JPH11325821A - ステージ制御方法および露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 レチクルステージ及びウエハステージの位置
制御に対する固定部材の振動の影響をなくし、レチクル
からウエハへの解像度の高いパターン転写を実現する。 【解決手段】 レチクル１１のパターン像を投影光学系
を介してウエハ１５上に投影して転写する露光装置１０
であって、マスク及びウエハを保持して移動が可能なス
テージ１３，１７と、これらのステージそれぞれに対し
てその位置を計測する干渉計システム２１，３１とを備
えている。各干渉計システムは各ステージに取付けられ
た移動鏡２２，３２と、投影光学系を保持する保持部材
に移動機構２３，３３を介して取付けられた固定鏡２
５，３５と、ステージ制御のために固定鏡と移動鏡との
間の相対位置を計測する干渉計２６，３６によって構成
される。保持機構はセンサ２４，３４によって固定部材
の振動を検知し、その検知結果に基づいて振動をキャン
セルし、固定鏡が一定位置を保つように固定鏡を移動さ
せる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は露光装置に関するも
のであり、より詳しくは、半導体集積回路や液晶表示素
子等の微細構造を、フォトリソグラフィ技術を用いて製
造する際に用いられる露光装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】投影露光装置では、露光ビームを照射す
ることによって、フォトマスクまたはレチクル等（以
下、まとめてレチクルと呼ぶ）のパターン像が、投影光
学系を介して感光材が塗布されたウエハやガラス基板等
（以下、まとめてレチクルと呼ぶ）上のショット領域に
露光され、これにより、パターン像が拡大あるいは縮小
されて所望の大きさで基板に転写される。

【０００３】このような投影露光装置として、近年ステ
ップ・アンド・リピート方式の投影露光装置が用いられ
ている。このステップ・アンド・リピート方式の投影露光
装置では、ウエハが二次元的に移動可能なウエハステー
ジ上に載置され、このウエハステージを移動（ステッピ
ング）させながらレチクルのパターンがウエハ上の所定
のショット領域に露光されていく。一方、レチクルは移
動自在に配置されたレチクルステージ上に保持されてお
り、１つのレチクルの露光が終了するとレチクルが次の
レチクルに取り替えられ、取り替えられたレチクルのパ
ターン像が基板上の対応するショット領域に露光され
る。このように、レチクルの露光と交換が繰り返され
て、必要とされる全てのパターン像が基板上に露光さ
れ、１つの基板に対するパターン転写が完了する。

【０００４】投影露光装置では、レチクルステージとウ
エハステージとの間に設置された鏡筒の投影レンズを介
してレチクルのパターン像の拡大・縮小が行なわれる。
一般に、レチクルステージの位置は、その鏡筒に取付け
られた固定鏡を基準点としてレーザ干渉計を用いて制御
される。すなわち、レーザ干渉計と固定鏡との間の距離
を基準として、レーザ干渉計からレチクルステージに取
付けられた移動鏡までの距離が計測され、その計測結果
に応じてレチクルステージ制御系によってレチクルステ
ージが移動され、適切な位置に制御される。また、ウエ
ハステージについても、別のレーザ干渉計と別の固定鏡
との間の距離を基準として、そのレーザ干渉計からウエ
ハステージに取付けられた移動鏡までの距離が計測さ
れ、ウエハステージ制御系によってその位置が制御され
る。この位置制御によって、レチクル位置とウエハ位置
との対応付けがｎｍオーダーで精密に行われ、レチクル
上のパターン像がウエハの所定の位置に正確に露光され
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述のように、投影露
光装置ではレチクルステージとウエハステージの位置制
御には極めて高い精度が要求されるので、装置の動作や
周辺環境の影響により鏡筒に振動が発生した場合、それ
が極めて小さな振動であったとしても、パターンの転写
精度に与える影響は重大である。すなわち、従来の投影
露光装置では、鏡筒の振動に伴なって固定鏡が振動する
と、レチクルステージ及びウエハステージの移動にもそ
の振動が影響を与え、レチクル及びウエハの位置決めが
不安定となり、ステージ制御への負担は大きなものとな
っていた。さらに、露光時に固定鏡が振動すると、固定
鏡の位置ずれ分が修正されないままレチクルステージも
ウエハステージも移動してしまうために、ウエハに転写
されるパターン像がぼやけてしまい、今後ますます要求
が強まっていくパターンの高線密度および高解像度が容
易には得られないといった問題があった。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決するためになされたものであり、レチクルステージや
ウエハステージの位置制御の基準となる基準鏡（固定
鏡）、または基準鏡が取付けられた鏡筒などの固定部材
がたとえ振動したとしても、各ステージの位置制御がそ
の振動の影響を受けないような、あるいはその影響が極
めて小さく抑えられるような露光装置を提供することが
本発明の目的である。

【０００７】本発明のステージ制御方法は、レチクルや
ウエハ等の物体を載置して移動するステージに設けられ
た移動鏡と、鏡筒などの所定の固定部材に取付けられた
基準鏡とを有する干渉計システムを使って、前記ステー
ジの位置を計測しながら前記ステージの移動を制御する
ステージ制御方法であって、上記の課題を解決するため
に、前記基準鏡の振動に関する情報を検出し、該検出結
果に基づいて前記固定部材に対して前記基準鏡を移動さ
せる（請求項１の特徴に対応）。この場合基準鏡は、固
定部材の振動を相殺するように移動し、これによりステ
ージの位置制御に対する固定部材の振動の影響が低減す
る。

【０００８】本発明の露光装置は、マスクのパターンの
像を投影光学系を介して基板上に投影することによって
前記基板を露光する露光装置であって、前記マスクまた
は前記基板を保持して移動が可能なステージと、前記ス
テージに設けられた移動鏡及び所定の固定部材に取付け
られた基準鏡を有し前記ステージの位置を計測する干渉
計システムと、前記固定部材の変位に対して前記基準鏡
をほぼ一定位置に保持する保持機構とを備えている（請
求項２の特徴に対応）。この保持機構により基準鏡が一
定位置に保持されるので、ステージの位置制御にたいす
る固定部材の振動の影響を極めて抑えることができる。

【０００９】前記保持機構は、前記固定部材に対して前
記基準鏡を移動する移動機構を有しており（請求項３の
特徴に対応）、前記固定部材の振動に応じて前記基準鏡
を移動させることができる（請求項４に対応）。また、
前記保持機構は、前記固定部材の振動情報を検出するセ
ンサを有しており、前記移動機構は、該センサの検出結
果に基づいて前記基準鏡を移動することができる（請求
項５に対応）。前記センサは、前記振動情報として前記
固定部材の変位と加速度の少なくとも一方を検出するも
のである（請求項６に対応）。また、前記固定部材は、
前記投影光学系を支持する鏡筒でありうる（請求項７に
対応）。また、前記マスクと前記基板とを同期移動する
ことによって前記基板が走査露光される（請求項８に対
応）。

【００１０】また本発明の露光装置は、マスクのパター
ンを基板上に転写する露光装置であって、記マスクまた
は前記基板を保持して移動が可能なステージと、所定の
固定部材に取付けられた基準部材の位置を基準として前
記ステージの位置を制御する制御システムと、前記固定
部材の変位に対して前記基準部材をほぼ一定位置に保持
する保持機構とを備えている（請求項９に対応）。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施形態について説明する。

【００１２】図１は、本発明による投影露光装置の実施
形態の概略図である。この実施形態では、ステップ・ア
ンド・リピート方式の縮小投影露光装置（ステッパー：
以下、単に露光装置と呼ぶ）１０を例として取り上げて
いる。

【００１３】この露光装置１０は、レチクル１１を露光
するための照明系１２と、レチクル１１を保持するレチ
クルステージ１３と、レチクル１１に形成されたパター
ン（原版）１４の像を感光基板としてのウエハ１５上に
投影する投影光学系（投影レンズ）を含む鏡筒１６と、
ウエハ１５を保持して基準平面（Ｘ−Ｙ平面）内を二次
元的に移動可能であるとともに所定の角度範囲内での回
転が可能なウエハステージ１７と、ウエハ１５に形成さ
れたアライメントマーク（ウェハマーク）を検出するオ
フ・アクシス方式のアライメント顕微鏡１８と、レチク
ルステージ１３をリニアモータ等を用いて移動させるレ
チクルステージ駆動系２０と、レチクルステージ１３の
位置及び回転を計測するレーザ干渉計システム２１と、
ウエハステージ１７をリニアモータ等を用いて移動させ
るウエハステージ駆動系３０と、ウエハステージ１７の
位置及び回転を計測するレーザ干渉計システム３１と、
装置全体を統括的に制御するミニコンピュータから成る
制御装置４０等を備えている。

【００１４】照明系１２は、水銀ランプやエキシマレー
ザ等の光源と、シャッタ、ブラインド、インプットレン
ズ、フライアイレンズ、リレーレンズ、メインコンデン
サレンズ（いずれも図示せず）等によって構成されてい
る。

【００１５】照明系１２は、光源からの露光用の照明光
によってレチクル１１のパターン形成面のパターン１４
を均一な強度分布で照明する。ここで、露光用照明光
は、単色光（又は準単色光）であり、その波長（露光波
長）は例えば水銀輝線（ｉ線）の３６５ｎｍ、あるいは
ＫｒＦエキシマーレーザの２４８ｎｍ等である。

【００１６】レチクルステージ１３上にはレチクル１４
が真空吸着等によって固定されており、このレチクルス
テージ１３は、レチクルステージ駆動系２０によってＸ
方向（図１における紙面左右方向）、Ｙ方向（図１にお
ける紙面直交方向）及びθ方向（Ｘ−Ｙ平面内の回転方
向）に移動され、微小制御される。

【００１７】鏡筒１６の投影レンズは、その光紬がレチ
クルステージ１３の移動面に直交するＺ軸方向であり、
パターン１４がウエハ１５に転写されるとき所定の縮小
倍率を与えるものである。アライメント顕微鏡１８を介
してレチクル１１のパターン１４とウェハ１５のショッ
ト領域との位置合わせ（アライメント）が行われた状態
で、照明系１２によりレチクル１１が均一な照度で照明
されると、パターン１４が鏡筒１６の投影レンズにより
所定の縮小倍率で縮小されて、フオトレジストが塗布さ
れたウェハ１５上に投影され、ウエハ１５上の各ショッ
ト領域（例えば各ＬＳＩチップの領域）にパターンの縮
小像が形成される。

【００１８】ウエハ１５はウェハホルダを介してウェハ
ステージ１７上に固定されている。ウェハステージ１７
は、ウエハステージ駆動系３０によってＸ方向、Ｙ方
向、及びθ方向に移動され、微小制御される。なお、こ
のウェハステージ１７上には、その表面がウェハＷの表
面と同じ高さとなるように基準板１９が固定されてい
る。この基準板１９の表面には、ベースライン計測等に
用いられる基準マークを含む各種の基準マークが形成さ
れている。

【００１９】前記アライメント顕微鏡１８は、鏡筒１８
の投影レンズのＹ紬方向の一側面に固定されており、本
実施形態では画像処理方式のものを用いている。このア
ライメント顕微鏡１８は、ハロゲンランプ等のブロード
バンドな照明光を発する光源、対物レンズ、指標板、Ｃ
ＣＤ等の撮像素子、及び信号処理回路、演算回路等（い
ずれも図示省略）を含んで構成されている。このアライ
メント顕微鏡１８の光源から発せられた照明光がアライ
メント顕微鏡１８内部の対物レンズを通過した後ウェハ
１５（又は基準板１９）上に照射される。そして、ウェ
ハ１５表面の不図示のウェハマーク領域からの反射光が
アライメント顕微鏡１８に戻り、対物レンズ、指標板を
順次透過してＣＣＤ等の撮像面上にウェハマークの像、
及び指標板上の指標の像が結像される。これらの像の光
電変換信号が信号処理回路により処理され、演算回路に
よってウェハマークと指標との相対位置が算出される。

【００２０】次に、レーザ干渉計システム２１および３
１について説明する。

【００２１】レーザ干渉計システム２１は、レチクルス
テージ１３に固定された移動鏡２２と、鏡筒１６の側面
上方に固定されたアクチュエーター等による移動機構２
３を介して鏡筒１６に支持された固定鏡２５と、レーザ
干渉計２６とによって構成される。レーザ干渉計２６は
移動鏡２２および固定鏡２５にそれぞれレーザビームを
投射し、それぞれの反射光を受光することによってレチ
クルステージ１３の位置及び回転を移動鏡２２と固定鏡
２５との相対的な位置関係として計測する。

【００２２】移動機構２３には、移動機構２３の取付け
位置における鏡筒１６の振動（あるいは変位）を検出す
るセンサー（加速度計、変位計等による）２４が設けら
れている。移動機構２３は、センサー２４の測定結果に
基づいて固定鏡２５の位置あるいはその移動を制御し、
鏡筒１６の振動によらず固定鏡２５がほぼ一定位置を保
つようにする。つまり、移動機構２５は、鏡筒１６が振
動した場合、固定鏡２５を鏡筒１６の振動による位置ず
れを相殺するように移動させる。これにより、たとえ鏡
筒１６が振動したとしてもその振動はキャンセルされ、
その振動によって固定鏡２５の位置が変化することがな
く、外部から見た場合固定鏡２５がとまって見えるよう
に維持される。したがって、レチクルステージ１６の位
置制御が鏡筒１６の振動の影響を受けることはなく、ま
たレチクルステージ１６は一度位置決めされたあとは、
鏡筒１６の振動によらず一定位置を保つことができる。

【００２３】一方、レーザ干渉計システム３１は、ウエ
ハステージ１７に固定された移動鏡３２と、鏡筒１６の
側面下方に固定されたアクチュエーター等による移動機
構３３を介して鏡筒１６に支持された固定鏡３５と、レ
ーザ干渉計３６とによって構成される。レーザ干渉計３
６は移動鏡３２および固定鏡３５にそれぞれレーザビー
ムを投射し、それぞれの反射光を受光することによって
ウエハステージ１７の位置及び回転を移動鏡３２と固定
鏡３５との相対的な位置関係として計測する。

【００２４】移動機構３３には、移動機構３３の取付け
位置における鏡筒１６の振動（あるいは変位）を検出す
るセンサー（加速度計、変位計等による）３４が設けら
れている。移動機構３３は、センサー３４の測定結果に
基づいて固定鏡３５の位置あるいはその移動を制御し、
鏡筒１６の振動によらず固定鏡３５がほぼ一定位置を保
つようにする。つまり、移動機構３３は、鏡筒１６が振
動した場合、固定鏡３５を鏡筒１６の振動による位相ず
れを相殺するように移動させる。これにより、たとえ鏡
筒１６が振動したとしてもその振動の影響はキャンセル
され、その振動によって固定鏡３５の位置が変化するこ
とがなく、外部から見た場合固定鏡３５がとまって見え
るように維持される。したがって、ウエハステージ１７
の位置制御が鏡筒１６の振動の影響を受けることはな
く、またウエハステージ１７は一度位置決めされたあと
は、鏡筒１６の振動によらず一定位置を保つことができ
る。

【００２５】図１には、レチクルステージ１３とウエハ
ステージ１７に対して、それぞれ１つのＸ方向の移動制
御のためのレーザ干渉計システム（２１および３１）を
示しているが、本実施形態の露光装置は、実際には、レ
チクルステージ１３とウエハステージ１７それぞれに対
して、Ｙ方向の移動制御のためのレーザ干渉計システム
（第２レーザ干渉計システムと呼ぶ）ともう１つ別のＸ
方向の移動制御のためのレーザ干渉計システム（第３レ
ーザ干渉計システムと呼ぶ）を備えている。第３のレー
ザ干渉計システムは、図示したレーザ干渉計システムと
組み合せて各ステージのＸ−Ｙ平面内での回転量を計測
・制御するために用いられる。

【００２６】第２レーザ干渉計システムも第３レーザ干
渉計システムも、その取付け位置や方向が異なるだけ
で、図１に示したレーザ干渉計システム（２１および３
１）と同様にそれぞれ、固定鏡、移動鏡、およびレーザ
干渉計を備えるものであり、固定鏡の移動機構、鏡筒１
６の振動を検出するセンサーも、それぞれ同様に設けら
れているが、図示することはしていない。ただし、図１
のレーザ干渉計システム（２１および３１）と第２レー
ザ干渉計システムと第３レーザ干渉計システムのうちの
１つあるいは２つについて、移動機構やセンサーを用い
ずに固定鏡を直接鏡筒１６に取付けてもよく、そのよう
な構成も本願発明の範囲に含まれるものとする。また、
センサーの取付け位置も、図１に示したように移動機構
の固定鏡側の面上に限られることはなく、鏡筒１６の固
定鏡付近の振動を感知できる場所であればどこに取付け
てもよい。

【００２７】図２は、本実施形態の露光装置１０の外観
を示す斜視図である本実施形態の露光装置１０は、設置
面である床上に長方形板状のベースフレーム（フレーム
キャスタ）５０を介して設置される。ベースフレーム５
０上にはマウント部５１Ａ〜５１Ｄ（ただし、図２にお
いては紙面奥側にくるマウント部５１Ｄは示されない）
が設置され、これらのマウント部５１Ａ〜５１Ｄの上に
除振台としての機能を持つメインフレーム５２が支持さ
れている。このメインフレーム５２は、上板５３と上版
の下方に４本の柱状部材５４を介して一体的に固定され
たウエハステージベースプレート５５とによって構成さ
れている。

【００２８】マウント部５１Ａ〜５１Ｄは、それぞれウ
エハステージベースプレート５５の４隅付近に配置され
ており、それぞれアクチュエータと防振パッドにより構
成されている。この防振パッドとしては、ダンピング液
の中に圧縮コイルばねを入れた機械式ダンパが用いられ
るが、空気式ダンパを用いることも可能である。

【００２９】ウエハステージベースプレート５５上に
は、図１にて示した（図２には示していない）ウエハス
テージ駆動系３０によって駆動されるウエハステージ１
７が載置されている。ウエハステージ１７の上には、ウ
エハホルダを介してウエハ１５が吸着保持されている。
また、ウエハステージベースプレート５５の上方でこれ
に一体化されたメインフレーム５２の中央部にはインバ
５６固定されており、インバ５６の内部には図１に示し
た鏡筒１６等が設置されている。インバ５６の上部に
は、レチクル１１を保持するレチクルステージ１３が載
置されており、レチクルステージ１３はレチクルステー
ジ駆動系２０によって駆動される。

【００３０】メインフレーム５２の上部には、インバ５
６およびレチクルステージ１３を囲むようにサポートフ
レーム５７が設置されており、このサポートフレーム５
７によって図１の照明系１２が支持されている。

【００３１】レチクルステージ１３とウエハステージ１
７の位置は、それぞれに対応するレーザ干渉計２６およ
びレーザ干渉計３６（図２には示していない）によって
計測されるが、レチクルステージ１３のためのレーザ干
渉計２６はサポートフレーム５７に取り付けられてお
り、またウエハステージ１７のためのレーザ干渉計３６
はメインフレーム５２に取付けられている。

【００３２】次に、上述のように構成された露光装置１
０の露光時の動作について説明する。まず、図示しない
レチクル顕微鏡を用いて、レチクルステージ１３の鏡筒
１６に対する位置合わせ（レチクルアライメント）が行
われる。このとき、レーザ干渉計システム２１によって
鏡筒１６とレチクルステージ１３との相対位置が計測さ
れ、その計測結果に基づいて制御装置４０がレチクルス
テージ駆動系２０によってレチクルステージ１３を正し
い位置に位置決めする。

【００３３】次に、重ね合わせ露光に先立って、ウェハ
１５上の位置検出マークを検出するアライメント顕微鏡
１８の位置（検出中心）と投影レンズの中心（通常は、
レチクルのパターンの中心であるレチクルセンタに一
致）との位置関係を計測するベースライン計測が次のよ
うに行われる。

【００３４】まず、ウェハステージ１７上に設けられた
基準板１９を、鏡筒１６内の投影レンズを介したレチク
ルアライメントマーク（図示省略）の投影像位置へ移動
する。この移動は、制御装置４０によりウエハステージ
駆動系３０を介して行われる。基準板１９の表面はウェ
ハ１５の表面とほぼ同じ高さ（光紬方向）となってお
り、その表面には基準マーク（不図示）が形成されてい
る。このとき、例えば、不図示のレチクル顕微鏡により
投影レンズを介してレチクルアライメントマークと基準
マークの相対位置が検出される。

【００３５】このときのウェハステージ１７の位置は、
ウェハステージ１７上に設けられた移動鏡３２を介して
レーザ干渉計３６により計測され、この計測結果は制御
装置４０に送られる。制御装置４０はレーザ干渉計３６
の計測結果とレチクル顕微鏡から出力される相対位置と
の和を、レチクル１１の位置としてＲＡＭに記憶する。

【００３６】次に、制御装置４０はウエハステージ駆動
系３０を介してウェハステージ１７を駆動し、基準板１
９をアライメント顕微鏡１８の検出基準位置近傍に移動
させる。そして、アライメント顕微鏡１８に内蔵された
指標坂上の指標の中心（検出中心）と基準板１９上の基
準マークとの相対位置関係を検出する。この相対位置関
係の検出値と、このときのレーザ干渉計３６の出力値
（ウェハステージ１５の位置）は、制御装置４０に送ら
れ、制御装置４０はその和をアライメント顕微鏡１８の
位置とし、さらに、レチクル１１の位置とアライメント
顕微鏡との差を「ベースライン計測値」としてＲＡＭに
記憶する。本実施形態によれば、このベースライン計測
において、鏡筒１６およびそれに取付けられたアライメ
ント顕微鏡１８に振動が発生したとしても、固定鏡３５
はその影響を受けないので、ベースライン計測における
ウエハステージ駆動系３０および制御装置４０の負担が
減少し、正確なベースライン計測が短時間で可能とな
る。

【００３７】本実施形態の露光装置１０では、以上のベ
ースライン計測シーケンスの後に、ウェハ１５への重ね
合わせ露光を開始する。すなわち、ウェハ１５上の不図
示のウェハアライメントマークの位置を、アライメント
顕微鏡１８により検出する。そして、制御装置４０はこ
のときのウェハアライメントマークと前述のアライメン
ト顕微鏡１８内の指標マーク中心との相対位置関係と、
ウェハステージ１７の位置（レーザ干渉計３６の出力
値）との和を、マーク位置として認識する。

【００３８】続いて、制御装置４０ではこのマーク位置
からベースライン量とウェハアライメントマークの設計
座標の和だけウェハステージ１７を、レーザ干渉計３６
の計測値に基づいて移動する。

【００３９】これにより、レチクル１１上のパターンの
投影像がウェハ１５上に正確に位置合わせされるので、
この状態で露光を行いウェハ１５にレチクル１１上のパ
ターンを投影転写する。このようにして、ウェハ１５上
の各ショット領域を順次レチクルパターンの像の投影位
置に移動させながら、露光（投影転写）を繰り返しおこ
なうことにより、ステップ・アンド・リピート方式の露
光が達成される。本実施形態によれば、この露光時にお
いて、たとえ鏡筒１６に振動があったとしても、その振
動がレチクルステージ１３とウエハステージ１７の位置
制御に影響を及ぼすことがないので、ウエハ１５に転写
されるパターン像がぼやけることがなくなり、きわめて
高解像度のパターン像が得られる。

【００４０】なお、照明系、投影光学系を露光装置本体
に組み込み光学調整をするとともに、多数の機械部品か
らなるレチクルステージやウエハステージを露光装置本
体に取付けて配線や配管を接続し、更に総合調整（電気
調整、動作確認等）をすることにより本実施例の露光装
置を製造することができる。

【００４１】また、上記ステップ・アンド・リピート方
式の露光動作は、ウェハ１５上の各ショット領域内のア
ライメントマークを逐次検出してそのショットに重ね合
わせ露光を行ういわゆるタイ・パイ・ダイ方式で行って
もよく、露光に先立って複数のショット内の各アライメ
ントマークを繰出し、それらの検出値を統計処理して露
光ショットの配列を決め、その配列に基づいて全ショッ
トの露光を行ういわゆるＥＧＡ（エンハンスト・グロー
バル・アライメント）方式で行っても良い。

【００４２】また、本実施形態では、レチクルとウエハ
とがほぼ静止した状態で露光を行なう制止型の露光装置
を用いて説明したが、レチクルとウエハとを同期移動し
ながら露光を行なう走査型の露光装置に、本発明を適用
できることは言うまでもない。特に走査型の露光装置で
は、走査露光のためにレチクルステージ及びウエハステ
ージを同期移動しているときに振動が大きくなるので、
この走査露光のための同期移動中に固定鏡を移動して、
ほぼ一定位置に保持するようにすると大きな効果が得ら
れる。

【００４３】さらに、本実施形態では、本発明を縮小投
影露光装置に適用した場合について説明したが、本発明
の適用範囲はこれに限定されるものではなく、拡大投影
露光装置、Ｘ線プロキシミティー露光装置、あるいは電
子線露光装置など、別のタイプの露光装置に対して適用
した場合も本発明の範囲内とする。

【００４４】

【発明の効果】本発明によれば、たとえレチクルステー
ジやウエハステージの位置制御の基準となる固定鏡を取
付けた鏡筒などの固定部材が振動したとしても、固定鏡
の位置はその振動の影響を全く受けないか、あるいはそ
の振動の固定鏡の位置への影響を極めて小さく抑えるこ
とができる。したがって、固定鏡は固定部材の振動に対
してはその位置が常にほぼ一定に保たれるので、チクル
ステージやウエハステージの位置制御への固定部材の振
動の影響を極めて減少させることができる。その結果、
両ステージの位置制御に対する負担が軽減され、迅速で
正確な位置制御が可能となる。また、ウエハ露光中にお
いても、固定部材の振動によって各ステージが動くこと
がないので、レチクルからウエハに転写されるパターン
像がぼやけることがなく、極めて解像度の高いパターン
像を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による投影露光装置の実施形態の概略図
である。

【図２】実施形態の露光装置のより外観を示す斜視図で
ある

【符号の説明】

１０ 露光装置 １１ レチクル１１ １２ 照明系 １３ レチクルステージ １４ パターン １５ ウエハ １６ 鏡筒 １７ ウエハステージ １８ アライメント顕微鏡 １９ 基準板 ２０ レチクルステージ駆動系 ２１、３１ レーザ干渉計システム ２２、３２ 移動鏡 ２３、３３ 移動機構 ２４、３４ センサー ２５、３５ 固定鏡 ２６、３６ レーザ干渉計 ３０ ウエハステージ駆動系 ４０ 制御装置 ５０ ベースフレーム ５１Ａ〜５１Ｄ マウント部 ５２ メインフレーム ５３ 上板 ５４ 柱状部材 ５５ ウエハステージベースプレート ５６ インバ ５７ サポートフレーム

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｄ ５１６Ｂ

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 物体を載置して移動するステージに設け
   られた移動鏡と所定の固定部材に取付けられた基準鏡と
   を有する干渉計システムを使って前記ステージの位置を
   計測しながら前記ステージの移動を制御するステージ制
   御方法であって、 前記基準鏡の振動に関する情報を検出し、 該検出結果に基づいて前記固定部材に対して前記基準鏡
   を移動することを特徴とするステージ制御方法。
2. 【請求項２】 マスクのパターンの像を投影光学系を介
   して基板上に投影することによって前記基板を露光する
   露光装置であって、 前記マスクまたは前記基板を保持して移動が可能なステ
   ージと、 前記ステージに設けられた移動鏡及び所定の固定部材に
   取付けられた基準鏡を有し前記ステージの位置を計測す
   る干渉計システムと、 前記固定部材の変位に対して前記基準鏡をほぼ一定位置
   に保持する保持機構と、を備えることを特徴とする露光
   装置。
3. 【請求項３】 前記保持機構は、前記固定部材に対して
   前記基準鏡を移動する移動機構を有することを特徴とす
   る請求項２に記載の露光装置。
4. 【請求項４】 前記移動機構は、前記固定部材の振動に
   応じて前記基準鏡を移動することを特徴とする請求項３
   に記載の露光装置。
5. 【請求項５】 前記保持機構は、前記固定部材の振動情
   報を検出するセンサを有し、前記移動機構は、該センサ
   の検出結果に基づいて前記基準鏡を移動することを特徴
   とする請求項３に記載の露光装置。
6. 【請求項６】 前記センサは、前記振動情報として前記
   固定部材の変位と加速度の少なくとも一方を検出するこ
   とを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
7. 【請求項７】 前記固定部材は、前記投影光学系を支持
   する鏡筒であることを特徴とする請求項１乃至６のいず
   れか一項に記載の露光装置。
8. 【請求項８】 前記マスクと前記基板とを同期移動する
   ことによって前記基板を走査露光することを特徴とする
   請求項１乃至７のいずれか一項に記載の露光装置。
9. 【請求項９】 マスクのパターンを基板上に転写する露
   光装置であって、 前記マスクまたは前記基板を保持して移動が可能なステ
   ージと、 所定の固定部材に取付けられた基準部材の位置を基準と
   して前記ステージの位置を制御する制御システムと、 前記固定部材の変位に対して前記基準部材をほぼ一定位
   置に保持する保持機構と、を備えることを特徴とする露
   光装置。