CN105436998B - 防眩光玻璃的制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种防眩光玻璃的制备方法，需要对玻璃样品进行抛光打磨时，将玻璃样品无需加工的表面采用保护膜保护，需要加工的表面外露，将玻璃样品放置于抛光设备的上磨盘与下磨盘之间并浸泡在所述抛光溶液中，抛光设备的上磨盘或下磨盘对玻璃样品需要加工的表面进行抛光打磨，玻璃样品浸泡在抛光溶液中，将上磨盘或下磨盘对玻璃样品表面的机械抛光打磨与抛光粉的物理抛光打磨相结合。工艺简单、操作方便，由于是直接在玻璃样品的表面进行抛光打磨，有利于减小触摸屏的厚度，由于是物理抛光打磨，不会对操作人员的身体造成危害；制得的防眩光玻璃具有表面颗粒细小，分布均匀，光透过率高，反射率低，防眩光效果好。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃的制备工艺技术领域，特别是涉及一种防眩光玻璃的制备方法。
背景技术
随着触摸屏技术的快速发展，应用也越来越广泛：例如应用到手机、GPS导航仪、触摸屏电脑、银行取款机、开关面板、相框、医疗仪器等。目前，为了提高此类显示器的分辨率，通常在显示屏表面设置一具有防眩光的功能层。
这类防眩光技术大致可以分成两种：第一种是在玻璃表面进行镀层处理，在玻璃表面沉积一防眩光层；第二种是直接在玻璃表面进行化学蚀刻处理，在玻璃表面形成一防眩光层。
虽然上述两种方法都能达到防眩光的目的，但是第一种方法是由镀层得到防眩光层，这无疑会增加触摸屏的厚度；第二种方法操作复杂。
发明内容
基于此，有必要针对上述问题，提供一种制备工艺简单且有利于减小触摸屏厚度的防眩光玻璃的制备方法。
一种防眩光玻璃的制备方法，包括以下步骤：
配制抛光粉，所述抛光粉的原料包含的物质及其重量配比是：氧化铝55～75份、氧化锆5～15份、氧化铈3～8份、氧化钙3～8份、金刚石粉1～5份、碳化硅1～5份及氧化镁1～5份，得到配制好的抛光粉；
将所述配制好的抛光粉兑水后制得抛光溶液，将所述抛光溶液置于抛光设备的抛光盘中；
将玻璃样品无需加工的表面采用保护膜保护，需要加工的表面外露；
将所述用保护膜保护后的玻璃样品放置于抛光设备的上磨盘与下磨盘之间并浸泡在所述抛光溶液中，抛光设备的上磨盘或下磨盘对玻璃样品需要加工的表面进行抛光打磨；
取出抛光打磨后的玻璃样品并进行清洗、烘干即制得防眩光玻璃。
在其中一个实施例中，所述玻璃样品的材质为聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯或者二氧化硅。
在其中一个实施例中，所述玻璃样品的厚度范围为0.5mm～2mm。
在其中一个实施例中，在步骤将玻璃样品无需加工的表面采用保护膜保护之前，还包括步骤：
采用无水乙醇对所述玻璃样品的表面进行擦拭。
在其中一个实施例中，在步骤采用无水乙醇对所述玻璃样品的表面进行擦拭之后，还包括步骤：
检验所述玻璃样品的表面是否有划痕；
若有，则舍弃；
若没有，则保留。
在其中一个实施例中，对用保护膜保护后的玻璃样品进行抛光打磨的时间为6～10分钟。
在其中一个实施例中，步骤将所述配制好的抛光粉兑水后制得抛光溶液中，抛光粉兑水的质量比例为1：10～1：30。
在其中一个实施例中，所述抛光设备的上磨盘压力为0.06Mpa～0.09Mpa，所述抛光设备的下磨盘压力为0.1Mpa～0.3Mpa。
在其中一个实施例中，所述抛光设备的上磨盘转速为每分钟10转，所述抛光设备的下磨盘转速为每分钟30转。
在其中一个实施例中，所述抛光设备的抛光盘承载玻璃样品的数量为1～24片。
上述防眩光玻璃的制备方法至少包括以下优点：
需要对玻璃样品进行抛光打磨时，将玻璃样品无需加工的表面采用保护膜保护，需要加工的表面外露，将玻璃样品放置于抛光设备的上磨盘与下磨盘之间并浸泡在所述抛光溶液中，抛光设备的上磨盘或下磨盘对玻璃样品需要加工的表面进行抛光打磨，抛光打磨时，玻璃样品浸泡在抛光溶液中，从而将上磨盘或下磨盘对玻璃样品表面的机械抛光打磨与抛光粉的物理抛光打磨相结合。本制备方法工艺简单、操作方便，且由于是直接在玻璃样品的表面进行抛光打磨，有利于减小触摸屏的厚度，而且由于是物理抛光打磨，不会对操作人员的身体造成危害；制得的防眩光玻璃具有表面颗粒细小，分布均匀，光透过率高，反射率低，防眩光效果好；与传统在玻璃表面进行镀膜得到防眩光层相比，具有经久难用等优点。
附图说明
图1为一实施方式中防眩光玻璃的制备方法的流程示意图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。
本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
请参阅图1，为一实施方式中防眩光玻璃的制备方法的流程示意图。具体到本实施方式中，防眩光玻璃的制备方法包括以下步骤：
步骤S110，配制抛光粉。抛光粉的原料包含的物质及其重量配比是氧化铝55～75份、氧化锆5～15份、氧化铈3～8份、氧化钙3～8份、金刚石粉1～5份、碳化硅1～5份、氧化镁1～5份及其他组分3～8份，得到配制好的抛光粉。具体到本实施方式中，抛光粉的原料重量配比是氧化铝65份、氧化锆10份、氧化铈5份、氧化钙5份、金刚石粉3份、碳化硅3份、氧化镁4份及其他组分5份。
步骤S120，将配制好的抛光粉兑水后制得抛光溶液，将抛光溶液置于抛光设备的抛光盘中。然后检查抛光溶液的浓度。具体地，将配制好的抛光粉按比例兑水后制得抛光溶液步骤中，抛光粉兑水的质量比例可以为1：10～1：30，例如抛光粉兑水的质量比例可以为1：10、1：15、1：20、1：25或者1：30，以制得不同浓度的抛光溶液。根据玻璃样品需要抛光打磨的程度来选择抛光溶液的浓度：玻璃样品需要抛光打磨的程度越大，抛光溶液的浓度需要配制的越大；玻璃样品需要抛光打磨的程度越小，抛光溶液的浓度需要配制的越小。
步骤S131，采用无水乙醇对玻璃样品的表面进行擦拭。无水乙醇易于挥发，擦拭玻璃样品后不会残留在玻璃样品上。同时，无水乙醇还可以清除玻璃样品表面的杂质，保证玻璃样品的清洁。当然，在其它实施方式中，在玻璃样品足够清洁的情况下，还可以省去该步骤。或者，采用其他擦拭液对玻璃表面进行擦拭，只要能保证擦拭后不残留在玻璃样品且能清洁玻璃样品的作用即可。
玻璃样品的材质可以为PC(Polycarbonate、聚碳酸酯)、PMMA(PolymethylMethacrylate、聚甲基丙烯酸甲酯)或者二氧化硅。玻璃样品的厚度范围可以为0.5mm～2mm。
步骤S132，检验玻璃样品的表面是否有划痕。若有划痕，则舍弃。若没有划痕，则保留，以进行下一步骤。检验玻璃样品是否有划痕可以通过人工检验的方式，也可以通过机器自动检测的方式。需要对玻璃样品的上表面和下表面都进行检验。通过事先检验玻璃样品是否有划痕的方式，可以减小不合格玻璃样品进入下一步骤，从源头控制不合格玻璃样品进入抛光打磨的步骤，从而提高最终产品的良率。
步骤S133，将玻璃样品无需加工的表面采用保护膜保护，需要加工的表面外露。保护膜可以防止抛光溶液对玻璃样品无需加工的表面产生影响，以保证无需加工的玻璃样品表面完好。
具体到本实施方式中，还包括检验抛光设备有无异常，检查上磨盘与下磨盘有无异常的步骤。
步骤S140，将用保护膜保护后的玻璃样品放置于抛光设备的上磨盘与下磨盘之间并浸泡在抛光溶液中，抛光设备的上磨盘或下磨盘对玻璃样品需要加工的表面进行抛光打磨。具体地，可以将1～24片玻璃样品同时放置于抛光设备的上磨盘与下磨盘之间并浸泡在抛光溶液中。抛光设备的上磨盘压力为0.06Mpa～0.09Mpa。例如抛光设备的上磨盘压力可以为0.08Mpa。抛光设备的下磨盘压力为0.1Mpa～0.3Mpa。例如抛光设备的下磨盘压力可以为0.2Mpa。抛光设备的上磨盘转速为每分钟5～15转。例如抛光设备的上磨盘转速可以为10转。抛光设备的下磨盘转速为15～35转。例如抛光设备的下磨盘转速可以为每分钟30转。玻璃样品设置在上磨盘与下磨盘之间，若玻璃样品需要加工的表面统一朝上时，上磨盘对其进行抛光打磨；若玻璃样品需要加工的表面统一朝下时，下膜片对其进行抛光打磨。对用保护膜保护后的玻璃样品进行抛光打磨的时间可以为6～10分钟。具体到本实施方式中，对用保护膜保护后的玻璃样品进行抛光打磨的时间为10分钟。
步骤S150，取出抛光打磨后的玻璃样品并进行清洗、烘干即制得防眩光玻璃。制得的防眩光玻璃具有表面颗粒细小、分布均匀、光透过率高、反射率低、防眩光效果好等优点。
上述防眩光玻璃的制备方法至少包括以下优点：
需要对玻璃样品进行抛光打磨时，将玻璃样品无需加工的表面采用保护膜保护，需要加工的表面外露，将玻璃样品放置于抛光设备的上磨盘与下磨盘之间并浸泡在所述抛光溶液中，抛光设备的上磨盘或下磨盘对玻璃样品需要加工的表面进行抛光打磨，抛光打磨时，玻璃样品浸泡在抛光溶液中，从而将上磨盘或下磨盘对玻璃样品表面的机械抛光打磨与抛光粉的物理抛光打磨相结合。本制备方法工艺简单、操作方便，且由于是直接在玻璃样品的表面进行抛光打磨，有利于减小触摸屏的厚度，而且由于是物理抛光打磨，不会对操作人员的身体造成危害；制得的防眩光玻璃具有表面颗粒细小，分布均匀，光透过率高，反射率低，防眩光效果好；与传统在玻璃表面进行镀膜得到防眩光层相比，具有经久难用等优点。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
配制抛光粉，所述抛光粉的原料包含的物质及其重量配比是：氧化铝55～75份、氧化锆5～15份、氧化铈3～8份、氧化钙3～8份、金刚石粉1～5份、碳化硅1～5份及氧化镁1～5份，得到配制好的抛光粉；
将所述配制好的抛光粉兑水后制得抛光溶液，将所述抛光溶液置于抛光设备的抛光盘中；
将玻璃样品无需加工的表面采用保护膜保护，需要加工的表面外露；
将所述用保护膜保护后的玻璃样品放置于抛光设备的上磨盘与下磨盘之间并浸泡在所述抛光溶液中，抛光设备的上磨盘或下磨盘对玻璃样品需要加工的表面进行抛光打磨；
取出抛光打磨后的玻璃样品并进行清洗、烘干即制得防眩光玻璃。
2.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述玻璃样品的材质为聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯或者二氧化硅。
3.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述玻璃样品的厚度范围为0.5mm～2mm。
4.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，在步骤将玻璃样品无需加工的表面采用保护膜保护之前，还包括步骤：
采用无水乙醇对所述玻璃样品的表面进行擦拭。
5.根据权利要求4所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，在步骤采用无水乙醇对所述玻璃样品的表面进行擦拭之后，还包括步骤：
检验所述玻璃样品的表面是否有划痕；
若有，则舍弃；
若没有，则保留。
6.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，对用保护膜保护后的玻璃样品进行抛光打磨的时间为6～10分钟。
7.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，步骤将所述配制好的抛光粉兑水后制得抛光溶液中，抛光粉兑水的质量比例为1：10～1：30。
8.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述抛光设备的上磨盘压力为0.06Mpa～0.09Mpa，所述抛光设备的下磨盘压力为0.1Mpa～0.3Mpa。
9.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述抛光设备的上磨盘转速为每分钟5～15转，所述抛光设备的下磨盘转速为每分钟15～35转。
10.根据权利要求1所述的防眩光玻璃的制备方法，其特征在于，所述抛光设备的抛光盘承载玻璃样品的数量为1～24片。
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