薄板の接着と同様、予め、フェース
プレートに接着しておく。ただし、スペーサーのフェー
スプレートへの接着は、272c,272dのフリット
ガラスより軟化温度の高い非晶質フリットガラスか、結
晶性のフリットガラスにより、接着を行う。本実施例で
は、結晶性フリットガラスにより接着を行った。スペー
サー74の下端とリアプレート273の上面とは、ΔZ
のスキマができている。
FIG. 4 is a sectional view showing this state. The thin plate 1 is bonded to the pedestal block 2 with a UV adhesive 5. Also, frit glass 272c and 272d applied to outer frame 272 in advance have a convex shape. The face plate 271 includes an outer frame 272, a frit glass 272c,
272d, or may be supported by the thin plate 1 and have a clearance between the convex portion of the frit glass 272c and the face plate 271. When a spacer is used, it is bonded to the face plate in advance similarly to the bonding of a thin plate. However, the bonding of the spacer to the face plate is performed by using amorphous frit glass having a higher softening temperature than frit glass of 272c and 272d or crystalline frit glass. In the present embodiment, the bonding was performed using crystalline frit glass. The lower end of the spacer 74 and the upper surface of the rear plate 273
The gap is made.

【0040】この後、組立接合装置10のバキュームハ
ンド13の吸着をやめ、Zテーブル12のZ軸を上昇す
る。ワーク200を取り出し、別工程にて、セラミック
ス接着剤23a,23b,23c,23dを塗布する。
不図示の硬化炉にワーク200を多数入れ、150℃、
1時間にて本硬化する。ワーク200を取り出し、図5
に示す焼成炉にて、フリット接合を行う。30は焼成炉
本体、34は焼成炉のコントローラー、31は加圧用重
り40kgで、クサリ33にて、昇降装置32に支えら
れている。
Thereafter, the suction of the vacuum hand 13 of the assembling and joining apparatus 10 is stopped, and the Z axis of the Z table 12 is raised. The work 200 is taken out, and ceramic adhesives 23a, 23b, 23c and 23d are applied in another process.
A large number of works 200 are put in a curing furnace (not shown),
Full curing in 1 hour. The work 200 is taken out, and FIG.
The frit bonding is performed in the firing furnace shown in FIG. Reference numeral 30 denotes a firing furnace main body, reference numeral 34 denotes a firing furnace controller, reference numeral 31 denotes a pressurizing weight 40 kg.

【0041】先のワーク200を焼成炉30中へ入れ、
室温より昇温する(10℃/min)。400℃でフリ
ットガラス272c,272dが溶融する。この間プレ
ート271,273は熱膨張(約1mm)するが、薄板
1と台座ブロック2との接着により、水平(x,y,
θ)は拘束されているので、位置がズレることはない。
The work 200 is put into the firing furnace 30, and
The temperature is raised from room temperature (10 ° C./min). At 400 ° C., the frit glasses 272c and 272d melt. During this time, the plates 271 and 273 thermally expand (about 1 mm). However, due to the bonding between the thin plate 1 and the pedestal block 2, the horizontal (x, y,
Since θ) is constrained, the position does not shift.

【0042】フリットガラスが溶融する温度(本例では
400℃)に炉内が達した後、昇降装置32により、加
圧用重り31をフェースプレート271へおろし、加圧
する。加圧によりフリットガラス272c,272dは
押しつぶされ、外枠の上・下面をまんべんなくおおう。
その様子を図1(b)に示す。
After the inside of the furnace reaches a temperature at which the frit glass melts (400 ° C. in this example), the pressurizing weight 31 is lowered to the face plate 271 by the elevating device 32 and pressurized. The frit glass 272c, 272d is crushed by pressurization, and covers the upper and lower surfaces of the outer frame evenly.
This is shown in FIG.

【0043】また、この時薄板1は、上・下に弾性変形
し、また、図4に示すようなスキマΔZはなくなり、ス
ペーサー74がリアプレート273の上面に当接してい
る。その後降温しフリットガラスを硬化させ、室温にて
とり出す。
At this time, the thin plate 1 is elastically deformed upward and downward, the gap ΔZ as shown in FIG. 4 is eliminated, and the spacer 74 is in contact with the upper surface of the rear plate 273. Thereafter, the temperature is lowered to harden the frit glass and is taken out at room temperature.

【0044】この様にして、上・下プレート271,2
73の位置を保ったまま、フリット272c,272d
を押しつぶし、高真空の気密を確実にしたフラットディ
スプレイが製造される。
Thus, the upper and lower plates 271 and 271
While keeping the position of 73, the frit 272c, 272d
To produce a flat display with high vacuum tightness.

【0045】次に本発明の他の実施例を図6に示す。Next, another embodiment of the present invention is shown in FIG.

【0046】上述した実施例では、薄板1の台座2への
仮固定用のUV接着剤と本固定用のセラミックス接着剤
を同じ位置にしたが、本固定用のセラミックス接着剤を
UV接着剤と異なる位置に塗布する方が接着強度が安定
する。
In the embodiment described above, the UV adhesive for temporary fixing of the thin plate 1 to the pedestal 2 and the ceramic adhesive for permanent fixing are located at the same position, but the ceramic adhesive for permanent fixing is replaced with the UV adhesive. Adhesion strength is more stable when applied to different positions.

【0047】そこで、本実施例では、新たな台座ブロッ
ク25a,25bを設け、薄板26a,26bにより、
UV接着剤27a,27bで仮固定することとし、台座
ブロック2a,2b,2c,2dとは別にする。このこ
とにより台座25a,25b、と薄板26a,26bと
はUV接着剤27a,27bで仮固定を行い、薄板1
a,1b,1c,1dと台座ブロック2a,2b,2
c,2dとはセラミックス接着剤23a,23b,23
c,23dで本固定を行う。
Therefore, in this embodiment, new pedestal blocks 25a and 25b are provided, and the thin plates 26a and 26b
Temporarily fix with UV adhesives 27a, 27b, and separate from pedestal blocks 2a, 2b, 2c, 2d. As a result, the pedestals 25a and 25b and the thin plates 26a and 26b are temporarily fixed with UV adhesives 27a and 27b, and the thin plate 1
a, 1b, 1c, 1d and pedestal blocks 2a, 2b, 2
c and 2d are ceramic adhesives 23a, 23b and 23
The main fixing is performed in steps c and 23d.

【0048】また図7に示すように、台座ブロック2と
薄板1の固定に関し長手方向に少し長くして、5aの個
所をUV接着剤による仮固定とし、23aの個所をセラ
ミックス接着剤による本固定として場所を分けても良
い。
As shown in FIG. 7, the pedestal block 2 and the thin plate 1 are fixed a little longer in the longitudinal direction, and a portion 5a is temporarily fixed with a UV adhesive, and a portion 23a is permanently fixed with a ceramic adhesive. The location may be divided.

【0049】上記画像表示装置に用いることができる電
子放出源としては、たとえば表面伝導型電子放出素子
(以下表面伝導型放出素子と記す)や、電界放出型素子
(以下FE型と記す)や、金属/絶縁層/金属型放出素
子(以下MIM型と記す)、などを用いることができ
る。ただし、本発明は封着材を用いて基板同士を対向さ
せて封着する気密容器の製造方法に用いることができる
ので、電子放出素子を電子放出源とする画像表示装置の
他、プラズマディスプレイ装置、蛍光表示管等にも適用
することができる。
Examples of the electron emission source that can be used in the above-mentioned image display device include a surface conduction electron-emitting device (hereinafter referred to as a surface conduction electron-emitting device), a field emission device (hereinafter referred to as an FE device), Metal / insulating layer / metal-type emission element (hereinafter referred to as MIM type) or the like can be used. However, since the present invention can be used for a method for manufacturing an airtight container in which substrates are opposed to each other and sealed using a sealing material, in addition to an image display device using an electron-emitting device as an electron-emitting source, a plasma display device And a fluorescent display tube.

【0050】表面伝導型放出素子としては、たとえば、
M.I.Elinson,Radio Eng.Electron Phys.,10,1290,(196
5)や、後述する他の例が知られている。
As the surface conduction type emission element, for example,
MIElinson, Radio Eng. Electron Phys., 10, 1290, (196
5) and other examples described later are known.

【0051】表面伝導型放出素子は、基板上に形成され
た小面積の薄膜に、膜面に平行に電流を流すことにより
電子放出が生ずる現象を利用するものである。この表面
伝導型放出素子としては、前記エリンソン等によるSn
2 薄膜を用いたものの他に、Au薄膜によるもの[G.
Dittmer:“Thin Solid Films",9,317(1972)]や、In
2 3 /SnO2 薄膜によるもの[M.Hartwell and C.
G.Fonstad:“IEEE Trans.ED Conf.",519(1975)]や、カ
ーボン薄膜によるもの[荒木久 他:真空、第26巻、第
1号、22(1983)]等が報告されている。
The surface conduction electron-emitting device utilizes the phenomenon that electron emission occurs when a current flows in a small-area thin film formed on a substrate in parallel with the film surface. As this surface conduction type emission element, Sn described by Elinson et al.
In addition to those using O 2 thin films, those using Au thin films [G.
Dittmer: “Thin Solid Films”, 9,317 (1972)]
2 O 3 / SnO 2 thin film [M. Hartwell and C.
G. Fonstad: “IEEE Trans. ED Conf.”, 519 (1975)], and those using carbon thin films [Hisashi Araki et al .: Vacuum, Vol. 26, No. 1, 22 (1983)], etc., have been reported. .

【0052】これらの表面伝導型放出素子の素子構成の
典型的な例として、図8に前述のM.Hartwellらによる素
子の平面図を示す。同図において、3001は基板で、
3004はスパッタで形成された金属酸化物よりなる導
電性薄膜である。導電性薄膜3004は図示のようにH
字形の平面形状に形成されている。該導電性薄膜300
4に後述の通電フォーミングと呼ばれる通電処理を施す
ことにより、電子放出部3005が形成される。図中の
間隔Lは、0.5〜1[mm],Wは、0.1[mm]
で設定されている。尚、図示の便宜から、電子放出部3
005は導電性薄膜3004の中央に矩形の形状で示し
たが、これは模式的なものであり、実際の電子放出部の
位置や形状を忠実に表現しているわけではない。
FIG. 8 shows a plan view of a device by M. Hartwell et al. As a typical example of the device configuration of these surface conduction electron-emitting devices. In the figure, 3001 is a substrate,
Reference numeral 3004 denotes a conductive thin film made of a metal oxide formed by sputtering. The conductive thin film 3004 is H
It is formed in the shape of a letter. The conductive thin film 300
The electron emission portion 3005 is formed by applying an energization process called energization forming to be described later. The interval L in the figure is 0.5-1 [mm], and W is 0.1 [mm].
Is set with Note that, for convenience of illustration, the electron emitting unit 3
Although 005 is shown in a rectangular shape at the center of the conductive thin film 3004, this is a schematic shape, and does not faithfully represent the actual position or shape of the electron-emitting portion.

【0053】M.Hartwellらによる素子をはじめとして上
述の表面伝導型放出素子においては、電子放出を行う前
に導電性薄膜3004に通電フォーミングと呼ばれる通
電処理を施すことにより電子放出部3005を形成する
のが一般的であった。すなわち、通電フォーミングと
は、前記導電性薄膜3004の両端に一定の直流電圧、
もしくは、例えば1V/分程度の非常にゆっくりとした
レートで昇圧する直流電圧を印加して通電し、導電性薄
膜3004を局所的に破壊もしくは変形もしくは変質せ
しめ、電気的に高抵抗な状態の電子放出部3005を形
成することである。尚、局所的に破壊もしくは変形もし
くは変質した導電性薄膜3004の一部には、亀裂が発
生する。前記通電フォーミング後に導電性薄膜3004
に適宜の電圧を印加した場合には、前記亀裂付近におい
て電子放出が行われる。
In the above-described surface conduction electron-emitting device including the device by M. Hartwell et al., An electron-emitting portion 3005 is formed by applying an energization process called energization forming to the conductive thin film 3004 before electron emission. Was common. That is, energization forming means that a constant DC voltage is applied to both ends of the conductive thin film 3004,
Alternatively, a current is applied by applying a direct current voltage that is boosted at a very slow rate of, for example, about 1 V / min, and locally destroys, deforms, or alters the conductive thin film 3004, and the electrons in an electrically high resistance state That is, forming the emission part 3005. Note that a crack is generated in a part of the conductive thin film 3004 that is locally broken, deformed, or altered. After the energization forming, the conductive thin film 3004
When an appropriate voltage is applied to the above, electrons are emitted in the vicinity of the crack.

【0054】またFE型の例は、たとえば、W.P.Dyke&
W.W.Dolan,“Field emission",Advance in Electron Ph
ysics,8,89(1956)や、あるいは、C.A.Spindt,“Physica
lproperties of thin-film field emission cathodes w
ith molybdenium cones",J.Appl.Phys.,47,5248(1976)
などが知られている。
Examples of the FE type are, for example, WPDyke &
WWDolan, “Field emission”, Advance in Electron Ph
ysics, 8, 89 (1956) or CASpindt, “Physica
lproperties of thin-film field emission cathodes w
ith molybdenium cones ", J. Appl. Phys., 47, 5248 (1976)
Etc. are known.

【0055】FE型の素子構成の典型的な例として、図
9に前述のC.A.Spindtらによる素子の断面図を示す。同
図において、3010は基板で、3011は導電材料よ
りなるエミッタ配線、3012はエミッタコーン、30
13は絶縁層、3014はゲート電極である。本素子
は、エミッタコーン3012とゲート電極3014の間
に適宜の電圧を印加することにより、エミッタコーン3
012の先端部より電界放出を起こさせるものである。
FIG. 9 is a cross-sectional view of a device according to CASpindt et al. Described above as a typical example of the FE type device configuration. In the figure, reference numeral 3010 denotes a substrate; 3011, an emitter wiring made of a conductive material; 3012, an emitter cone;
13 is an insulating layer and 3014 is a gate electrode. The present device applies an appropriate voltage between the emitter cone 3012 and the gate electrode 3014, thereby forming the emitter cone 3
Field emission is caused from the tip of the 012.

【0056】また、FE型の他の素子構成として、図9
のような積層構造ではなく、基板上に基板平面とほぼ平
行にエミッタとゲート電極を配置した例もある。
As another element structure of the FE type, FIG.
There is also an example in which an emitter and a gate electrode are arranged on a substrate almost in parallel with the substrate plane instead of the laminated structure as described above.

【0057】またMIM型の例としては、たとえば、C.
A.Mead,“Operation of tunnel-emission Devices,J.Ap
pl.Phys.,32,646(1961)などが知られている。MIM型
の素子構成の典型的な例を図10に示す。同図は断面図
であり、図において、3020は基板で、3021は金
属よりなる下電極、3022は厚さ100オングストロ
ーム程度の薄い絶縁層、3023は厚さ80〜300オ
ングストローム程度の金属よりなる上電極である。MI
M型においては、上電極3023と下電極3021の間
に適宜の電圧を印加することにより、上電極3023の
表面より電子放出を起こさせるものである。
Examples of the MIM type include, for example, C.I.
A. Mead, “Operation of tunnel-emission Devices, J. Ap
pl.Phys., 32, 646 (1961). FIG. 10 shows a typical example of the MIM type element configuration. The figure is a sectional view, in which 3020 is a substrate, 3021 is a lower electrode made of a metal, 3022 is a thin insulating layer having a thickness of about 100 Å, and 3023 is an upper layer made of a metal having a thickness of about 80 to 300 Å. Electrodes. MI
In the M-type, by applying an appropriate voltage between the upper electrode 3023 and the lower electrode 3021, electrons are emitted from the surface of the upper electrode 3023.

【0058】上記表面伝導型放出素子は、冷陰極素子の
なかでも特に構造が単純で製造も容易であることから、
大面積にわたり多数の素子を形成できる利点がある。そ
こで、たとえば本出願人による特開昭64-31332号公報に
おいて開示されるように、多数の素子を配列して駆動す
るための方法が研究されている。
The above-mentioned surface conduction type emission device has a particularly simple structure and is easy to manufacture among cold cathode devices.
There is an advantage that a large number of elements can be formed over a large area. Therefore, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-31332 by the present applicant, a method for arranging and driving a large number of elements has been studied.

【0059】また、表面伝導型放出素子の応用について
は、たとえば、画像表示装置、画像記録装置などの画像
形成装置や、荷電ビーム源、等が研究されている。特
に、画像表示装置への応用としては、たとえば本出願人
による米国特許第5,066,883号や特開平2-257551号公報
や特開平4-28137号公報において開示されているよう
に、表面伝導型放出素子と電子ビームの照射により発光
する蛍光体とを組み合わせて用いた画像表示装置が研究
されている。表面伝導型放出素子と蛍光体とを組み合わ
せて用いた画像表示装置は、従来の他の方式の画像表示
装置よりも優れた特性が期待されている。たとえば、近
年普及してきた液晶表示装置と比較しても、自発光型で
あるためバックライトを必要としない点や、視野角が広
い点が優れていると言える。
For applications of the surface conduction electron-emitting device, for example, image forming apparatuses such as image display apparatuses and image recording apparatuses, charged beam sources, and the like have been studied. In particular, as an application to an image display device, for example, as disclosed in U.S. Pat.No. 5,066,883, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2-257551 and Japanese Unexamined Patent Application Publication No. An image display device using a combination of a phosphor and a phosphor that emits light by irradiation with an electron beam has been studied. An image display device using a combination of a surface conduction electron-emitting device and a phosphor is expected to have better characteristics than other conventional image display devices. For example, compared to a liquid crystal display device that has become widespread in recent years, it can be said that it is superior in that it does not require a backlight because it is a self-luminous type and that it has a wide viewing angle.

【0060】またFE型を多数個ならべて駆動する方法
は、たとえば本出願人による米国特許第4,904,895号に
開示されている。また、FE型を画像表示装置に応用し
た例として、たとえば、R.Meyerらにより報告された平
板型表示装置[R.Meyer:“Recent Development on Micr
o-tips Display at LETI",Tech.Digest of 4th Int.Vac
uum Microelectronics Conf.,Nagahama,pp.6〜9(199
1)]が知られている。
A method of driving a plurality of FE types in a row is disclosed in, for example, US Pat. No. 4,904,895 by the present applicant. As an example of applying the FE type to an image display device, for example, a flat panel display device [R. Meyer: “Recent Development on Micr” reported by R. Meyer et al.
o-tips Display at LETI ", Tech.Digest of 4th Int.Vac
uum Microelectronics Conf., Nagahama, pp. 6-9 (199
1)] is known.

【0061】また、MIM型を多数個並べて画像表示装
置に応用した例は、たとえば本出願人による特開平3-55
738号公報に開示されている。
An example in which a number of MIM types are arranged and applied to an image display device is disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
No. 738.

【0062】上記のような電子放出素子を用いた画像形
成装置のうちで、奥行きの薄い平面型表示装置は省スペ
ースかつ軽量であることから、ブラウン管型の表示装置
に置き換わるものとして注目されている。
Among the image forming apparatuses using the above-described electron-emitting devices, a flat display device having a small depth has attracted attention as a replacement for a cathode ray tube display device because of its space saving and light weight. .

【0063】[0063]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
気密容器の上・下プレートの封着において、室温にて、
上・下プレートを精度よく位置合わせし、UV接着剤等
の樹脂接着剤にて仮固定し、耐熱性接着剤で本固定し、
封着材溶融温度に加熱しても、熱膨張により、位置がず
れることはなく、また、上・下プレートの固定を薄板に
て行っているので水平位置を保ちながら、封着材を押し
つぶすために、上・下方向には移動することができ、気
密容器の高真空の気密を確実にし、また、水平位置を精
度良く保ち封着が行える。また、コストの高いアライメ
ント装置の占有時間を数秒にでき製造のスループットを
増す効率的な生産が行える効果がある。
As described above, according to the present invention,
In sealing the upper and lower plates of the airtight container, at room temperature,
Align the upper and lower plates with high precision, temporarily fix with a resin adhesive such as UV adhesive, and permanently fix with a heat-resistant adhesive.
Even when heated to the melting temperature of the sealing material, the position does not shift due to thermal expansion.In addition, since the upper and lower plates are fixed with thin plates, the sealing material is crushed while maintaining the horizontal position. In addition, the container can be moved in the upward and downward directions to ensure airtightness of a high vacuum in the airtight container, and to perform sealing while keeping the horizontal position with high accuracy. In addition, there is an effect that the occupation time of the expensive alignment apparatus can be reduced to several seconds and the production throughput can be increased and efficient production can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によるフラットディスプレイの構造を示
す斜視図及び断面図である。
FIG. 1 is a perspective view and a sectional view showing a structure of a flat display according to the present invention.

【図2】本発明によるフラットディスプレイの分解図で
ある。
FIG. 2 is an exploded view of a flat display according to the present invention.

【図3】本発明によるフラットディスプレイの組立接合
装置を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a flat display assembling / joining apparatus according to the present invention;

【図4】本発明によるフラットディスプレイの組立接合
図である。
FIG. 4 is an assembly view of a flat display according to the present invention;

【図5】封着炉を示す概略的斜視図である。FIG. 5 is a schematic perspective view showing a sealing furnace.

【図6】本発明による他の実施例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing another embodiment according to the present invention.

【図7】本発明による更に他の実施例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing still another embodiment according to the present invention.

【図8】表面伝導型放出素子の素子構成例を示す平面図
である。
FIG. 8 is a plan view showing a device configuration example of a surface conduction electron-emitting device.

【図9】FE型の素子構成例を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view illustrating an example of an FE-type element configuration.

【図10】MIM型の素子構成例を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating an example of a configuration of an MIM-type element.

【図11】フラットディスプレイの分解図である。FIG. 11 is an exploded view of a flat display.

【図12】フラットディスプレイ斜視図と断面図であ
る。
FIG. 12 is a perspective view and a sectional view of a flat display.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 薄板 2 台座ブロック 3,4 セラミックス接着剤 5 UV接着剤 10 組立接合装置 11 架台 12 Zテーブル 13 バキュームハンド 14 x,y,θテーブル 15 CCDカメラ 16 UV接着剤ディスペンサー 17 接着剤台 18 前進ステージ 19 塗布コントローラー 20 画像コントローラー 21 組立コントローラー 22 UV光源ファイバー 23 セラミックス接着剤 30 焼成炉 31 重り 32 重り印加機構 34 焼成コントローラー 74 スペーサー 271 フェースプレート 272 外枠 273 リアプレート DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Thin plate 2 Pedestal block 3, 4 Ceramics adhesive 5 UV adhesive 10 Assembling and joining apparatus 11 Mount 12 Z table 13 Vacuum hand 14 x, y, theta table 15 CCD camera 16 UV adhesive dispenser 17 Adhesive table 18 Advance stage 19 Coating controller 20 Image controller 21 Assembly controller 22 UV light source fiber 23 Ceramic adhesive 30 Firing furnace 31 Weight 32 Weight applying mechanism 34 Firing controller 74 Spacer 271 Face plate 272 Outer frame 273 Rear plate

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1及び第2の基板を所定の間隔で対向
させ封着材を用いて封着する気密容器の製造方法におい
て、 前記第1の基板に複数の薄板の一辺を接着剤にて接合
し、前記第2の基板に該薄板の他の一辺が当接する台座
を接着剤で接合し、前記第1及び第2の基板の水平方向
の位置合わせを行った後、前記薄板の他の一辺と前記台
座の当設部を樹脂接着剤にて仮接合し、その後に耐熱性
接着剤にて本固定し、前記封着材の溶融温度に昇温し、
前記第1及び第2の基板を加圧し、降温する気密容器の
製造方法。
1. A method for manufacturing an airtight container in which a first substrate and a second substrate are opposed to each other at a predetermined interval and sealed using a sealing material, wherein one side of a plurality of thin plates is attached to the first substrate with an adhesive. And a pedestal on which the other side of the thin plate is in contact with the second substrate is bonded with an adhesive, and the first and second substrates are aligned in the horizontal direction. Temporarily joined one side of the pedestal and the corresponding portion of the pedestal with a resin adhesive, then permanently fixed with a heat-resistant adhesive, heated to the melting temperature of the sealing material,
A method for manufacturing an airtight container in which the first and second substrates are pressurized and cooled.
【請求項2】 第1及び第2の基板を所定の間隔で対向
させ封着材を用いて封着する気密容器の製造方法におい
て、 前記第1の基板に複数の薄板の一辺を樹脂接着剤にて仮
接合し、耐熱性接着剤にて本固定し、前記第2の基板に
該薄板の他の一辺が当接する台座を樹脂接着剤で仮接合
し、耐熱性接着剤にて本固定し、前記第1及び第2の基
板の水平方向の位置合わせを行った後、前記薄板の他の
一辺と前記台座の当設部を樹脂接着剤にて仮接合し、そ
の後に耐熱性接着剤にて本固定し、前記封着材の溶融温
度に昇温し、前記第1及び第2の基板を加圧し、降温す
る気密容器の製造方法。
2. A method for manufacturing an airtight container in which a first substrate and a second substrate are opposed to each other at a predetermined interval and sealed using a sealing material, wherein one side of the plurality of thin plates is bonded to the first substrate with a resin adhesive. And temporarily fixed with a heat-resistant adhesive, temporarily bonded with a resin adhesive a pedestal with which the other side of the thin plate is in contact with the second substrate, and permanently fixed with a heat-resistant adhesive. After the horizontal alignment of the first and second substrates is performed, another side of the thin plate is temporarily bonded to a corresponding portion of the pedestal with a resin adhesive. A method for manufacturing an airtight container, wherein the temperature is raised to the melting temperature of the sealing material, the first and second substrates are pressurized, and the temperature is lowered.
【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載の気密容器
の製造方法において、前記樹脂接着剤はUV接着剤であ
り、前記耐熱接着剤はセラミックス接着剤であることを
特徴とする気密容器の製造方法。
3. The airtight container according to claim 1, wherein the resin adhesive is a UV adhesive, and the heat resistant adhesive is a ceramic adhesive. Manufacturing method.
【請求項4】 請求項1又は請求項2に記載の気密容器
の製造方法において、前記薄板は前記第1及び第2の基
板の熱膨張係数と同程度の熱膨張係数を有する気密容器
の製造方法。
4. The method for manufacturing an airtight container according to claim 1, wherein the thin plate has a thermal expansion coefficient substantially equal to a thermal expansion coefficient of the first and second substrates. Method.
【請求項5】 請求項1、2又は4のいずれかの請求項
に記載の気密容器の製造方法において、前記薄板は合
金、セラミックス、あるいはガラスからなる気密容器の
製造方法。
5. The method for manufacturing an airtight container according to claim 1, wherein the thin plate is made of an alloy, ceramics, or glass.
【請求項6】 請求項1又は請求項2に記載の気密容器
の製造方法において、前記薄板の他の一辺と前記台座の
当設部との接合は、前記仮接合のための樹脂接合個所
と、前記本固定のための耐熱接着個所とが別であること
を特徴とする気密容器の製造方法。
6. The method for manufacturing an airtight container according to claim 1 or 2, wherein the other side of the thin plate and the abutment portion of the pedestal are bonded to a resin bonding portion for the temporary bonding. A method for manufacturing an airtight container, wherein a heat-resistant bonding part for the main fixing is different from the above.
【請求項7】 請求項1〜6のいずれかの気密容器の製
造方法により製造された気密容器。
7. An airtight container manufactured by the method for manufacturing an airtight container according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2011010385A1 (en) * 2009-07-24 2011-01-27 キヤノン株式会社 Luminescent screen, and image display device

Cited By (3)

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US8143776B2 (en) 2009-07-24 2012-03-27 Canon Kabushiki Kaisha Luminescent screen and image display apparatus
JP5183807B2 (en) * 2009-07-24 2013-04-17 キヤノン株式会社 Luminescent screen and image display device

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