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WO2020262112A1 - 有機ｅｌデバイス及びその製造方法 - Google Patents

有機ｅｌデバイス及びその製造方法 Download PDF

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Publication number
WO2020262112A1
WO2020262112A1 PCT/JP2020/023584 JP2020023584W WO2020262112A1 WO 2020262112 A1 WO2020262112 A1 WO 2020262112A1 JP 2020023584 W JP2020023584 W JP 2020023584W WO 2020262112 A1 WO2020262112 A1 WO 2020262112A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
organic layer
bank
organic
light emitting
emitting region
Prior art date
Application number
PCT/JP2020/023584
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
昭雄 海保
Original Assignee
住友化学株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 住友化学株式会社 filed Critical 住友化学株式会社
Publication of WO2020262112A1 publication Critical patent/WO2020262112A1/ja

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    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/22—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/805—Electrodes
    • H10K50/81—Anodes
    • H10K50/816—Multilayers, e.g. transparent multilayers

Definitions

  • the present invention relates to an organic EL device and a method for manufacturing the same.
  • An organic EL (electroluminescence) device is a device including a light emitting element utilizing electric field emission of an organic compound.
  • Patent Document 1 describes an electroluminescence device in which a liquid-repellent partition wall (bank) is provided on a substrate and a functional layer is formed in a region partitioned by the partition wall. ..
  • An object of the present invention is to provide an organic EL device having a light emitting region in which unevenness of light emitting brightness is reduced.
  • the present invention provides the following organic EL device and a method for manufacturing the organic EL device.
  • An organic EL device having a light emitting region. With the board A bank having a thickness and a width arranged on the substrate so as to surround the light emitting region, Organic layer structure and Including The organic layer structure is used, the number and partial (A) disposed in the light emitting region, a portion (B) which is disposed on the bank have a length L B in the width direction of the bank, the And When the maximum film thickness in the portion (A) is T AS and the central film thickness in the portion (A) is T AC , the organic layer structure portion has the following formula: T AS / T AC ⁇ 1.1 An organic EL device that includes a portion that meets the requirements.
  • the partial maximum film thickness T BS in (B) is greater than the central thickness T AC in the portion (A), an organic EL device described in [1].
  • the L B is 2.5mm or more, [1] to [3] The organic EL device according to any one of.
  • the organic layer structure portion includes a first organic layer and a second organic layer arranged on the first organic layer.
  • the first organic layer is perforated and partial (A1) which is disposed in the light emitting region, a portion (B1) which has a length L B1 in the width direction of the bank is placed on the bank, the And
  • the second organic layer is perforated and partial (A2) which is disposed in the light emitting region, a portion (B2) which have a length L B2 in the width direction of the bank is placed on the bank, the And Wherein L B2 is greater equal to or than with the L B1, an organic EL device described in [5].
  • the organic layer structure includes a portion (A) disposed in the light emitting region, so as to have a portion (B) which is disposed on the bank have a length L B in the width direction of the bank
  • T AS the maximum film thickness in the portion (A)
  • T AC the central film thickness in the portion (A) is T AC
  • the following formula: T AS / T AC ⁇ 1.1 A method for manufacturing an organic EL device, which is formed so as to include a portion that satisfies the above conditions.
  • the organic layer structure has a maximum thickness T BS in the portion (B) is formed to be larger than the central thickness T AC in the portion (A), organic according to [10] A method for manufacturing an EL device.
  • the organic layer structure section, said L B is formed to be above 2.5 mm, [10] or [11] The method for producing an organic EL device according to.
  • the step of forming the organic layer structure portion is A step of applying a coating liquid for forming a first organic layer on a substrate on which the bank is formed to form a first coating film, and The step of drying the first coating film to form the first organic layer, and A step of applying a coating liquid for forming a second organic layer on the first organic layer to form a second coating film, and A step of drying the second coating film to form a second organic layer, and Including Wherein the first organic layer has a portion (A1) which is disposed in the light emitting region, a portion (B1) which is disposed on the bank has a length L B1 in the width direction of the bank, the Formed like The second organic layer has a portion (A2) arranged in the emission region, a portion (B2) which is disposed on the bank have a length L B2 in the width direction of the bank, the as such, and the L B2 is formed to be larger equal to or than even with the L B1, a method of manufacturing an organic EL device described in [13].
  • the step of controlling the liquid repellency includes the step of making the contact angle of at least the upper surface of the bank with respect to the coating liquid for forming the first organic layer less than 10 degrees, according to [10] to [14].
  • the method for manufacturing an organic EL device according to any one.
  • the organic EL device according to the present invention includes a substrate, a bank arranged on the substrate, and an organic layer structure portion.
  • the bank defines the light emitting region of the organic EL device, and is arranged on the substrate so as to surround the light emitting region.
  • the light emitting region of the organic EL device means an area surrounded by the bank among the two-dimensional areas that emit light when a voltage is applied.
  • the organic EL device may have only one light emitting region or may have two or more light emitting regions. For example, two or more light emitting regions may be arranged in a two-dimensional array (or matrix shape) on the substrate.
  • the spacing between the light emitting regions in each column, the spacing between the light emitting regions in each row, the arrangement example of the light emitting regions, the number of light emitting regions, and the like are appropriately set according to the specifications of the organic EL device and the like.
  • the organic EL device may be a top emission type device or a bottom emission type device.
  • the light emitting region of the organic EL device is provided with a light emitting portion which is a structural part for generating light.
  • the light emitting portion includes at least a first electrode (for example, an anode), an organic layer structure portion, and a second electrode (for example, a cathode) in this order from the substrate side.
  • the organic layer structure portion is composed of an organic layer, and may include one layer or two or more organic layers.
  • the organic layer structure is a layer that contributes to light emission of the organic EL device.
  • FIG. 1 is a schematic plan view showing an example of a banked substrate that the organic EL device according to the present invention can have.
  • the banked substrate 10 shown in FIG. 1 has a substrate 11, a first electrode 12 (for example, an anode), and a bank 13.
  • the substrate 11 is a support that supports the first electrode 12 and the bank 13, and is, for example, a plate-shaped transparent member having translucency with respect to visible light (light having a wavelength of 400 nm to 800 nm).
  • the thickness of the substrate 11 is, for example, 30 ⁇ m or more and 1100 ⁇ m or less.
  • the substrate 11 may be, for example, a rigid substrate such as a glass substrate or a silicon substrate, or a flexible substrate such as a plastic substrate or a polymer film. By using a flexible substrate, the organic EL device can have flexibility.
  • a circuit for driving the light emitting unit may be formed in advance on the substrate 11.
  • a TFT Thin Film Transistor
  • a capacitor or the like may be formed in advance on the substrate 11.
  • the first electrode 12 is, for example, an anode.
  • the first electrode 12 may be a cathode and the second electrode may be an anode.
  • the plan view shape of the first electrode 12 shape seen from the thickness direction of the substrate 11
  • a quadrangle such as a rectangle or a square, another polygon, and a quadrangle or another polygon have rounded corners. Examples include the attached shape.
  • the plan view shape of the first electrode 12 may be circular or elliptical.
  • the plan-view shape of the first electrode 12 may be a quadrangle or another polygon in which at least one side is arcuate (for example, arcuate).
  • the plan view means that the layer or the like is viewed from the thickness direction.
  • the first electrode 12 a thin film made of a metal oxide, a metal sulfide, a metal or the like can be used, and specifically, indium oxide, zinc oxide, tin oxide, indium tin oxide (Indium Tin Oxide: abbreviated as ITO). ), Indium Zinc Oxide (abbreviated as IZO), a thin film made of gold, platinum, silver, copper or the like is used.
  • ITO Indium Tin Oxide
  • IZO Indium Zinc Oxide
  • the organic EL device emits light from the substrate 11 side, the first electrode 12 exhibiting light transmission is used.
  • the thickness of the first electrode 12 can be appropriately determined in consideration of light transmission, electrical conductivity, and the like.
  • the thickness of the first electrode 12 is, for example, 10 nm or more and 10 ⁇ m or less, preferably 20 nm or more and 1 ⁇ m or less, and more preferably 50 nm or more and 500 nm or less.
  • a layer composed of an insulating layer or the like may be provided between the first electrode 12 and the substrate 11.
  • a layer composed of an insulating layer or the like can also be regarded as a part of the substrate 11.
  • the bank 13 is a partition wall having a thickness and a width for defining a light emitting region 14 of an organic EL device, in other words, a partition wall having a thickness and a width arranged so as to surround the light emitting region 14. is there.
  • the bank 13 is arranged on the substrate 11, more specifically, on the first electrode 12 formed on the substrate 11. At this time, from the viewpoint of preventing a short circuit between the first electrode 12 and the second electrode, the bank 13 is arranged so as to be arranged directly above at least a part of the peripheral edge portion of the first electrode 12, as shown in FIG. It is preferable to do so.
  • the bank 13 is provided on the substrate 11 in a pattern having an opening in order to partition a preset light emitting region 14 on the surface of the substrate 11.
  • the plan view shape of the bank 13 has a square frame shape, but is not limited to this, and the opening shape and the outer shape of the bank 13 (both are plan view shapes). Is appropriately selected according to the desired shape of the light emitting region 14, the shape of the substrate 11 (both are planar views), and the like.
  • the opening shape (that is, the shape of the light emitting region 14) of the bank 13 usually has an area of 1 mm 2 or more, preferably 5 mm 2 or more, and usually 1 m 2 or less.
  • the opening shape of the bank 13 (that is, the shape of the light emitting region 14) is a square shape such as a square or a rectangle as shown in FIG. 1, and the length of at least one side thereof is It may be 1 mm or more, and the length of two or more sides or all sides may be 1 mm or more. The length of the side may be 5 mm or more, 10 mm or more, and further 20 mm or more.
  • the opening shape of the bank 13 is a square shape, the length of one side is usually 1000 mm or less.
  • the bank 13 can be composed of, for example, one or more kinds of resin compositions.
  • the bank 13 has a viewpoint that the light emitting region 14 can be suitably defined (partitioned) by the bank, and a bank. From the viewpoint of preventing the organic layer from getting wet and spreading outside of 13, at least the upper surface thereof (the surface opposite to the substrate 11) has liquid repellency, and more preferably the upper surface thereof and the upper surface thereof and the surface opposite to the substrate 11 have liquid repellency. Its side surface has liquid repellency.
  • the fact that at least the upper surface of the bank 13 has liquid repellency suppresses uneven shrinkage of the coating film in the drying step of heating the coating film formed so as to be in contact with at least the upper surface of the bank 13 to form an organic layer. It is also advantageous to do.
  • the liquid repellency in the present specification is the liquid repellency to the coating liquid for forming an organic layer used in the coating method.
  • the organic layer in "liquid repellency to a coating liquid for forming an organic layer” is usually the organic layer first formed on the first electrode 12 (the organic layer closest to the first electrode 12), that is, the first organic layer. Is.
  • a layer made of a thermoplastic resin composition containing a liquid-repellent agent a layer made of a cured product of a photosensitive resin composition containing a liquid-repellent agent, or a thermosetting containing a liquid-repellent agent.
  • a bank such as a layer made of a cured product of a thermosetting resin composition, a layer made of a thermoplastic resin, a layer made of a cured product of a photosensitive resin composition, or a layer made of a cured product of a thermosetting resin composition. Examples include banks that have been subjected to liquid repellent treatment.
  • liquid repellent treatment examples include a treatment of applying a liquid repellent agent containing a fluororesin or the like, a treatment of irradiating the coated surface with active energy rays such as ultraviolet rays after the application of the liquid repellent treatment, and the like.
  • the liquid repellency of at least the upper surface of the bank 13 may be controlled by UV ozone treatment.
  • a layer made of a thermoplastic resin composition containing a liquid repellent a layer made of a cured product of a photosensitive resin composition containing a liquid repellent, or a layer made of a cured product of a thermosetting resin composition containing a liquid repellent.
  • the above liquid repellent treatment may be further applied.
  • the contact angle of the upper surface of the bank 13 with the coating liquid is preferably less than 10 degrees. It is more preferably less than or equal to the degree, and further preferably less than 8 degrees.
  • the contact angle of the side surface of the bank 13 with respect to the coating liquid is preferably less than 10 degrees, more preferably 9 degrees or less, and further preferably less than 8 degrees. The contact angle is measured according to the method described in [Example] described later.
  • the bank 13 may have a single-layer structure or a multi-layer structure in which two or more layers are laminated in the thickness direction.
  • the bank 13 preferably has a single-layer structure because the bank 13 is easier to prepare.
  • the cross-sectional shape of the bank 13 is not particularly limited, and for example, the side surface desired for the light emitting region 14 of the bank 13 may be orthogonal to the surface of the substrate 11 or may be inclined so as to form an acute angle. (Forward taper type).
  • the thickness (height) of the bank 13 is, for example, about 0.3 ⁇ m or more and 10 ⁇ m or less, preferably 0.5 ⁇ m or more and 5 ⁇ m or less.
  • the width of the bank 13 (W shown in FIG. 1) is, for example, about 0.5 mm or more and 20 mm or less, preferably 1 mm or more and 10 mm or less.
  • the outer shape (planar view shape) of the bank 13 is a square shape, the length of one side thereof is, for example, about 0.5 mm or more and 1000 mm or less, preferably about 1 mm or more and 1000 mm or less.
  • the banked substrate 10 can be manufactured, for example, by forming the first electrode 12 on the light emitting region 14 preset on the substrate 11 and then forming the bank 13.
  • the bank 13 can be formed by using, for example, a coating method. Specifically, the coating film containing the material of the bank 13 is applied to the substrate 11 on which the first electrode 12 is formed, the coating film is dried, and if necessary, the coating film is cured. Can be formed by patterning in a predetermined shape. Examples of the coating method include a spin coating method and a slit coating method.
  • the solvent of the coating liquid containing the material of bank 13 may be any solvent that can dissolve the material of bank 13.
  • the bank 13 is a direct drawing method in which a coating film patterned by, for example, an inkjet coating method, a screen printing method, a gravure printing method, a flexographic printing method, a dispenser coating method, a nozzle coating method, or the like is formed, and a curing treatment is performed as necessary. It can also be formed by.
  • a light emitting portion is provided in the light emitting region of the organic EL device, and the light emitting portion includes at least a first electrode (for example, an anode), an organic layer structure portion, and a second light emitting portion. Includes electrodes (eg, cathodes).
  • the organic layer structure portion is composed of an organic layer between the first electrode and the second electrode, and may include one layer or two or more organic layers, and usually two or more organic layers are included.
  • the first organic layer means an organic layer first formed on the first electrode 12 (the organic layer closest to the first electrode 12).
  • the first organic layer is preferably a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer or an electron injection layer, more preferably a hole injection layer or a light emitting layer, and further preferably a hole injection. It is a layer.
  • the light emitting unit further has at least a light emitting layer as an organic layer other than the first organic layer.
  • the light emitting portion may have only the first organic layer as the organic layer, but it is preferable that the first organic layer further contains another organic layer.
  • the hole injection layer is an organic layer having a function of improving the hole injection efficiency from the anode (for example, the first electrode 12) to the light emitting layer.
  • a known hole injection material can be used as the material of the hole injection layer.
  • the hole injection material include oxides such as vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide and aluminum oxide; phenylamine compounds; starburst amine compounds; phthalocyanine compounds; amorphous carbon; polyaniline; polyethylene dioxythiophene (PEDOT). Polythiophene derivatives such as.
  • the light emitting layer is an organic layer having a function of emitting light having a predetermined wavelength.
  • the light emitting layer is usually formed mainly of an organic substance that emits fluorescence and / or phosphorescence, or a dopant that assists the organic substance. Dopants are added, for example, to improve luminous efficiency and change the emission wavelength.
  • the organic substance contained in the light emitting layer may be a low molecular weight compound or a high molecular weight compound. Examples of the light emitting material constituting the light emitting layer include the following pigment-based materials, metal complex-based materials, polymer-based materials, and dopant materials.
  • dye-based luminescent material examples include cyclopendamine or a derivative thereof, tetraphenylbutadiene or a derivative thereof, triphenylamine or a derivative thereof, oxadiazole or a derivative thereof, pyrazoloquinolin or a derivative thereof, distyrylbenzene or a derivative thereof.
  • Examples of the light emitting material of the metal complex system include rare earth metals such as Tb, Eu, and Dy, or Al, Zn, Be, Pt, and Ir as the central metal, and oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, and phenylbenzo. Examples thereof include metal complexes having an imidazole, quinoline structure or the like as a ligand. Examples of the metal complex include a metal complex that emits light from a triple-term excited state such as an iridium complex and a platinum complex, an aluminum quinolinol complex, a benzoquinolinol berylium complex, a benzoxazolyl zinc complex, a benzothiazole zinc complex, and an azomethylzinc complex. , Porphyrin zinc complex, phenanthroline europium complex and the like.
  • polymer-based luminescent material examples include polyparaphenylene vinylene or its derivative, polythiophene or its derivative, polyparaphenylene or its derivative, polysilane or its derivative, polyacetylene or its derivative, polyfluorene or its derivative, polyvinylcarbazole or the like.
  • the above-mentioned dye material a material obtained by polymerizing a metal complex material, and the like can be mentioned.
  • red light-emitting material includes, for example, coumarin or a derivative thereof, a thiophene ring compound, a polymer thereof, polyparaphenylene vinylene or a derivative thereof. , Polythiophene or a derivative thereof, polyfluorene or a derivative thereof, and the like.
  • red light emitting material examples include materials disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-105701.
  • green light emitting material examples include quinacridone or a derivative thereof, coumarin or a derivative thereof, and a polymer thereof, polyparaphenylene vinylene or a derivative thereof, polyfluorene or a derivative thereof. Derivatives and the like can be mentioned.
  • examples of the green light emitting material include materials disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-0363888.
  • blue light emitting material examples include distyrylarylene or a derivative thereof, oxadiazole or a derivative thereof, a polymer thereof, polyvinylcarbazole or a derivative thereof, and polypara. Examples thereof include phenylene or a derivative thereof, polyfluorene or a derivative thereof. Examples of the blue light emitting material include materials disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-144722.
  • Examples of the dopant material include perylene or its derivative, coumarin or its derivative, rubrene or its derivative, quinacridone or its derivative, squalium or its derivative, porphyrin or its derivative, styryl dye, tetracene or its derivative, pyrazolone or its derivative, Examples thereof include decacyclene or a derivative thereof, phenoxazone or a derivative thereof.
  • the optimum value of the thickness of the light emitting layer differs depending on the material used, and is appropriately determined in consideration of the required characteristics and the ease of forming the layer.
  • the thickness of the light emitting layer is, for example, 1 nm or more and 1 ⁇ m or less, preferably 2 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 5 nm or more and 200 nm or less.
  • the electron injection layer is a layer having a function of improving the electron injection efficiency from the cathode to the light emitting layer.
  • a known electron injection material can be used for the electron injection layer.
  • the thickness of the electron injection layer varies depending on the material used and the like, but is, for example, 1 nm or more and 50 nm or less.
  • the organic layer structure portion is an element forming the light emitting portion, and is basically within the light emitting region 14 (opening of the bank 13) defined by the bank 13.
  • the present invention is characterized in that the organic layer structure portion has a portion (A) arranged in the light emitting region 14 and a portion (B) arranged on the bank 13. To do.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a partially enlarged view of the periphery of the bank in an example of the organic EL device according to the present invention.
  • the organic layer structure portion 1 has a portion (A) arranged in the light emitting region 14 and a portion (B) arranged on the bank 13.
  • Portions organic layer structure 1 is extending over the bank 13 beyond the light-emitting region 14, i.e. the length of the portion (B), a length in the width W direction of the bank 13, the length L B There, L B is greater than zero, preferably less than the width W of the bank 13.
  • the organic layer structure portion 1 When the organic layer structure portion 1 is formed by a coating method or the like, the organic layer structure portion 1 has a portion having the largest thickness in the vicinity of the light emitting region 14 side end portion of the bank 13.
  • the maximum film thickness in the portion (A) of the organic layer structure portion 1 is referred to as " TAS ".
  • the position where the portion (A) has the maximum film thickness T AS usually exists in a range from a position of about 100 ⁇ m from the light emitting region 14 side end of the bank 13 to a position of about 1000 ⁇ m from the light emitting region 14 side end. ..
  • the central film thickness in the portion (A) of the organic layer structure portion 1 is referred to as “ TAC ”.
  • the central film thickness TAC means the film thickness at the center point of the portion (A). So as to have a portion (B), i.e., by the end to form an organic layer structure 1 so as to be located on the bank 13, closer to the ratio T AS / T AC and T AS and T AC 1 This makes it possible to reduce unevenness in emission brightness within the emission region 14. From the viewpoint of reducing unevenness of emission brightness, the ratio T AS / T AC is 1.0 or more and 1.1 or less, preferably 1.0 or more and 1.05 or less, and more preferably 1.0. ..
  • a coating method using a coating liquid for forming the organic layer constituting the organic layer structure portion 1 is preferable, and more preferably, inkjet printing. It is a law.
  • the length L B is preferably not 2.5mm or more, and more preferably 3mm or more.
  • the maximum film thickness in the portion (B) of the organic layer structure portion 1 is referred to as “ TBS ”.
  • TBS the maximum thickness in the organic layer structure 1 of part (B) is preferably greater than the center thickness T AC at the portion (A).
  • Such a thickness relationship can be realized by adopting a coating method for forming the organic layer structure portion 1 and then adjusting the concentration, viscosity, coating film drying method, and the like of the coating liquid. Satisfying the thickness relationship is advantageous in providing an organic EL device having a light emitting region in which unevenness of light emission brightness is reduced.
  • the central film thickness T AC in the portion (A) of the organic layer structure portion 1, the maximum film thickness T AS in the portion (A), and the maximum film thickness T BS in the portion (B) carefully cut the prepared organic EL device.
  • An image is acquired of the exposed cross section using a scanning transmission electron microscope, and one point arbitrarily selected from this image is actually measured according to the above definition.
  • Part (B) of the length L B (same for L B1, L B2 and L B3 which will be described later), for forming organic layer structure 1 (or organic layer) is measured using a precision length measuring machine ..
  • Value of the center thickness T AC of the organic layer structure first portion (A) is, for example, 10nm or more 10 ⁇ m or less, preferably 50nm or more 5 ⁇ m or less.
  • the first organic layer is an organic layer constituting the organic layer structure, and when the organic layer structure is composed of two or more organic layers, the first of these organic layers is the first. It is an organic layer arranged near the electrode 12.
  • the first organic layer has a portion (A1) arranged in the light emitting region 14 and a portion (B1) arranged on the bank 13 from the viewpoint of reducing unevenness of the emission brightness in the light emitting region 14. Is preferable.
  • the length of the portion (B1) in which the first organic layer extends beyond the light emitting region 14 to the top of the bank 13 is the length of the bank 13 in the width W direction, and is the length LB1 .
  • LB1 is greater than zero and preferably less than the width W of bank 13.
  • the first organic layer having the portion (B1) From the viewpoint of reducing uneven emission brightness over as wide a region as possible within the light emitting region 14, it is preferable that as many ends of the first organic layer as possible are located on the bank 13, and all of the first organic layer. More preferably, the ends are located on the bank 13.
  • a coating method using a coating liquid for forming the first organic layer is preferable, and an inkjet printing method is more preferable.
  • the value of the central film thickness in the portion (A1) of the first organic layer is not particularly limited as long as the function of the first organic layer is exhibited, and may be a thickness corresponding to the function.
  • the optimum value of the central film thickness may differ depending on the material of the first organic layer.
  • its central film thickness is, for example, 1 nm or more and 1 ⁇ m or less, preferably 2 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 5 nm or more and 200 nm or less.
  • the first organic layer when the first organic layer is a light emitting layer, its central film thickness is, for example, 1 nm or more and 2 ⁇ m or less, preferably 5 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 10 nm or more and 200 nm or less.
  • its central film thickness is, for example, 1 nm or more and 50 nm or less.
  • the organic layer structure portion 1 formed in the light emitting region 14 can include organic layers other than the first organic layer.
  • Examples of the organic layer other than the first organic layer include the second organic layer and the second organic layer provided adjacent to the first organic layer (the side opposite to the first electrode 12 side in the first organic layer).
  • Examples thereof include a third organic layer provided adjacent to (the side of the second organic layer opposite to the first electrode 12 side).
  • the organic layer structure portion 1 may include four or more organic layers.
  • Examples of the layer structure of the organic layer structure portion having only the first organic layer as the organic layer and the layer structure of the organic layer structure portion including the first organic layer and other organic layers other than the first organic layer include, for example.
  • the following layer structure can be mentioned.
  • (A) 1st electrode / light emitting layer / 2nd electrode (b) 1st electrode / hole injection layer / light emitting layer / 2nd electrode (c) 1st electrode / hole injection layer / light emitting layer / electron injection layer / 2nd electrode (d) 1st electrode / hole injection layer / light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer / 2nd electrode (e) 1st electrode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / first 2 electrode (f) 1st electrode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron injection layer / 2nd electrode (g) 1st electrode / hole injection layer / hole transport layer / light emitting layer / electron Transport layer
  • the hole transport layer is a layer having a function of improving hole injection from the anode, the hole injection layer, or the like into the light emitting layer.
  • a known hole transporting material can be used as the material of the hole transporting layer.
  • the material of the hole transport layer include polyvinylcarbazole or its derivative, polysilane or its derivative, polysiloxane or its derivative having an aromatic amine in the side chain or main chain, pyrazoline or its derivative, arylamine or its derivative, and the like.
  • Stilben or its derivatives triphenyldiamine or its derivatives, polyaniline or its derivatives, polythiophene or its derivatives, polyarylamine or its derivatives, polypyrrole or its derivatives, poly (p-phenylene vinylene) or its derivatives, and poly (2, 5-Thienylene binylene) or a derivative thereof and the like can be mentioned. Further, the hole transport material disclosed in JP2012-144722A can also be mentioned.
  • the central film thickness of the second organic layer (the film thickness at the center of the second organic layer) varies depending on the material used and the like, but is, for example, 1 nm or more and 1 ⁇ m or less. It is preferably 2 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 5 nm or more and 200 nm or less. The same applies when the third organic layer is a hole transport layer.
  • the electron transport layer is a layer having a function of improving electron injection from a cathode, an electron injection layer, or the like.
  • a known electron transport material can be used for the electron transport layer.
  • the central film thickness of the second organic layer (the film thickness at the center of the second organic layer) varies depending on the material used and the like, but is, for example, 1 nm or more and 1 ⁇ m or less. It is preferably 2 nm or more and 500 nm or less, and more preferably 5 nm or more and 200 nm or less. The same applies when the third organic layer is an electron transport layer.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a partially enlarged view of the periphery of the bank in another example of the organic EL device according to the present invention.
  • the organic EL device shown in FIG. 3 includes an organic layer structure portion 1 having a two-layer structure of a first organic layer 1a and a second organic layer 1b.
  • the organic layer structure 1 includes the first organic layer 1a and the second organic layer 1b arranged on the first organic layer 1a
  • the second organic layer 1b preferably has a portion (A2) arranged in the light emitting region 14 and a portion (B2) arranged on the bank 13. From the viewpoint of reducing the above amount.
  • the length of the portion where the second organic layer 1b extends beyond the light emitting region 14 to the top of the bank 13, that is, the portion (B2) is the length in the width W direction of the bank 13, and the length L B2 .
  • LB2 is greater than zero and preferably less than the width W of bank 13.
  • the length L B2 of the portion (B2) of the second organic layer 1b is the same as the length L B1 of the portion (B1) of the first organic layer 1a. Or larger than that.
  • the length L B2 portion (B2) of the second organic layer 1b is the same as the length L B of the portion of the organic layer structure 1 shown in FIG. 2 (B) is there.
  • the organic layer structure 1 further includes a third organic layer arranged on the second organic layer 1b.
  • the third organic layer has a portion (A3) arranged in the light emitting region 14 and a portion (B3) arranged on the bank 13.
  • the length of the portion where the third organic layer extends beyond the light emitting region 14 to the top of the bank 13, that is, the portion (B3) is the length in the width W direction of the bank 13, and is the length LB3 .
  • LB3 is greater than zero and preferably less than the width W of bank 13.
  • the length L B3 of the portion of the third organic layer (B3) is either the same as the length L B2 portion (B2) of the second organic layer 1b Or it is preferably larger than that.
  • the third organic layer As many ends of the third organic layer as possible are located on the bank 13, and all of the third organic layer. More preferably, the ends are located on the bank 13.
  • the film thickness and length of each organic layer constituting the organic layer structure portion 1 can be measured in the same manner as the various film thicknesses and lengths of the organic layer structure portion 1.
  • the second electrode is, for example, a cathode.
  • the cathode is provided on one or more organic layers contained in the light emitting portion.
  • As the material of the cathode a material having a small work function, easy electron injection into the light emitting layer, and high electric conductivity is preferable.
  • the organic EL device extracts light from the anode side, the light emitted from the light emitting layer is reflected by the cathode toward the anode side, so that a material having a high visible light reflectance is preferable as the material of the cathode.
  • the cathode for example, an alkali metal, an alkaline earth metal, a transition metal, a group 13 metal of the periodic table, or the like can be used.
  • a transparent conductive cathode made of a conductive metal oxide, a conductive organic substance, or the like can also be used.
  • the thickness of the cathode is appropriately set in consideration of electrical conductivity and durability.
  • the thickness of the cathode is, for example, 10 nm or more and 10 ⁇ m or less, preferably 20 nm or more and 1 ⁇ m or less, and more preferably 50 nm or more and 500 nm or less.
  • a cathode may be provided for each light emitting region, or a cathode common to all light emitting regions 14 across the bank 13. May be provided.
  • a sealing substrate is usually provided on the second electrode of the organic EL device.
  • the organic EL device may include, for example, other known elements included in the organic EL lighting device and the organic EL display.
  • the method for manufacturing an organic EL device includes the following steps.
  • a step of forming a bank 13 having a thickness and a width on the substrate 11 (bank forming step) for defining a light emitting region 14.
  • a step of controlling the liquid repellency of the upper surface of the bank 13 (liquid repellency control step)
  • a step of forming an organic layer structure portion on a substrate 11 on which a bank 13 is formed by a coating method (organic layer structure portion forming step).
  • the manufacturing method according to the present invention is suitable as a method for manufacturing the organic EL device according to the present invention.
  • the organic layer structure forming step usually includes the step of forming the first organic layer 1a described above.
  • the first organic layer 1a can be formed by the following steps. A step of applying a coating liquid for forming a first organic layer to form a first coating film (first coating step), and a step of drying the first coating film to form a first organic layer 1a (first drying). Process).
  • the production method further includes the following steps after the first drying step.
  • Step of forming (second drying step).
  • the manufacturing method further includes the following steps after the second drying step.
  • the bank forming step is usually a step of producing a banked substrate 10 as shown in FIG. 1, for example.
  • the above description is cited for the substrate 11, the first electrode 12, and the bank 13 constituting the banked substrate 10, and the method for manufacturing the banked substrate 10.
  • the liquid repellency control step is a step of adjusting the liquid repellency of at least the upper surface of the bank 13.
  • a layer made of a thermoplastic resin composition containing a liquid repellent As a method for adjusting (controlling) the liquid repellency of at least the upper surface of the bank 13, a layer made of a thermoplastic resin composition containing a liquid repellent, a layer made of a cured product of a photosensitive resin composition containing a liquid repellent, or repellent.
  • a method of applying a liquid repellent treatment to at least the upper surface of the bank 13 can be mentioned.
  • the liquid repellent control step is a part of the bank forming step.
  • the liquid repellent treatment in the latter case include a treatment of applying a liquid repellent agent containing a fluororesin and the like, and a treatment of irradiating the coated surface with active energy rays such as ultraviolet rays after the application of the liquid repellent agent.
  • the liquid repellency of at least the upper surface of the bank 13 may be controlled by UV ozone treatment.
  • a layer made of a thermoplastic resin composition containing a liquid repellent On at least the upper surface of a layer made of a thermoplastic resin composition containing a liquid repellent, a layer made of a cured product of a photosensitive resin composition containing a liquid repellent, or a layer made of a cured product of a thermosetting resin composition containing a liquid repellent.
  • the above liquid repellent treatment may be further applied.
  • the liquid repellent control step is performed by the contact angle of the upper surface of the bank 13 with respect to the coating liquid ( ⁇ organic EL device).
  • >) Is preferably less than 10 degrees, more preferably 9 degrees or less, and even more preferably less than 8 degrees in the step of adjusting the liquid repellency of the upper surface of the bank 13.
  • the contact angle of the side surface of the bank 13 with respect to the coating liquid is preferably less than 10 degrees, more preferably 9 degrees or less, and further preferably less than 8 degrees.
  • the liquid repellency of the side surface of the bank 13 is adjusted so as to be.
  • the contact angle is usually the contact angle with respect to the coating liquid for forming the first organic layer.
  • the organic layer structure part 1 can be formed by a coating method in which the coating film is dried after the coating liquid is applied.
  • the coating method of the coating liquid include an inkjet printing method.
  • other known coating methods for example, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating method, roll coating method, wire bar coating method, spray, as long as the coating method can form a layer in the opening of the bank 13.
  • a coating method, a screen printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, or a nozzle printing method may be used.
  • the solvent contained in the coating liquid is not particularly limited as long as it can dissolve the functional material contained in the coating liquid, and is, for example, a chloride solvent such as chloroform, methylene chloride or dichloroethane; an ether solvent such as tetrahydrofuran or butyl cellosolve; toluene.
  • a chloride solvent such as chloroform, methylene chloride or dichloroethane
  • an ether solvent such as tetrahydrofuran or butyl cellosolve
  • toluene toluene.
  • Aromatic hydrocarbon solvents such as xylene, cyclohexylbenzene; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone; ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl cell solve acetate, butyl lactate; methanol, ethanol, propanol, 2-ethyl Examples thereof include an alcohol solvent such as hexanol. Only one type of solvent may be used, or two or more types may be used in combination.
  • the method for drying the coating film is not particularly limited as long as the first coating film can be dried, and examples thereof include vacuum drying and heat drying.
  • the organic layer structure part 1 may be composed of two or more organic layers. In this case, two or more organic layers are formed by repeating the above-mentioned coating and drying.
  • the organic layer structure 1 has a portion (A) disposed within the light emitting region 14, and a portion (B) which is disposed on the bank 13 have a length L B in the width W direction of the bank 13 It is carried out as.
  • the length L B is greater than zero, preferably less than the width W of the bank 13.
  • the ratio T AS / T AC is 1.0 or more and 1.1 or less, preferably 1.0 or more and 1.05 or less, and more preferably 1.0. ..
  • the length L B is preferably not 2.5mm or more, and more preferably 3mm or more.
  • the organic layer structure portion 1 is preferably formed so that as many ends as possible are located on the bank 13, and all the ends. It is more preferable that the portion is formed so as to be located on the bank 13.
  • the organic layer structure 1, part (B) maximum film thickness T BS is preferably formed to be larger than the central thickness T AC at the portion (A) in the.
  • Such a thickness relationship can be realized by adjusting the concentration, viscosity, coating film drying method, etc. of the coating liquid in the coating method using the coating liquid. Satisfying the thickness relationship is advantageous in providing an organic EL device having a light emitting region in which unevenness of light emission brightness is reduced.
  • a coating liquid for forming the first organic layer is applied to the opening (light emitting region 14) of the bank 13.
  • the first organic layer 1a can be formed by forming one coating film (first coating step) and then drying the first coating film (first drying step).
  • the coating liquid for forming the first organic layer may be a coating liquid containing a hole injection material, a coating liquid containing a light emitting material, a coating liquid containing an electron injection material, or the like. Examples of the coating method of the coating liquid and the drying method of the coating film are as described above.
  • the first coating step includes the portion (A1) in which the first organic layer 1a obtained through the first drying step is arranged in the light emitting region 14.
  • the bank 13 has a length LB1 in the width W direction and has a portion (B1) arranged on the bank 13.
  • the length LB1 is greater than zero and preferably less than the width W of the bank 13.
  • a coating liquid for forming a second organic layer is applied onto the first organic layer 1a to form a second coating film (second coating step).
  • the second organic layer 1b can then be formed by drying the second coating film (second drying step).
  • the coating liquid for forming the second organic layer may be a coating liquid containing a hole transport material, a coating liquid containing a light emitting material, a coating liquid containing an electron transport material, a coating liquid containing an electron injection material, or the like. Examples of the solvent contained in the coating liquid for forming the second organic layer, the coating method of the coating liquid, and the drying method of the coating film are as described above.
  • the second coating step includes the portion (A2) in which the second organic layer 1b obtained through the second drying step is arranged in the light emitting region 14.
  • the bank 13 has a length LB2 in the width W direction and has a portion (B2) arranged on the bank 13.
  • the length LB2 is greater than zero and preferably less than the width W of the bank 13.
  • the length L B2 of the portion (B2) of the second organic layer 1b is the same as the length L B1 of the portion (B) of the first organic layer 1a. Or larger than that.
  • a coating liquid for forming a third organic layer is applied onto the second organic layer 1b to form a third coating film (third coating step), and then the third coating film is dried (third drying step). ), A third organic layer can be formed.
  • the coating liquid for forming the third organic layer is a coating liquid containing a light emitting material, a coating liquid containing an electron transport material, a coating liquid containing an electron injection material, a coating liquid containing a hole transport material, and a coating liquid containing a hole injection material. It can be a liquid or the like. Examples of the solvent contained in the coating liquid for forming the third organic layer, the coating method of the coating liquid, and the drying method of the coating film are as described above.
  • the third coating step includes a portion (A3) in which the third organic layer obtained through the third drying step is arranged in the light emitting region 14. It is preferable that the bank 13 has a length LB3 in the width W direction and has a portion (B3) arranged on the bank 13. The length LB3 is greater than zero and preferably less than the width W of the bank 13.
  • the length L B3 of the portion of the third organic layer (B3) is either the same as the length L B2 portion (B2) of the second organic layer 1b Or it is preferably larger than that.
  • the fourth and subsequent organic layers can be formed in the same manner as the first to third organic layers.
  • An organic EL device can be obtained by performing a step of forming a second electrode (for example, a cathode) after forming a desired one or more organic layers.
  • a second electrode for example, a cathode
  • Examples of the method for forming the second electrode include a vapor deposition method and a coating method similar to those for the first electrode 12.
  • [B] Film thickness and length of layer portion The central film thickness and maximum film thickness of the organic layer structure were measured according to the above definitions. Specifically, an image was acquired of a cross section exposed by carefully cutting the produced organic EL device using a scanning transmission electron microscope, and one point arbitrarily selected from this image was centered according to the above definition. The film thickness and the maximum film thickness were measured. The length of the layer portions such as L B was measured using a precision length measuring machine. L B shown in Table 1 below, L B1, the value of L B2, L B3 and L B4, the average of the measurements at the central position of each side of the formed in a square shape organic layer structure or the organic layer (Average of 4 points).
  • a banked substrate 10 having the configuration shown in FIG. 1 was prepared.
  • the outer shape of the substrate 11 was a square having a side length of about 50 mm.
  • the material of the substrate 11 is glass.
  • the outer shape of the bank 13 was a square having a side length of about 34 mm, the opening shape of the bank 13 was a square having a side length of about 22 mm, and the width W of the bank 13 was about 6 mm.
  • the bank 13 is a layer (single layer structure) formed by curing a photosensitive resin composition containing a liquid repellent, and after forming the layer, the surfaces (upper surface and side surfaces) are subjected to UV ozone treatment to obtain a first layer.
  • the contact angles of the upper surface and the side surface of the bank 13 with respect to the coating liquid for forming the organic layer were reduced to about 8 degrees.
  • the bank 13 is aligned so as to be arranged directly above a part of the peripheral edge portion of the first electrode 12 (anode).
  • a first organic layer 1a (hole injection layer) was formed in the light emitting region 14 (opening of the bank 13) of the banked substrate 10 by the following procedure.
  • a coating liquid for forming a first organic layer containing a hole injection material was prepared.
  • a first coating film was formed in the light emitting region 14 by an inkjet printing method using this coating liquid, and then the first coating film was dried on a hot plate to form a first organic layer 1a.
  • the length L B1 portion (B1) of the first organic layer 1a shown in Table 1. All the ends of the first organic layer 1a in this experimental example were located on the bank 13.
  • the second organic layer 1b (hole transport layer) was formed on the first organic layer 1a by the following procedure.
  • a coating liquid for forming a second organic layer containing a hole transport material was prepared.
  • a second coating film was formed on the first organic layer 1a by an inkjet printing method using this coating liquid, and then the second coating film was dried on a hot plate to form a second organic layer 1b.
  • the length L B2 of the portion (B2) of the second organic layer 1b is shown in Table 1. All the ends of the second organic layer 1b in this experimental example were located on the bank 13.
  • a third organic layer (light emitting layer) was formed on the second organic layer 1b by the following procedure.
  • a coating liquid for forming a third organic layer containing a luminescent material was prepared.
  • a third coating film was formed on the second organic layer 1b by an inkjet printing method using this coating liquid, and then the third coating film was dried on a hot plate to form a third organic layer.
  • the length L B3 of the portion (B3) of the third organic layer is shown in Table 1. All the ends of the third organic layer in this experimental example were located on the bank 13.
  • a fourth organic layer (electron transport layer) was formed on the third organic layer.
  • a coating liquid for forming a fourth organic layer containing an electron transport material was prepared.
  • a fourth coating film was formed on the third organic layer by an inkjet printing method using this coating liquid, and then the fourth coating film was dried on a hot plate to form a fourth organic layer.
  • an electron injection layer (inorganic layer) and a cathode were formed on the fourth organic layer by a vapor deposition method and sealed in a nitrogen atmosphere to obtain an organic EL device.
  • the length L B4 of the portion (B4) of the fourth organic layer is shown in Table 1.
  • 1 Organic layer structure 1a 1st organic layer, 1b 2nd organic layer, 10 Banked substrate, 11 substrate, 12 1st electrode, 13 bank, 14 light emitting region.

Landscapes

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Abstract

発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供する。　発光領域を有する有機ＥＬデバイスであって、基板と、発光領域を取り囲むように前記基板上に配置される厚み及び幅を有するバンクと、有機層構造部とを含み、有機層構造部は発光領域内に配置される部分（Ａ）とバンクの幅方向における長さＬＢを有してバンク上に配置される部分（Ｂ）とを有し、有機層構造部は部分（Ａ）における最大膜厚をＴＡＳとし、部分（Ａ）における中心膜厚をＴＡＣとするとき、式：ＴＡＳ／ＴＡＣ≦１．１を満たす部分を含む有機ＥＬデバイスが提供される。

Description

有機ＥＬデバイス及びその製造方法
　本発明は、有機ＥＬデバイス及びその製造方法に関する。
　有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）デバイスは、有機化合物の電界発光を利用した発光素子を含むデバイスである。
　特開２００７－０３５３４７号公報（特許文献１）には、基板上に撥液性の隔壁（バンク）を設け、この隔壁によって区画される領域に機能層を形成したエレクトロルミネッセンス素子が記載されている。
特開２００７－０３５３４７号公報
　バンクによって発光領域を規定した面発光の有機ＥＬデバイスにおいては、その発光領域内で発光輝度にムラが生じることがあった。
　本発明の目的は、発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供することにある。
　本発明は、以下に示す有機ＥＬデバイス及び有機ＥＬデバイスの製造方法を提供する。
　［１］　発光領域を有する有機ＥＬデバイスであって、
　基板と、
　前記発光領域を取り囲むように前記基板上に配置される、厚み及び幅を有するバンクと、
　有機層構造部と、
を含み、
　前記有機層構造部は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢを有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ）と、を有し、
　前記有機層構造部は、前記部分（Ａ）における最大膜厚をＴＡＳとし、前記部分（Ａ）における中心膜厚をＴＡＣとするとき、下記式：
　ＴＡＳ／ＴＡＣ≦１．１
を満たす部分を含む、有機ＥＬデバイス。
　［２］　前記部分（Ｂ）における最大膜厚ＴＢＳが前記部分（Ａ）における中心膜厚ＴＡＣよりも大きい、［１］に記載の有機ＥＬデバイス。
　［３］　前記有機層構造部の全ての端部が前記バンク上に位置している、［１］又は［２］に記載の有機ＥＬデバイス。
　［４］　前記ＬＢが２．５ｍｍ以上である、［１］～［３］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイス。
　［５］　前記有機層構造部は、２以上の有機層で構成される、［１］～［４］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイス。
　［６］　前記有機層構造部は、第１有機層と、前記第１有機層上に配置される第２有機層とを含み、
　前記第１有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ１）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢ１を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ１）と、を有し、
　前記第２有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ２）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢ２を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ２）と、を有し、
　前記ＬＢ２が前記ＬＢ１と同じか又はそれよりも大きい、［５］に記載の有機ＥＬデバイス。
　［７］　前記バンクの少なくとも上面が撥液性を有する、［１］～［６］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイス。
　［８］　前記バンクが単層構造である、［１］～［７］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイス。
　［９］　前記発光領域は、少なくとも１辺の長さが１ｍｍ以上である方形形状を有する、［１］～［８］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイス。
　［１０］　発光領域を有する有機ＥＬデバイスの製造方法であって、
　前記発光領域を規定するための、厚み及び幅を有するバンクを基板上に形成する工程と、
　前記バンクの少なくとも上面の撥液性を制御する工程と、
　前記バンクが形成された基板上に、塗布法により有機層構造部を形成する工程と、
を含み、
　前記有機層構造部は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢを有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ）とを有するように、かつ、前記部分（Ａ）における最大膜厚をＴＡＳとし、前記部分（Ａ）における中心膜厚をＴＡＣとするとき、下記式：
　ＴＡＳ／ＴＡＣ≦１．１
を満たす部分を含むように形成される、有機ＥＬデバイスの製造方法。
　［１１］　前記有機層構造部は、前記部分（Ｂ）における最大膜厚ＴＢＳが前記部分（Ａ）における中心膜厚ＴＡＣよりも大きくなるように形成される、［１０］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
　［１２］　前記有機層構造部は、前記ＬＢが２．５ｍｍ以上となるように形成される、［１０］又は［１１］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
　［１３］　前記有機層構造部は、２以上の有機層で構成される、［１０］～［１２］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
　［１４］　有機層構造部を形成する工程は、
　前記バンクが形成された基板上に、第１有機層形成用の塗布液を塗布して第１塗布膜を形成する工程と、
　前記第１塗布膜を乾燥させて第１有機層を形成する工程と、
　前記第１有機層上に、第２有機層形成用の塗布液を塗布して第２塗布膜を形成する工程と、
　前記第２塗布膜を乾燥させて第２有機層を形成する工程と、
を含み、
　前記第１有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ１）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢ１を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ１）と、を有するように形成され、
　前記第２有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ２）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢ２を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ２）と、を有するように、かつ、前記ＬＢ２が前記ＬＢ１と同じか又はそれよりも大きくなるように形成される、［１３］に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
　［１５］　前記撥液性を制御する工程は、前記バンクの少なくとも上面の前記第１有機層形成用の塗布液に対する接触角を１０度未満にする工程を含む、［１０］～［１４］のいずれかに記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
　発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供することができる。
本発明に係る有機ＥＬデバイスが有することができるバンク付き基板の一例を示す概略平面図である。 本発明に係る有機ＥＬデバイスの一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である。 本発明に係る有機ＥＬデバイスの他の一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である。
　以下、実施形態を示しながら本発明について説明する。同一の要素には同一符号を付する。重複する説明は省略する。図面の寸法比率は、説明のものと必ずしも一致していない場合がある。
　＜有機ＥＬデバイス＞
　本発明に係る有機ＥＬデバイス（以下、単に「有機ＥＬデバイス」ともいう。）は、基板と、該基板上に配置されるバンクと、有機層構造部とを含む。バンクは、有機ＥＬデバイスの発光領域を規定するものであり、該発光領域を取り囲むように基板上に配置される。有機ＥＬデバイスの発光領域とは、電圧の印加によって発光する二次元的な区域のうち、上記バンクによって取り囲まれた区域を意味する。
　有機ＥＬデバイスは、発光領域を１つのみ有していてもよいし、２以上有していてもよい。
　例えば、２以上の発光領域は、基板上に二次元配列（又はマトリックス状）に配置されていてもよい。各列における発光領域の間の間隔、各行における発光領域の間の間隔、発光領域の配置例及び発光領域の数等は、有機ＥＬデバイスの仕様等に応じて適宜設定される。
　有機ＥＬデバイスは、トップエミッション型のデバイスでもよいし、ボトムエミッション型のデバイスでもよい。
　有機ＥＬデバイスの発光領域には、発光を生じさせるための構造部である発光部が設けられている。発光部は、少なくとも、基板側から順に、第１電極（例えば、陽極）と、有機層構造部と、第２電極（例えば、陰極）とを含む。有機層構造部は、有機層で構成され、１層又は２層以上の有機層を含んでいてもよい。有機層構造部は、有機ＥＬデバイスの発光に寄与する層である。
　有機ＥＬデバイスの構成及び有機ＥＬデバイスの構成要素についてより詳細に説明する。
　（１）基板
　図１は、本発明に係る有機ＥＬデバイスが有することができるバンク付き基板の一例を示す概略平面図である。図１に示されるバンク付き基板１０は、基板１１と、第１電極１２（例えば、陽極）と、バンク１３とを有する。
　基板１１は、第１電極１２及びバンク１３を支持する支持体であり、例えば、可視光（波長４００ｎｍ～８００ｎｍの光）に対して透光性を有する板状の透明部材である。
　基板１１の厚みは、例えば３０μｍ以上１１００μｍ以下である。基板１１は、例えばガラス基板又はシリコン基板等のリジッド基板であってもよいし、プラスチック基板又は高分子フィルム等の可撓性基板であってもよい。可撓性基板を用いることで、有機ＥＬデバイスが可撓性を有し得る。
　基板１１には発光部を駆動させるための回路が予め形成されていてもよい。基板１１には、例えばＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）やキャパシタ等があらかじめ形成されていてもよい。
　（２）第１電極
　第１電極１２は、例えば陽極である。ただし、第１電極１２が陰極であり、第２電極が陽極であってもよい。
　第１電極１２の平面視形状（基板１１の厚み方向から見た形状）としては、例えば、長方形、正方形等の四角形、他の多角形、及び、四角形や他の多角形において角部に丸味を付けた形状等が挙げられる。第１電極１２の平面視形状は、円形又は楕円形でもよい。第１電極１２の平面視形状は、四角形や他の多角形において、少なくとも１辺を弧状（例えば円弧状）にした形状でもよい。
　本明細書において、平面視とは、層等の厚み方向から見ることを意味する。
　第１電極１２は、金属酸化物、金属硫化物又は金属等からなる薄膜を用いることができ、具体的には、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム錫酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｚｉｎｃ　Ｏｘｉｄｅ：略称ＩＺＯ）、金、白金、銀、又は銅等からなる薄膜が用いられる。
　有機ＥＬデバイスが基板１１側から光を出射する場合、光透過性を示す第１電極１２が用いられる。
　第１電極１２の厚みは、光透過性、電気伝導度等を考慮して適宜決定することができる。第１電極１２の厚みは、例えば１０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以上１μｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。
　一実施形態において、第１電極１２と基板１１との間には、絶縁層等で構成される層が設けられてもよい。絶縁層等で構成される層を基板１１の一部とみなすこともできる。
　（３）バンク
　バンク１３は、有機ＥＬデバイスの発光領域１４を規定するための厚み及び幅を有する隔壁であり、換言すれば、発光領域１４を取り囲むように配置される厚み及び幅を有する隔壁である。バンク１３は、基板１１上、より具体的には、基板１１上に形成された第１電極１２上に配置される。この際、第１電極１２と第２電極との短絡防止の観点から、図１に示されるように、第１電極１２の周縁部の少なくとも一部の直上に配置されるようにバンク１３を配置することが好ましい。
　バンク１３は、基板１１の表面上において予め設定されている発光領域１４を区画するために、開口を有するようなパターンで基板１１上に設けられる。
　図１に示される例において、バンク１３の平面視形状は四角枠形状を有しているが、これに限定されるものではなく、バンク１３が有する開口形状及び外形形状（いずれも平面視形状）は、所望する発光領域１４の形状や基板１１の形状（いずれも平面視形状）等に応じて適宜選択される。
　バンク１３が有する開口形状（すなわち、発光領域１４の形状）は通常、その面積が１ｍｍ２以上であり、好ましくは５ｍｍ２以上であり、また、通常１ｍ２以下である。
　一実施形態において、バンク１３が有する開口形状（すなわち、発光領域１４の形状）は、図１に示されるように、正方形、長方形等の方形形状であり、かつ、その少なくとも１辺の長さは１ｍｍ以上であり、２以上の辺又はすべての辺の長さが１ｍｍ以上であってもよい。辺の長さは、５ｍｍ以上であってもよく、１０ｍｍ以上であってもよく、さらには２０ｍｍ以上であってもよい。バンク１３が有する開口形状が方形形状である場合において、１辺の長さは、通常１０００ｍｍ以下である。
　発光領域１４の面積が大きいほど、発光輝度のムラが視認されやすい傾向にあることから、本発明は、少なくとも１辺の長さが１ｍｍ以上である場合のように発光領域１４の面積が大きい場合にとりわけ有利である。
　バンク１３は、例えば、１種類以上の樹脂組成物から構成することができる。
　後述する塗布法によって有機層構造部を構成する第１有機層等の有機層を形成する場合、バンク１３は、該バンクによって発光領域１４を好適に規定（区画）できるようにする観点、及びバンク１３よりも外側に有機層が濡れ広がらないようにする観点から、好ましくは、少なくともその上面（基板１１とは反対側の面）が撥液性を有しており、より好ましくは、その上面及びその側面が撥液性を有している。
　バンク１３の少なくとも上面が撥液性を有していることは、バンク１３の少なくとも上面に接するように形成した塗布膜を加熱して有機層を形成する乾燥工程において、塗布膜の収縮ムラを抑制するうえでも有利である。
　本明細書における撥液性とは、塗布法で使用する有機層形成用の塗布液に対する撥液性である。「有機層形成用の塗布液に対する撥液性」における有機層は通常、第１電極１２上に最初に形成される有機層（最も第１電極１２寄りの有機層）、すなわち、第１有機層である。
　少なくともその上面が撥液性を有するバンク１３としては、撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等であるバンク、熱可塑性樹脂からなる層、感光性樹脂組成物の硬化物からなる層又は熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等の少なくとも上面に撥液処理を施してなるバンク等が挙げられる。
　撥液処理としては、フッ素樹脂等を含有する撥液剤を塗布する処理、撥液剤の塗布後に、塗布面に紫外線等の活性エネルギー線を照射する処理等が挙げられる。
　ＵＶオゾン処理によってバンク１３の少なくとも上面の撥液性を制御してもよい。
　撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層の少なくとも上面に上記撥液処理をさらに施してもよい。
　発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供するうえでより有利であることから、上記塗布液に対するバンク１３の上面の接触角は、１０度未満であることが好ましく、９度以下であることがより好ましく、８度未満であることがさらに好ましい。同様の理由で、上記塗布液に対するバンク１３の側面の接触角は、１０度未満であることが好ましく、９度以下であることがより好ましく、８度未満であることがさらに好ましい。
　上記接触角は、後述する［実施例］に記載の方法に従って測定される。
　バンク１３は、単層構造であってもよいし、厚み方向に２以上の層を積層した多層構造をあってもよい。バンク１３の作製がより容易であることから、バンク１３は、好ましくは単層構造である。
　バンク１３の断面形状は特に制限されず、例えば、バンク１３の発光領域１４に望む側面は、基板１１の表面に対して直交していてもよいし、鋭角をなすように傾斜していてもよい（順テーパ型）。
　バンク１３の厚み（高さ）は、例えば０．３μｍ以上１０μｍ以下程度であり、好ましくは０．５μｍ以上５μｍ以下である。
　バンク１３の幅（図１に示されるＷ）は、例えば０．５ｍｍ以上２０ｍｍ以下程度であり、好ましくは１ｍｍ以上１０ｍｍ以下である。
　バンク１３の外形形状（平面視形状）が方形形状である場合、その１辺の長さは、例えば０．５ｍｍ以上１０００ｍｍ以下程度であり、好ましくは１ｍｍ以上１０００ｍｍ以下程度である。
　バンク付き基板１０は、例えば、基板１１に予め設定される発光領域１４上に第１電極１２を形成した後、バンク１３を形成することで製造することができる。
　バンク１３は、例えば、塗布法を利用して形成することができる。具体的には、バンク１３の材料を含む塗布液を、第１電極１２が形成された基板１１に塗布してなる塗布膜を乾燥させ、必要に応じて硬化処理を施した後、その塗布膜を所定の形状にパターニングすることで形成できる。塗布法としては、例えば、スピンコート法、スリットコート法等が挙げられる。バンク１３の材料を含む塗布液の溶媒は、バンク１３の材料を溶解できる溶媒であればよい。
　バンク１３は、例えばインクジェット塗布法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、フレキソ印刷法、ディスペンサー塗布法、ノズルコート法等によりパターニングされた塗布膜を形成し、必要に応じて硬化処理を施す直描方式によって形成することもできる。
　（４）有機層構造部
　上述のように、有機ＥＬデバイスの発光領域には発光部が設けられ、発光部は、少なくとも、第１電極（例えば、陽極）と、有機層構造部と、第２電極（例えば、陰極）とを含む。第１電極と第２電極との間に、有機層構造部は、有機層で構成され、１層又は２層以上の有機層を含んでいてもよく、通常は、２層以上の有機層が設けられる。
　本明細書において、第１有機層とは、第１電極１２上に最初に形成される有機層（最も第１電極１２寄りの有機層）を意味する。第１有機層は、好ましくは正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層又は電子注入層であり、より好ましくは正孔注入層又は発光層であり、さらに好ましくは正孔注入層である。
　第１有機層が正孔注入層、電子輸送層又は電子注入層である場合、発光部は、第１有機層以外の有機層として、少なくとも発光層をさらに有する。
　第１有機層が発光層である場合、発光部は有機層として第１有機層のみを有していてもよいが、他の有機層をさらに含むことが好ましい。
　正孔注入層は、陽極（例えば、第１電極１２）から発光層への正孔注入効率を改善する機能を有する有機層である。
　正孔注入層の材料は公知の正孔注入材料が用いられ得る。正孔注入材料としては、例えば、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム及び酸化アルミニウム等の酸化物；フェニルアミン化合物；スターバースト型アミン化合物；フタロシアニン化合物；アモルファスカーボン；ポリアニリン；ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体が挙げられる。
　発光層は、所定の波長の光を発光する機能を有する有機層である。
　発光層は通常、主として蛍光及び／又はりん光を発光する有機物、あるいは、該有機物とこれを補助するドーパントとから形成される。ドーパントは、例えば発光効率の向上や、発光波長を変化させるために加えられる。
　発光層に含まれる有機物は、低分子化合物でも高分子化合物でもよい。発光層を構成する発光材料としては、例えば、下記の色素系材料、金属錯体系材料、高分子系材料、ドーパント材料が挙げられる。
　色素系の発光材料としては、例えば、シクロペンダミン若しくはその誘導体、テトラフェニルブタジエン若しくはその誘導体、トリフェニルアミン若しくはその誘導体、オキサジアゾール若しくはその誘導体、ピラゾロキノリン若しくはその誘導体、ジスチリルベンゼン若しくはその誘導体、ジスチリルアリーレン若しくはその誘導体、ピロール若しくはその誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン若しくはその誘導体、ペリレン若しくはその誘導体、オリゴチオフェン若しくはその誘導体、オキサジアゾールダイマー若しくはその誘導体、ピラゾリンダイマー若しくはその誘導体、キナクリドン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体等が挙げられる。
　金属錯体系の発光材料としては、例えば、Ｔｂ、Ｅｕ、Ｄｙ等の希土類金属、又はＡｌ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｐｔ、Ｉｒ等を中心金属に有し、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を配位子に有する金属錯体が挙げられる。金属錯体としては、例えば、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミニウムキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、フェナントロリンユーロピウム錯体等が挙げられる。
　高分子系の発光材料としては、例えば、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリパラフェニレン若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、ポリアセチレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体の他、上記色素材料、金属錯体材料を高分子化した材料等が挙げられる。
　上記発光材料のうち、赤色に発光する材料（以下、「赤色発光材料」ともいう。）としては、例えば、クマリン若しくはその誘導体、チオフェン環化合物、及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。赤色発光材料としては、特開２０１１－１０５７０１号公報に開示されている材料も挙げられる。
　緑色に発光する材料（以下、「緑色発光材料」ともいう。）としては、例えば、キナクリドン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体、及びそれらの重合体、ポリパラフェニレンビニレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。緑色発光材料としては、特開２０１２－０３６３８８号公報に開示されている材料も挙げられる。
　青色に発光する材料（以下、「青色発光材料」ともいう。）としては、例えば、ジスチリルアリーレン若しくはその誘導体、オキサジアゾール若しくはその誘導体、及びそれらの重合体、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリパラフェニレン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。青色発光材料としては、特開２０１２－１４４７２２号公報に開示されている材料も挙げられる。
　ドーパント材料としては、例えば、ペリレン若しくはその誘導体、クマリン若しくはその誘導体、ルブレン若しくはその誘導体、キナクリドン若しくはその誘導体、スクアリウム若しくはその誘導体、ポルフィリン若しくはその誘導体、スチリル色素、テトラセン若しくはその誘導体、ピラゾロン若しくはその誘導体、デカシクレン若しくはその誘導体、フェノキサゾン若しくはその誘導体等が挙げられる。
　発光層の厚みは、用いる材料によって最適値が異なり、求められる特性及び層の形成し易さ等を勘案して適宜決定される。発光層の厚みは、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
　電子注入層は、陰極から発光層への電子注入効率を改善する機能を有する層である。
　電子注入層には公知の電子注入材料を用いることができる。
　電子注入層の厚みは、用いる材料等によっても異なるが、例えば１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。
　（５）有機層構造部の配置構成及び膜厚
　有機層構造部は、発光部を形成する要素であり、基本的には、バンク１３によって規定された発光領域１４（バンク１３の開口部）内に形成されるものであるが、本発明は、有機層構造部が発光領域１４内に配置される部分（Ａ）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ）とを有することを特徴とする。
　図２は、本発明に係る有機ＥＬデバイスの一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である。
　図２に示される例において、有機層構造部１は、発光領域１４内に配置される部分（Ａ）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ）とを有する。有機層構造部１が発光領域１４を越えてバンク１３上にまで延在している部分、すなわち部分（Ｂ）の長さは、バンク１３の幅Ｗ方向における長さで、長さＬＢであり、ＬＢはゼロより大きく、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。
　塗布法等によって有機層構造部１を形成する場合、有機層構造部１は、バンク１３の発光領域１４側端部近傍において、厚みが最も大きい部分を有する。
　本明細書において、有機層構造部１の部分（Ａ）における最大膜厚を「ＴＡＳ」という。部分（Ａ）が最大膜厚ＴＡＳを有する位置は、通常、バンク１３の発光領域１４側端部より約１００μｍの位置から、発光領域１４側端部より約１０００μｍの位置までの範囲に存在する。
　本明細書において、有機層構造部１の部分（Ａ）における中心膜厚を「ＴＡＣ」という。中心膜厚ＴＡＣとは、部分（Ａ）の中心点での膜厚をいう。
　部分（Ｂ）を有するように、すなわち、端部がバンク１３上に位置するように有機層構造部１を形成することにより、ＴＡＳとＴＡＣとの比ＴＡＳ／ＴＡＣを１に近づけることができ、これにより、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減することができる。
　発光輝度のムラを低減させる観点から、比ＴＡＳ／ＴＡＣは、１．０以上１．１以下であり、好ましくは１．０以上１．０５以下であり、より好ましくは１．０である。
　部分（Ｂ）を有する有機層構造部１を形成するための方法としては、有機層構造部１を構成する有機層を形成するための塗布液を用いた塗布法が好ましく、より好ましくはインクジェット印刷法である。
　発光輝度のムラを低減させる観点から、長さＬＢは、好ましくは２．５ｍｍ以上であり、より好ましくは３ｍｍ以上である。
　長さＬＢを上記範囲にすることによって、上記数値範囲のＴＡＳ／ＴＡＣを実現させやすくなる。
　発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、有機層構造部１は、できるだけ多くの端部がバンク１３上に位置していることが好ましく、有機層構造部１の全ての端部がバンク１３上に位置していることがより好ましい。
　本明細書において、有機層構造部１の部分（Ｂ）における最大膜厚を「ＴＢＳ」という。
　図２を参照して、有機層構造部１の部分（Ｂ）における最大膜厚ＴＢＳは、好ましくは、部分（Ａ）における中心膜厚ＴＡＣよりも大きい。このような厚み関係は、有機層構造部１の形成に塗布法を採用したうえで、塗布液の濃度、粘度及び塗布膜乾燥方法等を調整することによって実現することが可能である。
　上記厚み関係を充足することは、発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供するうえで有利である。
　有機層構造部１の部分（Ａ）における中心膜厚ＴＡＣ、部分（Ａ）の最大膜厚ＴＡＳ、及び、部分（Ｂ）における最大膜厚ＴＢＳは、作製した有機ＥＬデバイスを注意深く切断することによって露出した断面について、走査型透過電子顕微鏡を用いて画像を取得し、この画像から任意で選択した１点について、上述の定義に従って実測する。
　部分（Ｂ）の長さＬＢ（後述するＬＢ１、ＬＢ２及びＬＢ３についても同様）は、形成した有機層構造部１（又は有機層）について、精密測長機を用いて測定される。
　有機層構造部１の部分（Ａ）における中心膜厚ＴＡＣの値は、例えば１０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは５０ｎｍ以上５μｍ以下である。
　（６）第１有機層
　第１有機層は、有機層構造部を構成する有機層であり、有機層構造部が２以上の有機層で構成される場合、これらの有機層のうち最も第１電極１２寄りに配置される有機層である。
　第１有機層は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、発光領域１４内に配置される部分（Ａ１）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ１）とを有することが好ましい。第１有機層が発光領域１４を越えてバンク１３上にまで延在している部分、すなわち部分（Ｂ１）の長さは、バンク１３の幅Ｗ方向における長さで、長さＬＢ１であり、ＬＢ１はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。
　発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第１有機層は、できるだけ多くの端部がバンク１３上に位置していることが好ましく、第１有機層の全ての端部がバンク１３上に位置していることがより好ましい。
　部分（Ｂ１）を有する第１有機層を形成するための方法としては、第１有機層形成用の塗布液を用いた塗布法が好ましく、より好ましくはインクジェット印刷法である。
　第１有機層の部分（Ａ１）における中心膜厚の値は、第１有機層の機能が発現される限り特に制限されず、その機能に応じた厚みであり得る。中心膜厚の値は、第１有機層の材料によっても最適値が異なり得る。
　例えば第１有機層が正孔注入層である場合、その中心膜厚は、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
　例えば第１有機層が発光層である場合、その中心膜厚は、例えば１ｎｍ以上２μｍ以下であり、好ましくは５ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。
　例えば第１有機層が電子注入層である場合、その中心膜厚は、例えば１ｎｍ以上５０ｎｍ以下である。
　（７）第１有機層以外の他の有機層
　発光領域１４に形成される有機層構造部１は、第１有機層以外の他の有機層を含むことができる。第１有機層以外の他の有機層としては、第１有機層上（第１有機層における第１電極１２側とは反対側）に隣接して設けられる第２有機層、第２有機層上（第２有機層における第１電極１２側とは反対側）に隣接して設けられる第３有機層等が挙げられる。
勿論、有機層構造部１は、４つ以上の有機層を含んでいてもよい。
　有機層として第１有機層のみを有する有機層構造部の層構成、及び、第１有機層と第１有機層以外の他の有機層とを含む有機層構造部の層構成としては、例えば、下記の層構成が挙げられる。
（ａ）第１電極／発光層／第２電極
（ｂ）第１電極／正孔注入層／発光層／第２電極
（ｃ）第１電極／正孔注入層／発光層／電子注入層／第２電極
（ｄ）第１電極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／第２電極
（ｅ）第１電極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／第２電極
（ｆ）第１電極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／第２電極
（ｇ）第１電極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／第２電極（ｈ）第１電極／発光層／電子注入層／第２電極
（ｉ）第１電極／発光層／電子輸送層／電子注入層／第２電極
　ここで、記号「／」は、記号「／」を挟む各層が隣接して積層されていることを示す。
　第１電極は例えば陽極であり、第２電極は例えば陰極である。
　正孔輸送層は、陽極又は正孔注入層等から発光層への正孔注入を改善する機能を有する層である。
　正孔輸送層の材料には、公知の正孔輸送入材料が用いられ得る。正孔輸送層の材料としては、例えば、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン若しくはその誘導体、ピラゾリン若しくはその誘導体、アリールアミン若しくはその誘導体、スチルベン若しくはその誘導体、トリフェニルジアミン若しくはその誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ－フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、及びポリ（２，５－チエニレンビニレン）若しくはその誘導体等が挙げられる。また、特開２０１２－１４４７２２号公報に開示されている正孔輸送材料も挙げることができる。
　第２有機層が正孔輸送層である場合、第２有機層の中心膜厚（第２有機層の中心での膜厚）は、用いる材料等によっても異なるが、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。第３有機層が正孔輸送層である場合も同様である。
　電子輸送層は、陰極又は電子注入層等からの電子注入を改善する機能を有する層である。電子輸送層には公知の電子輸送材料を用いることができる。
　第２有機層が電子輸送層である場合、第２有機層の中心膜厚（第２有機層の中心での膜厚）は、用いる材料等によっても異なるが、例えば１ｎｍ以上１μｍ以下であり、好ましくは２ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。第３有機層が電子輸送層である場合も同様である。
　図３は、本発明に係る有機ＥＬデバイスの他の一例におけるバンク周辺を一部拡大して示す概略断面図である。図３に示される有機ＥＬデバイスは、第１有機層１ａ及び第２有機層１ｂの２層構造からなる有機層構造部１を含む。
　図３に示されるように、有機層構造部１が第１有機層１ａと第１有機層１ａ上に配置される第２有機層１ｂとを含む場合、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第２有機層１ｂは、発光領域１４内に配置される部分（Ａ２）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ２）とを有することが好ましい。第２有機層１ｂが発光領域１４を越えてバンク１３上にまで延在している部分、すなわち部分（Ｂ２）の長さは、バンク１３の幅Ｗ方向における長さで、長さＬＢ２であり、ＬＢ２はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。
　発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬＢ２は、第１有機層１ａの部分（Ｂ１）の長さＬＢ１と同じか又はそれよりも大きいことが好ましい。
　長さＬＢ２と長さＬＢ１との差は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上１ｍｍ以下である。
　図３に示される有機ＥＬデバイスにおいて、第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬＢ２は、図２で示される有機層構造部１の部分（Ｂ）の長さＬＢと同じである。
　発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第２有機層１ｂは、できるだけ多くの端部がバンク１３上に位置していることが好ましく、第２有機層１ｂの全ての端部がバンク１３上に位置していることがより好ましい。
　図示しないが、有機層構造部１が第２有機層１ｂ上に配置される第３有機層をさらに含む場合についても同様であり、この場合、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第３有機層は、発光領域１４内に配置される部分（Ａ３）と、バンク１３上に配置される部分（Ｂ３）とを有することが好ましい。第３有機層が発光領域１４を越えてバンク１３上にまで延在している部分、すなわち部分（Ｂ３）の長さは、バンク１３の幅Ｗ方向における長さで、長さＬＢ３であり、ＬＢ３はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。
　発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第３有機層の部分（Ｂ３）の長さＬＢ３は、第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬＢ２と同じか又はそれよりも大きいことが好ましい。
　長さＬＢ３と長さＬＢ２との差は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上１ｍｍ以下である。
　発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第３有機層は、できるだけ多くの端部がバンク１３上に位置していることが好ましく、第３有機層の全ての端部がバンク１３上に位置していることがより好ましい。
　有機層構造部１を構成する各有機層の膜厚や長さは、有機層構造部１の各種膜厚や長さと同様にして測定することができる。
　（８）第２電極
　第２電極は、例えば陰極である。
　陰極は、発光部に含まれる１又は２以上の有機層の上に設けられる。
　陰極の材料としては、仕事関数が小さく、発光層への電子注入が容易で、電気伝導度の高い材料が好ましい。有機ＥＬデバイスが陽極側から光を取り出す場合には、発光層から放射される光を陰極で陽極側に反射するために、陰極の材料としては可視光反射率の高い材料が好ましい。
　具体的には、陰極には、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属又は周期表の１３族金属等を用いることができる。陰極として、導電性金属酸化物又は導電性有機物等からなる透明導電性陰極を用いることもできる。
　陰極の厚みは、電気伝導度、耐久性を考慮して適宜設定される。陰極の厚みは、例えば１０ｎｍ以上１０μｍ以下であり、好ましくは２０ｎｍ以上１μｍ以下であり、より好ましくは５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である。
　有機ＥＬデバイスが２以上の発光領域１４（したがって、２以上の発光部）を有する場合、発光領域ごとに陰極を設けてもよいし、バンク１３を跨いで、すべての発光領域１４に共通の陰極を１つ設けてもよい。
　有機ＥＬデバイスの第２電極上には、通常、封止基板が設けられる。その他、有機ＥＬデバイスは、例えば、有機ＥＬ照明デバイスや有機ＥＬディスプレイが備える公知の他の要素を備え得る。
　＜有機ＥＬデバイスの製造方法＞
　本発明の一実施形態に係る有機ＥＬデバイスの製造方法は、下記の工程を含む。
　発光領域１４を規定するための、厚み及び幅を有するバンク１３を基板１１上に形成する工程（バンク形成工程）、
　バンク１３の上面の撥液性を制御する工程（撥液性制御工程）、
　バンク１３が形成された基板１１上に、塗布法により有機層構造部を形成する工程（有機層構造部形成工程）。
　本発明に係る製造方法は、上記本発明に係る有機ＥＬデバイスを製造するための方法として好適である。
　有機層構造部形成工程は通常、上述の第１有機層１ａを形成する工程を含む。第１有機層１ａは、下記の工程によって形成することができる。
　第１有機層形成用の塗布液を塗布して第１塗布膜を形成する工程（第１塗布工程）、及び
　第１塗布膜を乾燥させて第１有機層１ａを形成する工程（第１乾燥工程）。
　有機層構造部１が第１有機層１ａ上に配置される第２有機層１ｂを含む場合、上記製造方法は、第１乾燥工程の後に、下記の工程をさらに含む。
　第１有機層１ａ上に、第２有機層形成用の塗布液を塗布して第２塗布膜を形成する工程（第２塗布工程）、及び
　第２塗布膜を乾燥させて第２有機層１ｂを形成する工程（第２乾燥工程）。
　有機層構造部１が第２有機層１ｂ上に配置される第３有機層を含む場合、上記製造方法は、第２乾燥工程の後に、下記の工程をさらに含む。
　第２有機層１ｂ上に、第３有機層形成用の塗布液を塗布して第３塗布膜を形成する工程（第３塗布工程）、及び
　第３塗布膜を乾燥させて第３有機層を形成する工程（第３乾燥工程）。
　（１）バンク形成工程
　バンク形成工程は通常、例えば図１に示されるようなバンク付き基板１０を作製する工程である。バンク付き基板１０を構成する基板１１、第１電極１２及びバンク１３、並びに、バンク付き基板１０の作製方法については上述の記載が引用される。
　（２）撥液性制御工程
　上述のように、バンク１３によって発光領域１４を好適に規定（区画）できるようにする観点、及びバンク１３よりも外側に有機層が濡れ広がらないようにする観点から、バンク１３の少なくとも上面（基板１１とは反対側の面）は撥液性を有していることが好ましく、上面及び側面が撥液性を有していることがより好ましい。撥液性制御工程は、バンク１３の少なくとも上面の撥液性を調整する工程である。
　バンク１３の少なくとも上面が撥液性を有していることは、バンク１３の少なくとも上面に接するように形成した塗布膜を加熱して有機層を形成する乾燥工程において、塗布膜の収縮ムラを抑制するうえでも有利である。
　バンク１３の少なくとも上面の撥液性を調整（制御）する方法としては、撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等としてバンク１３を形成する方法、熱可塑性樹脂からなる層、感光性樹脂組成物の硬化物からなる層又は熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層等としてバンク１３を形成した後、バンク１３の少なくとも上面に撥液処理を施す方法が挙げられる。
　前者の場合、撥液性制御工程は、バンク形成工程の一部である。
　後者の場合における撥液処理としては、フッ素樹脂等を含有する撥液剤を塗布する処理や、撥液剤の塗布後に、塗布面に紫外線等の活性エネルギー線を照射する処理等が挙げられる。
　ＵＶオゾン処理によってバンク１３の少なくとも上面の撥液性を制御してもよい。
　撥液剤を含む熱可塑性樹脂組成物からなる層、撥液剤を含む感光性樹脂組成物の硬化物からなる層、又は撥液剤を含む熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる層の少なくとも上面に上記撥液処理をさらに施してもよい。
　発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供するうえでより有利であることから、撥液性制御工程は、上記塗布液に対するバンク１３の上面の接触角（＜有機ＥＬデバイス＞の項を参照）が好ましくは１０度未満となるように、より好ましくは９度以下となるように、さらに好ましくは８度未満となるようにバンク１３上面の撥液性を調整する工程を含む。好ましくは、この撥液性制御工程によって、上記塗布液に対するバンク１３の側面の接触角が好ましくは１０度未満となるように、より好ましくは９度以下となるように、さらに好ましくは８度未満となるようにバンク１３側面の撥液性が調整される。
　上記接触角は通常、第１有機層形成用の塗布液に対する接触角である。
　（３）有機層構造部形成工程
　有機層構造部１は、塗布液を塗布した後、塗膜を乾燥させる塗布法によって形成することができる。
　塗布液の塗布法としては、例えば、インクジェット印刷法が挙げられる。ただし、バンク１３の開口部に層を形成可能な塗布法であれば他の公知の塗布法、例えば、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイヤーバーコート法、スプレーコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、又はノズルプリント法を用いてもよい。
　塗布液に含まれる溶媒は、塗布液に含まれる機能材料を溶解できるものである限り特に制限されないが、例えば、クロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン等の塩化物溶媒；テトラヒドロフラン、ブチルセロソルブ等のエーテル溶媒；トルエン、キシレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート、乳酸ブチル等のエステル溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、２－エチルヘキサノール等のアルコール溶媒等が挙げられる。
　溶媒は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　塗布膜の乾燥方法は、第１塗布膜を乾燥できる限り特に限定されないが、真空乾燥、加熱乾燥等が挙げられる。
　有機層構造部１は、２以上の有機層で構成されてもよい。この場合、上述の塗布及び乾燥を繰り返すことによって２以上の有機層を形成する。
　有機層構造部１は、発光領域１４内に配置される部分（Ａ）と、バンク１３の幅Ｗ方向における長さＬＢを有してバンク１３上に配置される部分（Ｂ）とを有するように実施される。長さＬＢはゼロより大きく、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。
　部分（Ｂ）を有するように、すなわち、端部がバンク１３上に位置するように有機層構造部１を形成することにより、ＴＡＳとＴＡＣとの比ＴＡＳ／ＴＡＣを１に近づけることができ、これにより、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減することができる。
　発光輝度のムラを低減させる観点から、比ＴＡＳ／ＴＡＣは、１．０以上１．１以下であり、好ましくは１．０以上１．０５以下であり、より好ましくは１．０である。
　発光輝度のムラを低減させる観点から、長さＬＢは、好ましくは２．５ｍｍ以上であり、より好ましくは３ｍｍ以上である。
　長さＬＢを上記範囲にすることによって、上記数値範囲のＴＡＳ／ＴＡＣを実現させやすくなる。
　発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、有機層構造部１は、できるだけ多くの端部がバンク１３上に位置するように形成されることが好ましく、全ての端部がバンク１３上に位置するように形成されることがより好ましい。
　有機層構造部１は、部分（Ｂ）における最大膜厚ＴＢＳが部分（Ａ）における中心膜厚ＴＡＣよりも大きくなるように形成されることが好ましい。このような厚み関係は、塗布液を用いた塗布法において、塗布液の濃度、粘度及び塗布膜乾燥方法等を調整することによって実現することが可能である。
　上記厚み関係を充足することは、発光輝度のムラが低減された発光領域を有する有機ＥＬデバイスを提供するうえで有利である。
　（４）第１有機層の形成
　バンク１３が形成された基板１１上、より具体的には、バンク１３の開口部（発光領域１４）に第１有機層形成用の塗布液を塗布して第１塗布膜を形成し（第１塗布工程）、次いで第１塗布膜を乾燥させることによって（第１乾燥工程）、第１有機層１ａを形成することができる。
　第１有機層形成用の塗布液は、正孔注入材料を含む塗布液、発光材料を含む塗布液、電子注入材料を含む塗布液等であり得る。塗布液の塗布法及び塗布膜の乾燥方法の例は上述のとおりである。
　発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第１塗布工程は、第１乾燥工程を経て得られる第１有機層１ａが、発光領域１４内に配置される部分（Ａ１）と、バンク１３の幅Ｗ方向における長さＬＢ１を有してバンク１３上に配置される部分（Ｂ１）とを有するように実施されることが好ましい。長さＬＢ１はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。
　（５）第１有機層以外の他の有機層の形成
　第１有機層１ａ上に、第２有機層形成用の塗布液を塗布して第２塗布膜を形成し（第２塗布工程）、次いで第２塗布膜を乾燥させることによって（第２乾燥工程）、第２有機層１ｂを形成することができる。
　第２有機層形成用の塗布液は、正孔輸送材料を含む塗布液、発光材料を含む塗布液、電子輸送材料を含む塗布液、電子注入材料を含む塗布液等であり得る。
　第２有機層形成用の塗布液に含まれる溶媒の例、塗布液の塗布法及び塗布膜の乾燥方法の例は上述のとおりである。
　発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第２塗布工程は、第２乾燥工程を経て得られる第２有機層１ｂが、発光領域１４内に配置される部分（Ａ２）と、バンク１３の幅Ｗ方向における長さＬＢ２を有してバンク１３上に配置される部分（Ｂ２）とを有するように実施されることが好ましい。長さＬＢ２はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。
　発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬＢ２は、第１有機層１ａの部分（Ｂ）の長さＬＢ１と同じか又はそれよりも大きいことが好ましい。
　長さＬＢ２と長さＬＢ１との差は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上１ｍｍ以下である。
　発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第２塗布工程は、第２乾燥工程を経て得られる第２有機層１ｂにおけるできるだけ多くの端部がバンク１３上に位置するように実施されることが好ましく、第２有機層１ｂの全ての端部がバンク１３上に位置するように実施されることがより好ましい。
　第２有機層１ｂ上に、第３有機層形成用の塗布液を塗布して第３塗布膜を形成し（第３塗布工程）、次いで第３塗布膜を乾燥させることによって（第３乾燥工程）、第３有機層を形成することができる。
　第３有機層形成用の塗布液は、発光材料を含む塗布液、電子輸送材料を含む塗布液、電子注入材料を含む塗布液、正孔輸送材料を含む塗布液、正孔注入材料を含む塗布液等であり得る。
　第３有機層形成用の塗布液に含まれる溶媒の例、塗布液の塗布法及び塗布膜の乾燥方法の例は上述のとおりである。
　発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第３塗布工程は、第３乾燥工程を経て得られる第３有機層が、発光領域１４内に配置される部分（Ａ３）と、バンク１３の幅Ｗ方向における長さＬＢ３を有してバンク１３上に配置される部分（Ｂ３）とを有するように実施されることが好ましい。長さＬＢ３はゼロより大きく、また、好ましくはバンク１３の幅Ｗよりも小さい。
　発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、第３有機層の部分（Ｂ３）の長さＬＢ３は、第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬＢ２と同じか又はそれよりも大きいことが好ましい。
　長さＬＢ３と長さＬＢ２との差は、発光領域１４内での発光輝度のムラを低減する観点から、好ましくは０ｍｍ以上１ｍｍ以下である。
　発光領域１４内のできるだけ広い領域にわたって発光輝度のムラを低減する観点から、第３塗布工程は、第３乾燥工程を経て得られる第３有機層におけるできるだけ多くの端部がバンク１３上に位置するように実施されることが好ましく、第３有機層の全ての端部がバンク１３上に位置するように実施されることがより好ましい。
　有機層構造部１が４以上の有機層を有する場合において、第４以降の有機層も、上記第１～第３有機層と同様にして形成することができる。
　所望の１又は２以上の有機層を形成した後、第２電極（例えば、陰極）を形成する工程を実施することにより有機ＥＬデバイスを得ることができる。第２電極の形成方法としては、例えば、第１電極１２の場合と同様の蒸着法及び塗布法が挙げられる。
　以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。
　下記項目についての測定方法は次のとおりである。
　〔ａ〕バンク上面及び側面の接触角
　第１有機層形成用の塗布液に対するバンク１３上面及び側面の接触角は、「オートディスペンサシステム　ＡＤ－３１Ｓ」（協和界面科学（株）製）を用いて、温度２３℃の環境下で測定した。
　〔ｂ〕膜厚及び層部分の長さ
　有機層構造部の中心膜厚及び最大膜厚は、上述の定義に従って測定した。具体的には、作製した有機ＥＬデバイスを注意深く切断することによって露出した断面について、走査型透過電子顕微鏡を用いて画像を取得し、この画像から任意で選択した１点について、上述の定義に従って中心膜厚及び最大膜厚を実測した。
　ＬＢ等の層部分の長さは、精密測長機を用いて測定した。下記の表１に示されるＬＢ、ＬＢ１、ＬＢ２、ＬＢ３及びＬＢ４の値は、正方形形状に形成された有機層構造部又は有機層の各辺の中心位置での測定値の平均（４点の平均）である。
　＜実験例１＞
　図１に示される構成のバンク付き基板１０を用意した。
　基板１１の外形形状は、１辺の長さが約５０ｍｍの正方形であった。基板１１の材質はガラスである。
　バンク１３の外形形状は１辺の長さが約３４ｍｍの正方形であり、バンク１３の開口形状は１辺の長さが約２２ｍｍの正方形であり、バンク１３の幅Ｗは約６ｍｍであった。バンク１３は、撥液剤を含有する感光性樹脂組成物を硬化させてなる層（単層構造）であり、該層を形成後、表面（上面及び側面）をＵＶオゾン処理することによって、第１有機層形成用の塗布液に対するバンク１３上面及び側面の接触角を約８度程度まで低下させた。
　バンク１３は、第１電極１２（陽極）の周縁部の一部の直上に配置されるように位置合わせされている。
　上記バンク付き基板１０の発光領域１４（バンク１３の開口部）に、次の手順で第１有機層１ａ（正孔注入層）を形成した。
　正孔注入材料を含有する第１有機層形成用の塗布液を用意した。
　この塗布液を用いてインクジェット印刷法により発光領域１４に第１塗布膜を形成し、次いで第１塗布膜をホットプレートで乾燥させることによって第１有機層１ａを形成した。
　第１有機層１ａの部分（Ｂ１）の長さＬＢ１を表１に示す。
　本実験例における第１有機層１ａは、その全ての端部がバンク１３上に位置していた。
　次に、第１有機層１ａ上に、次の手順で第２有機層１ｂ（正孔輸送層）を形成した。
　正孔輸送材料を含有する第２有機層形成用の塗布液を用意した。
　この塗布液を用いてインクジェット印刷法により第１有機層１ａ上に第２塗布膜を形成し、次いで第２塗布膜をホットプレートで乾燥させることによって第２有機層１ｂを形成した。
　第２有機層１ｂの部分（Ｂ２）の長さＬＢ２を表１に示す。
　本実験例における第２有機層１ｂは、その全ての端部がバンク１３上に位置していた。
　次に、第２有機層１ｂ上に、次の手順で第３有機層（発光層）を形成した。
　発光材料を含有する第３有機層形成用の塗布液を用意した。
　この塗布液を用いてインクジェット印刷法により第２有機層１ｂ上に第３塗布膜を形成し、次いで第３塗布膜をホットプレートで乾燥させることによって第３有機層を形成した。
　第３有機層の部分（Ｂ３）の長さＬＢ３を表１に示す。
　本実験例における第３有機層は、その全ての端部がバンク１３上に位置していた。
　次に、第３有機層上に第４有機層（電子輸送層）を形成した。電子輸送材料を含有する第４有機層形成用の塗布液を用意した。この塗布液を用いてインクジェット印刷法により第３有機層上に第４塗布膜を形成し、次いで第４塗布膜をホットプレートで乾燥させることによって第４有機層を形成した。
　次に、第４有機層上に電子注入層（無機層）及び陰極を蒸着法により形成して、窒素雰囲気下で封止することにより有機ＥＬデバイスを得た。
　第４有機層の部分（Ｂ４）の長さＬＢ４を表１に示す。
　＜実験例２、３＞
　第１～第４有機層の形成条件を調整することによって、有機層構造部の部分（Ａ）の中心膜厚ＴＡＣ及び最大膜厚ＴＡＳ、並びに、部分（Ｂ）の最大膜厚ＴＢＳ及び長さＬＢを表１に示されるとおりとしたこと以外は実験例１と同様にして有機ＥＬデバイスを作製した。
　（発光輝度のムラ評価）
　得られた有機ＥＬデバイスについて、同じ電圧を印加して発光領域を発光させ、発光している発光領域の画像を取得した。取得した画像において、発光領域の中央部と周縁部（バンク近傍部）との間の色目を観察し、下記評価基準に従って発光輝度のムラを評価した。
　Ａ：色目に相違がないか、又は殆ど相違がない。
　Ｂ：色目に明らかな相違がある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　上述のとおり、表１に示されるＬＢ、ＬＢ１、ＬＢ２、ＬＢ３及びＬＢ４の値は、正方形形状に形成された有機層構造部又は有機層の各辺の中心位置での測定値の平均（４点の平均）である。実験例１～３の有機ＥＬデバイスは、バンク１３の全周にわたって形成された部分（Ｂ）のいずれの位置においても、表１に示される平均値とほぼ同等のＬＢの値を有していた。ＬＢ１、ＬＢ２、ＬＢ３及びＬＢ４についても同様であった。
　１　有機層構造部、１ａ　第１有機層、１ｂ　第２有機層、１０　バンク付き基板、１１　基板、１２　第１電極、１３　バンク、１４　発光領域。

Claims (15)

  1. 　発光領域を有する有機ＥＬデバイスであって、
    　基板と、
    　前記発光領域を取り囲むように前記基板上に配置される、厚み及び幅を有するバンクと、
    　有機層構造部と、
    を含み、
    　前記有機層構造部は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢを有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ）と、を有し、
    　前記有機層構造部は、前記部分（Ａ）における最大膜厚をＴＡＳとし、前記部分（Ａ）における中心膜厚をＴＡＣとするとき、下記式：
    　ＴＡＳ／ＴＡＣ≦１．１
    を満たす部分を含む、有機ＥＬデバイス。
  2. 　前記部分（Ｂ）における最大膜厚ＴＢＳが前記部分（Ａ）における中心膜厚ＴＡＣよりも大きい、請求項１に記載の有機ＥＬデバイス。
  3. 　前記有機層構造部の全ての端部が前記バンク上に位置している、請求項１又は２に記載の有機ＥＬデバイス。
  4. 　前記ＬＢが２．５ｍｍ以上である、請求項１～３のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイス。
  5. 　前記有機層構造部は、２以上の有機層で構成される、請求項１～４のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイス。
  6. 　前記有機層構造部は、第１有機層と、前記第１有機層上に配置される第２有機層とを含み、
    　前記第１有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ１）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢ１を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ１）と、を有し、
    　前記第２有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ２）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢ２を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ２）と、を有し、
    　前記ＬＢ２が前記ＬＢ１と同じか又はそれよりも大きい、請求項５に記載の有機ＥＬデバイス。
  7. 　前記バンクの少なくとも上面が撥液性を有する、請求項１～６のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイス。
  8. 　前記バンクが単層構造である、請求項１～７のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイス。
  9. 　前記発光領域は、少なくとも１辺の長さが１ｍｍ以上である方形形状を有する、請求項１～８のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイス。
  10. 　発光領域を有する有機ＥＬデバイスの製造方法であって、
    　前記発光領域を規定するための、厚み及び幅を有するバンクを基板上に形成する工程と、
    　前記バンクの少なくとも上面の撥液性を制御する工程と、
    　前記バンクが形成された基板上に、塗布法により有機層構造部を形成する工程と、
    を含み、
    　前記有機層構造部は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢを有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ）とを有するように、かつ、前記部分（Ａ）における最大膜厚をＴＡＳとし、前記部分（Ａ）における中心膜厚をＴＡＣとするとき、下記式：
    　ＴＡＳ／ＴＡＣ≦１．１
    を満たす部分を含むように形成される、有機ＥＬデバイスの製造方法。
  11. 　前記有機層構造部は、前記部分（Ｂ）における最大膜厚ＴＢＳが前記部分（Ａ）における中心膜厚ＴＡＣよりも大きくなるように形成される、請求項１０に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
  12. 　前記有機層構造部は、前記ＬＢが２．５ｍｍ以上となるように形成される、請求項１０又は１１に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
  13. 　前記有機層構造部は、２以上の有機層で構成される、請求項１０～１２のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
  14. 　有機層構造部を形成する工程は、
    　前記バンクが形成された基板上に、第１有機層形成用の塗布液を塗布して第１塗布膜を形成する工程と、
    　前記第１塗布膜を乾燥させて第１有機層を形成する工程と、
    　前記第１有機層上に、第２有機層形成用の塗布液を塗布して第２塗布膜を形成する工程と、
    　前記第２塗布膜を乾燥させて第２有機層を形成する工程と、
    を含み、
    　前記第１有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ１）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢ１を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ１）と、を有するように形成され、
    　前記第２有機層は、前記発光領域内に配置される部分（Ａ２）と、前記バンクの幅方向における長さＬＢ２を有して前記バンク上に配置される部分（Ｂ２）と、を有するように、かつ、前記ＬＢ２が前記ＬＢ１と同じか又はそれよりも大きくなるように形成される、請求項１３に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
  15. 　前記撥液性を制御する工程は、前記バンクの少なくとも上面の前記第１有機層形成用の塗布液に対する接触角を１０度未満にする工程を含む、請求項１０～１４のいずれか１項に記載の有機ＥＬデバイスの製造方法。
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