DE2514801C2 - Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Mikrokopien auf trockenem Wege - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Mikrokopien auf trockenem WegeInfo
- Publication number
- DE2514801C2 DE2514801C2 DE2514801A DE2514801A DE2514801C2 DE 2514801 C2 DE2514801 C2 DE 2514801C2 DE 2514801 A DE2514801 A DE 2514801A DE 2514801 A DE2514801 A DE 2514801A DE 2514801 C2 DE2514801 C2 DE 2514801C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- image
- carrier
- intermediate carrier
- film strip
- exposed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B17/00—Details of cameras or camera bodies; Accessories therefor
- G03B17/48—Details of cameras or camera bodies; Accessories therefor adapted for combination with other photographic or optical apparatus
- G03B17/50—Details of cameras or camera bodies; Accessories therefor adapted for combination with other photographic or optical apparatus with both developing and finishing apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/32—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
- G03B27/46—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera for automatic sequential copying of different originals, e.g. enlargers, roll film printers
- G03B27/465—Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera for automatic sequential copying of different originals, e.g. enlargers, roll film printers at different positions of the same strip, e.g. microfilm
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photographic Developing Apparatuses (AREA)
- Projection-Type Copiers In General (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Herstellen von Mikrokopien auf trokkenem
Wege unter Verwendung von Dispersionsabbildungsmaterial.
Fin derartiges Verfahren und eine derartige Vorrichtung
sind bereits bekannt (DK-OS 22 J3 827). Derartige Verfahren haben gegenüber scg. Trockensilberverfahren
den Vorteil eines rascheren Verfahrensablaufes, da keine verhältnismäßig lange Erwärmung erforderlich
ist, um aus der Siiberverbindung Silberkristalle »auszufällen«.
Bei der Anwendung von Dispersionsabbildungsmaterial findet die Belichtung und die Entwicklung nämlich
praktisch momentan, innerhalb eines Moments durch Anlegen eines kurzen Energieimpulses statt.
Bei dem vorbekannten Verfahren wird von einem Zwischenträger Gebrauch gemacht, der als eingebaute
Maske durch Fotografieren erzeugt wird, also auf von einem Original reflektierte oder durchgelassene Lichtstrahlen
fotoempfindlich ist. Diese eingebaute Maske ist unmittelbar mit dem eigentlichen Kopieträger mechanisch
verbunden, und zwar entweder auf der Kopieträgerschicht selbst oder an der dieser Schicht abgewanriten
Rückseite eines Substrats, auf dem die Kopie trägerschicht aufgebracht ist Trotz zahlreicher Vorteils dieses
Trockenverfahrens unter Verwendung von Dispersionsabbildungsmaterial
an Stelle von Trockensilberfilmen läßt das Auflösungsvermögen vielfach noch zu wünschen
übrig.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das bekannte Verfahren bzw. die bekannte Vorrichtung dahingehend
zu verbessern, daß auf einfache Weise gut archivierbare Mikrokopien mit hohem Kontrast und großen
Auflösungsvermögen in beliebiger Anzahl, insbesondere bei sparsamer Verwendung des Zwischenträgers,
herstellbar sind.
Die Erfindung ist in den Patentansprüciien 1 und 7 gekennzeichnet und in Unteransprüchen sind weitere
Ausbildungen derselben beansprucht.
Bei der Erfindung wird der fotoempfindliche Zwischenträger zuerst mit einem verkleinerten bzw. mit
einer Mikroabbildung des Originals belichtet und durch Wärme entwickelt. Danach wird der belichtete und entwickelte
Zwischenträger zur Bildübertragungsstation befördert. Schließlich wird die entwickelte Mikroabbildung
vom Zwischenträger mittels kurzer Energieimpulse auf einem Mikrokopieträger überragen. Beim Belichten
bzw. Entwickeln des Zwischenträgers wird dafür gesorgt, daß eine gegenüber der erzielbaren optischen
Dichte nur geringere optische Dichte erreicht wird.
Bei der Erfindung kann von ein und demselben Zwischenträger eine Fülle von Mikrokopien angefertigt
werden, die talsächlich hervorragend archivierbar sind,
da das zu Jeren Herstellung verwendete Material gegenüber
den vom Original reflektierten bzw. durchge lassenen Lichtstrahlin im wesentlichen unempfindlich
ist. Der Umstand, daß der eigentliche Kopieträger gar
mehl mehr mit Zwischenträgern mechanisch zusammenhängen
muß, trägt darüber hinaus dazu bei, daß der Kopicträgcr eine bessere Brillanz aufweist, was gerade
bei Mikrokopien von besonderer Bedeutung ist. Überraschenderweise ist die der Erfindung zugrundeliegende
Aufgabe auch dadurch gut lösbar, daß die Belichtung bzw. Entwicklung des fotoempfindlichen Zwischenträgers
in Abweichung von üblichen Verfahren nur unvollständig erfolgt. Obwohl hierdurch der Zwischenträger
nur eine geringere Randschärfe aufweist, ist bei Anwendung des Bildübertragungr-schrittes auf das Dispersionsabbildungsmaterial
des Mikrokopieträgers dort eine außerordentlich hohe Randschärfe erzielbar. Die vorher
bewußt hergestellte Unscharfe führt also zu einer demgegenüber hervorragenden Schärfe auf dem Mikrokopieträger.
Mit anderen Worten wird bei dem Trockenverfahren nach der Erfindung ein Zwischenträger, insbesondere
Filmstreifen, verwendet, der photosensitiv ist und zur Erzeugung von Diaabbildungen durch Lichteinwirkung
mit einem Bild versehen (belichtet) und unter Wärmeeinwirkung trockenentwickelt wird. Ein solcher trocken
verarbeitbarer Maskenfilmstreifen wird durch eine BiIderzeugungs- und entwicklungsstation sowie eine Bildübertragungsstation
transportiert. Das wiederzugebende Original wird beleuchtet und reflektiert das einfallende
Licht, und das von dem Original reflektierte Lichtabbild wird auf Mikrobildgröße verkleinert oder verdichtet
und in der Belichtungs- und Entwicklungsstation auf den trockenverarbeitbaren Maskenfilnistreifen zur Einwirkung
gebracht, wodurch auf diesem Streifen ein Mikroabbild des Originals erzeugt wird, während der
Streifen durch die Belichtungs- und Er .'icklur.gsstation
hindurchgeführi wird. Der irockenverarbsitbare rvlaskenfilmstreifen
wird bei seinem Transport durch die Abbildungs- und Entwicklungsstation auch erhitzt, wodurch
die Mikroabbildungen zu Mikrobilddias entwikkelt werden.
Bei dem Verfahren und der Vorrichtung wird ferner ein trockenverarbeitbarer Mikroformatfilm verwendet,
der gegenüber kurzen Impulsen elektromagnetischer
jo Energie oberhalb eines Schwellenwertes empfindlich ist
und durch solche zur Schaffung von Büdwiedergaben mit scharfem Auflösungsvermögen, hohem Kontrast
und hervorragender Archiveignung mit einem Abbild versehen und entwickelt wird. Der trockenverarbeitbare
Mikroformatfilm und der irockenverarbeitbare Maskenfilmstreifen werden in der Bildübertragungsstation
beim Transport des letzteren durch diese übereinandergelegt. Dann werden in der Bildübertragungsstation
durch den durchsichtigen, mit einem Mikroabbild \ersehenen,
trocken verarbeitbaren Maskenfilmstreifen auf den trockenverarbeitbaren Mikroformatfilm kurze Impulse
elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes zur Wirkung gebracht, so daß in dem
trockenverarbeitbaren Mikroformatfilm AbbiHwiedergaben im Mikroformat erzeugt werden, die den transparenten
Mikroabbildungen in dem trockenverarbeitbaren Maskenfilmstreifen entsprechen und die sich, wie
erwähnt, durch scharfes Auflösungsvermögen, hohen Kontrast und Archiveignung auszeichnen.
Der trockenverarbeitbare Maskenfilmstreifen besteht aus einem dünnrn. im wesentlichen durchsichtigen,
flexiblen Trager oder Substrat aus einem geeigneten Kunststoffmaterial und ^inem darauf aufgetragenen
Fili.i d«.r gegenüber reflektiertem Licht photoempfindlieh
is! und zur Herstellung von Diaabbildungen durch solches belichtet wird und Jurch Wärmeeinwirkung
trockenentwickelt wird. Das photosensitive oder lichtempfindliche Material kann ursprünglich im wesentlichen
durchsichtig jp-n und negativ arbeiten, so daß d.is
im wesentlichen durchsichtige, lichtempfindliche Material an den Stellen, an denen es durch das reflektierte
Licht aktiviert wird, im wesentlichen undurchsichtig gemacht wird, so daß negative Durchlichtbilder oder Dianegative erzeugt werden. Andererseits kann das licht
es empfindliche Materia1 ursprünglich im wesentlichen undurchsichtiges
Material sein und positiv arbeiten, so daß das im wesentlichen undurchsichtige lichtempfindliche
Material an den durch das reflektierte Licht aktivierten
Stellen im wesentlichen durchsichtig oder durchscheinend gemacht wird, wodurch ein positives Transparentabbild
oder ein Diapositiv erzeugt wird.
Der trockenverarbeitbare Mikroformatfilm besteht aus einem flexiblen durchsichtigen Substrat und einem
darauf aufgetragenen durchgehenden Film, der gegenüber den kurzen Impulsen elektromagnetischer Energie
oberhalb des Schwellenwertes empfindlich ist und durch Einwirkung von solchen belichtet und entwickelt und
durch Dispersion (Streuung) des durchgehenden, im wesentlichen undurchsichtigen Filmes im wesentlichen
durchsichtig gemacht wird. Der durchgehende, im wesentlichen undurchsichtige Film wirkt also positiv, d. h.
liefen positive Abbilder. Vorzugsweise ist das Flexible Substrat ein dunner, im wesentlichen transparenter
Film, der aus einem geeigneten Kunststoffmaterial gebildet
ist. so daß er Dias liefert, die im Durchblick- bzw.
Durchhchtverfahren betrachtbar sind. Andererseits kann rta« HaViKIf* ^iiHctrnt pin \\r>Yi1ri*f\f*\itif*mnr\i*r PIIm
sein, der aus weißen reflexionsfähigem Papier o. dgl. gebildet
ist, und Abbilder liefern, die im Anblick- oder Auflichtverfahren betrachtbar sind.
Wenn der trockenverarbeitbare Maskenfilmstreifen in der oben besprochenen Weise negativ arbeitet, wird
das darin hergestellte Abbild ein Mikronegativ des Originals sein, und wenn er. wie oben ebenfalls erläutert,
positiv arbeitet, wird das darin hergestellte Abbild des Originals ein Mikropositiv sein.
Obwohl gemäß dem allgemeinen Erfindungsgedanken der trockc ■■ erarbeitbare Mikroformatfilm die
Form eines Mikrofilmstreifens haben kann, auf den die Mikroabbilcier übertragen werden, kann er in vorteilhafter
Weiterbildung der Erfindung in der Form einer Mikrofiche- oder einer Mikroformatkarte vorliegen. Ein
ursprünglicher F.intrag kann an gewünschten Bildstellen
oder Punkten der Mikrofiche oder der Mikroformatkarte auf diese übertragen werden, und später können zusätzliche
Einträge an anderen gewünschten Bildstellen oder Punkten der Mikrofiche- oder Mikroformatkarte
auf diese übertragen werden, so daß diese »ergänzbar« ist und auf dem jeweils neuesten Stand gehalten werden
kann. Daher kann ein Archivar Mikroabbilder von Aufzeichnungen unter Nutzung aller Vorteile, die ein Mikrofilmarchiv
bietet, nach den gleichen Organisationsgrundsätzen wie Papierakten geordnet halten.
In dieser letzteren Hinsicht kann eine Mikrofiche- oder Mikroformatkarte gemäß der Erfindung in Längsund
Querrichtung mit Skalen oder Einrichtungen versehen sein, die ein Auflegen eines ausgewählten Teiles
derselben auf den mit einem Mikroabbild versehenen Trockenmaskenflmstreifen beim Hindurchführen desselben
durch die Bildübertragungsstation gestatten bzw. erleichtern, so daß Mikroabbilder auf die Mikrofiche-
oder Mikroformatkarte nach Wunsch als Ersteintrag oder später als Ergänzung übertragen werden können.
Es sind Maßnahmen getroffen, die es ermöglichen, die
Mikrofiche- oder Mikroformatkarte für diesen Zweck genau zu bestimmen und in die genaue Lage zu bringen.
Bei dem Verfahren und bei der Vorrichtung gemäß der Erfindung wird der Trockenmaskenfilmstreifen zur
Schaffung von Mikrodia-Einzelbildern in der Belichtungs- und Entwicklungsstation belichtet und entwikkelt,
und diese Mikrodia-Einzelbilder werden zur Übertragung der Mikroabbildungen auf die Trockenmikrofi-
r*hi*- λΗργ TrAi^liPnmilirnfnrmatVarto in rite* QiIrlAK
r-3- ö5
gungsstation transportiert Gemäß der Erfindung sind Maßnahmen getroffen, den Trockenmaskenfilmstreifen
nach jedem Transport eines Mikrodia-Einzelbildes für die Bildübertragung in die Bildübertragungsstation für
das nächste Arbeitsspiel an eine Stelle knapp vor der Belichtungsstelle in der Abbildungs- und Entwicklungsstation zurückzubringen. Auf diese Weise werden die
Mikrodia-Einzclbilder auf dem Trockenmaskenfilmstreifen an aufeinanderfolgenden Stellen, ohne wesentliche
Lücke zwischen diesen, erzeugt, so daß bei der Durchführung der Erfindung der Trockenmaskenfilmstreifen
bestens genutzt wird. Die Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens gemäß der Erfindung ist
mit gceigneicn Steuereinrichtungen für den Transport und Rücktransport des Trockenmaskenfilmstreifens in
dieser Weise ausgestattet. Wenn das Mikroabbild in dem Trockcnmaskenfilmsircifcn /u einem spiitcren
Zeitpunkt entwickelt ηIs belichtet wird, enthält die
Steuereinrichtung für den transport und Rücktransport
des Trockenmaskenfilmstreifens eine Einrichtung zum Vortransporticren des Mikroeinzelbildes von der Beli/iHiiincTccioiio 2.ΜΪ Entvvickiün^ss'e!!" in ^**** QiMo^om
gungs- und Entwicklungsstation für die Entwicklung des Mikroeinzelbildes zu einem Mikrodia-Einzelbild vor
Transport des letzteren in die Bildübertragungsstation.
Die Belichtungsstelle in der Belichtungs- und Entwicklungsstation
weist eine Kamera auf, die das Lichtreflexionsabbild von dem Original verkleinert und es zur
Schaffung eines Mikroabbildes in dem Trockenmaskenfilmstreifen auf diesen zur Einwirkung bringt. Die Entwicklu
:gsstelle in der Belichtungs- und Entwicklungsstation weist vorzugsweise einen erhitzten Kolben zum
gleichförmigen Erhitzen des Mikroabbildes in dem Trockenmaskenfürnstreifen für die Erzeugung des Mikrodias
auf. Die Bildübertragungsstation weist nicht nur eine Blitzlichtlampe zur Erzeugung kurzer Energieimpulse
oberhalb eines Schwellenwertes für die Übertragung der Mikroabbilder von dem Trockcnmaskcnfilmstreifen
auf den Trockenmikroformatfilm. sondern auch eine F.inrirhtung. wie einen Kniben, zur Ausübung eines
Druckes unter formschlüssigem Kontakt zwischen dem Trockenrnaskenfilmstreifen und dem Mikroformatfilm
bei der Übertragung des Mikroabbildes auf. Die Einzelheiten der Vorrichtung, einschließlich der bereits besprochenen,
werden unten eingehender besprochen. Auch die Konstruktion, Art und Eigenschaften des
Trockenmaskenfilmstreifens und des Trockenmikroformatfilmes werden im folgenden eingehender besprochen.
Des weiteren befaßt sich die Erfindung mit dem Verfahren und dem Zusammenwirken der Verfahrensschritte sowie mit dem Aufbau der Vorrichtung und
dem Zusammenwirken ihrer Teile.
Die Erfindung befaßt sich also mit einem Trockenverfahren zur Herstellung von archivfähigen Mikroformatwiedergaben
von lichtreflektierenden Originalen unter Verwendung eines trockenverarbeitbaren Maskenfilm-Streifens
(Trockenmaskenfilmstreifens), der lichtempfindlich ist und durch von dem Original reflektiertes,
formatverkleinertes oder verdichtetes Licht mit einem Mikroabbild versehen und zur Schaffung von Mikrodiaabbildern
in dem Maskenfilmstreifen beim Hindurchtransport desselben durch eine Belichtungs- und Entwicklungsstation
unter Wärmeanwendung entwickelt wird, sowie mit einer Vorrichtung zur Durchführung
dieses Verfahrens. Bei diesem Verfahren wird außerdem ein trockenverarbeitbarer Mikroformatfilm (Trockenmikroforrnatfilm}
verwendet, der gegenüber kurzen impulsen elektromagnetischer Energie oberhalb eines
Schwellenwertes sensitiv ist und durch die Einwirkung solcher Impulse durch die Mikrodiabilder des aufgeleg-
ten Maskenfilmstreifens beim Durchgang durch eine Bildübertragungsstation zur Schaffung von archivgeeigneten
Bildwiedergaben im Mikroformal entsprechend den Mikrodiaiibbildern in dein Trockcnmaskenfilmstrcifen
und folglich entsprechend dem Original mit Mikrobildern versehen und einwickelt wird. Dieser Mikrofontiiitfilm
hat vorzugsweise die Form einer Mikrofiche oder Mikroformatkarte.
In der Zeichnung sind einige bevorzugte Ausführungsformen
der Erfindung beispielsweise dargestellt.
Fig. 1 ist eine teilweise geschnittene schematische Darstellung einer bevorzugten Ausführungsform der
Vorrichtung zur Veranschaulichung des zugehörigen Verfahrens;
F i g. 2 ist eine Draufsicht auf einen Teil der Vorrichtung
gemäß Fig. 1;
Fig. 3 ist ein Zeitplan zur Veranschaulichung der Programmsteuerung der in Fig. 1 und 2 dargestellten
Vorrichtung;
F i g. 4 ist eine perspektivische Darstellung einer Tisch- oder Pultvorrichtung mit den Merkmalen gemäß
Fig. 1 und 2;
F i g. 5 ist ein Schnitt durch die Entwicklungsstelle der Belichtungs- und Entwicklungsstation gemäß F i g. 1 in
größerem Maßstab;
F i g. 6 ist ein Schnitt durch einen Teil der Bildübertragungsstation
gemäß F i g. 1 in größerem Maßstab;
F i g. 7 ist eine schematische Darstellung des Originals, von dem mittels der bevorzugten Ausführungsform der Vorrichtung gemäß der F.rfindung ein Mikroabbiid
hergestellt werden soll;
Fig.8 ist eine schematischc Darstellung des mit einem
Bild versehenen und entwickelten Trockenmaskenfilmstreifens;
F i g. 9 ist eine schematische Darstellung des Trockenmikroformatfilmes,
auf den das Abbild übertragen wurde;
Fig. 10 ist eine schematische Darstellung des bevorzugten
Trockenmaskenfilmstreifens vor der Belichtung in vergrößertem Maßstab;
F i g. 11 ist eine schematische Darstellung des Trokkenmaskenfilmstreifens
nach einleitender Belichtung;
Fig. 12 ist eine schematische Darstellung des einleitend
belichteten Trockenmaskenfilmstreifens nach der Entwicklung;
Fig. 13 ist eine schematische Darstellung einer bevorzugten
Ausführungsform des Mikroformatfilmes;
F i g. 14 ist eine schematische Darstellung des auf den belichteten und entwickelten Trockenmaskenfilmstreifen
gemäß Fig. 12 aufgelegten Mikroi'ormatfilmes gemäß Fig. 13;
Fig. 15 ist eine schcmatische Darstellung ähnlich
Fig. 14 /ur Veranschaulichung der Übertragung des Abbildes von dem Maskenfilmstreifen auf den Mikroformalfilm;
Fig. 16 ist eine schematische Darstellung des Mikroformatfilmes
mit dem darauf übertragenen Abbild;
Fig. 17 ist eine schematische Darstellung des Originals,
das gemäß einer abgewandelten Ausführungsform der Erfindung im Mikroformat abgebildet werden soll;
F i g. 18 ist eine schematische Darstellung einer abgewandelten Form eines Trockenmaskenfilmstreifens
nach Belichtung und Entwicklung;
F i g. 19 ist eine schematische Darstellung eines Trokkenmikroformatfilmes,
auf den das Bild übertragen wurde;
Fig. 20 ist eine schematische Darstellung einer abgewandelten
Ausführungsform eines Trockenmaskenfilmstreifcns vor der Belichtung;
Fig. 21 ist eine schcmatische Darstellung des Trokkenmaskcnfilmstreifens
gemäß F i g. 20 nach Belichtung und Entwicklung durch Wiirmc;
ι F ig. 22 ist eine schematisclie Darstellung einer bevorzugten
Ausführungsforni des Mikroformatfilmes;
F i g. 23 ist eine schematischc Darstellung des Mikroformatfilmes gemäß F i g. 22 in dem auf den belichteten
und entwickelten Maskenfilmstreifen gemäß Fig.21
ίο aufgelegten Zustand;
Fig. 24 ist eine schcmatische Darstellung ähnlich Fig. 23 zur Veranschaulichung der Übertragung des
Abbildes von dem Maskenfilmsireifen auf den Mikroformalfilm;
und
F i g. 25 isi eine schematische Darstellung des Mikroformatfilmes
mit dem darauf übertragenen Abbild.
Fig. 1,2 und4zeigen eine Ausführungsform der Vorrichtung
10 zur Durchführung des Trockenverfahrens gemäß der Erfindung. Die Vorrichtung weist im allgemeinen
eine Belichtungs- und Entwicklungsstation 11, 12 und eine Bildübertragungsstation 13 auf. Verwendet
werden ein trockenverarbeitbarer Maskenfilmstreifen als Zwischenträger 14, der durch die Belichtungs- und
Entwicklungsstation 11, 12 und die Bildübertragungsstation 13 hindurchgeführt wird, sowie ein trockenverarbeitbarer
Mikroformatfilm als Mikrokopieträger 15. der in der Bildübertragungsstation 13 auf den Trockenmaskenfilmstreifen
14 aufgelegt wird. Der Mikroformatfilm 15 wird vorzugsweise, wie dargestellt, in der
Form einer Mikrofiche oder Mikroformatkarte verwendet.
Die Belichtungs- und Entwicklungsstation 11, 12 weist vorzugsweise eine Bildaufnahmestelle, an der ein
Einzelbildabschnitt des Trockenmaskenfilmstreifens 14 mit einem Mikroabbild belichtet wird, und eine Entwicklungsstelle
auf. an der der belichtete Einzelbildabschnitt zur Erzeugung eines Mikrodia-Einzelbildes unter
Wärmeeinwirkung entwickelt wird. Zu Zwecken der Veranschaulichung ist hier die Entwicklungsstelle 12 in
einem Abstand gleich zehn Einzelbildbreiten von der Belichtungsstelle 11 entfernt angeordnet Ebenfalls für
die Zwecke der Veranschaulichung ist hier die Bildübertragungsstation 13 in einem Abstand von zwanzig Mikroeinzelbildbreiten
von der Entwicklungsstelle 12 und somit in einem Abstand von dreißig Mikroeinzelbildbreiten
von der Belichtungsstelle 11 der Belichtungsund Entwicklungsstation 11, 12 angeordnet. Nach Mikrobelichtung
des Trockenmaskenfilmstreifens 14 zur Schaffung eines Mikroeinzelbildes A (voll ausgezogen
in F i g. 2) an der Belichtungsstelle 11 wird der Maskenfilmstreifen
14 um zehn Einzelbildbreiten transportiert, so daß das mikrobelichtete Einzelbild in die Warmentwicklungsstelle
12 gebracht wird (wie in unterbrochenen Linien bei ß in F i g. 2 angedeutet), an der das mi-
v> krobelichtetc Einzelbild warmentwickelt wird. Nach
Warmentwicklung des mikrobelichteten Einzelbildes in dieser Weise wird der Maskenfilmstreifen 14 um weitere
zwanzig Mikrobildbreiten weitertransportiert, so daß das mikrobelichtete und entwickelten Einzelbild in die
bo Bildübertragungsstation 13 (in unterbrochenen Linien
bei Cin F i g. 2 gezeigt) gebracht wird, in der das Mikrobild
auf dem Maskenfilmstreifen 14 auf den Mikroformatfilm 15 übertragen wird. Nach Übertragung des Mikroabbildes
in dieser Weise wird der Maskenfilmstreifen 14 um neunundzwanzig Bildbreiten zurücktransportiert,
so daß das mikrobelichtete Einzelbild an einem Punkt 111, eine Einzelbildbreite vor der Bildbelichtungsstelle
11 der Belichtungs- und Entwicklungsstation
11, 12 (unterbrochene Linien D in Fig.2) gelangt. Bei
Beendigung dieses Arbeitszyklus bietet sich der Bclichtungsstellc 11 für eine Wiederholung des beschriebenen
Zyklus eine noch unverbrauchte Einzclbildbrcilc oder ein unbelichteter Abschnitt des Trockcnmaskcnfilmcs
14, anschließend an die bereits belichtete Einzelbildbrcite D dar. Auf diese Weise bleibt praktisch kein Teil des
Trockenmasl'cnfilmslrcifcns 14 ungenutzt.
Der Trockenmaskenfilmstreifen 14 wird von einer
Vorratsrolle 20 abgezogen, die in geeigneter Weise mit einem Rückzugmotor 21 vei bunden ist, der die Aufgabe
hat, den Maskenfilmstreifen 14 bei Fehlen einer Transportkraft auf die Rolle 20 aufzuwickeln, jedoch ein Abziehen
des Maskenfilmstreifens 14 von der Rolle 20 unter Überwindung des Rückzugmomentes des Motors 21
zu gestatten. Der Rückzugmotor 21 wirkt also als Federbelastung auf die Vorratsrolle 20 zur Aufrechterhaltung
einer Zugspannung in dem Maskenfilmstreifen 14, unter der der Filmstreifen 14 auf die Vorratsrolle 20
aufgewickelt wird, wenn dies zugelassen wird, die jedoch ein Abziehen des Maskenfilmstreifens von der
Vorratsrolle 20 unter Zugspannung zuläßt, wenn dies gewünscht wird. Der Maskenfilmstreifen 14 wird von
einer Rolle 22 zwischen zwei Plattenglieder 23 und 24 gelenkt, die vorzugsweise voneinander trennbar angeordnet
sind. Eines dieser Plattenglieder, vorzugsweise das Plattenglied 23, ist mit einer Nut 32 zur Führung des
Maskenfilmstreifens 14 zwischen den Plattengliedern 23 und 24 ausgestattet. Das andere Ende des Maskenfilmstreifens
14 wird mittels einer Rolle 25 zwischen zwei federbelastete Klemmrollen 26 und 27 gelenkt, die vorzugsweise
irn Interesse des schlupffreien Angriffs an dem Maskenfilmstreifen 14 mit einer Kaulschukauflage
an der Oberfläche versehen sind. Die Klemmrolle 26 ist mittels eines Schrittmotors 29 angetrieben und treibt
ihrerseits eine Aufwickelrolle 28 über einen elastischen Schlupfriemen 30, der eine Riemenscheibe 31 an der
Aufwickelrolle mitnimmt. Der Maskenfilmstreifen 14 wird von den Klemmrollen 26 und 27 der Aufwickelrolle
28 zugeführt. Der Antrieb 30, 31 für die Aufwickelrolle 28 wirkt im Sinne der Aufrechterhaltung der Zugspannung
in dem Abschnit* des Maskenfilmstreifens 14 zwischen den Klemmrollen 26 und 27 und der Aufwickelrolle
28. Beim schrittweisen Betrieb des Schrittmotors 29 in der einen Richtung bewirken die Klemmrollen 26 und
27 einen Transport des Maskenfilmstreifens 14 und Überwindung des Rückzugmomentes des Rückzugmotors
21 von links nach rechts (F i g. 1). Wenn der Schrittmotor 29 ruht, ruhen auch die Klemmrollen 26 und 27
und halten den Maskenfilmstreifen 14 entgegen der Wirkung des Rückzugmotors 21 in Ruhe. Wird der
Schrittschaltmotor 29 schrittweise in der entgegengesetzten Richtung betrieben, ziehen die Klemmrollen 26
% und 27 den Maskenfilmstreifen 14 in der entgegengesetzten
Richtung ab und geben ihn für den Rücktransport unter dem Einfluß des Rückzugmotors 21 von
rechts nach links (F i g. 1) frei.
Die Bilderzeugungs- oder Belichtungsstelle 11 der Belichtungs- und Entwicklungsstation weist eine Auflagerung
35, beispielsweise eine Glastafel, für die Auflagerung eines im Mikroformat abzubildenden Originals 36,
beispielsweise eines Dokumentes o. dgl, auf. Dieses Original wird mittels Lampen 37 beleuchtet, und als solche
können Glühlampen, Wolfram, Quarz- oder Jodlampen verwendet werden. Diese Lampen 37 haben vorzugsweise
eine Gesamtenergie von etwa 1 kW und bilden eine Breitband-WciBlichtquelle zur Beleuchtung des
Originals 36.
Die Belichtungsstelle U weist auch eine Kamera 38 mit einer Lins,i*39 und vorzugsweise einem mittels eines
Mechanismus 41 in geeigneter Weise betriebenen Verschluß 40 zum Sammeln oder Verdichten des vom rc-
·> flektierten Licht des Originals 36 gebildeten Abbildes
auf Mikrobildgröße und /um Lenken desselben auf den Maskcnfilmslreifen 14 auf. Das Vcrklcincrungsvcrhältnis
auf die Mikrobildgrößc ist vorzugsweise etwa 24fach. Die Belichtungsstclle 11 weist vorzugsweise außerdem
eine von einer Feder 43 belastete Andruckplatte 42 zum Halten des Maskenfilmstreifens 14 in ebenem
Zustand und in geeigneter Bildebene in bezug auf die Linse 39 auf. Wenn für die Mikrobelichtung des Maskenfilmstreifens
14 das Original 36 mittels der Lampen 37 beleuchtet und der Verschluß 40 durch den Mechanismus
41 betätigt wird, wird ein latentes Mikroabbild erzeugt, und dieses muß dann warmentwickelt werden.
Die Warmentwicklung des latenten Mikroabbildes
erfolgt an der Entwicklungsstelle 12 der Belichtungs- und Entwicklungsstation. Die Entwicklungsstelle 12
weist einen beheizten Kolben 46 auf, der sich normalerweise in einer zurückgezogenen Stellung (F i g. 1) befindet,
so daß die Wärmequelle des Kolbens 46 normalerweise von dem Maskenfilmstreifen 14 ferngehalten
wird. Der Kolben 46 wird mittels eines geeigneten Motors oder einer Magnetspule 47 zum Angriff an dem
Maskenfilmstreifen 14 auseeschoben. Diese ausgeschobene Stellung des Kolbens 46 ist eingehender in F i g. 5
dargestellt. Der Kolben 46 ist vorzugsweise aus Aluminium ο. dgl. hergestellt und mittels eines thermostatgesleuerten
Heizkörpers 48 beheizbar. Wie dargestellt, ist der Kolben mit einer geeigneten Substanz geringer
Wärmeleitfähigkeit, wie Neoprene, beschichtet, so daß seine Oberfläche gleichmäßig beheizbar ist. Die Temperatur
der Heizfläche wird vorzugsweise auf ca. 124° C
gehalten. Wie in F i g. 5 gezeigt, ist die Heizfläche des Kolbens 46 mit quer zum Maskenfilmstreifen 14 liegender
Achse zylindrisch gewölbt und bewirkt eine Bewegung des Maskenfilmstreifens 14 nach oben in einen
Hohlraum 50. Diese Bewegung des Maskenfilmstreifens 14, der sich unter Zugspannung befindet verhindert ein
Kräuseln des Maskenfilmstreifens und bewirkt eine gleichmäßige Berührung zwischen dem Maskenfilmstreifen
14 und dem Kolben 46 für die Wärmeübertragung zur präzisen Entwicklung des latenten Bildes in
dem Maskenfilmstreifen 14 zu einem Mikrodia. Nach beendeter Warmentwicklung der Mikroabbildung wird
der Kolben 46 zurückgezogen und für die Warmentwicklung des nächsten latenten Mikroabbildes in dem
Maskenfilmstreifen 14 bereitgemacht.
In der Bildübertragungsstation 30 wird über einem " Glasfenster 55 in dem Plattenglied 23 mit einer Umrißform,
die dem Einzelmikro-Abbild in dem Maskenfilmstreifen
14 entspricht, auf den letzteren der Mikroformatfilm 15 aufgelegt. Dann wird durch das Glasfenster
55 und den mit dem Mikroabbild versehenen und entwickelten Einzelbildabschnitt des Maskenfilmstreifens
14 hindurch auf den Mikroformatfilm 15 ein kurzer Energieimpuls hindurchgeschickt, durch den das Mikroabbild
von dem Maskenfilmstreifen 14 auf den Mikroformatfiim
15 übertragen wird. Die Energiequelle 56 ist vorzugsweise eine Xenon-Blitzlichtröhre. Die Xenonblitzlichtröhre
eine elektrische Energieaufnahme von maximal ca. 50 J. Sie ist eine Röhre von Breitbandtyp
mit einem Wellenlängenbereich von UV bis IR. ca. 2000
bis 10 000 Ä. Anstatt einer Xcnonblilzlichtröhrc als
Quelle der kurzen tincrgicimpulsc oberhalb eines Schwellenwertes könnte ein Breitflecklaser oder ein
J. T \J\J 1
Abtastiascr verwendet werden.
Wie oben zum Ausdruck gebrecht wurde, hat der
Mikrofonniitfilm vorzugsweise die Form einer Mikrofif-he
oder Mikroformatkarte mit normalen Abmessungen von 100 · 150 mm zur Aufnahme von bis zu 96 Mikroabbildungen
bei dem 24fachcn Verkleinerungsverhältnis der Vorrichtung. Zur Längs- und Quereinstellung
der Mikrofiche 15 ist diese in einen offenen Rahmen 57 eingesetzt, der in einem offenen Rahmen 58 quer
zum Maskenfilmstreifen 14 beweglich ausgebildet ist. Der offene Rahmen 58 ist seinerseits in bezug auf den
Maskenfilmstreifen 14 in geeigneten Führungen 61 längsbuwoglich. Die Rahmen 57 und 58 können mittels
eines geeigneten Ansatzes 59 am Rahmen 57 mit einem Griff 60 in den gewünschten Richtungen bewegbar sein.
Durch Handhabung des Griffes 60 kann also jeder beliebige Punkt der Mikrofiche 15 an dem Glasfenster 55 mit
dem Maskenfilmstreifen 14 zur Deckung gebracht werden. Zur Anzeige der jeweiligen Stellung der Mikrofiche
i5 in bezug auf das Giasfensier 55 können an dem
Ansatz 59 und an der Führung 61 geeignete Skalen vorgesehen sein, die mit Zeigern 62 an der Führung 61 und
63 an dem Rahmen 58 zusammenwirken. Auf diese Weise können von dem Maskenfilmstreifen 14 Mikroabbilder
auf jede beliebige Stelle der Mikrofiche 15 übertragen werden.
Das Plattenglied 24 kann mit einer Abdeckung 65 versehen sein, die über den offenen Rahmen 57 und 58
liegt und mit einer mit dem Glasfenster 55 fluchtenden Öffnung für die Aufnahme eines Xolbens 66 versehen
ist. Der Kolben 66 befindet sich normalerweise in einer zurückgezogenen Stellung (Fig. 1), ist jedoch mittels
eines Motors oder einer Magnetspule 67 in eine ausgeschobene
Stellung (F i g. 6) verschiebbar. Der Kolben 66 weist einen rechteckigen Kautschukpolster 68 von im
wesentlichen der gleichen Umrißform wie das Fenster 5Si auf.
Wenn der Motor oder die Magnetspule 67 in Tätig
keit gesetzt wird und den Kolben 66 ausschiebt, werden die Mikrofiche 15 und der Maskenfilmstreifen 14 zwischen
dem Kautschukpolster 68 und dem Glasfenster 55 festgeklemmt, so daß zwischen der Mikrofiche 15 und
dem Maskenfilmstreifen 14 eine gute und feste Anlage gewährleistet ist, wenn zur Übertragung des Abbildes
von dem mikrobelichteten Dia des Maskenfilmstreifens 14 auf die Mikrofiche 15 durch diese Energieimpulse
oberhalb eines Schwellenwertes hindurchgeschickt werden.
Der Schrittmotor 29 für den Antrieb der Klemmrollen 26 und 27 in der einen oder anderen Richtung ist von
herkömmlicher Konstruktion und wird in der einen oder anderen Richtung durch in der einen bzw. anderen Richtung
wirksame, intermittierende Signale schrittweise betrieben. Wenn dem Schrittmotor 29 keine solchen intermittierenden
Signale zugeführt werden, bleibt dieser verriegelt b/w. in der jeweiligen Stellung in Ruhe. Der
Schrittmotor 29 ist mittels einer Schrittsteuer- und Zähleinrichtung
70 gesteuert. Wenn die Schrittsteuer- und Zähleinrichtung 70 durch ein Signal der einen oder der
entgegengesetzten Polarität erregt wird, liefert sie dem Schrittmotor 29 intermittierende Signale der einen oder
der entgegengesetzten Richtung zu und zählt die gelieferten Signale. Ein Computerlogik- oder Speichersystem
in der Schrittsteuer- und Zähleinrichtung 70 beendet die Zufuhr der intermittierenden Signale zu dem
Schrittmotor 29, sobald die Zahl der zugeführten Signale eine vorherbestimmte, gewählte Größe erreicht hat.
Zu Zwecken der Veranschaulichung ist hier angenommen, daß für den Transport des Maskenfilmstreifens 14
um eine Mikrobildbrcilc sechzehn intermittierende Signale
erforderlich sind. Wenn also ein Mikroeinzclbild auf dem Maskenfilmstreifen 14 von der Belichlungsstel-Ie
11 zur Entwicklungsstelle 12 in der Belichtungs- und Entwickiungsstation um zehn Einzelbildbrehen transportiert
werden soll, wird die Schrittsieuer- und -zähleinrichtung
70 unter dem Einfluß eines Signals der einen Polarität dem Schrittmotor 29 einhundertsechzig Impulse
der einen Richtung zuführen.
In ähnlicher Weise wird, wenn ein Mikroeinzclbild auf
den Maskenfilmstreifen von der Belichtungsslelle 12 der Belichtungs- und Entwicklungsstation um zwanzig Einzelbildbreiten
in die Bildübertragungsstation t3 transpc^tiert
werden soll, die Schrittsteuer- und -zähleinrichtung 70 unter dem Einfluß eines Signals der gleichen
Richtung dem Schrittmotor 29 dreihundertzwanzig Impulse der gleichen Richtung zuführen. Wenn umgekehrt
ein Mikroeinzelbild auf dem Maskenfilmstreifen aus der Biidüuci udgüngSStüuün Ij üiTi ncüfiüriuZ'vvciFiZig CinZc'ibildbreiten
an eine Stelle Ul eine Einzelbildbreite vor der Belichtungsstelle 11 in der Belichtungs- und Entwicklungsstation
transportiert werden soll, liefert die Schrittsteuer- und Zähleinrichtung unter dem Einfluß
eines Signals der entgegengesetzten Polarität dem Schrittschaltmotor 29 vierhundertvierundsechzig Impulse
der entgegengesetzten Richtung zu.
Die Lampen 37 und der Verschluß 40 an der Belichtungsstelle 11 und der Heizkolben 46 an der Entwicklungsstelle
12 der Belichtungs- und Entwicklungsstation, die Energiequelle 56 und der Kolben 66 an der Bildübertragungsstation
13 sowie die Schrittsteuer- und Zähleinrichtung 70 und der Schrittmotor 29 für den Transport
und Rücktransport des Maskenfilmstreifens 14 werden im Verlauf eines Betriebszyklus entsprechend dem in
Fig.3 dargestellten Zeitplan mittels einer Zyklusprogrammsteuerung
72 (Fig. 1) folgemäßig betrieben und ir» ~*CL\i\\rAr\ ^nnaAr/inatAi. \X/aicA rrattoiiort ΓΛίο 7tiUiiC-
■ 11 bblUI<.ll (.UgVUlUIIbIVl TTVIov £.vOVVUVI I. I^IV t.Ji«UJ
programmsteuerung 72 weist eine Zyklussteuerung auf, die durch einen Startschalte; 74 in Betrieb gesetzt wird,
der beim Antippen (momentanen Schließen) die Zyklusprogrammsteuerung 72 während eines vollständigen
Betriebszyklus in Betrieb hält. Ein Lichtschaltabschnitt 75 der Programmsteuerung 72 schaltet die Lam ,en 37
für die Beleuchtung des Originals 36 während einer Zeitdauer von ca. 1,5 s ein, und während dieses Intervalles
öffnet und schließt ein Verschlußsteuerteil 76 den Verschluß 40 mittels des Verschlußbebetätigungsmechanismus
41 zum Heranlassen des reflektierten Abbildes von dem Original 36 an den Maskenfilmstreifen 14
für die Erzeugung eines latenten Mikroabbildes an diesem. Während der nächsten 0.5 s liefert ein Maskenfilmstreifentransportabschnitt
77 der Programmsteuerung der Schrittschalt- und Zähleinrichtung 70 ein Signal der
einen Polarität für den Transport des Maskenfilmstreifens 14 um eine Strecke entsprechend 10 Einzelbildbreiten
zu. Während etwa der nächsten 5 s der Programmfolge schaltet ein Entwicklungssteuerabschnitt 78 der
Programmsteuerung den Motor 47. der den Heizkolben
eo 46 an der Entwicklungsstelle 12 der Belichtungs- und
Entwicklungsstation mit dem Maskenfilmstreifen 14 zur Berührung bringt, wodurch das dahin transportierte latente
Mikroabbild warmentwickelt wird und in dem Maskenfilmstreifen 14 ein entwickeltes Mikrodia er-
to zeugt wird. Annähernd während der nächsten Sekunde
liefert ein Maskeniilmstreifentransportabschnitt 79 der
Schrittsteuerungs- und Zähleinrichtung 70 ein Signal der gleichen Polarität für den Transport des Masken-
Filmstreifens 14 um eine Strecke entsprechend 20 Einzelbildbreiten,
so daß das Mikrodia aus der Entwicklungsstelle 12 zur Bildübertragungsstation 13 transportiert
wird. Anschließend betätigt während der nächsten ca. 1.5 s ein Klemmkolbensteuerabschnitt 80 den Motor
67 zum Ausschieden des Klemmkolbens 66 in der Biidübertragungsstation.
Während dieses letzteren Interval-Ies löst ein Lampenauslösesteuerabschnitt 81 in der Programmsteuerung
die Energiequelle 56 aus, so daß das Mikroabbild von dem Maskenfilmstreifen 14 auf die Mikrofiche
oder Mikroformatkane 15 übertragen wird. Während annähernd der nächsten 0,5 s liefert ein Steuerabschnitt
82 der Programmsteuerung der Schrittsteuerungs- und Zähleinrichtung 70 ein Signal der entgegengesetzten
Polarität für die Betätigung des Schrittschalters 29 in der entgegengesetzten Richtung für den
Rücktra.ii.port des Maskenfilmstreifens 14 um eine
Strecke entsprechend 29 Einzelbildbreiten, so daß die ursprünglich belichtete E:nzelbildbreite des Maskenfilmstreifens
14 /u dem Punkt 111 gebracht wird, der gegenüber der Be!:chiungsstcüc ! 5 der Bclichtungs- und
Entwicklungsstation um eine Einzelbildbreite verschoben liegt. Nach Beendigung dieses Betriebszykius wird
zur Herstellung eines weiteren Mikroabbildes ein neues
Original 36 dargeboten. Das neue Mikroabbild kann in einem Betnebszyklus. wie dem oben beschriebenen,
hergestellt werden, der durch momentanes Niederdrükken des Einschaltknopfes 74 eingeleitet wird.
In F ι g. 7 ist das Original 36. beispielsweise ein Dokument
od. dgl, mit weißem reflektierendem Hintergrund 85 und mit schwarzen, reflexionsunfähigen Daten oder
Einschnften 86 dargestellt.
Der Trockenmaskenfilmstreifen 14 in der Darstellung gemäß Fig. 10 ist in der einschlägigen Technik allgemein
als ein Trockensilberfilm bekannt und kann denjenigen entsprechen, die in der US-PS 31 52 903 und
31 52 904 beschrieben sind. Spezieller kann der Maskenfilmstreifen
14 ein Trockensilberfilm vom orthochromatischen
Typ ;it Filmempfindlichkeit gegenüber Wellenlängen
von UV bis grün (4000 bis 5000 K) oder noch
besser ein panchromatischer Film mit Empfindlichkeit
gegenüber Wellenlängen von UV bis /um fernen Rot
(4000 bis 7VI0 -\)s(-in.
Km solcher Trockensilberfilmstreifen (Fig. 10) weist
ein flexibles und im wesentlichen durchsichtiges Substrat
87 aus KunstMoff. w ic Polväthylenglycolterephthalat
oder äquivalentem, «.ic P>l>carbonat od. dgl. auf
Auf den Trager 87 ;st eine Schicht 88 aufgebracht, die
ebenfalls im wesentlichen transparent und gegenüber Licht photosensitiv ist und /ur Erzeugung von Diabildern
mit licht bein, htbar und durch Wärme trockenentvuckelbar
ist Her Maske:■· Imstreifen 14 hat eine Dicke
von ca η ■ mm. Die Schacht 88 enthält, durchwegs in
einem Har/bmder dispergiert. eine Beimischung eines
O\vda:i(>nsmiuels. eines Reduktionsmittels und einer
kjtaKsatorbildenden Verbindung, die bei Lichteinwir·
kun£ freie Silbernutjllkerne bildet. Bei einem speziellere-
Beispiel besteht die Beimischung als Silberbehenat al1- Oxydationsmittel. Hydrochinon als Reduktionsmit
te!, SiibetThUjnü ab Kaid!)satürbildner und als Harzbinder
ein Copolymer aus Butadien und Styrol. Photosensitiv ist nur das Silberchlorid.
Wie in F i g. 11 dargestellt, wird bei bild- oder mustermäßiger
Belichtung des Maskcnfilmstrcifens 14 durch
Lichtstrahlen 90. beispielsweise an der Bcliehlungsslclle 11 der Vorrichtung gemäß Fig. 1, in dem Silberchlorid
nur an denjenigen Stellen Photolytsilber gebildet, an denen zur Er7cugung latenter Abbilder 91 Lichtstrahlen
90 an dem Maskenfiimstreifen zur Wirkung gebracht werden. Die Zeitspanne, während welcher das Licht auf
den Maskenfiimstreifen einwirkt (die Belichtungszeit =f//2* beträgt ca. 13 s, was unter den Lichtbedingungen
gemäß der Erfindung angemessen ist
Wenn, wie in Fig. 12 veranschaulicht, auf den Maskenfiimstreifen
14. beispielsweise an der Entwicklungsstelle 12 der Vorrichtung gemäß F i g. I, Wärme 92 zur
Wirkung gebracht wird, fördert das pnotolytische Silber
to in den Bereichen des latenten Abbildes katalytisch eine Reaktion zwischen dem Oxydationsmittel Silberbehenat
und dem Reduktionsmittel Hydrochinon, und das Silberbehenat wird reduziert und bildet in den eingangs
belichteten, latenten Bildbereichen 91 Silberkristall-Bildbereiche
93. Die Zeitspanne, während welcher die Wärme auf den Maskenfiimstreifen zur Einwirkung gebracht
wird (Entwicklungszeit) beträgt ca. 5 s. und dies ist unter den Wärmeenergiebedingungen gemäß der Erfindung
(ca. 124° C) angemessen. Die Kombination einer Belichtungszeit von ca. 1,5 s und einer Entwicklungszeit
von ca. 5 s iiefcri eine optische Dichte von ca. 0.7 an den
belichteten und entwickelten Bereichen 93 und von ca. 0,15 an den unbelichteten Bereichen 88. Dies ist von
Bedeutung, wenn das entwickelte Abbild von dem Maskenfilmstreifen 14 in der Kopierstation 13 der Vorrichtunggemäß
Fig. I auf den Mikroformatfilm 15 übertragen wird. Trockensilberfilme werden normalerweise zur
Erzielung einer größeren optischen Dichte von ca. 2,75
beim entwickelten Abbild gewohnlich durch Erhitzen von 10 bis 30 s entwickelt. Das wirksame Auflösungsvermögen der belichteten und warmentwickelten Maskenfilmstreifenteile
beträgt ca. 380 Linien je mm. jedoch sind die entwickelten Bildbereiche 93 recht körnig, und
auch die Randbegrenzungen zwischen den belichteten Bereichen 93 und den unbelichteten Bereichen 88 sind
wegen des Umstandes. daß die belichteten Bereiche von kristallinem Silber gebildet sind, recht unregelmäßig.
Der belichtete und entwickelte Trockenmaskenfilmstreifen 14 ist in F i g. 8 dargestellt und hat im wesentlichen
durchsichtige Bereiche 88 entsprechend den schwarzen Bereichen 86 des Originals 36 und im wesentlichen
undurchsichtige Bereiche 93. entsprechend den weißen Bereichen 85 des Originals. Der Maskenfilmstreifen
14 ist also negativ wirkend, und die darin belichteten
Dias sind Negative des Originals 36.
Der Mikroformatfilm 15. der. wie oben erwähnt, vorzugsweise
die Form einer Mikrofiche oder Mikroformatkarte hat. ist in F ι g Π veranschaulicht. Es handelt
S'ch hier um einen Mikrolormatfilm. der im wesentlichen
gegenüber Licht unempfindlich, jedoch empfindlich gegenüber kurzen Impulsen elektromagnetischer
Energie oberhalb eines Schwellenwertes ist und durch Anwendung von solchen entsprechend einem im folgenden
als Dispersionsverfahren bezeichneten Verfahren belichtbar und entwickelbar ist. Derartige Trockenmikroformatfilme
können von ähnlicher oder gleicher Art sein wie die in der DE-OS 22 33 827 genannten.
Wie in den oben genannten Patentanmeldungen ausgeführt,
besteht der als Mikrokopieträger 15 dienende
bo Mikroformatfilm grundsatzlich aus einem flexiblen Substrat,
vorzugsweise aus im wesentlichen durchsichtigem Kunststoff, auf dem ein dünner, durchgehender, im wesentlichen
undurchsichtiger und cncrgicabsorptionsfähigcr Dispcrsionsabbildtitigsfiliii von relativ hoher
w> Oberflächenspannung im geschmolzenen oder erweichten
Zustand aufgetragen ist.
Beispiele solcher Abbildungsmaterialien vom Dispersionstyp.
die die genannten Erfordernisse erfüllen, sind
die chalcogeniden Elemente mit Ausnahme von Sauerstoff, und die solche enthaltenden glasigen oder kristallinen
Massen. Zu den besseren Dispersionsabbildungsmaterialien gehören Tellur und verschiedene Massen,
die Tellur und andere Chalcogenide enthalten, wie die folgenden Massen, deren Zusammensetzungen in Gewichisteilen
angegeben sind: 92,5 At.-% Tellur, 2,5 Al.-% Germanium, 2,5 At-% Silicium und 2,5 Al-0A
Arsen; eine Masse mit 95 At-% Tellur und 5 At.-% Silicium; eine Masse mit 90 At.-% Tellur, 5 At-% Germanium,
3 At.-°/o Silicium und 2 At.-% Antimon; eine Masse
mit 85 At-% Tellur, 10 At-% Germanium und 5 At.-°/o Wismut; eine Masse mit 85 At-% Tellur, 10 At.-% Germanium,
2,5 At-% Indium und 2p At.-°/o Gallium; eine Masse mit 85 At. -°/o Tellur. 10 At.-% Silicium, 4 At-%
Wismut und 1 At.-°/o Thallium: eine Masse mit 80 At.-°/o Tellur. 14 At.-% Germanium. 2 At.-°/o Wismut. 2 At.-%
Indium und 2 At-% Schwefel: eine Masse mit 70 At.-% Tellur, 10At.-% Arsen, IOAl-% Germanium und
10Al-% Antimon; eine Masse mit 60 AL-% Tellur, 20At.-% Germanium, 10 At-% Seien und !0At. %
Schwefel; eine Masse mit 60 At.-% Tellur, 20 At-% Germanium und 20 Af.-% Selen; eine Masse mit
60 At.-% Tellur. 20 At.-% Arsen. 10 At-% Germanium und 10 At-% Gallium; eine Masse mit 81 At.-°/o Tellur,
15 At.-% Germanium, 2 At-% Schwefel und 2 At.-% Indium; eine Masse mit 90 At-% Selen, 8 At-% Germanium
und 2 At-% Thallium: eine Masse mit 85 At-% Selen, 10 At-% Germanium und 5 At-% Kupfer; eine
Masse von 85 At-% Selen. 14 At-% Tellur und 1 At-% Brom; eine Masse mit 70 At-% Selen, 20 At-% Germanium
und IOAt-% Wismut: eine Masse mit 95 At-%
Selen und 5 At-% Schwefel; und Abwandlungen solcher Massen. Außerdem können die Dispersionsabbildungsmaterialien
Metalle oder Elemente sein oder solche enthalten, wie Wismut, Antimon. Selen, Cadmium,
Zink. Zinn. Polonium, Indium und Verbindungen dieser Metalle oder Elemente, wofür spezifische Beispiele Antimontrisulfid.
Wismuttrisulfid u. dgl. sind. Wismut bildet besonders geeignete und bevorzugte Dispersionsabbildungsmatenalien.
Eine bevorzugte Form des Mikroformatfilmes, der Mikrofiche oder der Mikroformatkarte 15 ist in F i g. 13
dargestellt Sie besteht aus einem flexiblen Substrat 95 aus im wesentlichen durchsichtigem Kunststoff, wie Polyathylenglycoiterephthalat
oder einem gleichwertigen Kunststoff, wie Polyäthylen. Polyacctat. Celluloseacetat,
Polypropylen. Polycarbonat od. dgl. Das Substrat 95 kann eine Dicke im Bereich von 175 bis 375 μπη haben,
wobei eine Dicke von ca. 250 μπι bevorzugt wird. Auf diesem Substrat 95 ist ein dünner, durchgehender massiver
Dispersionsfilm 96 aus Wismut mit einer Dicke im Bereich von ca. 1000 bis 2000 Ä, vorzugsweise durch
Aufdampfen (im Vakuum) od. dgl. aufgetragen. Dieser dünne durchgehende Dispersionsfilm oder die Wismutsthicht
96 ist wärmeabsorbicrend und hat einen Schmelzpunkt von 271.3 C. Über der Wismutschicht 96
ist in geeigneter Weise eine Außenschutzschicht 97 angebracht,
die aus einem im wesentlichen durchsichtigen Kunststoffilm aus Polyviniliden oder gleichwertigem
Material, wie Polyvinylalcohol, Polyvinylformal od. dgl., besteht Dieser Außenschutzfilm 97 hat eine Dicke von
ca. 1 μιτι.
Wenn sich der belichtete und entwickelte Abschnitt des Maskenfilmstreifens 14 in der Bildübertragungsstation
13 der Vorrichtung gemäß F i g. 1 befindet, wird der Mikroformatfilm 15, wie in Fig. 14 gezeigt, auf jenen
aufgelegt, wobei die im wesentlichen durchsichtigen Substrate oder Trägerschichten 95 und 87 einander abgewendet
an der Außenseite liegen. Wenn nun ein kurzer Impuls elektromagnetischer Energie oberhalb eines
Schwellenwertes, 98, zur Wirkung gebracht wird (F i g. 15). wie dies in der Bildübertragungsstation 13 der
Vorrichtung gemäß F i g. 1 geschieht, wird ein solcher Energieimpuls 98 von den belichteten und warmentwikkelten
Silbermetallbereichen 93 des Maskenfilmstreifens 14 absorbiert und gestreut, so daß er den Mikroformatfilm
15 in diesen Bereichen nicht wirksam erreicht und somit die durchgehende, undurchsichtige Dispersionsfilmschicht
% des Mikroformatfilmes an diesen Bereichen nicht beeinflußt
Durch die im wesentlichen durchsichtigen Bereiche 88 des Maskenfilmstreifens 14 und durch den schützenden
Außenfilm 97 des Mikroformatfümes 15 hingegen tritt ein solcher kurzer Energieimpuls 98 ohne weiteres
durch und erreicht dort die DispersionsfHmschichi % an
den Bereichen 99, und dort wird der Energieimpuls absorbiert Die Absorption des Impulses 98 elektromagnetischer
Energie bewirkt eine Erwärmung der Dispersionsfilmschicht
% an diesen Bereichen 99 mindestens bis zum Erweichen oder Schmelzen, so daß dann die
durchgehende, massive Dispersionsfilms\:hicht 96 an diesen Bereichen 99 aufgebrochen und in kleine und
weit voneinander entfernte Kügelchen dispergiert wird, so daß diese Bereiche im wesentlichen durchsichtig werden.
Diese Streuung des Materials der Dispersionsfilmschicht 96 an den erhitzten, weichen oder geschmolzenen
Bereichen 99 wird in erster Linie durch die Oberflächenspannung des erhitzten Materials hervorgerufen,
die das erhitzte Material veranlaßt, diese kleinen und voneinander weit entfernten Kügelchen zu bilden.
Wenn infolge des kurzen Impulses elektromagnetischer Energie diese Kügelchen gebildet sind, kühlen sie
schnell ab und behalten diesen kugelförmigen Zustand bei. so daß der im wesentlichen durchsichtige Zustand
der Bereiche 99 erhalten bleibt.
Die in großen Abständen voneinander liegenden Kügelchen haben natürlich eine größere Dicke als die dünne
durchgehende massive Dispersionsfilmschicht 96. denn das Volumen des Materials in den Bereichen 99 ist
natürlich unverändert geblieben. Diese Änderung der Dickenabmessung wird jedoch ohne weiteres durch die
Elastizität und den Charakter des flexiblen Substrates 95 sowie der flexiblen äußeren Schutzfilmschicht 97 des
Mikroformatfilmes 15 ausgeglichen.
Der fertige, mit einen, Mikroabbild versehene Mikroformatfüm.
die Mikrofiche oder die Mikrcformatkarte
15. die /ur Verwendung beim Abrufen der darauf aufgezeichnet
Daten oder Informationen geeignet und bestimmt ist. ist in Fig 15 veranschaulicht und weist das
im wesentlichen durchsichtige Substrat 95. den im wesentlichen durchsichtigen Außenschutzfilm 97. die
durchgehenden, massr.en. im wesentlichen undurchsichtigen
Bereiche % und die im wesentlichen durchsichtigen Bereiche 99 auf. Der Mikroformatfilm 15. der
ursprünglich im wesentlichen undurchsichtig ist und an den Stellen, an denen die elektromagnetische Energie
t>o zur Wirkung gebracht wurde, im wesentlichen durchsichtig
geworden ist, ist positiv wirkend und in Fig.9
mit im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen 96, entsprechend den im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen
93 des Maskenfilmstreifens 14. und mit im wesentliehen durchsichtigen Bereichen 99, entsprechend den
im wesentlichen durchsichtigen Bereichen 88 des Maskenfilmstreifens 14 dargestellt. Der Mikroformatfilm 15
ist also ein Positiv des Maskenfilmstreifens 14 und ein
Negativ des Originals 36. Die in dem Mikroformatfilm
15 hergestellten Mikroabbilder sind im Durchblickoder Durchlichtverfahren lesbare Mikrodias.
Die von der Energiequelle 56 (Xenonblitzröhre) erzeugten Kurzen Impulse elektromagnetischer Energie
liegen innerhalb des Bereiches von 10 ms bis hinunter zu
1 us und weniger, z. B. bis zu 0,1 μ5. Für einen kurzen
Impuls von 10 us beträgt die zum Herbeiführen der Dispersion in den Bereichen 99 des Mikroformatfilmes 15
(ohne den dazwischen liegenden Maskenfilmstreifen 14) von der Quelle zur Wirkung gebrachte Energie ca.
300 mj/cm2. Bei dazwischen eingelegtem Maskenfilmstreifen
14 beträgt die gelieferte Energie ca. 950 mj/cm2. Diese kurzen Impulse elektromagnetischer Energie der
angegebenen Werte stellen kurze Impulse oberhalb eine·;
Schwellenwertes dar. die die Abbildungseinträge in dem Mikrofonnatfiim 15 erzeugen. Die optischen Dichten
des Mikroformatfilmes 15 liegen im Bereich von 22 bis 2,5 für die unbelichteten, im wesentlichen undurchsichtigen
Bereiche 96 und im Bereich von 0.2 bis 0,3 für die im wesentlichen durchsichtigen belichteten Bereiche
99, und dies sorgt für hohen Kontrast. Dieser hohe Kontrast in dem Mikroformatfilm 15 wird durch die optischen
Dichten in dem Maskenfilmstreifen 14 erzeugt, die vergleichsweise nur ca. 0.7 für die belichteten, im
wesentlichen undurchsichtigen Bereiche 93 und ca. 0,15
mit einem Maximum von ca. 0,2C für die unbelichteten, im wesentlichen durchsichtigen Bereiche 88 betragen
und einen nur niedrigen Kontrast kennzeichnen.
Die Kombination einer kurzen Belichtungszeit von ca. 1,5 s für den Maskenfilmstreifen 14 an der Belichtungsstelle
11 tier Vorrichtung gemäß F ig. 1 anstatt einer
normalerweise vorg. .schrie' .men längeren Belichtungszeit
von bis zu 5 s. i/nd kurzen Entwicklungszeit
unter Wärmeanwendung von ca. Js an der Entwicklur.gsstelle 12 der Vorrichtung nach Fig. 1 anstelle der
normalerweise vorgeschriebenen längeren Warmentwicklungsdauer von 10 bis 30 s führt zu der genannten
optischen Dichte von ca. 0,7 für die belichteten, im wesentlichen undurchsichtigen Bereiche 93 des Maskenfilmstreifens
anstelle der unter der normalerweise vorgeschriebenen
längeren Belichtungsdauer und Warmentwicklungsdauer zu erwartenden höheren und erreichbaren
optischen Dichten von bis zu 2.75. Diese verhältnismäßig niedrige optische Dichte von ca. 0.7 verhindert
eine wesentliche Absorption der kurzen Impulse elektromagnetischer Energie. 98. an den belichteten und
im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen 93 des Maskenfilmstreifens 14. die zu Beschädigungen, wenn
nicht zur Zerstörung des Maskenfilmstreifens führen würde. Eine solche Zerstörung des Maskenfilmstreifens
14 durch übermäßige Absorption der Impulse elektromagnetischer
Energie würde so rasch vor sich gehen, daß eine Bilderzeugung auf dem Mikroformatfilm un
möglich wäre. Die Impulse 98 elektromagnetischer Energie werden von den belichteten, im wesentlichen
undurchsichtigen llemohen 93 des Maskcnfilmstreifens
14 in der Hauptsache absorbiert und gestreut, und die Menge an solcher Energie, die nicht gestreut oder absorbiert
wird sondern durih die belichteten, im wesentlichen
undurchsichtigen Bereiche 93 hindurchtriu, liegt
unterhalb des Schwellenwertes, der für die Bilderzeugungsdispersion der Dispersionsabbiklungsschicht 96
des Mikroformatfilmcs 1.5 erforderlich ist, und bewirkt
keine bilderzeugende Belichtung dieser Bereiche in dem Mikroformatfilm 15, die den Bereichen 93 des Maskenfilmstreifens
14 entsprechen.
Da die im wesentlichen undurchsichtige Dispersionsabbildungsschicht
% des Mikroformatfilmes 15 eine durchgehende massive Schicht ist, ist sie nicht körnig
und unterscheidet sich in dieser Hinsicht von den belichteten und entwickelten Bereichen 93 des Maskenfilm-Streifens
14, die notwendigerweise körnig sind, da sie Silberkristalle enthalten. Dies hat zur Folge, daß die
Begrenzungen (Ränder) zwischen den im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen 99 und den im wesentlichen
durchsichtigen Bereichen 97 des Mikroform.-tfilmes 15
ίο eine größere Randschärfe aufweisen als die Begrenzungen
zwischen den körnigen, im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen 93 und den im wesentlichen durchsichtigen
Bereichen 88 des Maskenfilmstreifens 14. Es hat sich gezeigt, daß der Maskenfilmstreifen 14 eine
υ hohe Randschärfe bei dem Mikroformatfilm 15 ergibt,
obwohl seine eigene Randschärfe erheblich geringer ist. Dies ist auf das hohe Gamma (größer als 10) des Dispersionsmaterials
zurückzuführen. Wegen der hohen Randschärfe hat der Mikroformatfilm 15 ein Auflösungsvermögen
von 600 Linien/mm gegenüber einem Auflösungsvermögen von im wesentlichen nur 380 Linien/
mm für den Maskenfilmstreifen 14. Infolgedessen ist die Schärfe beim Mikroformatfilm 15 wesentlich so groß
wie bzw. größer als die beim Maskenfilmstreifen 14.
Bei der obigen Beschreibung wurde das flexible Substrat 95 des Mikroformatfilmes 15 als im wesentlichen
transparentes Ku.rststoffsubstrat beschrieben, und in diesem Fall sind die darin erzeugten Mikroabbilder Mikrodias,
die im Durchblick- oder Durchlichtverfahren lesbar sind. Statt dessen kann jedoch das flexible Substrat
95 aus einem lichtreflektierenden Material, wie weißem Papier, gebildet sein, das durch die im wesentlichen
durchsichtigen Bereiche 99 Licht zu reflektieren vermag, so daß die auf dem Mikroformatfilm 15 als
Mikrobildeinträge gebildeten Daten oder Informationen im Anblick oder Auflichtverfahren lesbar sind.
Eine abgewandelte Form des Maskenfilmstreifens 14 ist bei 144 in Fig. 20. 21. 23 und 24 veranschaulicht. Es
handelt sich um einen zum Unterschied von dem oben besprochenen, bevorzugten, negativ arbeitenden, ursprünglich
im wesentlichen durchsichtigen Maskenfilmstreifen 14 ursprünglich im wesentlichen undurchsichtigen,
positiv arbeitenden Maskenfilmstreifen. Wie in F i g. 20 gezeigt, weis: dieser ein im wesentlichen durchsichtiges,
flexibles Substrat 101 aus Kunststoff, ähnlich dem Substrat 87 des Maskenfilmstreifens 14, auf. Auf
dem Substrat 101 ist eine dünne, durchgehende, massive
Schicht 102 aus im wesentlichen undurchsichtigem und reflektierendem metallischem Silber, und auf dieser eine
dünne Schicht 103 aus im wesentlichen durchsichtigem Arsentrisulfid (As2Si) aufgetragen.
Wenn nun, wie in F i g. 21 veranschaulicht, ein Abbild oder ein Muster aus reflektiertem Licht 90 durch die im
wesentlichen durchsichtige As.-Si-Schicht auf die diese
51) tragende Seite des Maskenfilmstreifens 14/\ zur Wirkung
gebracht w ird. wie dies an der Behchtungsstelle 11
der Vorrichtung gemal.1 F i g. 1 geschieht, und wenn
gleichzeitig auf den Masktnfilmstrcifen 144 Wärme 92
zur Wirkung gebracht wird, bewirkt das Itild oder Muslcr
aus reflektiertem Licht 90 eine Reaktion, die an der
Grenzfläche zwischen der A.S2Sj-Schichl 103 und dem
metallischen Silber beginnt und an den belichteten Bereichen 104 ein im wesentlichen durchsichtiges Reiik-(ionspriulukl
erzeugt. Zur gleichzeitigen Erwärmung
bO des Maskcnfilmslreifcns i4/A während dci Belichtung
und Entwicklung an der Bclichuingsstelle der Vorrichtung gemäß Fig. 1 kann die Andruckplatte 42 an der
Belichtungsstelle 11 in zweckmäßiger Weise beheizt
sein, und die daran anschließende Warmentwicklungsstelle
12 der Vorrichtung gemäß F i g. 1 kann außer Betrieb bleiben oder entfallen. In diesem Fall kann der
Schrittmotor 29 von der Schrittsteuerungs- und Zähleinrichtung 70 und der Programmsteuerung 72 für den
Betriebszyklus derart gesteuert sein, daß er den MaskenfUmstreifen
14/4 in einem Zug um 30 Einzelbildbreiten verschiebt, so daß das mikrobelichtete und entwikkelte
Einzelbild vom Punkt A an der Belichtungsstelle 11 direkt an den Patikt Cder ßildübertragungsstation 13
gebracht wird, und anschließend an die Bildübertragung den Maskenfilmstreifen 14/4 in der anhand der F i g. 1
und 2 beschriebenen Weise um 29 Einzelbildbreiten zurückverschiebt, so daß das mikrobelichtete Einzelbild
vom Punkt C an der Station 13 in die Stellung D am Punkt 111, knapp vor dem Punkt 11 gebracht wird.
Der ursprünglich im wesentlichen undurchsichtige, in
dieser Weise mit einem Mikrobild versehene und entwickelte Maskenfilmstreifen 14/4 weist im wesentlichen
undurchsichtige Bereiche 102 und — an den belichteten und entwickelten Stellen — im wesentlichen durchsichtige
Bereiche 104 auf (F i g. 21 und 18). Der Maskenfiirpstreifen 14/4 ist daher positivwirkend und liefert ein Mikrodiapositiv
des Originals 36 (F ig. 17 und 18).
Der Mikroformatfilm 15 ist der gleiche, wie oben beschrieben,
und weist, wie in Fig.22 bis 25 veranschaulicht,
ein flexibles, im wesentlichen durchsichtiges Substrat 95 aus Kunststoff, eine im wesentlichen undurchsichtige
Dispersionsabbildungsschicht % und eine im wesentlichen durchsichtige Schutzschicht 97 auf. Wie in
F i g. 23 gezeigt, wird der Mikroformatfilm, wenn sich der zu übertragende, belichtete und entwickelte Teil des
Maskenfilmstreifens HA in der Bildübertragungsstation 13 der Vorrichtung gemäß F i g. 1 befindet, auf diesen
derart aufgelegt, daß die im wesentlichen durchsichtigen Substrate an den Außenseiten liegen. Wenn nun,
wie in F i g. 24 angedeutet, ein kurzer Impuls elektromagnetischer Energie oberhalb eines Schwellenwertes, 98,
zur Wirkung gebracht wird, wie dies in der Bildübertragungsstation
Π der Vorrichtung gemäß F i g. 1 geschieht. wird dieser Energieimpuls 98 von den unbelichteten,
massiven und durchgehenden undurchsichtigen Bereichen 102 der Schicht aus metallischem Silber reflektiert,
so daß er den Mikroformatfilm 15 in diesen Bereichen nicht erreicht und dort die durchgehende, undurchsichtige
Dispersionsabbildungsschicht 96 nicht beeinflußt. Da die elektromagnetische Energie 98 von den
unbelichteten Bereichen 102 reflektiert wird, erreicht sie auch nicht die Trennfläche zwischen diesen Bereichen
102 und dem hinter diesem liegenden AsjSi-Material
103. so daft durch die elektromagnetische Energie 98 keine Reaktion zwischen dem Silber und dem As>Si
hervorgerufen wird. Auf diese Weise bleibt die Unversehrtheit der Mikroabbildungen auf dem Maskenfilm
streifen 14 in der Bililübertragungsstation 13 der vOrrichtung
gemäß F i g. 1 erhalten.
An denjenigen Bereichen 99 des Mikroformutfilmes
Id. die der Energicimpuls in der oben besprochenen
Weise im wesentlichen durchsichtig machen soll, tritt
hingegen der kurze Energieimpuls 98 ungehindert durch die im wesentlichen durchsichtigen Bereiche 104 des
Maskenfilmstreifens 14Λ hindurch und gelangt an die Dispersionsfilmschicht 96. Der belichtete Mikroformatfilm
15 ist in Fig.25 dargestellt. Der Mikroformatfilm
15 der ursprünglich im wesentlichen undurchsichtig war und der an den Stellen der Einwirkung der elektromagnetischen
Energie im wv-entlichcn durchsichtig geworden
ist, ist positivwirkend und hat entsprechend der Darstellung in F i g. 19 im wesentlichen undurchsichtige
Bereiche 96 entsprechend den im wesentlichen undurchsichtigen Bereichen !02 des Maskenfilmstreiiens 14Λ
und im wesentlichen durchsichtige Bereiche 99 entsprechend den im wesentlichen durchsichtigen Bereichen
104 des Maskenfilmstreifens 14A Der Mikroformatfilm 15 ist also ein Positiv des Maskenfilmstreifens 14Λ und
ein Positiv des Originals 36.
Da der Mikroformatfilm 15 nicht lichtempfindlich ist und nur durch einen kurzen Impuls elektromagnetischer
Energie oberhalb eines Schwellenwertes durch einen Dispersionsvorgang belichtet wird, zeichnet er sich
durch hervorragende Archiveignung aus, da er über jahrelange Zeiträume keine Schädigungen durch Licht,
Temperatur, Feuchtigkeit und Alterung erleidet.
Das Trockenverfahren und die Vorrichtung zu dessen Durchführung gemäß der Erfindung eignen sich insbesondere
für Pult- oder Tischgeräte zur Verwendung in Büros o. dgl. Eine solche Büromaschine gemäß der Erfindung
ist schematisch in F i g. 4 veranschaulicht und weist, wie dargestellt, ein geeignetes -"ehäuse 106 auf,
das die Vorrichtung zur Durchführung des Trockenverfahrens enthält. Zusätzlich zum Startschalter 74 kann
die Vorrichtung zusätzliche Steuereinrichtungen, beispielsweise wie bei 107 dargestellt, aufweisen. Im übrigen
wurden in Fig.4 zur Bezeichnung der Teile der
Vorrichtung die gleichen Bezugszeichen wie in F i g. 1 verwendet.
Hierzu 5 Blatt Zeichnungen
Claims (16)
1. Verfahren zum Herstellen von Mikrokopien auf trockenem Wege unter Verwendung von Dispersionsabbildungsmalerial,
bei dem das Original fotooptisch auf einem Zwischenträger abgebildet wird, der gegenüber den vom Original reflektierten bzw.
durchgelassenen Lichtstrahlen fotoempfindlich ist, und bei dem die Abbildung in einer Bildübertragungsstation
durch mindestens einen kurzen Energieimpuls vom Zwischenträger auf einen das Dispersionsabbildungsmaterial
aufweisenden Kopieträger übertragen wird, dessen optischer Zustand gegenüber
Lichtstrahlen sich in Abhängigkeit von dort is auftreffender elektromagnetischer Energie ändert,
die eine zum Ändern dieses optischen Zustands erforderliche Energieschwelle überschreitet, der aber
gegenüber der vom Original reflektierten bzw. durchgeli^senenen elektromagnetischen Energie
unterhalt- der Energieschwelle unempfindlich ist, dadurch gekennzeichnet, daß der fotoempfindliche
Zwischenträger zuerst mit einer (verkleinerten) Mikroabbildung des Originals belichtet
und durch Wärme derart entwickelt wird, daß die belichteten und entwickelten Bereiche eine gegenüber
der erzielbaren optischen Dichte geringe optische Dichte aufweisen, und daß der Zwischenträger
dann zur Büdübertragungsstation befördert und dort die entwickelte Mikroabbildung vom Zwischenträgemittels
des kurzen Energieimpulses auf einen Mikrokopieträger übertragen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der fotovirnpfindliche Zwischenträger
nur soweit belichtet und em /ickelt wird, daß die undurchsichtigen Bereiche eine optische Dichte von
nur etwa 0.7 und die durchsichtigen Bereiche von bis zu etwa 0,2 aufweisen.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der fotoempfindliche Zwischenträger
etwa 1,5 s lang mit einer Breitband-Weißlichtquelle belichtet und etwa 5 s lang bei etwa 124°C
entwickelt wird.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Dispersionsabbüdungsmaterial
mit Tellur und gegebenenfalls anderen Chalkogeniden für den Mikroformat-Kopieträger
verwendet wird.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Dispersionsabbüdungsmaterial mit mindestens einem der
folgenden Flemente für den Mikroformat-Kopieträger verwendet wird:
Wismut. Antimon. Selen, Kadmium. Zink. Zinn. Pollonium. Indium.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß der Mikrokopieträger mit k;rz.en Energieimpulsen einer Zeitdauer
zwischen 0,1 μ5 und 10 ms durch den Zwischenträger
hindurch belichtet wird.
7. Vorrichtung zum Herstellen von Mikrokopien auf trockenem Wege unter Verwendung von Dispersionsabbildungsmaterial,
bei der in einer Bild-Übertragungsstation eine elektromagnetische Kurzimpuls-Energiequelle
Energie durch einen Abbildungsträgcr hindurch auf einen Mikrokopieträger
wirft und dabei die Mikrokopieabbildung auf dem ein archivfähiges und durch kurze elektromagnetische
Energieimpulse oberhalb eines Schwellenwertes zur Herstellung von Abbildungen änderbares
Material aufweisenden Mikrokopieträger erzeugt, dadurch gekennzeichnet,
daß in einer Belichtungsstation (11) eine Lichtquelle (37) und eine Verkleinerungsanordniing (39) angeordnet
sind, die auf dem als Zwischenträger (14) dienenden lichtempfindlichen Abbildungsträger eine
verkleinerte Abbildung eines Originals (36) erzeugen.
daß eine Antriebseinrichtung (21,29) den Zwischenträger (14) zu einer Entwicklungsstation (12), in der
ein Heizaggregat (48) den belichteten Zwischenträger (14) abschnittsweise trocken durch Wärme entwickelt,
und von dort zur Büdübertragungsstation
(13) transportiert, in der die Bildübertragung vom Zwischenträger (14) auf den Mikrokopieträger (15)
mittels der Kurzimpulsquelle (56) stattfindet.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß ein Mikrokopieträgerhalter (57) quer zur Zwischenträger-Transportrichtung so bewegbar
ist, daß ausgewählte Bereiche desselben beim Zuführen des Zwischenträgers (14) denselben überdecken.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichni-c, daß die Antriebseinrichtung (21,29)
den Zwischenträger (14) nach dem Entwickeln wieder eine solche Strecke zurücktransportiert, daß ein
noch unbelichteter Teil nahe einem bereits belichteten
Teil belichtbar, d. h. für die Aufnahme einer neuen Abbildung bereitgestellt ist.
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7—9, dadurch gekennzeichnet, daß in der Belichtungsstation
(11) eine Kamera (38) und ein Andruckorgan (42) angeordnet sind, welches den Zwischenträger
(14) flach in der richtigen Bildebene hält.
11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7—10,
dadurch gekennzeichnet, daß ias Heizaggregat (48) einen Heizkolben (46) aufweist, der mittels eines
Vorschuborgans (47) aus einer zurückgezogenen Stellung in eine Anlagestellung am Zwischenträger
(14) bringbar ist.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
daß der Heizkolben (46) aus Aluminium od. dgl. Metall besteht und mit einem Überzug
aus Material geringer Wärmeleitfähigkeit beschichtet ist.
13. Vorrichiung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch
gekennzeichnet. daP der Heizkolben (46) eine quer zum Zwischenträger (14) gewölbte Kontaktfläche
aufweist.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7 — 13.
dadurch gekennzeichnet, daß in der Bildübertragungsstation (13) ein Andruckorgan zum Andrücken
des Mikrokopieträgers (15) an den Zwischenträger (14) angeordnet isl
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7—14,
dadurch gekennzeichnet, daß das Andruckorgan einen hin- und herbewegbaren Kolben (66) aufweist.
16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 7—15,
dadurch gekennzeichnet, daß die Antriebseinrichtung (21, 29) mit einer Zyklusprogrammsleucreinheit
(72) und Schrittsteuer- und -zähleinrichtung (70) versehen ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/458,715 US3966317A (en) | 1974-04-08 | 1974-04-08 | Dry process production of archival microform records from hard copy |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2514801A1 DE2514801A1 (de) | 1975-10-23 |
DE2514801C2 true DE2514801C2 (de) | 1985-07-04 |
Family
ID=23821806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2514801A Expired DE2514801C2 (de) | 1974-04-08 | 1975-04-04 | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Mikrokopien auf trockenem Wege |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3966317A (de) |
JP (1) | JPS6051696B2 (de) |
CA (1) | CA1032389A (de) |
DE (1) | DE2514801C2 (de) |
FR (1) | FR2274945A1 (de) |
GB (1) | GB1477973A (de) |
NL (1) | NL7504170A (de) |
Families Citing this family (104)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4035074A (en) * | 1975-12-15 | 1977-07-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Step and repeat camera having an improved film processor |
GB1566802A (en) * | 1976-06-02 | 1980-05-08 | Agfa Gevaert | Photosensitive imaging material |
US4346449A (en) * | 1976-09-16 | 1982-08-24 | Energy Conversion Devices, Inc. | Data storage and retrieval system |
US4205387A (en) * | 1976-09-16 | 1980-05-27 | Energy Conversion Devices, Inc. | Data storage and retrieval system |
US4123157A (en) * | 1976-11-17 | 1978-10-31 | Energy Conversion Devices, Inc. | Dry process production and annotation of archival microform records from hard copy |
US4170728A (en) * | 1978-01-23 | 1979-10-09 | Energy Conversion Devices, Inc. | Heat applying microfilm recording apparatus |
US4194826A (en) * | 1978-09-05 | 1980-03-25 | Energy Conversion Devices, Inc. | System for developing heat responsive film |
US4226522A (en) * | 1978-11-17 | 1980-10-07 | Energy Conversion Devices, Inc. | Imaging device |
US4226523A (en) * | 1978-11-17 | 1980-10-07 | Energy Conversion Devices, Inc. | Imaging device |
DE2946131A1 (de) * | 1978-11-17 | 1980-06-04 | Energy Conversion Devices Inc | Blitzlichtvorrichtung zur bilderzeugung in der bilderzeugungsebene eines films mit einer schicht eines durch energie dispergierbaren, bilderzeugenden materials |
CA1125355A (en) * | 1978-11-17 | 1982-06-08 | Energy Conversion Devices Inc. | Imaging apparatus |
US4453822A (en) * | 1979-11-29 | 1984-06-12 | Energy Conversion Devices, Inc. | Apparatus for producing microform records from multiple data sources |
US4360265A (en) * | 1979-11-29 | 1982-11-23 | Energy Conversion Devices, Inc. | Apparatus for producing microform records from hard copy, cathode ray tube image or transparency data-containing sources |
US4332466A (en) * | 1980-01-21 | 1982-06-01 | Energy Conversion Devices, Inc. | Apparatus for producing microform records at high speed from computer or other electrical data signal sources |
US4260250A (en) * | 1980-04-11 | 1981-04-07 | Energy Conversion Devices, Inc. | Imaging apparatus |
DE3138065A1 (de) * | 1980-10-03 | 1982-05-06 | Energy Conversion Devices, Inc., 48084 Troy, Mich. | Optisches projektionssystem |
US4344701A (en) * | 1981-01-23 | 1982-08-17 | Energy Conversion Devices, Inc. | Microfiche recording system with traveling film head |
US4348104A (en) * | 1981-01-23 | 1982-09-07 | Energy Conversion Devices, Inc. | Double exposure control for microfiche recording system |
US4355890A (en) * | 1981-01-23 | 1982-10-26 | Energy Conversion Devices, Inc. | Microfiche recording system |
JPS5922440U (ja) * | 1982-07-31 | 1984-02-10 | マックス株式会社 | 乾式現像機 |
US4501487A (en) * | 1983-08-15 | 1985-02-26 | Energy Conversion Devices, Inc. | Microfiche recording apparatus and method with stationary film head |
JPH0339799Y2 (de) * | 1984-10-22 | 1991-08-21 | ||
JPS6242199U (de) * | 1985-09-03 | 1987-03-13 | ||
US4777495A (en) * | 1987-04-24 | 1988-10-11 | Ncr Corporation | Aperture card plotter |
US4894679A (en) * | 1988-06-03 | 1990-01-16 | Graphics Lx Corp. | Method and apparatus for use in transferring an image |
US5337117A (en) * | 1993-05-13 | 1994-08-09 | Noritsu Koki Co., Ltd. | Image combining printer |
US6638820B2 (en) | 2001-02-08 | 2003-10-28 | Micron Technology, Inc. | Method of forming chalcogenide comprising devices, method of precluding diffusion of a metal into adjacent chalcogenide material, and chalcogenide comprising devices |
JP4742429B2 (ja) * | 2001-02-19 | 2011-08-10 | 住友電気工業株式会社 | ガラス微粒子堆積体の製造方法 |
US6727192B2 (en) | 2001-03-01 | 2004-04-27 | Micron Technology, Inc. | Methods of metal doping a chalcogenide material |
US6734455B2 (en) * | 2001-03-15 | 2004-05-11 | Micron Technology, Inc. | Agglomeration elimination for metal sputter deposition of chalcogenides |
US7102150B2 (en) * | 2001-05-11 | 2006-09-05 | Harshfield Steven T | PCRAM memory cell and method of making same |
US6951805B2 (en) * | 2001-08-01 | 2005-10-04 | Micron Technology, Inc. | Method of forming integrated circuitry, method of forming memory circuitry, and method of forming random access memory circuitry |
US6737312B2 (en) | 2001-08-27 | 2004-05-18 | Micron Technology, Inc. | Method of fabricating dual PCRAM cells sharing a common electrode |
US6955940B2 (en) * | 2001-08-29 | 2005-10-18 | Micron Technology, Inc. | Method of forming chalcogenide comprising devices |
US6881623B2 (en) * | 2001-08-29 | 2005-04-19 | Micron Technology, Inc. | Method of forming chalcogenide comprising devices, method of forming a programmable memory cell of memory circuitry, and a chalcogenide comprising device |
US6784018B2 (en) * | 2001-08-29 | 2004-08-31 | Micron Technology, Inc. | Method of forming chalcogenide comprising devices and method of forming a programmable memory cell of memory circuitry |
US20030047765A1 (en) * | 2001-08-30 | 2003-03-13 | Campbell Kristy A. | Stoichiometry for chalcogenide glasses useful for memory devices and method of formation |
US6709958B2 (en) * | 2001-08-30 | 2004-03-23 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit device and fabrication using metal-doped chalcogenide materials |
US6815818B2 (en) * | 2001-11-19 | 2004-11-09 | Micron Technology, Inc. | Electrode structure for use in an integrated circuit |
US6791859B2 (en) * | 2001-11-20 | 2004-09-14 | Micron Technology, Inc. | Complementary bit PCRAM sense amplifier and method of operation |
US6873538B2 (en) * | 2001-12-20 | 2005-03-29 | Micron Technology, Inc. | Programmable conductor random access memory and a method for writing thereto |
US6909656B2 (en) * | 2002-01-04 | 2005-06-21 | Micron Technology, Inc. | PCRAM rewrite prevention |
US20030143782A1 (en) * | 2002-01-31 | 2003-07-31 | Gilton Terry L. | Methods of forming germanium selenide comprising devices and methods of forming silver selenide comprising structures |
US6867064B2 (en) * | 2002-02-15 | 2005-03-15 | Micron Technology, Inc. | Method to alter chalcogenide glass for improved switching characteristics |
US6791885B2 (en) * | 2002-02-19 | 2004-09-14 | Micron Technology, Inc. | Programmable conductor random access memory and method for sensing same |
US7151273B2 (en) * | 2002-02-20 | 2006-12-19 | Micron Technology, Inc. | Silver-selenide/chalcogenide glass stack for resistance variable memory |
US6809362B2 (en) | 2002-02-20 | 2004-10-26 | Micron Technology, Inc. | Multiple data state memory cell |
US7087919B2 (en) * | 2002-02-20 | 2006-08-08 | Micron Technology, Inc. | Layered resistance variable memory device and method of fabrication |
US6891749B2 (en) * | 2002-02-20 | 2005-05-10 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable ‘on ’ memory |
US6937528B2 (en) | 2002-03-05 | 2005-08-30 | Micron Technology, Inc. | Variable resistance memory and method for sensing same |
US6849868B2 (en) * | 2002-03-14 | 2005-02-01 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for resistance variable material cells |
US6855975B2 (en) * | 2002-04-10 | 2005-02-15 | Micron Technology, Inc. | Thin film diode integrated with chalcogenide memory cell |
US6858482B2 (en) * | 2002-04-10 | 2005-02-22 | Micron Technology, Inc. | Method of manufacture of programmable switching circuits and memory cells employing a glass layer |
US6864500B2 (en) | 2002-04-10 | 2005-03-08 | Micron Technology, Inc. | Programmable conductor memory cell structure |
US6825135B2 (en) | 2002-06-06 | 2004-11-30 | Micron Technology, Inc. | Elimination of dendrite formation during metal/chalcogenide glass deposition |
US6890790B2 (en) | 2002-06-06 | 2005-05-10 | Micron Technology, Inc. | Co-sputter deposition of metal-doped chalcogenides |
JP4027282B2 (ja) * | 2002-07-10 | 2007-12-26 | キヤノン株式会社 | インクジェット記録ヘッド |
US7015494B2 (en) * | 2002-07-10 | 2006-03-21 | Micron Technology, Inc. | Assemblies displaying differential negative resistance |
US7209378B2 (en) | 2002-08-08 | 2007-04-24 | Micron Technology, Inc. | Columnar 1T-N memory cell structure |
US7018863B2 (en) * | 2002-08-22 | 2006-03-28 | Micron Technology, Inc. | Method of manufacture of a resistance variable memory cell |
US6864521B2 (en) * | 2002-08-29 | 2005-03-08 | Micron Technology, Inc. | Method to control silver concentration in a resistance variable memory element |
US6867114B2 (en) | 2002-08-29 | 2005-03-15 | Micron Technology Inc. | Methods to form a memory cell with metal-rich metal chalcogenide |
US6856002B2 (en) * | 2002-08-29 | 2005-02-15 | Micron Technology, Inc. | Graded GexSe100-x concentration in PCRAM |
US20040040837A1 (en) * | 2002-08-29 | 2004-03-04 | Mcteer Allen | Method of forming chalcogenide sputter target |
US7010644B2 (en) | 2002-08-29 | 2006-03-07 | Micron Technology, Inc. | Software refreshed memory device and method |
US7163837B2 (en) | 2002-08-29 | 2007-01-16 | Micron Technology, Inc. | Method of forming a resistance variable memory element |
US6831019B1 (en) * | 2002-08-29 | 2004-12-14 | Micron Technology, Inc. | Plasma etching methods and methods of forming memory devices comprising a chalcogenide comprising layer received operably proximate conductive electrodes |
US6867996B2 (en) | 2002-08-29 | 2005-03-15 | Micron Technology, Inc. | Single-polarity programmable resistance-variable memory element |
US7294527B2 (en) | 2002-08-29 | 2007-11-13 | Micron Technology Inc. | Method of forming a memory cell |
US7364644B2 (en) * | 2002-08-29 | 2008-04-29 | Micron Technology, Inc. | Silver selenide film stoichiometry and morphology control in sputter deposition |
US6813178B2 (en) | 2003-03-12 | 2004-11-02 | Micron Technology, Inc. | Chalcogenide glass constant current device, and its method of fabrication and operation |
US7022579B2 (en) * | 2003-03-14 | 2006-04-04 | Micron Technology, Inc. | Method for filling via with metal |
US7050327B2 (en) * | 2003-04-10 | 2006-05-23 | Micron Technology, Inc. | Differential negative resistance memory |
US6930909B2 (en) * | 2003-06-25 | 2005-08-16 | Micron Technology, Inc. | Memory device and methods of controlling resistance variation and resistance profile drift |
US6961277B2 (en) | 2003-07-08 | 2005-11-01 | Micron Technology, Inc. | Method of refreshing a PCRAM memory device |
US7061004B2 (en) * | 2003-07-21 | 2006-06-13 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory elements and methods of formation |
US6903361B2 (en) | 2003-09-17 | 2005-06-07 | Micron Technology, Inc. | Non-volatile memory structure |
US7153721B2 (en) * | 2004-01-28 | 2006-12-26 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory elements based on polarized silver-selenide network growth |
US7105864B2 (en) * | 2004-01-29 | 2006-09-12 | Micron Technology, Inc. | Non-volatile zero field splitting resonance memory |
US7583551B2 (en) * | 2004-03-10 | 2009-09-01 | Micron Technology, Inc. | Power management control and controlling memory refresh operations |
US7098068B2 (en) * | 2004-03-10 | 2006-08-29 | Micron Technology, Inc. | Method of forming a chalcogenide material containing device |
US7190048B2 (en) * | 2004-07-19 | 2007-03-13 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory device and method of fabrication |
US7326950B2 (en) | 2004-07-19 | 2008-02-05 | Micron Technology, Inc. | Memory device with switching glass layer |
US7354793B2 (en) | 2004-08-12 | 2008-04-08 | Micron Technology, Inc. | Method of forming a PCRAM device incorporating a resistance-variable chalocogenide element |
US7365411B2 (en) * | 2004-08-12 | 2008-04-29 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory with temperature tolerant materials |
US7151688B2 (en) * | 2004-09-01 | 2006-12-19 | Micron Technology, Inc. | Sensing of resistance variable memory devices |
US20060131555A1 (en) * | 2004-12-22 | 2006-06-22 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable devices with controllable channels |
US7374174B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-05-20 | Micron Technology, Inc. | Small electrode for resistance variable devices |
US7317200B2 (en) | 2005-02-23 | 2008-01-08 | Micron Technology, Inc. | SnSe-based limited reprogrammable cell |
US7269044B2 (en) | 2005-04-22 | 2007-09-11 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for accessing a memory array |
US7427770B2 (en) | 2005-04-22 | 2008-09-23 | Micron Technology, Inc. | Memory array for increased bit density |
US7709289B2 (en) * | 2005-04-22 | 2010-05-04 | Micron Technology, Inc. | Memory elements having patterned electrodes and method of forming the same |
US7269079B2 (en) * | 2005-05-16 | 2007-09-11 | Micron Technology, Inc. | Power circuits for reducing a number of power supply voltage taps required for sensing a resistive memory |
US7233520B2 (en) * | 2005-07-08 | 2007-06-19 | Micron Technology, Inc. | Process for erasing chalcogenide variable resistance memory bits |
US7274034B2 (en) | 2005-08-01 | 2007-09-25 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory device with sputtered metal-chalcogenide region and method of fabrication |
US7317567B2 (en) * | 2005-08-02 | 2008-01-08 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for providing color changing thin film material |
US7332735B2 (en) | 2005-08-02 | 2008-02-19 | Micron Technology, Inc. | Phase change memory cell and method of formation |
US20070037316A1 (en) * | 2005-08-09 | 2007-02-15 | Micron Technology, Inc. | Memory cell contact using spacers |
US7579615B2 (en) * | 2005-08-09 | 2009-08-25 | Micron Technology, Inc. | Access transistor for memory device |
US7304368B2 (en) * | 2005-08-11 | 2007-12-04 | Micron Technology, Inc. | Chalcogenide-based electrokinetic memory element and method of forming the same |
US7251154B2 (en) * | 2005-08-15 | 2007-07-31 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus providing a cross-point memory array using a variable resistance memory cell and capacitance |
US7277313B2 (en) * | 2005-08-31 | 2007-10-02 | Micron Technology, Inc. | Resistance variable memory element with threshold device and method of forming the same |
US7560723B2 (en) | 2006-08-29 | 2009-07-14 | Micron Technology, Inc. | Enhanced memory density resistance variable memory cells, arrays, devices and systems including the same, and methods of fabrication |
US8467236B2 (en) * | 2008-08-01 | 2013-06-18 | Boise State University | Continuously variable resistor |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2855834A (en) * | 1954-12-20 | 1958-10-14 | Doster Moren Nubie | Automatic photographic printing machine |
GB909203A (en) * | 1957-11-08 | 1962-10-31 | Caps Limited | Improvements in or relating to photographic type composing apparatus |
US3051044A (en) * | 1959-09-09 | 1962-08-28 | Gen Dynamics Corp | Recording and projection system |
US3155022A (en) * | 1963-05-31 | 1964-11-03 | Xerox Corp | Buffer for electronic display readout |
US3570380A (en) * | 1968-06-07 | 1971-03-16 | Olivetti & Co Spa | Impactless typewriter |
IL39731A (en) * | 1971-07-15 | 1975-07-28 | Energy Conversion Devices Inc | Method for producing images |
US3778151A (en) * | 1972-10-02 | 1973-12-11 | Pentacon Dresden Veb | Microfilm camera with longitudinal and cross slides movable in steps |
-
1974
- 1974-04-08 US US05/458,715 patent/US3966317A/en not_active Expired - Lifetime
-
1975
- 1975-04-03 FR FR7510497A patent/FR2274945A1/fr active Granted
- 1975-04-04 GB GB1392975A patent/GB1477973A/en not_active Expired
- 1975-04-04 DE DE2514801A patent/DE2514801C2/de not_active Expired
- 1975-04-07 CA CA223,909A patent/CA1032389A/en not_active Expired
- 1975-04-08 NL NL7504170A patent/NL7504170A/xx unknown
- 1975-04-08 JP JP50042725A patent/JPS6051696B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6051696B2 (ja) | 1985-11-15 |
GB1477973A (en) | 1977-06-29 |
FR2274945B1 (de) | 1979-05-04 |
NL7504170A (nl) | 1975-10-10 |
CA1032389A (en) | 1978-06-06 |
JPS50142028A (de) | 1975-11-15 |
DE2514801A1 (de) | 1975-10-23 |
AU7991375A (en) | 1976-10-14 |
FR2274945A1 (fr) | 1976-01-09 |
US3966317A (en) | 1976-06-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2514801C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Mikrokopien auf trockenem Wege | |
DE2554048C2 (de) | Fotografische Kamera | |
DE1422586B2 (de) | Optische einrichtung zur speicherung von mikrobildern | |
DE2750543C2 (de) | Vorrichtung zum Herstellen archivierbarer Mikrobilder im Trockenverfahren | |
DE2319467A1 (de) | Photographische kamera mit einer vorrichtung zum behandeln von selbstentwicklerfilmeinheiten | |
DE1966308A1 (de) | Photographischer Apparat | |
DE3042806A1 (de) | Vorrichtung zur herstellung von miniatur- oder mikroformataufzeichnungen mit hoher geschwindigkeit insbesondere fuer computer u.a. elektrische datensignalquellen | |
DE2440408C3 (de) | Filmtransporteinrichtung für Reprokameras | |
DE2437519C3 (de) | Sichtgerät mit einer Kopiereinrichtung für die fortschreitende streifenförmige Bildbelichtung | |
DE2723289A1 (de) | Kamera zur herstellung einer kennkarte | |
DE2806887C2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte nach einem Mikrofilmnegativ | |
DE2927229A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum vergroessern von photographien | |
DE2049102A1 (de) | Photographische Kamera insbesondere zur Herstellung von Kennkarten | |
DE69634997T2 (de) | Bildaufzeichnungsgerät und Auftragsvorrichtung hierfür | |
DE3033009A1 (de) | Mikrofilm-dokumentationssystem | |
DE1497090A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer doppelseitigen xerographischen Reproduktion auf einander gegenueberliegenden Seiten eines Kopierblattes | |
DE1772600A1 (de) | Vorrichtung zur Belichtung von lichtempfindlichem Kopiermaterial | |
DE269868C (de) | ||
DE2915655A1 (de) | Elektrofotografisches kopiergeraet | |
DE1522791A1 (de) | Photographischer Kontaktdrucker | |
DE1597318C2 (de) | Elektrophotographische Vorrichtung mit optischer Bildwiedergabeeinrichtung zur Herstellung einer Mikrobildarchivkarte oder einem Kopieblatt | |
DE1622904C (de) | Fotografische Kamera | |
DE1205814B (de) | Belichtungsanordnung fuer Kopiergeraete | |
AT346189B (de) | Schaukasten | |
DE1772592C (de) | Flussigkeitsspender fur photographi sehe Apparate |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |