JP2000036448A

JP2000036448A - 露光装置

Info

Publication number: JP2000036448A
Application number: JP10202615A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Takeuchi; 仁竹内
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1998-07-17
Filing date: 1998-07-17
Publication date: 2000-02-02

Abstract

(57)【要約】【課題】スループットを向上することができる露光装
置を提供することである。【解決手段】照明光学系により照明されたレチクルの
パターンを、ウエハステージにより位置決めされるウエ
ハホルダＷＨに保持されたウエハＷ上に転写するように
した露光装置において、ウエハホルダＷＨに、露光量検
出用の蛍光体Ｓ１、照度分布検出用の蛍光体Ｓ２を設け
た。投影光学系の投影領域における露光量及び照度分布
は、照明光の照射による該蛍光体Ｓ１，Ｓ２の発光光の
照度を光電センサなどにより計測することにより求め
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置、液晶
表示装置、ＣＣＤ等の撮像素子、薄膜磁気ヘッドなどの
マイクロデバイスを製造するための露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造工程の一つである
フォトリソグラフィー工程においては、マスク又はレチ
クルに形成されているパターンをフォトレジストが塗布
されたウエハ（感光基板）上に転写するための露光装置
として、マスクパターンをウエハ上のショット領域に一
括露光し、順次ウエハを移動して他のショット領域に対
して一括露光を繰り返すステッパーが多く用いられてい
る。また、近時においては、露光範囲の拡大や露光性能
の向上等の観点から、マスクとウエハとを同期移動し
て、矩形その他の形状のスリット光で走査・照明してウ
エハ上のショット領域に逐次露光し、順次ウエハを移動
して他のショット領域に対して走査・露光を繰り返すス
キャニング・ステッパーも開発され、実用に供されるよ
うになっている。

【０００３】このような露光装置においては、露光対象
としてのウエハはウエハステージ上に設けられたウエハ
ホルダに吸着保持される。ウエハステージはリニアモー
タなどによりＸ及びＹ方向（投影光学系の光軸に略直交
する面内における２軸方向）に位置決め移動される。

【０００４】ウエハステージ上のウエハホルダが吸着保
持される保持部の近傍には、投影光学系による投影領域
の露光量を検出するための光電センサである露光量セン
サが取り付けられているとともに、該投影領域内の照度
分布（照度ムラ）を検出するための光電センサであるい
わゆるムラセンサも取り付けられている。また、ウエハ
ステージ上にはベースラインの変動量を計測するための
フィディシャルマーク（ＦｉｄｕｃｉａｌＭａｒｋ）
が形成された基準マーク部材も取り付けられている。な
お、ベースラインとは、オフ・アクシス方式のアライメ
ントセンサにより規定されるアライメント用の基線、又
はその基線によるアライメント位置と露光位置との距離
のことである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
技術においては、露光量センサやムラセンサなどは、ウ
エハステージのウエハホルダを吸着保持した保持部の近
傍に取り付けられており、かかる露光量センサやムラセ
ンサは、フォトダイオードなどからなり、その付属回路
などを含めると、ステージ上でそれなりのスペースを占
有するから、ウエハステージの大きさがその分だけ大き
くなり、ステージの重量の増大を招いていた。また、か
かる露光量センサやムラセンサは、その付属回路などを
含めて、それ自体でそれなりの重量を有しているので、
これによってもステージ重量の増大を招いていた。この
ため、感光基板（ステージ）の加速反応性を鈍化させ、
振動の原因にもなり、感光基板の高速移動を阻害し、ス
ループット（生産性）の低下を招く原因となっていた。

【０００６】さらに、かかる露光量センサやムラセンサ
若しくはその付属回路と、これらのセンサからの検出信
号の供給先としての制御装置とは電線などにより接続す
る必要があるが、かかる電線などが可動部の移動の抵抗
や障害となり、同様の問題を生じさせていた。

【０００７】本発明は、このような問題を解決するため
になされたものであり、その目的とするところは、スル
ープットを向上することができる露光装置を提供するこ
とである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】以下、この項に示す説明
では、理解の容易化のため、本発明の各構成要件に実施
形態の図に示す参照符号を付して説明するが、本発明の
各構成要件は、これら参照符号によって限定されるもの
ではない。

【０００９】上記目的を達成するための本発明の露光装
置は、照明光学系（１１）により照明されたマスク
（Ｒ）のパターンを、位置決め装置（１４，１５）によ
り位置決めされる基板ホルダ（ＷＨ）に保持された感光
基板（Ｗ）上に転写するようにした露光装置において、
前記基板ホルダに、露光量検出用の蛍光体（Ｓ１）、又
は照度分布検出用の蛍光体（Ｓ２）を設けたことを特徴
とする。

【００１０】本発明の露光装置によると、露光量を検出
するための露光量センサや照度分布を検出するためのい
わゆるムラセンサを位置決め装置の可動部（ステージ、
テーブルなど）に設けることはせずに、これに代えて、
基板ホルダに露光量検出用の蛍光体又は照度分布検出用
の蛍光体を設けているので、該可動部を小型・軽量化す
ることができる。また、当該蛍光体はそれ自体小型・軽
量であるとともに、付属回路なども伴わないので、基板
ホルダを含めて該可動部の全体を小型・軽量化できる。
これにより、感光基板の加速性を向上できるとともに、
その移動に伴う反力も小さくなるので振動の発生も少な
くなる。従って、感光基板の露光処理の速度を高速化す
ることができ、スループットを向上することができる。

【００１１】また、照明光学系からの照明光による蛍光
体での発光光の照度を、例えば該位置決め装置の可動部
とは独立して別に設けられた光電センサなどにより計測
するようにでき、従来のように位置決め装置の可動部と
制御装置などを電線を用いて接続する必要がなくなり、
これによっても該可動部の加速性などを向上することが
できる。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につき
図面を参照して説明する。図１は本発明の実施形態の縮
小投影型露光装置（ステッパー）の概略構成図である。

【００１３】図１において、照明光学系１１は、エキシ
マレーザ光などを射出する露光光源、照度分布均一化用
のフライアイレンズ又はロッド・インテグレータなどの
オプチカルインテグレータ（ホモジナイザー）、照明系
開口絞り、レチクルブラインド（可変視野絞り）、及び
コンデンサレンズ系等から構成されている。転写すべき
パターンが形成されたフォトマスクとしてのレチクルＲ
は、レチクルステージ１２上に吸着保持されており、照
明光学系１１により照明光ＩＬがレチクルステージ１２
上のレチクルＲに照射される。

【００１４】レチクルＲの照明領域内のパターンの像
は、投影光学系ＰＬを介して縮小倍率１／α（αは、例
えば４又は５）で、露光対象としてのフォトレジストが
塗布されたウエハＷの表面に投影される。以下、投影光
学系ＰＬの光軸ＡＸに平行にＺ軸をとり、Ｚ軸に垂直な
平面内で図１の紙面に平行にＸ軸を、図１の紙面に垂直
にＹ軸をとって説明する。

【００１５】レチクルステージ１２は、この上に吸着保
持されたレチクルＲをＸＹ平面内で位置決めする。レチ
クルステージ１２の位置は不図示のレーザ干渉計によっ
て計測され、この計測値及び主制御系１３からの制御情
報によってレチクルステージ１２の動作が制御される。

【００１６】一方、ウエハＷは、ウエハホルダ（基板ホ
ルダ）ＷＨ上に負圧吸着により保持され、このウエハホ
ルダＷＨはウエハテーブル１４上に着脱可能に吸着保持
されている。ウエハテーブル１４はＸＹステージ１５上
にＺ方向に変位する複数のアクチュエータなどを介して
設置されている。ウエハテーブル１４は、オートフォー
カス方式でウエハＷのフォーカス位置（光軸ＡＸ方向の
位置）、及び傾斜角を制御することによって、ウエハＷ
の表面を投影光学系ＰＬの像面に合わせ込む。

【００１７】また、ＸＹステージ１５は、ベース１６上
にリニアモータを介して設置されており、Ｘ方向及びＹ
方向にウエハテーブル１４（ウエハＷ）を位置決めす
る。ウエハテーブル１４にはレーザ干渉計の移動鏡（反
射鏡）１７が固定されており、この移動鏡１７及び移動
鏡１７に対向して配置されたレーザ干渉計（本体）１８
によってウエハテーブル１４のＸ座標、Ｙ座標、及び回
転角が計測され、この計測値がステージ制御系１９及び
主制御系１３に供給されている。ステージ制御系１９
は、レーザ干渉計１８による計測値及び主制御系１３か
らの制御情報に基づいて、ＸＹステージ１５のリニアモ
ータなどの動作を制御する。

【００１８】ウエハテーブル１４に設けられた移動鏡１
７は、Ｘ軸方向の位置を計測するためのＸ移動鏡及びＹ
軸方向の位置を計測するためのＹ移動鏡から構成されて
おり、Ｘ移動鏡はその鏡面が＋Ｘ軸方向を指向した状態
でその長手方向がＹ軸に沿うように、Ｙ移動鏡はその鏡
面が＋Ｙ方向を指向した状態でその長手方向がＸ軸に沿
うように、それぞれウエハテーブル１４の上側の端部
に、例えばネジ止めにより一体的に固定されている。

【００１９】ウエハホルダＷＨは、図２及び図３にその
詳細を示すように構成されている。即ち、ウエハホルダ
ＷＨは、概略矩形板状の部材からなり、ウエハステージ
１４上に着脱可能に吸着保持される。ウエハホルダＷＨ
の上面のウエハ保持部にはウエハＷを吸着保持するため
に、ほぼ同心円状の多数の凹状の溝３１が形成されてい
る。各溝３１はウエハホルダＷＨの内部の通路３２を介
してバッファ部３３に連通されており、ウエハＷをウエ
ハ保持部に載置した状態で、バッファ部３３に図外の負
圧源を逆止弁３４を介して着脱可能に接続して真空吸引
した後に、該負圧源を取り外すことにより、ウエハＷは
ウエハホルダＷＨに吸着保持されて、この状態で一体と
して搬送などができるようになっている。

【００２０】ウエハホルダＷＨのウエハＷを吸着保持す
るウエハ保持部の近傍には、露光量を検出するための第
１蛍光体Ｓ１、及び照度分布を検出するための第２蛍光
体Ｓ２が設けられている。これらの第１及び第２蛍光体
Ｓ１，Ｓ２は、紫外線照射によりその照射エネルギに応
じて可視光線を放出する蛍光性を有する物質であり、ウ
エハホルダＷＨ上に、蛍光塗料を塗布することにより、
あるいは独立した板部材上に蛍光塗料を塗布したものを
接着その他の方法により取り付けることにより設けられ
る。第１蛍光体Ｓ１は、投影光学系ＰＬの投影領域の全
域に渡ってその照度を計測するため、該投影領域にほぼ
等しい面積を有している。これに対し、第２蛍光体Ｓ２
は、投影光学系ＰＬの投影領域内の複数の微少領域のそ
れぞれにおける照度を検出するため、該投影領域よりも
小さい面積を有している。

【００２１】また、ウエハホルダＷＨのウエハ保持部の
近傍には、基準マーク部材ＦＭが設けられている。この
基準マーク部材ＦＭは、ウエハホルダＷＨ上でウエハ保
持部の近傍にネジ止めなどにより一体的に固定されてい
る。この基準マーク部材ＦＭは光透過性の部材からな
り、図示は省略するが、その上面には、Ｘ方向に所定間
隔で、例えば十字型の一対の基準マーク（Ｆｉｄｕｃｉ
ａｌＭａｒｋ）が形成されている。これらの基準マー
クは、図示は省略するが、照明光ＩＬから分岐された照
明光でその下側から投影光学系ＰＬ側に照明される。レ
チクルＲのアライメント時には、ＸＹステージ１５を駆
動することによって、基準マーク部材ＦＭ上の一対の基
準マークの中心がほぼ投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに合致
するように位置決めされる。

【００２２】また、レチクルＲのパターン面（下面）の
パターン領域をＸ方向に挟むように、一例として十字型
の２つのアライメントマーク（不図示）が形成されてい
る。一対の基準マークの間隔は、一対のアライメントマ
ークの投影光学系ＰＬによる縮小像の間隔とほぼ等しく
設定されており、上記のように一対の基準マークの中心
をほぼ光軸ＡＸに合致させた状態で、基準マーク部材Ｆ
Ｍの下側から照明光ＩＬと同じ波長の照明光で照明する
ことによって、基準マークの投影光学系ＰＬによる拡大
像がそれぞれレチクルＲのアライメントマークの近傍に
形成される。

【００２３】図１に示されているように、これらのアラ
イメントマークの上方に投影光学系ＰＬ側からの照明光
を±Ｘ方向に反射するためのミラー２２Ａ，２２Ｂが配
置され、ミラー２２Ａ，２２Ｂで反射された照明光を受
光するようにＴＴＲ（スルー・ザ・レチクル）方式で、
画像処理方式のアライメントセンサ２３Ａ，２３Ｂが備
えられている。アライメントセンサ２３Ａ，２３Ｂはそ
れぞれ結像系と、ＣＣＤカメラ等の２次元の撮像素子と
を備え、その撮像素子がアライメントマーク、及び対応
する基準マークの像を撮像し、その撮像信号がアライメ
ント信号処理系２４に供給される。

【００２４】アライメント信号処理系２４は、その撮像
信号を画像処理して、基準マークの像に対するアライメ
ントマークのＸ方向、Ｙ方向への位置ずれ量を求め、こ
れら２組の位置ずれ量を主制御系１３に供給する。主制
御系１３は、その２組の位置ずれ量が互いに対称に、か
つそれぞれ所定範囲内に収まるようにレチクルステージ
１２の位置決めを行う。これによって、基準マークに対
して、アライメントマーク、ひいてはレチクルＲのパタ
ーン領域内のパターンが位置決めされる。

【００２５】言い換えると、レチクルＲのパターンの投
影光学系ＰＬによる縮小像の中心（露光中心）は、実質
的に基準マークの中心（ほぼ光軸ＡＸ）に位置決めさ
れ、パターンの輪郭（パターン領域の輪郭）の直交する
辺はそれぞれＸ軸及びＹ軸に平行に設定される。この状
態で図１の主制御系１３は、レーザ干渉計１８によって
計測されるウエハテーブル１４のＸ方向、Ｙ方向の座標
を記憶することで、レチクルＲのアライメントが終了す
る。この後は、パターンの露光中心に、ウエハテーブル
１４上の任意の点を移動することができる。

【００２６】また、図１において、投影光学系ＰＬの側
面に、ウエハＷ上のマークの位置検出を行うために、オ
フ・アクシス方式で、画像処理方式のアライメントセン
サ２５も備えられている。アライメントセンサ２５は、
フォトレジストに対して非感光性で広帯域の照明光で被
検マークを照明し、被検マークの像をＣＣＤカメラ等の
２次元の撮像素子で撮像し、撮像信号をアライメント信
号処理系２４に供給する。アライメントセンサ２５の検
出中心とレチクルＲのパターンの投影像の中心（露光中
心）との間隔（ベースライン量）は、基準マーク部材Ｆ
Ｍ上の基準マークを用いて求められて、主制御系１３内
に記憶される。

【００２７】ウエハホルダＷＨに吸着保持されたウエハ
Ｗについては、不図示のウエハ用のアライメントセンサ
を用いて、ウエハＷ上のアライメントマークを計測し
て、その全体についてあるいは各ショット領域について
アライメントが行われる。そして、ウエハＷ上の露光対
象のショット領域を順次露光位置に位置決めした後、レ
チクルＲのパターン領域に対して、照明光学系１１より
エキシマレーザ光等の照明光ＩＬを照射することで、パ
ターン領域内のパターンを縮小倍率１／αで縮小した像
がショット領域に転写される。このようにしてウエハＷ
上の各ショット領域にパターンの縮小像を転写露光した
後、ウエハＷの現像を行って、エッチング等のプロセス
を実行することによって、ウエハＷ上の各ショット領域
に半導体デバイスのあるレイヤの回路パターンが形成さ
れる。

【００２８】なお、この実施形態では、図示は省略する
が、ウエハＷが吸着保持されたウエハホルダＷＨが搬送
系により搬送され、ウエハテーブル１４上に搬入され、
各ショット領域に対する露光処理が終了したならば、ウ
エハホルダＷＨとともにウエハＷが該ウエハテーブル１
４上から搬出されるようにしている。但し、ウエハホル
ダＷＨをウエハテーブル１４上に保持した状態で、ウエ
ハＷのみを搬送し、該ウエハホルダＷＨに対してウエハ
Ｗを搬出入するようにしても勿論よい。

【００２９】ここで、このような露光装置においては、
露光光源自体の経時的な照度変化、照明光学系１１ある
いは投影光学系ＰＬを構成するレンズやミラーなどの光
学素子の経時的な劣化や汚染、その他の原因による露光
量変化、あるいは照度分布の一様性の劣化などがある
と、露光精度が低下するため、定期的にあるいは必要に
応じて、投影光学系ＰＬの投影領域の露光量及び照度分
布（照度ムラ）を計測することが行われる。

【００３０】このため、この実施形態では、上述したよ
うに、ウエハホルダＷＨ上に、第１及び第２蛍光体Ｓ
１，Ｓ２を設けるとともに、図４に示されているよう
に、これらの蛍光体Ｓ１，Ｓ２が照明光の照射により発
光する際のその照度を検出する照度センサ３５を投影光
学系ＰＬを支持しているコラムなどに取り付けている。
この照度センサ３４は、レンズなどの結像系と、ＣＣＤ
カメラ等の２次元の撮像素子とを備えて構成され、この
撮像素子は投影光学系ＰＬの投影領域に対応する撮像領
域を有し、該撮像領域内の入射光の照度を全体的に及び
部分的に検出できる。なお、照度センサ３５は投影光学
系ＰＬの像面に対して傾斜した方向から蛍光体Ｓ１，Ｓ
２を指向するように取り付けられている。投影光学系Ｐ
Ｌの像面と撮像素子の撮像面が傾斜していることによる
各対応点間の距離の相違による検出値の誤差は、予め計
測されて補正されるものとする。

【００３１】投影光学系ＰＬの投影領域の全域に渡る照
度を計測して露光量の変化を検出する場合には、投影光
学系ＰＬの光軸ＡＸにウエハホルダＷＨ上の第１蛍光体
Ｓ１の中心が一致するようにウエハテーブル１４を位置
決めして、即ち、該投影領域と照度センサ３５の撮像素
子の撮像領域を実質的に一致させて、露光光源による照
明光ＩＬの照射を実施し、このときの第１蛍光体Ｓ１に
よる発光光の照度を照度センサ３５により計測する。

【００３２】また、投影光学系ＰＬの投影領域内の各点
における照度を計測して、該投影領域内の照度分布を検
出する場合には、投影光学系ＰＬの投影領域内の計測す
べき位置にウエハホルダＷＨ上の第２蛍光体Ｓ２が一致
するようにウエハテーブル１４を位置決めして、露光光
源による照明光ＩＬの照射を実施し、このときの第２蛍
光体Ｓ２による発光光の照度を照度センサ３５により計
測する。同様の処理を投影領域内の複数点について実施
することにより、該投影領域内の照度分布を得る。

【００３３】上述した実施形態によると、露光量を検出
するための照度センサや照度分布を検出するためのムラ
センサをウエハテーブル１４上に取り付けないようにし
たから、これらのセンサを取り付けるために必要なスペ
ースをウエハテーブル１４上に確保する必要がなくな
り、ウエハテーブル１４の小型化・軽量化を図ることが
できる。そして、投影光学系ＰＬの投影領域における露
光量を検出するため、及び該投影領域の照度分布（照度
ムラ）を検出するために、第１及び第２蛍光体Ｓ１，Ｓ
２をウエハホルダＷＨ上に設け、照明光の照射による該
蛍光体Ｓ１，Ｓ２による発光光の照度をウエハテーブル
１４やＸＹステージ１５とは別に設けられた照度センサ
３５により計測するようにしたから、露光量や照度分布
の検出に支障を生じることはない。

【００３４】また、基準マーク部材ＦＭをウエハテーブ
ル１４上に取り付けることもせず、これをウエハホルダ
ＷＨ上に設けているので、基準マーク部材ＦＭを取り付
けるために必要なスペースをウエハテーブル１４上に確
保する必要がなくなり、これによってもウエハテーブル
１４の小型・軽量化を図ることができる。なお、基準マ
ーク部材ＦＭをウエハホルダＷＨ上に設けているので、
ベースライン計測に支障を生じることはない。

【００３５】さらに、ウエハホルダＷＨ上には第１及び
第２蛍光体Ｓ１，Ｓ２を配置し、ウエハテーブル１４や
ＸＹステージ１５とは別に独立して照度センサ３５を設
け、照明光ＩＬの照射による蛍光体Ｓ１，Ｓ２の発光光
の照度を該照度センサ３５により計測して、露光量及び
照度分布を検出するようにしており、これらの第１及び
第２蛍光体Ｓ１，Ｓ２は単に蛍光塗料の塗布などにより
設けることができるため軽量であり、ウエハホルダＷ
Ｈ、ウエハテーブル１４及びＸＹステージ１５を含む可
動部を全体として軽量化することができ、振動の発生も
少なくなり、ウエハＷの移動の高速化を図ることがで
き、スループットを向上することができる。

【００３６】特に、上述した実施形態では、ウエハＷを
吸着保持した状態でウエハホルダＷＨを搬送し、ウエハ
テーブル１４に対して搬出入するようにしているが、露
光量や照度分布を検出するためにはウエハホルダＷＨ上
には蛍光体Ｓ１，Ｓ２が設けられているのみであるか
ら、ウエハホルダＷＨに露光量や照度分布を検出するた
めの照度センサなどを設けた場合と比較して、ウエハホ
ルダＷＨ自体が軽量であるとともに、該照度センサと制
御系との間を電線などにより接続する必要がなく、独立
性が高いため搬送も容易であり、ウエハテーブル１４上
に搬入された後においても、該電線などが障害になるこ
ともないため、ウエハＷの加速性などを損なうこともな
い。

【００３７】なお、本発明は上述の実施の形態に限定さ
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取
り得ることは勿論である。

【００３８】例えば、図１の投影露光装置は一括露光型
のステッパーであるが、走査露光型のスキャニング・ス
テッパーにも同様に適用でき、その場合に特に有効であ
る。これは、スキャニング・ステッパーでは、露光時に
レチクルＲとウエハＷとが投影光学系ＰＬに対して縮小
倍率比で同期走査されるが、本発明を適用することによ
り、ショット間での高速移動に加えて、ウエハＷの高速
スキャンを高精度に行えるからである。さらに、ミラー
プロジェクション・アライナーにも適用することができ
る。

【００３９】また、上述した実施形態では、ウエハテー
ブル１４をリニアモータ及びアクチュエータにより駆動
するようにしているが、いわゆる平面モータにより駆動
するようにできる。平面モータは、ウエハテーブルをＸ
方向及びＹ方向に移動するとともに、Ｚ方向に微動し、
さらに、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りに微少回転することが
でき、全部で６自由度を有する駆動装置である。平面モ
ータは、詳細な図示は省略するが、以下のような構成で
ある。

【００４０】即ち、平面モータは、強磁性体からなる底
部ヨークの上面に複数の駆動ユニットを配設し、該駆動
ユニットから上部に離間して、強磁性体からなる上部ヨ
ークを配置する。駆動ユニットは強磁性体からなるコア
に適宜に複数のコイルを配置して構成され、該駆動ユニ
ットと該上部ヨークの間に、磁石板を有するウエハステ
ージを配置する。これにより、ウエハステージは浮遊し
た状態で保持され、駆動ユニットに適宜に通電すること
により、所望の方向に推力を発生することで、かかる６
自由度を実現している。

【００４１】さらに、露光用照明光は、水銀ランプから
射出される輝線（例えばｇ線、ｉ線）、ＫｒＦエキシマ
レーザ（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（波
長１９３ｎｍ）、Ｆ_２エキシマレーザ（波長１５７ｎ
ｍ）、又はＹＡＧレーザなどの高調波のいずれであって
もよい。また、例えば５〜１５ｎｍ（軟Ｘ線領域）に発
振スペクトルを有するＥＵＶ（ＥｘｔｒｅｍｅＵｌｔ
ｒａＶｉｏｌｅｔ）光を露光用照明光とし、反射マス
ク上での照明領域を円弧スリット状に規定するととも
に、複数の反射光学素子（ミラー）のみからなる縮小投
影光学系を有し、縮小投影光学系の倍率に応じた速度比
で反射マスクとウエハとを同期移動して反射マスクのパ
ターンをウエハ上に転写するＥＵＶ露光装置などにも、
本発明を適用することができる。

【００４２】

【発明の効果】本発明は以上説明したように構成したの
で、感光基板を移動するための可動部の小型・軽量化を
図ることができ、感光基板の高速移動が可能となり、ス
ループットを向上した露光装置を提供することができる
という効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態の露光装置の全体構成を示
す正面図である。

【図２】本発明の実施形態のウエハホルダの要部構成
を示す平面図である。

【図３】本発明の実施形態のウエハホルダの要部構成
を示す断面図である。

【図４】本発明の実施形態の要部構成を示す側面図で
ある。

【符号の説明】

Ｒ…レチクル（マスク）Ｗ…ウエハ（感光基板）ＷＨ…ウエハホルダ（基板ホルダ）ＦＭ…基準マーク部材ＰＬ…投影光学系ＩＬ…照明光Ｓ１…露光量検出用蛍光体（第１蛍光体）Ｓ２…照度分布検出用蛍光体（第２蛍光体）１１…照明光学系１２…レチクルステージ１３…主制御系１４…ウエハテーブル１５…ＸＹステージ１７…移動鏡（反射鏡）１８…レーザ干渉計１９…ステージ制御系２３Ａ，２３Ｂ，２５…アライメントセンサ３１…溝３５…照度センサ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】照明光学系により照明されたマスクのパ
ターンを、位置決め装置により位置決めされる基板ホル
ダに保持された感光基板上に転写するようにした露光装
置において、前記基板ホルダに露光量検出用の蛍光体を設けたことを
特徴とする露光装置。
【請求項２】照明光学系により照明されたマスクのパ
ターンを、位置決め装置により位置決めされる基板ホル
ダに保持された感光基板上に転写するようにした露光装
置において、前記基板ホルダに照度分布検出用の蛍光体を設けたこと
を特徴とする露光装置。
【請求項３】前記基板ホルダにフィディシャルマーク
を設けたことを特徴とする請求項１又は２に記載の露光
装置。
【請求項４】前記基板ホルダは前記感光基板を保持し
た状態で前記位置決め装置に対して搬出入されることを
特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の露光装
置。