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CH701972A2 - Method for manufacturing wheel of clock element in clock industry, involves forming unit in lower layer for forming another cavity of another wheel to structure photo resist resin at side of lower layer that forms liner at walls of cavity - Google Patents

Method for manufacturing wheel of clock element in clock industry, involves forming unit in lower layer for forming another cavity of another wheel to structure photo resist resin at side of lower layer that forms liner at walls of cavity Download PDF

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Publication number
CH701972A2
CH701972A2 CH01550/09A CH15502009A CH701972A2 CH 701972 A2 CH701972 A2 CH 701972A2 CH 01550/09 A CH01550/09 A CH 01550/09A CH 15502009 A CH15502009 A CH 15502009A CH 701972 A2 CH701972 A2 CH 701972A2
Authority
CH
Switzerland
Prior art keywords
cavity
layer
lower layer
mobile
wheel
Prior art date
Application number
CH01550/09A
Other languages
French (fr)
Inventor
Pierre Cusin
Jean-Philippe Thiebaud
Original Assignee
Nivarox Sa
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nivarox Sa filed Critical Nivarox Sa
Priority to CH01550/09A priority Critical patent/CH701972A2/en
Publication of CH701972A2 publication Critical patent/CH701972A2/en

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    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04DAPPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
    • G04D3/00Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
    • G04D3/0069Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for working with non-mechanical means, e.g. chemical, electrochemical, metallising, vapourising; with electron beams, laser beams
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81CPROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS
    • B81C99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • B81C99/0075Manufacture of substrate-free structures
    • B81C99/008Manufacture of substrate-free structures separating the processed structure from a mother substrate
    • GPHYSICS
    • G04HOROLOGY
    • G04BMECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B13/00Gearwork
    • G04B13/02Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B2201/00Specific applications of microelectromechanical systems
    • B81B2201/03Microengines and actuators
    • B81B2201/035Microgears
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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Abstract

The method involves providing a substrate that contains an upper layer and a lower layer. The upper layer and the lower layer are joined together by an intermediate layer that is made of silicon dioxide. A unit is formed in the upper layer and the intermediate layer to form a cavity of a wheel (55). Another unit is formed in the lower layer for forming another cavity of another wheel (57) to structure photo resist resin at a side of the lower layer. The former cavity is coated with gold, and the lower layer forms a liner (51) at walls of the latter cavity. An independent claim is also included for a wheel.

Description

Domaine de l’inventionField of the invention

[0001] L’invention se rapporte à un mobile en matériau micro-usinable monté fou sur un axe monobloc et son procédé de fabrication. Plus précisément, l’invention se rapporte à un rouage comportant un tel mobile. The invention relates to a mobile micro-machinable material mounted crazy on a monobloc axis and its manufacturing method. More specifically, the invention relates to a gear comprising such a mobile.

Arrière plan de l’inventionBackground of the invention

[0002] Il est connu de réaliser des roues en silicium pour une pièce d’horlogerie. Cependant, la manipulation de tels mobiles n’est pas aisée et il n’est actuellement pas possible de fabriquer un mobile pour une pièce d’horlogerie monté fou sans risquer de le détériorer voire le briser. It is known to make silicon wheels for a timepiece. However, the handling of such mobile is not easy and it is currently not possible to manufacture a mobile for a timepiece mounted crazy without the risk of damaging or breaking.

Résumé de l’inventionSummary of the invention

[0003] Le but de la présente invention est de pallier tout ou partie les inconvénients cités précédemment en proposant un rouage dont au moins un des mobiles en matériau micro-usinable est monté fou et son procédé de fabrication. The object of the present invention is to overcome all or part of the disadvantages mentioned above by proposing a cogwheel with at least one of the movable micro-machinable material is mounted crazy and its manufacturing process.

[0004] A cet effet, l’invention se rapporte à un rouage comportant un axe dont une première extrémité est munie d’une collerette venue de forme, un premier mobile en matériau micro-usinable étant ajusté sur la deuxième extrémité de l’axe et un deuxième mobile en matériau micro-usinable monté fou sur ladite première extrémité de l’axe. For this purpose, the invention relates to a train having an axis, a first end is provided with a collar coming form, a first movable micro-machinable material being adjusted on the second end of the axis and a second mobile made of micro-machinable material mounted loosely on said first end of the axis.

[0005] Selon l’invention, on comprend qu’il est possible de fabriquer un rouage dont une roue, par exemple en silicium cristallin, est montée folle sur un axe métallique monobloc. According to the invention, it is understood that it is possible to manufacture a wheel whose wheel, for example crystalline silicon, is mounted idle on a one-piece metal axis.

[0006] Conformément à d’autres caractéristiques avantageuses de l’invention: ladite deuxième extrémité est munie d’une deuxième collerette venue de forme avec l’axe qui recouvre partiellement ledit premier mobile; ladite deuxième collerette est dentée afin de former un deuxième niveau dudit premier mobile; le premier mobile comporte au moins partiellement un revêtement extérieur; ledit axe est en un matériau à faible frottement; les matériaux micro-usinables sont à base de silicium.According to other advantageous features of the invention: said second end is provided with a second collar formed integrally with the axis which partially covers said first mobile; said second flange is toothed to form a second level of said first movable; the first mobile comprises at least partially an outer coating; said axis is of a low friction material; the micro-machinable materials are based on silicon.

[0007] De plus, l’invention se rapporte à une pièce d’horlogerie caractérisée en ce qu’elle comporte au moins un rouage conforme à l’une des variantes précédentes. In addition, the invention relates to a timepiece characterized in that it comprises at least one wheel according to one of the previous variants.

[0008] Enfin, l’invention se rapporte à un procédé de fabrication d’un rouage comportant les étapes suivantes: a) se munir d’un substrat comportant une couche supérieure et une couche inférieure en matériau micro-usinable et solidarisées entre elles par une couche intermédiaire; b) graver au moins un motif dans la couche supérieure et la couche intermédiaire jusqu’à découvrir la couche inférieure afin de former au moins une première cavité appartenant à un premier mobile; c) recouvrir au moins le fond de ladite au moins une première cavité d’un revêtement électriquement conducteur; d) électroformer un matériau au moins dans le fond de ladite au moins une première cavité; e) graver un deuxième motif dans la couche inférieure jusqu’au revêtement dudit matériau électriquement conducteur afin de former au moins une deuxième cavité appartenant à un deuxième mobile; f) structurer une résine photosensible sur le dessous de la couche inférieure en formant un chemisage sur les parois de ladite au moins une deuxième cavité et au moins un évidement s’évasant coaxialement de ladite au moins une deuxième cavité; g) continuer l’électroformage débuté lors de l’étape d) afin de remplir ladite au moins une première cavité et commencer l’électroformage d’un matériau dans ladite au moins une deuxième cavité et ledit au moins un évidement afin de former un axe muni d’une collerette; h) retirer la résine photosensible; i) retirer la couche intermédiaire afin de désolidariser les premier et deuxième mobiles; j) libérer le rouage fabriqué du substrat. Finally, the invention relates to a method of manufacturing a gear train comprising the following steps: a) providing a substrate comprising an upper layer and a lower layer of micro-machinable material and secured together by an intermediate layer; b) etching at least one pattern in the upper layer and the intermediate layer to expose the lower layer to form at least a first cavity belonging to a first mobile; c) covering at least the bottom of said at least one first cavity of an electrically conductive coating; d) electroforming a material at least in the bottom of said at least one first cavity; e) etching a second pattern in the lower layer to the coating of said electrically conductive material to form at least a second cavity belonging to a second mobile; f) structuring a photoresist on the underside of the lower layer forming a liner on the walls of said at least one second cavity and at least one recess flaring coaxially from said at least one second cavity; g) continuing the electroforming begun in step d) to fill said at least one first cavity and begin electroforming a material in said at least one second cavity and said at least one recess to form an axis; provided with a collar; h) removing the photoresist; i) removing the intermediate layer in order to separate the first and second mobiles; j) release the manufactured wheel of the substrate.

[0009] Selon l’invention, on comprend qu’il est possible de fabriquer très précisément à partir d’un seul substrat le rouage expliqué ci-dessus selon des processus LIGA et DRIE qui sont entremêlés. According to the invention, it is understood that it is possible to manufacture very precisely from a single substrate the wheel explained above according to LIGA and DRIE processes that are intertwined.

[0010] Conformément à d’autres caractéristiques avantageuses de l’invention: l’étape f) comporte également la phase k): recouvrir au moins le fond dudit au moins un évidement d’un deuxième revêtement électriquement conducteur afin d’améliorer la formation de ladite collerette; le procédé comporte, avant l’étape d), l’étape 1): monter une pièce sur le dessus du substrat afin de former au moins un autre évidement s’évasant coaxialement de ladite au moins une première cavité afin d’offrir un niveau de matériau électroformé au-dessus de la couche supérieure; l’étape c) permet également de recouvrir au moins le fond dudit au moins un autre évidement dudit revêtement électriquement conducteur; le procédé comporte, après l’étape c), l’étape m): monter une tige dans ladite au moins une première cavité afin de former un trou dans le futur rouage; comporte, avant l’étape g), l’étape n): monter une tige dans ladite au moins une deuxième cavité afin de former un trou dans le futur rouage; les étapes b) et e) comporte les phases de structuration d’au moins un masque de protection sur la couche à graver, de réalisation d’une attaque anisotropique de ladite couche selon les parties non recouvertes par ledit au moins un masque de protection et de retrait du masque de protection; plusieurs rouages sont fabriqués sur le même substrat; chaque revêtement comporte au moins une couche d’or; les matériaux micro-usinables sont à base de silicium.According to other advantageous features of the invention: step f) also comprises the phase k): covering at least the bottom of said at least one recess of a second electrically conductive coating in order to improve the formation of said collar; the method comprises, before step d), step 1): mounting a piece on the top of the substrate to form at least one other recess flaring coaxially from said at least a first cavity to provide a level electroformed material above the top layer; step c) also makes it possible to cover at least the bottom of said at least one other recess of said electrically conductive coating; the method comprises, after step c), step m): mounting a rod in said at least a first cavity to form a hole in the future train; comprises, before step g), step n): mounting a rod in said at least one second cavity to form a hole in the future train; steps b) and e) comprises the structuring phases of at least one protective mask on the layer to be etched, anisotropic etching of said layer in portions not covered by said at least one protective mask and removal of the protective mask; several wheels are made on the same substrate; each coating comprises at least one layer of gold; the micro-machinable materials are based on silicon.

Description sommaire des dessinsBrief description of the drawings

[0011] D’autres particularités et avantages ressortiront clairement de la description qui en est faite ci-après, à titre indicatif et nullement limitatif, en référence aux dessins annexés, dans lesquels: <tb>les fig. 1 à 11<sep>sont des représentations des étapes successives d’un procédé de fabrication d’un rouage selon un mode de réalisation de l’invention; <tb>la fig. 12<sep>est une représentation en perspective d’un rouage selon un mode de réalisation de l’invention; <tb>la fig. 13<sep>est une représentation de la dernière étape d’un procédé de fabrication d’un rouage selon une variante de l’invention; <tb>la fig. 14<sep>est une représentation en perspective d’un rouage selon une variante de l’invention; <tb>la fig. 15<sep>est un schéma fonctionnel d’un procédé de fabrication d’un rouage selon l’invention.Other features and advantages will become apparent from the description which is given below, for information only and not limiting, with reference to the accompanying drawings, in which: <tb> figs. 1 to 11 <sep> are representations of the successive steps of a method of manufacturing a wheel according to one embodiment of the invention; <tb> fig. 12 <sep> is a perspective representation of a wheel according to one embodiment of the invention; <tb> fig. 13 <sep> is a representation of the last step of a method of manufacturing a gear train according to a variant of the invention; <tb> fig. 14 <sep> is a perspective representation of a gear train according to a variant of the invention; <tb> fig. <Sep> is a block diagram of a method of manufacturing a wheel according to the invention.

Description détaillée des modes de réalisation préférésDetailed Description of the Preferred Embodiments

[0012] Comme visible à la fig. 15, l’invention se rapporte à un procédé de fabrication 1 d’un rouage 51, 51 ́ par exemple pour une pièce d’horlogerie. Le procédé de fabrication 1 comporte des étapes successives destinées à préparer un substrat 29 en matériaux micro-usinables comme, préférentiellement, des matériaux à base de silicium. Dans l’explicatif ci-dessous, les grandeurs respectives ne sont pas à la même échelle. En effet, certaines épaisseurs ont été majorées comme celles des revêtements 37 et 47 afin de rendre plus compréhensible ledit explicatif. As shown in FIG. 15, the invention relates to a manufacturing method 1 of a gear train 51, 51 for example for a timepiece. The manufacturing method 1 comprises successive steps intended to prepare a substrate 29 made of micro-machinable materials, such as, for example, silicon-based materials. In the explanatory below, the respective quantities are not on the same scale. Indeed, some thicknesses have been increased as those of the coatings 37 and 47 to make more understandable said explanatory.

[0013] Une première étape 2 du procédé 1 consiste à se munir d’un substrat 9 comportant une couche supérieure 31 et une couche inférieure 33 en matériaux micro-usinables solidarisées entre elles par une couche intermédiaire 32 comme illustré à la fig. 1. A first step 2 of the method 1 is to provide a substrate 9 having an upper layer 31 and a lower layer 33 of micro-machinable materials secured together by an intermediate layer 32 as shown in FIG. 1.

[0014] Préférentiellement, le substrat 29 est un S.O.I. (abréviation très connue provenant des termes anglais «Silicon On Isulator»). Ainsi, la couche intermédiaire 32 est préférentiellement en dioxyde de silicium. De plus, les couches supérieure 31 et inférieure 33 sont en silicium cristallin. Preferably, the substrate 29 is a S.O.I. (Well known abbreviation from the English term "Silicon On Isulator"). Thus, the intermediate layer 32 is preferably made of silicon dioxide. In addition, the upper 31 and lower 33 layers are crystalline silicon.

[0015] Selon l’invention, le procédé 1 comporte une deuxième étape 3, destinée à graver au moins un motif 34 dans la couche supérieure 31 et la couche intermédiaire 32 jusqu’à découvrir partiellement le dessus de la couche inférieure 33. According to the invention, the method 1 comprises a second step 3, intended to burn at least one pattern 34 in the upper layer 31 and the intermediate layer 32 to partially discover the top of the lower layer 33.

[0016] La deuxième étape 3 consiste dans un premier temps à structurer au moins un masque 36 de protection sur la couche supérieure 31 comme illustré à la fig. 1. Comme visible également à la fig. 1, le masque 36 comporte au moins un motif 34 qui ne recouvre pas la couche supérieure 31. Un tel masque 36 peut, par exemple, être obtenu par photolithographie à l’aide d’une résine photosensible du type positif ou négatif. The second step 3 consists initially of structuring at least one mask 36 of protection on the upper layer 31 as illustrated in FIG. 1. As can also be seen in fig. 1, the mask 36 comprises at least one pattern 34 which does not cover the upper layer 31. Such a mask 36 may, for example, be obtained by photolithography using a positive or negative type photoresist.

[0017] Dans un deuxième temps, la couche supérieure 31 est gravée jusqu’à découvrir la couche intermédiaire 32 comme illustré à la fig. 2. Selon l’invention, le gravage comporte, de manière préférée, une attaque sèche anisotropique du type gravage ionique réactif profond (DRE). L’attaque anisotropique est effectuée dans la couche supérieure 31 selon le motif 34 du masque 36. In a second step, the upper layer 31 is etched until discovering the intermediate layer 32 as shown in FIG. 2. According to the invention, the etching preferably comprises an anisotropic dry attack of the deep reactive ion etching (RRE) type. The anisotropic etching is carried out in the upper layer 31 according to the pattern 34 of the mask 36.

[0018] Dans un troisième temps, le motif 34 est prolongé dans la couche intermédiaire 32 par gravage jusqu’à découvrir partiellement le dessus de la couche inférieure 33. Selon l’invention, le gravage peut comporter une attaque chimique ou un gravage directionnel des parties découvertes de la couche 32. In a third step, the pattern 34 is extended in the intermediate layer 32 by etching to partially discover the top of the lower layer 33. According to the invention, the etching may comprise a chemical attack or a directional etching of exposed parts of layer 32.

[0019] Dans un quatrième temps, le masque 36 est retiré. Bien entendu, suivant la résistance du masque 36 au mode de gravage de la couche intermédiaire 32, le masque 36 peut être retiré avant ou après ce gravage. In a fourth step, the mask 36 is removed. Of course, depending on the resistance of the mask 36 to the etching mode of the intermediate layer 32, the mask 36 can be removed before or after this etching.

[0020] Ainsi, comme visible à la fig. 3, à la fin de la deuxième étape 3, les couches supérieure 31 et intermédiaire 32 sont gravées dans toute leur épaisseur respective d’au moins une cavité 35, permettant de former un premier mobile 55, 55 ́ du futur rouage 51, 51 ́. Thus, as shown in FIG. 3, at the end of the second step 3, the upper layers 31 and 32 are etched in their respective thickness of at least one cavity 35, forming a first mobile 55, 55 of the future wheel 51, 51 .

[0021] Dans une troisième étape 5, un revêtement 37 électriquement conducteur est déposé en recouvrant au moins le fond de chacune de ladite au moins une cavité 35. Dans l’exemple illustré à la fig. 4, on peut voir que c’est l’ensemble supérieur du substrat 29 qui est revêtu. Comme il sera expliqué ci-dessous, les parois de ladite au moins une cavité 35 n’ont aucune nécessité à être revêtues, alors que la présence du revêtement sur le dessus de la couche supérieur 31 peut être nécessaire pour la variante de réalisation du rouage 51 ́ prévue ci-dessous. In a third step 5, an electrically conductive coating 37 is deposited by covering at least the bottom of each of said at least one cavity 35. In the example illustrated in FIG. 4, it can be seen that it is the upper assembly of the substrate 29 which is coated. As will be explained below, the walls of said at least one cavity 35 need not be coated, while the presence of the coating on the top of the top layer 31 may be necessary for the embodiment of the gear train 51 provided below.

[0022] Préférentiellement, le revêtement 37 est obtenu par un dépôt en phase vapeur. Cependant, d’autres types de dépôt sont envisageables comme un dépôt chimique. De manière préférée, le revêtement 37 comporte au moins une couche d’or, éventuellement, déposée sur une couche d’accrochage en chrome. Preferably, the coating 37 is obtained by a vapor deposition. However, other types of deposit are possible as a chemical deposit. Preferably, the coating 37 comprises at least one layer of gold, optionally deposited on a chromium tie layer.

[0023] Préférentiellement, afin de limiter les zones du futur électroformage, le procédé 1 peut comporter une étape 6 consistant à monter une pièce 38 sur le dessus du substrat 29. Cette étape 6 peut consister, par exemple, à structurer par photolithographie une résine photosensible du type positif ou négatif. Preferably, in order to limit the areas of the future electroforming, the method 1 may comprise a step 6 of mounting a workpiece 38 on the top of the substrate 29. This step 6 may consist, for example, in structuring by photolithography a resin photosensitive type positive or negative.

[0024] Avantageusement, cette étape 6 peut également autoriser la formation d’au moins un évidement 39 s’évasant coaxialement de ladite au moins une cavité 35 afin de réaliser ladite variante de réalisation du rouage 51 ́ comme illustré à la fig. 5. Advantageously, this step 6 may also allow the formation of at least one recess 39 flaring coaxially from said at least one cavity 35 to achieve said embodiment of the gear train 51 as shown in FIG. 5.

[0025] De manière préférée, le procédé 1 peut comporter en même temps, avant ou après l’étape 6, une étape 7 consistant à monter une tige 40, comme illustré à la fig. 5, à partir du fond de ladite au moins une cavité 35 afin de former directement un trou d’axe 54, 54 ́ du rouage 51, 51 ́ lors du futur électroformage. Cela présente l’avantage non seulement d’éviter d’avoir à usiner le rouage 51, 51 ́ une fois l’électroformage terminé mais également de pouvoir réaliser n’importe quelle forme de section intérieure, de manière uniforme ou non, sur toute la hauteur du futur trou 54, 54 ́. Cette étape 7 peut également consister, par exemple, à structurer par photolithographie une résine photosensible du type positif ou négatif. Preferably, the method 1 may comprise at the same time, before or after step 6, a step 7 of mounting a rod 40, as shown in FIG. 5, from the bottom of said at least one cavity 35 to directly form a shaft hole 54, 54 of the gear 51, 51 during the future electroforming. This has the advantage not only of avoiding having to machine the gear 51, 51 after the electroforming is completed, but also of being able to carry out any shape of inner section, uniformly or otherwise, over the entire height of the future hole 54, 54. This step 7 may also consist, for example, of structuring by photolithography a photosensitive resin of the positive or negative type.

[0026] Le procédé 1 se poursuit ensuite avec l’étape 9 d’électroformage destinée à faire croître un dépôt électrolytique 41 au moins dans le fond de ladite au moins une cavité 35. Dans l’exemple illustré à la fig. 6, représentant la variante de réalisation du rouage 51 ́, on peut voir que le dépôt 41 croit aussi bien dans ladite au moins une cavité 35 que dans ledit au moins un évidement 39 autour de la tige 40. The method 1 then continues with the electroforming step 9 for growing an electrolytic deposit 41 at least in the bottom of said at least one cavity 35. In the example illustrated in FIG. 6, representing the variant embodiment of the gear train 51, it can be seen that the deposit 41 grows in both said at least one cavity 35 and in said at least one recess 39 around the rod 40.

[0027] Préférentiellement, l’étape 9 est arrêtée avant que le dépôt ne dépasse du dessus du substrat 29. Dans le cas de la première variante du rouage 51, le dessus du substrat 29 est le dessus de ladite au moins une cavité 35. Dans le cas de la deuxième variante du rouage 51 ́, le dessus du substrat 29 est le dessus dudit au moins un évidement 39 comme illustré à la fig. 6. On comprend pourquoi, dans cette deuxième variante, il peut être nécessaire que le dessus de la couche supérieure 31, c’est-à-dire le fond dudit au moins un évidement 39, comporte également le revêtement 37 formé lors de l’étape 5. Preferably, step 9 is stopped before the deposit protrudes from above the substrate 29. In the case of the first variant of the gear train 51, the top of the substrate 29 is the top of said at least one cavity 35. In the case of the second variant of the gear train 51, the top of the substrate 29 is the top of said at least one recess 39 as illustrated in FIG. 6. It is understood why, in this second variant, it may be necessary that the top of the upper layer 31, that is to say the bottom of said at least one recess 39, also comprises the coating 37 formed during the step 5.

[0028] Selon l’invention, le procédé 1 se poursuit par l’étape 13 destinée à graver au moins un motif 44 dans la couche inférieure 33 jusqu’à découvrir le revêtement 37 et, éventuellement, le dépôt 41. According to the invention, the method 1 continues with the step 13 for engraving at least one pattern 44 in the lower layer 33 to discover the coating 37 and, optionally, the deposit 41.

[0029] L’étape 13 consiste dans un premier temps à structurer au moins un masque 46 de protection sur la couche inférieure 33 comme illustré à la fig. 7. Comme visible également à la fig. 7, le masque 46 comporte au moins un motif 44 qui ne recouvre pas la couche inférieure 33. Un tel masque 46 peut, par exemple, être obtenu par photolithographie à l’aide d’une résine photosensible du type positif ou négatif. Step 13 consists in a first step to structure at least one mask 46 of protection on the lower layer 33 as shown in FIG. 7. As can also be seen in fig. 7, the mask 46 comprises at least one pattern 44 which does not cover the lower layer 33. Such a mask 46 may, for example, be obtained by photolithography using a positive or negative type of photosensitive resin.

[0030] Dans un deuxième temps, la couche inférieure 33 est gravée jusqu’à découvrir le revêtement 37 et, éventuellement, le dépôt 41. Selon l’invention, le gravage comporte, de manière préférée, une attaque sèche anisotropique du type gravage ionique réactif profond (DRE). L’attaque anisotropique est effectuée dans la couche inférieure 33 selon le motif 44 du masque 46. In a second step, the lower layer 33 is etched until the coating 37 and, optionally, the deposit 41. According to the invention, the etching preferably comprises an anisotropic dry attack of the ion etching type. deep reagent (DRE). The anisotropic etching is carried out in the lower layer 33 according to the pattern 44 of the mask 46.

[0031] Dans un troisième temps, le masque 46 est retiré. Ainsi, à la fin de l’étape 13, la couche inférieure 33 est gravée dans toute son épaisseur d’au moins une deuxième cavité 45, permettant de former un deuxième mobile 57, 57 ́ du futur rouage 51, 51 ́. In a third step, the mask 46 is removed. Thus, at the end of step 13, the lower layer 33 is etched throughout its thickness with at least a second cavity 45, making it possible to form a second mobile 57, 57 of the future wheel 51, 51.

[0032] Le procédé 1 comporte ensuite une étape 16 consistant à structurer une résine photosensible 43 sur le dessous de la couche inférieure 33 en formant un chemisage 51 sur les parois de ladite au moins une deuxième cavité 45. The method 1 then comprises a step 16 consisting in structuring a photosensitive resin 43 on the underside of the lower layer 33 by forming a lining 51 on the walls of said at least one second cavity 45.

[0033] Préférentiellement, dans une étape suivante 15, un revêtement 47 électriquement conducteur est déposé en recouvrant le dessus de la résine structurée 43. Par analogie avec les parois de ladite au moins une cavité 35, le chemisage 51 de ladite au moins une deuxième cavité 45 n’a pas non plus nécessité à être revêtu. Preferably, in a next step 15, an electrically conductive coating 47 is deposited by covering the top of the structured resin 43. By analogy with the walls of said at least one cavity 35, the lining 51 of said at least one second cavity 45 also does not need to be coated.

[0034] Préférentiellement, le revêtement 47 est obtenu par un dépôt en phase vapeur. Cependant, d’autres types de dépôt sont envisageables comme un dépôt chimique. De manière préférée, le revêtement 47 comporte au moins une couche d’or, éventuellement, déposée sur une couche d’accrochage en chrome. Preferably, the coating 47 is obtained by a vapor deposition. However, other types of deposit are possible as a chemical deposit. Preferably, the coating 47 comprises at least one layer of gold, optionally deposited on a chromium tie layer.

[0035] Préférentiellement, afin de former au moins un deuxième évidement 49 s’évasant coaxialement de ladite au moins une deuxième cavité 45, le procédé 1 comporte une étape 17 consistant à monter une pièce 48 sur le dessous du substrat 29. Cette étape 17 peut consister, par exemple, à structurer par photolithographie une résine photosensible du type positif ou négatif. Preferably, in order to form at least a second recess 49 flaring coaxially from said at least one second cavity 45, the method 1 comprises a step 17 of mounting a part 48 on the underside of the substrate 29. This step 17 For example, it may consist in structuring by photolithography a photosensitive resin of the positive or negative type.

[0036] De manière préférée, l’étape 17 du procédé 1 peut également consister à monter une tige 42, comme illustré à la fig. 8, à partir du fond de ladite au moins une deuxième cavité 45 afin de former directement un trou d’axe 54, 54 ́ du rouage 51, 51 ́ lors du futur électroformage selon les mêmes avantages que ceux expliqué pour la tige 40. Préférentiellement, si les tiges 40 et 42 sont formées respectivement dans les cavités 35 et 45, elles sont alignées. Preferably, step 17 of method 1 may also consist of mounting a rod 42, as shown in FIG. 8, from the bottom of said at least one second cavity 45 in order to directly form an axle hole 54, 54 of the gear 51, 51 during the future electroforming according to the same advantages as those explained for the rod 40. Preferably if the rods 40 and 42 are respectively formed in the cavities 35 and 45, they are aligned.

[0037] Le procédé 1 se poursuit ensuite avec une nouvelle étape 19 d’électroformage destinée à continuer le dépôt débuté lors de l’étape 9 afin de remplir ladite au moins une cavité 35 (et, éventuellement, ledit au moins un évidement 39) et commencer l’électroformage d’un matériau dans ladite au moins une deuxième cavité 45 et ledit au moins un deuxième évidement 49 afin de former un axe 53, 53 ́ muni d’une collerette 52, 52 ́ et, éventuellement, d’une deuxième collerette 54 ́. The method 1 then continues with a new electroforming step 19 for continuing the deposition begun during step 9 in order to fill said at least one cavity 35 (and, optionally, said at least one recess 39). and starting electroforming a material in said at least one second cavity 45 and said at least one second recess 49 to form an axis 53, 53 provided with a flange 52, 52 and, optionally, a second collar 54.

[0038] Préférentiellement, à la fin de l’étape 19, le dépôt électrolytique 41 dépasse du dessus et du dessous du substrat 29. Un rodage est ensuite effectué afin de mettre le dépôt 41 au même niveau que celui du substrat 29 comme illustré à la fig. 9. Preferably, at the end of step 19, the electrolytic deposition 41 protrudes from above and below the substrate 29. A break-in is then performed in order to put the deposit 41 at the same level as that of the substrate 29 as illustrated in FIG. fig. 9.

[0039] Le procédé 1 se poursuit avec l’étape 21 de retrait de la résine 43, de la pièce 48 et, éventuellement, de la pièce 38 comme illustré à la fig. 10. L’étape suivante 23 consiste à retirer la couche intermédiaire 32 afin de désolidariser les premier 55, 55 ́ et deuxième 57, 57 ́ mobiles formés respectivement dans la couche supérieure 31 et la couche inférieure 33. Selon l’invention, le retrait est réalisé par gravage qui peut consister, par exemple, en une attaque chimique. Enfin, dans l’étape finale 25, le rouage 51, 51 ́ ainsi formé est libéré du substrat 29. The method 1 continues with the step 21 of removing the resin 43, the workpiece 48 and, optionally, the workpiece 38 as illustrated in FIG. 10. The next step 23 is to remove the intermediate layer 32 to separate the first 55, 55 and second 57, 57 mobile formed respectively in the upper layer 31 and the lower layer 33. According to the invention, the withdrawal is produced by etching which may consist, for example, in a chemical etching. Finally, in the final step 25, the gear train 51, 51 thus formed is released from the substrate 29.

[0040] Ainsi, selon la première variante du procédé 1 illustrée aux fig. 13 et 14, l’invention permet la réalisation d’un rouage composite 51 comportant un axe 53 dont une première extrémité est munie d’une collerette 52 venue de forme, un premier mobile 55 en matériau micro-usinable étant ajusté sur la deuxième extrémité de l’axe 53 et un deuxième mobile 57 en matériau micro-usinable étant monté fou sur ladite première extrémité de l’axe 53. Comme illustré à ces fig. 13 et 14, on voit que l’axe 53 comporte un trou 54 autorisant le chassage du rouage 51 contre un arbre ou un pivot. Thus, according to the first variant of the method 1 illustrated in FIGS. 13 and 14, the invention allows the realization of a composite wheel 51 having an axis 53 whose one end is provided with a flange 52 formed in shape, a first mobile 55 of micro-machinable material being fitted on the second end of the axis 53 and a second mobile 57 of micro-machinable material being mounted loosely on said first end of the shaft 53. As illustrated in these FIGS. 13 and 14, we see that the axis 53 has a hole 54 allowing the gear train 51 to be driven against a shaft or a pivot.

[0041] Selon la deuxième variante du procédé 1 illustrée aux fig. 11 et 12, l’invention permet la réalisation d’un rouage composite 51 ́ comportant un axe 53 ́ dont une première et une deuxième extrémités sont munie d’une collerette 52 ́, 56 ́ venues de forme. De plus, le rouage 51 ́ comporte un premier mobile dont une première roue 55 ́ en matériau micro-usinable est ajustée sur la deuxième extrémité de l’axe 53 ́, solidaire et en recouvrement partiel d’une deuxième roue 56 ́ en matériau électroformé. Un deuxième mobile 57 ́ en matériau micro-usinable est monté fou sur ladite première extrémité de l’axe 53. Comme illustré à ces fig. 11 et 12, on voit que l’axe 53 ́ comporte un trou 54 ́ autorisant le chassage du rouage 51 ́ contre un arbre ou un pivot. According to the second variant of the method 1 illustrated in FIGS. 11 and 12, the invention allows the realization of a composite gear train 51 having an axis 53 whose first and second ends are provided with a flange 52, 56 come form. In addition, the gear train 51 comprises a first wheel, a first wheel 55 of micro-machinable material is fitted on the second end of the shaft 53, secured and partial overlap of a second wheel 56 of electroformed material . A second mobile 57 of micro-machinable material is mounted loosely on said first end of the axis 53. As illustrated in these FIGS. 11 and 12, we see that the axis 53 has a hole 54 allowing the gear train 51 to be driven against a shaft or a pivot.

[0042] Comme visible aux fig. 11et 13, le premier mobile 55, 55 ́ peut comporter au moins partiellement un revêtement extérieur correspondant à la fine couche de revêtement 37 permettant d’améliorer la tribologie dudit premier mobile 55, 55 ́. De plus, préférentiellement, l’axe 53, 53 ́ électroformé est en un matériau à faible frottement. As visible in FIGS. 11 and 13, the first mobile 55, 55 may comprise at least partially an outer coating corresponding to the thin layer of coating 37 for improving the tribology of said first mobile 55, 55. In addition, preferably, the axis 53, 53 electroformed is a low friction material.

[0043] Bien entendu, la présente invention ne se limite pas à l’exemple illustré mais est susceptible de diverses variantes et modifications qui apparaîtront à l’homme de l’art. Ainsi, plusieurs rouages 51, 51 ́ peuvent être fabriquées sur le même substrat 29 afin de réaliser une production en série de rouages 51, 51 ́ qui ne sont pas forcément identiques entre eux. Of course, the present invention is not limited to the example shown but is susceptible of various variations and modifications that will occur to those skilled in the art. Thus, a plurality of gear trains 51, 51 can be manufactured on the same substrate 29 in order to produce a series production of gear trains 51, 51 which are not necessarily identical to each other.

[0044] De même, on peut également envisager changer des matériaux à base de silicium par de l’alumine cristallisée ou de la silice cristallisée ou du carbure de silicium. Similarly, it is also possible to change silicon-based materials with crystallized alumina or crystalline silica or silicon carbide.

[0045] Il est également envisageable que les revêtements 37 et/ou 47 soient de natures différentes et/ou qu’ils soient déposés chacun selon des méthodes différentes que celles exposées ci-dessus. Il est également envisageable que ces revêtements 37 et/ou 47 soient inutiles par utilisation d’un matériau micro-usinable électriquement conducteur comme du silicium dopé et/ou que la résine 43 soit électriquement conductrice. It is also conceivable that the coatings 37 and / or 47 are of different natures and / or that they are each deposited according to different methods than those described above. It is also conceivable that these coatings 37 and / or 47 are useless by using an electrically conductive micro-machining material such as doped silicon and / or that the resin 43 is electrically conductive.

[0046] Enfin, la collerette 52, 52 ́ au même titre que la collerette 54, 54 ́ peut également comporter une denture. De plus, l’application du rouage 51, 51 ́ n’est pas limitée à une pièce d’horlogerie. Finally, the flange 52, 52 as well as the flange 54, 54 may also include a toothing. In addition, the application of gear train 51, 51 is not limited to a timepiece.

Claims (17)

1. Procédé de fabrication (1) d’un rouage (51, 51 ́) comportant les étapes suivantes: a) se munir (2) d’un substrat (29) comportant une couche supérieure (31) et une couche inférieure (33) en matériau micro-usinable et solidarisées entre elles par une couche intermédiaire (32); b) graver (3) au moins un motif (34) dans la couche supérieure (31) et la couche intermédiaire (32) jusqu’à découvrir la couche inférieure (33) afin de former au moins une première cavité (35) appartenant à un premier mobile (55, 55 ́); c) recouvrir (5) au moins le fond de ladite au moins une première cavité (35) d’un revêtement (37) électriquement conducteur; d) électroformer (9) un matériau au moins dans le fond de ladite au moins une première cavité (35); e) graver (13) un deuxième motif (44) dans la couche inférieure (33) jusqu’au revêtement (37) dudit matériau électriquement conducteur afin de former au moins une deuxième cavité (45) appartenant à un deuxième mobile (57, 57 ́); f) structurer (16) une résine photosensible (42, 43, 48) sur le dessous de la couche inférieure (33) en formant un chemisage (51) sur les parois de ladite au moins une deuxième cavité (45) et au moins un évidement (49) s’évasant coaxialement de ladite au moins une deuxième cavité (45); g) continuer (19) l’électroformage débuté lors de l’étape d) afin de remplir ladite au moins une première cavité (35) et commencer l’électroformage (19) d’un matériau dans ladite au moins une deuxième cavité (45) et ledit au moins un évidement (49) afin de former un axe (53, 53 ́) muni d’une collerette (52, 52 ́); h) retirer (21) la résine photosensible (38, 40, 42, 43, 48); i) retirer (23) la couche intermédiaire (32) afin de désolidariser les premier (55, 55 ́) et deuxième (57, 57 ́) mobiles; j) libérer (25) le rouage (51, 51 ́) fabriqué du substrat (29).A method of manufacturing (1) a gear train (51, 51) comprising the steps of: a) providing (2) a substrate (29) comprising an upper layer (31) and a lower layer (33) of micro-machinable material and secured together by an intermediate layer (32); b) etching (3) at least one pattern (34) in the upper layer (31) and the intermediate layer (32) until the bottom layer (33) is exposed to form at least a first cavity (35) belonging to a first mobile (55, 55); c) covering (5) at least the bottom of said at least one first cavity (35) of an electrically conductive coating (37); d) electroforming (9) at least one material in the bottom of said at least one first cavity (35); e) etching (13) a second pattern (44) in the lower layer (33) to the coating (37) of said electrically conductive material to form at least a second cavity (45) belonging to a second mobile (57, 57 ); f) structuring (16) a photosensitive resin (42, 43, 48) on the underside of the lower layer (33) forming a liner (51) on the walls of said at least one second cavity (45) and at least one recess (49) flaring coaxially from said at least one second cavity (45); g) continuing (19) electroforming started in step d) to fill said at least one first cavity (35) and start electroforming (19) of a material in said at least one second cavity (45); ) and said at least one recess (49) to form an axle (53, 53) with a flange (52, 52); h) removing (21) the photoresist (38, 40, 42, 43, 48); i) removing (23) the intermediate layer (32) to separate the first (55, 55) and second (57, 57) mobile; j) releasing (25) the wheel train (51, 51) manufactured from the substrate (29). 2. Procédé (1) selon la revendication précédente, caractérisé en ce que l’étape f) comporte également la phase suivante: k) recouvrir (15) au moins le fond dudit au moins un évidement (49) d’un deuxième revêtement (47) électriquement conducteur afin d’améliorer la formation de ladite collerette.2. Method (1) according to the preceding claim, characterized in that step f) also comprises the following phase: k) covering (15) at least the bottom of said at least one recess (49) of a second coating (47) electrically conductive to improve the formation of said flange. 3. Procédé (1) selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce qu’il comporte, avant l’étape d), l’étape suivante: I) monter une pièce (38) sur le dessus du substrat (29) afin de former au moins un autre évidement (39) s’évasant coaxialement de ladite au moins une première cavité (35) afin d’offrir un niveau de matériau électroformé au-dessus de la couche supérieure (31).3. Method (1) according to claim 1 or 2, characterized in that it comprises, before step d), the following step: I) mounting a workpiece (38) on top of the substrate (29) to form at least one further recess (39) flaring coaxially from said at least one first cavity (35) to provide a level of electroformed material above the upper layer (31). 4. Procédé (1) selon la revendication précédente, caractérisé en ce que l’étape c) permet également de recouvrir au moins le fond dudit au moins un autre évidement (39) dudit revêtement (37) électriquement conducteur.4. Method (1) according to the preceding claim, characterized in that step c) also covers at least the bottom of said at least one other recess (39) of said coating (37) electrically conductive. 5. Procédé (1) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’il comporte, après l’étape c), l’étape suivante: m) monter (7) une tige (40) dans ladite au moins une première cavité (35) afin de former un trou (54, 54 ́) dans le futur rouage (51, 51 ́).5. Method (1) according to one of the preceding claims, characterized in that it comprises, after step c), the following step: m) mounting (7) a rod (40) in said at least one first cavity (35) to form a hole (54, 54) in the future train (51, 51). 6. Procédé (1) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce qu’il comporte, avant l’étape g), l’étape suivante: n) monter (17) une tige (42) dans ladite au moins une deuxième cavité (45) afin de former un trou (54, 54 ́) dans le futur rouage (51, 51 ́).6. Method (1) according to one of the preceding claims, characterized in that it comprises, before step g), the following step: n) mounting (17) a rod (42) in said at least one second cavity (45) to form a hole (54, 54) in the future train (51, 51). 7. Procédé (1) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que les étapes b) et e) comporte les phases suivantes: - structurer au moins un masque (36, 46) de protection sur la couche à graver (31, 33); - réaliser une attaque anisotropique de ladite couche selon les parties non recouvertes par ledit au moins un masque de protection; - retirer le masque de protection.7. Method (1) according to one of the preceding claims, characterized in that steps b) and e) comprises the following phases: structuring at least one mask (36, 46) for protection on the layer to be etched (31, 33); - Perform an anisotropic attack of said layer according to the parts not covered by said at least one protective mask; - remove the protective mask. 8. Procédé (1) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que plusieurs rouages (51, 51 ́) sont fabriqués sur le même substrat (29).8. Method (1) according to one of the preceding claims, characterized in that several wheels (51, 51) are manufactured on the same substrate (29). 9. Procédé (1) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que chaque revêtement (37, 47) comporte au moins une couche d’or.9. Method (1) according to one of the preceding claims, characterized in that each coating (37, 47) comprises at least one layer of gold. 10. Procédé (1) selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que les matériaux micro-usinables sont à base de silicium.10. Method (1) according to one of the preceding claims, characterized in that the micro-machinable materials are based on silicon. 11. Rouage (51, 51 ́) comportant un axe (53, 53 ́) dont une première extrémité est munie d’une collerette (52, 52 ́) venue de forme, un premier mobile (55, 55 ́) en matériau micro-usinable étant ajusté sur la deuxième extrémité de l’axe (53, 53 ́) et un deuxième mobile (57, 57 ́) en matériau micro-usinable monté fou sur ladite première extrémité de l’axe.11. Gear (51, 51) having an axis (53, 53) whose first end is provided with a flange (52, 52) shaped, a first mobile (55, 55) of micro material -usinable being adjusted on the second end of the shaft (53, 53) and a second mobile (57, 57) of micro-machinable material mounted crazy on said first end of the axis. 12. Rouage selon la revendication précédente, caractérisé en ce que ladite deuxième extrémité est munie d’une deuxième collerette (56 ́) venue de forme avec l’axe (53 ́) qui recouvre partiellement ledit premier mobile (55 ́).12. Gear according to the preceding claim, characterized in that said second end is provided with a second flange (56) formed in shape with the axis (53) which partially covers said first mobile (55). 13. Rouage selon la revendication précédente, caractérisé en ce que ladite deuxième collerette (56 ́) est dentée afin de former un deuxième niveau dudit premier mobile (55 ́).13. Gear according to the preceding claim, characterized in that said second flange (56) is toothed to form a second level of said first movable (55). 14. Rouage selon l’une des revendications 11 à 13, caractérisé en ce que le premier mobile (55, 55 ́) comporte au moins partiellement un revêtement extérieur (37).14. Gear according to one of claims 11 to 13, characterized in that the first mobile (55, 55) comprises at least partially an outer coating (37). 15. Rouage selon l’une des revendications 11 à 14, caractérisé en ce que ledit axe (53, 53 ́) est en un matériau à faible frottement.15. Gear according to one of claims 11 to 14, characterized in that said axis (53, 53) is of a low friction material. 16. Rouage selon l’une des revendications précédentes, caractérisé en ce que les matériaux micro-usinables sont à base de silicium.16. Gear according to one of the preceding claims, characterized in that the micro-machinable materials are based on silicon. 17. Pièce d’horlogerie caractérisée en ce qu’elle comporte au moins un rouage conforme à l’une des revendications 11 à 16.17. Timepiece characterized in that it comprises at least one wheel according to one of claims 11 to 16.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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