WO2022019023A1 - 半導体装置 - Google Patents
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- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
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- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/37001—Core members of the connector
- H01L2224/37099—Material
- H01L2224/371—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/37138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/37147—Copper [Cu] as principal constituent
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- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/40137—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
- H01L2224/40139—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate with an intermediate bond, e.g. continuous strap daisy chain
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- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
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- H01L2224/40151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/40221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/40245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
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- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45117—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
- H01L2224/45124—Aluminium (Al) as principal constituent
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- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
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- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45147—Copper (Cu) as principal constituent
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
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- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
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- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4912—Layout
- H01L2224/49171—Fan-out arrangements
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- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8338—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/83399—Material
- H01L2224/834—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/83438—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/83447—Copper [Cu] as principal constituent
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- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
- H01L2224/83801—Soldering or alloying
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- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/848—Bonding techniques
- H01L2224/84801—Soldering or alloying
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
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- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
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- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
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- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1203—Rectifying Diode
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/13—Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
- H01L2924/1304—Transistor
- H01L2924/1306—Field-effect transistor [FET]
- H01L2924/13091—Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
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- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
Definitions
- the present disclosure relates to a semiconductor device including a semiconductor element.
- Patent Document 1 discloses an example of a semiconductor device including a MOSFET.
- the semiconductor device includes a drain terminal to which a power supply voltage is applied, a gate terminal for inputting an electric signal, and a source terminal through which a converted current flows.
- the MOSFET has a drain electrode conducting to the drain terminal, a gate electrode conducting to the gate terminal, and a source electrode conducting to the source terminal.
- the drain electrode of the MOSFET is electrically bonded to the die pad (connected to the drain terminal) via solder (first conductive bonding material).
- the source electrode of the MOSFET is bonded to a conductive member (metal clip) via solder (second conductive bonding material).
- a source terminal is also joined to this conductive member.
- thermal stress tends to concentrate at the interface between the source electrode and the second conductive bonding material in use. This is because the heat generated from the MOSFET is conducted to the second conductive bonding material via the source electrode. The heat generated from the MOSFET is also conducted to the first conductive bonding material via the drain electrode.
- the concentration of thermal stress becomes remarkable between the source electrode and the second conductive bonding material.
- cracks may occur in both the source electrode and the second conductive bonding material. Therefore, it is desired to take measures to alleviate the thermal stress acting on the MOSFET by reducing the concentration of thermal stress.
- one of the problems of the present disclosure is to provide a semiconductor device capable of relaxing the thermal stress acting on the semiconductor element while dealing with a larger current.
- the semiconductor device provided by the present disclosure has a first die pad having a first main surface facing in the thickness direction; an electrode provided on the side facing the first main surface in the thickness direction, and said first.
- a semiconductor element bonded to a main surface; a conductive member electrically bonded to the electrode; and a first bonding layer electrically bonded to the conductive member and the electrode;
- the conductive member includes a main body portion, a first joint portion electrically bonded to the electrode by the first joint layer, a first connecting portion connecting the main body portion and the first joint portion, and the first joint portion. It is located away from the connecting portion and has a tip portion connected to the first joint portion.
- the tip portion When viewed along the in-plane direction of the first main surface, the tip portion is inclined toward the electrode as the distance from the first joint portion increases.
- the electrode When viewed along the thickness direction, the electrode includes an expansion region protruding from the conductive member on the side opposite to the first joint portion with respect to the tip portion in the in-plane direction.
- the semiconductor device can relieve the thermal stress acting on the semiconductor element while dealing with a larger current.
- FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line VII-VII of FIG.
- FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII of FIG.
- FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line IX-IX of FIG.
- FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line XX of FIG.
- FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line XI-XI of FIG. It is a top view of the 1st conductive member of the semiconductor device shown in FIG. It is a top view of the 2nd conductive member of the semiconductor device shown in FIG. It is a partially enlarged view of FIG.
- FIG. 7 is a partially enlarged view of FIG. 7.
- FIG. 7 is a partially enlarged view of FIG. 7.
- FIG. is a partially enlarged view of FIG.
- It is a top view of the semiconductor device which concerns on 2nd Embodiment of this disclosure, and is transmitted through a sealing resin.
- It is a partially enlarged view of FIG. It is sectional drawing which follows the XXI-XXI line of FIG.
- the semiconductor device A10 includes a first die pad 11, a second die pad 12, a first input terminal 13, an output terminal 14, a second input terminal 15, a pair of semiconductor elements 21, a die bonding layer 23, a first bonding layer 24, and a second. It includes a bonding layer 25, a first conductive member 30A, a second conductive member 30B, and a sealing resin 50. Further, the semiconductor device A10 includes a first gate terminal 161, a second gate terminal 162, a first detection terminal 171 and a second detection terminal 172, a pair of protection elements 22, a third junction layer 26, a pair of gate wires 41, and a pair. The detection wire 42 is provided. In FIG. 3, for convenience of understanding, the sealing resin 50 is transmitted, and the sealing resin 50 is shown by an imaginary line (dashed-dotted line). The IX-IX line and the XX line are indicated by alternate long and short dash lines, respectively.
- the thickness direction of the first die pad 11 is referred to as "thickness direction z".
- One direction orthogonal to the thickness direction z is called “first direction x”.
- the direction orthogonal to both the thickness direction z and the first direction x is referred to as a "second direction y”.
- the "in-plane direction" of the first main surface 111 of the first die pad 11 is a direction parallel to the first main surface, and in the present disclosure, either the first direction x or the second direction y depending on the situation. Point to.
- the "in-plane direction” is the first direction x
- the "in-plane direction” is the second direction y.
- the semiconductor device A10 converts the DC power supply voltage applied to the first input terminal 13 and the second input terminal 15 into AC power by a pair of semiconductor elements 21.
- the converted AC power is input from the output terminal 14 to a power supply target such as a motor.
- the semiconductor device A10 is used in a power conversion circuit such as an inverter.
- the first die pad 11 protects one of the pair of semiconductor elements 21 and the semiconductor element 21 (first switching element 21A) and the pair of protection elements 22. It is a conductive member on which the element 22 (first diode 22A) is mounted.
- the first die pad 11 includes a second die pad 12, a first input terminal 13, an output terminal 14, a second input terminal 15, a first gate terminal 161 and a second gate terminal 162, a first detection terminal 171 and a second detection terminal 172. At the same time, it is composed of the same lead frame.
- the lead frame is copper (Cu) or a copper alloy.
- the first die pad 11 contains copper (ie, each of the above members contains copper).
- the first die pad 11 has a first main surface 111 and a first back surface 112.
- the first main surface 111 faces the thickness direction z.
- a first switching element 21A and a first diode 22A are mounted on the first main surface 111.
- another member B is mounted (arranged, provided, etc.) on a certain member A, the case where the member A and the member B are in direct contact with each other.
- At least one other member may be interposed between the member A and the member B.
- the first back surface 112 faces the side opposite to the first main surface 111 in the thickness direction z.
- the first back surface 112 is, for example, tin (Sn) plated. As shown in FIGS. 7 and 8, the thickness T1 of the first die pad 11 is larger than the maximum thickness t max of the first conductive member 30A.
- the second die pad 12 protects the other semiconductor element 21 (second switching element 21B) of the pair of semiconductor elements 21 and one of the pair of protection elements 22. It is a conductive member on which the element 22 (second diode 22B) is mounted.
- the second die pad 12 is located away from the first die pad 11 in the in-plane direction (second direction y).
- the second die pad 12 has a second main surface 121 and a second back surface 122.
- the second main surface 121 faces the same side as the first main surface 111 in the thickness direction z.
- a second switching element 21B and a second diode 22B are mounted on the second main surface 121.
- the second back surface 122 faces the side opposite to the second back surface 122 in the thickness direction z.
- the second back surface 122 is, for example, tin-plated.
- the thickness T2 of the second die pad 12 is larger than the maximum thickness t max of the first conductive member 30A.
- the pair of semiconductor elements 21 includes a first switching element 21A and a second switching element 21B.
- the first switching element 21A is joined to the first main surface 111 of the first die pad 11.
- the second switching element 21B is joined to the second main surface 121 of the second die pad 12.
- the pair of semiconductor elements 21 is, for example, a MOSFET (Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor).
- MOSFET Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor
- the pair of semiconductor elements 21 are n-channel type MOSFETs having a vertical structure.
- Each semiconductor element 21 includes a compound semiconductor substrate.
- the composition of the compound semiconductor substrate contains silicon carbide (SiC).
- the composition of the compound semiconductor substrate may include gallium nitride (GaN).
- each semiconductor element 21 has a first electrode 211, a second electrode 212, and a third electrode 213.
- the first electrode 211 faces either the first main surface 111 of the first die pad 11 or the second main surface 121 of the second die pad 12 (via the die bonding layer 23). It is provided. A voltage corresponding to the electric power to be converted is applied to the first electrode 211.
- the first electrode 211 corresponds to a drain electrode.
- the second electrode 212 is provided on the side opposite to the first electrode 211 in the thickness direction z. That is, the second electrode 212 is provided on the side of the first die pad 11 facing the same direction as the first main surface 111. A current corresponding to the electric power converted by any one of the pair of semiconductor elements 21 flows through the second electrode 212.
- the second electrode 212 corresponds to the source electrode.
- the second electrode 212 includes a plurality of metal plating layers.
- the second electrode 212 includes a nickel (Ni) plating layer and a gold (Au) plating layer laminated on the nickel plating layer.
- the second electrode 212 may include a nickel plating layer, a palladium (Pd) plating layer laminated on the nickel plating layer, and a gold plating layer laminated on the palladium plating layer.
- the third electrode 213 is provided on the same side as the second electrode 212 in the thickness direction z, and is located away from the second electrode 212.
- a gate voltage for driving any of the pair of semiconductor elements 21 is applied to the third electrode 213.
- the third electrode 213 corresponds to a gate electrode. In each semiconductor element 21, the current corresponding to the voltage applied to the first electrode 211 is converted based on the gate voltage.
- the area of the third electrode 213 is smaller than the area of the second electrode 212 when viewed along the thickness direction z.
- the pair of protection elements 22 includes the first diode 22A and the second diode 22B.
- the first diode 22A is bonded to the first main surface 111 of the first die pad 11.
- the second diode 22B is bonded to the second main surface 121 of the second die pad 12.
- Each protection element 22 is, for example, a Schottky barrier diode.
- the first diode 22A is connected in parallel to the first switching element 21A.
- the second diode 22B is connected in parallel to the second switching element 21B.
- Each protection element 22 is a so-called freewheeling diode. That is, when a reverse bias is applied to each semiconductor element 21, the current flows not in the semiconductor element 21 but in the protection element 22 connected in parallel to the semiconductor element 21.
- each protective element 22 has a top electrode 221 and a bottom electrode 222.
- the upper surface electrode 221 is provided on the side facing the first main surface 111 of the first die pad 11 in the thickness direction z.
- the top electrode 221 is conductive to the second electrode 212 of the semiconductor element 21 connected in parallel to the protection element 22.
- the top electrode 221 corresponds to the anode electrode.
- the bottom electrode 222 is provided on the side opposite to the top electrode 221 in the thickness direction z.
- the bottom electrode 222 is conductive to the first electrode 211 of the semiconductor element 21 connected in parallel to the protection element 22.
- the bottom electrode 222 corresponds to a cathode electrode.
- the die bonding layer 23 includes a first main surface 111 of the first die pad 11 and a second main surface 121 of the second die pad 12, and a pair of semiconductor elements 21. It includes a portion located between the one electrode 211 and the bottom electrode 222 of the pair of protective elements 22.
- the die bonding layer 23 is made of a conductive material.
- the die bonding layer 23 is, for example, lead-free solder. In addition, the die bonding layer 23 may be lead solder.
- the die bonding layer 23 electrically bonds the first electrode 211 of the first switching element 21A, the lower surface electrode 222 of the first diode 22A, and the first main surface 111.
- the first electrode 211 of the first switching element 21A and the lower surface electrode 222 of the first diode 22A are conductive to the first die pad 11.
- the die bonding layer 23 electrically bonds the first electrode 211 of the second switching element 21B, the lower surface electrode 222 of the second diode 22B, and the second main surface 121.
- the first electrode 211 of the second switching element 21B and the lower surface electrode 222 of the second diode 22B are conductive to the second die pad 12.
- the first input terminal 13 includes a portion extending along the first direction x and is connected to the first die pad 11. Therefore, the first input terminal 13 is electrically connected to the first die pad 11.
- the first input terminal 13 is a P terminal (positive electrode) to which a DC power supply voltage to be converted into power is applied.
- the first input terminal 13 has a covering portion 13A and an exposed portion 13B.
- the covering portion 13A is connected to the first die pad 11 and is covered with the sealing resin 50.
- the covering portion 13A is bent when viewed along the second direction y.
- the exposed portion 13B is connected to the covering portion 13A and is exposed from the sealing resin 50.
- the exposed portion 13B extends toward the side away from the first die pad 11 in the first direction x.
- the surface of the exposed portion 13B is, for example, tin-plated.
- the output terminal 14 includes a portion extending along the first direction x and is connected to the second die pad 12. Therefore, the output terminal 14 is electrically connected to the second die pad 12.
- the AC power converted by each semiconductor element 21 is output from the output terminal 14.
- the output terminal 14 has a covering portion 14A and an exposed portion 14B.
- the covering portion 14A is connected to the second die pad 12 and is covered with the sealing resin 50 (see FIG. 11).
- the covering portion 14A is bent in the same manner as the covering portion 13A of the first input terminal 13.
- the exposed portion 14B is connected to the covering portion 14A and is exposed from the sealing resin 50.
- the exposed portion 14B extends away from the second die pad 12 in the first direction x.
- the surface of the exposed portion 14B is, for example, tin-plated.
- the second input terminal 15 is located away from both the first die pad 11 and the second die pad 12 in the first direction x, and the first input terminal 13 and the output terminal are located in the second direction y. It is located between 14 and 14.
- the second input terminal 15 extends along the first direction x.
- the second input terminal 15 is conductive to the second electrode 212 of the second switching element 21B and the upper surface electrode 221 of the second diode 22B.
- the second input terminal 15 is an N terminal (negative electrode) to which a power supply voltage (corresponding to a direct current to be converted into power) is applied.
- the second input terminal 15 has a covering portion 15A and an exposed portion 15B. As shown in FIG. 10, the covering portion 15A is covered with the sealing resin 50. As shown in FIGS.
- the exposed portion 15B is connected to the covering portion 15A and is exposed from the sealing resin 50.
- the exposed portion 15B extends away from both the first die pad 11 and the second die pad 12 in the first direction x.
- the surface of the exposed portion 15B is, for example, tin-plated.
- the first gate terminal 161 is located away from the first die pad 11 in the first direction x and is located at one end of the second direction y.
- the second gate terminal 162 is located away from the second die pad 12 in the first direction x and is located at the other end of the second direction y.
- the first gate terminal 161 is conductive to the third electrode 213 of the first switching element 21A.
- a gate voltage for driving the first switching element 21A is applied to the first gate terminal 161.
- the second gate terminal 162 is conductive to the third electrode 213 of the second switching element 21B.
- a gate voltage for driving the second switching element 21B is applied to the second gate terminal 162.
- the first gate terminal 161 has a covering portion 161A and an exposed portion 161B.
- the covering portion 161A is covered with the sealing resin 50.
- the exposed portion 161B is connected to the covering portion 161A and is exposed from the sealing resin 50.
- the exposed portion 161B extends in the first direction x toward the side away from the first die pad 11.
- the surface of the exposed portion 161B is, for example, tin-plated.
- the second gate terminal 162 has a covering portion 162A and an exposed portion 162B.
- the covering portion 162A is covered with the sealing resin 50.
- the exposed portion 162B is connected to the covering portion 162A and is exposed from the sealing resin 50.
- the exposed portion 162B extends in the first direction x toward the side away from the second die pad 12.
- the surface of the exposed portion 162B is, for example, tin-plated.
- the first detection terminal 171 is located away from the first die pad 11 in the first direction x, and is located between the first input terminal 13 and the first gate terminal 161 in the second direction y.
- the second detection terminal 172 is located away from the second die pad 12 in the first direction x and is located between the output terminal 14 and the second gate terminal 162 in the second direction y. ..
- the first detection terminal 171 is conductive to the second electrode 212 of the first switching element 21A. A voltage corresponding to the current flowing through the second electrode 212 of the first switching element 21A is applied to the first detection terminal 171.
- the second detection terminal 172 is conductive to the second electrode 212 of the second switching element 21B. A voltage corresponding to the current flowing through the second electrode 212 of the second switching element 21B is applied to the second detection terminal 172.
- the first detection terminal 171 has a covering portion 171A and an exposed portion 171B.
- the covering portion 171A is covered with the sealing resin 50.
- the exposed portion 171B is connected to the covering portion 171A and is exposed from the sealing resin 50.
- the exposed portion 171B extends in the first direction x toward the side away from the first die pad 11.
- the surface of the exposed portion 171B is, for example, tin-plated.
- the second detection terminal 172 has a covering portion 172A and an exposed portion 172B.
- the covering portion 172A is covered with the sealing resin 50.
- the exposed portion 172B is connected to the covering portion 172A and is exposed from the sealing resin 50.
- the exposed portion 172B extends in the first direction x toward the side away from the second die pad 12.
- the surface of the exposed portion 172B is, for example, tin-plated.
- the heights h of the exposed portion 13B of the first input terminal 13, the exposed portion 14B of the output terminal 14, and the exposed portion 15B of the second input terminal 15 are equal. Further, the thicknesses of these exposed portions are also equal to each other. Therefore, when viewed along the second direction y, at least a part (exposed portion 15B) of the second input terminal 15 overlaps each of the first input terminal 13 and the output terminal 14 (see FIG. 6).
- the first conductive member 30A is electrically connected to the second electrode 212 of the first switching element 21A, the upper surface electrode 221 of the first diode 22A, and the second main surface 121 of the second die pad 12. It is joined to. As a result, the second electrode 212 of the first switching element 21A and the upper surface electrode 221 of the first diode 22A are conducting to the second die pad 12 in a state where they are mutually conductive. As shown in FIG. 3, the second conductive member 30B is joined to the second electrode 212 of the second switching element 21B, the upper surface electrode 221 of the second diode 22B, and the covering portion 15A of the second input terminal 15. There is. As a result, the second electrode 212 of the second switching element 21B and the upper surface electrode 221 of the second diode 22B are conducting to the second input terminal 15 in a state where they are mutually conducted.
- each composition of the first conductive member 30A and the second conductive member 30B contains copper.
- each of the first conductive member 30A and the second conductive member 30B is a metal clip.
- each of the first conductive member 30A and the second conductive member 30B has a main body portion 31, a first joint portion 32, a first connecting portion 33, a tip portion 34, and a second joint portion 35.
- the main body portion 31 forms the main portion of each of the first conductive member 30A and the second conductive member 30B. As shown in FIGS. 7, 8 and 10, the main body 31 is parallel to the first main surface 111 of the first die pad 11 and the second main surface 121 of the second die pad 12.
- the main body portion 31 of the second conductive member 30B is located farther from both the first main surface 111 and the second main surface 121 than the main body portion 31 of the first conductive member 30A, and is the second of the first conductive member 30A. It straddles the joint portion 35.
- the first bonding portion 32 is electrically bonded to the second electrode 212 of any one of the pair of semiconductor elements 21.
- the first bonding portion 32 of the first conductive member 30A is electrically bonded to the second electrode 212 of the first switching element 21A.
- the first bonding portion 32 of the second conductive member 30B is electrically bonded to the second electrode 212 of the second switching element 21B.
- the first junction 32 is parallel to the second electrode 212 of any of the pair of semiconductor elements 21.
- the first joint portion 32 has a first joint surface 321 and a first opening 322.
- the first junction surface 321 faces the second electrode 212 of any one of the pair of semiconductor elements 21.
- the first opening 322 penetrates the first joint portion 32 in the thickness direction z. As shown in FIG. 14, the first opening 322 has a circular shape when viewed along the thickness direction z. The area (opening area) of the first opening 322 is 0.25 mm 2 or more.
- the first connecting portion 33 connects the main body portion 31 and the first joining portion 32.
- the first connecting portion 33 when viewed along the in-plane direction (first direction x), the first connecting portion 33 is the first main of the first die pad 11 as it goes from the first joint portion 32 toward the main body portion 31. It is inclined away from either the surface 111 or the second main surface 121 of the second die pad 12.
- the first connecting portion 33 has a first inclined surface 331 and a boundary 332.
- the first inclined surface 331 is connected to the first joint surface 321 of the first joint portion 32 and is inclined with respect to the first joint surface 321.
- the magnitude of the inclination angle ⁇ 1 formed by the first inclined surface 331 with respect to the first joint surface 321 is 30 ° or more and 60 ° or less.
- the boundary 332 refers to the intersection line between the first joint surface 321 and the first inclined surface 331. As shown in FIG. 14, when viewed along the thickness direction z, the boundary 332 is located inward of any peripheral edge of the pair of semiconductor elements 21.
- the shortest distance d1 between the peripheral edge and the boundary 332 is 0.2 mm or more and 0.5 mm or less.
- the tip portion 34 is located away from the first connecting portion 33 and is connected to the first joining portion 32.
- the tip portion 34 In the in-plane direction (second direction y), the tip portion 34 is located on the side opposite to the first connecting portion 33 with respect to the first joining portion 32.
- the tip portion 34 when viewed along the in-plane direction (first direction x), the tip portion 34 is moved away from the first junction portion 32 from the second electrode 212 of either of the pair of semiconductor elements 21. It is tilted away.
- the second electrode 212 of the first switching element 21A has a first conductive member 30A on the side opposite to the first joint portion 32 with respect to the tip portion 34 in the in-plane direction (second direction y).
- the second electrode 212 of the second switching element 21B also includes an expansion region 212A that also protrudes from the second conductive member 30B.
- the minimum dimension d2 of the expansion region 212A is 0.1 mm or more and 0.2 mm or less.
- the tip portion 34 has a warped surface 341.
- the warped surface 341 is connected to the first joint surface 321 of the first joint portion 32 and is inclined with respect to the first joint surface 321.
- the warped surface 341 has an inclination angle ⁇ 2 with respect to the first joint surface 321.
- the total area of the first joint portion 32 and the tip portion 34 with respect to the area of the second electrode 212 of any one of the pair of semiconductor elements 21 when viewed along the thickness direction z (however, the opening area of the first opening 322).
- the ratio of) is 50% or more and 90% or less.
- the second joining portion 35 is electrically joined to either the second main surface 121 of the second die pad 12 or the covering portion 15A of the second input terminal 15. ing.
- the second joint portion 35 of the first conductive member 30A is electrically joined to the second main surface 121 and is parallel to the second main surface 121.
- the second joint portion 35 of the first conductive member 30A includes two regions located apart from each other in the first direction x.
- the second joint portion 35 of the second conductive member 30B is electrically joined to the covering portion 15A and is parallel to the covering portion 15A.
- the second joint portion 35 has a second joint surface 351 and a second opening 352.
- the second joint surface 351 faces either the second main surface 121 or the covering portion 15A.
- the second opening 352 penetrates the second joint portion 35 in the thickness direction z. As shown in FIGS. 12 and 13, the second opening 352 has a circular shape when viewed along the thickness direction z.
- the opening area of the second opening 352 is 0.25 mm 2 or more.
- the second connecting portion 36 connects the main body portion 31 and the second joint portion 35.
- the second connecting portion 36 of the first conductive member 30A is viewed along the in-plane direction (first direction x), and the direction from the second joint portion 35 toward the main body portion 31 is the second main surface of the second die pad 12. It is tilted away from 121.
- the second connecting portion 36 of the second conductive member 30B is viewed along the in-plane direction (second direction y), and as it goes from the second joint portion 35 toward the main body portion 31, the covering portion 15A of the second input terminal 15 It is tilted away from.
- the second connecting portion 36 has a second inclined surface 361.
- the second inclined surface 361 is connected to the second joint surface 351 of the second joint portion 35 and is inclined with respect to the second joint surface 351.
- the third bonding portion 37 is electrically bonded to the upper surface electrode 221 of any of the pair of protective elements 22.
- the third joint portion 37 of the first conductive member 30A is electrically bonded to the upper surface electrode 221 of the first diode 22A.
- the third joint portion 37 of the second conductive member 30B is electrically bonded to the upper surface electrode 221 of the second diode 22B.
- the third junction 37 is parallel to the top electrode 221 of any of the pair of protective elements 22.
- the third joint portion 37 is connected to the first connecting portion 33.
- the third joint portion 37 has a third joint surface 371 and a third opening 372.
- the third joint surface 371 faces the upper surface electrode 221 of any one of the pair of protection elements 22.
- the third joint surface 371 is connected to the first inclined surface 331 of the first connecting portion 33.
- the first inclined surface 331 has an inclination angle ⁇ 1 with respect to the third joint surface 371 when viewed along the in-plane direction (first direction x).
- the third opening 372 penetrates the third joint portion 37 in the thickness direction z.
- the third opening 372 has a circular shape when viewed along the thickness direction z.
- the opening area of the third opening 372 is 0.25 mm 2 or more.
- the tip portion 38 is located away from the first connecting portion 33 and is connected to the third joining portion 37.
- the tip portion 38 In the in-plane direction (second direction y), the tip portion 38 is located on the side opposite to the first connecting portion 33 with respect to the third joint portion 37.
- the tip portion 38 when viewed along the in-plane direction (first direction x), the tip portion 38 is separated from the upper surface electrode 221 of any of the pair of protective elements 22 as the distance from the third joint portion 37 increases. It is tilted in the direction. As shown in FIG.
- the upper surface electrode 221 of the first diode 22A protrudes from the first conductive member 30A on the side opposite to the third joint portion 37 with respect to the tip portion 38 in the in-plane direction (second direction y). Includes extended region 221A.
- the top electrode 221 of the second diode 22B also includes an expansion region 221A that also protrudes from the second conductive member 30B.
- the tip portion 38 has a warped surface 381.
- the warped surface 381 is connected to the third joint surface 371 of the third joint portion 37 and is inclined with respect to the third joint surface 371.
- the warped surface 381 has an inclination angle ⁇ 3 with respect to the third joint surface 371.
- the first bonding layer 24 has a second electrode 212 of each of the pair of semiconductor elements 21 and a first bonding portion of either the first conductive member 30A or the second conductive member 30B. Includes a portion located between 32 and.
- the first bonding layer 24 has conductivity.
- the first bonding layer 24 is, for example, lead-free solder. In addition, the first bonding layer 24 may be lead solder.
- the first bonding layer 24 electrically bonds each of the first conductive member 30A and the second conductive member 30B to the second electrode 212 of any one of the pair of semiconductor elements 21. Therefore, the first bonding portion 32 of the first conductive member 30A is electrically bonded to the second electrode 212 of the first switching element 21A by the first bonding layer 24.
- the first bonding portion 32 of the second conductive member 30B is electrically bonded to the second electrode 212 of the second switching element 21B by the first bonding layer 24.
- the first joint layer 24 is in contact with the first joint surface 321 of the first joint portion 32 of each of the first conductive member 30A and the second conductive member 30B. Further, the first joint layer 24 is also in contact with the inner peripheral surface of the first joint portion 32 that defines the first opening 322 of the first joint portion 32. Therefore, the first bonding layer 24 includes a portion that penetrates the first opening 322.
- the thickness t of the first joint portion 32 is 0.1 mm or more, and is not more than twice the maximum thickness T max of the first joint layer 24.
- the maximum thickness T max of the first bonding layer 24 does not include the portion of the first bonding layer 24 penetrating the first opening 322.
- the maximum thickness T max of the first bonding layer 24 is larger than the thickness of each of the pair of semiconductor elements 21.
- the first bonding layer 24 extends from the second electrode 212 of the first switching element 21A to the first conductive member 30A.
- a fillet 241 inclined with respect to the second electrode 212 is formed.
- the fillet 241 is also formed on the first bonding layer 24 including a portion located between the second electrode 212 of the second switching element 21B and the first bonding portion 32 of the second conductive member 30B.
- the fillet 241 formed on the first bonding layer 24 including the portion located between the second electrode 212 of the first switching element 21A and the first bonding portion 32 of the first conductive member 30A is described. set to target. As shown in FIG.
- the fillet 241 has a first edge 241A in contact with the second electrode 212 of the first switching element 21A and a second edge 241B in contact with the first conductive member 30A.
- the first edge 241A is located outward of the second edge 241B when viewed along the thickness direction z. Further, when viewed along the thickness direction, the first edge 241A is located closer to the outer edge (right edge in FIG. 14) of the first switching element 21A than the second edge 241B.
- the second end edge 241B is in contact with the warped surface 341 of the tip end portion 34.
- the inclination angle ⁇ 1 formed by the fillet 241 with respect to the second electrode 212 of the first switching element 21A is relative to the first joint surface 321 of the first joint portion 32. It is smaller than the inclination angle ⁇ 2 formed by the warped surface 341.
- the second bonding layer 25 includes a portion located between the second main surface 121 of the second die pad 12 and the second bonding portion 35 of the first conductive member 30A. Moreover, it is in contact with the second joint surface 351 of the second joint portion 35.
- the second bonding layer 25 has conductivity.
- the second bonding layer 25 is, for example, lead-free solder. In addition, the second bonding layer 25 may be lead solder.
- the second bonding layer 25 electrically bonds the first conductive member 30A and the second main surface 121. Therefore, the second joint portion 35 of the first conductive member 30A is electrically joined to the second main surface 121 by the second joint layer 25.
- the second joint layer 25 includes a portion located between the covering portion 15A of the second input terminal 15 and the second joint portion 35 of the second conductive member 30B, as shown in FIGS. 10 and 11. Moreover, it is in contact with the second joint portion 35.
- the second bonding layer 25 electrically bonds the second conductive member 30B and the covering portion 15A. Therefore, the second joint portion 35 of the second conductive member 30B is electrically joined to the covering portion 15A by the second joint layer 25.
- the second joint layer 25 is also in contact with the inner peripheral surface of the second joint portion 35 that defines the second opening 352 of the second joint portion 35. Therefore, the second bonding layer 25 includes a portion that penetrates the second opening 352.
- the third bonding layer 26 has a top electrode 221 of each of the pair of protective elements 22 and a third bonding portion 37 of either the first conductive member 30A or the second conductive member 30B. Includes the part located between and.
- the third bonding layer 26 has conductivity.
- the third bonding layer 26 is, for example, lead-free solder. In addition, the third bonding layer 26 may be lead solder.
- the third bonding layer 26 electrically bonds each of the first conductive member 30A and the second conductive member 30B to the upper surface electrode 221 of any one of the pair of protective elements 22.
- the third bonding portion 37 of the first conductive member 30A is electrically bonded to the upper surface electrode 221 of the first diode 22A by the third bonding layer 26.
- the third bonding portion 37 of the second conductive member 30B is electrically bonded to the upper surface electrode 221 of the second diode 22B by the third bonding layer 26.
- the third joint layer 26 is in contact with the third joint surface 371 of the third joint portion 37 of each of the first conductive member 30A and the second conductive member 30B. Further, the third joint layer 26 is also in contact with the inner peripheral surface of the third joint portion 37 that defines the third opening 372 of the third joint portion 37. Therefore, the third bonding layer 26 includes a portion that penetrates into the third opening 372.
- the third junction layer 26 extends from the upper surface electrode 221 of the first diode 22A to the first conductive member 30A, and the upper surface thereof.
- a fillet 261 inclined with respect to the electrode 221 is formed.
- the fillet 261 is also formed in the third bonding layer 26 including a portion located between the upper surface electrode 221 of the second diode 22B and the third bonding portion 37 of the second conductive member 30B.
- the description here is intended for a fillet 261 formed in a third joint layer 26 including a portion located between the upper surface electrode 221 of the first diode 22A and the third joint portion 37 of the first conductive member 30A.
- the fillet 261 has a first edge 261A in contact with the top electrode 221 of the first diode 22A and a second edge 261B in contact with the first conductive member 30A.
- the first edge 261A is located outward of the second edge 261B when viewed along the thickness direction z.
- the second edge 261B is in contact with the warped surface 381 of the tip 38.
- the inclination angle ⁇ 2 formed by the fillet 261 with respect to the upper surface electrode 221 of the first diode 22A is warped with respect to the third joint surface 371 of the third joint portion 37. It is smaller than the inclination angle ⁇ 3 formed by the surface 381.
- the pair of gate wires 41 includes a first gate wire 41 (eg, right gate wire 41) and a second gate wire 41 (eg, left gate wire 41).
- the first gate wire 41 is electrically bonded to the third electrode 213 (see FIG. 14) of one of the pair of semiconductor elements 21 and the covering portion 161A of the first gate terminal 161.
- the second gate wire 41 is electrically bonded to the other third electrode 213 of the pair of semiconductor elements 21 and the covering portion 162A of the second gate terminal 162.
- the first gate terminal 161 is conducting to the third electrode 213 of the first switching element 21A
- the second gate terminal 162 is conducting to the third electrode 213 of the second switching element 21B.
- the composition of each gate wire 41 includes, but is not limited to, the present disclosure.
- the composition of each gate wire 41 may contain copper or may contain aluminum (Al).
- the pair of detection wires 42 includes a first detection wire 42 (for example, the detection wire 42 on the right side) and a second detection wire 42 (for example, the detection wire 42 on the left side).
- the first detection wire 42 is electrically bonded to the second electrode 212 (see FIG. 14) of one of the pair of semiconductor elements 21 and the covering portion 171A of the first detection terminal 171.
- the second detection wire 42 is electrically bonded to the other second electrode 212 of the pair of semiconductor elements 21 and the covering portion 172A of the second detection terminal 172.
- the first detection terminal 171 is conducting to the second electrode 212 of the first switching element 21A
- the second detection terminal 172 is conducting to the second electrode 212 of the second switching element 21B.
- the composition of each detection wire 42 includes, but is not limited to, the present disclosure.
- the composition of each detection wire 42 may include copper or aluminum.
- the sealing resin 50 covers each semiconductor element 21, each protective element 22, the first conductive member 30A, and the second conductive member 30B. Further, the sealing resin 50 covers a part of the first die pad 11 and a part of the second die pad 12.
- the sealing resin 50 has electrical insulation.
- the sealing resin 50 is made of a material containing, for example, a black epoxy resin.
- the sealing resin 50 has a top surface 51, a bottom surface 52, a pair of first side surfaces 53, a pair of second side surfaces 54, a plurality of recesses 55, and a groove portion 56.
- the top surface 51 faces the same side as the first main surface 111 of the first die pad 11 in the thickness direction z.
- the bottom surface 52 faces the side opposite to the top surface 51 in the thickness direction z.
- the first back surface 112 of the first die pad 11 and the second back surface 122 of the second die pad 12 are exposed to the outside.
- the pair of first side surfaces 53 are located apart from each other in the first direction x. Each first side surface 53 is connected to a top surface 51 and a bottom surface 52. As shown in FIG. 5, the exposed portion 13B of the first input terminal 13, the exposed portion 14B of the output terminal 14, and the exposed portion 15B of the second input terminal 15 are exposed from one of the first side surfaces 53. Further, from the first side surface 53, the exposed portion 161B of the first gate terminal 161, the exposed portion 162B of the second gate terminal 162, the exposed portion 171B of the first detection terminal 171 and the exposed portion 172B of the second detection terminal 172 are exposed. is doing.
- the pair of second side surfaces 54 are located apart from each other in the second direction y.
- Each second side surface 54 is connected to a top surface 51 and a bottom surface 52.
- each of the plurality of recesses 55 is located in the first direction x from the first side surface 53 (the first side surface 53 on which the plurality of terminals including the first input terminal 13 project). It is dented toward the surface and extends from the top surface 51 to the bottom surface 52 in the thickness direction z.
- four recesses 55 are provided, but the present disclosure is not limited thereto.
- the first recess 55 (for example, the rightmost recess 55 in FIG. 2) of the four recesses 55 is located between the first input terminal 13 and the first detection terminal 171 in the second direction y. There is.
- the second recess 55 is between the first input terminal 13 and the second input terminal 15, and the third recess 55 is between the output terminal 14 and the second input terminal 15, and the fourth.
- the recess 55 (the leftmost recess 55 in FIG. 2) is located between the output terminal 14 and the second detection terminal 172, respectively.
- the creepage distance can be made relatively long. This is suitable for improving the withstand voltage of the semiconductor device A10.
- the groove 56 is recessed from the bottom surface 52 in the thickness direction z and extends long along the second direction y.
- the groove 56 has two ends spaced apart in the second direction y, each end connected to a corresponding second side surface 54 of a pair of second side surfaces 54.
- the groove portion 56 allows the first die pad 11 and the above seven terminals (first input terminal 13, output terminal 14, second input terminal 15, first gate terminal 161 and second gate terminal 162, first detection terminal 171 and second).
- the creepage distance of the sealing resin 50 between the detection terminal 172) and one of the terminals can be increased.
- the groove 56 can increase the creepage distance of the sealing resin 50 between the second die pad 12 and one of the seven terminals. This is suitable for improving the withstand voltage of the semiconductor device A10.
- the semiconductor device A10 includes a conductive member (first conductive member 30A) having a main body portion 31, a first joint portion 32, a first connecting portion 33, and a tip portion 34, the conductive member, and a semiconductor element 21 (first switching element).
- a first bonding layer 24 for electrically bonding the electrode (second electrode 212) of 21A) is provided.
- the tip portion 34 is inclined in a direction toward the electrode of the semiconductor element 21 as the distance from the first joint portion 32 increases.
- the electrode of the semiconductor element 21 has a tip on the side opposite to the first junction 32 with respect to the tip 34 in the in-plane direction (second direction y in the semiconductor device A10).
- the extended region 212A protruding from the portion 34 is included.
- the inclination angle ⁇ 1 formed by the fillet 241 with respect to the electrode of the semiconductor element 21 is relative to the first joint surface 321 of the first joint portion 32. It is smaller than the inclination angle ⁇ 2 formed by the warped surface 341 of the tip portion 34.
- the shape of the fillet 241 is suitable for reducing the thermal stress concentration acting on the interface between the electrode of the semiconductor element 21 and the first bonding layer 24.
- the first connecting portion 33 When viewed along the in-plane direction (first direction x in the semiconductor device A10), the first connecting portion 33 is directed from the first main surface 111 of the first die pad 11 toward the main body portion 31 from the first joining portion 32. It is tilted away. When viewed along the thickness direction z, the boundary 332 between the first joint surface 321 of the first joint portion 32 and the first inclined surface 331 of the first connecting portion 33 is inward of the peripheral edge of the semiconductor element 21. To position. As a result, fillets 241 are formed on both ends of the first bonding layer 24 in the in-plane direction (second direction y in the semiconductor device A10) of the electrodes of the semiconductor element 21.
- the thermal stress concentration acting on the interface between the electrode of the semiconductor element 21 and the first bonding layer 24 can be reduced more effectively.
- the magnitudes of the inclination angles ⁇ 1 formed by the first inclined surface 331 with respect to the first joint surface 321 when viewed along the in-plane direction (first direction x in the semiconductor device A10) are 30 ° or more and 60 °.
- the following is the shape of the fillet 241 suitable for relaxing the thermal stress concentration.
- the thickness t of the first joint portion 32 is not more than twice the maximum thickness T max of the first joint layer 24. As a result, it is possible to reduce the thermal stress concentration acting on the interface between the first joint layer 24 and the first joint portion 32 while ensuring the thermal durability of the first joint layer 24.
- the first joint portion 32 has a first opening 322 that penetrates in the thickness direction z.
- the first bonding portion 32 is electrically bonded to the electrode of the semiconductor element 21 by the first bonding layer 24, the bubbles contained in the melted first bonding layer 24 are discharged to the outside by providing the first opening 322. be able to. Further, the first joint layer 24 is in contact with the inner peripheral surface of the first joint portion 32 that defines the first opening 322. As a result, the melted first bonding layer 24 can obtain a self-alignment effect in which the position of the first bonding portion 32 is set to a predetermined position with respect to the electrode of the semiconductor element 21.
- the composition of the conductive member includes copper. This makes it possible to reduce the electrical resistance of the conductive member as compared with the wire containing aluminum in the composition. This is suitable for passing a large current through the semiconductor element 21.
- the composition of the first die pad 11 contains copper. Further, the thickness T1 of the first die pad 11 is larger than the maximum thickness t max of the conductive member. This makes it possible to improve the efficiency of heat conduction in the in-plane direction while improving the heat conductivity of the first die pad 11. This contributes to the improvement of heat dissipation of the semiconductor device A10.
- FIG. 19 is transparent to the sealing resin 50 for convenience of understanding.
- the permeated sealing resin 50 is shown by an imaginary line.
- the configuration of the second electrode 212 of each of the pair of semiconductor elements 21 and the configuration of the first joint portion 32 of each of the first conductive member 30A and the second conductive member 30B are the above-mentioned semiconductor devices. Different from A10.
- the second electrode 212 of each semiconductor element 21 includes a pair of regions located apart from each other in the first direction x.
- the first joint 32 of each of the first conductive member 30A and the second conductive member 30B includes a pair of regions located apart from each other in the first direction x.
- the pair of regions of the first junction 32 of the first conductive member 30A is formed by the first junction layer 24 with respect to the pair of regions of the second electrode 212 of the first switching element 21A. They are individually and electrically joined.
- the pair of regions of the first junction 32 of the second conductive member 30B are individually and electrically bonded to the pair of regions of the second electrode 212 of the second switching element 21B by the first junction layer 24. ing.
- the semiconductor device A20 includes a conductive member (first conductive member 30A) having a main body portion 31, a first joint portion 32, a first connecting portion 33, and a tip portion 34, the conductive member, and a semiconductor element 21 (first switching element).
- a first bonding layer 24 for electrically bonding the electrode (second electrode 212) of 21A) is provided.
- the tip portion 34 is inclined in a direction toward the electrode of the semiconductor element 21 as the distance from the first joint portion 32 increases.
- the electrode of the semiconductor element 21 has a tip on the side opposite to the first junction 32 with respect to the tip 34 in the in-plane direction (second direction y in the semiconductor device A10).
- the extended region 212A protruding from the portion 34 is included. Therefore, the semiconductor device A20 can also relax the thermal stress acting on the semiconductor element 21 while dealing with a larger current. Further, the semiconductor device A20 can also obtain the effects other than the above obtained by the semiconductor device A10.
- the present disclosure is not limited to the above-described embodiment.
- the specific configuration of each part of the present disclosure can be freely redesigned.
- the semiconductor device provided by the present disclosure and the method for manufacturing the semiconductor device include those described in the following appendix.
- Appendix 1 A first die pad having a first main surface facing in the thickness direction, A semiconductor element having an electrode provided on the side facing the first main surface in the thickness direction and bonded to the first main surface.
- a conductive member electrically bonded to the electrode and A first bonding layer for electrically bonding the conductive member and the electrode is provided.
- the conductive member includes a main body portion, a first joint portion electrically bonded to the electrode by the first joint layer, a first connecting portion connecting the main body portion and the first joint portion, and the first joint portion. It has a tip that is located away from the connection and is connected to the first joint.
- the tip portion When viewed along the in-plane direction of the first main surface, the tip portion is inclined in a direction toward the electrode as the distance from the first joint portion increases.
- Appendix 2. The semiconductor device according to Appendix 1, wherein each of the first die pad and the conductive member contains copper.
- the semiconductor device according to Supplementary Note 1 or 2 wherein the first bonding layer contains tin.
- Appendix 4. When viewed along the in-plane direction, the first bonding layer is formed with a fillet that extends from the electrode to the conductive member and is inclined with respect to the electrode.
- the fillet has a first edge in contact with the electrode and a second edge in contact with the conductive member.
- the semiconductor device according to Appendix 3 wherein the first edge is located outward of the second edge when viewed along the thickness direction.
- Appendix 5 The first joint portion has a joint surface facing the electrode and in contact with the first joint layer.
- the tip portion has a warped surface that is connected to the joint surface and is inclined with respect to the joint surface.
- the semiconductor device according to Appendix 4 wherein the angle of inclination of the fillet with respect to the electrode when viewed along the in-plane direction is smaller than the angle of inclination of the warped surface with respect to the joint surface.
- Appendix 6 Appendix 6.
- the semiconductor device according to Appendix 5 wherein the second edge is in contact with the warped surface.
- Appendix 7. FIG. 5 or 6, wherein the first connecting portion is inclined toward the main body portion from the first joint portion in a direction away from the first main surface when viewed along the in-plane direction.
- Appendix 8. The first connecting portion has an inclined surface that is connected to the joint surface and is inclined with respect to the joint surface.
- the semiconductor device according to Appendix 7, wherein the boundary between the joint surface and the inclined surface is located inward of the peripheral edge of the semiconductor element when viewed along the thickness direction.
- the semiconductor device according to Appendix 8 wherein the inclination angles formed by the inclined surface with respect to the joint surface when viewed along the in-plane direction are 30 ° or more and 60 ° or less.
- Appendix 10. The semiconductor device according to any one of Supplementary note 3 to 9, wherein the thickness of the first junction portion is not more than twice the maximum thickness of the first junction layer.
- Appendix 11. The first joint has an opening that penetrates in the thickness direction.
- the semiconductor device according to Supplementary note 3 to 10 wherein the first bonding layer is in contact with the inner peripheral surface of the first bonding portion that defines the opening.
- Appendix 12 The semiconductor device according to any one of Supplementary note 1 to 11, wherein the thickness of the first die pad is larger than the maximum thickness of the conductive member. Appendix 13.
- a second die pad having a second main surface facing the same side as the first main surface in the thickness direction and being located away from the first die pad in the in-plane direction. Further, a second bonding layer for electrically bonding the conductive member and the second main surface is provided.
- the conductive member has a second joint portion electrically bonded to the second main surface by the second joint layer, and a second connecting portion connecting the main body portion and the second joint portion.
- the second die pad contains copper and is The semiconductor device according to any one of Supplementary note 1 to 12, wherein the second bonding layer contains tin.
- Appendix 14 The semiconductor according to Appendix 13, wherein the second connecting portion is inclined toward the main body portion from the second joint portion in a direction away from the second main surface when viewed along the in-plane direction.
- Appendix 15 The semiconductor device according to Appendix 13 or 14, wherein the thickness of the second die pad is larger than the maximum thickness of the conductive member.
- Appendix 16. Further provided with a sealing resin covering a part of each of the first die pad and the second die pad, and the semiconductor element and the conductive member.
- the first die pad has a first back surface facing away from the first main surface in the thickness direction.
- the second die pad has a second back surface facing away from the second main surface in the thickness direction.
- the semiconductor device according to any one of Supplementary note 13 to 15, wherein the first back surface and the second back surface are exposed from the sealing resin.
- Appendix 17. The semiconductor device according to any one of Supplementary note 1 to 16, wherein the semiconductor element includes a compound semiconductor substrate.
- Appendix 18. The semiconductor device according to Appendix 17, wherein the compound semiconductor substrate contains silicon carbide.
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Abstract
半導体装置は、厚さ方向を向く第1主面を有する第1ダイパッドと、前記厚さ方向において前記第1主面が向く側に設けられた電極を有するとともに、前記第1主面に接合された半導体素子と;前記電極に電気的に接合された導電部材と、前記導電部材と前記電極とを電気的に接合する第1接合層と、を備える。前記導電部材は、本体部と、前記第1接合層により前記電極に電気的に接合された第1接合部と、前記本体部および前記第1接合部をつなぐ第1連結部と、前記第1連結部から離れて位置し、かつ前記第1接合部につながる先端部とを有する。前記第1主面の面内方向に沿って視て、前記先端部は、前記第1接合部から離れるほど、前記電極から遠ざかる向きに傾斜している。前記厚さ方向に沿って視て、前記電極は、前記面内方向において前記先端部に対して前記第1接合部とは反対側に前記導電部材からはみ出した拡張領域を含む。
Description
本開示は、半導体素子を備えた半導体装置に関する。
従来、MOSFETなどの半導体素子を備えた半導体装置が広く知られている。このような半導体装置は、たとえば電力変換回路(インバータ等)に使用され、所定の電気信号に基づき電流変換を行う。特許文献1には、MOSFETを備える半導体装置の一例が開示されている。当該半導体装置は、電源電圧が印加されるドレイン端子と、電気信号を入力するためのゲート端子と、変換後の電流が流れるソース端子とを備える。一方、MOSFETは、ドレイン端子に導通するドレイン電極と、ゲート端子に導通するゲート電極と、ソース端子に導通するソース電極とを有する。MOSFETのドレイン電極は、ハンダ(第1導電性接合材)を介してダイパッド(ドレイン端子につながる)に電気的に接合されている。MOSFETのソース電極は、ハンダ(第2導電性接合材)を介して導電部材(金属クリップ)に接合されている。この導電部材には、ソース端子も接合されている。このような構成により、当該半導体装置に大きな電流を流すことが可能である。
特許文献1に開示された半導体装置では、使用にあたって、ソース電極と第2導電性接合材との界面に熱応力が集中しやすい。これは、MOSFETから発生した熱が、ソース電極を介して第2導電性接合材に伝導されることによる。なお、MOSFETから発生した熱は、ドレイン電極を介して第1導電性接合材にも伝導する。しかし、ソース電極の大きさがドレイン電極の大きさよりも小であるため、熱応力の集中は、ソース電極と第2導電性接合材との間において顕著となる。熱応力が集中すると、ソース電極および第2導電性接合材の双方に亀裂が発生するおそれがある。したがって、熱応力の集中を低減させることにより、MOSFETに作用する熱応力を緩和する方策が望まれる。
本開示は上記事情に鑑み、より大きな電流に対応しつつ、半導体素子に作用する熱応力を緩和することが可能な半導体装置を提供することをその一の課題とする。
本開示によって提供される半導体装置は、厚さ方向を向く第1主面を有する第1ダイパッドと;前記厚さ方向において前記第1主面が向く側に設けられた電極を有するとともに、前記第1主面に接合された半導体素子と;前記電極に電気的に接合された導電部材と;前記導電部材と前記電極とを電気的に接合する第1接合層と;を備える。前記導電部材は、本体部と、前記第1接合層により前記電極に電気的に接合された第1接合部と、前記本体部および前記第1接合部をつなぐ第1連結部と、前記第1連結部から離れて位置し、かつ前記第1接合部につながる先端部とを有する。前記第1主面の面内方向に沿って視て、前記先端部は、前記第1接合部から離れるほど、前記電極から遠ざかる向きに傾斜している。前記厚さ方向に沿って視て、前記電極は、前記面内方向において前記先端部に対して前記第1接合部とは反対側に前記導電部材からはみ出した拡張領域を含む。
上記構成によれば、半導体装置は、より大きな電流に対応しつつ、半導体素子に作用する熱応力を緩和することが可能となる。
本開示のその他の特徴および利点は、添付図面に基づき以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
本開示の実施形態について、添付図面に基づいて説明する。
図1~図18に基づき、本開示の第1実施形態にかかる半導体装置A10について説明する。半導体装置A10は、第1ダイパッド11、第2ダイパッド12、第1入力端子13、出力端子14、第2入力端子15、一対の半導体素子21、ダイボンディング層23、第1接合層24、第2接合層25、第1導電部材30A、第2導電部材30Bおよび封止樹脂50を備える。さらに半導体装置A10は、第1ゲート端子161、第2ゲート端子162、第1検出端子171、第2検出端子172、一対の保護素子22、第3接合層26、一対のゲートワイヤ41、および一対の検出ワイヤ42を備える。図3は、理解の便宜上、封止樹脂50を透過しており、封止樹脂50は想像線(二点鎖線)で示している。IX-IX線、およびX-X線は、それぞれ一点鎖線で示している。
以下の説明においては、便宜上、たとえば第1ダイパッド11(または第2ダイパッド12)の厚さ方向を「厚さ方向z」と呼ぶ。厚さ方向zに対して直交する一の方向を「第1方向x」と呼ぶ。厚さ方向zおよび第1方向xの双方に対して直交する方向を「第2方向y」と呼ぶ。第1ダイパッド11の第1主面111の「面内方向」とは、当該第1主面に平行な方向であり、本開示では、場面に応じて第1方向xおよび第2方向yのいずれかを指す。たとえば、ある部材についての説明においては、「面内方向」は第1方向xであり、別の部材についての説明においては、「面内方向」は第2方向yである。
半導体装置A10は、第1入力端子13および第2入力端子15に印加された直流の電源電圧を、一対の半導体素子21により交流電力に変換する。変換された交流電力は、出力端子14からモータなどの電力供給対象に入力される。半導体装置A10は、たとえばインバータといった電力変換回路に使用される。
第1ダイパッド11は、図3、図7および図8に示すように、一対の半導体素子21のうち一方の半導体素子21(第1スイッチング素子21A)と、一対の保護素子22のうち一方の保護素子22(第1ダイオード22A)とを搭載する導電部材である。第1ダイパッド11は、第2ダイパッド12、第1入力端子13、出力端子14、第2入力端子15、第1ゲート端子161、第2ゲート端子162、第1検出端子171および第2検出端子172とともに、同一のリードフレームから構成されている。当該リードフレームは、銅(Cu)、または銅合金である。このため、第1ダイパッド11、第2ダイパッド12、第1入力端子13、出力端子14、第2入力端子15、第1ゲート端子161、第2ゲート端子162、第1検出端子171および第2検出端子172の各々の組成は、銅を含む(すなわち、上記各部材は銅を含有する)。第1ダイパッド11は、第1主面111および第1裏面112を有する。第1主面111は、厚さ方向zを向く。第1主面111上に、第1スイッチング素子21Aと、第1ダイオード22Aとが搭載されている。なお、本開示において、ある部材A上に別の部材Bが搭載されている(配置されている、設けられている、等)と言うときには、部材Aと部材Bとが直接当接している場合もあれば、部材Aと部材Bとの間に少なくとも1つの別の部材が介在している場合もある。第1裏面112は、厚さ方向zにおいて第1主面111とは反対側を向く。第1裏面112には、たとえば錫(Sn)めっきが施されている。図7および図8に示すように、第1ダイパッド11の厚さT1は、第1導電部材30Aの最大厚さtmaxよりも大である。
第2ダイパッド12は、図3、図7および図8に示すように、一対の半導体素子21のうち他方の半導体素子21(第2スイッチング素子21B)と、一対の保護素子22のうち一方の保護素子22(第2ダイオード22B)とを搭載する導電部材である。第2ダイパッド12は、第1ダイパッド11に対して面内方向(第2方向y)に離れて位置する。第2ダイパッド12は、第2主面121および第2裏面122を有する。第2主面121は、厚さ方向zにおいて第1主面111と同じ側を向く。第2主面121上に、第2スイッチング素子21Bと、第2ダイオード22Bとが搭載されている。第2裏面122は、厚さ方向zにおいて第2裏面122とは反対側を向く。第2裏面122には、たとえば錫めっきが施されている。図7および図8に示すように、第2ダイパッド12の厚さT2は、第1導電部材30Aの最大厚さtmaxよりも大である。
一対の半導体素子21は、図3および図7に示すように、第1スイッチング素子21Aおよび第2スイッチング素子21Bを含む。第1スイッチング素子21Aは、第1ダイパッド11の第1主面111に接合されている。第2スイッチング素子21Bは、第2ダイパッド12の第2主面121に接合されている。一対の半導体素子21は、たとえばMOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor)である。半導体装置A10の説明においては、一対の半導体素子21は、nチャンネル型であり、かつ縦型構造のMOSFETを対象とする。各半導体素子21は、化合物半導体基板を含む。当該化合物半導体基板の組成は、炭化ケイ素(SiC)を含む。この他、当該化合物半導体基板の組成は、窒化ガリウム(GaN)を含んでいてもよい。図15に示すように、各半導体素子21は、第1電極211、第2電極212および第3電極213を有する。
図15に示すように、第1電極211は、第1ダイパッド11の第1主面111、および第2ダイパッド12の第2主面121のいずれかに(ダイボンディング層23を介し)対向して設けられている。第1電極211には、変換対象となる電力に対応する電圧が印加される。第1電極211は、ドレイン電極に相当する。
図15に示すように、第2電極212は、厚さ方向zにおいて第1電極211とは反対側に設けられている。すなわち、第2電極212は、第1ダイパッド11の第1主面111と同じ方向を向く側に設けられている。第2電極212には、一対の半導体素子21のいずれかにより変換された電力に対応する電流が流れる。第2電極212は、ソース電極に相当する。第2電極212は、複数の金属めっき層を含む。第2電極212は、ニッケル(Ni)めっき層と、当該ニッケルめっき層上に積層された金(Au)めっき層を含む。この他、第2電極212は、ニッケルめっき層と、当該ニッケルめっき層上に積層されたパラジウム(Pd)めっき層と、当該パラジウムめっき層上に積層された金めっき層を含む場合でもよい。
図14および図15に示すように、第3電極213は、厚さ方向zにおいて第2電極212と同じ側に設けられ、かつ第2電極212から離れて位置する。第3電極213には、一対の半導体素子21のいずれかが駆動するためのゲート電圧が印加される。第3電極213は、ゲート電極に相当する。各半導体素子21においては、第1電極211に印加された電圧に対応する電流を、ゲート電圧に基づき変換する。厚さ方向zに沿って視て、第3電極213の面積は、第2電極212の面積よりも小である。
一対の保護素子22は、図3および図8に示すように、第1ダイオード22Aおよび第2ダイオード22Bを含む。第1ダイオード22Aは、第1ダイパッド11の第1主面111に接合されている。第2ダイオード22Bは、第2ダイパッド12の第2主面121に接合されている。各保護素子22は、たとえばショットキーバリアダイオードである。第1ダイオード22Aは、第1スイッチング素子21Aに対して並列接続されている。第2ダイオード22Bは、第2スイッチング素子21Bに対して並列接続されている。各保護素子22は、いわゆる還流ダイオードである。すなわち、各半導体素子21に逆バイアスが印加された場合、電流は当該半導体素子21ではなく、それに対して並列接続された保護素子22に流れる。図18に示すように、各保護素子22は、上面電極221および下面電極222を有する。
図18に示すように、上面電極221は、厚さ方向zにおいて第1ダイパッド11の第1主面111が向く側に設けられている。各保護素子22において、上面電極221は、当該保護素子22に対して並列接続されている半導体素子21の第2電極212に導通している。上面電極221は、アノード電極に相当する。
図18に示すように、下面電極222は、厚さ方向zにおいて上面電極221とは反対側に設けられている。各保護素子22において、下面電極222は、当該保護素子22に対して並列接続されている半導体素子21の第1電極211に導通している。下面電極222は、カソード電極に相当する。
ダイボンディング層23は、図3、図15および図18に示すように、第1ダイパッド11の第1主面111、および第2ダイパッド12の第2主面121と、一対の半導体素子21の第1電極211、および一対の保護素子22の下面電極222との間に位置する部分を含む。ダイボンディング層23は、導電性を有する材料からなる。ダイボンディング層23は、たとえば鉛フリーハンダである。その他、ダイボンディング層23は、鉛ハンダでもよい。ダイボンディング層23は、第1スイッチング素子21Aの第1電極211、および第1ダイオード22Aの下面電極222と、第1主面111とを電気的に接合する。これにより、第1スイッチング素子21Aの第1電極211、および第1ダイオード22Aの下面電極222は、第1ダイパッド11に導通する。ダイボンディング層23は、第2スイッチング素子21Bの第1電極211、および第2ダイオード22Bの下面電極222と、第2主面121とを電気的に接合する。これにより、第2スイッチング素子21Bの第1電極211、および第2ダイオード22Bの下面電極222は、第2ダイパッド12に導通する。
第1入力端子13は、図3に示すように、第1方向xに沿って延びる部分を含むとともに、第1ダイパッド11につながっている。このため、第1入力端子13は、第1ダイパッド11に導通している。第1入力端子13は、電力変換対象となる直流の電源電圧が印加されるP端子(正極)である。第1入力端子13は、被覆部13Aおよび露出部13Bを有する。図9に示すように、被覆部13Aは、第1ダイパッド11につながり、かつ封止樹脂50に覆われている。第2方向yに沿って視て、被覆部13Aは、屈曲している。図2~図5に示すように、露出部13Bは、被覆部13Aにつながり、かつ封止樹脂50から露出している。露出部13Bは、第1方向xにおいて第1ダイパッド11から遠ざかる側に延びている。露出部13Bの表面には、たとえば錫めっきが施されている。
出力端子14は、図3に示すように、第1方向xに沿って延びる部分を含むとともに、第2ダイパッド12につながっている。このため、出力端子14は、第2ダイパッド12に導通している。出力端子14から、各半導体素子21により変換された交流電力が出力される。出力端子14は、被覆部14Aおよび露出部14Bを有する。被覆部14Aは、第2ダイパッド12につながり、かつ封止樹脂50に覆われている(図11参照)。第2方向yに沿って視て、被覆部14Aは、第1入力端子13の被覆部13Aと同様に屈曲している。図2~図5に示すように、露出部14Bは、被覆部14Aにつながり、かつ封止樹脂50から露出している。露出部14Bは、第1方向xにおいて第2ダイパッド12から遠ざかる側に延びている。露出部14Bの表面には、たとえば錫めっきが施されている。
第2入力端子15は、図3に示すように、第1方向xにおいて第1ダイパッド11および第2ダイパッド12の双方から離れて位置し、かつ第2方向yにおいて第1入力端子13と出力端子14との間に位置する。第2入力端子15は、第1方向xに沿って延びている。第2入力端子15は、第2スイッチング素子21Bの第2電極212と、第2ダイオード22Bの上面電極221とに導通している。第2入力端子15は、電源電圧(電力変換対象となる直流に対応する)が印加されるN端子(負極)である。第2入力端子15は、被覆部15Aおよび露出部15Bを有する。図10に示すように、被覆部15Aは、封止樹脂50に覆われている。図2~図5に示すように、露出部15Bは、被覆部15Aにつながり、かつ封止樹脂50から露出している。露出部15Bは、第1方向xにおいて第1ダイパッド11および第2ダイパッド12の双方から遠ざかる側に延びている。露出部15Bの表面には、たとえば錫めっきが施されている。
第1ゲート端子161は、図3に示すように、第1方向xにおいて第1ダイパッド11から離れて位置し、かつ第2方向yの一方端に位置する。第2ゲート端子162は、図3に示すように、第1方向xにおいて第2ダイパッド12から離れて位置し、かつ第2方向yの他方端に位置する。第1ゲート端子161は、第1スイッチング素子21Aの第3電極213に導通している。第1ゲート端子161には、第1スイッチング素子21Aが駆動するためのゲート電圧が印加される。第2ゲート端子162は、第2スイッチング素子21Bの第3電極213に導通している。第2ゲート端子162には、第2スイッチング素子21Bが駆動するためのゲート電圧が印加される。
図3に示すように、第1ゲート端子161は、被覆部161Aおよび露出部161Bを有する。図11に示すように、被覆部161Aは、封止樹脂50に覆われている。図2~図5に示すように、露出部161Bは、被覆部161Aにつながり、かつ封止樹脂50から露出している。露出部161Bは、第1方向xにおいて第1ダイパッド11から遠ざかる側に延びている。露出部161Bの表面には、たとえば錫めっきが施されている。
図3に示すように、第2ゲート端子162は、被覆部162Aおよび露出部162Bを有する。図11に示すように、被覆部162Aは、封止樹脂50に覆われている。図2~図5に示すように、露出部162Bは、被覆部162Aにつながり、かつ封止樹脂50から露出している。露出部162Bは、第1方向xにおいて第2ダイパッド12から遠ざかる側に延びている。露出部162Bの表面には、たとえば錫めっきが施されている。
第1検出端子171は、図3に示すように、第1方向xにおいて第1ダイパッド11から離れて位置し、かつ第2方向yにおいて第1入力端子13と第1ゲート端子161との間に位置する。第2検出端子172は、図3に示すように、第1方向xにおいて第2ダイパッド12から離れて位置し、かつ第2方向yにおいて出力端子14と第2ゲート端子162との間に位置する。第1検出端子171は、第1スイッチング素子21Aの第2電極212に導通している。第1検出端子171には、第1スイッチング素子21Aの第2電極212に流れる電流に対応した電圧が印加される。第2検出端子172は、第2スイッチング素子21Bの第2電極212に導通している。第2検出端子172には、第2スイッチング素子21Bの第2電極212に流れる電流に対応した電圧が印加される。
図3に示すように、第1検出端子171は、被覆部171Aおよび露出部171Bを有する。図11に示すように、被覆部171Aは、封止樹脂50に覆われている。図2~図5に示すように、露出部171Bは、被覆部171Aにつながり、かつ封止樹脂50から露出している。露出部171Bは、第1方向xにおいて第1ダイパッド11から遠ざかる側に延びている。露出部171Bの表面には、たとえば錫めっきが施されている。
図3に示すように、第2検出端子172は、被覆部172Aおよび露出部172Bを有する。図11に示すように、被覆部172Aは、封止樹脂50に覆われている。図2~図5に示すように、露出部172Bは、被覆部172Aにつながり、かつ封止樹脂50から露出している。露出部172Bは、第1方向xにおいて第2ダイパッド12から遠ざかる側に延びている。露出部172Bの表面には、たとえば錫めっきが施されている。
図5に示すように、半導体装置A10において、第1入力端子13の露出部13B、出力端子14の露出部14B、および第2入力端子15の露出部15Bの各々の高さhは等しい。また、これら露出部の厚さも互いに等しい。このため、第2方向yに沿って視て、第2入力端子15の少なくとも一部(露出部15B)が、第1入力端子13および出力端子14の各々に重なっている(図6参照)。
第1導電部材30Aは、図3に示すように、第1スイッチング素子21Aの第2電極212と、第1ダイオード22Aの上面電極221と、第2ダイパッド12の第2主面121とに電気的に接合されている。これにより、第1スイッチング素子21Aの第2電極212と、第1ダイオード22Aの上面電極221とは、これらが相互に導通された状態で第2ダイパッド12に導通している。第2導電部材30Bは、図3に示すように、第2スイッチング素子21Bの第2電極212と、第2ダイオード22Bの上面電極221と、第2入力端子15の被覆部15Aとに接合されている。これにより、第2スイッチング素子21Bの第2電極212と、第2ダイオード22Bの上面電極221とは、これらが相互に導通された状態で第2入力端子15に導通している。
第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bの各々の組成は、銅を含む。半導体装置A10においては、第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bの各々は、金属クリップである。図12および図13に示すように、第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bの各々は、本体部31、第1接合部32、第1連結部33、先端部34、第2接合部35、第2連結部36、第3接合部37および先端部38を有する。
図12および図13に示すように、本体部31は、第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bの各々の主要部をなしている。図7、図8および図10に示すように、本体部31は、第1ダイパッド11の第1主面111、および第2ダイパッド12の第2主面121に対して平行である。第2導電部材30Bの本体部31は、第1導電部材30Aの本体部31よりも第1主面111および第2主面121の双方から離れて位置するとともに、第1導電部材30Aの第2接合部35を跨いでいる。
図3および図7に示すように、第1接合部32は、一対の半導体素子21のいずれかの第2電極212に電気的に接合されている。第1導電部材30Aの第1接合部32は、第1スイッチング素子21Aの第2電極212に電気的に接合されている。第2導電部材30Bの第1接合部32は、第2スイッチング素子21Bの第2電極212に電気的に接合されている。第1接合部32は、一対の半導体素子21のいずれかの第2電極212に対して平行である。図15に示すように、第1接合部32は、第1接合面321および第1開口322を有する。第1接合面321は、一対の半導体素子21のいずれかの第2電極212に対向している。第1開口322は、第1接合部32を厚さ方向zに貫通している。図14に示すように、第1開口322は、厚さ方向zに沿って視て円形状である。第1開口322の面積(開口面積)は、0.25mm2以上である。
図7、図12および図13に示すように、第1連結部33は、本体部31および第1接合部32をつないでいる。図7に示すように、面内方向(第1方向x)に沿って視て、第1連結部33は、第1接合部32から本体部31に向かうほど、第1ダイパッド11の第1主面111、および第2ダイパッド12の第2主面121のいずれかから離れる向きに傾斜している。図15に示すように、第1連結部33は、第1傾斜面331および境界332を有する。第1傾斜面331は、第1接合部32の第1接合面321につながり、かつ第1接合面321に対して傾斜している。面内方向(第1方向x)に沿って視て、第1接合面321に対して第1傾斜面331がなす傾斜角α1の大きさは、30°以上および60°以下である。境界332は、第1接合面321と第1傾斜面331との交わり線を指す。図14に示すように、厚さ方向zに沿って視て、境界332は、一対の半導体素子21のいずれかの周縁よりも内方に位置する。当該周縁と境界332との最短距離d1は、0.2mm以上および0.5mm以下である。
図7、図12および図13に示すように、先端部34は、第1連結部33から離れて位置し、かつ第1接合部32につながっている。面内方向(第2方向y)において、先端部34は、第1接合部32に対して第1連結部33とは反対側に位置する。図15に示すように、面内方向(第1方向x)に沿って視て、先端部34は、第1接合部32から離れるほど、一対の半導体素子21のいずれかの第2電極212から離れる向きに傾斜している。図14に示すように、第1スイッチング素子21Aの第2電極212は、面内方向(第2方向y)において先端部34に対して第1接合部32とは反対側に第1導電部材30Aからはみ出した拡張領域212Aを含む。図示は省略するが、第2スイッチング素子21Bの第2電極212も、第2導電部材30Bから同様にはみ出した拡張領域212Aを含む。厚さ方向zに沿って視て、拡張領域212Aの最小寸法d2(半導体装置A10では第2方向yにおける寸法)は、0.1mm以上および0.2mm以下である。
図15に示すように、先端部34は、反り面341を有する。反り面341は、第1接合部32の第1接合面321につながり、かつ第1接合面321に対して傾斜している。面内方向(第1方向x)に沿って視て、反り面341は、第1接合面321に対して傾斜角α2をなしている。
厚さ方向zに沿って視て、一対の半導体素子21のいずれかの第2電極212の面積に対する、第1接合部32と先端部34との合計面積(ただし、第1開口322の開口面積を除く。)の割合は、50%以上および90%以下である。
図3、図10および図11に示すように、第2接合部35は、第2ダイパッド12の第2主面121、および第2入力端子15の被覆部15Aのいずれかに電気的に接合されている。第1導電部材30Aの第2接合部35は、第2主面121に電気的に接合され、かつ第2主面121に対して平行である。半導体装置A10においては、第1導電部材30Aの第2接合部35は、第1方向xにおいて互いに離れて位置する2つの領域を含む。第2導電部材30Bの第2接合部35は、被覆部15Aに電気的に接合され、かつ被覆部15Aに対して平行である。図16に示すように、第2接合部35は、第2接合面351および第2開口352を有する。第2接合面351は、第2主面121および被覆部15Aのいずれかに対向している。第2開口352は、第2接合部35を厚さ方向zに貫通している。図12および図13に示すように、第2開口352は、厚さ方向zに沿って視て円形状である。第2開口352の開口面積は、0.25mm2以上である。
図7、図8、図10、図12および図13に示すように、第2連結部36は、本体部31および第2接合部35をつないでいる。第1導電部材30Aの第2連結部36は、面内方向(第1方向x)に沿って視て、第2接合部35から本体部31に向かうほど、第2ダイパッド12の第2主面121から離れる向きに傾斜している。第2導電部材30Bの第2連結部36は、面内方向(第2方向y)に沿って視て、第2接合部35から本体部31に向かうほど、第2入力端子15の被覆部15Aから離れる向きに傾斜している。図16に示すように、第2連結部36は、第2傾斜面361を有する。第2傾斜面361は、第2接合部35の第2接合面351につながり、かつ第2接合面351に対して傾斜している。
図3および図8に示すように、第3接合部37は、一対の保護素子22のいずれかの上面電極221に電気的に接合されている。第1導電部材30Aの第3接合部37は、第1ダイオード22Aの上面電極221に電気的に接合されている。第2導電部材30Bの第3接合部37は、第2ダイオード22Bの上面電極221に電気的に接合されている。第3接合部37は、一対の保護素子22のいずれかの上面電極221に対して平行である。図12および図13に示すように、第3接合部37は、第1連結部33につながっている。図18に示すように、第3接合部37は、第3接合面371および第3開口372を有する。第3接合面371は、一対の保護素子22のいずれかの上面電極221に対向している。第3接合面371は、第1連結部33の第1傾斜面331につながっている。これにより、面内方向(第1方向x)に沿って視て、第1傾斜面331は、第3接合面371に対して傾斜角α1をなしている。第3開口372は、第3接合部37を厚さ方向zに貫通している。図17に示すように、第3開口372は、厚さ方向zに沿って視て円形状である。第3開口372の開口面積は、0.25mm2以上である。
図7、図12および図13に示すように、先端部38は、第1連結部33から離れて位置し、かつ第3接合部37につながっている。面内方向(第2方向y)において、先端部38は、第3接合部37に対して第1連結部33とは反対側に位置する。図18に示すように、面内方向(第1方向x)に沿って視て、先端部38は、第3接合部37から離れるほど、一対の保護素子22のいずれかの上面電極221から離れる向きに傾斜している。図17に示すように、第1ダイオード22Aの上面電極221は、面内方向(第2方向y)において先端部38に対して第3接合部37とは反対側に第1導電部材30Aからはみ出した拡張領域221Aを含む。図示は省略するが、第2ダイオード22Bの上面電極221も、第2導電部材30Bから同様にはみ出した拡張領域221Aを含む。
図18に示すように、先端部38は、反り面381を有する。反り面381は、第3接合部37の第3接合面371につながり、かつ第3接合面371に対して傾斜している。面内方向(第1方向x)に沿って視て、反り面381は、第3接合面371に対して傾斜角α3をなしている。
第1接合層24は、図7および図15に示すように、一対の半導体素子21の各々の第2電極212と、第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bのいずれかの第1接合部32との間に位置する部分を含む。第1接合層24は、導電性を有する。第1接合層24は、たとえば鉛フリーハンダである。その他、第1接合層24は、鉛ハンダでもよい。第1接合層24は、第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bの各々と、一対の半導体素子21のいずれかの第2電極212とを電気的に接合する。したがって、第1導電部材30Aの第1接合部32は、第1接合層24により第1スイッチング素子21Aの第2電極212に電気的に接合されている。第2導電部材30Bの第1接合部32は、第1接合層24により第2スイッチング素子21Bの第2電極212に電気的に接合されている。
図15に示すように、第1接合層24は、第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bの各々の第1接合部32の第1接合面321に接している。さらに第1接合層24は、第1接合部32の第1開口322を規定する第1接合部32の内周面にも接している。このため、第1接合層24は、第1開口322に貫入した部分を含む。第1接合部32の厚さtは、0.1mm以上、かつ第1接合層24の最大厚さTmaxの2倍以下である。ここで、第1接合層24の最大厚さTmaxは、第1開口322に貫入した第1接合層24の部分を含まない。第1接合層24の最大厚さTmaxは、一対の半導体素子21の各々の厚さよりも大である。
図15に示すように、面内方向(第1方向x)に沿って視て、第1接合層24には、第1スイッチング素子21Aの第2電極212から第1導電部材30Aに至るとともに、当該第2電極212に対して傾斜したフィレット241が形成されている。図示は省略するが、フィレット241は、第2スイッチング素子21Bの第2電極212と、第2導電部材30Bの第1接合部32との間に位置する部分を含む第1接合層24にも形成されている。ここでの説明は、第1スイッチング素子21Aの第2電極212と、第1導電部材30Aの第1接合部32との間に位置する部分を含む第1接合層24に形成されたフィレット241を対象とする。図15に示すように、フィレット241は、第1スイッチング素子21Aの第2電極212に接する第1端縁241Aと、第1導電部材30Aに接する第2端縁241Bを有する。図14に示すように、厚さ方向zに沿って視て、第1端縁241Aは、第2端縁241Bよりも外方に位置する。さらに、厚さ方向に沿って視て、第1端縁241Aは、第2端縁241Bよりも第1スイッチング素子21Aの外縁(図14では右側の縁)に近い側に位置する。半導体装置A10においては、第2端縁241Bは、先端部34の反り面341に接している。面内方向(第1方向x)に沿って視て、第1スイッチング素子21Aの第2電極212に対してフィレット241がなす傾斜角β1は、第1接合部32の第1接合面321に対して反り面341がなす傾斜角α2よりも小である。
第2接合層25は、図8および図16に示すように、第2ダイパッド12の第2主面121と、第1導電部材30Aの第2接合部35との間に位置する部分を含み、かつ当該第2接合部35の第2接合面351に接している。第2接合層25は、導電性を有する。第2接合層25は、たとえば鉛フリーハンダである。その他、第2接合層25は、鉛ハンダでもよい。第2接合層25は、第1導電部材30Aと、第2主面121とを電気的に接合する。したがって、第1導電部材30Aの第2接合部35は、第2接合層25により第2主面121に電気的に接合されている。さらに第2接合層25は、図10および図11に示すように、第2入力端子15の被覆部15Aと、第2導電部材30Bの第2接合部35との間に位置する部分を含み、かつ当該第2接合部35に接している。第2接合層25は、第2導電部材30Bと、被覆部15Aとを電気的に接合する。したがって、第2導電部材30Bの第2接合部35は、第2接合層25により被覆部15Aに電気的に接合されている。図16に示すように、第2接合層25は、第2接合部35の第2開口352を規定する第2接合部35の内周面にも接している。このため、第2接合層25は、第2開口352に貫入した部分を含む。
第3接合層26は、図8および図18に示すように、一対の保護素子22の各々の上面電極221と、第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bのいずれかの第3接合部37との間に位置する部分を含む。第3接合層26は、導電性を有する。第3接合層26は、たとえば鉛フリーハンダである。その他、第3接合層26は、鉛ハンダでもよい。第3接合層26は、第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bの各々と、一対の保護素子22のいずれかの上面電極221とを電気的に接合する。したがって、第1導電部材30Aの第3接合部37は、第3接合層26により第1ダイオード22Aの上面電極221に電気的に接合されている。第2導電部材30Bの第3接合部37は、第3接合層26により第2ダイオード22Bの上面電極221に電気的に接合されている。
図18に示すように、第3接合層26は、第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bの各々の第3接合部37の第3接合面371に接している。さらに第3接合層26は、第3接合部37の第3開口372を規定する第3接合部37の内周面にも接している。このため、第3接合層26は、第3開口372に貫入した部分を含む。
図18に示すように、面内方向(第1方向x)に沿って視て、第3接合層26には、第1ダイオード22Aの上面電極221から第1導電部材30Aに至るとともに、当該上面電極221に対して傾斜したフィレット261が形成されている。図示は省略するが、フィレット261は、第2ダイオード22Bの上面電極221と、第2導電部材30Bの第3接合部37との間に位置する部分を含む第3接合層26にも形成されている。ここでの説明は、第1ダイオード22Aの上面電極221と、第1導電部材30Aの第3接合部37との間に位置する部分を含む第3接合層26に形成されたフィレット261を対象とする。図18に示すように、フィレット261は、第1ダイオード22Aの上面電極221に接する第1端縁261Aと、第1導電部材30Aに接する第2端縁261Bを有する。図17に示すように、厚さ方向zに沿って視て、第1端縁261Aは、第2端縁261Bよりも外方に位置する。半導体装置A10においては、第2端縁261Bは、先端部38の反り面381に接している。面内方向(第1方向x)に沿って視て、第1ダイオード22Aの上面電極221に対してフィレット261がなす傾斜角β2は、第3接合部37の第3接合面371に対して反り面381がなす傾斜角α3よりも小である。
図3に示すように、一対のゲートワイヤ41は、第1のゲートワイヤ41(たとえば右側のゲートワイヤ41)および第2のゲートワイヤ41(たとえば左側のゲートワイヤ41)を含む。第1のゲートワイヤ41は、一対の半導体素子21のうちの一方の第3電極213(図14参照)と、第1ゲート端子161の被覆部161Aとに電気的に接合されている。第2のゲートワイヤ41は、一対の半導体素子21のうちの他方の第3電極213と、第2ゲート端子162の被覆部162Aとに電気的に接合されている。これにより、第1ゲート端子161は、第1スイッチング素子21Aの第3電極213に導通しており、第2ゲート端子162は、第2スイッチング素子21Bの第3電極213に導通している。各ゲートワイヤ41の組成は、金を含むが、本開示はこれに限定されない。たとえば、各ゲートワイヤ41の組成は、銅を含んでいてもよいし、アルミニウム(Al)を含んでいてもよい。
図3に示すように、一対の検出ワイヤ42は、第1の検出ワイヤ42(たとえば右側の検出ワイヤ42)および第2の検出ワイヤ42(たとえば左側の検出ワイヤ42)を含む。第1の検出ワイヤ42は、一対の半導体素子21のうちの一方の第2電極212(図14参照)と、第1検出端子171の被覆部171Aとに電気的に接合されている。第2の検出ワイヤ42は、一対の半導体素子21のうちの他方の第2電極212と、第2検出端子172の被覆部172Aとに電気的に接合されている。これにより、第1検出端子171は、第1スイッチング素子21Aの第2電極212に導通しており、第2検出端子172は、第2スイッチング素子21Bの第2電極212に導通している。各検出ワイヤ42の組成は、金を含むが、本開示はこれに限定されない。たとえば、各検出ワイヤ42の組成は、銅を含んでいてもよいし、アルミニウムを含んでいてもよい。
封止樹脂50は、図3、および図7~図10に示すように、各半導体素子21、各保護素子22、第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bを覆っている。また、封止樹脂50は、第1ダイパッド11の一部および第2ダイパッド12の一部を覆っている。封止樹脂50は、電気絶縁性を有する。封止樹脂50は、たとえば黒色のエポキシ樹脂を含む材料からなる。封止樹脂50は、頂面51、底面52、一対の第1側面53、一対の第2側面54、複数の凹部55、および溝部56を有する。
図7~図10に示すように、頂面51は、厚さ方向zにおいて第1ダイパッド11の第1主面111と同じ側を向く。図7~図10に示すように、底面52は、厚さ方向zにおいて頂面51とは反対側を向く。図4に示すように、底面52において第1ダイパッド11の第1裏面112、および第2ダイパッド12の第2裏面122が外部に露出している。
図2、図4および図6に示すように、一対の第1側面53は、第1方向xにおいて互いに離れて位置する。各第1側面53は、頂面51および底面52につながっている。図5に示すように、一方の第1側面53から、第1入力端子13の露出部13B、出力端子14の露出部14B、および第2入力端子15の露出部15Bが露出している。さらに当該第1側面53から、第1ゲート端子161の露出部161B、第2ゲート端子162の露出部162B、第1検出端子171の露出部171B、および第2検出端子172の露出部172Bが露出している。
図2、図4および図5に示すように、一対の第2側面54は、第2方向yにおいて互いに離れて位置する。各第2側面54は、頂面51および底面52につながっている。
図2、図4および図5に示すように、複数の凹部55の各々は、第1側面53(第1入力端子13を含む複数の端子が突出している第1側面53)から第1方向xに向けて凹むとともに、厚さ方向zにおいて頂面51から底面52に至って延びている。図示の例では、4つの凹部55が設けられているが、本開示はこれに限定されない。4つの凹部55のうちの第1の凹部55(たとえば図2において一番右側の凹部55)は、第2方向yにおいて、第1入力端子13と第1検出端子171との間に位置している。また、第2の凹部55は、第1入力端子13と第2入力端子15との間に、第3の凹部55は、出力端子14と第2入力端子15との間に、および、第4の凹部55(図2において一番左側の凹部55)は、出力端子14と第2検出端子172との間に、それぞれ位置している。このように複数の凹部55を設けることで、所望の2つの端子間における封止樹脂50の沿面距離(封止樹脂50の表面に沿って測定した距離)を長くすることができる。たとえば、複数の凹部55により、第1入力端子13、出力端子14、第2入力端子15、第1検出端子171および第2検出端子172のうちの2つの端子間における封止樹脂50の沿面距離を、これら凹部を設けない場合よりも長くすることができる。同様に、第1ゲート端子161および第2ゲート端子162のいずれかの端子と、第1入力端子13、出力端子14および第2入力端子15のいずれかの端子との間における封止樹脂50の沿面距離を相対的に長くすることができる。このことは、半導体装置A10の絶縁耐圧の向上を図る上で好適である。
図4、図6、および図9~図11に示すように、溝部56は、底面52から厚さ方向zに凹むとともに、第2方向yに沿って長く延びている。溝部56は、第2方向yに離間する2つの端部を有しており、各端部は、一対の第2側面54のうちの対応する一の第2側面54につながっている。溝部56により、第1ダイパッド11と上記7つの端子(第1入力端子13、出力端子14、第2入力端子15、第1ゲート端子161、第2ゲート端子162、第1検出端子171および第2検出端子172)のうちの一の端子との間の封止樹脂50の沿面距離を長くすることができる。同様に、溝部56により、第2ダイパッド12と上記7つの端子のうちの一の端子との間の封止樹脂50の沿面距離を長くすることができる。このことは、半導体装置A10の絶縁耐圧の向上を図る上で好適である。
次に、半導体装置A10の作用効果について説明する。
半導体装置A10は、本体部31、第1接合部32、第1連結部33および先端部34を有する導電部材(第1導電部材30A)と、当該導電部材と、半導体素子21(第1スイッチング素子21A)の電極(第2電極212)とを電気的に接合する第1接合層24と、を備える。面内方向(半導体装置A10では第1方向x)に沿って視て、先端部34は、第1接合部32から離れるほど、半導体素子21の電極から遠ざかる向きに傾斜している。さらに、厚さ方向zに沿って視て、半導体素子21の電極は、面内方向(半導体装置A10では第2方向y)において先端部34に対して第1接合部32とは反対側に先端部34からはみ出した拡張領域212Aを含む。この構成をとることにより、図15に示すように、第1接合層24が先端部34の反り面341に這い上がるため、第1接合層24には比較的体積が大であるフィレット241が形成される。面内方向(半導体装置A10では第1方向x)に沿って視て、半導体素子21の電極に対してフィレット241がなす傾斜角β1は、比較的小なものとなる。このようなフィレット241が形成されることにより、半導体素子21の電極と、第1接合層24との界面に作用する熱応力集中を低減することができる。したがって、半導体装置A10によれば、より大きな電流に対応しつつ、半導体素子21に作用する熱応力を緩和することが可能となる。
面内方向(半導体装置A10では第1方向x)に沿って視て、半導体素子21の電極に対してフィレット241がなす傾斜角β1は、第1接合部32の第1接合面321に対して先端部34の反り面341がなす傾斜角α2よりも小である。この関係が成立する場合、フィレット241の形状は、半導体素子21の電極と、第1接合層24との界面に作用する熱応力集中を低減することに好適なものとなる。
面内方向(半導体装置A10では第1方向x)に沿って視て、第1連結部33は、第1接合部32から本体部31に向かうほど、第1ダイパッド11の第1主面111から離れる向きに傾斜している。厚さ方向zに沿って視て、第1接合部32の第1接合面321と、第1連結部33の第1傾斜面331との境界332は、半導体素子21の周縁よりも内方に位置する。これにより、第1接合層24には、半導体素子21の電極の面内方向(半導体装置A10では第2方向y)の両端にフィレット241が形成される。したがって、半導体素子21の電極と、第1接合層24との界面に作用する熱応力集中を、より効果的に低減することができる。この場合において、面内方向(半導体装置A10では第1方向x)に沿って視て、第1接合面321に対する第1傾斜面331がなす傾斜角α1の大きさは、30°以上および60°以下であることが、当該熱応力集中の緩和に適したフィレット241の形状となる。
第1接合部32の厚さtは、第1接合層24の最大厚さTmaxの2倍以下である。これにより、第1接合層24の熱耐久性を確保しつつ、第1接合層24と第1接合部32との界面に作用する熱応力集中を低減することができる。
第1接合部32は、厚さ方向zに貫通する第1開口322を有する。第1接合層24により第1接合部32を半導体素子21の電極に電気的に接合する際、第1開口322を設けることにより、溶融した第1接合層24に含まれる気泡を外部に放出させることができる。さらに第1接合層24は、第1開口322を規定する第1接合部32の内周面に接している。これにより、溶融した第1接合層24には、第1接合部32の位置を半導体素子21の電極に対して所定な位置にするセルフアライメント効果が得られる。
導電部材の組成は、銅を含む。これにより、アルミニウムを組成に含むワイヤと比較して、導電部材の電気抵抗を低減させることができる。このことは、半導体素子21により大きな電流を流すことに好適である。
第1ダイパッド11の組成は、銅を含む。さらに、第1ダイパッド11の厚さT1は、導電部材の最大厚さtmaxよりも大である。これにより、第1ダイパッド11の熱伝導率の向上を図りつつ、面内方向の熱伝導の効率を高めることができる。このことは、半導体装置A10の放熱性の向上に寄与する。
図19~図21に基づき、本開示の第2実施形態にかかる半導体装置A20について説明する。これらの図において、先述した半導体装置A10と同一、または類似の要素には同一の符号を付して、重複する説明を省略する。ここで、図19は、理解の便宜上、封止樹脂50を透過している。図19では、透過した封止樹脂50を想像線で示している。
半導体装置A20においては、一対の半導体素子21の各々の第2電極212の構成と、第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bの各々の第1接合部32の構成とが、先述した半導体装置A10と異なる。
図19に示すように、各半導体素子21の第2電極212は、第1方向xにおいて互いに離れて位置する一対の領域を含む。第1導電部材30Aおよび第2導電部材30Bの各々の第1接合部32は、第1方向xにおいて互いに離れて位置する一対の領域を含む。図20および図21に示すように、第1導電部材30Aの第1接合部32の一対の領域は、第1接合層24により第1スイッチング素子21Aの第2電極212の一対の領域に対して個別かつ電気的に接合されている。同様に、第2導電部材30Bの第1接合部32の一対の領域は、第1接合層24により第2スイッチング素子21Bの第2電極212の一対の領域に対して個別かつ電気的に接合されている。
次に、半導体装置A20の作用効果について説明する。
半導体装置A20は、本体部31、第1接合部32、第1連結部33および先端部34を有する導電部材(第1導電部材30A)と、当該導電部材と、半導体素子21(第1スイッチング素子21A)の電極(第2電極212)とを電気的に接合する第1接合層24と、を備える。面内方向(半導体装置A10では第1方向x)に沿って視て、先端部34は、第1接合部32から離れるほど、半導体素子21の電極から遠ざかる向きに傾斜している。さらに、厚さ方向zに沿って視て、半導体素子21の電極は、面内方向(半導体装置A10では第2方向y)において先端部34に対して第1接合部32とは反対側に先端部34からはみ出した拡張領域212Aを含む。したがって、半導体装置A20によっても、より大きな電流に対応しつつ、半導体素子21に作用する熱応力を緩和することが可能となる。さらに、半導体装置A20によっても、半導体装置A10によって得られる上記以外の作用効果を得ることができる。
本開示は、先述した実施形態に限定されるものではない。本開示の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。
本開示によって提供される半導体装置、および半導体装置の製造方法は、以下の付記に記載されたものを含む。
付記1.
厚さ方向を向く第1主面を有する第1ダイパッドと、
前記厚さ方向において前記第1主面が向く側に設けられた電極を有するとともに、前記第1主面に接合された半導体素子と、
前記電極に電気的に接合された導電部材と、
前記導電部材と前記電極とを電気的に接合する第1接合層と、を備え、
前記導電部材は、本体部と、前記第1接合層により前記電極に電気的に接合された第1接合部と、前記本体部および前記第1接合部をつなぐ第1連結部と、前記第1連結部から離れて位置し、かつ前記第1接合部につながる先端部と、を有し、
前記第1主面の面内方向に沿って視て、前記先端部は、前記第1接合部から離れるほど、前記電極から遠ざかる向きに傾斜しており、
前記厚さ方向に沿って視て、前記電極は、前記面内方向において前記先端部に対して前記第1接合部とは反対側に前記導電部材からはみ出した拡張領域を含む、半導体装置。
付記2.
前記第1ダイパッドおよび前記導電部材の各々は、銅を含有する、付記1に記載の半導体装置。
付記3.
前記第1接合層は、錫を含有する、付記1または2に記載の半導体装置。
付記4.
前記面内方向に沿って視て、前記第1接合層には、前記電極から前記導電部材に至るとともに、前記電極に対して傾斜したフィレットが形成され、
前記フィレットは、前記電極に接する第1端縁と、前記導電部材に接する第2端縁と、を有し、
前記厚さ方向に沿って視て、前記第1端縁は、前記第2端縁よりも外方に位置する、付記3に記載の半導体装置。
付記5.
前記第1接合部は、前記電極に対向し、かつ前記第1接合層が接する接合面を有し、
前記先端部は、前記接合面につながり、かつ前記接合面に対して傾斜した反り面を有し、
前記面内方向に沿って視て、前記電極に対して前記フィレットがなす傾斜角は、前記接合面に対して前記反り面がなす傾斜角よりも小である、付記4に記載の半導体装置。
付記6.
前記第2端縁は、前記反り面に接している、付記5に記載の半導体装置。
付記7.
前記面内方向に沿って視て、前記第1連結部は、前記第1接合部から前記本体部に向かうほど、前記第1主面から離れる向きに傾斜している、付記5または6に記載の半導体装置。
付記8.
前記第1連結部は、前記接合面につながり、かつ前記接合面に対して傾斜した傾斜面を有し、
前記厚さ方向に沿って視て、前記接合面と前記傾斜面との境界は、前記半導体素子の周縁よりも内方に位置する、付記7に記載の半導体装置。
付記9.
前記面内方向に沿って視て、前記接合面に対して前記傾斜面がなす傾斜角は、30°以上および60°以下である、付記8に記載の半導体装置。
付記10.
前記第1接合部の厚さは、前記第1接合層の最大厚さの2倍以下である、付記3ないし9のいずれかに記載の半導体装置。
付記11.
前記第1接合部は、前記厚さ方向に貫通する開口を有し、
前記開口を規定する前記第1接合部の内周面に、前記第1接合層が接している、付記3ないし10に記載の半導体装置。
付記12.
前記第1ダイパッドの厚さは、前記導電部材の最大厚さよりも大である、付記1ないし11のいずれかに記載の半導体装置。
付記13.
前記厚さ方向において前記第1主面と同じ側を向く第2主面を有するとともに、前記第1ダイパッドに対して前記面内方向に離れて位置する第2ダイパッドと、
前記導電部材と前記第2主面とを電気的に接合する第2接合層と、をさらに備え、
前記導電部材は、前記第2接合層により前記第2主面に電気的に接合された第2接合部と、前記本体部および前記第2接合部をつなぐ第2連結部を有し、
前記第2ダイパッドは、銅を含有し、
前記第2接合層は、錫を含有する、付記1ないし12のいずれかに記載の半導体装置。
付記14.
前記面内方向に沿って視て、前記第2連結部は、前記第2接合部から前記本体部に向かうほど、前記第2主面から離れる向きに傾斜している、付記13に記載の半導体装置。
付記15.
前記第2ダイパッドの厚さは、前記導電部材の最大厚さよりも大である、付記13または14に記載の半導体装置。
付記16.
前記第1ダイパッドおよび前記第2ダイパッドの各々の一部と、前記半導体素子および前記導電部材と、を覆う封止樹脂をさらに備え、
前記第1ダイパッドは、前記厚さ方向において前記第1主面とは反対側を向く第1裏面を有し、
前記第2ダイパッドは、前記厚さ方向において前記第2主面とは反対側を向く第2裏面を有し、
前記封止樹脂から前記第1裏面および前記第2裏面が露出している、付記13ないし15のいずれかに記載の半導体装置。
付記17.
前記半導体素子は、化合物半導体基板を含む、付記1ないし16のいずれかに記載の半導体装置。
付記18.
前記化合物半導体基板は、炭化ケイ素を含有する、付記17に記載の半導体装置。
付記1.
厚さ方向を向く第1主面を有する第1ダイパッドと、
前記厚さ方向において前記第1主面が向く側に設けられた電極を有するとともに、前記第1主面に接合された半導体素子と、
前記電極に電気的に接合された導電部材と、
前記導電部材と前記電極とを電気的に接合する第1接合層と、を備え、
前記導電部材は、本体部と、前記第1接合層により前記電極に電気的に接合された第1接合部と、前記本体部および前記第1接合部をつなぐ第1連結部と、前記第1連結部から離れて位置し、かつ前記第1接合部につながる先端部と、を有し、
前記第1主面の面内方向に沿って視て、前記先端部は、前記第1接合部から離れるほど、前記電極から遠ざかる向きに傾斜しており、
前記厚さ方向に沿って視て、前記電極は、前記面内方向において前記先端部に対して前記第1接合部とは反対側に前記導電部材からはみ出した拡張領域を含む、半導体装置。
付記2.
前記第1ダイパッドおよび前記導電部材の各々は、銅を含有する、付記1に記載の半導体装置。
付記3.
前記第1接合層は、錫を含有する、付記1または2に記載の半導体装置。
付記4.
前記面内方向に沿って視て、前記第1接合層には、前記電極から前記導電部材に至るとともに、前記電極に対して傾斜したフィレットが形成され、
前記フィレットは、前記電極に接する第1端縁と、前記導電部材に接する第2端縁と、を有し、
前記厚さ方向に沿って視て、前記第1端縁は、前記第2端縁よりも外方に位置する、付記3に記載の半導体装置。
付記5.
前記第1接合部は、前記電極に対向し、かつ前記第1接合層が接する接合面を有し、
前記先端部は、前記接合面につながり、かつ前記接合面に対して傾斜した反り面を有し、
前記面内方向に沿って視て、前記電極に対して前記フィレットがなす傾斜角は、前記接合面に対して前記反り面がなす傾斜角よりも小である、付記4に記載の半導体装置。
付記6.
前記第2端縁は、前記反り面に接している、付記5に記載の半導体装置。
付記7.
前記面内方向に沿って視て、前記第1連結部は、前記第1接合部から前記本体部に向かうほど、前記第1主面から離れる向きに傾斜している、付記5または6に記載の半導体装置。
付記8.
前記第1連結部は、前記接合面につながり、かつ前記接合面に対して傾斜した傾斜面を有し、
前記厚さ方向に沿って視て、前記接合面と前記傾斜面との境界は、前記半導体素子の周縁よりも内方に位置する、付記7に記載の半導体装置。
付記9.
前記面内方向に沿って視て、前記接合面に対して前記傾斜面がなす傾斜角は、30°以上および60°以下である、付記8に記載の半導体装置。
付記10.
前記第1接合部の厚さは、前記第1接合層の最大厚さの2倍以下である、付記3ないし9のいずれかに記載の半導体装置。
付記11.
前記第1接合部は、前記厚さ方向に貫通する開口を有し、
前記開口を規定する前記第1接合部の内周面に、前記第1接合層が接している、付記3ないし10に記載の半導体装置。
付記12.
前記第1ダイパッドの厚さは、前記導電部材の最大厚さよりも大である、付記1ないし11のいずれかに記載の半導体装置。
付記13.
前記厚さ方向において前記第1主面と同じ側を向く第2主面を有するとともに、前記第1ダイパッドに対して前記面内方向に離れて位置する第2ダイパッドと、
前記導電部材と前記第2主面とを電気的に接合する第2接合層と、をさらに備え、
前記導電部材は、前記第2接合層により前記第2主面に電気的に接合された第2接合部と、前記本体部および前記第2接合部をつなぐ第2連結部を有し、
前記第2ダイパッドは、銅を含有し、
前記第2接合層は、錫を含有する、付記1ないし12のいずれかに記載の半導体装置。
付記14.
前記面内方向に沿って視て、前記第2連結部は、前記第2接合部から前記本体部に向かうほど、前記第2主面から離れる向きに傾斜している、付記13に記載の半導体装置。
付記15.
前記第2ダイパッドの厚さは、前記導電部材の最大厚さよりも大である、付記13または14に記載の半導体装置。
付記16.
前記第1ダイパッドおよび前記第2ダイパッドの各々の一部と、前記半導体素子および前記導電部材と、を覆う封止樹脂をさらに備え、
前記第1ダイパッドは、前記厚さ方向において前記第1主面とは反対側を向く第1裏面を有し、
前記第2ダイパッドは、前記厚さ方向において前記第2主面とは反対側を向く第2裏面を有し、
前記封止樹脂から前記第1裏面および前記第2裏面が露出している、付記13ないし15のいずれかに記載の半導体装置。
付記17.
前記半導体素子は、化合物半導体基板を含む、付記1ないし16のいずれかに記載の半導体装置。
付記18.
前記化合物半導体基板は、炭化ケイ素を含有する、付記17に記載の半導体装置。
A10,A20:半導体装置 11:第1ダイパッド
111:第1主面 112:第1裏面
12:第2ダイパッド 121:第2主面
122:第2裏面 13:第1入力端子
13A:被覆部 13B:露出部
14:出力端子 14A:被覆部
14B:露出部 15:第2入力端子
15A:被覆部 15B:露出部
161:第1ゲート端子 161A:被覆部
161B:露出部 162:第2ゲート端子
162A:被覆部 162B:露出部
171:第1検出端子 171A:被覆部
171B:露出部 172:第2検出端子
172A:被覆部 172B:露出部
21:半導体素子 21A:第1スイッチング素子
21B:第2スイッチング素子 211:第1電極
212:第2電極 212A:拡張領域
213:第3電極 22:保護素子
22A:第1ダイオード 22B:第2ダイオード
221:上面電極 221A:拡張領域
222:下面電極 23:ダイボンディング層
24:第1接合層 241:フィレット
241A:第1端縁 241B:第2端縁
25:第2接合層 26:第3接合層
261:フィレット 261A:第1端縁
261B:第2端縁 30A:第1導電部材
30B:第2導電部材 31:本体部
32:第1接合部 321:第1接合面
322:第1開口 33:第1連結部
331:第1傾斜面 332:境界
34:先端部 341:反り面
35:第2接合部 351:第2接合面
352:第2開口 36:第2連結部
361:第2傾斜面 37:第3接合部
371:第3接合面 372:第3開口
38:先端部 381:反り面
41:ゲートワイヤ 42:検出ワイヤ
50:封止樹脂 51:頂面
52:底面 53:第1側面
54:第2側面 55:凹部
56:溝部 z:厚さ方向
x:第1方向 y:第2方向
111:第1主面 112:第1裏面
12:第2ダイパッド 121:第2主面
122:第2裏面 13:第1入力端子
13A:被覆部 13B:露出部
14:出力端子 14A:被覆部
14B:露出部 15:第2入力端子
15A:被覆部 15B:露出部
161:第1ゲート端子 161A:被覆部
161B:露出部 162:第2ゲート端子
162A:被覆部 162B:露出部
171:第1検出端子 171A:被覆部
171B:露出部 172:第2検出端子
172A:被覆部 172B:露出部
21:半導体素子 21A:第1スイッチング素子
21B:第2スイッチング素子 211:第1電極
212:第2電極 212A:拡張領域
213:第3電極 22:保護素子
22A:第1ダイオード 22B:第2ダイオード
221:上面電極 221A:拡張領域
222:下面電極 23:ダイボンディング層
24:第1接合層 241:フィレット
241A:第1端縁 241B:第2端縁
25:第2接合層 26:第3接合層
261:フィレット 261A:第1端縁
261B:第2端縁 30A:第1導電部材
30B:第2導電部材 31:本体部
32:第1接合部 321:第1接合面
322:第1開口 33:第1連結部
331:第1傾斜面 332:境界
34:先端部 341:反り面
35:第2接合部 351:第2接合面
352:第2開口 36:第2連結部
361:第2傾斜面 37:第3接合部
371:第3接合面 372:第3開口
38:先端部 381:反り面
41:ゲートワイヤ 42:検出ワイヤ
50:封止樹脂 51:頂面
52:底面 53:第1側面
54:第2側面 55:凹部
56:溝部 z:厚さ方向
x:第1方向 y:第2方向
Claims (15)
- 厚さ方向を向く第1主面を有する第1ダイパッドと、
前記厚さ方向において前記第1主面が向く側に設けられた電極を有するとともに、前記第1主面に接合された半導体素子と、
前記電極に電気的に接合された導電部材と、
前記導電部材と前記電極とを電気的に接合する第1接合層と、を備え、
前記導電部材は、本体部と、前記第1接合層により前記電極に電気的に接合された第1接合部と、前記本体部および前記第1接合部をつなぐ第1連結部と、前記第1連結部から離れて位置し、かつ前記第1接合部につながる先端部と、を有し、
前記第1主面の面内方向に沿って視て、前記先端部は、前記第1接合部から離れるほど、前記電極から遠ざかる向きに傾斜しており、
前記厚さ方向に沿って視て、前記電極は、前記面内方向において前記先端部に対して前記第1接合部とは反対側に前記導電部材からはみ出した拡張領域を含む、半導体装置。 - 前記第1ダイパッドおよび前記導電部材の各々は、銅を含有する、請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1接合層は、錫を含有する、請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記面内方向に沿って視て、前記第1接合層には、前記電極から前記導電部材に至るとともに、前記電極に対して傾斜したフィレットが形成され、
前記フィレットは、前記電極に接する第1端縁と、前記導電部材に接する第2端縁と、を有し、
前記厚さ方向に沿って視て、前記第1端縁は、前記第2端縁よりも外方に位置する、請求項3に記載の半導体装置。 - 前記第1接合部は、前記電極に対向し、かつ前記第1接合層が接する接合面を有し、
前記先端部は、前記接合面につながり、かつ前記接合面に対して傾斜した反り面を有し、
前記面内方向に沿って視て、前記電極に対して前記フィレットがなす傾斜角は、前記接合面に対して前記反り面がなす傾斜角よりも小である、請求項4に記載の半導体装置。 - 前記第2端縁は、前記反り面に接している、請求項5に記載の半導体装置。
- 前記面内方向に沿って視て、前記第1連結部は、前記第1接合部から前記本体部に向かうほど、前記第1主面から離れる向きに傾斜している、請求項5または6に記載の半導体装置。
- 前記第1連結部は、前記接合面につながり、かつ前記接合面に対して傾斜した傾斜面を有し、
前記厚さ方向に沿って視て、前記接合面と前記傾斜面との境界は、前記半導体素子の周縁よりも内方に位置する、請求項7に記載の半導体装置。 - 前記面内方向に沿って視て、前記接合面に対して前記傾斜面がなす傾斜角は、30°以上および60°以下である、請求項8に記載の半導体装置。
- 前記第1接合部の厚さは、前記第1接合層の最大厚さの2倍以下である、請求項3ないし9のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第1ダイパッドの厚さは、前記導電部材の最大厚さよりも大である、請求項1ないし10のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記厚さ方向において前記第1主面と同じ側を向く第2主面を有するとともに、前記第1ダイパッドに対して前記面内方向に離れて位置する第2ダイパッドと、
前記導電部材と前記第2主面とを電気的に接合する第2接合層と、をさらに備え、
前記導電部材は、前記第2接合層により前記第2主面に電気的に接合された第2接合部と、前記本体部および前記第2接合部をつなぐ第2連結部を有し、
前記第2ダイパッドは、銅を含有し、
前記第2接合層は、錫を含有する、請求項1ないし11のいずれかに記載の半導体装置。 - 前記面内方向に沿って視て、前記第2連結部は、前記第2接合部から前記本体部に向かうほど、前記第2主面から離れる向きに傾斜している、請求項12に記載の半導体装置。
- 前記第2ダイパッドの厚さは、前記導電部材の最大厚さよりも大である、請求項12または13に記載の半導体装置。
- 前記第1ダイパッドおよび前記第2ダイパッドの各々の一部と、前記半導体素子および前記導電部材と、を覆う封止樹脂をさらに備え、
前記第1ダイパッドは、前記厚さ方向において前記第1主面とは反対側を向く第1裏面を有し、
前記第2ダイパッドは、前記厚さ方向において前記第2主面とは反対側を向く第2裏面を有し、
前記封止樹脂から前記第1裏面および前記第2裏面が露出している、請求項12ないし14のいずれかに記載の半導体装置。
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