DE4443740A1 - Vorrichtung zum Beschichten von Substraten - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von Substraten mit einer evakuierbaren Vakuumkammer mit kühlba­ ren Außenwandungen, wenigstens einem innerhalb der Vakuum­ kammer angeordneten, rotier- und insbesondere auswechselbar gelagerten Substratträger und zumindest einer zum Substrat­ träger gerichteten Verdampferquelle.

Beschichtungsvorrichtungen dieser Art sind bekannt und wer­ den beispielsweise dazu verwendet, Schichten auf Werkzeuge auf zubringen, die deren Eigenschaften und Lebensdauer wesent­ lich verbessern.

Mit diesen bekannten Vorrichtungen bereitet es jedoch Schwie­ rigkeiten, eine eindeutig reproduzierbare Abscheidung von Schichten hoher und höchster Qualität zu gewährleisten. Die Ursachen für diese unbefriedigenden Ergebnisse sind viel­ schichtig und konnten bisher nicht beseitigt werden. Nach­ teilig bei den bekannten, insbesondere bei den nach der Arc- Technologie arbeitenden Vorrichtungen ist ferner, daß auf­ grund unvermeidbarer Anlagen-Reinigungsvorgänge nicht nur störend hohe Reinigungskosten, sondern auch teure Maschinen­ stillstandzeiten und damit Produktivitätsverluste in Kauf genommen werden müssen.

Aus der DE 38 29 260 A1 ist eine Beschichtungskammer mit min­ destens einer durch einen Lichtbogen verzehrbaren Kathode und Einrichtungen zur Aufnahme von Gegenständen bekannt, die durch Niederschlag des mit einer Gasatmosphäre in der Kammer reagierten, in den Plasmazustand überführten Kathodenmate­ rials beschichtet werden. Dabei ist in einem Zwischenraum zwischen der Kathode und den Gegenständen ein Schirm angeord­ net, der aus dem Zwischenraum entfernbar ist. Dadurch wird es möglich, sich während der Aufheizphase der indirekten Be­ heizung der Substrate zu bedienen und diese gleichzeitig vor dem Niederschlag von Tröpfchen des Kathodenmaterials zu schützen, während der Reaktionsphase jedoch den direkten Weg von den Kathoden zu den Substraten freizugeben.

Aus der WO 92/14859 ist eine Vorrichtung zur Reduzierung von Droplets bei der Beschichtung von Oberflächen mit Hartstof­ fen nach dem PVD-Verfahren bekannt, die eine doppelwandige, wassergekühlte Kammer aufweist, in der eine durch Heizschlan­ gen realisierte Strahlungsheizung im Bereich der Innenwand der Kammer vorgesehen ist. Um eine Aufheizung der Innenwand der Reaktionskammer zu vermeiden, sind zwischen den Heizele­ menten und der Innenwand Reflektoren vorgesehen. Die Strah­ lungsheizung dient dabei ausschließlich zur Erwärmung der zu beschichtenden Gegenstände bzw. der Oberfläche der zu be­ schichtenden Gegenstände vor Beginn der Beschichtung.

Aus der EP 0 489 659 A1 ist eine Beschichtungsvorrichtung bekannt, bei der innerhalb einer geschlossenen Außenkammer eine Innenkammer mit vergleichsweise großer Wandungsstärke vorgesehen ist, die aus einem thermisch isolierenden Mate­ rial besteht. Mit Abstand zu den Wandungen dieser Innenkam­ mer sind Heizwiderstände angeordnet, die es gestatten, die zu beschichtenden Teile auf Temperaturen zwischen 400°C und 1300°C aufzuheizen.

Aufgabe der Erfindung ist es, eine Vorrichtung der eingangs angegebenen Art zu schaffen, die es bei vergleichsweise ein­ fachem Aufbau ermöglicht, qualitativ hochwertige, möglichst kompakte und spannungsarme Beschichtungen bei hoher Produkti­ vität zu erreichen. Ferner sollen aufwendige Reinigungsar­ beiten im Anlagen inneren vermieden und die geforderte Repro­ duzierbarkeit der Beschichtungen gewährleistet werden kön­ nen.

Gelöst wird diese Aufgabe nach der Erfindung im wesentlichen dadurch, daß in der Vakuumkammer mit Abstand von deren kühl­ baren Außenwandungen und unter Ausbildung eines isolieren­ den, plasmafreien Zwischenraums eine zumindest im wesentli­ chen in sich geschlossene Innenkammer vorgesehen ist, die von Heiz- und Wandungssektoren und zumindest einer integrier­ ten Verdampferquelle begrenzt ist und einen den Substratträ­ ger aufnehmenden isothermen Beschichtungsraum bildet.

Durch die Schaffung einer von den gekühlten Außenwandungen der Vakuumkammer durch einen isolierenden, plasmafreien Zwi­ schenraum getrennten Innenkammer wird es möglich, die Be­ schichtungsvorgänge in einem isothermen Beschichtungs- bzw. Plasmaraum durchzuführen, das heißt in einem Raum, in dem sämtliche Teile, das heißt auch größere und kleinere zu be­ schichtende Gegenstände ebenso wie die diesen Raum begren­ zenden Wandungen praktisch auf gleicher Temperatur sind und somit in diesem die gleichmäßige Plasmaverteilung fördernden isothermen Raum kein störender Temperaturgradient vorliegt. Ein ausgeprägter Temperaturgradient tritt erst in dem plasma­ freien Zwischenraum zwischen Innenkammer und den Außenwandun­ gen der Vakuumkammer auf.

Das Vorhandensein eines isothermen Plasmaraums wirkt sich auf die Beschichtungsqualität sowie auf die Stabilität des darin durchgeführten Beschichtungsprozesses sehr positiv aus.

Von wesentlicher Bedeutung ist ferner, daß an den gekühlten Außenwandungen der Vakuumkammer keinerlei Abscheideeffekte auftreten und damit auch die bei herkömmlichen Anlagen auf­ wendigen Reinigungsvorgänge im Anlageninnenraum entfallen. Die sich in der Innenkammer in Form von Hartstoff-Festparti­ keln bildenden beschichteten Stellen platzen von Zeit zu Zeit ab und können dann problemlos zum Beispiel mittels eines Staubsaugers abgesaugt werden. Dieser erfindungsgemäß erreichte Selbstreinigungseffekt führt zu einer wesentlichen Produktivitätssteigerung, da teure Maschinenstillstandszei­ ten vermieden werdend können.

Die der optisch praktisch dicht ausgebildeten Innenkammer zugeordneten bzw. Wandungen dieser Innenkammer bildenden Heizsektoren sind so dimensioniert, daß die Aufheizung der Substrate auf die Solltemperatur nahezu ausschließlich durch die erzeugte Strahlungswärme erreicht wird, wobei der Innen­ raum der Kammer sehr schnell auf hohe Temperatur gebracht werden kann, da die Wandungen nur geringe Wärmekapazität besitzen und vor allem nicht in Kontakt mit den gekühlten Außenwandungen stehen, sondern von diesen Außenwandungen durch den aufgrund der Evakuierung sehr ausgeprägt isolieren­ den Zwischenraum getrennt sind.

Die Wandungen der Innenkammer können gemäß einer Ausgestal­ tung der Erfindung an einer Bias-Spannung liegen, um gezielt einen Ionen-Platiereffekt zu erreichen und auf diese Weise sicherzustellen, daß unter Vermeidung jeglicher Staubbildung auf den Innenkammerwänden eine feste Abscheidung erhalten wird, die nach einer gewissen maximalen Schichtdicke automa­ tisch abplatzt und damit problemfrei entfernt werden kann.

Als Substratträger wird vorzugsweise ein schnell auswechsel­ barer, in der Innenkammer gelagerter Drehteller mit einer Mehrzahl von darauf ebenfalls drehbar gelagerten und ange­ triebenen Satellitentellern für Werkstückhalterungen verwen­ det, so daß sich eine Dreifachdrehung der Werkstücke erzie­ len läßt.

Der Innenkammer sind bevorzugt mehrere, sich über die Kammer­ höhe erstreckende, vertikal angeordnete Verdampferquellen zugeordnet, die über den Umfang des Drehtellers verteilt sind. Durch das Zusammenspiel der Strahlungsbereiche dieser Verdampferquellen und die Ausgestaltung der Substratträger­ anordnung kann die Forderung erfüllt werden, daß jedes sich in der Innenkammer befindende, mehrfach rotierende Substrat an jedem Punkt seiner zu beschichtenden Oberfläche zumindest im wesentlichen zu jedem Zeitpunkt Sichtkontakt zu minde­ stens einer der Verdampferquellen besitzt.

Durch diese Maßnahme wird erreicht, daß sich insbesondere im Zentralbereich des Substratträgers keine unerwünschten Plas­ ma-CVD-Reaktionen oder Plasma-CVD-ähnliche Reaktionen oder andere Plasma-Inhomogenitäten oder Plasma-Störungen einstel­ len können und auch kein störender Hohlkathodeneffekt auftre­ ten kann. Es wird vielmehr eine ausgezeichnete Plasmahomo­ genität im gesamten Innenkammerraum gewährleistet.

Besonders günstig ist es, eine Substratträgeranordnung aus einem Drehteller und drei darauf drehbar gelagerten Satelli­ tentellern zu verwenden, da mit einer derartigen Konfigura­ tion ein Optimum hinsichtlich der Beladungsmöglichkeiten einerseits und der Beschichtungsgleichmäßigkeit andererseits erreichbar ist, da bei dieser Konfiguration im Innenbereich des Substratträgers kein feldfreier Raum vorliegt, in dem sich undefinierte Plasmabedingungen einstellen könnten.

Für die praktische Ausgestaltung der Vorrichtung nach der Erfindung ist es günstig, wenn die Verdampferquellen in den stabilen Außenwandungen der Vakuumkammern gehaltert sind und sich durch den eine Isolierhülle bildenden Zwischenraum in die Innenkammer erstrecken bzw. mit ihren Targetflächen Be­ grenzungsflächen der Innenkammer bilden. Auf diese Weise läßt sich auch ein einfaches Öffnen der Vorrichtung zu Be­ schickungszwecken erzielen, da ein großflächiges Aufschwen­ ken eines Außenwandungsbereichs zusammen mit einem zugeordne­ ten Bereich der Wandung der Innenkammer erfolgen kann.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Merkmale der Erfin­ dung sind in Unteransprüchen angegeben und werden im Zusam­ menhang mit der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungs­ beispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnung erläutert.

In der Zeichnung zeigt

Fig. 1 eine schematische Querschnittdarstellung zur Erläuterung des Grundkonzepts des Aufbaus einer Vorrichtung nach der Erfindung,

Fig. 2 eine schematische Darstellung einer mögli­ chen Ausführungsform einer Vorrichtung nach der Erfindung mit einem drei Satellitentel­ ler aufweisenden Drehwagen, und

Fig. 3 eine der Fig. 2 entsprechende Darstellung mit einem Drehwagen mit sechs Satelliten­ tellern.

Fig. 1 zeigt in schematischer Weise den grundsätzlichen Auf­ bau einer erfindungsgemäßen Beschichtungsvorrichtung, die aus einer Vakuumkammer 1 und einer bezüglich der gekühlten Außenwandungen 2, 3 der Vakuumkammer 1 beabstandeten Innen­ kammer 5 zur Aufnahme eines oder mehrerer Substratträger be­ steht, wobei in Fig. 1 als Substratträger ein Drehteller 9 schematisch dargestellt ist.

Die Wände 2 der Vakuumkammer 1 sind zum Teil von Front- und Seitentüren 3 gebildet, und die Vakuumkammer 1 ist über ei­ nen Anschluß 13 mit einer entsprechenden Vakuumquelle ver­ bindbar, so daß im Innenraum der Vakuumkammer 1 und damit auch im eigentlichen Beschichtungsraum 12 in der Innenkam­ mer 5 das jeweils erforderliche Vakuum erzeugt werden kann.

Die Innenkammer 5, die bezüglich der Vakuumkammer 1 zumin­ dest im wesentlichen optisch dicht ausgeführt ist, wird be­ grenzt von Verdampferquellen 6, Heizsektoren 7 und Wandungs­ sektoren 8, wobei die Anordnung so getroffen sein kann, daß ein mehreckiger oder im wesentlichen zylindrischer Beschich­ tungsraum 12 entsteht.

Die Heizsektoren 7 sind als leistungsstarke Strahlungswärme­ quellen ausgebildet, und die Zahl der jeweils verwendeten Heizsektoren 7 sowie der zum Einsatz kommenden Strahlungs­ quellen 6 kann je nach dem vorgesehenen Einsatzzweck der Vorrichtung gewählt werden.

Im Ausführungsbeispiel nach Fig. 1 sind zwei Paare von sich in einer Rechteckanordnung gegenüberliegenden Heizsektoren 7 vorgesehen, und in den Eckbereichen sind Verdampferquellen 6 angeordnet, die sich ebenfalls paarweise gegenüberliegen und sich über die Höhe der Innenkammer 5 erstrecken.

Der zentrisch in der Innenkammer 5 angeordnete Substratträ­ ger 9 besteht aus einem im einzelnen noch zu erläuternden Drehwagen, der schnell auswechselbar gelagert ist, wozu die Vorrichtung vorzugsweise entsprechend aufschwenkbar ausgebil­ det ist.

Die Beladung des Substratträgers 9 erfolgt jeweils außerhalb der Vorrichtung, das heißt es kann jeweils ein Substratträ­ ger mit beschichteten Werkzeugen gegen einen Substratträger mit unbeschichteten Werkzeugen in Minutenschnelle ausge­ tauscht werden, so daß bei dadurch gewährleisteter Erhöhung der Wirtschaftlichkeit der Anlage dennoch zur Beladung der Werkzeuge außerhalb der Vorrichtung genügend Zeit zur Verfü­ gung steht.

Durch die Schaffung einer von den gekühlten Außenwandun­ gen 2, 3 der Vakuumkammer 1 beabstandeten und durch einen isolierenden, plasmafreien Zwischenraum von dieser Außenkam­ mer 1 getrennten Innenkammer 5 gelingt es in Verbindung mit den der Innenkammer 5 zugeordneten Heizsegmenten 7, einen Raum 12 zu schaffen, auf den das Plasma beschränkt ist und der einen isothermen Beschichtungsraum bildet, der sehr schnell aufgeheizt und dabei desorbiert werden kann, wobei außerdem der Vorteil vorhanden ist, daß die Temperaturkontrolle in diesem isothermen Raum 12 vergleichsweise einfach und sicher gewährleistet werden kann. Eine starke Strahlungsheizung und deren sichere Kontrolle ist für den Betrieb der erfin­ dungsgemäßen Vorrichtung von wesentlicher Bedeutung.

Die Innenkammerwandungen können an eine Bias-Spannung ange­ legt sein, die sicherstellt, daß sich an den Kammerwandungen kompakte Hartstoffschichten abscheiden, deren problemfreie Entfernung beispielsweise gezielt dadurch erfolgen kann, daß die Vorrichtung über einige Stunden der Atmosphäre ausge­ setzt wird, wobei Wasserdampf und andere Luftgase in die Schichten eindringen und sie zum Abplatzen bringen und damit eine Art von Selbstreinigungseffekt erzielt wird.

Praktisch führt dieser Sachverhalt dazu, daß eine große An­ zahl von Chargen ohne jegliche Zwischenreinigung beschichtet werden kann und damit bei herkömmlichen Anlagen unvermeidba­ re Reinigungskosten und teure Maschinenstillstandszeiten ent­ fallen.

Als Verdampferquellen 6 werden bevorzugt solche Quellen ver­ wendet, wie sie in der deutschen Patentanmeldung P 43 29 155.4 beschrieben sind.

Solche Magnetfeld-Kathoden besitzen ein flächig ausgebilde­ tes Target mit einer dem Targetzentrum zugeordneten, innen­ liegenden Ringspule und zumindest einer dem Targetumfangs­ bereich zugeordneten außenliegenden Ringspule, wobei die innenliegende Ringspule einen im Targetzentrum angeordneten Permanentmagneten umschließt und zusammen mit diesem Perma­ nentmagneten einen Feldlinienkonzentrator bildet. Eine der­ artige Magnetfeld-Kathode läßt sich problemfrei in Form eines Rechtecks ausbilden, das sich über die Höhe der Be­ schichtungskammer 12 erstreckt und eine zur Höhe vergleichs­ weise geringe Breite besitzt.

Es ist auch möglich, derartige Verdampferquellen 6 im Be­ schichtungsraum 12 horizontal und insbesondere auch decken­ seitig anzuordnen, wenn dies für bestimmte Beschichtungs­ aufgaben zu Vorteilen führt.

Der Abstand der Verdampferquellen 6 zu den auf dem Substrat­ träger 9 gehalterten Substraten sollte vorzugsweise minde­ stens etwa 150 mm betragen, um sicherzustellen, daß lokale elektrische Felder nahe an den Werkzeugen die Bahn der Ionen praktisch nicht mehr verändern. Dadurch kann erreicht wer­ den, daß die Ionenflußdichte auf allen Flächen des Substrats gleichmäßig ist und lokale thermische Überbelastungen, wie sie vor allem an Spitzen auftreten könnten, und andere Ober­ flächenmodifikationen verhindert werden.

Fig. 2 zeigt eine schematische Darstellung einer möglichen konkreten Ausführungsform der Vorrichtung nach der Erfin­ dung, wobei in diesem Ausführungsbeispiel die Vakuumkammer 1 einen oktoederförmigen Querschnitt besitzt und die den iso­ thermen Beschichtungsraum 12 umschließende Innenkammer 5 formmäßig entsprechend angepaßt ist.

Die Verdampferquellen 6 sind dabei in den Außenwandungen 2 gehaltert und damit in vorteilhafter Weise von außen her zu­ gänglich. Sie erstrecken sich über den isolierenden Zwi­ schenraum 4 bis in die Innenkammer 5 und bilden mit ihren Targetflächen gleichzeitig Begrenzungsflächen dieser Innen­ kammer 5. Es sind in diesem Ausführungsbeispiel zwei Paare von Verdampferquellen 6 vorgesehen, wobei sich die einzelnen Verdampferquellen 6 eines Paares diametral gegenüberliegen. Zwischen jeweils zwei Verdampferquellen 6 erstreckt sich je­ weils ein Heizsektor 7, dessen Größe in Abhängigkeit von den in der Praxis gegebenen Forderungen gewählt werden kann und der entweder im wesentlichen die gesamte Fläche der jeweili­ gen Verbindungswand zwischen zwei Verdampferquellen 6 einneh­ men oder einen Teil dieser Verbindungsfläche bilden kann.

Im Beschichtungsraum 12 ist ein Substratträger in Form eines Drehtellers 9 und drei darauf drehbar angeordneten Satelli­ tentellern 10 vorgesehen, wobei diese Satellitenteller 10 um 120° gegeneinander versetzt angebracht sind und die eigentli­ chen Werkstückträger bilden. Diese Substratträgeranordnung ist so ausgebildet, daß sie in allen Richtungen für das Plas­ ma bestmöglich durchlässig ist, um Abschirmeffekte auszu­ schalten. Die Verwendung von drei Satellitentellern in der gezeigten Weise ist besonders vorteilhaft, da bei dieser An­ ordnung im Mittelbereich kein feldfreier Raum entsteht, in dem sich undefinierte Plasmabedingungen und gegebenenfalls störende Hohlkathodeneffekte ausbilden könnten. Die Dreh­ tellermitte ist demgemäß offen, wodurch sichergestellt ist, daß zum einen bereits während der Aufheizung des Beschich­ tungsraums 12 durch Heizflächen 7 und zum anderen vor allem während der nachfolgenden Ätz- und Beschichtungsvorgänge jedes auf den Satellitentellern angeordnete Werkzeug an jedem Punkt seiner Oberfläche möglichst zu jeder Zeit Sicht­ kontakt zu einer der Strahlungs- und insbesondere der Ver­ dampferquellen besitzt, wobei dieses Kriterium insbesondere bei den Beschichtungsvorgängen realisiert sein muß, bei den Aufheizvorgängen aber ebenfalls von Vorteil ist.

Um dieses Kriterium während der Ätz- und Beschichtungsvorgän­ ge gewährleisten zu können, wird die Vorrichtung vorzugswei­ se stets mit einer Mehrzahl von Verdampfern 6 betrieben, die sich im wesentlichen über die Höhe des Beschichtungsraums 12 erstrecken, und es wird auch darauf geachtet, daß eine mög­ lichst schnelle Rotation von Drehteller 9 und Satellitentel­ lern 10 realisiert wird.

Der Antrieb der Substratträgereinheit erfolgt beispielsweise derart, daß sich die Satellitenteller 10 während einer Dre­ hung des Drehtellers 9 etwa drei- bis fünfmal um ihre Achse drehen, wobei die auf den Satellitentellern 10 vorgesehenen Werkzeugträger wiederum bei jeder Drehung des zugehörigen Satellitentellers über einen bestimmten Winkelbereich ge­ dreht werden, so daß sich insgesamt eine Dreifachdrehung der zu beschichtenden Substrate ergibt.

Fig. 3 zeigt eine Modifikation der Vorrichtung nach Fig. 2, wobei der Drehteller 9 mit sechs gleichmäßig über seinen Umfang verteilten Satellitentellern 10 versehen ist. Auch bei dieser Ausführungsform kann durch geeignete Ausge­ staltung und Dimensionierung der Satellitenteller 10, für die in Fig. 3 der maximal mögliche Durchmesser zeichnerisch dargestellt ist, das Kriterium erfüllt werden, daß jedes Werkzeug an jedem Punkt seiner Oberfläche praktisch zu jeder Zeit Sichtkontakt zu mindestens einer der Verdampferquel­ len 6 besitzt. In Abhängigkeit von den jeweiligen Beschich­ tungsaufgaben wird der Durchmesser der Satellitenteller 10 und auch die Anzahl der jeweils verwendeten Satellitenteller gewählt, wobei stets darauf geachtet wird, daß das Sichtkon­ takt-Kriterium erfüllt werden kann.

Bei der in Fig. 3 konkret gezeigten Ausführungsvariante mit sechs Satellitentellern 10, die umfangsmäßig nahezu an­ einandergrenzen, kann ein feldarmer Innenbereich 14 inner­ halb der Satellitenteller 10 entstehen, und in diesem Innen­ bereich 14 wird zum Zwecke der Vermeidung unerwünschter Plasma-CVD-Reaktionen oder Plasma-CVD-ähnlicher Reaktionen oder anderer Plasma-Inhomogenitäten oder Plasma-Störungen vorzugsweise zumindest eine weitere Verdampferquelle vorgese­ hen, die gegebenenfalls allseitig wirksam ist und relativ zu den rotierenden Teilen feststehend gehaltert sein kann.

Bezugszeichenliste

1 Vakuumkammer
2 Außenwandung
3 Türen
4 isolierender Zwischenraum
5 Innenkammer
6 Verdampferquelle
7 Heizsektor
8 Wandungssektor
9 Drehteiler
10 Satellitenteller
11 Strahlungsbereich
12 Isothermer Beschichtungsraum
13 Vakuumanschluß
14 Innenbereich

Claims (13)

1. Vorrichtung zum Beschichten von Substraten mit einer evakuierbaren Vakuumkammer (1) mit kühlbaren Außenwan­ dungen (2, 3), wenigstens einem innerhalb der Vakuum­ kammer (1) angeordneten, rotier- und insbesondere aus­ wechselbar gelagerten Substratträger (9, 10) und zumin­ dest einer zum Substratträger (9, 10) gerichteten Ver­ dampferquelle (6), dadurch gekennzeichnet, daß in der Vakuumkammer (1) mit Abstand von deren kühl­ baren Außenwandungen (2, 3) und unter Ausbildung eines isolierenden, plasmafreien Zwischenraums (4) eine zumin­ dest im wesentlichen in sich geschlossene Innenkam­ mer (5) vorgesehen ist, die von Heiz- und Wandungssekto­ ren (7, 8) und zumindest einer integrierten Verdampfer­ quelle (6) begrenzt ist und einen den Substratträ­ ger (9, 10) aufnehmenden isothermen Beschichtungs­ raum (12) bildet.

2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß in der Innenkammer (5) mehrere sich insbesondere diametral gegenüberliegende und sich zumindest im we­ sentlichen über die Höhe der Innenkammer (5) erstrecken­ de Verdampfer (6) vorgesehen sind.

3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Verdampfer (6) aus Magnetfeldkathoden bestehen, die insbesondere rechteckförmig mit im Vergleich zur Höhe geringer Breite ausgebildet sind.

4. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Verdampfer (6) zumindest zum Teil horizontal in der Innenkammer (5) angeordnet sind.

5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die zwischen den Verdampfern (6) gelegenen Wandungs­ bereiche der Innenkammer (5) zumindest zum Teil als Strahlungsheizflächen (7) ausgebildet sind.

6. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Innenkammer (5) mehreckig ausgebildet ist.

7. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die keine aktiven Funktionsbereiche bildenden Wan­ dungssektoren (8) der Innenkammer (5) eine geringe Wär­ mekapazität besitzen.

8. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Wandungssektoren (8) und die Heizflächen (7) zur Erzielung von Ionen-Platiereffekten an einer vorgeb­ baren Vorspannung liegen.

9. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Verdampferquellen (6) in den Außenwandungen (2) der Vakuumkammer (1) gehaltert sind und sich über den Zwischenraum (4) bis in die Innenkammer (5) erstrecken.

10. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest ein Teilbereich der Außenwandung (2) der Vakuumkammer (1) in Form einer auf schwenkbaren Türe (3) ausgebildet ist und daß mit diesem Türbereich ein ent­ sprechender Teilbereich der Innenkammer (5) aufschwenk­ bar und damit der Beschichtungsraum (12) zugänglich ist.

11. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Substratträger aus einem Drehteller (9) mit ins­ besondere drei darauf angeordneten, ebenfalls drehbar gelagerten Satellitentellern (10) besteht, und daß diese Substratträgeranordnung bezüglich der Verdampfer­ quellen (6) derart dimensioniert und ausgebildet ist, daß der Drehteller (9) von jedem Strahlungsbereich (11) der Verdampferquellen (6) zumindest im wesentlichen über seinen gesamten Durchmesser erfaßt wird.

12. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in der Innenkammer (5) zusätzlich eine zentrale Ver­ dampferquelle vorgesehen ist, die sich in einen freien Mittelbereich des Substratträgers (9, 10) erstreckt.

13. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Verdampferquellen (6) nach dem Prinzip der Arc- Technik bzw. dem Prinzip der Bogenentladung arbeitende Quellen bestehen.