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WO2018111043A1 - 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴 - Google Patents

베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴 Download PDF

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Publication number
WO2018111043A1
WO2018111043A1 PCT/KR2017/014866 KR2017014866W WO2018111043A1 WO 2018111043 A1 WO2018111043 A1 WO 2018111043A1 KR 2017014866 W KR2017014866 W KR 2017014866W WO 2018111043 A1 WO2018111043 A1 WO 2018111043A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
bezel pattern
forming
photopolymerizable composition
bezel
pattern
Prior art date
Application number
PCT/KR2017/014866
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
박성은
유재현
김아름
김준형
Original Assignee
주식회사 엘지화학
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 엘지화학 filed Critical 주식회사 엘지화학
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Priority to CN201780060232.8A priority patent/CN109804312A/zh
Publication of WO2018111043A1 publication Critical patent/WO2018111043A1/ko

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    • G—PHYSICS
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    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
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    • G03F7/004—Photosensitive materials
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    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography

Definitions

  • the present invention relates to a photopolymerizable composition for forming a bezel pattern, a method of manufacturing a bezel pattern of a display substrate using the same, and a bezel pattern manufactured thereby.
  • circuits for applying an electric signal to operate the device are located at four edges of the inside of the device. Circuits made of metals such as copper or aluminum reflect external light and require a bezel to block it. Conventionally, a separate plastic structure case has been used, but recently, a method of directly forming a bezel pattern on a touch screen or a thin film transistor substrate using a printing method such as screen printing or inkjet has been used.
  • a solvent having a low boiling point is removed, a solvent having a high boiling point, or a solvent-free composition composed of only a reactive component having a high boiling point is used as in FIG. 2.
  • a solvent having a high boiling point is used, the drying problem can be solved, but since evaporation is too slow, a residual solvent remains in the film even after curing, resulting in poor curing rate and film characteristics.
  • Patent Document 1 KR 10-2013-0112003 A
  • the present invention by forming a bezel pattern using a photopolymerizable composition for forming a bezel pattern having a high boiling point, but does not lower the curing reaction rate, thereby remaining in the thin film in the process film characteristics It aims at forming the bezel pattern which does not show a fall and hardening inhibition.
  • This invention provides the photopolymerizable composition for bezel pattern formation containing a coloring agent, an epoxy compound, an oxetane compound, a photoinitiator, and a solvent whose boiling point is 190-280 degreeC.
  • the present invention using the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern, forming a bezel pattern on a substrate; And curing the bezel pattern. It provides a method of manufacturing a bezel pattern for a display substrate comprising a.
  • the present invention provides a bezel pattern for a display substrate formed by curing the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern.
  • the present invention provides a display substrate including the bezel pattern for the display substrate.
  • the photopolymerizable composition for forming bezel patterns which has a high boiling point and does not decrease the curing reaction rate, is used, in forming a bezel pattern, it remains in the thin film in the process and exhibits no deterioration in film properties and hardening inhibition. There is an advantage.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an inkjet process according to the prior art.
  • Figure 2 is a schematic diagram showing another inkjet process according to the prior art.
  • This invention provides the photopolymerizable composition for bezel pattern formation containing a coloring agent, an epoxy compound, an oxetane compound, a photoinitiator, and a solvent whose boiling point is 190-280 degreeC.
  • the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern of the present invention may further include any one or more selected from the group consisting of a surfactant, an adhesion promoter, a diluent and a photosensitizer.
  • a radically polymerizable compound and a cationic polymerizable compound may be mainly used in the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern.
  • the radically polymerizable compound is not suitable for curing a thin film because it suffers from a hardening disorder due to oxygen, and is not suitable for forming a bezel pattern due to its high adhesion shrinkage and low adhesion to a glass substrate.
  • the cationic polymerization type compound it is generally advantageous for curing the thin film because the curing shrinkage rate is low and the influence by oxygen is small.
  • the photopolymerizable composition for bezel pattern formation used by this invention contains an epoxy compound as a cationic curing component.
  • the epoxy compound is selected from a bisphenol type epoxy compound, a novolak type epoxy compound, a glycidyl ester type epoxy compound, a glycidyl amine type epoxy compound, a linear aliphatic epoxy compound, a biphenyl type epoxy compound, and an alicyclic epoxy compound. It may be one kind or a mixture of two kinds.
  • the alicyclic epoxy compound may mean a compound including at least one epoxidized aliphatic ring group.
  • the epoxidized aliphatic ring group means an epoxy group bonded to an alicyclic ring, for example, a 3,4-epoxycyclopentyl group, 3,4-epoxy Cyclohexyl group, 3,4-epoxycyclopentylmethyl group, 3,4-epoxycyclohexylmethyl group, 2- (3,4-epoxycyclopentyl) ethyl group, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group, 3- Functional groups, such as a (3, 4- epoxycyclo petyl) propyl group or 3- (3, 4- epoxy cyclohexyl) propyl group, can be illustrated.
  • the hydrogen atom constituting the alicyclic ring in the above may be optionally substituted with a substituent such as an alkyl group.
  • a substituent such as an alkyl group.
  • the content of the epoxy compound is preferably 5 to 40% by weight, and more preferably 10 to 30% by weight based on the total weight of the photopolymerizable composition for forming the bezel pattern. When it exceeds 40 weight%, the viscosity of a composition will rise and when it is less than 5 weight%, hardening sensitivity will fall.
  • the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern includes an oxetane compound as another cationically polymerizable monomer.
  • the oxetane compound is a compound having a four-membered cyclic ether group in its molecular structure, and can act to lower the viscosity of the cationic cured ink composition (eg, less than 50 cPs at 25 ° C.).
  • oxetane compound For example, "Alon oxetane OXT-101", “Alon oxetane OXT-121", “Alon oxetane OXT-211", “Alon oxetane OXT-221" of Toagosei Co., Ltd., or "Alonoxetane OXT-212" etc. can be used. These can be used individually or in combination of 2 or more types.
  • the content of the oxetane compound may be 20 to 70% by weight, and more preferably 40 to 60% by weight, based on the total weight of the photopolymerizable composition for forming bezel patterns. When it exceeds 70 weight%, hardening sensitivity will be low, and when it is less than 20 weight%, a viscosity will rise and coating property will fall.
  • the oxetane compound of this invention can be used including the oxetane compound which has one oxetane ring, and the oxetane compound which has two oxetane rings.
  • the viscosity and the flexibility of the membrane can be adjusted.
  • an oxetane compound having one oxetane ring The content range of the oxetane compound having two oxetane rings is in the range of 1:16 to 1: 3. It is preferable to use.
  • the ink composition of the present invention includes, as a cationic photopolymerization initiator, a compound which produces a cation species or bronsted acid by irradiation of ultraviolet rays, for example, an iodonium salt or a sulfonium salt, but is not limited thereto. It doesn't happen.
  • the iodonium salt or sulfonium salt may cause a curing reaction to form a polymer by reacting monomers having unsaturated double bonds contained in the ink during UV curing, and may use a photosensitizer according to polymerization efficiency.
  • the photopolymerization initiator may have an anion represented by SbF 6- , AsF 6- , BF 6- , (C 6 F 5 ) 4 B-, PF 6 -or RfnF 6-n , but is not limited thereto. It doesn't happen.
  • the photopolymerization initiator is preferably included in 0.5 to 10% by weight based on the total weight of the photopolymerizable composition for bezel pattern formation. If the content of the photopolymerization initiator is less than 0.5% by weight, the curing reaction may not be sufficient. If the content of the photopolymerization initiator is more than 10% by weight, all of the photopolymerization initiator may not be dissolved or the viscosity may increase, thereby decreasing the coating property.
  • the ink composition may include a solvent having a boiling point of 190 to 280 ° C. in order to improve the coating property by decreasing the viscosity of the ink to increase fluidity, and to prevent a decrease in shading density per unit thickness, and more preferably, a boiling point.
  • the solvent which is 200-260 degreeC can be included.
  • the nozzle may not be dried during inkjet printing, and the curing rate may not be lowered, thereby causing problems in curing of the coating film.
  • any one or more selected from the group consisting of alcohols, glycols and glycol ethers having a boiling point of 190 to 280 ° C can be used.
  • the glycol-based ether having a boiling point of 190 to 280 ° C. may be an alkylene glycol alkyl ether having C 1 to C 6 carbon atoms in the alkyl glycol moiety, more preferably ethylene glycol alkyl ether, diethylene glycol alkyl ether, triethylene glycol alkyl Any one or more selected from the group consisting of ether, tetraethylene glycol alkyl ether, propylene glycol alkyl ether, dipropylene glycol alkyl ether, and glycol dialkylene ether may be used, and most preferably the number of carbon atoms in the alkyl ether portion is C1 to It is possible to use monoalkyl ether having one alkyl group of C4 or dialkyl ether having two alkyl groups of C1 to C4 number of carbon atoms in the alkyl ether portion.
  • the content of the solvent is preferably 1 to 40% by weight based on the total weight of the photopolymerizable composition for forming bezel patterns. When the content of the solvent is more than 40% by weight, the curing sensitivity is lowered.
  • the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern includes a colorant.
  • the colorant may be used in the form of a pigment dispersion containing one or more pigments, dyes or mixtures thereof, and is not particularly limited as long as it can express colors as necessary.
  • carbon black, graphite, a metal oxide, an organic black pigment etc. can be used as said pigment.
  • Examples of carbon black include cysto 5HIISAF-HS, cysto KH, cysto 3HHAF-HS, cysto NH, cysto 3M, cysto 300HAF-LS, cysto 116HMMAF-HS, cysto 116MAF, cysto FMFEF-HS , Sisto SOFEF, Sisto VGPF, Sisto SVHSRF-HS and Sisto SSRF (Donghae Carbon Co., Ltd.); Diagram Black II, Diagram Black N339, Diagram Black SH, Diagram Black H, Diagram LH, Diagram HA, Diagram SF, Diagram N550M, Diagram M, Diagram E, Diagram G, Diagram R, Diagram N760M, Diagram LR, # 2700, # 2600, # 2400, # 2350, # 2300, # 2200, # 1000, # 980, # 900, MCF88, # 52, # 50, # 47, # 45, # 45L, # 25, # CF9, # 95, # 3030, # 3050, MA7, MA77, MA8, MA11, MA
  • aniline black, lactam black, or perylene black series may be used, but is not limited thereto.
  • the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern is cured by irradiation of ultraviolet rays (for example, 250 or 450 nm), more preferably, long wavelength ultraviolet rays (for example, 360 nm to 410 nm), and thus a certain level of optical density (OD). Characterized in having a.
  • the content of the colorant is preferably 1 to 15% by weight, and more preferably 3 to 10% by weight based on the total weight of the photopolymerizable composition for forming bezel patterns. If the content of the colorant is less than 1% by weight, there is no level of OD applicable to the bezel, and if it is more than 15% by weight, the excess colorant is not dispersed in the ink and a precipitate may be formed.
  • the OD value may be maintained in the range of 0.1 to 1.5 per 1.0 ⁇ m of the film thickness.
  • the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern includes a surfactant that lowers the surface tension of the ink composition to exhibit a small taper angle.
  • the surfactant is preferably included in 0.1 to 5.0% by weight, more preferably 0.5 to 3.0% by weight relative to the total weight of the photopolymerizable composition for bezel pattern formation.
  • amount of the surfactant is less than 0.1% by weight, the effect of lowering the surface tension of the composition is not sufficient, so that the coating cannot be uniformly applied when the composition is coated on the substrate, and when the content is greater than 5.0% by weight, the surfactant is used in an excessive amount. There is a problem that the compatibility and anti-foaming of the composition is rather reduced.
  • the bezel pattern forming photopolymerizable composition may further include a photosensitizer to compensate for the curability in the long wavelength active energy ray.
  • the photosensitizers are anthracene, 9,10-dibutoxyanthracene, 9,10-dimethoxy
  • Anthracene-based compounds such as anthracene, 9,10-diethoxy anthracene and 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene; Benzophenone, 4,4-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylaminobenzophenone, methyl-o-benzoylbenzoate, 3,3 Benzophenone compounds such as dimethyl-4-methoxybenzophenone and 3,3,4,4-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone; Acetophenone; Ketone compounds such as dimethoxy acetophenone, diethoxy acetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and propanone; Perylene; Fluorenone compounds such as 9-florenone, 2-chloro-9-prorenone, and 2-methyl-9-florenone; Such as thioxan
  • the photosensitizer is preferably included in an amount of 1 to 200 parts by weight, more preferably 10 to 100 parts by weight, based on 100 parts by weight of the photopolymerization initiator. If less than 1 part by weight can not be expected to increase the curing sensitivity at the desired wavelength, if more than 200 parts by weight there is a problem in that the photosensitizer is not dissolved and the adhesion and crosslinking density of the pattern is reduced.
  • the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern may further include an adhesion promoter as an additive.
  • the film attached to the bezel pattern is repeatedly contracted and expanded according to the use conditions such as temperature and humidity, so that the bezel pattern is stressed so that the film and the bezel may be removed from the glass substrate.
  • at least one silane compound selected from the group consisting of an alkoxy silane compound, an epoxy silane compound, an aminophenyl silane compound, an amino silane compound, a mercapto silane compound and a vinyl silane compound is used as an adhesion promoter. When used, excellent results can be obtained.
  • epoxy silane compounds are more preferable as the adhesion promoter of the present invention.
  • the adhesion promoter is preferably included in 0.1 to 15% by weight based on the total weight of the ink composition, more preferably 2 to 10% by weight. If the amount is less than 0.1 wt%, the bezel pattern may not be prevented from being peeled from the glass substrate. If the amount is more than 15 wt%, the viscosity of the ink solution may be increased and the dispersibility may be low.
  • the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern used in the present invention spreads within a short time immediately after inkjet printing, exhibits excellent coating film properties, and cures to exhibit excellent adhesive properties. Therefore, when applying the photopolymerizable composition for forming the bezel pattern, it is preferable to install a UV-lamp immediately behind the inkjet head so as to be curable at the same time as inkjet printing.
  • the curing dose is 1 to 10,000 mJ / cm 2, and preferably 80 to 2,000 mJ / cm 2.
  • the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern is cured by absorbing radiation in a wavelength range of 250 nm to 450 nm, preferably 360 nm to 410 nm.
  • the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern is, for example, suitable for an inkjet process by having a viscosity of 1 to 20 mPa ⁇ s at 25 ° C.
  • the photopolymerizable composition for bezel pattern formation which has said viscosity range has favorable discharge at a process temperature.
  • the said process temperature means the temperature heated so that the viscosity of a curable ink composition may become low.
  • the process temperature may be 10 ° C to 100 ° C, preferably 20 ° C to 70 ° C.
  • the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern may have a residual mass after elapse of two hours when evaporated in a convection oven at 35 ° C., for example, 85% or more, so that the evaporation rate is low, but the curing rate and the film properties are not poor. do.
  • An upper end portion of the bezel pattern formed of the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern is attached to the upper substrate through an adhesive layer for forming an upper substrate. Since the adhesive for the upper base material such as a polyvinyl alcohol-based pressure-sensitive adhesive, a polyurethane-based pressure-sensitive adhesive and the like excellent adhesive force, when using the photopolymerizable composition for forming the bezel pattern it is possible to obtain an effect of improving the adhesion between the bezel pattern and the upper substrate.
  • the adhesive for the upper base material such as a polyvinyl alcohol-based pressure-sensitive adhesive, a polyurethane-based pressure-sensitive adhesive and the like excellent adhesive force, when using the photopolymerizable composition for forming the bezel pattern it is possible to obtain an effect of improving the adhesion between the bezel pattern and the upper substrate.
  • the method for manufacturing a bezel pattern of the display substrate of the present invention uses the photopolymerizable composition for forming the bezel pattern.
  • the method of manufacturing a bezel pattern of the display substrate of the present invention a) using the photopolymerizable composition for forming the bezel pattern, forming a bezel pattern on the substrate; And b) curing the bezel pattern.
  • the method for manufacturing a bezel pattern of the display substrate of the present invention may further include a step of cleaning and drying the substrate before the step of forming the bezel pattern. This is to selectively perform the surface treatment according to the surface energy of the substrate in order to improve the coating property of the ink and to remove stains caused by foreign substances.
  • the surface treatment may be performed by a treatment such as a wet surface treatment, UV ozone, atmospheric pressure plasma.
  • a method selected from inkjet printing, gravure coating, and reverse offset coating using an ultraviolet curing composition may be used instead of photolithography and screen printing. It is preferable that the viscosity of the ink composition of this invention is 1-20 mPa * s in order to apply the said method.
  • An ink composition having a low viscosity of 1 to 20 mPa ⁇ s is applied at a height of 0.1 to 20 ⁇ m, more specifically 0.5 to 5 ⁇ m, to form a bezel pattern on a specific portion of the substrate by the above method.
  • the applied composition is cured through exposure including ultraviolet rays, and as a result, a bezel pattern having a thin film thickness of 0.1 to 20 ⁇ m, more specifically 0.5 to 5 ⁇ m, can be produced.
  • a light source for curing the photopolymerizable composition for forming a bezel pattern of the present invention for example, mercury vapor arc (arc), carbon arc, Xe arc, LED curing machine, etc. which emit light having a wavelength of 250 to 450 nm, but not necessarily It is not limited.
  • the optical density after curing the photopolymerizable composition for forming the bezel pattern is 0.1 to 1.5 based on a film thickness of 1.0 ⁇ m, and may be 0.5 to 1.0 as necessary. In this case, there is an advantage of excellent shielding characteristics by the bezel pattern. If the optical density exceeds 1.5, the required content of the pigment to be added is very high, which may adversely affect the ink manufacturing and inkjet process, and may inhibit the curing of the photopolymerizable composition for bezel pattern formation by radiation. have.
  • the present invention provides a bezel pattern of a display substrate manufactured by the above method.
  • the bezel pattern refers to a pattern formed on the edges of various devices such as a watch and a display device.
  • the optical density of the bezel pattern may be 0.1 to 1.5 based on a film thickness of 1.0 ⁇ m, and may be 0.5 to 1.0 as necessary. In this case, there is an advantage of excellent shielding characteristics by the bezel pattern. If the optical density exceeds 1.5, the required content of the pigment to be added is very high, which may adversely affect the ink manufacturing and inkjet process, and may inhibit the curing of the photopolymerizable composition for bezel pattern formation by radiation. have.
  • the present invention provides a display substrate including the bezel pattern.
  • the display includes a plasma display panel (PDP), a light emitting diode (LED), an organic light emitting diode (OLED), a liquid crystal display (LCD), a thin film transistor liquid crystal
  • PDP plasma display panel
  • LED light emitting diode
  • OLED organic light emitting diode
  • LCD liquid crystal display
  • TFT thin film transistor-liquid crystal display
  • CRT cathode ray tube
  • A1 Carbon Black Pigment Dispersion (BK-5026, Tokushiki Co., Ltd.)
  • KBM-403 (3-glycidoxypropyl trimethoxysilane, Shin-Etsu Silicone)
  • DEGBEA diethylene glycol monobutyl ether acetate, hereinafter BCA, boiling point 248 degreeC
  • DEGEEA diethylene glycol monoethyl ether acetate, hereinafter ECA, boiling point 220 °C
  • G3 DEGDBE (diethylene glycol dibutyl ether, hereinafter BDGy, boiling point 250 °C)
  • G4 DPMA (dipropylene glycol methyl ether acetate, boiling point 220 °C)
  • G5 EGBE (ethylene glycol monobutyl ether, hereinafter BCs, boiling point 170 °C)
  • TPGBE tripropylene glycol butyl ether, boiling point 291 °C
  • G7 benzyl alcohol (boiling point 205 °C)
  • G8 diethylene glycol (boiling point 245 ° C)
  • H1 triethylene glycol divinyl ether, BASF
  • compositions prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 were coated on the cleaned LCD glass substrate by an inkjet coating method so as to have a thickness of 2 ⁇ m after curing.
  • the bezel pattern was formed by curing the coating layer by irradiating UV under the following conditions within 1 minute after coating.
  • UV irradiator used a high pressure mercury lamp, and was irradiated with a light amount of 1000mJ / cm 2 based on UV.
  • a bezel pattern was formed on the upper surface of the display panel (hereinafter referred to as Panel 1) according to the method of Preparation Example 1, and an NRT polarizing film manufactured by LG Chemical using an acrylic adhesive layer was attached as an upper substrate. After attachment, the surroundings were encapsulated with a sealant to prevent the ingress of moisture and foreign matter into the gap between the polarizing film and the pattern.
  • each composition was placed in a convection oven at a temperature of 35 degrees for a period of time to observe the rate of evaporation of the composition.
  • the definition of evaporation rate was calculated as the ratio of the residue to the initial relative value by placing each composition in an aluminum dish by 1 g weight using a micro balance and then measuring the weight of the composition remaining after the passage of time in a convection oven. The measurement results are shown in Table 2 below. After 2 hours have elapsed after the start of evaporation, the residual mass ratio is 85% or more, and less than 85%.
  • Each composition was continuously discharged for 1 minute using an experimental inkjet printer (UJ-200, UniJet), and then the discharge was stopped for 15 minutes to allow drying of the nozzle to take a rest time, and then again discharged onto paper. Was carried out. It was evaluated whether the discharge of each composition was performed smoothly. The measurement results are shown in Table 2 below. When the ink is normally discharged on the paper and a normal printed matter is output, the result is indicated by ⁇ . When the discharge is poor due to drying of the ink, the quality of the printed product is deteriorated. Is represented by X.
  • Each said composition was apply
  • a UV irradiation apparatus high pressure mercury lamp, Innocure 5000, Cheil UV
  • Example Viscosity Evaporation rate Jetting Stability Curing sensitivity Optical density / thickness
  • Examples 1 to 5 according to the present invention used a glycol alkyl ether solvent having a boiling point of 210 °C to 260 °C, because of the low evaporation rate was good jetting stability, the curing was also good.
  • Examples 6 to 7 used glycol and alcohol solvents having a boiling point of 190 ° C. to 280 ° C., and evaporation rate and jetting stability were good. Although the curing sensitivity was good, it was somewhat insufficient compared with Examples 1-5.
  • Comparative Example 1 used a glycol alkyl ether solvent having a relatively low boiling point of 170 ° C., so that the evaporation rate was high, and thus the jetting stability was poor.
  • Comparative Example 2 has a good boiling stability because the evaporation rate is low because the boiling point is 291 °C excessively high glycol alkyl ether solvent, but the curing rate was poor.
  • the boiling point of the monomer compounds such as ECC and DOX is higher than 210 ° C., but the jetting stability is good. Was needed.
  • the content of the non-reactive volatile component in the liquid film was low, there was no reduction in the thickness before or after curing, so that the shading density / thickness was relatively insufficient.
  • Comparative Example 4 contained more than 40% of the ratio of the ECC composition, although the solvent was included, unlike the Comparative Example 3, the viscosity was high, and thus, the temperature was required.

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Abstract

본 발명은 착색제, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 광중합 개시제 및 끓는점이 190~280℃인 용매를 포함하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이를 이용한 베젤 패턴에 관한 것이다.

Description

베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴
본 출원은 2016.12.16.자로 출원된 한국특허출원 제10-2016-0172292호에 기초한 우선권의 이익을 주장하며, 해당 한국 특허출원의 문헌에 개시된 모든 내용은 본 명세서의 일부로서 포함된다.
본 발명은 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물, 이를 이용한 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법 및 이에 의하여 제조된 베젤 패턴에 관한 것이다.
TV, 모니터 등 디스플레이 기기에 있어, 기기 내부의 가장 자리 네 변에는 기기를 동작시키기 위해 전기신호를 인가하는 회로가 위치한다. 구리 또는 알루미늄과 같은 금속으로 이루어진 회로는 외부 빛을 반사하기 때문에, 이를 차단하기 위해 베젤이 필요하다. 종래에는 별도의 플라스틱 구조물 케이스를 이용하여 왔으나, 최근 스크린 인쇄나 잉크젯 등의 인쇄 방법을 이용하여 베젤 패턴을 터치스크린 또는 박막 트랜지스터 기판 위에 직접 형성하는 방법이 사용되고 있다.
이러한 잉크젯 방법을 이용하여, 베젤 패턴을 형성할 경우, 낮은 두께 또는 높은 두께를 적용하는 것이 용이하고, 높은 해상도의 패턴을 형성할 수 있으며, 낮은 점도의 물질을 적용할 수 있다.
그러나 이러한 잉크젯 방법을 사용할 때 있어, 잉크의 증발 속도가 충분히 느리지 않으면, 도 1과 같이 잉크젯 헤드의 미세 노즐 표면에 맺힌 미세 잉크 방울이 건조되기 쉽다. 건조된 미세 잉크 방울은 고체가 되어, 노즐 막힘을 유발하거나, 노즐의 불량을 야기할 수 있다.
따라서 종래의 기술에서는 잉크 조성물의 증발 속도를 억제하기 위해도 2와 같이 비점이 낮은 용제를 제거하고, 비점이 높은 용제를 사용하거나, 비점이 높은 반응성 성분만으로 이루어진 무용제 조성물을 이용하고 있다. 비점이 높은 용제를 사용할 경우, 건조 문제는 해결할 수 있으나 증발이 너무 더디기 때문에, 경화 후에도 잔류 용제가 막내에 잔류하여 경화 속도 및 막 특성이 불량하다는 문제가 있었다. 또한, 반응성 성분만으로 이루어질 경우, 잉크 조성물의 점도를 낮추기 곤란하며, 또한 경화 시 수반되는 용매 증발이 없으므로 막의 두께를 낮출 수 없기 때문에, 낮은 두께에서 충분한 차폐력을 얻을 수 없는 문제가 있다.
따라서, 종래의 베젤 조성물에 대비해, 잉크젯 헤드 표면에서의 증발 속도는 낮으면서 경화 속도 및 막 특성이 불량하지 않은 조성물을 개발할 필요가 있다.
[선행기술문헌]
[특허문헌]
(특허문헌 1) KR 10-2013-0112003 A
상기 종래 기술의 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 높은 비등점을 지니면서도, 경화 반응 속도를 저하하지 않는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 이용하여 베젤 패턴을 형성함으로써, 공정상에서 박막 내에 잔류하여 막 특성 저하 및 경화 저해를 나타내지 않는 베젤 패턴을 형성하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위하여,
본 발명은, 착색제, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 광중합 개시제 및 끓는점이 190~280℃인 용매를 포함하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 제공한다.
또한 본 발명은, 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 사용하여, 기판상에 베젤 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 베젤 패턴을 경화하는 단계; 를 포함하는 디스플레이 기판용 베젤 패턴의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은, 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물이 경화되어, 기판상에 형성된 디스플레이 기판용 베젤 패턴을 제공한다.
또한, 본 발명은, 상기 디스플레이 기판용 베젤 패턴을 포함하는 디스플레이 기판을 제공한다.
본 발명에 따르면 높은 비등점을 지니면서도, 경화 반응 속도를 저하하지 않는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 이용하기 때문에, 베젤 패턴을 형성함에 있어서, 공정상에서 박막 내에 잔류하여 막 특성 저하 및 경화 저해를 나타내지 않는다는 장점이 있다.
도 1은 종래 기술에 의한 잉크젯 공정을 나타낸 모식도이다.
도 2는 또 다른 종래 기술에 의한 잉크젯 공정을 나타낸 모식도이다.
이하, 본 발명을 보다 상세히 설명한다.
본 발명은, 착색제, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 광중합 개시제 및 끓는점이 190~280℃인 용매를 포함하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 제공한다.
또한, 본 발명의 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 계면활성제, 밀착증진제, 희석제 및 광증감제로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 더 포함할 수 있다.
베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물에는 통상적으로 라디컬 중합형 화합물과 양이온 중합형 화합물이 주로 사용될 수 있다. 라디컬 중합형 화합물의 경우, 산소에 의한 경화 장애를 받기 때문에 박막의 경화에 적합하지 않으며, 또한 경화 수축이 크기 때문에 유리 기재와의 밀착성이 낮아 베젤 패턴 형성에 적합하지 않다. 반면에 양이온 중합형 화합물의 경우, 통상적으로 경화 수축율이 낮으며 산소에 의한 영향이 작기 때문에 박막을 경화하는 데 유리하다.
본 발명에서 사용하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 양이온성 경화 성분으로서 에폭시 화합물을 포함한다. 상기 에폭시 화합물은 구체적으로 비스페놀형 에폭시 화합물, 노볼락형 에폭시 화합물, 글리시딜 에스테르형 에폭시 화합물, 글리시딜 아민형 에폭시 화합물, 선형 지방족 에폭시 화합물, 비페닐형 에폭시 화합물 및 지환식 에폭시 화합물 중에서 선택되는 1종 또는 2종의 혼합물일 수 있다.
상기 지환식 에폭시 화합물은, 에폭시화 지방족 고리기를 하나 이상 포함하는 화합물을 의미할 수 있다.
에폭시화 지방족 고리기를 포함하는 상기 지환족 에폭시 화합물에서, 상기 에폭시화 지방족 고리기는 지환식 고리에 결합된 에폭시 기를 의미하는 것으로, 예를 들면, 3,4-에폭시시클로펜틸기, 3,4-에폭시시클로헥실기, 3,4-에폭시시클로펜틸메틸기, 3,4-에폭시시클로헥실메틸기, 2-(3,4-에폭시시클로펜틸)에틸기, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸기, 3-(3,4-에폭시시클로페틸)프로필기 또는 3-(3,4-에폭시시클로헥실)프로필기 등의 관능기가 예시될 수 있다. 상기에서 지환식 고리를 구성하는 수소 원자는, 임의적으로 알킬기 등의 치환기에 의해 치환될 수도 있다. 상기 지환식 에폭시 화합물로는, 예를 들면, 이하에서 구체적으로 예시되는 화합물을 사용할 수 있으나, 사용할 수 있는 에폭시 화합물이 하기의 종류에 제한되는 것은 아니다.
예컨대 디시클로펜타디엔디옥사이드, 시클로헥센옥사이드, 4-비닐-1,2-에폭시-4-비닐시클로헥센, 비닐시클로헥센디옥사이드, 리모넨모노옥사이드, 리모넨디옥사이드, (3,4-에폭시시클로헥실)메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3-비닐시클로헥센옥사이드, 비스(2,3-에폭시시클로펜틸)에테르, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 비스(3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸)아디페이트, (3,4-에폭시시클로헥실)메틸알코올, (3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실)메틸-3,4-에폭시-6-메틸시클로헥산카르복실레이트, 에틸렌글리콜비스(3,4-에폭시시클로헥실)에테르, 3,4-에폭시시클로헥센카르본산 에틸렌글리콜디에스테르, (3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 다이셀 코포레이션사의 셀록사이드 8000 등을 사용할 수 있다.
상기 에폭시 화합물의 함량은 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물의 총 중량에 대하여 5~40 중량%인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 10~30 중량%일 수 있다. 40 중량%를 초과하면 조성물의 점도가 상승하고, 5 중량% 미만이면 경화 감도가 저하된다.
상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 다른 양이온 중합성 단량체로서 옥세탄 화합물을 포함한다.
옥세탄 화합물는, 분자 구조 내에 4원 고리형 에테르기를 가지는 화합물로서, 양이온성 경화된 잉크 조성물의 점도를 낮추는(일례로, 25℃에서 50cPs 미만) 작용을 할 수 있다.
구체적으로는, 3-에틸-3-히드록시메틸 옥세탄, 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시메틸]벤젠, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 디[(3-에틸-3-옥세타닐)메틸]에테르, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 3-에틸-3-시클로헥실옥시메틸 옥세탄 또는 페놀노볼락 옥세탄 등이 예시될 수 있다. 옥세탄 화합물로는, 예를 들면, 토아고세이㈜사의 「알론옥세탄 OXT-101」, 「알론옥세탄 OXT-121」, 「알론옥세탄 OXT-211」, 「알론옥세탄 OXT-221」 또는 「알론옥세탄 OXT-212」 등을 사용할 수 있다. 이들은 단독으로, 혹은 2종 이상을 조합으로 이용할 수 있다.
상기 옥세탄 화합물의 함량은 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물의 총 중량에 대하여 20~70 중량%인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 40~60 중량%일 수 있다. 70 중량%를 초과하면 경화 감도가 낮고, 20 중량% 미만이면 점도가 상승하여 코팅성이 저하된다.
또한, 본 발명의 옥세탄 화합물은 1개의 옥세탄 고리를 갖는 옥세탄 화합물 및 2개의 옥세탄 고리를 갖는 옥세탄 화합물을 포함하여 사용할 수 있다. 상기 1개의 옥세탄 고리를 갖는 옥세탄 화합물 및 2개의 옥세탄 고리를 갖는 옥세탄 화합물을 함께 사용하는 경우에는 점도 및 막의 유연성을 조절할 수 있다는 장점이 있다. 상기와 같이 2종의 옥세탄 화합물을 함께 사용하는 경우, 1개의 옥세탄 고리를 갖는 옥세탄 화합물: 2개의 옥세탄 고리를 갖는 옥세탄 화합물의 함량범위는 1:16 내지 1:3의 범위로 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 잉크 조성물은 양이온성 광중합 개시제로서 자외선의 조사에 의해 양이온(cation) 종이나 브론스테드산을 만들어내는 화합물, 예를 들면 요오드늄 염 또는 설포늄 염 등을 포함하고 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 요오드늄 염 또는 설포늄 염은 자외선 경화 과정에서 잉크에 함유된 불포화 이중결합을 갖는 모노머가 반응하여 고분자를 형성하는 경화 반응이 일어나도록 하며, 중합 효율에 따라 광증감제를 사용할 수도 있다.
일 예로, 상기 광중합 개시제는 SbF6-, AsF6-, BF6-, (C6F5)4B-, PF6- 혹은 RfnF6-n으로 표시되는 음이온을 갖는 것일 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 광중합 개시제는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물의 총 중량에 대하여 0.5~10 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 광중합 개시제의 함량이 0.5 중량% 미만이면 경화 반응이 충분하지 않고, 10 중량% 초과이면 모두 용해되지 않거나 점도가 증가하여 코팅성이 저하될 수 있다.
상기 잉크 조성물은 잉크의 점도를 저하시켜 유동성을 증가시킴으로써 코팅성을 개선하고, 단위 두께당 차광 밀도의 저하를 방지하기 위해 끓는점이 190~280℃인 용매를 포함할 수 있으며, 보다 바람직하게는 끓는점이 200~260℃인 용매를 포함할 수 있다. 본 발명은 상기와 같이 끓는점이 190~280℃인 용매를 사용함으로써 잉크젯 인쇄 시에 노즐 건조 발생하지 않으면서도, 경화 속도에 저하를 유발하지 않아 도막의 경화에 문제를 발생시키지 않을 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 용매로는 끓는점이 190~280℃인 알콜, 글리콜 및 글리콜계 에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 사용할 수 있다.
상기 끓는점이 190~280℃인 글리콜계 에테르는 알킬 글리콜 부의 탄소 원자 수가 C1~C6인 알킬렌 글리콜 알킬 에테르일 수 있으며, 보다 바람직하게는 에틸렌글리콜 알킬 에테르, 디에틸렌글리콜 알킬 에테르, 트리에틸렌글리콜 알킬 에테르, 테트라에틸렌글리콜 알킬 에테르, 프로필렌글리콜 알킬 에테르, 디프로필렌글리콜 알킬 에테르 및 글리콜 디알킬렌 에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 사용할 수 있으며, 가장 바람직하게는 알킬 에테르부의 탄소 원자 수가 C1~C4의 알킬기를 1개를 갖는 모노 알킬 에테르이거나 또는 알킬 에테르부의 탄소 원자 수가 C1~C4의 알킬기를 2개를 갖는 디알킬 에테르를 사용할 수 있다.
상기 용매의 함량은 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물의 총 중량에 대하여 1~40 중량%인 것이 바람직하다. 상기 용매의 함량이 40 중량% 초과이면 경화 감도가 저하된다.
상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 착색제를 포함한다.
상기 착색제로는 1종 이상의 안료, 염료 또는 이들의 혼합물을 포함하는 안료 분산액 형태로 사용할 수 있으며, 필요에 따른 색을 발현할 수 있다면 특별히 한정하지 않는다.
본 발명의 일 구체예로서는, 상기 안료로서 카본 블랙, 흑연, 금속 산화물, 유기블랙 안료 등을 사용할 수 있다.
카본 블랙의 예로는 시스토 5HIISAF-HS, 시스토 KH, 시스토 3HHAF-HS, 시스토 NH, 시스토 3M, 시스토 300HAF-LS, 시스토 116HMMAF-HS, 시스토 116MAF, 시스토 FMFEF-HS, 시스토 SOFEF, 시스토VGPF, 시스토 SVHSRF-HS 및 시스토 SSRF(동해카본 ㈜); 다이어그램 블랙 II, 다이어그램 블랙 N339, 다이어그램 블랙 SH, 다이어그램 블랙 H, 다이어그램 LH, 다이어그램 HA, 다이어그램 SF, 다이어그램 N550M, 다이어그램 M, 다이어그램 E, 다이어그램 G, 다이어그램 R, 다이어그램 N760M, 다이어그램 LR, #2700, #2600, #2400, #2350, #2300, #2200, #1000, #980, #900, MCF88, #52, #50, #47, #45, #45L, #25, #CF9, #95, #3030, #3050, MA7, MA77, MA8, MA11, MA100, MA40, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B 및 OIL31B(미쯔비시화학㈜) ; PRINTEX-U, PRINTEX-V, PRINTEX-140U, PRINTEX-140V, PRINTEX-95, PRINTEX-85, PRINTEX-75, PRINTEX-55, PRINTEX-45, PRINTEX-300, PRINTEX-35, PRINTEX-25, PRINTEX-200, PRINTEX-40, PRINTEX-30, PRINTEX-3, PRINTEX-A, SPECIAL BLACK-550, SPECIAL BLACK-350, SPECIAL BLACK-250, SPECIAL BLACK-100, 및 LAMP BLACK-101(대구사㈜); RAVEN-1100ULTRA, RAVEN-1080ULTRA, RAVEN-1060ULTRA, RAVEN-1040, RAVEN-1035, RAVEN-1020, RAVEN-1000, RAVEN-890H, RAVEN-890, RAVEN-880ULTRA, RAVEN-860ULTRA, RAVEN-850, RAVEN-820, RAVEN-790ULTRA, RAVEN-780ULTRA, RAVEN-760ULTRA, RAVEN-520, RAVEN-500, RAVEN-460, RAVEN-450, RAVEN-430ULTRA, RAVEN-420, RAVEN-410, RAVEN-2500ULTRA, RAVEN-2000, RAVEN-1500, RAVEN-1255, RAVEN-1250, RAVEN-1200, RAVEN-1190ULTRA, 및 RAVEN-1170(콜롬비아 카본㈜) 또는 이들의 혼합물 등을 들 수 있다.
상기 유기블랙 안료로 아닐린 블랙, 락탐 블랙 또는 페릴렌 블랙계열 등을 사용할 수 있으나, 이로 한정하는 것은 아니다.
본 발명에서 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 자외선(일예로 250 또는 450nm), 보다 바람직하게는 장파장의 자외선 (일예로 360 nm 내지 410 nm)의 조사에 의해 경화되어 일정 수준의 OD(Optical Density)를 갖는 것을 특징으로 한다. 이를 위해, 상기 착색제의 함량은 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물의 전체 중량에 대하여 1 내지 15 중량%인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 3 내지 10 중량%일 수 있다. 착색제의 함량이 1중량% 미만일 경우, 베젤에 적용할 만한 수준의 OD가 나타나지 않으며, 15중량% 초과일 경우, 과량의 착색제가 잉크에 분산되지 않고 침전물이 형성될 수 있다.
상기 착색제의 함량이 상기 범위 내인 경우 OD 값이 막 두께 1.0㎛ 당 0.1~1.5의 범위로 유지할 수 있다.
상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 작은 테이퍼 각을 나타내기 위해 잉크 조성물의 표면장력을 낮춰주는 계면활성제를 포함한다.
상기 계면활성제로는 시판품을 사용할 수 있으며, 예를 들면DIC(DaiNippon Ink & Chemicals) 사의 Megafack F-444, F-475, F-478, F-479, F-484, F-550, F-552, F-553, F-555, F-570, RS-75 또는 아사히 가라스 사의 Surflon S-111, S-112, S-113, S-121, S-131, S-132, S-141 및 S-145 또는 스미토모 스리엠 사의 Fluorad FC-93, FC-95, FC-98, FC-129, FC-135, FC-170C, FC-430 및 FC-4430 또는 듀퐁 사의 Zonyl FS-300, FSN, FSN-100 및 FSO 및 BYK사의 BYK-306, BYK-310, BYK-320, BYK-331, BYK-333, BYK-342, BYK-350, BYK-354, BYK-355, BYK-356, BYK-358N, BYK-359, BYK-361N, BYK-381, BYK-370, BYK-371, BYK-378, BYK-388, BYK-392, BYK-394, BYK-399, BYK-3440, BYK-3441, BYKETOL-AQ, BYK-DYNWET 800, BYK-SILCLEAN 3700 및 BYK-UV 3570 또는 테고 사의 Rad 2100, Rad 2011, Glide 100, Glide 410, Glide 450, Flow 370 및 Flow 425 등으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 사용할 수 있다.
상기 계면활성제는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물 총 중량에 대해 0.1 내지 5.0 중량%, 보다 바람직하게는 0.5 내지 3.0 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 계면활성제의 함량이 0.1 중량% 미만일 경우에는 조성물의 표면장력을 낮추는 효과가 충분치 않아 기재에 조성물을 코팅 시 균일하게 도포할 수 없고, 5.0 중량%를 초과할 경우에는 계면활성제가 과량으로 사용되어 조성물의 상용성 및 소포성이 오히려 감소하게 되는 문제점이 있다.
상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 장파장 활성 에너지 선에서의 경화성을 보완하기 위해 광 증감제를 더 포함할 수 있다.
상기 광 증감제는 안트라센, 9,10-디부톡시안트라센, 9,10-디메톡시
안트라센, 9,10-디에톡시안트라센, 2-에틸-9,10-디메톡시안트라센 등의 안트라센계 화합물; 벤조페논, 4,4-비스(디메틸아미노)벤조페논, 4,4-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2,4,6-트리메틸아미노벤조페논, 메틸-o-벤조일벤조에이트, 3,3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 3,3,4,4-테트라(t-부틸퍼옥시카보닐)벤조페논 등의 벤조페논계 화합물; 아세토페논; 디메톡시아세토페논, 디에톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 프로판온 등의 케톤계 화합물; 페릴렌; 9-플로레논, 2-크로로-9-프로레논, 2-메틸-9-플로레논 등의 플로레논계 화합물; 티옥산톤, 2,4-디에틸 티옥산톤, 2-클로로 티옥산톤, 1-클로로-4-프로필옥시 티옥산톤, 이소프로필티옥산톤(ITX), 디이소프로필티옥산톤 등의 티옥산톤계 화합물; 크산톤, 2-메틸크산톤 등의 크산톤계 화합물; 안트라퀴논, 2-메틸 안트라퀴논, 2-에틸 안트라퀴논, t-부틸 안트라퀴논, 2,6-디클로로-9,10- 안트라퀴논 등의 안트라퀴논계 화합물; 9-페닐아크리딘, 1,7-비스(9-아크리디닐)헵탄, 1,5-비스(9-아크리디닐펜탄), 1,3-비스(9-아크리디닐)프로판 등의 아크리딘계 화합물; 벤질, 1,7,7-트리메틸-비시클로[2,2,1]헵탄-2,3-디온, 9,10-펜안트렌퀴논 등의 디카보닐 화합물; 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥사이드, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸 포스핀 옥사이드 등의 포스핀 옥사이드계 화합물; 메틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트, 2-n-부톡시에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트 등의 벤조에이트계 화합물; 2,5-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로펜타논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)시클로헥사논, 2,6-비스(4-디에틸아미노벤잘)-4-메틸-시클로펜타논 등의 아미노 시너지스트; 3,3-카본닐비닐-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-(2-벤조티아졸일)-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-(디에틸아미노)쿠마린, 3-벤조일-7-메톡시-쿠마린, 10,10-카르보닐비스[1,1,7,7-테트라메틸-2,3,6,7-테트라히드로-1H,5H,11H-C1]-벤조피라노[6,7,8-ij]-퀴놀리진-11-온 등의 쿠마린계 화합물; 4-디에틸아미노 칼콘, 4-아지드벤잘아세토페논 등의 칼콘 화합물; 2-벤조일메틸렌; 및 3-메틸-b-나프토티아졸린으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상일 수 있다.
상기 광 증감제는 광중합 개시제 100 중량부에 대해, 1 내지 200 중량부로 포함되는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 10 내지 100 중량부로 포함된다. 1 중량부 미만일 경우에는 원하는 파장에서의 경화감도 상승 작용을 기대할 수 없으며, 200 중량부 초과일 경우 광 증감제가 용해되지 못하고 패턴의 접착력 및 가교 밀도를 저하시키는 문제점이 있다.
상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 첨가제로서 밀착증진제를 더 포함할 수 있다.
베젤 패턴 위에 부착된 필름은 온도와 습도 등 사용 조건에 따라 수축과 팽창을 반복함으로써, 베젤 패턴에 응력이 가해지게 되어 필름과 베젤이 유리 기재에서 탈락될 수 있다. 이를 방지하기 위해 밀착증진제로서 알콕시 실란계 화합물, 에폭시 실란계 화합물, 아미노페닐 실란계 화합물, 아미노 실란계 화합물, 메르캅토 실란계 화합물 및 비닐 실란계 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 실란계 화합물을 사용할 경우 우수한 결과를 나타낼 수 있다.
이 중에서도 에폭시 실란계 화합물이 본 발명의 밀착증진제로 더욱 바람직하다.
상기 밀착증진제는 잉크 조성물 총 중량에 대해 0.1 내지 15 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 2 내지 10 중량%로 포함된다. 0.1 중량% 미만일 경우에는 베젤 패턴이 유리 기재로부터 박리하는 것을 방지하여 주지 못하며, 15 중량% 초과인 경우에는 잉크 용액의 점도가 상승하고 분산성이 낮은 문제점이 있다.
본 발명에서 사용하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 잉크젯 프린팅 직후 짧은 시간 내에 퍼짐이 일어나서, 우수한 도막 특성을 나타내며, 경화되어 우수한 접착 특성을 나타낸다. 따라서, 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 적용시에는 잉크젯 프린팅과 동시에 경화가 가능하도록 잉크젯 헤드 바로 뒤에 UV-lamp를 설치하는 것이 바람직하다.
상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 경화 도즈량이 1~10,000 mJ/㎠, 바람직하게는 80~2,000 mJ/㎠이다.
상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 250 nm 내지 450 nm, 바람직하게는 360 nm 내지 410 nm의 파장 범위에서 방사선을 흡수하여 경화된다.
상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 일 예로 25℃에서 1 내지 20 mPa·s의 점도를 가짐으로써 잉크젯 공정에 적합하다. 상기의 점도 범위를 갖는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 공정 온도에서의 토출이 양호하다. 상기 공정 온도는 경화형 잉크 조성물의 점도가 낮아지도록 가열한 온도를 의미한다. 공정 온도는 10℃ 내지 100℃일 수 있으며, 바람직하게는 20℃ 내지 70℃일 수 있다.
또한, 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 일 예로 35℃의 대류 오븐에서 증발시켰을 때 2시간 경과 후의 잔여 질량이 85% 이상 일 수 있어 증발 속도는 낮으면서도, 경화 속도 및 막 특성이 불량하지 않게 된다.
상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물로 형성한 베젤 패턴의 상단부는 상부 기재용 점착제층을 개재하여 상부 기재와 부착되는데, 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물은 아크릴계 점착제, 스티렌 부타디엔 고무계 점착제, 에폭시 점착제, 폴리비닐알코올계 점착제, 폴리우레탄계 점착제 등의 상부 기재용 점착제와 우수한 부착력을 나타내므로, 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 사용할 경우 베젤 패턴과 상부 기재 간의 부착력이 개선되는 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법은 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 이용한다.
구체적으로, 본 발명의 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법은, a) 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 사용하여, 기판 상에 베젤 패턴을 형성하는 단계; 및 b) 상기 베젤 패턴을 경화하는 단계;를 포함한다.
또한 본 발명의 디스플레이 기판의 베젤 패턴의 제조방법은, 상기 a) 베젤 패턴을 형성하는 단계 이전에, 기판의 세정 및 건조 단계를 더 포함할 수 있다. 이는 잉크의 코팅성 향상 및 이물질로 인한 얼룩의 제거를 위해 기판의 표면에너지에 따라 표면 처리를 선택적으로 실시하기 위함이다.
구체적으로 상기 표면 처리는 습식 표면처리, UV 오존, 상압 플라즈마 등의 처리에 의하여 실시 될 수 있다.
상기 기판상에 베젤패턴을 형성하는 방법으로는 포토리소그라피 및 스크린 인쇄 대신 자외선 경화 조성물을 이용한 잉크젯(Inkjet) 인쇄, 그라비아(Gravure) 코팅 및 리버스 오프셋(Reverse offset) 코팅 중에서 선택된 방법을 사용할 수 있다. 상기 방법을 적용하기 위해 본 발명의 잉크 조성물의 점도는 1 내지 20 mPa·s 인 것이 바람직하다.
상기의 방법으로 기판의 특정 부분에 베젤 패턴을 형성하기 위해 1 내지 20 mPa·s의 낮은 점도를 지니는 잉크 조성물을 0.1 내지 20 ㎛, 보다 구체적으로는 0.5 내지 5 ㎛의 높이로 도포한다. 도포된 상기 조성물은 자외선을 포함하는 노광을 통해 경화되며, 그 결과 0.1 내지 20 ㎛, 보다 구체적으로는 0.5 내지 5 ㎛의 얇은 막 두께를 지니는 베젤 패턴이 제조될 수 있다.
본 발명의 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 경화시키기 위한 광원으로는, 예컨대 파장이 250 내지 450㎚의 광을 발산하는 수은 증기 아크(arc), 탄소 아크, Xe 아크, LED 경화기 등이 있으나 반드시 이에 국한되지는 않는다.
상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 경화시킨 후의 광학밀도는 막 두께 1.0㎛ 기준으로 0.1 내지 1.5이며, 필요에 따라, 0.5 내지 1.0일 수 있다. 이 경우 베젤패턴에 의한 차폐특성이 우수한 장점이 있다. 광학밀도가 1.5를 초과할 경우에는 투입해야 할 안료의 요구 함량이 매우 높아지기 때문에 잉크의 제조 및 잉크젯 공정에 악영향을 미칠 수 있으며, 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물이 방사선에 의한 경화되는 것을 저해 할 수 있다.
본 발명은 상기 방법에 의해 제조된 디스플레이 기판의 베젤 패턴을 제공한다. 본 발명에서 베젤패턴은 시계, 디스플레이 장치 등 각종 장치의 테두리부분에 형성되는 패턴을 말한다.
상기 베젤패턴의 광학밀도는 막 두께 1.0㎛ 기준으로 0.1 내지 1.5이며, 필요에 따라, 0.5 내지 1.0일 수 있다. 이 경우 베젤패턴에 의한 차폐특성이 우수한 장점이 있다. 광학밀도가 1.5를 초과할 경우에는 투입해야 할 안료의 요구 함량이 매우 높아지기 때문에 잉크의 제조 및 잉크젯 공정에 악영향을 미칠 수 있으며, 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물이 방사선에 의한 경화되는 것을 저해 할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 베젤 패턴을 포함하는 디스플레이 기판을 제공한다.
상기 디스플레이는 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel, PDP), 발광 다이오드(Light Emitting Diode, LED), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diode, OLED), 액정 표시 장치(Liquid Crystal Display, LCD), 박막 트랜지스터 액정 표시 장치(Thin Film Transistor- Liquid Crystal Display, LCD-TFT) 및 음극선관(Cathode Ray Tube, CRT) 중 어느 하나에 사용되는 것일 수 있다.
이하, 본 발명을 실시예를 들어 상세하게 설명한다. 하기 실시예는 본 발명을 설명하기 위한 것으로, 본 발명의 범위는 하기의 특허청구범위에 기재된 범위 및 그 치환 및 변경을 포함하며, 실시예의 범위로 한정되지 않는다.
실시예
하기 표 1의 조성으로 혼합한 후 24시간 동안 교반하여 베젤 패턴 형성용 조성물을 제조하였다.
안료분산액(안료) 에폭시 옥세탄 광개시제 밀착증진제 용매 바인더
실시예 A B C D E G H
1 55(13.75) 5 20 D1: 1 E1: 0.5 G1: 18.5 -
2 30(7.5) 15 35 D1: 3 E2: 0.5 G1: 10 H1: 6.5
3 15(3.75) 25 20 D2: 5 E1: 1 G2: 15 H2: 19
4 30(7.5) 8 32 D3: 5 E2: 3 G3: 10 H3: 12
5 5(1.25) 15 65 D4: 1 E1: 0.5 G4: 15 -
6 10(2.5) 15 55 D4: 1 E1: 0.5 G7: 10 H1: 10
7 20(5.0) 10 50 D4: 1 E1: 0.5 G8: 10 H1: 10
비교예
1 30(7.5) 10 40 D1: 1 E2: 0.5 G5: 15 H3: 3.5
2 30(7.5) 10 34 D2: 5 E1: 1 G6: 10 H3: 10
3 30(7.5) 13 50 D5: 1 E2: 1 - H3: 5
4 30(7.5) 50 10 D6: 5 E1: 0.5 G6: 4.5 -
A1: 카본 블랙 안료 분산액 (BK-5026, Tokushiki社)
B: 3,4-에폭시사이클로헥실카르복실레이트 (TTA-21P, Tetrachem)
C: 3-에틸-3-[(2-에틸헥실옥시)메틸]옥세탄 (GASON DOX, Guarson Chemical)
D1: UVI-6992 (Dow社)
D2: UVI-6994 (Dow社)
D3: Irgacure 250 (BASF社)
D4: Omnicat 440 (IGM resin社)
D5: Rhodorsil 2074 (Rhodia社)
D6: CPI-100P (SAN-APRO社)
E1: KBM-303 (2-(3,4 에폭시씨클로헥실)에틸트리메톡시실란, 신에츠실리콘)
E2: KBM-403 (3-글리시독시프로필 트리메톡시실란, 신에츠실리콘)
G1: DEGBEA (디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 이하 BCA, 비등점 248℃)
G2: DEGEEA (디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 이하 ECA, 비등점 220℃)
G3: DEGDBE (디에틸렌글리콜디부틸에테르, 이하 BDGy, 비등점 250℃)
G4: DPMA (디프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 비등점 220℃)
G5: EGBE (에틸렌글리콜모노부틸에테르, 이하 BCs, 비등점 170℃)
G6: TPGBE (트리프로필렌글리콜 부틸에테르, 비등점 291℃)
G7: 벤질알코올 (비등점 205℃)
G8: 디에틸렌글리콜 (비등점 245℃)
H1: 트리에틸렌글리콜 디비닐에테르, BASF
H2: 1,4-시클로헥산디메탄올 디비닐에테르, BASF
H3: 이소 부틸 비닐에테르, BASF
<제조예 1> 베젤 패턴의 제조
상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 4에서 제조한 조성물을 세정된 LCD 글라스 기재 상에 경화 후에 두께가 2㎛가 되도록 잉크젯 코팅 방법으로 코팅하였다. 이물질 부착을 방지하기 위해 코팅 후 1분 이내에 코팅층을 하기 조건으로 자외선을 조사하여 경화함으로써 베젤 패턴을 형성하였다. 자외선 조사기는 고압 수은등을 사용하였으며, UV 기준 1000mJ/cm2의 광량으로 조사하였다.
<제조예 2> 베젤 패턴을 이용한 디스플레이 소자의 제조
디스플레이 패널(이하 패널) 상부면에 상기 제조예 1의 방법을 따라 베젤 패턴을 형성하고, 상부 기재로서 아크릴계 점착층을 사용하는 LG화학 제조 NRT 편광필름을 부착하였다. 부착 후에는 편광 필름과 패턴의 틈으로 수분 및 이물질이 혼입되는 것을 방지하기 위해, 씰런트로 주위를 인캡하였다.
실험예
<실험예 1>: 점도
상기 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 4에서 제조한 조성물에 대해 점도를 측정하였다. 점도 측정 장비로 Brookfield사의 Viscometer DV-2를 사용하였다.
상기 측정 결과를 하기 표 2에 나타내었으며, 조성물의 점도가 20 mPa·s 이하일 경우, 결과를 ○로 나타내고, 20 mPa·s 이상일 경우, 결과 X로 나타낸다.
<실험예 2>: 증발 속도의 측정
상기 각 조성물을 온도 35도의 대류 오븐에 일정 시간 비치하여, 조성물의 증발 속도를 관찰하였다. 증발 속도의 정의는 각 조성물을 알루미늄 접시에 마이크로 저울을 이용하여 1g 중량만큼 담은 후, 대류 오븐 내에서 시간이 경과한 후에 남은 조성물의 중량을 측정하여, 초기 대비 잔류물의 비로서 계산하였다. 상기 측정 결과를 하기 표 2에 나타내었으며, 증발 시작 후, 2시간이 경과한 후, 잔여 질량 비율이 85% 이상이면 ○로 나타내고, 85% 미만일 경우 결과 X로 나타낸다.
<실험예 3>: 제팅안정성
상기 각 조성물을 실험용 잉크젯 프린터 (UJ-200, 유니젯)을 이용하여 1분간 연속적으로 토출한 후, 15분간 토출을 중지하여 휴지 시간을 가짐으로써 노즐의 건조가 일어나도록 한 후, 다시 종이 위에 토출을 실시하였다. 각 조성물의 토출이 원활히 이루어지는지 평가하였다. 상기 측정 결과를 하기 표 2에 나타내었으며, 종이 위에 잉크가 정상적으로 토출되어 정상적인 인쇄물이 출력되었을 경우, 결과를 ○로 나타내고, 잉크의 건조로 인한 토출 불량이 발생하여 인쇄물의 품질이 저하되었을 경우, 결과를 X로 나타내었다.
<실험예 4>: 경화감도
상기 각 조성물을 유리 기판에 스포이드로 도포하고, 1000~5000rpm의 회전 속도로 스핀코팅을 실시하였다. 그런 다음, UV 조사장치 (고압 수은등, Innocure 5000, 제일UV)를 이용하여 총 노광량이 1000mJ/cm2의 자외선을 조사하여, 조성물을 경화시켰다. 노광량의 측정은 UV puck 2 (EIT사) 측정기를 이용하여 수행하였다. 상기 측정 결과를 하기 표 2에 나타내었으며, 조사 후에 1분 경과 후 지촉하였을 때, 액막이 완전히 경화되지 않고 액체가 묻어나올 때는 X로 나타내고, 액막이 완전히 경화되지 않아 끈적임이 남아있을 경우에는 △, 박막이 완전히 경화되어 끈적임이 없었을 경우에는 ○로 나타내었다.
<실험예 5>: 베젤 패턴의 광학밀도/두께 평가
제조예 1의 방법에서 잉크젯 코팅 대신 스핀코팅으로 일반 LCD 글래스 기재 위에 두께가 1㎛가 되도록 코팅한 조성물의 광학밀도/두께를 X-rite 사의 OD 측정기를 이용하여 측정하였다. 측정한 값은 표 2에 기입하였다.
실시예 점도 증발속도 제팅 안정성 경화 감도 광학밀도/두께
1 ○ ○ ○ ○ 1.03/1㎛
2 ○ ○ ○ ○ 0.49/1㎛
3 ○ ○ ○ ○ 0.26/1㎛
4 ○ ○ ○ ○ 0.51/1㎛
5 ○ ○ ○ ○ 0.11/1㎛
6 ○ ○ ○ △ 0.19/1㎛
7 ○ ○ ○ △ 0.33/1㎛
비교예
1 ○ X X ○ 0.50/1㎛
2 ○ ○ ○ X -
3 X ○ ○ ○ 0.51/1㎛
4 X ○ ○ ○ 0.50/1㎛
상기 표 1의 결과로부터, 본 발명에 따른 실시예 1 내지 5는 비등점이 210℃ 내지는 260℃인 글리콜 알킬에테르 용제를 사용하였으며, 증발속도가 낮기 때문에 제팅 안정성이 양호하였으며, 경화감도 또한 양호하였다. 실시예 6 내지 7은 비등점인 190℃ 내지는 280℃를 갖는 글리콜 및 알코올 용제를 사용하였으며, 증발속도 및 제팅안정성은 양호하였다. 경화감도는 양호하였으나, 실시예 1 내지 5에 비해서는 다소 부족하였다.
이에 비하여, 비교예 1은 비등점이 170℃로 비교적 낮은 글리콜 알킬에테르 용매를 사용했기 때문에 증발속도가 빠르며, 따라서 제팅 안정성이 불량하였다.
또한, 비교예 2는 끓는점이 291℃로 과도하게 높은 글리콜 알킬에테르 용매를 사용했기 때문에 증발속도가 낮기 때문에 제팅 안정성은 양호하였으나, 경화속도가 불량하였다.
또한, 비교예 3과 같이 용매가 적용되지 않은 조성물에서는, ECC 및 DOX와 같은 모노머 화합물들의 비등점이 210℃ 이상이기 때문에 제팅 안정성은 양호하였으나, 점도가 높아 잉크젯 공정을 위해 점도를 낮추기 위해 불필요하게 승온이 필요하였다. 또한 액막 내에 비반응성 휘발성분의 함량이 낮기 때문에 경화 전/후에도 두께의 축소가 나타나지 않아, 차광밀도/두께가 상대적으로 부족하였다.
다만, 비교예 4는 ECC 조성의 비율이 40% 이상 포함되었기 때문에 비교예 3과 달리 솔벤트가 포함되었음에도 불구하고 점도가 높았으며, 따라서 승온이 필요하였다.

Claims (24)

  1. 착색제, 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 광중합 개시제 및 끓는점이 190~280℃인 용매를 포함하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  2. 청구항 1에 있어서,
    계면활성제, 밀착증진제, 희석제 및 광증감제로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 착색제는 카본 블랙, 흑연, 금속 산화물, 유기블랙 안료로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상의 안료 및 염료를 포함하는 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 착색제의 함량은 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물의 총 중량에 대하여 1~15 중량%인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  5. 청구항 1에 있어서,
    상기 옥세탄 화합물은 1개의 옥세탄 고리를 갖는 옥세탄 화합물 및 2개의 옥세탄 고리를 갖는 옥세탄 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  6. 청구항 1에 있어서,
    상기 옥세탄 화합물의 함량은 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물의 총 중량에 대하여 20~70 중량%인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 에폭시 화합물은 비스페놀형 에폭시 화합물, 노볼락형 에폭시 화합물, 글리시딜 에스테르형 에폭시 화합물, 글리시딜 아민형 에폭시 화합물, 선형 지방족 에폭시 화합물, 비페닐형 에폭시 화합물 및 지환식 에폭시 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  8. 청구항 1에 있어서,
    상기 에폭시 화합물의 함량은 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물의 총 중량에 대하여 5~40 중량%인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  9. 청구항 1에 있어서,
    상기 광중합 개시제는 요오드늄 염 또는 설포늄 염인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 광중합 개시제의 함량은 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물의 총 중량에 대하여 0.5~10 중량%인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  11. 청구항 1에 있어서,
    상기 용매는 끓는점이 190~280℃인 알콜, 글리콜 및 글리콜계 에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 글리콜계 에테르는 알킬 글리콜 부의 탄소 원자 수가 C1~C6인 알킬렌 글리콜 알킬 에테르인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  13. 청구항 12에 있어서,
    상기 알킬 글리콜 부의 탄소 원자 수가 C1~C6인 알킬렌 글리콜 알킬 에테르는 에틸렌글리콜 알킬 에테르, 디에틸렌글리콜 알킬 에테르, 트리에틸렌글리콜 알킬 에테르, 테트라에틸렌글리콜 알킬 에테르, 프로필렌글리콜 알킬 에테르 및 디프로필렌글리콜 알킬 에테르로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  14. 청구항 12에 있어서,
    상기 알킬 글리콜 부의 탄소 원자 수가 C1~C6인 알킬렌 글리콜 알킬 에테르는 알킬 에테르부의 탄소 원자 수가 C1~C4의 알킬기를 1개를 갖는 모노 알킬 에테르이거나 또는 알킬 에테르부의 탄소 원자 수가 C1~C4의 알킬기를 2개를 갖는 디알킬 에테르인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  15. 청구항 1에 있어서,
    상기 용매는 끓는 점이 200~260℃인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  16. 청구항 1에 있어서,
    상기 용매의 함량은 상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물의 총 중량에 대하여 1~40 중량%인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  17. 청구항 1에 있어서,
    상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물의 점도가 25℃에서 1 내지 20 mPa·s인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  18. 청구항 1에 있어서,
    상기 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 35℃의 대류 오븐에서 증발시켰을 때 2시간 경과 후의 잔여 질량이 85% 이상인 것을 특징으로 하는 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물.
  19. a) 청구항 1의 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물을 사용하여, 기판 상에 베젤 패턴을 형성하는 단계; 및
    b) 상기 베젤 패턴을 경화하는 단계;를 포함하는 디스플레이 기판용 베젤 패턴의 제조방법.
  20. 청구항 19에 있어서,
    상기 a) 단계에서 기판 상에 베젤 패턴을 형성하는 방법은 잉크젯(Inkjet) 인쇄, 그라비아(Gravure) 코팅 및 리버스 오프셋(Reverse offset) 코팅 중에서 선택된 방법인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 베젤 패턴의 제조방법.
  21. 청구항 19에 있어서,
    상기 베젤 패턴의 두께가 0.1㎛~20㎛인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 베젤 패턴의 제조방법.
  22. 청구항 1의 베젤 패턴 형성용 광중합성 조성물이 경화되어, 기판 상에 형성된 디스플레이 기판용 베젤 패턴.
  23. 청구항 22에 있어서,
    상기 베젤 패턴의 OD 값이 막 두께 1.0㎛ 당 0.1~1.5인 것을 특징으로 하는 디스플레이 기판용 베젤 패턴.
  24. 청구항 22의 디스플레이 기판용 베젤 패턴을 포함하는 디스플레이 기판.
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