Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

DE2631628A1 - Verwendung von kolloidalen vanadiumpentoxidloesungen zur antistatischen ausruestung hydrophober oberflaechen - Google Patents

Verwendung von kolloidalen vanadiumpentoxidloesungen zur antistatischen ausruestung hydrophober oberflaechen

Info

Publication number
DE2631628A1
DE2631628A1 DE19762631628 DE2631628A DE2631628A1 DE 2631628 A1 DE2631628 A1 DE 2631628A1 DE 19762631628 DE19762631628 DE 19762631628 DE 2631628 A DE2631628 A DE 2631628A DE 2631628 A1 DE2631628 A1 DE 2631628A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
vanadium pentoxide
solutions
temperature
colloidal
antistatic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19762631628
Other languages
English (en)
Other versions
DE2631628C3 (de
DE2631628B2 (de
Inventor
Claude Guestaux
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Publication of DE2631628A1 publication Critical patent/DE2631628A1/de
Publication of DE2631628B2 publication Critical patent/DE2631628B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2631628C3 publication Critical patent/DE2631628C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/16—Anti-static materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65D—CONTAINERS FOR STORAGE OR TRANSPORT OF ARTICLES OR MATERIALS, e.g. BAGS, BARRELS, BOTTLES, BOXES, CANS, CARTONS, CRATES, DRUMS, JARS, TANKS, HOPPERS, FORWARDING CONTAINERS; ACCESSORIES, CLOSURES, OR FITTINGS THEREFOR; PACKAGING ELEMENTS; PACKAGES
    • B65D65/00—Wrappers or flexible covers; Packaging materials of special type or form
    • B65D65/38—Packaging materials of special type or form
    • B65D65/42—Applications of coated or impregnated materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • G03C1/853—Inorganic compounds, e.g. metals
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C3/00—Packages of films for inserting into cameras, e.g. roll-films, film-packs; Wrapping materials for light-sensitive plates, films or papers, e.g. materials characterised by the use of special dyes, printing inks, adhesives
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
    • G03G5/104—Bases for charge-receiving or other layers comprising inorganic material other than metals, e.g. salts, oxides, carbon
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S260/00—Chemistry of carbon compounds
    • Y10S260/15—Antistatic agents not otherwise provided for
    • Y10S260/16—Antistatic agents containing a metal, silicon, boron or phosphorus
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/922—Static electricity metal bleed-off metallic stock

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Description

PATENTANWÄLTE
ng
H. Bartels
2631628 Dipl.-Chem. Dr. Brandes
Dr.-lng.Held
Dipl.-Phys. Wolff
8 München 22,Thierschstraße 8
Tel.(089)293297
Telex 05 23325 (patwo d)
Telegrammadresse:
wolffpatent, manchen
Postscheckkonto Stuttgart 7211
(BLZ 60010070)
Deutsche Bank AG, 14/286 30
(BLZ 60070070)
Bürozeit: 8-12 Uhr, 13-16.30 Uhr
außer samstags
14. Juli 1976 25/93 Reg.Nr. 125 053
Eastman Kodak Company, 343 State Street, Rochester,
Staat New York, Vereinigte Staaten von Amerika
Verwendung von kolloidalen Vanadiumpentoxidlösungen
zur antistatischen Ausrüstung hydrophober Oberflächen
609883/1319
Verwendung von kolloidalen Vanadiumpentoxidlösungen zur antistatischen Ausrüstung hydrophober Oberflächen.
Die Erfindung betrifft die Verwendung von kolloidalen Vanadiumpontoxidlösungen (V-Or-Lösungen), gegebenenfalls mit einem Gehalt an Molybdänoxid, zur antistatischen Ausrüstung hydrophober Oberflächen. Des weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung kolloidaler Vanadiumpentoxidlösungen für die antistatische Ausrüstung hydrophober Oberflächen.
Es ist allgemein bekannt, daß sich hydrophobe Oberflächen, beispielsweise die Schichtträger photographischer, elektrographischer und magnetischer Aufzeichnungsmaterialien sowie hydrophobe Fäden und Fasern sowie hieraus hergestellte textile Gebilde statisch aufladen können. So haben beispielsweise die Schichtträger photographischer Materialien die Tendenz, sich beim Auf-, Ab- und Umspulen statisch aufzuladens wobei die erzeugten elektrischen Ladungen nicht leicht abfließen können, da die Schichtträgermaterialien schlechte elektrische Leiter sind. Infolgedessen werden oftmals hohe Spannungen erzeugt und bei der Herstellung und Verarbeitung der Schichtträger wie bei der Verwendung der hergestellten Aufzeichnungsmaterialien treten oftmals plötzliche Entladungen auf, die sich in dem hergestellten Produkt in nachteiliger Weise bemerkbar machen.
Um die statische Aufladung von hydrophoben Oberflächen zu vermeiden oder die Gefahr von Aufladungen zu vermindern, ist es bekannt, hydrophobe Oberflächen mit antistatischen Schichten auszurüsten. So ist es beispielsweise auch bekannt, auf der Rückseite von Schichtträgern für die Herstellung photographischer, elektrographischer und magnetischer Aufzeichnungsmaterialien leitfähige antistatische Schichten anzuordnen, die die Ableitung statischer Ladungen ermöglichen und somit plötzliche Entladungen und Entladungsblitze vermeiden sollen.
Im allgemeinen bestehen derartige antistatisch wirksame Schichten aus einem Bindemittel mit einer hierin dispergierten organischen
6 0 9 8 8 3/1319
oder mineralischen Substanz, welche die Oberfläche des Schichtträgermaterials ausreichend leitfähig macht, so daß ein Fluß elektrostatischer Ladungen ermöglicht wird. In den meisten Fällen handelt es sich dabei um mehr oder weniger hygroskopische Schichten, deren Wirksamkeit eine Funktion der Luftfeuchtigkeit ist. Dabei hat sich gezeigt, daß derartige Schichten unwirksam sind, wenn die Feuchtigkeitsgrade gering sind, da sie dabei nicht länger leitfähig sind. Des weiteren hat sich gezeigt, daß derartige hygroskopische Schichten sich auch bei vergleichsweise sehr hohen Feuchtigkeitsgraden nicht verwenden lassen, da sie dann klebrig werden und zu einem Zusammenkleben der Trägermaterialien führen, die sich nur unter großen Schwierigkeiten wieder voneinander trennen lassen. Dabei hat sich gezeigt, daß bei der Trennung von zwei zusammengeklebten Schichten oftmals Ladungen erzeugt werden, die größer sind als die Ladungen, die in Abwesenheit antistatisch wirksamer Schichten auftreten würden.
In der DT-OS 26 09 010.8 werden antistatische Präparationen beschrieben, die aus der Lösung eines glasartigen Produktes, erhalten durch Zusammenschmelzen mindestens eines Alkalimetallphosphates und/oder Alkalimetallpolyphosphates mit mindestens einem Oxid eines Übergangsmetalles bestehen. Das Oxid des Obergangsmetalles kann dabei aus Vanadiumpentoxid .(V2O5) bestehen, wobei das Vanadiumoxid im glasförmigen Endprodukt in verschiedenen Valenzzuständen auftreten kann. Die glasförmigen oder glasartigen Verbindungen können dadurch erhalten werden, daß die zusammengeschmolzenen Mischungen im aufgeschmolzenen Zustand auf eine kalte oder gekühlte Metallplatte gegossen werden. Das Verfahren zur Herstellung der glasartigen Massen läßt sich im allgemeinen in zufriedenstellender Weise durchführen. Es hat sich jedoch gezeigt, daß bei Verwendung von vergleichsweise sehr hohen Mengen an modifizierenden Oxiden, d.h. den Verbindungen, die die Leitfähigkeitseigenschaften herbeiführen, die Massen vor der Verfestigung der aufgeschmolzenen Mischung entglasen können, wodurch polykristalline, heterogene und unlösliche Produkte anfallen können.
Als besonders vorteilhaftes Oxid zur Herstellung antistatischer
609883/1319
Präparationen rait leitfähigen Eigenschaften hat sich Vanadiumpentoxid V2Or erwiesen.
Aufgabe der Erfindung war es„ einen Weg aufzufinden, der es ermöglicht, Vanadiumoxid in eine amorphe Form zu überführen, die sich leicht zur antistatischen Ausrüstung hydrophober Oberflächen verwenden läßt und sich insbesondere zur Erzeugung dünner Schichten auf Schichtträgern eignet.
Die Herstellung kolloidaler Lösungen von Vanadiumpentoxid ist bekannt, beispielsweise aus der Zeitschrift "Journal of Physical Chemistry", (1953), Nr. 50, Seite 363 ff. Die Lösungen können nach verschiedenen Verfahren hergestellt werden, beispielsweise durch Eingießen von V3O5 von Schmelztemperatur in kaltes destilliertes Wasser. Die dabei anfallenden Lösungen enthalten Teilchen, deren chemische Natur noch nicht restlos geklärt ist. Aus der Literaturstelle "Kolloid-Zeitschrift, Ji, (1911), Seite 302 ist es bekannt, daß sich V2O5 nur schlecht in Wasser löst und daß es möglich ist, kolloidale Lösungen dadurch zu erhalten, daß man V2O2 von Schmelztemperatur in kaltes destilliertes Wasser gießt.
A. Revcolevschi hat auf der am 13. Dezember 1973 stattgefundenen Konferenz der Societß dfEncouragement pour I1Industrie Nationale ein neues Verfahren zur Herstellung von amorphen Strukturen von Oxiden und Mischungen von Oxiden beschrieben. Dieses Verfahren, als Hyper-Abschreckungsverfahren beschrieben, besteht aus einem raschen Abkühlen einer Substanz im flüssigen oder dampfförmigen Zustand. Im Falle der Abschreckung aus dem flüssigen Zustand hat es sich dabei als notwendig erwiesen, daß die Abkühlungsgeschwindigkeit des Materials zum Zeitpunkt des Obergangs vom flüssigen in den festen Zustand ausgesprochen hoch ist. Dies erfordert zu diesem Zeitpunkt eine extrem hohe Wärmeaustauschgeschwindigkeit. Es hat sich gezeigt, daß der Mechanismus des Wärmeaustausches durch Leitung die wirksamste Methode ist, sofern die folgenden Bedingungen eingehalten werden:
Der Träger» auf dem das Abschrecken erfolgt, muß ein ausgezeichne-
609883/1319
ter Wärmeleiter sein;
der Wärmekontakt hat so perfekt wie möglich zu sein;
die Entfernung zwischen Flüssigkeit und Träger soll so gering wie möglich sein;
die Zeitspanne für den Übergang vom flüssigen Zustand in den festen Zustand soll so klein wie möglich sein.
A. Revcolevschi hat verschiedene Verfahren vorgeschlagen, um dies zu erreichen. Es war möglich, mittels der beschriebenen Verfahren amorphe Strukturen herzustellen, da die Abschreckgeschwindigkeit ausreichend schnell war, um die Struktur des flüssigen Zustandes im festen Zustand zu fixieren.
Der Erfindung lag die Erkenntnis zugrunde, daß sich:
(1) durch Erhitzen der aufgeschmolzenen Masse auf eine Temperatur oberhalb des Schmelzpunktes der Masse konzentriertere V2O5-Lösungen erhalten lassen und daß,
(2) werden diese Lösungen in Form einer Schicht auf hydrophobe Oberflächen, beispielsweise Schichtträger aufgetragen, ausgezeichnete antistatische Effekte erzielt werden, welche weitestgehend von der relativen Luftfeuchtigkeit unabhängig sind.
Erfindungsgemäß lassen sich hydrophobe Oberflächen, beispielsweise die Schichtträger photographischer, elektrographischer und magnetischer Aufzeichnungsmaterialien in Band- oder Blattform mittels antistatischer Schichten ausrüsten, die dadurch gekennzeichnet sind, daß sie praktisch amorph sind und als antistatisch wirksame Substanz eine Substanz enthalten, die zu mindestens 80 I, vorzugsweise mindestens 85 %, aus V-Or-Vanadiumpentoxid besteht.
Der Ausdruck "praktisch amorph" kennzeichnet eine Schicht aus
fin
einer Substanz, der. Röntgenstrahl-Beugungsanalyse zeigt, daß sie zu mindestens 95 % und in der Mehrzahl der Fälle zu mindestens 98 I aus einer amorphen Substanz besteht.
609883/13 19
Erfindungsgemäß lassen sich insbesondere photographische und magnetische Materialien xtfirksam antistatisch ausrüsten. Ein photographisches Material, das nach der Erfindung antistatisch ausgerüstet ist, besteht im einfachsten Falle beispielsweise aus einem Schichtträger, beispielsweise aus Celluloseacetat oder Polyäthylenglykolterephthalat, der auf der einen Seite eine lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht aufweist, beispielsweise eine Gelatine-Silberhalogenidemulsionsschicht und auf der anderen Seite eine aus einer kolloidalen Vanadiumpentoxidlösung; erzeugte antistatisch wirksame Schicht.
Erfindungsgemäß lassen sich zur antistatischen Ausrüstung hydrophober Oberflächen geeignete kolloidale Vanadiumpentoxidlösungen dadurch herstellen, daß man V-Or auf eine Temperatur von mindestens 1000C oberhalb Schmelztemperatur erhitzt und die aufgeschmolzene Masse in Wasser gießt, wobei man in vorteilhafter Weise solche Bedingungen einhält, daß die aufgeschmolzene Masse in das Wasser bei einer Temperatur eintritt, die mindestens 500C oberhalb der Schmelztemperatur liegt.
Die Gewichtsmenge an V2O5 in der antistatischen Schicht soll bei mindestens 80 % liegen, in vorteilhafter Weise bei über 85 % oder bei bis zu 90 Gew.-I und darüber. In den Fällen, in denen die Gewichtsmenge an V2O5 90 % erreicht und bei über 90 I liegt, werden kolloidale Lösungen erhalten, die auf Grund ihres hohen V20_-Gehaltes eine vorteilhafte antistatische Ausrüstung bei vergleichsweise geringen Mengen ermöglichen.
Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung erhält man kolloidale V-O5-Lösungen dadurch, daß man eine entsprechende Menge an V2Or auf eine Temperatur von mindestens 1500C oberhalb Schmelztemperatur erhitzt und die aufgeschmolzene Masse rasch in destilliertes Wasser, beispielsweise von Raumtemperatur, unter solchen Bedingungen eingießt, daß die aufgeschmolzene Masse in das Wasser bei einer Temperatur eintritt, die mindestens 500C oberhalb der Schmelztemperatur liegt. Die Fallhöhe der aufgeschmol-
609883/ 1319
zenen Masse kann dabei sehr verschieden sein und zwischen beispielsweise 2 m und nur wenigen cm liegen. Als vorteilhaft hat es sich im allgemeinen erwiesen, wenn die Fallhöhe unterhalb von 15 cm liegt, insbesondere dann, wenn man keine Wärme-Ableitvorrichtung verwendet. Auf diese Weise läßt sich in einer sehr kurzen Zeitspanne die Lösung einer vergleichsweise großen Menge an V7O1. erreichen.
Verfährt man in der beschriebenen Weise, so lassen sich V2O5-KOnzentrationen von bis zu 60 g/l und sogar darüber erzielen. Ganz offensichtlich wird dies dadurch erreicht, daß die aufgeschmolzene Masse bei einer beträchtlich oberhalb der Schmelztemperatur der Masse liegenden Temperatur in Wasser, vorzugsweise destilliertes Wasser eingegossen wird, und zwar unter solchen Bedingungen, daß die Masse in das Wasser bei einer Temperatur eintritt, die ebenfalls oberhalb der Schmelztemperatur liegt.
In vorteilhafter Weise arbeitet man bei Temperaturen von 100 bis 4QO0C oberhalb der Schmelztemperatur, beispielsweise des Schmelzpunktes von V2O-. Als ganz besonders vorteilhaft hat sich die Anwendung von Temperaturen von ZOO0C bis 40O0C oberhalb der Schmelztemperatur, beispielsweise des Schmelzpunktes, von V_0_ erwiesen.
Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung werden zum Aufschmelzen Mischungen verwendet, die eine vergleichsweise geringe Menge eines Glasbildners enthalten, beispielsweise eines Natriumphosphates>bder Natriumpolyphosphates. Gemäß einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung verwendet man gemeinsam mit V2O5 andere Oxide, beispielsweise Molybdänoxid, gegebenenfalls unter gleichzeitiger Verwendung eines Glasbildners, beispielsweise eines Natriumphosphates oder Natriumpolyphosphates. Als zweckmäßig hat es sich erwiesen, wenn die Menge an Glasbildner nicht über 20 I, vorzugsweise nicht über 15 %, bezogen auf das Gewicht der antistatisch wirksamen Substanz liegt, d.h. V2O5 oder V2O + MoO-. Die Menge an V2O5 in derartigen Mischungen liegt bei mindestens 80 Gew.-I.
3883/1319
Die in der beschriebenen Weise erhaltenen. Lösungen lassen sich direkt verwenden, beispielsweise direkt auf einen Schichtträger auftrag/, insbesondere als sogenannte Rückschichten auf photographische Filmschichtträger mit ausgezeichneten antistatischen Eigenschaften, wobei der Oberflächenwiderstand dieser Schichten sich nur sehr gering in Abhängigkeit von der Luftfeuchtigkeit ändert. Überdies sind die erzielbaren Widerstandswerte sehr gering, da sich erfindungsgemäß antistatisch wirksame Schichten herstellen lassen, die einen hohen V^Or-Gehalt aufweisen.
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung näher veranschaulichen.
Beispiel 1
In Platintiegeln wurden in einem elektrischen Ofen bei verschiedenen Temperaturen, wie aus der folgenden Tabelle I ersichtlich, jeweils 30 g V-O5 aufgeschmolzen. Dabei wurde das Oxid in jedem Falle im aufgeschmolzenen Zustand 10 Minuten lang bei der angegebenen Temperatur belassen, worauf das Oxid jeweils in 1 Liter destilliertes Wasser von 200C gegossen wurde, um die Ableitung der Wärme zu begünstigen. Der Ausguß der Tiegel mit den aufgeschmolzenen Massen befand sich jeweils ungefähr 10 cm von der Wasseroberfläche entfernt. Am Ende der Zugabe war die Temperatur von etwa 200C auf ungefähr 400C angestiegen. Nach einer Filtration wurden die Lösungen auf 2,5 g/l verdünnt, worauf sie auf PoIyäthylenterephthalatschichtträger in einer Konzentration von 20 mg/m Schichtträgerfläche aufgetragen wurden. Ermittelt wurden die Oberflächenwiderstände der erhaltenen Schichten. Die erhaltenen Ergebnisse sind in den Tabellen I und II zusammengestellt.
In Tabelle I sind die Konzentrationswerte größer als sie sein sollten, da, obgleich die Analysen nach dem Trocknen durchgeführt wurden, vermutlich etwas teilweise hydratisiertes Oxid hinterblieb, welches den Wert von 31,3 g pro Liter für die Masse erklärt, die auf eine Temperatur von 11000C aufgeschmolzen worden war.
6 09883/1319
263Ί628
Temperatur des aufgeschmolzenen V-O-
7000C
85O0C
10000C 11000C 12000C
Tabelle I
Bemerkungen
Braun-rote Lösung
mit unlöslichen
Teilchen
Erhaltene Konzentration in g/l
20,5
Braun-rote Lösung
mit unlöslichen
Teilchen		 25,6
Braun-rote, voll
ständige Lösung		 28,6
Braun-grüne, voll
ständige Lösung		 31,3
Grünlicher Nieder
schlag		 1,0
des auf- Tabelle II RH 30 % RH 15 Ω % RH
Temperaturen v2o 5 65 80
geschmolzenen 24 17
7000C ,6 ■ ι ,5 16
85O°C Oberflächenwiderstände in G ,8 ,3 1
10000C 50 %
11000C 40
10
1.
1.
Wie sich aus den erhaltenen Daten ergibt, läßt sich der Oberflächenwiderstand dann besonders stark vermindern, wenn die Temperatur der aufgeschmolzenen Masse bei über 7000C bis 11000C liegt. Des weiteren hat sich gezeigt, daß der Oberflächenwiderstand vergleichsweise konstant bleibt, wenn sich die relative Feuchtigkeit ändert, insbesondere im Falle der Lösung, die ausgehend von einer auf 11000C erhitzten Schmelze erhalten wurde. Wie bereits dargelegt, lassen sich vergleichsweise stark konzentrierte Lösungen dann erhalten, wenn die Schmelze über den Schmelzpunkt hinaus er-
609883/1319
hitzt wird. Beim Erhitzen der Schmelze um mehr als 40O0C über den Schmelzpunkt hinaus lassen sich derart hoch konzentrierte Lösungen weniger gut herstellen.
Beispiel 2
Dies Beispiel zeigt einerseits, daß die Oberflächenwiderstände abnehmen, wenn die Konzentration an V-O5 ansteigt und andererseits, daß die Oberflächenwiderstände sich nur sehr gering in Abhängigkeit von der relativen Feuchtigkeit ändern, und zwar umso mehr, umso höher die Konzentration an V^O5 ist.
Es wurde, wie in Beispiel 1 beschrieben, verfahren mit der Ausnahme jedoch, daß ein Solarofen verwendet wurde, z.B. ein Solarofen vom Typ Odeillo (Eastern Pyrenees). Die erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle III zusammengestellt.
Tabelle IU 301 RH 151 RH
Verbindung Konzen [ C30) Π5)
tration
in g/l		 0,1
0,5
3
85
140		 0,1
0,3
7
270
700
Oberflächenwiderstände in G Ω unter Verwendung des Sonnenofens (Ti
V2O5 10,8
7,2
3,6
1,8
0,9		 501 RH
Verbindungen erhalten
tür 11000C).		 C50)
0,1
0,2
2,5
18
25
Aus den erhaltenen Ergebnissen ergibt sich die gute Stabilität der Oberflächenwiderstände als Funktion der relativen Feuchtigkeit, insbesondere im Falle hoher V2Os-Konzentrationen. Die bei Verwendung des Solarofens erhaltenen Produkte weisen praktisch die gleichen Eigenschaften auf wie die Produkte, die unter Verwendung
609883/1 31 9
eines elektrischen Ofens erhalten wurden. Der Vorteil der Verwendung eines Solarofens zum Aufschmelzen der V2O5-Massen ist in der Geschwindigkeit zu sehen, in welcher die erwünschten Produkte erhalten werden können. Tatsächlich läßt sich in einfacher Weise leicht pro Minute 1 kg V2O5 aufschmelzen und verarbeiten.
Ein weiterer Vorteil eines solchen Aufschmelzprozesses liegt darin, daß bei Durchführung des Aufschmelzprozesses keinerlei Umwe11vers chmut zungen auftre ten.
Beispiel 3
Es wurden weitere Lösungen, wie in Beispiel 2 beschrieben, hergestellt, ausgehend von V-O5 allein oder von Mischungen von MoO- und Na5P3O10 oder anderen Mischungen von V2
und
Aus den erhaltenen Lösungen wurden dann in der beschriebenen Weise wiederum Schichten erzeugt, deren Oberflächenwiderstände gemessen wurden. Die erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle IV zusammengestellt.
Konzentra Tabelle IV 301RH
(30)		 in G Ω
Verbindung tion in g/l 100 15IRH
(15)
11,7 Oberflächenwiderstände 250
V2O5-MoO3- SOI RH"
(50)		 300
Na5P3O10 7,8 10 2000 2000
61-13-26++ 3,9 40000 30000
1,9 30 120000 >
1 40 90 >
10,5, 200 550 900
V2°5"Na5P3°1O 7,0 1400 2100 2000
οι _ 17++ 3,5 25 65000 16000
1,75 80 > >
0,9 240 >
450
1300
609883/1319
Verbindungen, erhalten unter Verwendung eines Odeillo-Solarofens (Temperatur 11000C);
Gewichtsmengen.
609883/1319

Claims (10)

Pate nt anspräche
1./ Verwendung von kolloidalen Vanadiumpentoxidlösungen, gegebenenfalls mit einem Gehalt an Molybdänoxid, hergestellt durch Aufschmelzen von Vanadiumpentoxid, gegebenenfalls mit einem Gehalt an Molybdänoxid, und Erhitzen auf eine Temperatur von mindestens 1000C oberhalb Schmelztemperatur und Eingießen in Wassers zur antistatischen Ausrüstung hydrophober Oberflächen.
2. Verwendung von kolloidalen Vanadiumpentoxidlösungen zur antistatischen Ausrüstung von photographischen, elektrophotographischen und magnetischen Aufzeichnungsmaterialieno
3. Verwendung von kolloidalen Vanadiumpentoxidlösungen zur Erzeugung antistatischer Rückschichten von photographischea, elektrophotographischen und magnetischen Aufzeichnungsmaterialieno
4. Verwendung von kolloidalen Vanadiumpentoxidlösungen zur Erzeugung antistatischer Rückschichten von photographischen Aufzeicknungsmaterialien mit mindestens einer lichtempfindlichen Silberhalogenidemulsionsschichtο
5. Verfahren zur Herstellung von kolloidalen Vanadiumpentoxidlösungen zur Verwendung nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß man Vanadiumpentoxid, gegebenenfalls in Mischung mit Molybdänoxid, aufschmelzt, auf eine Temperatur von mindestens 1000C oberhalb Schmelztemperatur erhitzt und die Schmelze in destilliertes Wasser gießt, derarts daß die Temperatur der Schmelze bei Eintritt in das Wasser mindestens 500C oberhalb Schmelztemperatur liegt,
6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß man das Vanadimpentoxid, gegebenenfalls in Mischung mit Molybdänoxid auf eine Temperatur von mindestens 1500C oberhalb Schmelztemperatur erhitzt.
6 09883/1319
7. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß man das Vanadiumpentoxid, gegebenenfalls in Mischung mit Molybdänoxid, auf eine Temperatur von mindestens 2000C oberhalb Schmelztemperatur erhitzt.
8. Verfahren nach Anspruch S9 dadurch gekennzeichnet, daß man das Vanadiumpentoxidg gegebenenfalls in Mischung mit Molybdänoxid, auf eine Temperatur von 900 bis 11000C erhitzt, bevor man die Schmelze in destilliertes Wasser eingießt»
9. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß man zur Verwendung geeignete Vanadiumpentoxidlösungen herstellt, deren Konzentration an Vanadiumpentoxid bei 1 bis 10 g/l liegt.
10. Verwendung von kolloidalen Vanadiumpentoxidlösungen nach Ansprüchen 1 bis 4S dadurch gekennzeichnet, daß man sie in Mengen
7
voa etwa 20 mg/m Schichtträgerfläche auf Schichtträger aufträgt.
609883/1319
DE2631628A 1975-07-15 1976-07-14 Verfahren zur Herstellung von kolloidalen Vanadiumpentoxidlösungen, die zur Erzeugung einer antistatischen Schicht auf hydrophoben Oberflächen verwendet werden Expired DE2631628C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR7522060A FR2318442A1 (fr) 1975-07-15 1975-07-15 Nouveau produit, notamment, photographique, a couche antistatique et procede pour sa preparation

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2631628A1 true DE2631628A1 (de) 1977-01-20
DE2631628B2 DE2631628B2 (de) 1978-06-08
DE2631628C3 DE2631628C3 (de) 1979-02-08

Family

ID=9157914

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2631628A Expired DE2631628C3 (de) 1975-07-15 1976-07-14 Verfahren zur Herstellung von kolloidalen Vanadiumpentoxidlösungen, die zur Erzeugung einer antistatischen Schicht auf hydrophoben Oberflächen verwendet werden

Country Status (9)

Country Link
US (1) US4203769A (de)
JP (1) JPS5224276A (de)
BE (1) BE844165A (de)
DE (1) DE2631628C3 (de)
FR (1) FR2318442A1 (de)
GB (1) GB1560105A (de)
IT (1) IT1062121B (de)
MX (1) MX145310A (de)
NL (1) NL184368C (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993006043A1 (en) * 1991-09-27 1993-04-01 Kodak-Pathe Method for the continuous preparation of vanadium pentoxide gels and apparatus for implementing the method

Families Citing this family (95)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2396420A1 (fr) * 1977-06-29 1979-01-26 Commissariat Energie Atomique Materiau transparent photoconducteur, son procede de fabrication et des dispositifs d'application
FR2429252A2 (fr) * 1978-06-23 1980-01-18 Kodak Pathe Nouveau produit, notamment photographique, a couche antistatique et procede pour sa preparation
US4650360A (en) * 1984-09-27 1987-03-17 Dennison Manufacturing Company Antistatic marking
JPS62125709U (de) * 1986-02-03 1987-08-10
US4997735A (en) * 1989-04-28 1991-03-05 Eastman Kodak Company Vacuum contacting process for photographic elements
US5308687A (en) * 1989-05-09 1994-05-03 Eastman Kodak Company Fiber element containing tin oxide heteropolycondensates with enhanced electrical conductivity
US5006451A (en) * 1989-08-10 1991-04-09 Eastman Kodak Company Photographic support material comprising an antistatic layer and a barrier layer
AU6743890A (en) * 1989-11-15 1991-06-13 John Cavanaugh Transparent conductive coating dispersion containing cuprous iodide
US5213887A (en) * 1991-09-03 1993-05-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antistatic coatings
US5203884A (en) * 1992-06-04 1993-04-20 Minnesota Mining And Manufacturing Company Abrasive article having vanadium oxide incorporated therein
US5322761A (en) * 1992-06-04 1994-06-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Flexographic printing plate having a vanadium oxide antistatic coating layer
US5637368A (en) * 1992-06-04 1997-06-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Adhesive tape having antistatic properties
US5427835A (en) * 1992-06-04 1995-06-27 Minnesota Mining And Manufacturing Company Sulfopolymer/vanadium oxide antistatic compositions
US5407603A (en) * 1992-06-04 1995-04-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Vanadium oxide colloidal dispersons and antistatic coatings
US5288598A (en) * 1992-10-30 1994-02-22 Eastman Kodak Company Photographic light-sensitive elements
US5378577A (en) * 1992-10-30 1995-01-03 Eastman Kodak Company Photographic light-sensitive elements
US5300411A (en) * 1992-10-30 1994-04-05 Eastman Kodak Company Photographic light-sensitive elements
US5221598A (en) * 1992-11-23 1993-06-22 Eastman Kodak Company Photographic support material comprising an antistatic layer and a heat-thickening barrier layer
US5372985A (en) * 1993-02-09 1994-12-13 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal transfer systems having delaminating coatings
WO1994018012A1 (en) * 1993-02-09 1994-08-18 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal transfer systems having vanadium oxide antistatic layers
EP0695435B1 (de) * 1993-04-20 1998-01-14 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photographische elemente die antistatische schichten enthalten
US5356468A (en) * 1993-05-27 1994-10-18 Eastman Kodak Company Antistat coating compositions and antistat layers formed therefrom
US5366544A (en) * 1993-05-27 1994-11-22 Eastman Kodak Company Antistatic layers for photographic elements and coating compositions for preparing the same
US5310640A (en) * 1993-06-02 1994-05-10 Eastman Kodak Company Thermally processable imaging element comprising an electroconductive layer and a backing layer.
US5455153A (en) * 1993-09-30 1995-10-03 Eastman Kodak Company Photographic elements containing clad vanadium pentoxide antistatic layer
US5360706A (en) * 1993-11-23 1994-11-01 Eastman Kodak Company Imaging element
EP0655646A1 (de) * 1993-11-29 1995-05-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiographisches Material mit verbesserten antistatischen Eigenschaften
US5366855A (en) * 1994-03-31 1994-11-22 Eastman Kodak Company Photographic support comprising an antistatic layer and a protective overcoat
US5472833A (en) * 1994-04-14 1995-12-05 Eastman Kodak Company Silver halide photographic film utilizing cellulose triacetate support with two antistatic layers
EP0678776B1 (de) * 1994-04-18 2001-09-12 Eastman Kodak Company Wärmeentwickelbares Aufzeichningsmaterial enthaltend eine elektrisch leitfähige Oberflächenschicht
US5518867A (en) * 1994-05-12 1996-05-21 Eastman Kodak Company Electron beam recording process utilizing an electron beam recording film with low visual and ultraviolet density
US5783519A (en) * 1994-08-22 1998-07-21 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermal transfer systems having vanadium oxide antistatic layers
JPH10509255A (ja) * 1994-11-10 1998-09-08 ミネソタ マイニング アンド マニュファクチャリング カンパニー 帯電防止層を含む写真要素および帯電防止性を有する要素の製造方法
US5484694A (en) 1994-11-21 1996-01-16 Eastman Kodak Company Imaging element comprising an electrically-conductive layer containing antimony-doped tin oxide particles
US5529884A (en) 1994-12-09 1996-06-25 Eastman Kodak Company Backing layer for laser ablative imaging
US5449525A (en) * 1995-01-19 1995-09-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for coating a magnetic recording medium and apparatus
US5514528A (en) * 1995-02-17 1996-05-07 Eastman Kodak Company Photographic element having improved backing layer performance
FR2735142A1 (fr) * 1995-06-12 1996-12-13 Kodak Pathe Composition pour couche antistatique et film comprenant cette couche
US5609969A (en) * 1995-06-30 1997-03-11 Minnesota Mining And Manufacturing Company Static dissipative electronic packaging article
US5679505A (en) 1995-11-02 1997-10-21 Eastman Kodak Company Photographic element useful as a motion picture print film
US5650265A (en) * 1995-12-22 1997-07-22 Eastman Kodak Company Silver halide light-sensitive element
US5723272A (en) * 1995-12-22 1998-03-03 Eastman Kodak Company Silver halide light-sensitive element
US5576162A (en) 1996-01-18 1996-11-19 Eastman Kodak Company Imaging element having an electrically-conductive layer
US5912109A (en) 1996-02-12 1999-06-15 Eastman Kodak Company Imaging element comprising an electrically-conductive layer containing conductive fine particles and water-insoluble polymer particles of specified shear modulus
US5576163A (en) * 1996-04-01 1996-11-19 Eastman Kodak Company Imaging element having a process-surviving electrically-conductive layer with polyesterionomet binder
DE69710787T2 (de) 1996-05-22 2002-11-21 Moltech Corp., Tucson Komposit-kathoden, elektrochemische zellen mit komposit-kathoden und verfahren zur herstellung
US5726001A (en) * 1996-06-12 1998-03-10 Eastman Kodak Company Composite support for imaging elements comprising an electrically-conductive layer and polyurethane adhesion promoting layer on an energetic surface-treated polymeric film
US5718995A (en) * 1996-06-12 1998-02-17 Eastman Kodak Company Composite support for an imaging element, and imaging element comprising such composite support
US5695919A (en) * 1996-08-12 1997-12-09 Eastman Kodak Company Coating compositions containing lubricant-loaded, nonaqueous dispersed polymer particles
US5723273A (en) * 1996-09-11 1998-03-03 Eastman Kodak Company Protective overcoat for antistatic layer
US5674654A (en) * 1996-09-19 1997-10-07 Eastman Kodak Company Imaging element containing an electrically-conductive polymer blend
US5709984A (en) * 1996-10-31 1998-01-20 Eastman Kodak Company Coating composition for electrically-conductive layer comprising vanadium oxide gel
US5786133A (en) * 1996-11-19 1998-07-28 Eastman Kodak Company Antistatic layer for photographic elements
WO1998022852A1 (en) * 1996-11-20 1998-05-28 Polaroid Corporation Protective overcoat useful for enhancing the resistance of a printing plate precursor to ambient humidity
US5766836A (en) * 1997-01-28 1998-06-16 Eastman Kodak Company Three-layer backing for photographic element
US5747232A (en) * 1997-02-27 1998-05-05 Eastman Kodak Company Motion imaging film comprising a carbon black-containing backing and a process surviving conductive subbing layer
US5849472A (en) * 1997-03-13 1998-12-15 Eastman Kodak Company Imaging element comprising an improved electrically-conductive layer
US5874191A (en) * 1997-06-12 1999-02-23 Eastman Kodak Company Auxiliary layers for imaging elements applied from aqueous coating compositions containing fluoropolymer latex
US5866285A (en) * 1997-06-12 1999-02-02 Eastman Kodak Company Auxiliary layer for imaging elements containing solvent-soluble fluoropolymer
US5858634A (en) * 1997-06-19 1999-01-12 Eastman Kodak Company Photographic element containing polymeric particles made by a microsuspension process
US5866287A (en) * 1997-11-13 1999-02-02 Eastman Kodak Company Imaging element comprising and electrically-conductive layer containing metal antimonate and non-conductive metal-containing colloidal particles
US5827630A (en) * 1997-11-13 1998-10-27 Eastman Kodak Company Imaging element comprising an electrically-conductive layer containing metal antimonate and non-conductive metal-containing colloidal particles and a transparent magnetic recording layer
US5976776A (en) * 1997-12-01 1999-11-02 Eastman Kodak Company Antistatic compositions for imaging elements
US5928848A (en) * 1997-12-01 1999-07-27 Eastman Kodak Company Aqueous coatable protective polyethylene overcoats for imaging elements
US6117628A (en) * 1998-02-27 2000-09-12 Eastman Kodak Company Imaging element comprising an electrically-conductive backing layer containing metal-containing particles
US5939243A (en) * 1998-05-04 1999-08-17 Eastman Kodak Company Imaging element comprising an electrically-conductive layer containing mixed acicular and granular metal-containing particles and a transparent magnetic recording layer
US6110656A (en) * 1998-09-28 2000-08-29 Eastman Kodak Company Colloidal vanadium oxide having improved stability
US6010836A (en) * 1998-09-28 2000-01-04 Eastman Kodak Company Imaging element comprising an electrically-conductive layer containing intercalated vanadium oxide and a transparent magnetic recording layer
US6013427A (en) * 1998-09-28 2000-01-11 Eastman Kodak Company Imaging element comprising an electrically-conductive layer containing intercalated vanadium oxide
US6300049B2 (en) 1998-10-15 2001-10-09 Eastman Kodak Company Imaging element containing an electrically-conductive layer
US6096491A (en) * 1998-10-15 2000-08-01 Eastman Kodak Company Antistatic layer for imaging element
US6225039B1 (en) 1998-10-15 2001-05-01 Eastman Kodak Company Imaging element containing an electrically-conductive layer containing a sulfonated polyurethane and a transparent magnetic recording layer
US6074807A (en) * 1998-10-15 2000-06-13 Eastman Kodak Company Imaging element containing an electrically-conductive layer containing acicular metal-containing particles and a transparent magnetic recording layer
US6060229A (en) * 1998-10-15 2000-05-09 Eastman Kodak Company Imaging element containing an electrically-conductive layer and a transparent magnetic recording layer
US6177239B1 (en) 1998-12-28 2001-01-23 Eastman Kodak Company Imaging element
US6187521B1 (en) 1998-12-28 2001-02-13 Eastman Kodak Company Imaging elements
US6174661B1 (en) 1998-12-28 2001-01-16 Eastman Kodak Company Silver halide photographic elements
US6407160B2 (en) 1998-12-28 2002-06-18 Eastman Kodak Company Non-aqueous composite wax particle dispersion
US6048679A (en) * 1998-12-28 2000-04-11 Eastman Kodak Company Antistatic layer coating compositions
US6140030A (en) * 1999-05-06 2000-10-31 Eastman Kodak Company Photographic element containing two electrically-conductive agents
US6214530B1 (en) 1999-06-30 2001-04-10 Tulalip Consultoria Comercial Sociedade Unidessoal S.A. Base film with a conductive layer and a magnetic layer
US6461802B1 (en) * 1999-08-02 2002-10-08 Agfa-Gevaert Adhesive layer for polyester film
US6207361B1 (en) 1999-12-27 2001-03-27 Eastman Kodak Company Photographic film with base containing polymeric antistatic material
EP1133157A3 (de) * 1999-12-28 2004-10-27 Sony Corporation System und Verfahren für kommerzielle Transaktionen für Bilder, Bildübertragungssystem und -Verfahren, Bildverteilungssystem und -Verfahren, Aufzeichnungsvorrichtung und -Verfahren
EP1830552A1 (de) 1999-12-28 2007-09-05 Sony Corporation System und Verfahren für den kommerziellen Verkehr von Bildern
US6733906B2 (en) 2000-07-27 2004-05-11 Imation Corp. Magnetic recording media having specific wet thickness and coating methods
US6503468B1 (en) 2002-01-09 2003-01-07 Eastman Kodak Company Method of preparing silver-doped vanadium pentoxide antistatic agent
US7163746B2 (en) 2002-06-12 2007-01-16 Eastman Kodak Company Conductive polymers on acicular substrates
US6960385B2 (en) * 2002-09-10 2005-11-01 Imation Corp. Magnetic recording medium
US6686138B1 (en) 2002-12-30 2004-02-03 Eastman Kodak Company Color motion picture print film with improved raw stock keeping
US7564528B2 (en) * 2005-05-20 2009-07-21 Industrial Technology Research Institute Conductive layer to reduce drive voltage in displays
US7732007B2 (en) * 2005-12-19 2010-06-08 Eastman Kodak Company Method of making a polarizer plate
US20070141244A1 (en) * 2005-12-19 2007-06-21 Eastman Kodak Company Method of making a polarizer plate
US10400109B2 (en) * 2013-10-04 2019-09-03 3M Innovative Properties Company Coatable composition, antistatic composition, antistatic articles, and methods of making the same
US11215738B2 (en) * 2015-12-04 2022-01-04 Essilor International Antistatic film and lamination thereof

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3245833A (en) * 1964-04-20 1966-04-12 Eastman Kodak Co Electrically conductive coatings
GB958103A (en) 1962-02-14 1964-05-13 Int Resistance Co Semiconductor glass and a resistor including such glass
FR1492974A (fr) * 1966-06-27 1967-08-25 Pechiney Saint Gobain Globules creux à base d'oxyde de vanadium
DE1622361C3 (de) * 1968-02-01 1974-12-05 Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt Verfahren zum Herstellen eines elektrophotographischen Aufzeichnungsmaterials
US3622523A (en) * 1969-10-30 1971-11-23 Du Pont Air fireable compositions containing vanadium oxide and boron, and devices therefrom
US3839231A (en) * 1972-04-27 1974-10-01 Du Pont Air fireable compositions containing vanadium oxide and boron silicide, and devices therefrom
US3874878A (en) * 1972-05-22 1975-04-01 Eastman Kodak Co Photographic article with composite oxidation protected anti-static layer
IT995531B (it) 1972-10-20 1975-11-20 Solvay Smalti conduttori di elettricita statica
US3886578A (en) * 1973-02-26 1975-05-27 Multi State Devices Ltd Low ohmic resistance platinum contacts for vanadium oxide thin film devices
JPS505674A (de) * 1973-05-24 1975-01-21
JPS5057215A (de) * 1973-09-18 1975-05-19

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993006043A1 (en) * 1991-09-27 1993-04-01 Kodak-Pathe Method for the continuous preparation of vanadium pentoxide gels and apparatus for implementing the method
FR2681852A1 (fr) * 1991-09-27 1993-04-02 Kodak Pathe Procede de preparation en continu de gels de pentoxyde de vanadium et appareil de mise en óoeuvre du procede.
US5549846A (en) * 1991-09-27 1996-08-27 Eastman Kodak Company Method for the continuous preparation of vanadium pentoxide gels and apparatus for implementing the method

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5224276A (en) 1977-02-23
FR2318442B1 (de) 1979-08-03
NL184368B (nl) 1989-02-01
NL7607880A (nl) 1977-01-18
FR2318442A1 (fr) 1977-02-11
IT1062121B (it) 1983-06-25
US4203769A (en) 1980-05-20
GB1560105A (en) 1980-01-30
DE2631628C3 (de) 1979-02-08
JPS5729502B2 (de) 1982-06-23
MX145310A (es) 1982-01-27
NL184368C (nl) 1989-07-03
DE2631628B2 (de) 1978-06-08
BE844165A (fr) 1977-01-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2631628A1 (de) Verwendung von kolloidalen vanadiumpentoxidloesungen zur antistatischen ausruestung hydrophober oberflaechen
EP0584307B1 (de) Verfahren zur herstellung einer photoelektrochemischen zelle, sowie eine demgemäss hergestellte zelle
DE3151206C2 (de) Glasiertes, keramisches Trägermaterial
AT207058B (de) Verfahren zur Herstellung eines leitfähigen, nichtmetallischen Überzuges auf einem nichtleitenden Gegenstand
DE2755935A1 (de) Dielektrische zusammensetzung, siebdruckpaste mit einer derartigen zusammensetzung und durch diese erhaltene erzeugnisse
DE2013576A1 (de) Verfahren zum Aufbringen von dotierten und undotierten Kieselsaurefilmen auf Halbleiteroberflachen
DE2823904A1 (de) Dichtungsglas
DE1596851A1 (de) Widerstandsmaterial und aus diesem Widerstandsmaterial hergestellter Widerstand
DE1522408B2 (de) Photographisches material mit einer antistatischen schicht
DE2156304B1 (de) Glasiges oder kristallines material fuer phototrope duenne schichten
DE1204738B (de) Elektrischer Schichtwiderstand
DE2925370C3 (de) Verfahren zur Herstellung von kolloidalen Vanadiumpentoxidlösungen, die zur Erzeugung einer antistatischen Schicht auf hydrophoben Oberflächen verwendet werden
DE69305774T2 (de) Verfahren zur Bildung eines Bariumtitanatfilms
DE2131553A1 (de) Widerstandszusammensetzung,Verfahren zur Herstellung einer Widerstandsdruckpaste daraus und deren Verwendung
DE1301020B (de) Cermet-Widerstand
DE2846577C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Widerstandsmaterial und durch dieses Verfahren hergestellte Widerstandskörper
DE2400368A1 (de) Lichtempfindliches element
DE2422970A1 (de) Verfahren zum chemischen niederschlagen von silicium-dioxyd-filmen aus der dampfphase
DE2064247C3 (de) Elektrophotographisches Aufzeichnungsmaterial
DE2900298C2 (de)
DE3442270C2 (de)
DE1135097B (de) Quarzbrenner fuer Ultraviolettstrahlung mit einer als Filter dienenden Oxydhaut auf seiner Oberflaeche und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE1496543C (de) Glasur zur Verwendung in elektronischen Festkorperbauelementen sowie mit dieser Glasur versehene Festkörperbauelemente
DE3134584C2 (de)
DE1596900A1 (de) Glaszusammensetzung

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
AG Has addition no.

Ref country code: DE

Ref document number: 2925370

Format of ref document f/p: P