JP2000113976A - 有機ｅｌ素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 容易に製造でき、水分等の影響を極力排除
し、経時劣化、特に非発光面積の拡大、輝度の変化が小
さく、初期性能を長期間維持できる長寿命の有機ＥＬ素
子を提供する。 【解決手段】 本発明の有機ＥＬ素子は、ホール注入電
極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けられた１
種以上の発光層を含む有機層とを有する有機ＥＬ構造体
が気密ケースに収納されており、前記気密ケース内に、
水素化カルシウム、水素化ストロンチウム、水素化バリ
ウムおよび水素化アルミニウムリチウムの１種以上が配
置されている。そして、前記電子注入電極がアルカリ金
属およびアルカリ土類金属のいずれか１種以上を含有す
る。または、前記有機層のうち少なくとも１層がアルカ
リ金属およびアルカリ土類金属のいずれか１種以上を含
有する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有機化合物を用い
た有機ＥＬ素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、有機ＥＬ素子が盛んに研究されて
いる。これは、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）など
の透明電極（ホール注入電極）上にトリフェニルジアミ
ン（ＴＰＤ）などのホール輸送材料を蒸着により薄膜と
し、その上にアルミキノリノール錯体（Ａｌｑ３）など
の蛍光物質を発光層として積層し、さらにＭｇなどの仕
事関数の小さな金属電極（電子注入電極）を形成した基
本構成を有する素子で、１０Ｖ前後の電圧で数１００か
ら数１０，０００cd/m²ときわめて高い輝度が得られる
ことで注目されている。

【０００３】このような有機ＥＬ素子の電子注入電極と
して用いられる材料は、発光層や電子注入輸送層等へ電
子を多く注入するものが有効であると考えられている。
換言すれば、仕事関数の小さい材料ほど電子注入電極と
して適していると言える。仕事関数の小さい材料として
は種々のものがあるが、有機ＥＬ素子の電子注入電極と
して用いられるものとしては、例えば、特開平２−１５
５９５号公報には、アルカリ金属以外の複数の金属から
なり、かつ、これらの金属の少なくとも１種の金属の仕
事関数が４eV未満である電子注入電極として、例えばＭ
ｇＡｇが開示されている。

【０００４】また、仕事関数の小さいものとしてはアル
カリ金属が好ましく、米国特許第３１７３０５０号、同
３３８２３９４号明細書には、アルカリ金属として、例
えばＮａＫが記載されている。特に、電子注入電極にＬ
ｉを用いると、高輝度の有機ＥＬ素子が得られる。

【０００５】アルカリ金属を用いた電子注入電極とし
て、例えば、特開昭６０−１６５７７１号公報、特開平
４−２１２２８７号公報、特開平５−１２１１７２号公
報、特開平５−１５９８８２号公報に記載されているＡ
ｌＬｉ合金を用いた電子注入電極が知られている。これ
らの公報に記載されているＡｌＬｉ合金のＬｉの濃度を
挙げると、（１）特開昭６０−１６５７７１号公報で
は、Ｌｉ濃度が３．６〜９９．８at％（１〜９９wt
％）、好ましくは２９．５〜７９．１at％（１０〜５０
wt％）のＡｌＬｉ合金が記載されている。（２）特開平
４−２１２２８７号公報では、Ｌｉ濃度が６at％以上、
好ましくは６〜３０at％のＡｌＬｉ合金が記載されてい
る。（３）特開平５−１２１１７２号公報では、Ｌｉ濃
度が０．０３７７〜０．３８at％（０．０１〜０．１：
１００wt比）のＡｌＬｉ合金、また好ましくは、Ｌｉ濃
度が１５．９at％以下（５０以下：１００wt比）のＡｌ
Ｌｉ合金が記載されている。（４）特開平５−１５９８
８２号公報では、Ｌｉ濃度が５〜９０at％のＡｌＬｉ合
金が記載されている。

【０００６】さらには、特開平９−１７５７４号公報で
は、電子注入電極（層）として、アルカリ金属（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）の化合物、特に、アルカリ金属
の酸化物、過酸化物、複合酸化物、ハロゲン化物、窒化
物、アルカリ金属塩が開示されている。具体的には、Ｌ
ｉ₂Ｏ、Ｌｉ₂Ｏ₂、ＬｉＡｌＯ₂、ＬｉＢＯ₃、ＬｉＣ
ｌ、Ｌｉ₂ＣＯ₃等が挙げられている。

【０００７】また、特開平１０−７４５８６号公報で
は、電子注入電極として、アルカリフッ化物、アルカリ
土類フッ化物、具体的にはＬｉＦ、ＭｇＦ₂、ＭｇＣａ₂
が開示されている。

【０００８】しかしながら、Ｌｉのように仕事関数の小
さい材料は酸素や水分に対して反応性が高く、化学的に
不安定である。Ｌｉ等アルカリ金属を含む電子注入電極
を用いた有機ＥＬ素子は、非常に高い輝度が得られる
が、駆動中に輝度が上昇していくという問題がある。こ
れは、駆動時の発熱によって電極と有機層の界面がアニ
ールされ、Ｉ（電流）−Ｖ（電圧）曲線が駆動時間とと
もに変化し、同じ印加電圧でも電流値が大きくなってし
まうためである。なお、Ｉ（電流）−Ｌ（輝度）曲線は
駆動時間によってほとんど変化しない。

【０００９】また、前述のＭｇＡｇ等、アルカリ土類金
属を電子注入電極に用いた場合にも、アルカリ金属の場
合と同様、駆動中に輝度が上昇していくという問題があ
る。

【００１０】ところで、有機ＥＬ素子は、水分に非常に
弱いという問題がある。水分の影響により、例えば、発
光層と電極層との間で剥離が生じたり、構成材料が変質
してしまったりして、ダークスポットと称する非発光領
域が生じたり、発光面積が縮小したりして所定の品位の
発光が維持できなくなってしまう。

【００１１】この問題を解決するための方法として、例
えば、特開平５−３６４７５号公報、同５−８９９５９
号公報、同７−１６９５６７号公報等に記載されている
ように、有機ＥＬ積層構造体部分を被う気密ケース、封
止層等を基板上に密着固定して外部と遮断する技術が知
られている。

【００１２】しかし、このような封止層等を設けたとし
ても、やはり、駆動時間の経過に伴い外部から侵入する
水分の影響によって、発光輝度が減少したり、ダークス
ポットが生じたり、これが拡大したりして発光面積が縮
小し、素子が劣化し、ひいては、発光不良が悪化して使
用不能になってしまう。

【００１３】また、有機ＥＬ構造体を気密ケース内に収
納し、このケース内に乾燥剤を配置することが提案され
ている。例えば、特開平３−２６１０９１号公報には、
乾燥剤として五酸化二リン（Ｐ₂Ｏ₅）が開示されてい
る。しかし、Ｐ₂Ｏ₅は水分を吸収してその水に溶解（潮
解）し、リン酸となり、有機ＥＬ構造体に悪影響を及ぼ
してしまう。また、Ｐ₂Ｏ₅の封入方法が著しく限られ、
実用的ではない。

【００１４】特開平６−１７６８６７号公報には、微粉
末固体脱水剤、具体的には、ゼオライト、活性アルミ
ナ、シリカゲル、酸化カルシウムが挙げられている。し
かし、ゼオライトのような水分を物理吸着する乾燥剤
は、有機ＥＬ素子が発光する際の熱で吸着した水分を放
出してしまうので、十分な寿命が得られない。

【００１５】これに対し、特開平９−１４８０６６号公
報には、乾燥剤として化学的に水分を吸着するとともに
吸湿しても固体状態を維持する化合物、具体的には、ア
ルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、硫酸塩、
金属ハロゲン化物が挙げられている。これらの化合物は
水分を化学吸着するので、水分の再放出が起こらず、素
子の寿命は長くなる。しかし、素子の寿命としてはまだ
不十分である。

【００１６】本発明者らは、特願平１０−１８１４５８
号において、乾燥剤として水素化カルシウムおよび／ま
たは水素化アルミニウムリチウムを用いることを提案し
ている。これらを乾燥剤に用いると、有機ＥＬ素子の寿
命が飛躍的に長くなる。しかし、このものは、従来問題
であった非発光面積の拡大による素子劣化に対しては抜
群の効果がある一方で、駆動時間とともに輝度が低下し
ていくという問題がある。これは、Ｉ（電流）−Ｖ（電
圧）曲線が駆動時間とともに変化し、同じ印加電圧でも
電流値が小さくなってしまうためである。なお、Ｉ（電
流）−Ｌ（輝度）曲線は駆動時間によってほとんど変化
しない。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、容易
に製造でき、水分等の影響を極力排除し、経時劣化、特
に非発光面積の拡大、輝度の変化が小さく、初期性能を
長期間維持できる長寿命の有機ＥＬ素子を提供すること
である。

【００１８】

【課題を解決するための手段】このような目的は以下の
構成により達成することができる。

【００１９】（１） ホール注入電極と、電子注入電極
と、これらの電極間に設けられた１種以上の発光層を含
む有機層とを有する有機ＥＬ構造体が気密ケースに収納
されており、前記気密ケース内に、水素化カルシウム、
水素化ストロンチウム、水素化バリウムおよび水素化ア
ルミニウムリチウムの１種以上が配置されており、前記
電子注入電極がアルカリ金属およびアルカリ土類金属の
いずれか１種以上を含有する有機ＥＬ素子。 （２） 前記電子注入電極の膜厚が１nm以下である上記
（１）の有機ＥＬ素子。 （３） 前記有機層のうち少なくとも１層がアルカリ
金属およびアルカリ土類金属のいずれか１種以上を含有
する上記（１）または（２）の有機ＥＬ素子。 （４） ホール注入電極と、電子注入電極と、これらの
電極間に設けられた１種以上の発光層を含む有機層とを
有する有機ＥＬ構造体が気密ケースに収納されており、
前記気密ケース内に、水素化カルシウム、水素化ストロ
ンチウム、水素化バリウムおよび水素化アルミニウムリ
チウムの１種以上が配置されており、前記有機層のうち
少なくとも１層がアルカリ金属およびアルカリ土類金属
のいずれか１種以上を含有する有機ＥＬ素子。 （５） 前記有機層が前記電子注入電極と前記発光層と
の間に電子注入層を有し、前記電子注入層がアルカリ金
属およびアルカリ土類金属のいずれか１種以上を含有す
る上記（３）または（４）の有機ＥＬ素子。 （６） 前記電子注入電極がアルカリ金属の合金、これ
らの酸化物、これらのフッ化物、アルカリ土類金属の合
金、これらの酸化物およびこれらのフッ化物のいずれか
１種以上を含有する上記（１）、（２）、（３）または
（５）のいずれかの有機ＥＬ素子。 （７） 前記電子注入電極および／または前記有機層が
リチウムを含有する上記（１）〜（６）のいずれかの有
機ＥＬ素子。 （８） 前記電子注入電極がアルミニウムリチウム合
金、酸化リチウムおよびフッ化リチウムのいずれか１種
以上を含有する上記（７）の有機ＥＬ素子。 （９） 前記有機層のアルカリ金属および／またはアル
カリ土類金属の含有量が０．１〜１０wt％である上記
（３）、（４）、（５）または（７）のいずれかの有機
ＥＬ素子。 （１０）前記気密ケースが、前記有機ＥＬ構造体が積層
されている基板と、前記有機ＥＬ構造体上に所定の空隙
を設けて配置された封止板と、前記封止板を前記基板に
密着する封止用接着剤とを有する上記（１）〜（９）の
いずれかの有機ＥＬ素子。 （１１）前記空隙に窒素が充填されており、前記気密ケ
ース内に水素化カルシウムおよび／または水素化ストロ
ンチウムが配置されている上記（１０）の有機ＥＬ素
子。

【００２０】

【作用】本発明の有機ＥＬ素子は、ホール注入電極と、
電子注入電極と、これらの電極間に設けられた１種以上
の発光層を含む有機層とを有する有機ＥＬ構造体が気密
ケースに収納されており、この気密ケース内に、前記有
機ＥＬ構造体に非接触の状態で、乾燥剤として水素化カ
ルシウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウムおよ
び水素化アルミニウムリチウムの１種以上が配置されて
いる。そして、電子注入電極がアルカリ金属およびアル
カリ土類金属のいずれか１種以上を含有する。この電子
注入電極の膜厚は１nm以下であることが好ましい。また
は、有機層のうち少なくとも１層、好ましくは電子注入
層がアルカリ金属および／またはアルカリ土類金属のい
ずれか１種以上を含有する。その含有量は０．１〜１０
wt％、特に１〜３wt％であることが好ましい。

【００２１】このように気密ケース内に乾燥剤として水
素化カルシウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウ
ムおよび水素化アルミニウムリチウムの１種以上、好ま
しくは水素化カルシウムおよび／または水素化ストロン
チウムを配置することにより、特に封止した後、侵入し
てくる水分を除去し、気密ケース内の水分濃度を下げる
ことができるので、非発光面積の拡大が長時間ほとんど
起こらず、素子の寿命が飛躍的に長くなる。

【００２２】水素化カルシウム、水素化アルミニウムリ
チウムは、下記の化学反応式に従って水分を除去する。
水素化ストロンチウム、水素化バリウムは、下記の水素
化カルシウムの式と同様の化学反応式に従って水分を除
去する。

【００２３】 ＣａＨ₂ ＋ ２Ｈ₂Ｏ → Ｃａ（ＯＨ）₂ ＋ ２Ｈ₂ ＡｌＬｉＨ₄ ＋ ４Ｈ₂Ｏ → Ｌｉ（ＯＨ） ＋ Ａｌ（ＯＨ）₃ ＋ ４Ｈ₂

【００２４】水と反応した後の化合物（水酸化物）は安
定に存在するので、一度除去した水分の再放出が起こら
ない。しかも、上記のようなものを乾燥剤に用いること
により、水分除去に伴って水素が発生し、気密ケース内
が還元雰囲気となるので、電極、特に電子注入電極の劣
化が防止され、素子の寿命はさらに延びる。従って、特
開平９−１４８０６６号公報の化合物を用いる場合より
も長寿命である。また、上記の式に従い、水蒸気吸着時
に水素が等モル発生するので気密ケース内の内圧の変化
が極めて小さいか、なく、密封性を保つ上でも好まし
い。特開平９−１４８０６６号公報の化合物はこの点で
も不利である。

【００２５】しかも、吸湿しても固体状態が保たれるの
で、有機ＥＬ構造体と非接触の状態で配置すれば素子に
悪影響を及ぼすことはなく、また、気密ケース内に容易
に封入することができる。

【００２６】さらに、本発明では、電子注入電極がアル
カリ金属およびアルカリ土類金属のいずれか１種以上を
含有することにより高輝度が得られるとともに、その膜
厚を１nm以下と従来よりも比較的薄くし、上記のような
乾燥剤と併用することで輝度の変動がほとんど起こら
ず、一定の輝度が長時間得られるようになる。

【００２７】または、有機層のうち少なくとも１層、好
ましくは電子注入電極に接する有機層、つまり、電子注
入層がアルカリ金属およびアルカリ土類金属のいずれか
１種以上を含有することによっても高輝度が得られ、上
記のような乾燥剤と併用することで輝度の変動がほとん
ど起こらず、一定の輝度が長時間得られるようになる。
この場合、アルカリ金属および／またはアルカリ土類金
属の含有量が多すぎても少なすぎても輝度の変動が大き
くなる傾向があり、０．１〜１０wt％であることが好ま
しい。特に、電子注入電極の界面から０〜５０nmの範囲
に１〜３wt％含有することが好ましい。

【００２８】これは、乾燥剤が水分を吸収・除去する際
に放出する水素がアルカリ金属、アルカリ土類金属に対
して還元効果があり、電子注入電極および／または電子
注入層が含有するアルカリ金属および／またはアルカリ
土類金属が水素化されることで安定化され、輝度変化が
なくなると考えられる。気密ケース内には水素が過剰に
存在するので、水素化物が安定に存在する。

【００２９】なお、前述の通り、従来の有機ＥＬ素子
は、電子注入電極として仕事関数の小さい材料、つま
り、アルカリ金属、アルカリ土類金属を用いており、駆
動時間とともに輝度が上昇するという問題があった。そ
れに対し、本発明の有機ＥＬ素子は、長時間一定の輝度
を安定して得られ、性能の経時変化が非常に小さい。ま
た、その製造も容易である。

【００３０】

【発明の実施の形態】本発明の有機ＥＬ素子は、ホール
注入電極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けら
れた１種以上の発光層を含む有機層とを有する有機ＥＬ
構造体が気密ケースに収納されており、この気密ケース
内に、有機ＥＬ構造体に非接触の状態で、水素化カルシ
ウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウムおよび水
素化アルミニウムリチウムの１種以上が配置されてい
る。乾燥剤の水素化カルシウム（ＣａＨ₂）、水素化ス
トロンチウム（ＳｒＨ₂）、水素化バリウム（Ｂａ
Ｈ₂）、水素化アルミニウムリチウム（ＡｌＬｉＨ₄）の
当初の組成は、化学量論組成から多少偏倚していてもよ
い。これらは、できるだけ大気中の水分と接触しないよ
うにしてケース内に封入する。

【００３１】乾燥剤にＣａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂、Ａ
ｌＬｉＨ₄のいずれを用いても同様の効果が得られる
が、反応性の高いＡｌＬｉＨ₄は気密ケース内の封止ガ
スにＡｒを用いなければならない場合もあるので、Ｎ₂
を用いることができるＣａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂の方
が好ましい。また、ＢａＨ₂は安定性が劣るので、特に
ＣａＨ₂、ＳｒＨ₂を乾燥剤として用いることが好まし
い。

【００３２】ＣａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂、ＡｌＬｉＨ₄
は、気密ケース内に、気密ケース内の空間１mm³当たり
０．０００１〜０．５mg程度配置することが好ましい。
配置するＣａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂、ＡｌＬｉＨ₄がこ
れより少ないと、水分の除去が十分にはできなくなって
くる。ＣａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂、ＡｌＬｉＨ₄は多い
ほど水分が除去されて素子の寿命は延びるが、有機ＥＬ
構造体に接触すると、逆に悪影響が生じる。通常、配置
できる量の上限は、１mg／mm³程度である。ＣａＨ₂、Ｓ
ｒＨ₂、ＢａＨ₂、ＡｌＬｉＨ₄を併用する場合でも、そ
の合計量が前記の範囲内であることが好ましい。

【００３３】ＣａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂、ＡｌＬｉＨ₄
は粒子として用いてもよく、その際の平均粒径は、０．
０１〜１０μm 程度が好ましい。粒径がこれより大きい
と、表面積が減少してくるので、吸水性が低下してく
る。これより小さいと、吸水性を維持したままでの保管
と取り扱いが困難になってくる。

【００３４】ＣａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂、ＡｌＬｉＨ₄
は、気密ケース内に、悪影響を避けるために有機ＥＬ構
造体に接触しないように配置する。配置方法は特に限定
されず、例えば、ＣａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂、ＡｌＬ
ｉＨ₄を成形体として気密ケース内に固定する方法、多
孔質テフロン等の通気性を有する袋や容器にＣａＨ₂、
ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂、ＡｌＬｉＨ₄を入れてケース内に固
定する方法、基板や封止板に窪みや仕切りを設けてそこ
にＣａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂、ＡｌＬｉＨ₄を配置する
方法等がある。また、スクリーン印刷や反応性スパッタ
法等で気密ケース内に薄膜ないし厚膜として配置しても
よい。この際、膜の厚さは０．１〜１００μm 程度が好
ましい。

【００３５】次に、本発明の有機ＥＬ素子を構成する有
機ＥＬ構造体について説明する。本発明の有機ＥＬ構造
体は、基板上にホール注入電極と、電子注入電極と、こ
れらの電極間に設けられた１種以上の有機層とを有す
る。有機層は、それぞれ少なくとも１層の電子注入層お
よび発光層を有し、その上に電子注入電極を有し、さら
に最上層として保護電極を設けてもよい。なお、電子注
入層はなくてもよい。

【００３６】まず、電子注入電極について説明する。

【００３７】電子注入電極の構成材料としては、電子注
入を効果的に行う低仕事関数の物質、つまり、アルカリ
金属（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、アルカリ土類金
属（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ）のいずれか１種以上を含
有する。特に、Ｌｉを用いると高輝度が得られるので、
好ましい。これらは、金属元素単体で用いてもよいが、
これらの合金、これらの酸化物およびこれらのフッ化物
のいずれかを用いることが好ましい。これらの酸化物、
フッ化物は、通常、その化学量論組成で存在するが、Ｏ
量、Ｆ量は多少偏倚していてもよい。また、これらは１
種を用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。合金系
としては、特に限定されないが、例えばＡｇ・Ｍｇ（Ａ
ｇ：１〜２０at％）、Ａｌ・Ｌｉ（Ｌｉ：０．３〜１４
at％）、Ｉｎ・Ｍｇ（Ｍｇ：５０〜８０at％）、Ａｌ・
Ｃａ（Ｃａ：５〜２０at％）等が好ましい。

【００３８】電子注入電極としては、これらの中でも、
特にＡｌ・Ｌｉ（Ｌｉ：０．４〜６．５（ただし６．５
を含まず）at％）または（Ｌｉ：６．５〜１４at％）、
Ｌｉ₂Ｏ、ＬｉＦが好ましい。

【００３９】また、電子注入電極として、アルカリ金属
の水素化物（ＬｉＨ、ＮａＨ、ＫＨ、ＲｂＨ、Ｃｓ
Ｈ）、アルカリ土類金属（ＭｇＨ₂、ＣａＨ₂、Ｓｒ
Ｈ₂、ＢａＨ₂）のいずれか１種以上、好ましくはＬｉＨ
を用いることも好ましい。

【００４０】また、後述するように、有機層がアルカリ
金属およびアルカリ土類金属のいずれか１種以上を含有
する場合は、上記のようなものも電子注入電極として好
ましく用いられるが、例えば、Ｌａ、Ｃｅ、Ａｌ、Ａ
ｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｅｒ、Ｅｕ、Ｇａ、Ｈ
ｆ、Ｎｄ、Ｒｂ、Ｓｃ、Ｓｍ、Ｔａ、Ｙ、Ｙｂ等の金属
元素単体、あるいは、ＨｆＣ、ＬａＢ₆、ＭｏＣ、Ｎｂ
Ｃ、ＰｂＳ、ＴａＣ、ＴｈＣ、ＴｈＯ₂、ＴｈＳ、Ｔｉ
Ｃ、ＴｉＮ、ＵＣ、ＵＮ、ＵＯ₂、Ｗ₂Ｃ、Ｙ₂Ｏ₃、Ｚｒ
Ｃ、ＺｒＮ、ＺｒＯ₂等の化合物を用いてもよい。ま
た、安定性を向上させるためには、金属元素を含む２成
分、３成分の合金系を用いることが好ましい。合金系と
しては、上記のもの以外に、例えば、Ａｌ・Ｉｎ（Ｉ
ｎ：１〜１０at％）、Ａｌ・Ｒ〔ＲはＹ，Ｓｃを含む希
土類元素を表す〕等のアルミニウム系合金等が好まし
い。これらの中でも、特にＡｌ単体やＡｌ・Ｒ（Ｒ：
０．１〜２５、特に０．５〜２０at％）等のアルミニウ
ム系合金が、圧縮応力が発生しにくく、好ましい。これ
らの仕事関数は４．５ｅＶ以下であり、特に仕事関数が
４．０ｅＶ以下の金属、合金が好ましい。

【００４１】電子注入電極の厚さは１nm以下、特に０．
５nm以下が好ましい。従来は、均一に成膜するために膜
厚は４nm以上が好ましいとされていたが、一定の輝度が
長時間得られるという本発明の効果は、電子注入電極の
膜厚が１nm以下と薄い方が得られる。また、その下限値
は、通常、０．１nm程度である。電子注入電極は、膜と
して存在せず、有機層表面（界面）にアルカリ金属およ
び／またはアルカリ土類金属の粒子が島状に存在してい
てもかまわない。

【００４２】本発明の電子注入電極は、通常、アモルフ
ァス状態、または、結晶粒径が１００nm以下である。

【００４３】電子注入電極は、蒸着、スパッタ法等で成
膜される。

【００４４】電子注入電極を蒸着法で形成する場合、真
空蒸着の条件は特に限定されないが、１０^-4Pa以下の真
空度とし、蒸着速度は０．０１〜１nm／sec 程度とする
ことが好ましい。また、真空中で連続して各層を形成す
ることが好ましい。真空中で連続して形成すれば、各層
の界面に不純物が吸着することを防げるため、高特性が
得られる。

【００４５】電子注入電極をスパッタ法で形成する場
合、スパッタ時のスパッタガスの圧力は、０．１〜５Pa
の範囲が好ましい。また、成膜中にスパッタガスの圧力
を前記範囲内で変化させることにより、濃度勾配を有す
る電子注入電極を容易に得ることができる。また、成膜
ガス圧力と基板ターゲット間距離の積が２０〜６５Pa・
cmを満たす成膜条件にすることが好ましい。

【００４６】スパッタガスは、通常のスパッタ装置に使
用されるＡｒ等の不活性ガスや、反応性スパッタではこ
れに加えてＮ₂、Ｈ₂、Ｏ₂、Ｃ₂Ｈ₄、ＮＨ₃等の反応性ガ
スが使用可能である。

【００４７】スパッタ法としてはＲＦ電源を用いた高周
波スパッタ法や、ＤＣスパッタ法等の中から好適なスパ
ッタ法を用いて成膜すればよい。スパッタ装置の電力と
しては、好ましくはＤＣスパッタで０．１〜１０Ｗ／cm
²、ＲＦスパッタで１〜１０Ｗ／cm²の範囲である。ま
た、成膜レートは５〜１００nm／min 、特に１０〜５０
nm／min の範囲が好ましい。

【００４８】次に、本発明の有機ＥＬ構造体に設けられ
る有機物層について述べる。

【００４９】発光層は、ホール（正孔）および電子の輸
送機能、ホールと電子の再結合により励起子を生成させ
る機能を有する。発光層には、比較的電子的にニュート
ラルな化合物を用いることが好ましい。

【００５０】発光層の厚さは、特に制限されるものでは
なく、形成方法によっても異なるが、通常５〜５００nm
程度、特に１０〜３００nmとすることが好ましい。

【００５１】有機ＥＬ素子の発光層には、発光機能を有
する化合物である蛍光性物質を含有させる。このような
蛍光性物質としては、例えば、特開昭６３−２６４６９
２号公報に開示されているような化合物、例えばキナク
リドン、ルブレン、スチリル系色素等の化合物から選択
される少なくとも１種が挙げられる。また、トリス（８
−キノリノラト）アルミニウム等の８−キノリノールま
たはその誘導体を配位子とする金属錯体色素などのキノ
リン誘導体、テトラフェニルブタジエン、アントラセ
ン、ペリレン、コロネン、１２−フタロペリノン誘導体
等が挙げられる。さらには、特開平８−１２６００号の
フェニルアントラセン誘導体、特開平８−１２９６９号
のテトラアリールエテン誘導体等を用いることができ
る。

【００５２】また、それ自体で発光が可能なホスト物質
と組み合わせて使用することが好ましく、ドーパントと
しての使用が好ましい。このような場合の発光層におけ
る化合物の含有量は０．０１〜２０wt％、さらには０．
１〜１５wt％であることが好ましい。ホスト物質と組み
合わせて使用することによって、ホスト物質の発光波長
特性を変化させることができ、長波長に移行した発光が
可能になるとともに、素子の発光効率や安定性が向上す
る。

【００５３】ホスト物質としては、キノリノラト錯体が
好ましく、さらには８−キノリノールまたはその誘導体
を配位子とするアルミニウム錯体が好ましい。このよう
なアルミニウム錯体としては、特開昭６３−２６４６９
２号、特開平３−２５５１９０号、特開平５−７０７３
３号、特開平５−２５８８５９号、特開平６−２１５８
７４号等に開示されているものを挙げることができる。

【００５４】具体的には、まず、トリス（８−キノリノ
ラト）アルミニウム、ビス（８−キノリノラト）マグネ
シウム、ビス（ベンゾ｛ｆ｝−８−キノリノラト）亜
鉛、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）アルミニウ
ムオキシド、トリス（８−キノリノラト）インジウム、
トリス（５−メチル−８−キノリノラト）アルミニウ
ム、８−キノリノラトリチウム、トリス（５−クロロ−
８−キノリノラト）ガリウム、ビス（５−クロロ−８−
キノリノラト）カルシウム、５，７−ジクロル−８−キ
ノリノラトアルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−
８−ヒドロキシキノリノラト）アルミニウム、ポリ［亜
鉛（II）−ビス（８−ヒドロキシ−５−キノリニル）メ
タン］等がある。

【００５５】また、８−キノリノールまたはその誘導体
のほかに他の配位子を有するアルミニウム錯体であって
もよく、このようなものとしては、ビス（２−メチル−
８−キノリノラト）（フェノラト）アルミニウム(III)
、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（オルト−
クレゾラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−
８−キノリノラト）（メタークレゾラト）アルミニウム
(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（パラ
−クレゾラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル
−８−キノリノラト）（オルト−フェニルフェノラト）
アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノ
ラト）（メタ−フェニルフェノラト）アルミニウム(II
I) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（パラ−
フェニルフェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−
メチル−８−キノリノラト）（２，３−ジメチルフェノ
ラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キ
ノリノラト）（２，６−ジメチルフェノラト）アルミニ
ウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）
（３，４−ジメチルフェノラト）アルミニウム(III) 、
ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（３，５−ジメ
チルフェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチ
ル−８−キノリノラト）（３，５−ジ−tert−ブチルフ
ェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８
−キノリノラト）（２，６−ジフェニルフェノラト）ア
ルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラ
ト）（２，４，６−トリフェニルフェノラト）アルミニ
ウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）
（２，３，６−トリメチルフェノラト）アルミニウム(I
II) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（２，
３，５，６−テトラメチルフェノラト）アルミニウム(I
II) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（１−ナ
フトラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８
−キノリノラト）（２−ナフトラト）アルミニウム(II
I) 、ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラト）
（オルト−フェニルフェノラト）アルミニウム(III) 、
ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラト）（パラ−
フェニルフェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２，
４−ジメチル−８−キノリノラト）（メタ−フェニルフ
ェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２，４−ジメチ
ル−８−キノリノラト）（３，５−ジメチルフェノラ
ト）アルミニウム(III) 、ビス（２，４−ジメチル−８
−キノリノラト）（３，５−ジ−tert−ブチルフェノラ
ト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−４−エチ
ル−８−キノリノラト）（パラ−クレゾラト）アルミニ
ウム(III) 、ビス（２−メチル−４−メトキシ−８−キ
ノリノラト）（パラ−フェニルフェノラト）アルミニウ
ム(III) 、ビス（２−メチル−５−シアノ−８−キノリ
ノラト）（オルト−クレゾラト）アルミニウム(III) 、
ビス（２−メチル−６−トリフルオロメチル−８−キノ
リノラト）（２−ナフトラト）アルミニウム(III) 等が
ある。

【００５６】このほか、ビス（２−メチル−８−キノリ
ノラト）アルミニウム(III) −μ−オキソ−ビス（２−
メチル−８−キノリノラト）アルミニウム(III) 、ビス
（２，４−ジメチル−８−キノリノラト）アルミニウム
(III) −μ−オキソ−ビス（２，４−ジメチル−８−キ
ノリノラト）アルミニウム(III) 、ビス（４−エチル−
２−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム(III) −
μ−オキソ−ビス（４−エチル−２−メチル−８−キノ
リノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−４
−メトキシキノリノラト）アルミニウム(III) −μ−オ
キソ−ビス（２−メチル−４−メトキシキノリノラト）
アルミニウム(III) 、ビス（５−シアノ−２−メチル−
８−キノリノラト）アルミニウム(III) −μ−オキソ−
ビス（５−シアノ−２−メチル−８−キノリノラト）ア
ルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−５−トリフルオ
ロメチル−８−キノリノラト）アルミニウム(III) −μ
−オキソ−ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル
−８−キノリノラト）アルミニウム(III) 等であっても
よい。

【００５７】このほかのホスト物質としては、特開平８
−１２６００号のフェニルアントラセン誘導体、特開平
８−１２９６９号のテトラアリールエテン誘導体なども
好ましい。

【００５８】発光層は電子注入層を兼ねたものであって
もよく、このような場合はトリス（８−キノリノラト）
アルミニウム等を使用することが好ましい。これらの蛍
光性物質を蒸着すればよい。

【００５９】また、発光層は、必要に応じて、少なくと
も１種のホール注入輸送性化合物と少なくとも１種の電
子注入輸送性化合物との混合層とすることも好ましく、
さらにはこの混合層中にドーパントを含有させることが
好ましい。このような混合層におけるドーパントの含有
量は、ホール注入輸送性化合物と電子注入輸送性化合物
との合計量に対して０．０１〜２０wt％、さらには０．
１〜１５wt％とすることが好ましい。

【００６０】混合層では、キャリアのホッピング伝導パ
スができるため、各キャリアは極性的に有利な物質中を
移動し、逆の極性のキャリア注入は起こりにくくなるた
め、有機化合物がダメージを受けにくくなり、素子寿命
がのびるという利点がある。また、前述のドーパントを
このような混合層に含有させることにより、混合層自体
のもつ発光波長特性を変化させることができ、発光波長
を長波長に移行させることができるとともに、発光強度
を高め、素子の安定性を向上させることもできる。

【００６１】混合層に用いられるホール注入輸送性化合
物には、例えば、特開昭６３−２９５６９５号公報、特
開平２−１９１６９４号公報、特開平３−７９２号公
報、特開平５−２３４６８１号公報、特開平５−２３９
４５５号公報、特開平５−２９９１７４号公報、特開平
７−１２６２２５号公報、特開平７−１２６２２６号公
報、特開平８−１００１７２号公報、ＥＰ０６５０９５
５Ａ１等に記載されている各種有機化合物を用いること
ができる。例えば、テトラアリールベンジシン化合物
（トリアリールジアミンないしトリフェニルジアミン：
ＴＰＤ）、芳香族三級アミン、ヒドラゾン誘導体、カル
バゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘
導体、アミノ基を有するオキサジアゾール誘導体、ポリ
チオフェン等である。これらの化合物は、１種のみを用
いても、２種以上を併用してもよい。

【００６２】ホール注入輸送性の化合物としては、強い
蛍光を持ったアミン誘導体、例えばトリフェニルジアミ
ン誘導体、さらにはスチリルアミン誘導体、芳香族縮合
環を持つアミン誘導体を用いるのが好ましい。

【００６３】電子注入輸送性の化合物としては、キノリ
ン誘導体、さらには８−キノリノールないしその誘導体
を配位子とする金属錯体、特にトリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム（Ａｌｑ３）を用いることが好まし
い。また、フェニルアントラセン誘導体、テトラアリー
ルエテン誘導体を用いるのも好ましい。オキサジアゾー
ル誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジ
ン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導
体、ニトロ置換フルオレン誘導体等を用いることができ
る。これらの化合物は、１種のみを用いても、２種以上
を併用してもよい。

【００６４】この場合の混合比は、それぞれのキャリア
移動度とキャリア濃度によるが、一般的には、ホール注
入輸送性化合物の化合物／電子注入輸送性化合物の重量
比が、１／９９〜９９／１、さらに好ましくは１０／９
０〜９０／１０、特に好ましくは２０／８０〜８０／２
０程度となるようにすることが好ましい。

【００６５】また、混合層の厚さは、分子層一層に相当
する厚み以上で、有機化合物層の膜厚未満とすることが
好ましい。具体的には１〜８５nmとすることが好まし
く、さらには５〜６０nm、特には５〜５０nmとすること
が好ましい。

【００６６】また、混合層の形成方法としては、異なる
蒸着源より蒸発させる共蒸着が好ましいが、蒸気圧（蒸
発温度）が同程度あるいは非常に近い場合には、予め同
じ蒸着ボード内で混合させておき、蒸着することもでき
る。混合層は化合物同士が均一に混合している方が好ま
しいが、場合によっては、化合物が島状に存在するもの
であってもよい。発光層は、一般的には、有機蛍光物質
を蒸着するか、あるいは、樹脂バインダー中に分散させ
てコーティングすることにより、発光層を所定の厚さに
形成する。

【００６７】特に発光層として好ましいものに、８−キ
ノリノールまたはその誘導体を配位子とするアルミニウ
ム錯体と、テトラアリールベンジシン化合物に、ルブレ
ン、クマリン等の蛍光物質をドープした混合層が挙げら
れる。８−キノリノールまたはその誘導体を配位子とす
るアルミニウム錯体と、テトラアリールベンジシン化合
物との混合比は上記の範囲内であることが好ましい。ル
ブレン等のドーピング蛍光物質は、この混合層に対し、
０．０１〜２０mol％であることが好ましい。

【００６８】ホール注入輸送層は、ホール注入電極から
のホールの注入を容易にする機能、ホールを安定に輸送
する機能および電子を妨げる機能を有するものであり、
電子注入層は、電子注入電極からの電子の注入を容易に
する機能、電子を安定に輸送する機能およびホールを妨
げる機能を有するものである。これらの層は、発光層に
注入されるホールや電子を増大・閉じこめさせ、再結合
領域を最適化させ、発光効率を改善する。

【００６９】ホール注入輸送層の厚さおよび電子注入層
の厚さは、特に制限されるものではなく、形成方法によ
っても異なるが、通常５〜５００nm程度、特に１０〜３
００nmとすることが好ましい。

【００７０】ホール注入輸送層の厚さおよび電子注入層
の厚さは、再結合・発光領域の設計によるが、発光層の
厚さと同程度または１／１０〜１０倍程度とすればよ
い。ホールまたは電子の各々の注入層と輸送層とを分け
る場合は、注入層は１nm以上、輸送層は１nm以上とする
のが好ましい。このときの注入層、輸送層の厚さの上限
は、通常、注入層で５００nm程度、輸送層で５００nm程
度である。このような膜厚については、注入輸送層を２
層設けるときも同じである。

【００７１】また、ホール注入輸送層には、例えば、特
開昭６３−２９５６９５号公報、特開平２−１９１６９
４号公報、特開平３−７９２号公報、特開平５−２３４
６８１号公報、特開平５−２３９４５５号公報、特開平
５−２９９１７４号公報、特開平７−１２６２２５号公
報、特開平７−１２６２２６号公報、特開平８−１００
１７２号公報、ＥＰ０６５０９５５Ａ１等に記載されて
いる各種有機化合物を用いることができる。例えば、テ
トラアリールベンジシン化合物（トリアリールジアミン
ないしトリフェニルジアミン：ＴＰＤ）、芳香族三級ア
ミン、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリア
ゾール誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有する
オキサジアゾール誘導体、ポリチオフェン等である。こ
れらの化合物は、１種のみを用いても、２種以上を併用
してもよい。２種以上を併用するときは、別層にして積
層したり、混合したりすればよい。

【００７２】ホール注入輸送層をホール注入層とホール
輸送層とに分けて設層する場合は、ホール注入輸送層用
の化合物のなかから好ましい組合せを選択して用いるこ
とができる。このとき、ホール注入電極（ＩＴＯ等）側
からイオン化ポテンシャルの小さい化合物の順に積層す
ることが好ましい。また、ホール注入電極表面には薄膜
性の良好な化合物を用いることが好ましい。このような
積層順については、ホール注入輸送層を２層以上設ける
ときも同様である。このような積層順とすることによっ
て、駆動電圧が低下し、電流リークの発生やダークスポ
ットの発生・成長を防ぐことができる。また、素子化す
る場合、蒸着を用いているので１〜１０nm程度の薄い膜
も均一かつピンホールフリーとすることができるため、
ホール注入層にイオン化ポテンシャルが小さく、可視部
に吸収をもつような化合物を用いても、発光色の色調変
化や再吸収による効率の低下を防ぐことができる。ホー
ル注入輸送層は、発光層等と同様に上記の化合物を蒸着
することにより形成することができる。

【００７３】また、必要に応じて設けられる電子注入層
には、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌ
ｑ３）等の８−キノリノールまたはその誘導体を配位子
とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリ
ミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン
誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体等を用いることが
できる。電子注入層は発光層を兼ねたものであってもよ
く、このような場合はトリス（８−キノリノラト）アル
ミニウム等を使用することが好ましい。電子注入層の形
成は、発光層と同様に、蒸着等によればよい。

【００７４】電子注入層は２層に分けて積層してもよ
く、その場合には、電子注入層用の化合物の中から好ま
しい組み合わせを選択して用いることができる。このと
き、電子注入電極側から電子親和力の値の大きい化合物
の順に積層することが好ましい。このような積層順につ
いては、電子注入層を２層以上設けるときも同様であ
る。

【００７５】本発明の有機ＥＬ素子では、電子注入電極
に接する有機層少なくとも１層にアルカリ金属（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、アルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、Ｂａ）のいずれか１種以上を含有する含有す
ることが好ましい。特に、Ｌｉを含有すると高輝度が得
られるので、好ましい。このように電子注入電極に接す
る有機層に仕事関数の小さな金属をドープし、有機物と
相互作用（配位）させることで高輝度が得られる。アル
カリ金属および／またはアルカリ土類金属を含有する有
機層は、通常、電子注入層および／または発光層、好ま
しくは電子注入層である。

【００７６】電子注入層に含有されるアルカリ金属およ
び／またはアルカリ土類金属の含有量は０．１〜１０wt
％、特に１〜３wt％が好ましい。含有量がこれより多く
ても少なくても輝度が変動しやすくなる。また、含有量
が少ないと高輝度が得られない。

【００７７】アルカリ金属および／またはアルカリ土類
金属の濃度は均一であってもよいが、電子注入電極側に
存在すればよく、濃度勾配を有していてもよい。特に、
電子注入電極の界面から０〜５０nmの範囲に１〜３wt％
含有することが好ましい。

【００７８】有機層中のアルカリ金属および／またはア
ルカリ土類金属は、通常、原子状で存在するが、数原子
のクラスターを形成していてもよい。

【００７９】アルカリ金属および／またはアルカリ土類
金属を含有する有機層は、有機物とアルカリ金属および
／またはアルカリ土類金属とを共蒸着することによって
形成できる。

【００８０】ホール注入輸送層、発光層および電子注入
輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できることから、
真空蒸着法を用いることが好ましい。真空蒸着法を用い
た場合、アモルファス状態または結晶粒径が０．１μm
以下の均質な薄膜が得られる。結晶粒径が０．１μm を
超えていると、不均一な発光となり、素子の駆動電圧を
高くしなければならなくなり、電荷の注入効率も著しく
低下する。

【００８１】真空蒸着の条件は特に限定されないが、１
０^-4Pa以下の真空度とし、蒸着速度は０．０１〜１nm／
sec 程度とすることが好ましい。また、真空中で連続し
て各層を形成することが好ましい。真空中で連続して形
成すれば、各層の界面に不純物が吸着することを防げる
ため、高特性が得られる。また、素子の駆動電圧を低く
したり、ダークスポットの成長・発生を抑えたりするこ
とができる。

【００８２】これら各層の形成に真空蒸着法を用いる場
合において、１層に複数の化合物を含有させる場合、化
合物を入れた各ボートを個別に温度制御して共蒸着する
ことが好ましい。

【００８３】ホール注入電極としては、通常、基板側か
ら発光した光を取り出す構造であるため、透明な電極が
好ましく、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＩＺＯ
（亜鉛ドープ酸化インジウム）、ＺｎＯ、ＳｎＯ₂ 、Ｉ
ｎ₂Ｏ₃ 等が挙げられるが、好ましくはＩＴＯ、ＩＺＯ
が好ましい。Ｉｎ₂Ｏ₃ に対するＳｎＯ₂ の混合比は、
１〜２０wt％が好ましく、さらに好ましくは５〜１２wt
％が好ましい。Ｉｎ₂Ｏ₃ に対するＺｎＯの混合比は、
１〜２０wt％が好ましく、さらに好ましくは５〜１２wt
％が好ましい。その他にＳｎ、Ｔｉ、Ｐｂ等が酸化物の
形で、酸化物換算にして１wt％以下含まれていてもよ
い。

【００８４】ホール注入電極は、蒸着法等によっても形
成できるが、スパッタ法により形成することが好まし
い。ＩＴＯ、ＩＺＯ電極の形成にスパッタ法を用いる場
合、好ましくはＩｎ₂ Ｏ₃ にＳｎＯ₂ やＺｎＯをドープ
したターゲットを用いる。スパッタ法によりＩＴＯ透明
電極を成膜した場合、蒸着により成膜したものよりも発
光輝度の経時変化が少ない。スパッタ法としてはＤＣス
パッタが好ましく、その投入電力としては、０．１〜４
Ｗ／cm² の範囲が好ましい。特にＤＣスパッタ装置の電
力としては、好ましくは０．１〜１０Ｗ／cm²、特に
０．２〜５Ｗ／cm²の範囲が好ましい。また、成膜レー
トは２〜１００nm／min 、特に５〜５０nm／min の範囲
が好ましい。

【００８５】スパッタガスとしては、特に制限するもの
ではなく、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｋｒ、Ｘｅ等の不活性ガ
ス、あるいはこれらの混合ガスを用いればよい。このよ
うなスパッタガスのスパッタ時における圧力としては、
通常０．１〜２０Pa程度でよい。

【００８６】ホール注入電極の厚さは、ホール注入を十
分行える一定以上の厚さを有すれば良く、通常５〜５０
０nm、特に１０〜３００nmの範囲が好ましい。

【００８７】本発明の有機ＥＬ素子は、電子注入電極の
上、つまり有機層と反対側に保護電極を設けてもよい。
保護電極を設けることにより、電子注入電極が外気や水
分等から保護され、構成薄膜の劣化が防止され、電子注
入効率が安定し、素子寿命が飛躍的に向上する。また、
この保護電極は、非常に低抵抗であり、電子注入電極の
抵抗が高い場合には配線電極としての機能も有する。こ
の保護電極は、Ａｌ、Ａｌおよび遷移金属（ただしＴｉ
を除く）、Ｔｉまたは窒化チタン（ＴｉＮ）のいずれか
１種または２種以上を含有し、これらを単独で用いた場
合、それぞれ保護電極中に少なくとも、Ａｌ：９０〜１
００at％、Ｔｉ：９０〜１００at％、ＴｉＮ：９０〜１
００ mol％程度含有されていることが好ましい。また、
２種以上用いるときの混合比は任意であるが、ＡｌとＴ
ｉの混合では、Ｔｉの含有量は１０at％以下が好まし
い。また、これらを単独で含有する層を積層してもよ
い。特にＡｌ、Ａｌおよび遷移金属は、後述の配線電極
として用いた場合、良好な効果が得られ、ＴｉＮは耐腐
食性が高く、封止膜としての効果が大きい。ＴｉＮは、
その化学量論組成から１０％程度偏倚していてもよい。
さらに、Ａｌおよび遷移金属の合金は、遷移金属、特に
Ｓｃ，Ｎｂ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｄ，Ｔａ，Ｃｕ，Ｓｉ，Ｃ
ｒ，Ｍｏ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｐｄ，ＰｔおよびＷ等を、好ま
しくはこれらの総計が１０at％以下、さらに好ましくは
５at％以下、特に好ましくは２at％以下含有していても
よい。遷移金属の含有量が少ないほど、配線材として機
能させた場合の薄膜抵抗は下げられる。

【００８８】保護電極の厚さは、電子注入効率を確保
し、水分や酸素あるいは有機溶媒の進入を防止するた
め、一定以上の厚さとすればよく、好ましくは５０nm以
上、さらに好ましくは１００nm以上、特に好ましくは１
００〜１０００nmの範囲が好ましい。保護電極層が薄す
ぎると、本発明の効果が得られず、また、保護電極層の
段差被覆性が低くなってしまい、端子電極との接続が十
分ではなくなる。一方、保護電極層が厚すぎると、保護
電極層の応力が大きくなるため、ダークスポットの成長
速度が速くなってしまう。なお、配線電極として機能さ
せる場合の厚さは、電子注入電極の膜厚が薄いために膜
抵抗が高く、これを補う場合には通常１００〜５００nm
程度、その他の配線電極として機能される場合には１
００〜３００nm程度である。

【００８９】電子注入電極と保護電極とを併せた全体の
厚さとしては、特に制限はないが、通常５０〜１０００
nm程度とすればよい。

【００９０】電極成膜後に、前記保護電極に加えて、Ｓ
ｉＯ_X 等の無機材料、テフロン、塩素を含むフッ化炭素
重合体等の有機材料等を用いた保護膜を形成してもよ
い。保護膜は透明でも不透明であってもよく、保護膜の
厚さは５０〜１２００nm程度とする。保護膜は、前記の
反応性スパッタ法の他に、一般的なスパッタ法、蒸着
法、ＰＥＣＶＤ法等により形成すればよい。

【００９１】次に、本発明の有機ＥＬ素子について説明
する。本発明の有機ＥＬ素子は、基板上に有機ＥＬ構造
体が積層されており、この有機ＥＬ構造体の上に所定の
空隙を有するように配置される封止板と、この封止板の
接続部に配置され、封止板を基板から所定の距離に維持
するスペーサーと、封止板を固定し、有機ＥＬ構造体を
密閉するための封止用接着剤とを有する。そして、その
密閉空間内に、乾燥剤のＣａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂、
ＡｌＬｉＨ₄が有機ＥＬ構造体に非接触の状態で配置さ
れており、封止ガスが封入されている。

【００９２】気密ケース内の封止ガスは、Ａｒ、Ｈｅ、
Ｎ₂等の不活性ガスが用いられる。ただし、乾燥剤にＣ
ａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂を用いる場合はＮ₂が好ましい
が、乾燥剤にＡｌＬｉＨ₄を用いる場合、高温になると
封止ガスにＮ₂を用いることができないので、Ａｒを用
いることが好ましい。この封止ガスの水分含有量は、１
００ppm以下、さらには１０ppm以下、特に１ppm以下で
あることが好ましい。この水分含有量に下限値は特にな
いが、通常０．１ppm程度である。このような封止ガス
を用いることにより、有機ＥＬ構造体のホール注入電
極、有機層、電子注入電極、または、これらの界面と水
分等との化学反応等による劣化が抑制され、初期性能が
長期間維持できる。

【００９３】封止板の材料としては、ガラスや石英、樹
脂等の透明ないし半透明材料が挙げられるが、より好ま
しくはガラスが好ましい。このようなガラス材として、
例えば、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラス、ホウケ
イ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカガラス等の
ガラス組成のものが好ましい。また、封止板は、平板状
であることが好ましい。封止板にほりこみ等を設け、そ
こに乾燥剤を配置してもよいが、ほりこみを設けるのは
コストアップになるので、安価な平板ガラスを用いるこ
とが好ましい。その製板方法としては、ロールアウト
法、ダウンロード法、フュージョン法、フロート法等が
好ましい。ガラス材の表面処理法としては、研磨加工処
理、ＳｉＯ₂バリヤーコート処理等が好ましい。これら
の中でも、フロート法で製板されたソーダ石灰ガラス
で、表面処理の無いガラス材が安価に使用でき、好まし
い。封止板としては、ガラス板以外にも、金属板、プラ
スチック板等を用いることもできる。

【００９４】封止板の高さを調整する手段としては、特
に制限されるものではないが、スペーサーを用いること
が好ましい。スペーサーを用いることにより、安価で、
容易に所望の高さを得ることができる。スペーサーの材
料としては、樹脂ビーズ、シリカビーズ、ガラスビー
ズ、ガラスファイバー等が挙げられ、特にガラスビーズ
等が好ましい。またその厚さとしては、通常、好ましく
は１〜５００μm 、より好ましくは１〜２００μm 、特
に１〜２０μm 、または１００〜２００μm 程度ものが
好ましい。

【００９５】なお、封止板に凹部を形成した場合には、
スペーサーは使用しても、使用しなくてもよい。使用す
る場合の好ましい大きさとしては、前記範囲でよいが、
特に１〜２０μm の範囲が好ましい。接着剤の塗布量
は、使用するスペーサーの大きさなどにより異なるが、
通常１〜１００mg／cm² 、より好ましくは１〜１０mg／
cm² 程度が好ましい。

【００９６】スペーサーは、封止用の接着剤とともに用
いることが好ましい。封止用接着剤とともに用いること
により、スペーサーの固定と、封止とを同時に行うこと
ができる。スペーサーは、通常、粒径の揃った粒状物で
あるが、その形状は特に限定されるものではなく、スペ
ーサーとしての機能に支障のないものであれば種々の形
状であってもよい。なお、スペーサーを接着剤自体が兼
ねても、スペーサーを封止板と一体に形成してもよい。

【００９７】接着剤としては、好ましくはカチオン硬化
タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を用いる。有
機ＥＬ積層構造体部分の各層構成材料のガラス転移温度
が１４０℃以下、特に８０〜１００℃程度である。その
ため、通常の熱硬化型の接着剤を用いると、その硬化温
度が１４０〜１８０℃程度であるので、接着剤の硬化の
際に有機ＥＬ構造体が軟化してしまい、特性の劣化が生
じてしまう。一方、紫外線硬化型接着剤の場合は、この
ような有機ＥＬ構造体の軟化は生じない。しかし、現在
一般に用いられている紫外線硬化型接着剤は、アクリル
系であるため、硬化の際に成分中のアクリルモノマーが
揮発し、それが上記有機ＥＬ構造体の各構成材料に悪影
響を及ぼし、その特性を劣化させてしまう。そこで、本
発明においては、以上のような問題のない、あるいは極
めて少ない接着剤である、上記のカチオン硬化タイプの
紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を用いることが好まし
い。

【００９８】なお、紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤と
して市販されているものの中には、紫外線加熱硬化併用
型のエポキシ樹脂接着剤が含まれる場合がある。この場
合には、ラジカル硬化タイプのアクリル系樹脂と加熱硬
化タイプのエポキシ樹脂が混合あるいは変性してある場
合が多く、前記のアクリル系樹脂のアクリルモノマーの
揮発の問題や熱硬化型エポキシ樹脂の硬化温度の問題が
解決していないので、本発明の有機ＥＬ素子に用いる接
着剤としては好ましくない。

【００９９】カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキ
シ樹脂接着剤とは、主たる硬化剤として紫外線等の光照
射による光分解でルイス酸触媒を放出するルイス酸塩型
硬化剤を含み、光照射により発生したルイス酸が触媒と
なって主成分であるエポキシ樹脂がカチオン重合型の反
応機構により重合し、硬化するタイプの接着剤である。

【０１００】上記接着剤の主成分であるエポキシ樹脂と
しては、エポキシ化オレフィン樹脂、脂環式エポキシ樹
脂、ノボラックエポキシ樹脂等が挙げられる。また、上
記硬化剤としては、芳香族ジアゾニウムのルイス酸塩、
ジアリルヨードニウムのルイス酸塩、トリアリルスルホ
ニウムのルイス酸塩、トリアリルセレニウムのルイス酸
塩等が挙げられる。

【０１０１】成膜される有機ＥＬ素子構造体の高さは、
特に制限されるものではないが、通常１００〜１０００
nm、特に３００〜８００nmの範囲が好ましい。また、基
板の有機ＥＬ素子構造体成膜面から封止板の下端面まで
の距離としては、好ましくは２００μm 以下、特に８０
〜１５０μm 程度の範囲が好ましい。

【０１０２】有機ＥＬ素子は水分に極めて弱いため、封
止板の密着固定、封止物質の封入は、乾燥Ｎ₂やＡｒ、
Ｈｅ等の不活性ガス雰囲気下で行われることが好まし
い。乾燥剤のＣａＨ₂、ＳｒＨ₂、ＢａＨ₂、ＡｌＬｉＨ₄
は、水と反応しやすいので、封止空間内の水分量を減ら
すために十分に乾燥したものを用いることが好ましい。
有機ＥＬ構造体の積層、乾燥剤の配置、封止までを外系
にさらすことなく、インプロセスで行うことが好まし
い。

【０１０３】基板材料としては、基板側から発光した光
を取り出す構成の場合、ガラスや石英、樹脂等の透明な
いし半透明材料を用いる。また、逆積層の場合には、基
板は透明でも不透明であってもよく、不透明である場合
にはセラミックス等を使用してもよい。

【０１０４】また、基板に色フィルター膜や蛍光性物質
を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を用いて発光色
をコントロールしてもよい。

【０１０５】色フィルター膜には、液晶ディスプレイ等
で用いられているカラーフィルターを用いれば良いが、
有機ＥＬ素子の発光する光に合わせてカラーフィルター
の特性を調整し、取り出し効率・色純度を最適化すれば
よい。

【０１０６】また、ＥＬ素子材料や蛍光変換層が光吸収
するような短波長の外光をカットできるカラーフィルタ
ーを用いれば、素子の耐光性・表示のコントラストも向
上する。

【０１０７】また、誘電体多層膜のような光学薄膜を用
いてカラーフィルターの代わりにしても良い。

【０１０８】蛍光変換フィルター膜は、ＥＬ発光の光を
吸収し、蛍光変換膜中の蛍光体から光を放出させること
で、発光色の色変換を行うものであるが、組成として
は、バインダー、蛍光材料、光吸収材料の三つから形成
される。

【０１０９】蛍光材料は、基本的には蛍光量子収率が高
いものを用いれば良く、ＥＬ発光波長域に吸収が強いこ
とが望ましい。実際には、レーザー色素などが適してお
り、ローダミン系化合物・ペリレン系化合物・シアニン
系化合物・フタロシアニン系化合物（サブフタロシアニ
ン等も含む）、ナフタロイミド系化合物・縮合環炭化水
素系化合物・縮合複素環系化合物・スチリル系化合物・
クマリン系化合物等を用いればよい。

【０１１０】バインダーは、基本的に蛍光を消光しない
ような材料を選べば良く、フォトリソグラフィー・印刷
等で微細なパターニングが出来るようなものが好まし
い。また、ＩＴＯ、ＩＺＯの成膜時にダメージを受けな
いような材料が好ましい。

【０１１１】光吸収材料は、蛍光材料の光吸収が足りな
い場合に用いるが、必要のない場合は用いなくても良
い。また、光吸収材料は、蛍光性材料の蛍光を消光しな
いような材料を選べば良い。

【０１１２】本発明の有機ＥＬ素子は、通常、直流駆動
型のＥＬ素子として用いられるが、交流駆動またはパル
ス駆動とすることもできる。印加電圧は、通常、２〜２
０V程度とされる。

【０１１３】

【実施例】次に実施例を示し、本発明をより具体的に説
明する。

【０１１４】＜実施例１＞以下のようにして単純マトリ
クス発光素子を作製した。

【０１１５】コーニング社製７０５９ガラス基板上に、
ＩＴＯ透明電極（ホール注入電極）を膜厚８５nmで６４
×２５６ドットの画素（一画素当たり２８０×２８０μ
m ）を構成するよう成膜、パターニングした。そして、
ホール注入電極が形成された基板を、中性洗剤、アセト
ン、エタノールを用いて超音波洗浄し、煮沸エタノール
中から引き上げて乾燥した。次いで、表面をＵＶ／Ｏ₃
洗浄した後、真空蒸着装置の基板ホルダーに固定して、
槽内を１×１０^-4Pa以下まで減圧した。そして、４，
４’，４”−トリス（−Ｎ−（３−メチルフェニル）−
Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（ｍ−ＭＴＤ
ＡＴＡ）を蒸着速度０.２nm／sec.で４０nmの厚さに蒸
着し、ホール注入層とした。次に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニ
ル−Ｎ，Ｎ’−ｍ−トリル−４，４’−ジアミノ−１，
１’−ビフェニル（以下、ＴＰＤ）を蒸着速度０．２nm
／sec.で３５nmの厚さに蒸着し、ホール輸送層とした。
次に、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（以
下、Ａｌｑ3 ）を蒸着速度０.２nm／sec.で５０nmの厚
さに蒸着して、発光層とした。次いで、ＤＣスパッタ法
にて、０．５nmの厚さにＬｉ濃度が７．３at％のＡｌＬ
ｉ合金膜を成膜して、電子注入電極とした。このとき、
スパッタ時の圧力１．０Paで、スパッタガスにはＡｒを
用い、投入電力は１００Ｗ、ターゲットの大きさは４イ
ンチ径、基板とターゲットの距離は９０mmとした。そし
て、Ａｌターゲットを用いたＤＣスパッタ法により、Ａ
ｌ保護電極を２００nmの厚さに成膜した。

【０１１６】この有機ＥＬ構造体が積層された基板を、
Ｎ₂ガスを流通させたグローブボックスに移した。そし
て、乾燥剤としてＣａＨ₂粒子をネットに入れて配置、
固定し、ガラス基板上に、紫外線硬化型エポキシ樹脂接
着剤（スリーボンド製３０Ｙ２９６Ｄ）を未硬化の状態
で１００mg塗布した。そして、封止板として１００μm
程度の気密空間を設けるように加工された別のコーニン
グ社製７０５９ガラスを重ねて、基板同士を摺り合わせ
ながら３kg／cm² の圧力で加圧し、ガラス基板と封止板
間に接着剤の薄層を形成した。このとき、接着剤中には
７μm のスペーサーを１wt％分散させ、接着剤の膜厚が
７μm となるようにした。そして、ＵＶ光を照射し、接
着剤を硬化させて有機ＥＬ素子を得た。乾燥剤の量は、
気密ケース内の空間１mm³当たり０．０１mg／mm³とし
た。

【０１１７】得られた有機ＥＬ素子に、大気雰囲気中で
直流電圧を印加し、温度７０℃の加速条件下、１０mA／
cm² の定電流密度で連続駆動させ、輝度の相対変化、非
発光面積の拡大を測定した。

【０１１８】この有機ＥＬ素子は、６００時間駆動後の
相対輝度は０．９５〜１．１だった。また、４００時間
駆動後の非発光面積率は１％以下、６００時間駆動後の
非発光面積率は３％以下だった。相対輝度は、初期輝度
を１としたときの輝度の値、つまり、駆動後の輝度／初
期輝度として計算した。非発光面積率は、（非発光面
積）／（画素の面積）×１００（％）として計算した。

【０１１９】＜実施例２＞乾燥剤としてＣａＨ₂の代わ
りに同量のＳｒＨ₂を用いた他は実施例１と同様にして
有機ＥＬ素子を得、実施例１と同様にして評価した。

【０１２０】この有機ＥＬ素子も、６００時間駆動後の
相対輝度は０．９５〜１．１だった。また、４００時間
駆動後の非発光面積率は１％以下、６００時間駆動後の
非発光面積率は３％以下だった。

【０１２１】＜実施例３＞乾燥剤としてＣａＨ₂の代わ
りに同量のＡｌＬｉＨ₄を用い、封止ガスとしてＮ₂ガス
の代わりにＡｒガスを用いた他は実施例１と同様にして
有機ＥＬ素子を得、実施例１と同様にして評価した。

【０１２２】この有機ＥＬ素子も、６００時間駆動後の
相対輝度は０．９５〜１．１だった。また、４００時間
駆動後の非発光面積率は１％以下、６００時間駆動後の
非発光面積率は３％以下だった。

【０１２３】＜実施例４＞乾燥剤としてＣａＨ₂の代わ
りに同量のＢａＨ₂を用いた他は実施例１と同様にして
有機ＥＬ素子を得、実施例１と同様にして評価したとこ
ろ、この有機ＥＬ素子も実施例１と同様の効果が得られ
た。

【０１２４】＜実施例５＞電子注入電極をＡｌＬｉの代
わりにＬｉ₂Ｏとした他は実施例１と同様にして有機Ｅ
Ｌ素子を得、実施例１と同様にして評価した。

【０１２５】この有機ＥＬ素子も、６００時間駆動後の
相対輝度は０．９５〜１．１だった。また、４００時間
駆動後の非発光面積率は１％以下、６００時間駆動後の
非発光面積率は３％以下だった。

【０１２６】＜実施例６＞電子注入電極をＡｌＬｉの代
わりにＬｉＦとした他は実施例１と同様にして有機ＥＬ
素子を得、実施例１と同様にして評価した。

【０１２７】この有機ＥＬ素子も、６００時間駆動後の
相対輝度は０．９５〜１．１だった。また、４００時間
駆動後の非発光面積率は１％以下、６００時間駆動後の
非発光面積率は３％以下だった。

【０１２８】＜比較例１＞乾燥剤としてＣａＨ₂の代わ
りに同量のゼオライトを用いた他は実施例１と同様にし
て有機ＥＬ素子を得、実施例１と同様にして評価した。

【０１２９】この有機ＥＬ素子は、１００時間駆動後の
相対輝度は１．５以上、３００時間駆動後の相対輝度は
２以上だった。また、１００時間駆動後の非発光面積率
は５％以上、２５０時間駆動後の非発光面積率は１０％
以上だった。４００時間で非発光面積率は２０％以上、
６００時間で非発光面積率は３０％以上になった。

【０１３０】＜比較例２＞電子注入電極の膜厚を４nmと
した他は実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を得、実施
例１と同様にして評価した。

【０１３１】この有機ＥＬ素子は、１０００時間駆動後
の非発光面積率は１％以下だったが、２００時間駆動後
の相対輝度は０．８以下、４００時間駆動後の相対輝度
は０．５以下、６００時間駆動後の相対輝度は０．４以
下だった。

【０１３２】＜比較例３＞乾燥剤としてＣａＨ₂の代わ
りに同量のＢａＯを用いた他は実施例１と同様にして有
機ＥＬ素子を得、実施例１と同様にして評価した。

【０１３３】この有機ＥＬ素子は、１８０時間駆動する
と発光しなくなり、素子として機能しなくなった。

【０１３４】＜実施例７＞実施例１と同様に、基板上に
ＩＴＯ透明電極、ホール注入層（ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）、
ホール輸送層（ＴＰＤ）、発光層（Ａｌｑ3）を成膜し
た後、ＬｉとＡｌｑ3 を４０nmの厚さに共蒸着して電子
注入層（Ｌｉ濃度１．５wt％）とし、さらにＡｌ電極
（陰極）を２００nmの厚さに成膜し、この有機ＥＬ構造
体を実施例１と同様に封止して有機ＥＬ素子を得、実施
例１と同様にして評価した。

【０１３５】この有機ＥＬ素子も、６００時間駆動後の
相対輝度は０．９５〜１．１だった。また、４００時間
駆動後の非発光面積率は１％以下、６００時間駆動後の
非発光面積率は３％以下だった。

【０１３６】また、実施例１〜７、比較例１〜３の有機
ＥＬ素子に、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの加速条件下
で直流電圧を印加し、１０mA／cm² の定電流密度で１０
００時間連続駆動させ、輝度の相対変化、非発光面積の
拡大を測定した。本発明の有機ＥＬ素子は、高湿度下に
おいても比較例のものと比較して輝度の相対変化、非発
光面積の拡大は極めて小さかった。

【０１３７】

【発明の効果】以上のように、本発明により、容易に製
造でき、水分等の影響を極力排除し、経時劣化、特に非
発光面積の拡大、輝度の変化が小さく、初期性能を長期
間維持できる長寿命の有機ＥＬ素子を提供できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荒井 三千男 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 遠藤 広行 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 川島 真祐紀 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 早川 敏雄 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 Ｆターム(参考） 3K007 AB13 AB18 BB04 BB05 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA02

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ホール注入電極と、電子注入電極と、こ
   れらの電極間に設けられた１種以上の発光層を含む有機
   層とを有する有機ＥＬ構造体が気密ケースに収納されて
   おり、 前記気密ケース内に、水素化カルシウム、水素化ストロ
   ンチウム、水素化バリウムおよび水素化アルミニウムリ
   チウムの１種以上が配置されており、 前記電子注入電極がアルカリ金属およびアルカリ土類金
   属のいずれか１種以上を含有する有機ＥＬ素子。
2. 【請求項２】 前記電子注入電極の膜厚が１nm以下であ
   る請求項１の有機ＥＬ素子。
3. 【請求項３】 前記有機層のうち少なくとも１層がア
   ルカリ金属およびアルカリ土類金属のいずれか１種以上
   を含有する請求項１または２の有機ＥＬ素子。
4. 【請求項４】 ホール注入電極と、電子注入電極と、こ
   れらの電極間に設けられた１種以上の発光層を含む有機
   層とを有する有機ＥＬ構造体が気密ケースに収納されて
   おり、 前記気密ケース内に、水素化カルシウム、水素化ストロ
   ンチウム、水素化バリウムおよび水素化アルミニウムリ
   チウムの１種以上が配置されており、 前記有機層のうち少なくとも１層がアルカリ金属および
   アルカリ土類金属のいずれか１種以上を含有する有機Ｅ
   Ｌ素子。
5. 【請求項５】 前記有機層が前記電子注入電極と前記発
   光層との間に電子注入層を有し、 前記電子注入層がアルカリ金属およびアルカリ土類金属
   のいずれか１種以上を含有する請求項３または４の有機
   ＥＬ素子。
6. 【請求項６】 前記電子注入電極がアルカリ金属の合
   金、これらの酸化物、これらのフッ化物、アルカリ土類
   金属の合金、これらの酸化物およびこれらのフッ化物の
   いずれか１種以上を含有する請求項１、２、３または５
   のいずれかの有機ＥＬ素子。
7. 【請求項７】 前記電子注入電極および／または前記有
   機層がリチウムを含有する請求項１〜６のいずれかの有
   機ＥＬ素子。
8. 【請求項８】 前記電子注入電極がアルミニウムリチウ
   ム合金、酸化リチウムおよびフッ化リチウムのいずれか
   １種以上を含有する請求項７の有機ＥＬ素子。
9. 【請求項９】 前記有機層のアルカリ金属および／ま
   たはアルカリ土類金属の含有量が０．１〜１０wt％であ
   る請求項３、４、５または７のいずれかの有機ＥＬ素
   子。
10. 【請求項１０】 前記気密ケースが、前記有機ＥＬ構造
    体が積層されている基板と、前記有機ＥＬ構造体上に所
    定の空隙を設けて配置された封止板と、前記封止板を前
    記基板に密着する封止用接着剤とを有する請求項１〜９
    のいずれかの有機ＥＬ素子。
11. 【請求項１１】 前記空隙に窒素が充填されており、前
    記気密ケース内に水素化カルシウムおよび／または水素
    化ストロンチウムが配置されている請求項１０の有機Ｅ
    Ｌ素子。