Nothing Special   »   [go: up one dir, main page]

CN106272085B - 一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法 - Google Patents

一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106272085B
CN106272085B CN201610718932.9A CN201610718932A CN106272085B CN 106272085 B CN106272085 B CN 106272085B CN 201610718932 A CN201610718932 A CN 201610718932A CN 106272085 B CN106272085 B CN 106272085B
Authority
CN
China
Prior art keywords
grinding
fixed disk
liquid crystal
grinder
glass base
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201610718932.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106272085A (zh
Inventor
高华
曾雁滨
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ganzhou Di Jing Electro-Optical Technology Inc (us) 62 Martin Road Concord Massachusetts 017
Original Assignee
Ganzhou Di Jing Electro-Optical Technology Inc (us) 62 Martin Road Concord Massachusetts 017
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ganzhou Di Jing Electro-Optical Technology Inc (us) 62 Martin Road Concord Massachusetts 017 filed Critical Ganzhou Di Jing Electro-Optical Technology Inc (us) 62 Martin Road Concord Massachusetts 017
Priority to CN201610718932.9A priority Critical patent/CN106272085B/zh
Publication of CN106272085A publication Critical patent/CN106272085A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106272085B publication Critical patent/CN106272085B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B57/00—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents
    • B24B57/02—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents for feeding of fluid, sprayed, pulverised, or liquefied grinding, polishing or lapping agents
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/042—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor
    • B24B37/044—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor characterised by the composition of the lapping agent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/07—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool
    • B24B37/10—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces characterised by the movement of the work or lapping tool for single side lapping
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B53/00—Devices or means for dressing or conditioning abrasive surfaces
    • B24B53/017—Devices or means for dressing, cleaning or otherwise conditioning lapping tools
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
    • C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

本发明属于液晶玻璃基板薄化工艺研磨技术领域，本发明针对已有薄化研磨工艺技术的不足，公开了一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法，包括有以下步骤：研磨液配制、研磨机清洗和研磨机研磨；本发明的有益效果有：本发明可以有效方便地使得液晶玻璃基板表面的机械划伤显著减少，提高研磨后液晶玻璃基板表面粒良率，减少研磨再返研磨，提髙了生产效率。

Description

一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法
技术领域
本发明属于液晶玻璃基板薄化工艺研磨技术领域，具体涉及一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法。
背景技术
平板显示器包括等液晶显示器(LCD)、触摸屏(TP)、离子体显示器(PDP)及有机电致发光器(OLED)。液晶显示设置由于提供基于卓越的分辨率的鲜明的影像、耗电少、可较薄地制作显示画面的特性，在平板显示设置中最受到关注。液晶显示设置使用于包括手机、笔记本型PC的移动用设备及电视。
目前液晶玻璃基板的薄化主要采用化学薄化技术，其工艺包括：封胶固化，化学薄化，薄化后清洗，研磨，研磨后手工清洗，水平清洗机清洗。随着技术的发展，超大超薄液晶面板的减薄已成为行业内主流，研磨液是液晶玻璃基板薄化工艺研磨抛光的主要材料，而研磨液对研磨后液晶基板表面良率状况成为难点，传统研磨液是以自来水与粒径为1.7μm研磨粉配置而成，其过滤设置一般采用防静电手套或丝袜过滤，研磨之后液晶基板表面大多会有机械划伤及来料凹凸点未处理干净，使得液晶基板良率不能满足客户需求及反抛髙影响生产效率。
发明内容
本发明的目的是针对已有薄化研磨工艺技术的不足，提供液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法，该方法可以有效方便地使得液晶玻璃基板表面的机械划伤显著减少，提高研磨后液晶玻璃基板表面粒良率，减少研磨再返研磨，提髙生产效率。
为了达到上述目的，本发明采用如下技术方案：
一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法，包括如下步骤：
(1)研磨液的配制：研磨液为超纯水和氧化铈抛光粉混合形成；
从动力部门接入超纯水管道至研磨机台；
先将研磨桶清洗干净，确保内壁无残留异物或块状抛光粉；然后加入2/3桶超纯水，开启研磨液循环，将管道中残留的研磨液冲刷干净，再将研磨桶中剩余的纯水倒掉，如果研磨桶内还有异物，需继续清洗至干净；
加入超纯水至研磨桶上方约5cm处，开启搅拌，加入2000mL粒径为1.0μm氧化铈抛光粉；
在研磨机研磨液出液管道中的出液口设置短筒丝袜，并在丝袜外面再次设置一个密度为200目的过滤袋，设置完成后，用手轻轻拉扯过滤袋，如果发现轻易就将其扯动，则需重新对过滤袋进行设置，以防止其在研磨过程中掉落，导致品质异常；
(2)研磨机清洗：
a)上定盘清洗：先将机台调整为手动操作状态，然后手动把上定盘打到水平位置，一手用水枪对上定盘表面进行冲洗，另一手用毛刷对其表面进行洗刷，将表面可去除的抛光粉残留清洗洁净；注意上定盘表面是否有玻璃残渣或其它硬物，如有此类物品必须将其清除，若有部分结块抛光粉残留刷不掉，可将其留在上定盘表面，此过程需在2min内完成；
b)抛光垫清洗：上定盘清洗洁净后，将其上升至最高处后，手动打开下定盘旋转，一手用水枪对抛光垫表面进行冲洗，另一手用毛刷对机台表面进行洗刷，洗刷顺序由抛光垫中间位置开始向外逐一对整个抛光垫表面进行洗刷，此过程需在1min内完成；
c)研磨机台清洗：抛光垫清洗完成后打开外接水管，用水管口对机台挡板以及下定盘底部进行冲洗，特别是下定盘底部残留的抛光粉结块，一定要冲洗掉。清洗完成后，关掉下定盘旋转以及外接水管，此过程需在2min内完成；
(3)研磨机研磨：研磨机台清洗完成后，将研磨机台调节为自动状态，根据不同型号基板抛光工艺参数要求，调节研磨机台参数后正常运转工作。
本发明采用的氧化铈抛光粉型号为蒙锐。
优选地，氧化铈抛光粉与超纯水的质量比为8:100。
优选地，研磨液的浓度范围大于等于1.02g/cm2。
本发明的有益效果有：
(1)本发明的研磨液为超纯水和氧化铈抛光粉混合形成，氧化铈抛光粉，具有切削力强、抛光时间短、使用寿命长、抛光精度高、粒度均匀等优点；超纯水有利于提高液晶玻璃基板的表面研磨效果；
(2)本发明的方法，能有效地改进液晶玻璃基板薄化工艺中研磨后基板表面机械划伤等表面不良；在研磨机出液口设置了短筒丝袜，并在丝袜外面再次设置一个密度为200目过滤袋，液晶玻璃基板表面的机械划伤显著减少，提高了研磨后液晶玻璃基板表面粒良率；
(3)本发明可以减少研磨再返研磨，大幅降低了液晶玻璃基板薄化工艺中研磨后反抛率，降低了研磨机研磨时间，提升了生产效率。
附图说明
图1为本发明的工艺流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
实施例1
一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法，包括如下步骤：
(1)研磨液的配制：研磨液为超纯水和氧化铈抛光粉混合形成；
从动力部门接入超纯水管道至研磨机台；
先将研磨桶清洗干净，确保内壁无残留异物或块状抛光粉；然后加入2/3桶超纯水，开启研磨液循环，将管道中残留的研磨液冲刷干净，再将研磨桶中剩余的纯水倒掉，如果研磨桶内还有异物，需继续清洗至干净；
加入超纯水至研磨桶上方约5cm处，开启搅拌，加入2000mL粒径为1.0μm氧化铈抛光粉；本发明采用的氧化铈抛光粉型号为蒙锐；氧化铈抛光粉与超纯水的质量比为8:100；研磨液的浓度范围大于等于1.02g/cm2。
在研磨机研磨液出液管道中的两个出液口设置短筒丝袜，并在丝袜外面再次设置一个密度为200目，长150mm宽90mm的过滤袋，设置完成后，用手轻轻拉扯过滤袋，如果发现轻易就将其扯动，则需重新对过滤袋进行设置，以防止其在研磨过程中掉落，导致品质异常；
(2)研磨机清洗：
a)上定盘清洗：先将机台调整为手动操作状态，然后手动把上定盘打到水平位置，一手用水枪对上定盘表面进行冲洗，另一手用毛刷对其表面进行洗刷，将表面可去除的抛光粉残留清洗洁净；注意上定盘表面是否有玻璃残渣或其它硬物，如有此类物品必须将其清除，若有部分结块抛光粉残留刷不掉，可将其留在上定盘表面，此过程需在2min内完成；
b)抛光垫清洗：上定盘清洗洁净后，将其上升至最高处后，手动打开下定盘旋转，一手用水枪对抛光垫表面进行冲洗，另一手用毛刷对机台表面进行洗刷，洗刷顺序由抛光垫中间位置开始向外逐一对整个抛光垫表面进行洗刷，此过程需在1min内完成；
c)研磨机台清洗：抛光垫清洗完成后打开外接水管，水量需控制在一定范围内，若水量过大，清洗后废水会从切液口溢流到抛光桶内，造成抛光液的污染，影响产品抛光品质，若水量过小，机台不能清洗洁净也会影响产品抛光品质。用水管口对机台挡板以及下定盘底部进行冲洗，特别是下定盘底部残留的抛光粉结块，一定要冲洗掉。清洗完成后，关掉下定盘旋转以及外接水管，此过程需在2min内完成；
(3)研磨机研磨：研磨机台清洗完成后，将研磨机台调节为自动状态，根据不同型号基板抛光工艺参数要求，调节研磨机台参数后正常运转工作。
以上所述实施例仅表达了本发明的优选实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形、改进及替代，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (1)

1.一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法，其特征在于，包括如下步骤：
(1)研磨液的配制：研磨液为超纯水和氧化铈抛光粉混合形成；
从动力部门接入超纯水管道至研磨机台；
先将研磨桶清洗干净，然后加入2/3桶超纯水，开启研磨液循环，将管道中残留的研磨液冲刷干净，再将研磨桶中剩余的超纯水倒掉；
加入超纯水至研磨桶上方5cm处，开启搅拌，加入2000mL粒径为1.0μm氧化铈抛光粉；
氧化铈抛光粉与超纯水的质量比为8:100；研磨液的浓度范围大于等于1.02g/cm2；
在研磨机研磨液出液管道中的出液口设置短筒丝袜，并在丝袜外面再次设置一个密度为200目的过滤袋；
(2)研磨机清洗：
a)上定盘清洗：先将机台调整为手动操作状态，然后手动把上定盘打到水平位置，一手用水枪对上定盘表面进行冲洗，另一手用毛刷对其表面进行洗刷，将表面可去除的抛光粉残留清洗洁净，此过程需在2min内完成；
b)抛光垫清洗：上定盘清洗洁净后，将其上升至最高处后，手动打开下定盘旋转，一手用水枪对抛光垫表面进行冲洗，另一手用毛刷对机台表面进行洗刷，洗刷顺序由抛光垫中间位置开始向外逐一对整个抛光垫表面进行洗刷，此过程需在1min内完成；
c)研磨机台清洗：抛光垫清洗完成后打开外接水管，用水管口对机台挡板以及下定盘底部进行冲洗，特别是下定盘底部残留的抛光粉结块，一定要冲洗掉，清洗完成后，关掉下定盘旋转以及外接水管，此过程需在2min内完成；
(3)研磨机研磨：研磨机台清洗完成后，将研磨机台调节为自动状态，根据不同型号基板抛光工艺参数要求，调节研磨机台参数后正常运转工作。
CN201610718932.9A 2016-08-24 2016-08-24 一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法 Active CN106272085B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610718932.9A CN106272085B (zh) 2016-08-24 2016-08-24 一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610718932.9A CN106272085B (zh) 2016-08-24 2016-08-24 一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106272085A CN106272085A (zh) 2017-01-04
CN106272085B true CN106272085B (zh) 2019-01-04

Family

ID=57616184

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610718932.9A Active CN106272085B (zh) 2016-08-24 2016-08-24 一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106272085B (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110076681B (zh) * 2018-09-12 2021-03-19 滁州盛诺电子科技有限公司 一种液晶显示屏研磨处理工艺

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1608800A (zh) * 2003-10-20 2005-04-27 碧悠国际光电股份有限公司 用于精研玻璃基板的玻璃研磨设备及玻璃研磨方法
CN101357450B (zh) * 2007-08-03 2011-03-23 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 化学机械研磨装置及清洗研磨垫、研磨头的方法
CN101439494A (zh) * 2007-11-22 2009-05-27 上海华虹Nec电子有限公司 Cmp设备研磨头清洗装置
CN101457136A (zh) * 2007-12-13 2009-06-17 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 研磨液及化学机械研磨方法
US20100258143A1 (en) * 2009-04-13 2010-10-14 Microchip Technology Incorporated Scrubber clean before oxide chemical mechanical polish (cmp) for reduced microscratches and improved yields
JP5750877B2 (ja) * 2010-12-09 2015-07-22 株式会社Sumco ウェーハの片面研磨方法、ウェーハの製造方法およびウェーハの片面研磨装置
CN102922409B (zh) * 2011-08-09 2014-12-10 劲耘科技股份有限公司 玻璃基板表面研磨方法
CN203141294U (zh) * 2013-03-04 2013-08-21 扬州百德光电有限公司 一种液晶玻璃研磨机
CN104308720A (zh) * 2014-08-27 2015-01-28 上海华力微电子有限公司 研磨头清洗装置、研磨设备及清洗方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN106272085A (zh) 2017-01-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104108062B (zh) 一种超薄晶片纳米级抛光方法
CN106272085B (zh) 一种液晶玻璃基板薄化后研磨处理方法
CN109127601A (zh) 一种硅粉生产线搅拌式清洗装置
CN211726758U (zh) 一种环保型石英砂除杂箱
CN107986265A (zh) 一种快速循环式石墨烯机械剥离装置
CN204976203U (zh) 拉丝打磨机
CN206325500U (zh) 一种氧化硅抛光液配置装置
CN104017501B (zh) 一种适用于tft-lcd玻璃基板的超声雾化型抛光液
CN103965832B (zh) 一种抛光磨料及其制备方法
CN205185116U (zh) 一种石材加工机
CN206277261U (zh) 研磨组件
CN209970338U (zh) 一种玻璃加工用打磨装置
CN208049773U (zh) 一种工业用漆的树脂色浆搅拌器
CN207929042U (zh) 一种食品检测用搅拌装置
CN110643441A (zh) 一种液晶屏生产用屏幕表面清洗工艺
CN208526821U (zh) 一种适用于水性涂料生产的砂磨机
CN203916853U (zh) 钛白粉砂磨效果的评价装置
CN209714851U (zh) 一种清洗便利的涂料加工生产用搅拌设备
CN103406817B (zh) 一种漆面流挂处理机
CN207606645U (zh) 一种双工位玻璃磨边机
CN211437229U (zh) 一种研磨颗粒清洗装置
CN105436998A (zh) 防眩光玻璃的制备方法
CN108127510B (zh) 骨架油封的加工工艺
CN205057721U (zh) 一种面板研磨机装置
CN204320169U (zh) 研磨抛光粉搅拌机构

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant