WO2004109780A1

WO2004109780A1 - ステージ装置、固定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法

Info

Publication number: WO2004109780A1
Application number: PCT/JP2004/008063
Authority: WO
Inventors: Yuichi Shibazaki
Original assignee: Nikon Corporation
Priority date: 2003-06-04
Filing date: 2004-06-03
Publication date: 2004-12-16
Also published as: KR20060014390A; TW200507057A; US7394526B2; KR101087516B1; TWI340406B; US8253929B2; US20060098184A1; JPWO2004109780A1; US20080239276A1

Abstract

このステージ装置は、戴置面に板状体を戴置して移動可能な移動部材を有するステージ装置であって、板状体を戴置面に固定する固定装置を備え、固定装置は、移動部材が所定の第1領域を通過するのに連動して板状体の固定を行うようにした。

Description

ステージ装置、固定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法技術分野

本発明は、パターンが描画されたマスクや基板を載置して定盤上を精密に 1次元或いは 2次元移動するステージ装置と、そのステージ装置を用いた露光装置等に関する。

本願は、 2 0 0 3年 6月 4日に出明願された特願 2 0 0 3— 1 5 9 8 0 0号に対し優先権を主張し、その内容をここに援用する。

書

背景技術

従来から、回路パターンが描画されたマスク等に照明光（紫外線、 X線、電子線等のエネルギー線）を照射して、等倍、所定の縮小倍率あるいは拡大倍率を有する投影結像系を介して感応基板（レジスト層が塗布された半導体ウェハゃガラスプレ一ト等）上に投影露光することにより、半導体デパイスや液晶表示デパイス等の回路パターンを形成するマイクロリソグラフィ装置では、マスクや感応基板を載置してレ一ザ干渉計による位置サーポ制御の下で平面（X Y平面）内で精密に 1次元或いは 2次元移動するステージ装置が設けられる。

このようなステージ装置においては、一般的に、マスクや基板を真空吸着力のみによって吸着保持している。特に、マスクは、吸着保持される面積が狭く、また、ウェハの 4〜 5倍程度の速度で走査されるため、マスクの保持力が不足し、マスクステージの走査中にマスクの位置ずれが生じやすい。このため、特開平 1 0 - 1 4 9 9 7 9号公報に示すように、位置決めの基準となる部材にマスクを当接させて、ずれを防止する技術がある。

ところで、近年では、露光装置の生産性を向上させるためにレチクルステージやウェハステージの走査速度を大きくすることが望まれており、ウェハにかかる加速力は 5〜 6 G程度に達している。

しかしながら、上述した技術では、マスクを保持する力は、マスクの裏面（下面）に作用する真空吸着力のみであるため、ステージ装置が高加速で移動すると、保持力が不足し、マスクがずれて転写精度が劣化するという問題がある。発明の開示

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ウェハステージ等のステージ装置の駆動中に、マスク等を強固に保持することにより、位置ずれを起こすおそれのないステージ装置、およびこれを用いた露光装置等を提供することを目的とする。なお、本発明を分かりやすく説明するために、一実施形態を示す図面の符号に対応付けて説明するが、本実施形態に限定されるものではない。

本発明の第 1の態様は、戴置面（211， 525) に板状体（R, W) を戴置して移動可能な移動部材（203, 520) を有するステージ装置（50, 20 0, 500) であって、板状体を戴置面に固定する固定装置（300， 600) を備え、固定装置は、移動部材が所定の第 1領域（A1) を通過するのに連動して板状体の固を行うようにした。

これにより、特別な駆動装置を設けることなく、ステージ装置が所定の領域を通過するだけで自動的に固定装置が駆動して板状体を固定することができる。また、板状体 (R, W) を移動部材（203，， 520) に搭載する第 2領域（A

2) を有し、移動部材が第 2領域から移動した後に第 1領域（A1) を通過することで、固定装置（300, 600) が板状体を固定するものでは、移動部材に板状体を搭載したステージ装置が、第 2領域から移動して第 1領域を通過するだけで、自動的に固定装置が駆動して板状体を固定することができる。

また、移動部材（203， 520) から板状体（R, W) を降ろす第 3領域（A

3) を有し、移動部材が第 3領域に向かう途中で第 1領域（A1) を通過することで、固定装置（300， 600) が板状体の固定を解除するものでは、移動部材に板状体を搭載したステージ装置が、第 1領域を通過して第 3領域に移動するだけで、自動的に固定装置が駆動して板状体の固定を解除することができる。また、第 2領域（A2) と第 3領域（A3) とが同一の領域であるものでは、板状体を移動部材に搭載する領域と移動部材から板状体を降ろす領域とが同一となり、装置の巨大化を抑えることができる。また、固定装置（300, 600) が板状体（R, W) を固定する際に移動部材（203， 520) が第 1領域（A1) を通過するときの移動方向と、固定装置が板状体の固定を解除する際に第 1領域を通過するときの移動方向とは、互いに相反する向きであるものでは、板状体を固定する領域と板状体の固定を解除する領域とを、第 1領域を挟んで明確に区別することができる。

また、移動部材（203， 520) が第 1領域（A1) を通過する際に、移動部材の一部と機械的に接触することで移動部材の移動を固定装置（300， 60 0) の動力に変換する変換装置（C， C2) をさらに備えるものでは、特別なァクチユエ一夕を用いることなく、固定装置を駆動させることが可能となる。

また、移動部材（203， 520) を支持するベース部（202, 510) をさらに備えるとともに、変換装置はカム装置（C, C2) であって、カム装置がベース部に設けられたカム部材（400， 700) と固定装置（300, 600) に設けられたカムフォロア（363, 658， 663) とを備えるものでは、力ム装置により、ステージ装置の移動を固定装置の動力に変換することが容易かつ確実に行うことができる。

また、カムフォロア（363， 658， 663) が、カム部材（400, 70 0) との摩擦を低減する軸受（363 a, 658 a, 663 a) を備えるものでは、固定装置の動作が滑らかになるとともに装置寿命を延ばすことができる。また、カム部材（400， 700) は、カムフォロア（363， 658, 66 3) との接触時の抵抗を低減する暖衝装置（403， 703)を備えるものでは、固定装置の動作が滑らかになるとともに装置寿命を延ばすことができる。

また、カム部材（400, 700) を移動部材（203, 510) の移動経路 (A0〜A4) から退避させる退避装置（410, 710) をさらに備えるものでは、カム部材を移動経路から退避させことにより、固定装置の駆動を停止させることができる。

また、移動部材（203， 510) が第 1領域（A1) を通過する際に、移動部材の一部と機械的に接触することで、移動部材の移動を固定装置（300， 6 00) の動力にするカム装置（C， C2) をさらに備え、カム装置の少なくとも一部が第 2領域（A2) に配置されるものでは、第 2領域にカム装置が配置されるので、他の領域では、固定装置とカム装置とが接触することなく、ステージ装置が高精度な移動を実現することができる。

また、固定装置（300， 600) が、板状体（R, W) の固定を保持するための保持装置（364， 665) を備えるものでは、固定装置がカム装置とが接触していない場合でも、板状体の固定を保持（維持）することができる。

また、固定装置（300， 600) が、板状体（R， W) との接触部（322, 622) に設けられた弾性体（322 a， 622 a) を備えるものでは、固定装置が板状体を損傷させることを回避することができる。

また、移動部材（203, 520) の駆動時に生じる反力の作用により、移動部材との間の重量比に応じて移動部材の移動方法とは反対の方向に移動するように設けられた第 2移動部材（205 a, 205 b， 530) を備え、移動部材の重量が、固定装置（300, 600) の重量の少なくとも一部を含んでいるものでは、前記反力を第 2移動部材の移動によつて相殺又は緩和させることができる。そのため、ステージ装置の振動を抑えることが可能となる。また、前記反力を相殺すれば、ステージ装置の重心位置の変化を防ぐことも可能になる。

本発明の第 2の態様は、ステージ装置（50， 200, 500) が有する移動部材（203， 510) に板状体（R, W) を固定する方法であって、移動部材がステージ装置内に設けられた所定の第 1領域（A1) を通過するのに連動して板状体の固定を行うようにした。

これにより、特別な駆動装置を設けることなく、ステージ装置が所定の領域を通過するだけで自動的に固定装置が駆動して板状体を固定することができる。また、移動部材（203， 510) が、板状体（R， W) を移動部材に搭載する第 2領域（A2) から移動した後に第 1領域（A1) を通過することで、固定装置（300， 600) が板状体を固定するものでは、移動部材に板状体を搭載したステージ装置が、第 2領域から移動して第 1領域を通過するだけで、自動的に固定装置が駆動して板状体を固定することができる。

また、移動部材（203， 510) が、移動部材から板状体（R， W) を降ろす第 3領域（A3) に向かう途中で第 1領域（A1) を通過することで、固定装置（300， 600) が板状体の固定を解除するものでは、移動部材に板状体を搭載したステージ装置が、第 1領域を通過して第 3領域に移動するだけで、自動的に固定装置が駆動して板状体の固定を解除することができる。

また、第 2領域 (A 2 ) と第 3領域（A 3 ) とが同一の領域であるものでは、板状体を移動部材に搭載する領域と移動部材から板状体を降ろす領域とが同一となり、装置の巨大化を抑えることができる。

本発明の第 3の態様は、マスク（R) を保持するマスクステージ（2 0 0， 5 0 0 ) と、基板 (W) を保持する基板ステージ（5 0 ) とを有し、マスクに形成されたパターン（P A) を基板に露光する露光装置（1 0 0， 1 5 0 ) において、マスクステージと基板ステージの少なくとも一方に、第 1の発明に係るステージ装置（5 0 , 2 0 0， 3 0 0 ) を用いるようにした。

これにより、固定装置がマスク或いは基板を強固に押圧保持するので、露光処理中にステージを高速に加減速させても、マスク或いは基板がずれることがなく、高精度なパターンを基板に転写することができる。

本発明の第 4の態様は、マスク（R) をマスクステージ（2 0 0， 5 0 0 ) に固定するとともに、基板（W) を基板ステージ（5 0 ) に固定し、マスクに形成されたパターン（P A) を基板に露光する露光方法において、マスクの固定方法と基板の固定方法の少なくとも一方に、第 2の発明に係る固定方法を用いるようにした。

これにより、マスク或いは基板を強固に押圧保持できるので、露光処理中にステージを高速に加減速させても、マスク或いは基板がずれることがなく、高精度なパターンを基板に転写することができる。

本発明の第 5の態様は、リソグラフイエ程を含むデバイスの製造方法において、リソグラフイエ程において第 3の発明に係る露光装置（1 0 0， 1 5 0 ) を用いるようにした。また、リソグラフイエ程を含むデバイスの製造方法において、リソグラフイエ程において第 4の発明に係る露光方法を用いるようにした。

これにより、高精度なパターンが転写されたデバイスを製造することができる。図面の簡単な説明

図 1は、第 1実施例のレチクルステージ装置を示す斜視図である。図 2 A, Bは、第 1実施例のレチクルクランプを示す斜視図である。

図 3は、第 1実施例の露光装置を示す模式図である。

図 4 A， Bは、第 1実施例のカム部材を示す模式図である。

図 5 A〜Dは、第 1実施例のレチクルクランプがレチクルを押圧する際の動作図である。

図 6 A〜Dは、第 1実施例のレチクルクランプがレチクルの保持を開放する際の動作図である。

図 7は、第 2実施例のレチクルステージ装置を示す斜視図である。

図 8は、第 2実施例のレチクルステージ装置を示す斜視分解図である。

図 9 A， Bは、第 2実施例のレチクルステージ装置のステージ部を示す図である。

図 1 0は、第 2実施例のレチクルステージ装置におけるレチクルホルダとレチクルクランプの配置を示す図である。

図 1 1 A， Bは、第 2実施例のレチクルクランプを示す斜視図である。

図 1 2は、第 2実施例の露光装置を示す模式図である。

図 1 3 A, Bは、第 2実施例のカム部材を示す模式図である。

図 1 4 A〜Dは、第 2実施例のレチクルクランプがレチクルを押圧する際の動作図である。

図 1 5は、半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。発明を実施するための最良の形態

以下、図 1〜図 6を参照しつつ、本発明のステージ装置等の第 1実施例について説明する。

図 1は、本発明に係るレチクルステージ装置 2 0 0を示す斜視図である。

レチクルステージ装置（ステージ装置） 2 0 0は、レチクル（板状体，マスク） Rのパターン P A面を下にして保持するとともに、 Y方向に一次元走査移動し、さらに X方向、及び回転方向（0 _Z方向）にも微動する装置である。

レチクルステージ装置 2 0 0は、コラム 2 0 1 (図 3参照）に支持されたレチクル定盤（ベース部） 2 0 2上を Y方向に所定ストロークで駆動されるステージ部 2 0 3を備える。

ステージ部（移動部材） 2 0 3は、一対の Yリニアモータ 2 0 5によって Y方向に駆動されるレチクル粗動ステージ 2 0 6と、このレチクル粗動ステージ 2 0 6上を一対の Xボイスコイルモータ 2 0 7 Xと一対の Yボイスコイルモータ 2 0 7 Yとによって X, Υ, 0 _Z方向に微小駆動されるレチクル微動ステージ 2 0 8 とを備える構成となっている。

各 Yリニアモータ 2 0 5は、レチクル定盤 2 0 2上に非接触ベアリングである複数のエアべァリング（エアパッド） 2 0 9によって浮上支持され Y方向に延びる固定子（第 2移動部材） 2 0 5 aと、この固定子 2 0 5 aに対応して設けられ、連結部材 2 3 1を介してレチクル粗動ステージ 2 0 6に固定された可動子（第 2 移動部材） 2 0 5 bとから構成されている。このため、運動量保存の法則により、レチクル粗動ステージ 2 0 6の + Y方向の移動に応じて、固定子 2 0 5 aは一 Y 方向に移動する。この固定子 2 0 5 aの移動によりレチクル粗動ステージ 2 0 6 の移動に伴う反力を相殺するとともに、重心位置の変化を防ぐことができる。レチクル粗動ステージ 2 0 6は、レチクル定盤 2 0 2の中央部に形成された上部突出部 2 0 2 bの上面に固定され Y方向に延びる一対の Yガイド 2 3 2によつて Y方向に案内されるようになっている。また、レチクル粗動ステージ 2 0 6は、各 Yガイド 2 3 2に対して不図示のエアベアリングによって非接触で支持されている。

レチクル微動ステージ 2 0 8は、レチクル Rのパターン P Aに対応した開口を有し、その開口の周辺に配置された平面形のレチクルホルダ（戴置面） 2 1 1を介して、レチクル Rがパターン P Aを下にして吸着保持されるようになっている。また、レチクルホルダ 2 1 1の X方向の両端には、 4つ（片側に、それぞれ 2つ）のレチクルクランプ 3 0 0が配置される。

レチクルクランプ 3 0 0は、レチクルホルダ 2 1 1によるレチクル Rの吸着保持力の不足を補うために、レチクル Rを上方から機械的に押圧して保持する装置である。レチクルクランプ 3 0 0がレチクルホルダ 2 1 1の X方向の両端に配置されるのは、 Y方向に移動して搬送されてレチクルホルダ 2 1 1に戴置されるレチクル Rとの干渉を避けるためである。したがって、レチクル Rの搬送の障害とならなければ、レチクルクランプ 3 0 0をレチクル Rの Y方向の両端に配置してもよい。また、配置されるレチクルクランプ 3 0 0の台数は、レチクル Rを保持するために必要な押圧力に応じて任意に定めることができる。ただし、押圧によるレチクル Rの歪みを防止するために、レチクル Rに対して均等（例えば、四隅等）に配置することが望ましい。

また、レチクル微動ステージ 2 0 8の— Y方向の端部には、コーナーキューブからなる一対の Y移動鏡 2 3 3 a , 2 3 3 bが固定され、更に、レチクル微動ステージ 2 0 8の + X方向の端部には、 Y軸方向に延びる平面ミラ一からなる X移動鏡 2 3 4が固定されている。そして、これら移動鏡 2 3 3 a， 2 3 3 b , 2 3 4に対して、外部に設けた 3つのレーザ干渉計 2 3 5 a〜2 3 5 c (図 3参照）が各移動鏡との距離を計測することにより、レチクル微動ステージ 2 0 8の X， Υ, θ _ζ ( Ζ軸回りの回転）方向の位置が高精度に計測される。なお、レチクル微動ステージ 2 0 8の位置計測情報（すなわち、レチクル Rの位置情報）は、主制御系 7 0に送信される。

次に、レチクルクランプ（固定装置） 3 0 0の構成について詳述する。図 2 Α は、レチクルクランプ 3 0 0を示す斜視図であり、レチクル Rを押圧保持している際の形態を示す。また、図 2 Βは、レチクルクランプ 3 0 0の分解^ "視図である。

図 2 Βに示すように、レチクルクランプ 3 0 0は、ベース部 3 1 0、パッド部 3 2 0、リンク部 3 3 0、スライドガイド部 3 4 0、クランビングスプリング部 3 5 0、フォロア部 3 6 0から構成される。

ベース部 3 1 0は、レチクルホルダ 2 1 1の X方向に両脇に設けられる。 X方向に沿って略凹形状に形成された凹部 3 1 1には、ピン 3 1 2が設けられる。そして、この凹部 3 1 1には、パッド部 3 2 0が収納されるとともに、後述するパッド部 3 2 0のピン穴 3 2 1とピン 3 1 2とが嵌合して、パッド部 3 2 0を回転可能に支持する。

また、ベース部 3 1 0の両脇には、スライドガイド部 3 4 0を挿入して固定するための 2つのガイド挿入穴 3 1 3が X方向に沿って設けられる。したがって、ガイド揷入穴 3 1 3にスライドガイド部 3 4 0を揷入すると、 2本のスライドガイド部 3 4 0が X方向に平行に延びた状態で固定される。なお、スライドガイド部 3 4 0は、ロッド部材 3 4 1からなり、その一端にはロッド部材 3 4 1よりも大径に形成されたストッパ部 3 4 2が設けられる。

また、ベース部 3 1 0の上面には、 2つの爪部 3 1 4が設けられる。爪部 3 1 4は、側面形状が略三角形に形成され、 X方向に沿ってレチクル Rに近づくにつれて徐々に高くなる斜面 3 1 4 aと、レチクル Rに対向する略垂直な面 3 1 4 b を有する。

パッド部 3 2 0は、略三角形に形成された部材からなり、その一頂点部分（リニァモータ側）には、ピン穴 3 2 1が設けられる。そして、上述したように、このピン穴 3 2 1は、ベース部 3 1 0のピン 3 1 2と嵌合し、ベース部 3 1 0の凹部 3 1 1に収納されて、回転可能に支持される。したがって、パッド部 3 2 0は、レチクル Rの X方向の端面と略直交するように配置される。

また、パッド部 3 2 0の下面には、レチクルホルダ 2 1 1に戴置されたレチクル Rと当接する接触部 3 2 2が設けられる。接触部 3 2 2は、当接するレチクル Rに損傷を与えないように、弾性体 3 2 2 aにより構成される。弾性体 3 2 2 a としては、スポンジやゴム等の他、バネゃ弾性ヒンジ機構を用いてもよい。また、接触部 3 2 2の幅（Y方向）をべ一ス部 3 1 0の凹部 3 1 1等と干渉しない程度に広げることにより、レチクル Rとの接触面積を大きくして、レチクル Rを均等に押圧することが望ましい。

また、上方に配置される他の頂点部分は、 X方向に沿って二股（凹形）に形成され、その一部にピン 3 2 3が設けられる。

そして、直線形の部材からなるリンク部 3 3 0は、その両端にピン穴 3 3 1， 3 3 2を備え、ピン穴 3 3 1が上述したパッド部 3 2 0のピン 3 2 3と嵌合して、回転可能に支持される。更に、他方のピン穴 3 3 2は、後述するクランピンダスプリング部 3 5 0のピン 3 5 6と嵌合し、回転可能に支持される。

クランピンダスプリング部 3 5 0は、本体 3 5 1と連結部 3 5 2とパネ部 3 5 3とからなり、本体 3 5 1と連結部 3 5 2とがパネ部 3 5 3により連結された構造を備える。

本体 3 5 1は、スライドガイド部 3 4 0と嵌合する 2つの穴部 3 5 5を備え、この穴部 3 5 5がベース部 3 1 0に固定された 2本のスライドガイド部 3 4 0に嵌合することにより、スライドガイド部 3 4 0に沿って X方向に移動可能に支持される。また、本体 3 5 1の上部には、フォロア部 3 6 0と嵌合する穴部 3 5 7 が設けられる。

連結部 3 5 2は、凹形に形成されて、その凹みにリンク部 3 3 0のピン穴 3 3 2と嵌合するピン 3 5 6を備える。

また、バネ部 3 5 3は、ワイヤ一カット方式の放電加工機等により加工された弾性ヒンジ機構により構成され、連結部 3 5 2を本体 3 5 1に対して X方向に移動可能に連結する。そして、このパネ部 3 5 3の弾性力によって、レチクル Rを押圧保持する力が与えられる。したがって、パネ部 3 5 3のパネ定数を調整することにより、レチクルクランプ 3 0 0の押圧力を調整できる。なお、パネ部 3 5 3には、弾性ヒンジ機構に限らず、コイルパネや板パネ等の弾性体を用いてもよい。

フォロア部 3 6 0は、本体 3 6 1、本体 3 6 1の両端に設けられたピン部 3 6 2、本体 3 6 1の上部に設けられたカムフォロア 3 6 3、本体 3 6 1からレチクル R方向に向けて延びる 2枚の板パネ 3 6 4、板バネ 3 6 4の下面側に重なるように配置されて板パネ 3 6 4の下方側への変形を規制する 2枚のサポート板 3 6 5から構成される。

フォロア部 3 6 0は、本体 3 6 1の両端に設けられたピン部 3 6 2がクランピングスプリング部 3 5 0の穴部 3 5 7と嵌合することにより、クランピングスプリング部 3 5 0に回転可能に支持される。なお、フォロア部 3 6 0の本体 3 6 1 とクランピンダスプリング部 3 5 0の本体 3 5 1とが当接することにより、所定以上に回転しないように規制されている。具体的には、板パネ 3 6 4が水平となる位置から下方には回転できないようになっている（図 5及び図 6参照）。

2枚の板パネ（保持装置） 3 6 4のそれぞれの先端には、ベース部 3 1 0の爪部 3 1 4と嵌合する矩形の穴部 3 6 4 aが設けられる。また、 2枚のサポート板 3 6 5のそれぞれの先端であって、板バネ 3 6 4の穴部 3 6 4 aに対応する部分には、コ字状に切り欠いた切り欠き部 3 6 5 aが設けられる。

また、カムフォロア 3 6 3には、後述するカム部材 4 0 0との接触の際の摩擦を緩和するためにベアリング（軸受） 363 aが設けられる。

次に、上述したレチクルステージ装置 200を露光装置 100に適用した実施形態について説明する。図 3は、露光装置 100を示す模式図である。

露光装置 100は、露光用照明光（露光光） ELをレチクル Rに照射しつつ、レチクル; とウェハ（板状体，基板） Wとを一次元方向に相対的に同期移動させて、レチクル Rに形成されたパターン（回路パターン等） P Aを投影光学系 40 を介してウェハ W上に転写するステップ'アンド ·スキャン方式の走査型露光装置、いわゆるスキャニング ·ステツパである。

この露光装置 100は、露光用照明光 ELによりレチクル Rを照明する露光照明系 10、レチクル Rを保持するレチクルステージ装置 200、レチクルから射出される露光用照明光 ELをゥェ八 W上に照射する投影光学系 40、ウェハ W を保持するゥェ八ステ一ジ装置 50、露光装置 100の動作を統括的に制御する主制御系 70から構成される。

露光照明系 10は、光源 12から照射された露光用照明光 ELがレチクル上の所定の照明領域内にほぼ均一な照度分布で照射するために、ォプティカルインテグレー夕を備える。

露光用照明光 ELには、波長約 12 Onm〜約 19 Onmの真空紫外線、例えば、発振波長 193nmの Ar Fエキシマレーザ（ArFレーザ)、発振波長 15 7 nmのフッ素レーザ（F₂レーザ）、発振波長 146 nmのクリプトンダイマーレ一ザ（Kr₂レーザ）、発振波長 126 nmのアルゴンダイマーレーザ（Ar₂ レーサ'）等が甩いられる。

レチクルステ一ジ装置 200は、露光照明系 10の直下に設けられる。レチクルステージ装置 200の具体的構成は、上述した通りである。

レチクルステージ装置 200のステージ部 203は、パターン P Aを下にしたレチクル Rを保持して Y方向に一次元走査移動するが、その移動経路中には、レチクル Rをレチクルホルダ 211に搭載させるロード領域（第 2領域） A2と、レチクルホルダ 211からレチクル Rを取り出すアンロード領域（第 3領域） A 3と、レチクル Rに露光用照明光 ELを照射する露光領域 A4と、が存在する。通常は、ロード領域 A 2とアンロード領域 A 3とは、一致した領域（以下、この一致した領域をロード 'アンロード領域 AOと呼ぶ。）であり、また、図 3に示すように、装置寸法の制約等から、ロード ·アンロード領域 AOと露光領域 A 4とは、一部が重なった状態となっている。なお、ステージ部 203の移動経路中には、後述するクランプ駆動領域（第 1領域） A1も含まれる。

そして、ロード ·アンロード領域 AO内の上部には、上述したレチクルクランプ 300のフォロア部 360と一体となってカム装置（変換装置） Cとして機能するカム部材 400が配置される。なお、カム部材 400は、後述する昇降装置 410を介してレチクル定盤 202或いはコラム 201等に固定される。

図 4は、カム部材 400を示す模式図である。カム部材 400は、略 L字形に形成された 2つの部材 4 O l a, 401 bを対称となるように、それぞれの一方の先端部分で回転可能に連結することにより、略コ字形に形成される。

そして、各部材 401 a， 40 l bの下面には、上述したフォロア部 360のカムフォロア 363が入り込む溝 402 a, 402 bが形成される。溝 402 a, 402 bの幅は、各部材 401 a, 401 bの先端部分においては大きく形成され、 +Y方向に向かうに従ってカムフォロア 363の幅よりも若干広くなるように徐々に細く形成される。また、溝 402 a， 402 bは、先端部分においては、内側に寄って形成され、 +Y方向に向かうに従って徐々に外側に寄って、その後は、 Y方向に平行部分がレチクル Rの幅寸法以上に形成される。（以下、溝 402 a, 402 bが内側から徐々に外側に寄るように形成された領域をクランプ駆動領域 A1と呼ぶ。）したがって、カムフォロア 363が図 4の紙面左側から +Y方向に移動してくると、幅広に形成された先端部分の溝 402 a, 402 b内に入り込む。そして、更に + Y方向に移動すると、クランプ駆動領域 A 1を通過する際に、内側から外側に移動するように案内される。

また、カム部材 400の先端には、部材 401 a, 401 bとの間にバネ（暧衝装置） 403が設けられる。部材 401 a, 401 bが回転可能に連結されるとともに、パネ 403が設けられることにより、溝 402 a， 402bに入り込んでくるカムフォロア 363に対して微動可能となり、カムフォロア 363と溝 402 a, 402 bとの衝突及び摩擦を軽減するものである。

また、カム部材 400には、カム部材 400を上方に移動させる昇降装置（退避装置） 4 1 0が設けられる。昇降装置 4 1 0は、例えば、エアシリンダ等により構成され、カム部材 4 0 0を上昇させることにより、カム部材 4 0 0とレチクルクランプ 3 0 0とが離間して、カムフォロア 3 6 3が溝 4 0 2 a， 4 0 2 bに入り込むことができなくなる。このように、昇降装置 4 1 0により、カム部材 4 0 0をロード ·アンロード領域 A O外に退避させたり、逆に、ロード ·アンロード領域 A O内にカム部材 4 0 0を侵入させたりすることができる。

図 3に戻り、投影光学系 4 0は、蛍石、フッ化リチウム等のフッ化物結晶からなるレンズや反射鏡などの複数の投影レンズ系を投影系ハウジング（鏡筒）で密閉したものである。投影レンズ系は、レチクル Rを介して射出される照明光を所定の投影倍率 β ( β は、例えば 1 / 4 )で縮小して、レチクル Rのパターン Ρ Α の像をウェハ W上の特定領域（ショット領域）に結像させる。なお、投影光学系

4 0の投影レンズ系の各要素は、それぞれ保持部材を介して投影系ハウジングに支持され、該各保持部材は各要素の周縁部を保持するように例えば円環状に形成されている（いずれも不図示）。

ウェハステージ装置（ステージ装置） 5 0は、ウェハ Wを保持するウェハホルダ 5 2と Χ Υ平面内で移動可能なウェハステージ 5 3等から構成される。ウェハホルダ 5 2は、ウェハステージ 5 3に支持されるとともに、ウェハ Wを真空吸着によって保持する。ウェハステージ 5 3は、互いに直交する方向へ移動可能な一対のブロックをベース 5 4上に重ね合わせたものであって、不図示の駆動部により Χ Υ平面内で移動可能となっている。

そして、外部に設けたレーザ干渉式測長器によってウェハステージ 5 3の X方向および Υ方向の位置が逐次検出されて、主制御系 7 0に出力される。

ウェハホルダ 5 2の一 X側の端部には、平面鏡からなる X移動鏡 5 6 Χ^Ύ¾- 向に延設されている。この X移動鏡 5 6 Xにほぼ垂直に外部に配置された X軸レ一ザ干渉計 5 7 Xからの測長ビームが投射され、その反射光が X軸レーザ干渉計

5 7 Xに受光されることによりウェハ Wの X位置が検出される。また、略同様の構成により不図示の Υ軸レーザ干渉計 5 7 Υによってゥェハ Wの Υ位置が検出される。

そして、ウェハステージ 5 3の ΧΥ面内の移動により、ウェハ W上の任意のショット領域をレチクル Rのパターン P Aの投影位置 (露光位置）に位置決めして、レチクル Rのパターン P Aの像をウェハ Wに投影転写する。

主制御系 7 0は、露光装置 1 0 0を統括的に制御するものである。例えば、露光量（露光光の照射量）や後述するレチクルステージ装置 2 0 0及びウェハステージ 5 3の位置等を制御して、レチクル Rに形成されたパターン P Aの像をゥェハ W上のショット領域に転写する露光動作を繰り返し行う。また、主制御系 7 0 には、各種演算を行う演算部 7 1の他、各種情報を記録する記憶部 7 2が設けられる。

続いて、以上のような構成を備えた露光装置 1 0 0を用いて、レチクル Rに露光用照明光 E Lを照射して、レチクル Rに形成されたパターン P Aをウェハ W上に転写する露光処理を行う方法について説明する。

本実施形態の露光処理方法は、レチクル Rをレチクルステージ装置 2 0 0上に口一ドする工程、レチクルクランプ 3 0 0によりレチクル Rを押圧保持する工程、露光処理を行う工程、レチクルクランプ 3 0 0によるレチクル Rの保持を解除する工程、レチクル Rをレチクルステージ装置 2 0 0からアンロードする工程、とからなる。

レチクル Rをレチクルステージ装置 2 0 0上に口一ドする工程について説明する。レチクル Rを戴置する前（初期状態）では、レチクルステージ装置 2 0 0は、露光領域 A 4に位置する。また、レチクルクランプ 3 0 0は、パッド部 3 2 0が跳ね上がった状態（図 5 A参照）、或いは下がった状態（図 5 D参照）のいずれであってもよい。更に、カム部材 4 0 0は、ロード ·アンロード領域 A O内に配置される。

そして、主制御系 7 0からの指令により、ステージ部 2 0 3が + Y方向に移動して、露光領域 A 4からロード ·アンロード領域 A Oまで移動し、停止する。ステ一ジ部 2 0 3の移動に伴って、レチクルクランプ 3 0 0のカムフォロア 3 6 3 は、カム部材 4 0 0の溝 4 0 2 a， 4 0 2 bに入り込む。そして、カムフォロア 3 6 3は、一旦、内側（レチクル Rに近づく方向）に移動するが、ステージ部 2 0 3がロード ·アンロード領域 A Oで停止した際には、全てのカムフォロア 3 6 3は、クランプ駆動領域 A 1を通過して、外側（レチクル Rから遠ざかる方向）に移動する。これにより、全てのレチクルクランプ.3 0 0がパッド部 3 2 0を上方に跳ね上げた状態で保持される。なお、レチクルクランプ 3 0 0の具体的な動作については、後述する。また、カムフォロア 3 6 3に設けたベアリング 3 6 3 aとカム部材 4 0 0に設けたパネ 4 0 3とにより、カムフォロア 3 6 3と溝 4 0 2 a , 4 0 2 bとの接触抵抗は緩和され、カムフォロア 3 6 3は円滑に溝 4 0 2 a , 4 0 2 b内を移動する。

そして、不図示のレチクル搬送装置により、外部からレチクル Rが搬送されて、ステージ部 2 0 3上のレチクルホルダ 2 1 1上に戴置され、更に、レチクル Rは、レチクルホルダ 2 1 1により吸着保持される。

次に、レチクルクランプ 3 0 0によりレチクル Rを押圧保持する工程では、ステージ部 2 0 3にレチクル Rを戴置した状態で、一 Y方向に移動させる。ステージ部 2 0 3の移動に伴って、レチクルクランプ 3 0 0のカムフォロア 3 6 3は、クランプ駆動領域 A 1を通過する際に、カム部材 4 0 0の溝 4 0 2 a， 4 0 2 b に沿って、順次、内側に移動する。このように、カムフォロア 3 6 3が外側から内側への移動することにより、レチクルクランプ 3 0 0が駆動して、レチクル R を、順次、押圧保持（クランプ）する。

そして、ステージ部 2 0 3が更に一 Y方向に移動すると、ロード 'アンロード領域 A Oから露光領域 A 4内に移動することにより、レチクルクランプ 3 0 0のカムフォロア 3 6 3は、カム部材 4 0 0の溝 4 0 2 a , 4 0 2 bから、順次、抜け出る。しかしながら、レチクルクランプ 3 0 0のよるレチクル Rの押圧保持は、板バネ 3 6 4の作用により、維持される。

ここで、レチクルクランプ 3 0 0によりレチクル Rを保持（押圧）する際の動作について詳述する。図 5は、レチクル Rを押圧保持する際の動作を示す図である。

まず、図 5 Aに示すように、ステージ部 2 0 3上のレチクルホルダ 2 1 1には、レチクル Rが戴置されて、吸着保持されている。この際、レチクルクランプ 3 0 0のパッド部 3 2 0が跳ね上がった状態であるため、レチクル Rとレチクルクランプ 3 0 0とが干渉することはない。そして、レチクル Rが吸着保持された後に、カムフォロア 3 6 3にレチクル R側に向けた力を作用させる。すなわち、カムフォロア 3 6 3が、クランプ駆動領域 A 1に侵入し、カム部材 4 0 0の溝 4 0 2 a , 4 0 2 bに沿って、内側（レチクル Rに近づく方向）に移動し始めた場合である。カムフォロア 3 6 3にレチクル R側 (紙面左方向）に向けた力を作用させると、カムフォロア 3 6 3をピン部 3 6 2周りに回転させるモーメントが作用するが、図 5 Bに示すように、フォロア部 3 6 0は、クランビングスプリング部 3 5 0に当接するので、フォロア部 3 6 0がクランビングスプリング部 3 5 0に対して回転することがなく、フォロア部 3 6 0とクランピンダスプリング部 3 5 0とが一体となって、スライドガイド部 3 4 0に沿って、ベース部 3 1 0に向けて移動し始める。この移動に伴って、カムフォロア 3 6 3に作用させた力は、リンク部 3 3 0を介してパッド部 3 2 0に伝達されて、パッド部 3 2 0をピン穴 3.2 1周りに回転させる。なお、パッド部 3 2 0は、円滑に回転するため、クランピンダスプリング部 3 5 0のパネ部 3 5 3は殆ど変形しない。

更に、カムフォロア 3 6 3にレチクル R側に向けた力を作用させると、図 5 C に示すように、フォロア部 3 6 0の板パネ 3 6 4がベース部 3 1 0の上面に設けた爪部 3 1 4に突き当たり、爪部 3 1 4の斜面に沿って上方に反るように変形する。なお、サポート板 3 6 5には、コ字状の切り欠き部 3 6 5 aが設けられているため、爪部 3 1 4に突き当たることなく、爪部 3 1 4を避けてレチクル R方向に移動する。また、パッド部 3 2 0は、ピン穴 3 2 1周りに更に回転し、接触部 3 2 2がレチクル Rに当接する。接触部 3 2 2がレチクル Rに当接することにより、パッド部 3 2 0は、ピン穴 3 2 1周りに更に回転することができなくなるので、クランピングスプリング部 3 5 0のパネ部 3 5 3が変形し始める。

そして、更に、カムフォロア 3 6 3にレチクル R側に向けた力を作用させる。すなわち、カムフォロア 3 6 3がクランプ駆動領域 A 1を通り過ぎ、最も内側に移動した状態である。すると、図 5 Dに示すように、板バネ 3 6 4がベース部 3 1 0の上面に設けた爪部 3 1 4を乗り越え、板パネ 3 6 4の穴部 3 6 4 aと爪部 3 1 4とが嵌合し、板パネ 3 6 4の変形が初期状態（平らな状態）に戻る。また、クランピンダスプリング部 3 5 0のパネ部 3 5 3は、更に変形して、パッド部 3 1 0を介してレチクル Rを強固に押圧する。

最後に、この状態でカムフォロア 3 6 3にレチクル Rに向けた力を解除する。すなわち、レチクルクランプ 3 0 0のカムフォロア 3 6 3が、カム部材 4 0 0の溝 4 0 2 a , 4 0 2 bから抜け出た状態である。カムフォロア 3 6 3に作用させていた力解除すると、クランピンダスプリング部 3 5 0のパネ部 3 5 3の弹性力により、クランピンダスプリング部 3 5 0をリニアモータ側に向けて移動させる力が作用する。しかしながら、クランピンダスプリング部 3 5 0と連結するフォロア部 3 6 0の板パネ 3 6 4がクランピンダスプリング部 3 5 0のリニァモー夕側への移動を規制する。すなわち、板パネ 3 6 4の穴部 3 6 4 aがベース部 3 1 0の爪部 3 1 4に嵌合しているので、板バネ 3 6 4をリニアモータ側へ移動させようとしても、穴部 3 6 4 aが爪部 3 1 4の垂直面 3 1 4 bに突き当たり、リニァモータ側への移動が規制される。したがって、カムフォロア 3 6 3に作用させたレチクル R方向の力を解除しても、フォロア部 3 6 0の板バネ 3 6 4の作用により、パネ部 3 5 3の変形が開放されることなく、レチクル Rを押圧した状態が維持される。

このようにして、レチクルクランプ 3 0 0によりレチクル Rが強固に押圧保持される。

次いで、露光処理を行う工程では、露光処理を開始するに先立って、カム部材 4 0 0をロード .アンロード領域 A Oから退避させる。すなわち、昇降装置 4 1 0を駆動して、カム部材 4 0 0 'を上昇させて、ロード 'アンロード領域 A O外に移動させる。

そして、カム部材 4 0 0を退避させた後に、従来通りに、露光用照明光（露光光） E Lをレチクル Rに照射しつつ、レチクル Rとウェハ Wとを一次元方向に相対的に同期移動させることにより、レチクル Rに形成されたパターン P Aを投影光学系 4 0を介してウェハ W上に転写する。

このように、カム部材 4 0 0を退避させた後に露光処理を行うのは、露光処理中に、レチクルクランプ 3 0 0によるレチクル Rの押圧が解除されてしまわないようにするためである。すなわち、露光処理中には、ステージ部 2 0 3は、 Y方向に高速に往復移動する。そして、上述したように、露光領域 A 4とロード 'ァンロード領域 A Oとは一部重複している。このため、カム部材 4 0 0が口一ド · アン口一ド頜域 A O内に存在したままであると、露光処理中に、複数のレチクルクランプ 3 0 0のうちの一部が、カム部材 4 0 0の溝.4 0 2 a， 4 0 2 bに入り込み、クランプ駆動領域 A 1を通過して、レチクル Rを押圧保持した状態が解除されてしまうからである。

このように、露光処理を開始するに先立って、カム部材 4 0 0をロード ·アンロード領域 A Oから退避させることにより、露光処理中にレチクルクランプ 3 0 0が開放されるおそれを事前に解消することができる。

次いで、レチクルクランプ 3 0 0によるレチクル Rの保持を解除する工程について説明する。

露光処理が完了すると、昇降装置 4 1 0を駆動して、カム部材 4 0 0をロード · アンロード領域 A O内に移動させる。なお、この際、ステージ部 2 0 3は、カム部材 4 0 0との干渉を回避させるために、できるだけ一 Y方向に移動させておく。そして、ステージ部 2 0 3を + Y方向に移動させて、露光領域 A 4からロード · アンロード領域 A O内にまで位置まで移動させる。ステージ部 2 0 3の移動に伴つて、レチクルクランプ 3 0 0のカムフォロア 3 6 3は、カム部材 4 0 0の溝 4 0 2 a , 4 0 2 bに入り込み、順次、クランプ駆動領域 A 1を通過して、内側（レチクル R側）から外側に移動する。このように、カムフォロア 3 6 3を内側から外側に移動させることにより、レチクルクランプ 3 0 0が駆動して、レチクル R の押圧保持が、順次、開放される。

ここで、レチクルクランプ 3 0 0によるレチクル Rの保持（押圧）を開放する際の動作について詳述する。図 6は、レチクル Rの保持を開放する際の動作を示す図である。

まず、図 6 Aに示すように、カムフォロア 3 6 3にレチクル Rから遠のく方向 (紙面右方向）の力を作用させる。すなわち、レチクルクランプ 3 0 0のカムフォロア 3 6 3がカム部材 4 0 0の溝 4 0 2 a , 4 0 2 bに入り込み、クランプ駆動領域 A 1に侵入して、外側（レチクル Rから遠のく方向）に移動し始めた状態である。

カムフォロア 3 6 3にレチクル Rから遠のく方向の力を作用させると、図 6 B に示すように、カムフォロア 3 6 3をピン部 3 6 2周りに回転させるモーメントが作用して、フォロア部 3 6 0がピン部 3 6 2周りに回転し始める。フォロア部 3 6 0がピン部 3 6 2周りに所定角度以上に回転すると、図 6 C'に示すように、板パネ 3 6 4の穴部 3 6 4 aが爪部 3 1 4の垂直面 3 1 4 bを乗り越え、板パネ 3 6 4と爪部 3 1 4との嵌合が外れる。これにより、パネ部 3 5 3 の変形が開放可能となり、フォロア部 3 6 0とクランピングスプリング部 3 5 0 とが一体となって、スライドガイド部 3 4 0に沿って、紙面右側に向けて移動し始める。そして、この移動に伴って、リンク部 3 3 0が紙面右側に移動するので、パッド部 3 2 0は、ピン穴 3 2 1周りに回転し始める。

そして、フォロア部 3 6 0とクランビングスプリング部 3 5 0とを初期位置まで戻す。すなわち、カムフォロア 3 6 3がクランプ駆動領域 A 1を通過して、最：も外側に移動した状態である。すると、図 6 Dに示すように、パッド部 3 2 0が上方に跳ね上がり、レチクル R上から退避する。

以上のようにして、レチクルクランプ 3 0 0によるレチクル Rの押圧保持が開放される。

最後に、レチクル Rをレチクルステージ装置 2 0 0からアンロードする工程では、レチクルクランプ 3 0 0によるレチクル Rの保持が解除された後に、或いは同時に、レチクルホルダ 2 1 1によるレチクル Rの吸着保持を解除する。そして、不図示のレチクル搬送装置により、レチクル Rをレチクルステージ装置 2 0 0上から外部に向けて搬送する。レチクル Rをレチクルステージ装置 2 0 0上に搬入した際と同様に、レチクルクランプ 3 0 0のパッド部 3 1 0が跳ね上がつているため、干渉することなく、レチクル Rを搬出することができる。

以上のようにして、レチクル Rをレチクルステージ装置 2 0 0上に強固に保持するとともに、露光処理中には、その保持を維持することができる。また、レチクル Rをレチクルステージ装置 2 0 0上に載せ降ろしする際にのみ、レチクルクランプ 3 0 0の押圧保持を解除することができる。

そして、レチクル Rをレチクルステージ装置 2 0 0上に強固に保持することにより、レチクルステージ装置 2 0 0を高加速に移動させても、レチクル Rがずれることなく、ウェハ W上に高精度なパターン P Aを形成することができる。

なお、露光処理中にレチクルクランプ 3 0 0によるレチクル Rの押圧保持が角军除されていないことを確認するために、検出装置を設けることが好ましい。例えば、レチクルクランプ 3 0 0のリンク部 3 3 0の上面に反射鏡を設けるとともに、露光領域 A 4の上方にレーザ測長器を設置する。そして、レーザ測長器の下方を通過するリンク部 3 3 0の上面高さを計測することにより、レチクルクランプ 3 0 0の動作状況を検出することが可能となる。或いは、クランピンダスプリング部 3 5 0の本体 3 5 1の位置を計測したり、本体 3 5 1が最も後方に移動した際に作動するリミツトスイッチを設けたりしてもよい。

このように、レチクルクランプ 3 0 0の動作状況を検出することにより、確実にレチクル Rがレチクルステージ装置 2 0 0上に保持されるので、露光処理中にレチクルクランプ 3 0 0が解除されてしまうことに起因する不具合を回避することができる。

次に、図 7〜図 1 4を参照しつつ、本発明のステージ装置等の第 2実施例について説明する。

図 7は本発明に係るレチクルステージ装置 5 0 0を示す斜視図、図 8はレチクルステージ装置 5 0 0の分解斜視図、図 9はステージ部 5 2 0を示す斜視図及び断面図、図 1 0はレチクルホルダ 5 2 5とレチクルクランプ 6 0 0の配置を示す図である。なお、第 1実施形態におけるレチクルステージ装置 2 0 0と同一の構成要素等については、同一の符号を付して、その説明を省略する。

レチクルステージ装置 5 0 0は、図 7に示すように、レチクル定盤 5 1 0、レチクル定盤 5 1 0上を Y方向に所定ストロークで駆動されるステージ部 5 2 0、ステージ部 5 2 0を取り囲むように配置された枠状部材 5 3 0、及びステージ部 5 2 0を駆動するレチクルステージ駆動系（リニアモータ 5 4 0、ボイスコイルモ一タ 5 5 0 ) 等を備える。

レチクル定盤（ベース部） 5 1 0は、不図示の支持部材によって略水平に支持されている。そして、レチクル定盤 5 1 0は、図 8に示すように、概略板状の部材からなり、その略中央に突部 5 1 6 aが形成される。更に、突部 5 1 6 aの略中央には、露光用照明光 E Lを通過させるために、 X軸方向を長手方向とする矩形開口 5 1 6 bが Z方向に連通状態で形成される。

ステージ部（移動部材） 5 2 0は、図 9 Aに示すように、略矩形形状のステージ本体 5 2 2、ステージ本体 5 2 2から Y方向に延設された 4つの延設部 5 2 等から構成される。 4つの延設部 5 2 4の下面には、それぞれ気体静圧軸受が形成される。これにより、ステージ部 5 2 0は、レチクル定盤 5 1 0上に数ミクロン程度のクリアランスを介して、非接触に浮上支持される。

ステージ部 5 2 0の一 Y方向の端部には、コー^ キューブからなる一対の Y 移動鏡 2 3 3 a , 2 3 3 bが固定され、外部に設けた干渉計 2 3 5 a〜 2 3 5 c (図 1 2参照）によって、 Y移動鏡 2 3 3 a， 2 3 3 bの Y方向の位置を測定することで、ステージ部 5 2 0 (レチクル R) の Y方向の位置が高精度に計測される。

また、ステージ本体 5 2 2の略中央には、露光用照明光 E Lの通路となる段付き開口 5 2 3が形成され、この段付き開口 5 2 3の段部（1段掘り下げられた部分）には、レチクル Rを下側から吸着保持するレチクルホルダ（戴置面） 5 2 5 が設けられる。更に、段付き開口 5 2 3の X方向の両辺に沿って、 4つ（各辺にそれぞれ 2つ）のレチクルクランプ 6 0 0が配置される。なお、レチクルクランプ 6 0 0の構成については、後述する。

図 1 0に示すように、レチクルホルダ 5 2 5は、段付き開口 5 2 3の X方向の外側に、 Y方向に沿って矩形状に形成された吸着面 5 2 5 a、 5 2 5 bを有し、レチクル Rの X方向両端の領域をレチクル下面側から真空吸着により保持する。また、真空吸着の代わりに静電吸着を利用してもよいし、真空吸着と静電吸着とを併用してもよい。

レチクルクランプ 6 0 0は、レチクルホルダ 5 2 5よりも更に X方向の外側に 4台が配置され、レチクルホルダ 5 2 5によって吸着保持されたレチクル Rの X 方向両端の領域をレチクル上両側から複数点で押圧保持する。各レチクルクランプ 6 0 0は、それぞれレチクル Rを 2点で押圧する（2つのクランビングエリア 6 0 0 pを有する）ので、全体としてレチクル Rを 8点で押圧保持している。図 1 0に示すように、各レチクルクランプ 6 0 0がレチクル Rを押圧する位置は、吸着面 5 2 5 a又は 5 2 5 bと重なる位置に設定されているが、これに限定されるものではない。例えば、吸着面 5 2 5 a , 5 2 5 bを複数の領域に分割し、吸着保持する領域と押圧保持する領域とが、 Y方向に関して交互に配置されるようにしてもよい。また、レチクル Rの内側（段付き開口 5 2 3に近い側）を吸着保持し、その外側を押圧保持するように配置してもよいし、逆にレチクル Rの内側を押庄保持し、その外側を吸着保持するように配置してもよい。クランピングエリア 6 0 0 pの大きさは特に限定されるものではないが、例えば、各レチクルクランプ 6 0 0において、 Y方向の幅を 2 0〜4 O mm、 X方向の幅を 5〜2 0 mmに設定することができる。

レチクルクランプ 6 0 0によるレチクル Rの押圧保持力は、例えば、 1つのクランピングエリア 6 0 0 pにおいて、 0 . 5〜2 . 0 k g f とすることができる。また、レチクルクランプ 6 0 0による押圧保持力と、レチクルホルダ 5 2 5.におけるレチクル Rの吸着保持力とは、例えば、レチクル R全体でみて、 2対 3から 2対 5の比率となるように設定される。レチクルクランプ 6 0 0による押圧保持力の割合を大きくすると、レチクル Rに歪みが生じる可能性があるので、そのような歪みが生じないように、レチクルクランプ 6 0 0の押圧力とレチクルホルダ 5 2 5の吸着保持力を適宜設定することが好ましい。

ステージ部 5 2 0において、段付き開口 5 2 3の X方向の両側には、リニアモ一夕 5 4 0の可動子ュニット 5 4 4が配置される。可動子ュニット 5 4 4は、図 9 Bに示すように、ステージ本体 5 2 2の上面及び下面に一対の磁極ュニット 5

4 4 a , 5 4 4 bが埋め込まれる。更に、 X方向の端部には、ボイスコイルモ一夕 5 5 0の可動子ユニット 5 4 4が配置される。可動子ュニット 5 4 4としては、板状の永久磁石 5 5 4 aが用いられる。

レチクルステージ駆動系は、ステージ部 5 2 0を Y方向に駆動するとともに 0 _z方向に微少駆動する一対のリニアモータ 5 4 0と、ステージ部 5 2 0を X方向に微少駆動するボイスコイルモ一夕 5 5 0とからなる。一対のリニアモータ 5 4 0は、枠状部材 5 3 0の内部の X方向両側に、それぞれ Y方向に架設された固定子ユニット 5 4 2及び上述した可動子ユニット 5 4 4から構成される。また、ポイスコイルモータ 5 5 0は、枠状部材 5 3 0の内部の— X側に、 Y軸方向に架設された固定子ュニット 5 5 2及び上述した可動子ュニット 5 5 4から構成される。固定子ュニット 5 4 2は、 Y軸方向を長手方向とする一対の Y軸リニアガイド

5 4 2 a , 5 4 2 bからなり、 Z方向に所定間隔を空けて相互に対向して且つ X Y面にそれぞれ平行に保持されて、枠状部材 5 3 0の内壁面に固定される。そして、 Y軸リニアガイド 5 4 2 a , 5 4 2 bの内部には、 Y軸方向に所定間隔で複数の電機子が配置される。そして、各 Y軸リニアガイド 5 4 2 a， 5 4 2 bの間には、所定のクリアランスを介して、ステージ部 5 2 0の磁極ュニット 5 4 4 a， 5 4 4 bが配置される。

固定子ュニット 5 5 2は、 Y軸方向を長手方向とする一対の電機子ュニット 5 5 2 a , 5 5 2 bからなり、 Z方向に所定間隔を空けて相互に対向して且つ XY 面にそれぞれ平行に保持されて、枠状部材 5 3 0の内壁面に固定される。そして、電機子ユニット 5 5 2 a , 5 5 2 bの間には、所定のクリアランスを介して、ステージ部 5 2 0の永久磁石 5 5 4 aが配置される。

このように、 Y軸リニアガイド 5 4 2 a， 5 4 2 b及び磁極ュニット 5 4 4 a , 5 4 4 bによりステージ部 5 2 0を Y方向に移動可能なムービングマグネット型のリニアモー夕 5 4 0が構成される。また、電機子ユニット 5 5 2 a， 5 5 2 b と永久磁石 5 5 4 aとにより、ステージ部 5 2 0を X方向に微少移動可能なムーゼングマグネット型のボイルコイルモータ 5 5 0が構成される。

そして、 Y軸リニアガイド 5 4 2 a， 5 4 2 b内の電機子コイルに電流が供給されると、ステージ部 5 2 0を Y方向に駆動する駆動力が発生する。また、電機子ュニット 5 5 2 a， 5 5 2 bを構成する電機子コイルに Y軸方向の電流が流れると、ステージ部 5 2 0を X方向に駆動する駆動力が発生する。

枠状部材（第 2移動部材） 5 3 0は、その下面に気体静圧軸受が形成される。これにより、枠状部材 5 3 0は、レチクル定盤 5 1 0上に数ミクロン程度のクリァランスを介して非接触に浮上支持される。また、枠状部材 5 3 0の + X側面及び + Y側面には、磁気ュニットからなる可動子 5 6 1， 5 6 3 , 5 6 5 , 5 6 7 が設けられる。これら可動子 5 6 1 , 5 6 3 , 5 6 5 , 5 6 7に対応して、レチクル定盤 5 1 0には、支持台 5 1 2を介して、電機子ユニットからなる固定子 5 6 2 , 5 6 4 , 5 6 6 , 5 6 8が設けられる。可動子 5 6 1， 5 6 3 , 5 6 5 , 5 6 7は、その内部に永久磁石を備えており、 Z方向の磁界を形成する。固定子 5 6 2 , 5 6 4は、その内部に電機子コイルを備えており、 Y方向に電流が流れるように形成される。固定子 5 6 6 , 5 6 8は、その内部に電機子コイルを備えており、 X方向に電流が流れるように形成される。したがって、可動子 5 6 1 , 5 6 3と固定子 5 6 2 , 5 6 4により、ムービングマグネット型ポイスコイルモータからなる X軸方向駆動用のトリムモータ 5 6 0 Xが構成される。同様に、可動子 5 6 5， 5 6 7と固定子 5 6 6， 5 6 8により、ム一ビングマグネット型ボイスコイルモータからなる Y軸方向駆動用のトリムモータ 5 6 0 Yが構成される。このように、 4つのトリムモ一夕 5 6 0 X, 5 6 0 Yにより、枠状部材 5 3 0を X軸方向、 Y軸方向、及び S _z方向の 3自由度方向に駆動することが可能である。また、枠状部材 5 3 0の— X方向及び— Y方向の側壁には、それぞれ窓ガラス 5 3 2， 5 3 4がはめ込まれており、ステージ部 5 2 0の位置を計測するレーザ干渉計 2 3 5 a〜2 3 5 cからの測長ビームが透過可能となっている。

ステージ部 5 2 0の Y方向の位置は、レーザ干渉計 2 3 5 a〜 2 3 5 cから発した測長ビームを、窓ガラス 5 3 4を介して Y移動鏡 2 3 3 a , 2 3 3 bに照射し、その反射光を検出することで行われる。ステージ部 5 2 0の X方向、 0 _Z方向の位置は、レチクル定盤 5 1 0に固定された X固定鏡（図示せず）に複数の測長ビームを照射し、その反射光を検出することで行われる。 X移動鏡は、ステ一ジ部 5 2 0の移動範囲をカバ一するように Y方向に沿って長尺に形成されており、枠状部材 5 3 0の外部に設置される。窓ガラス 5 3 4を通過した測長ビームは、ステージ部 5 2 0に固定された光学素子によって光路を略 9 0度曲げられ、その後、窓ガラス 5 3 2を通過して X固定鏡に達するようになつている。なお、枠状部材 5 3 0に窓ガラス 5 3 2， 5 3 4を設けず、枠状部材 5 3 0の内側（枠内）に前記測長ビームの射出部と X固定鏡とを配置するようにしてもよい。

このように構成されたレチクルステージ装置 5 0 0では、ステージ部 5 2 0の移動に伴う反力が枠状部材 5 3 0の移動によりキャンセルされる。例えば、ステージ部 5 2 0が： X軸方向に駆動されると、ボイスコイルモータ 5 5 0の可動子がステージ部 5 2 0と一体で X軸方向に駆動され、この駆動力の反力がボイスコィルモ一夕 5 5 0の固定子（電機子ュニッ卜 5 5 2 a， 5 5 2 b ) 及び固定子が固定された枠状部材 5 3 0に作用する。枠状部材 5 3 0は、レチクル定盤 5 1 0に対して所定のクリアランスを介して非接触に支持されているので、上述した反力の作用により、枠状部材 5 3 0は、運動量保存の法則に従った距離だけその反力に応じた方向に移動する。同様に、 Y軸方向に駆動された場合にも、運動量保存の法則に従って、枠状部材 5 3 0が移動する。特に、枠状部材 5 3 0がステージ部 5 2 0を取り囲むように形成されているので、必然的に大型化し、その重量がおおきくなる。したがって、ステ一ジ部 5 2 0との重量比を大きくすることができる。このため、枠状部材 5 3 0の移動距離は、比較的短くて足りる。なお、本実施形態においては、レチクルクランプ 6 0 0がステージ部 5 2 0に搭載されているので、枠状部材（カウンタマス） 5 3 0の重量は、レチクルクランプ 6 0 0 の重量を含むステージ部 5 2 0の重量を考慮して、所定の重量比となるように設定されている。

次に、レチクルクランプ 6 0 0の構成について詳述する。図 1 1 Aは、レチクルクランプ 6 0 0を示す斜視図であり、レチクル Rを押圧保持している際の形態を示す。また、図 1 1 Bは、レチクルクランプ 6 0 0の分解斜視図である。なお、レチクルクランプ 6 0 0は、上述したレチクルクランプ 3 0 0と基本的な構造は略同一であるので、レチクルクランプ 3 0 0とは同一の部分については、簡略に説明する。

レチクルクランプ（固定装置） 6 0 0は、図 1 1 Bに示すように、ベ一ス部 6 1 0、パッド部 6 2 0、スライドガイド部 6 4 0、クランビングスプリング部 6

5 0、フォロア部 6 6 0から構成される。

ベース部 6 1 0は、ベ一ス部 3 1 0と略同一の部材であり、凹部 6 1 1に設けられたピン 6 1 2に、後述するパッド部 6 2 0を回転可能に支持する。そして、両脇に設けられた 2つのガイド揷入穴 6 1 3に、ロッド部材 6 4 1とストッパ部

6 4 2とからなるスライドガイド部 6 4 0が揷入、固定される。また、ベ一ス部 6 1 0の上面には、斜面 6 1 4 aと略垂直面 6 1 4 bとを有する 2つの爪部 6 1 4が設けられる。

パッド部 6 2 0は、側面（Y方向）から見ると略三角形に形成された部材からなり、その一頂点部分には、ピン穴 6 2 1が設けられる。そして、上述したように、このピン穴 6 2 1には、ベース部 6 1 0のピン 6 1 2が嵌合する。これにより、ベース部 6 1 0の凹部 6 1 1に収納されて、回転可能に支持される。なお、ピン穴 6 2 1とピン 6 1 2との嵌合部内には、パネ機構が内蔵され、パッド部 6 2 0を上方に跳ね上げる方向に付勢される。また、パッド部 6 2 0の下面には、レチクルホルダ 5 2 5に戴置されたレチクル Rと当接する接触部 6 2 2が設けられ¾。接触部 6 2 2は、 Y方向に伸びた状態に形成される。レチクル Rをより広い面で或いは複数点で押圧するためである。本実施形態において、図 1 0に示すように、各接触部 6 2 2は 2つのクランビングエリア 6 0 0 pを有しており、この 2点でレチクル Rを均等な力で押圧するようになつている。なお、接触部 3 2 2は、当接するレチクル Rに損傷を与えないように、弾性体 6 2 2 aにより構成され、その全周囲に面取りが施してある。

また、上方に配置される他の頂点部分には、後述するクランピングスプリング部 6 5 0の連結部 6 5 2と当接する円弧面 6 2 3が形成される。円弧面 6 2 3は、連結部 6 5 2のローラ 6 5 9とともにカム機構を形成する。具体的には、クランピンダスプリング部 3 6 0の口一ラ 6 5 9で円弧面 6 2 3を + X方向に押圧することにより、パッド部 6 2 0をピン穴 6 2 1回りに回転させるようになつている。また、クランプ点に弾性ピボットを設け、レチクル Rの厚さの誤差、バラツキ等に関わらず、常に同じ状態でレチクル Rを押圧できるようにしておいてもよい。クランピンダスプリング部 6 5 0は、本体 6 5 1と連結部 6 5 2とパネ部 6 5 3とからなり、本体 6 5 1と連結部 6 5 2とがバネ部 6 5 3により連結された構造を備える。本体 6 5 1は、スライドガイド部 6 4 0と嵌合する 2つの穴部 6 5 5を備え、これにより X方向に沿って移動可能に支持される。また、本体 6 5 1 の上部の略中央部には、カムフォロア 6 5 8が設けられる。更に、本体 6 5 1の上部両端には、フォロア部 6 6 0が嵌合する穴部 6 5 7が設けられる。なお、力ムフォロア 6 5 8には、後述するカム部材 7 0 0との接触の際の摩擦を緩和するためにベアリング（軸受） 6 5 8 aが設けられる。連結部 6 5 2は、 X方向に延びた部材からなり、その先端にはローラ 6 5 9が設けられる。パネ部 6 5 3は、弾性ヒンジ機構により構成され、連結部 6 5 2を本体 6 5 1に対して X方向に移動可能に連結する。そして、このパネ部 6 5 3の弾性力によって、レチクル Rを押圧保持する力が与えられる。

フォロア部 6 6 0は、本体 6 6 1、本体 6 6 1の両端に設けられたピン部 6 6 2、本体 6 6 1の上部に設けられたカムフォロア 6 6 3、本体 6 6 1から + X方向に向けて延びる保持板 6 6 5から構成される。フォロア部 6 6 0は、ピン部 6 6 2がクランビングスプリング部 6 5 0の穴部 6 5 7と嵌合することにより、クランピングスプリング部 6 5 0に回転可能に支持される。なお、ピン部 6 6 2と穴部 6 5 7との嵌合部内には、パネ機構が内蔵され、保持板 6 6 5を下方に向けて押し付ける方向に付勢され、保持板 6 6 5が略水平となるように維持される。保持板（保持装置） 6 6 5の先端の両側には、ベース部 6 1 0の爪部 6 1 4と嵌合する矩形の穴部 6 6 5 aが設けられる。なお、カムフォロア 6 6 3には、後述するカム部材 7 0 0との接触の際の摩擦を緩和するためにベアリング（軸受） 6 6 3 aが設けられる。

次に、上述したレチクルステ一ジ装置 5 0 0を露光装置 1 5 0に適用した実施形態について説明する。図 1 2は、露光装置 1 5 0を示す模式図である。なお、露光装置 1 5 0は、レチクルステージ装置 5 0 0を除いては、露光装置 1 0 0と略同一の構成を備えるので、同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を省略する。

レチクルステージ装置 5 0 0は、露光照明系 1 0の直下に設けられる。レチクルステージ装置 5 0 0の具体的構成は、上述した通りである。

レチクルステージ装置 5 0 0のステージ部 5 2 0の移動経路中には、レチクルステージ装置 2 0 0の場合と同様に、ロード ·アンロード領域 A O (ロード領域 A 2 ,アン口一ド領域 A 3 )、クランプ駆動領域 A 1、露光領域 A 4が形成される。そして、ロード ·アンロード領域 A O内の上部には、上述したレチクルクランプ 6 0 0のカムフォロア 6 5 8， 6 6 3と一体となってカム装置（変換装置） C 2 として機能するカム部材 7 0 0が配置される。なお、カム部材 7 0 0は昇降装置 7 1 0を介してレチクル定盤 5 1 0等に固定される。

図 1 3は、カム部材 7 0 0を示す模式図である。カム部材 7 0 0は、カム部材 4 0 0と略同一の構造を備える。カム部材 7 0 0の各部材 7 0 1 a， 7 0 l bの先端部下面には、それぞれ、上述したカムフォロア 6 5 8， 6 6 3が当接する突出部 7 0 2 a , 7 0 2 b , 7 0 3 a , 7 0 3 bが形成される。具体的には、カムフォロア 6 5 8が突出部 7 0 2 a , 7 0 2 bの側壁に当接する。また、カムフォロア 6 6 3が突出部 7 0 3 a , 7 0 3 bの側壁に当接する。なお、突出部 7 0 2 •a , 7 0 2 b , 7 0 3 a , 7 0 3 bの側面には、カムフォロア 6 5 8 , 6 6 3との接触による摩耗を軽減するために、焼入れ材料（例えば S U S 4 2 0 J 2焼入れ焼き戻し材）が用いられると共に硬質クロムメツキが施される。 ^た、カム部 7 0 0以外にも、対摩耗対策が必要な箇所には、前述のような焼入れ材に硬質クロムメツキを施した部材を用いてもよい。

突出部 7 0 2 aと突出部 7 0 3 a、及び突出部 7 0 3 bと突出部 7 0 3 bの X 方向の間隔は、それぞれ各部材 7 O l a , 7 0 1 bの先端部分においては大きく形成され、 + Y方向に向かうに従って徐々に細くなり、再度、大きくなるように形成される。特に、突出部 7 0 2 a， 7 0 2 bは、 + Y方向に向かうに従って、一旦、内側（レチクル R側）に寄り、その後は、徐々に外側に寄るように形成される。（以下、突出部 7 0 2 a， 7 0 2 b , 7 0 3 a , 7 0 3 bが形成された領域をクランプ駆動領域 A 1と呼ぶ。）

これにより、カムフォロア 6 5 8， 6 6 3が図 1 2 Aの紙面左側から + Y方向に移動してくると、カムフォロア 6 5 8 , 6 6 3は、突出部 7 0 2 a， 7 0 3 a の間、及び突出部 7 0 2 b， 7 0 3 bの間に入り込む。そして、クランプ駆動領域 A 1を通過する際に、まず、各カムフォロア 6 5 8 ^ ^それぞれ突出部 7 0 2 a , 7 0 2 bに当接し、一旦、外側から内側に移動するように案内された後に、再び外側から内側に移動するように案内される。一方、カムフォロア 6 6 3は、カムフォロア 6 5 8に追従して移動するが、突出部 7 0 3 a , 7 0 3 bに当接すると、カムフォロア 6 6 3とは逆方向、すなわちカムフォロア 6 6 3がレチクルから遠ざかって、カムフォロア 6 5 8に近づくように案内される。

なお、カム部材 4 0 0と同様に、カム部材 7 0 0の先端にはバネ（暧衝装置） 7 0 4が設けられるとともに、カム部材 7 0 0を上方に移動させる昇降装置（退避装置） 7 1 0が設けられる。

また、カム部材 7 0 0とカムフォロア 6 6 3との接点は、レチクルクランプ 6 0 0が閉じる側（開→閉）で低く、開く側（閉—開）で高くなるように設定してもよい。これにより、クランプ 6 0 0が閉じるときに生じるモーメント荷重を小さく抑え、開く際には保持板 6 6 5が容易に爪部 6 1 4から外れるようにすることが可能となる。次に、露光装置 1 5 0を用いた露光処理について説明するが、その大半は第 1 実施形態と略同一の工程であるので、以下ではレチクルクランプ 6 0 0の動作についてのみ説明する。

図 1 4は、レチクル Rを押圧保持する際のレチクルクランプ 6 0 0の動作を示す図である。

まず、図 1 4 Aに示すように、レチクルクランプ 6 0 0は、初期状態では、パッド部 6 2 0が跳ね上がった状態で維持されている。ピン穴 6 2 1とピン 6 1 2 との嵌合部内に内蔵されたバネ機構により付勢されているからである。

そして、ステージ部 5 2 0上のレチクルホルダ 5 2 5にレチクル Rが戴置されて、吸着保持されると、カムフォロア 6 5 8にレチクル R側に向けた力を作用させる。すなわち、カムフォロア 6 5 8がクランプ駆動領域 A 1に侵入し、カム部材 7 0 0の突出部 7 0 2 a , 7 0 2 bに沿って、内側（レチクル Rに近づく方向）に移動し始めた場合である。

カムフォロア 6 5 8にレチクル R側 (紙面左方向）に向けた力を作用させると、図 1 4 Bに示すように、フォロア部 6 6 0とクランピンダスプリング部 6 5 0とがー体となって、スライドガイド部 6 4 0に沿って、ベース部 6 1 0に向けて移動し始める。上述したように、カムフォロア 6 6 3がカムフォロア 6 5 8に追従して移動するのはこのためである。

また、クランビングスプリング部 6 5 0の移動に伴って、カムフォロア 6 5 8 に作用させた力は、連結部 6 5 2の先端に設けられたローラ 6 5 9からパッド部 6 2 0の円弧面 6 2 3を介してパッド部 6 2 0に伝達されて、パッド部 6 2 0をピン穴 6 2 1周りに回転させる。

次いで、図 1 4 Cに示すように、保持板 6 6 5がベース部 6 1 0の爪部 6 1 4 に当接する直前に、カムフォロア 6 6 3にレチクル Rから遠のく方向（紙面右方向）の力を作用させる。すなわち、カムフォロア 6 6 3が、クランプ駆動領域 A 1内で、カム部材 7 0 0の突出部 7 0 3 a , 7 0 3 bに沿って、外側（レチクル Rから遠のく方向）に移動し始めた場合である。これにより、フォロア部 6 6 0 は、ピン部 6 6 2周りに回転し、保持板 6 6 5が上方に跳ね上げられる。

一方、パッド部 6 2 0は、ピン穴 6 2 1周りに更に回転し、接触部 6 2 2がレチクル Rに当接する。接触部 6 2 2がレチクル Rに当接することにより、パッド部 6 2 0は、ピン穴 6 2 1周りに更に回転することができなくなるので、クランビングスプリング部 6 5 0のパネ部 6 5 3が変形し始める。

そして、カムフォロア 6 5 8， 6 6 3がクランプ駆動領域 A 1を通り過ぎる際に、まず、カムフォロア 6 6 3に作用させていた力が解除されて、図 1 4 Dに示すように、保持板 6 6 5が水平状態に戻り、これにより穴部 6 6 5 aがべ一ス部 6 1 0の上面に設けた爪部 3 1 4と嵌合する。続いて、カムフォロア 6 5 8に作用させていた力も解除され、クランビングスプリング部 6 5 0のパネ部 6 5 3の弾性力によって、クランビングスプリング部 6 5 0をレチクル Rから遠ざける方向に移動させる力が作用する。しかしながら、クランピンダスプリング部 6 5 0 と連結するフォロア部 6 6 0の保持板 6 6 5がべ一ス部 6 1 0の爪部 6 1 4と嵌合しているので、クランピンダスプリング部 6 5 0の移動が規制される。したがつて、クランピンダスプリング部 6 5 0のパネ部 6 5 3の弾性力は、パッド部 6

2 0を強固に押圧し、レチクル Rが強固に押圧保持し続ける。

次に、レチクルクランプ 6 0 0によるレチクル Rの押圧保持を開放する際の動作について説明する。開放動作は、押圧保持動作を逆転させたものであるため、図 1 4を用いて説明する。

まず、レチクル Rを強固に押圧保持しているレチクルクランプ 6 0 0 (図 1 4 D参照）に対して、図 1 4 Cに示すように、カムフォロア 6 5 8， 6 6 3にそれぞれカを作用させる。すなわち、カムフォロア 6 5 8 , 6 6 3がクランプ駆動領域 A 1に侵入し、カム部材 7 0 0の突出部 7 0 2 a， 7 0 2 b , 7 0 3 a , 7 0

3 bに当接した場合である。これにより、フォロア部 6 6 0は、ピン部 6 6 2周りに回転し、保持板 6 6 5が上方に跳ね上げられ、ベース部 6 1 0との嵌合が外れる。したがって、パネ部 6 5 3の変形が開放可能となり、フォロア部 6 6 0とクランピンダスプリング部 6 5 0とが一体となって、レチクル Rから遠ざかる方向に移動可能となる。

そして、図 1 4 Bに示すように、保持板 6 6 5が水平状態に戻ると共に、カムフォロア 6 5 8への力の作用点がレチクル Rから遠ざかるように移動する。すなわち、カムフォロア 6 5 8のみがカム部材 7 0 0の突出部 7 0 2 a， 7 0 2 bに当接している場合である。これにより、フォロア部 6 6 0とクランピンダスプリング部 6 5 0とが一体となって、スライドガイド部 6 4 0に沿って、紙面右側に向けて移動する。

また、クランピンダスプリング部 6 5 0の移動に伴って、ピン穴 6 2 1とピン 6 1 2との嵌合部内に内蔵されたパネ機構の変形も開放され、パッド部 6 2 0が徐々に跳ね上げられる。

そして、図 1 4 Aに示すように、レチクルクランプ 6 0 0が初期状態に戻され、レチクル Rの押圧保持が開放される。続いて、レチクルホルダ 5 2 5によるレチクル Rの吸着保持を開放することにより、ステージ部 5 2 0上からレチクル Rを取り外すことが可能となる。

以上、説明したように、レチクルクランプ 6.0 0は、レチクルクランプ 3 0 0 とは異なり、保持板 6 6 5の穴部 6 6 5 aを爪部 6 1 4に嵌合させる際に保持板 6 6 5が爪部 6 1 4の斜面 6 1 4 aと擦れ合ったり、また、嵌合を解除させる際に保持板 6 6 5の穴部 6 6 5 aと爪部 6 1 4の略垂直面 6 1 4 bとが擦れ合つたりしないので、レチクルクランプ 6 0 0の押圧保持動作、開放動作を長期間に渡つて、円滑に行われる。すなわち、保持板 6 6 5と爪部 6 1 4の摩耗に起因する不具合の発生が殆どなくなる。

また、レチクルクランプ 3 0 0と同様に、露光処理中にレチクルクランプ 6 0 0によるレチクル Rの押圧保持が解除されていないことを確認するために、検出装置を設けることが好ましい。例えば、連結部 6 5 2の上面に反射鏡を設けるとともに、露光領域 Aの上方に、露光動作に妨げにならないようにレーザ測長器を設置する。そして、レーザ測長器で下方を通過する連結部 6 5 2の X方向に関する位置又は Z方向に関する位置を計測することで、レチクルクランプ 6 0 0の動作状況を検出することが可能となる。これにより、確実にレチクル Rがレチクルステージ装置 5 0 0上に保持されるので、露光処理中にレチクルクランプ 6 0 0 が解除されてしまうことに起因する不具合を回避することができる。

なお、上述した実施の形態において示した動作手順、あるいは各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲においてプロセス条件や設計要求等に基づき種々変更可能である。本発明は、例えば以下のような変更をも含むものとする。

レチクルホルダ 2 1 1， 5 2 5にレチクル Rを搭載させるロード鎮域 A 2と、レチクル Rを取り出すアンロード領域 A 3とが一致する場合について説明したが、これに限らない。例えば、レチクルステージ装置 2 0 0 , 5 0 0のストロークの両端にロード領域 A 2とアンロード領域 A 3を配置し、それぞれの領域にカム部材 4 0 0を配置してもよい。

また、カム部材 4 0 0， 7 0 0をロード領域 A 2或いはアンロード領域 A 3から退避させる昇降装置 4 1 0 , 7 1 0は、カム部材 4 0 0， 7 0 0を上下させる場合に限らない。例えば、カム部材 4 0 0 , 7 0 0を回転させて退避させてもよい。

また、ステージ部 2 0 3， 5 2 0がカム部材 4 0 0， 7 0 0を通過してレチクルクランプ 3 0 0 , 6 0 0を開閉する際は、耐久性ゃレチクル Rの保護を考慮して、ステージ部 2 0 3， 5 2 0の速度に制限を加えるようにしてもよい。

また、レチクルステージ装置 2 0 0， 5 0 0では、ステージ部 2 0 3 , 5 2 0 の + Y方向の移動に応じて、リニアモータ 2 0 5 , 5 4 0の固定子 2 0 5 a， 5 4 2が— Y方向に移動することにより、ステージ部 2 0 3， 5 2 0の移動に伴う反力を相殺して、重心位置の変化を防ぐようにしていが、このような形態に限らない。エアパッドをレチクル装置 2 0 0 , 5 0 0とコラム 2 0 1の間に設けて、レチクル装置 2 0 0 , 5 0 0を浮上支持することにより、ステージ部 2 0 3， 5 2 0の + Y方向の移動に応じて、レチクル定盤 2 0 2 , 5 1 0がー Y方向に移動 'するように構成してもよい。

本実施形態では、レチクル Rをレチクルクランプ 3 0 0 , 6 0 0により、押圧保持する場合について説明したが、これに限らず、ウェハ Wをクランプ装置（固定装置）により押圧保持する場合であってもよい。また、レチクル Rとウェハ" W とがそれぞれ押圧保持される場合であってもよい。

また、レチクルクランプ 3 0 0， 6 0 0がレチクル Rの上面を押圧する場合に限らず、レチクル Rの端面を押圧してもよい。

また、本発明が適用される露光装置として、マスクと基板とを静止した状態でマスクのパターンを露光し、基板を順次ステップ移動させるステップ'アンド · リピート型の露光装置を用いてもよい。

また、本発明が適用される露光装置として、投影光学系を用いることなくマスクと基板とを密接させてマスクのパターンを露光するプロキシミティ露光装置を用いてもよい。

また、露光装置の用途としては半導体デバイス製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを露光する液晶用の露光装置や、薄膜磁気へッドを製造するための露光装置にも広く適当できる。

また、本発明が適用される露光装置の光源には、 g線（4 3 6 nm)、 i線（3 6 5 n m)、 K r Fエキシマレーザ（2 4 8 n m)、 A r Fエキシマレ一ザ（ 1 9 3 n m)、 F 2.レーザ（1 5 7 n m) のみならず、 X線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンへキサポライト（L a B 6 )、タンタル（T a ) を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合、マスクを用いる構成としてもよいし、マスクを用いずに直接基板上にパターンを形成する構成としてもよい。さらに、投影光学系の倍率は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでもよい。

また、投影光学系としては、エキシマレ一ザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、 F 2レーザや X線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（このとき、レチクルも反射型タイプのものを用いる）、また、電子線を用いる場合には光学系として電子レンズおよび偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は真空状態にすることはいうまでもない。

また、ウェハステージゃレチクルステージにリニアモー夕を用いる場合は、ェアベァリングを用いたエア浮上型および口一レンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもよい。さらに、ステージの駆動装置として平面モー夕を用いる場合、磁石ユニット（永久磁石）と電機子ュニットのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ュニットの他方をステージの移動面側（ベース）に設ければよい。ウェハステージの移動により発生する反力は、特開平 8— 1 6 6 4 7 5号公報及びこれに対応する米国特許 6， 2 8 1 , 4 5 4号に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本国際出願で指定した指定国（又は選択した選択国）の国内法令で許される限りにおいて、上記公報及び対応する米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。レチクルステージの移動により発生する反力は、特開平 8— 3 3 0 2 2 4号公報及びこれに対応する米国特許 6， 6 8 3， 4 3 3号に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。本国際出願で指定した指定国（又は選択した選択国）の国内法令で許される限りにおいて、上記公報及び対応する米国特許における開示を援用して本明細書の記載の一部とする。また、本発明が適用される露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。また、半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図 8に示すように、マイクロデバイスの機能 ·性能設計を行うステップ 8 0 1、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ 8 0 2、シリコン材料からデバイスの基材であるウェハを製造するステップ 8 0 3、前述した実施例の露光装置によりマスクのパ夕一ンをウェハに露光する露光処理ステップ 8 0 4、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む） 8 0 5 、検査ステップ 8 0 6等を経て製造される。産業上の利用の可能性

本発明の第 1の態様のステージ装置によれば、特別な駆動装置を設けることなく、ステージ装置が所定の領域を通過するだけで自動的に固定装置が駆動して板状体を固定することができる。

本発明の第 2の態様の固定する方法によれば、特別な駆動装置を設けることなく、ステージ装置が所定の領域を通過するだけで自動的に固定装置が駆動して板状体を固定することができる。

本発明の第 3の態様の露光装置によれば、固定装置がマスク或いは基板を強固に押圧保持するので、露光処理中にステージを高速に加減速させても、マスク或いは基板がずれることがな.く、高精度なパターンを基板に転写することができる。本発明の第 4の態様の露光方法によれば、マスク或いは基板を強固に押圧保持できるので、露光処理中にステージを高速に加減速させても、マスク或いは基板がずれることがなく、高精度なパタ一ンを基板に転写することができる。

本発明の第 5の態様のデバイスの製造方法によれば、高精度なパターンが転写されたデバイスを製造することができる。

Claims

請求の範囲

1 . 戴置面に板状体を戴置して移動可能な移動部材を有するステージ装置であつて、

前記板状体を前記戴置面に固定する固定装置を備え、前記固定装置は、前記移動部材が所定の第 1領域を通過するのに連動して前記板状体の固定を行うことを特徴とするステージ装置。

2 . 前記板状体を前記移動部材に搭載する第 2領域を有し、

前記移動部材が前記第 2領域から移動した後に前記第 1領域を通過することで、前記固定装置が前記板状体を固定することを特徴とする請求項 1に記載のステージ装置。

3 . 前記移動部材から前記板状体を降ろす第 3領域を有し、

前記移動部材が前記第 3領域に向かう途中で前記第 1領域を通過することで、前記固定装置が前記板状体の固定を解除することを特徴とする請求項 1に記載のステージ装置。

4. 前記第 2領域と前記第 3領域とが同一の領域であることを特徴とする請求項 3に記載のステージ装置。

5 . 前記固定装置が前記板状体を固定する際に前記移動部材が前記第 1領域を通過するときの移動方向と、前記固定装置が前記板状体の固定を解除する際に前記第 1領域を通過するとぎの移動方向とは、互いに相反する向きであることを特徵とする請求項 3に記載のステージ装置。

6 . 前記移動部材が前記第 1領域を通過する際に、前記移動部材の一部と機械的に接触することで前記移動部材の移動を前記固定装置の動力に変換する変換装置をさらに備えることを特徴とする請求項 1に記載のステージ装置。

7. 前記移動部材を支持するベース部をさらに備えるとともに、前記変換装置はカム装置であって、

前記カム装置は、前記ベース部に設けられたカム部材と前記固定装置に設けられたカムフォロアとを備えることを特徴とする請求項 6に記載のステージ装置。

8 . 前記カムフォロアは、前記カム部材との摩擦を低減する軸受を備えることを特徴とする請求項 7に記載のステージ装置。

9 . 前記カム部材は、前記カムフォロアとの接触時の抵抗を低減する暖衝装置を備えることを特徴とする請求項 7に記載のステージ装置。

1 0 . 前記カム部材を前記移動部材の移動経路から退避させる退避装置をさらに備えることを特徴とする請求項 7に記載のステージ装置。

1 1 . 前記移動部材が前記第 1領域を通過する際に、前記移動部材の一部と機械的に接触することで、前記移動部材の移動を前記固定装置の動力にするカム装置をさらに備え、

前記カム装置の少なくとも一部が前記第 2領域に配置されることを特徴とする請求項 2に記載のステージ装置。

1 2 . 前記固定装置は、前記板状体の固定を保持するための保持装置を備えることを特徴とする請求項 1に記載のステージ装置。

1 3 . 前記固定装置は、前記板状体との接触部に設けられた弾性体を備えることを特徴とする請求項 1に記載のステージ装置。

1 4. 前記移動部材の駆動時に生じる反力の作用により、前記移動部材との間の重量比に応じて前記移動部材の移動方法とは反対の方向に移動するように設けられた第 2移動部材を備え、

前記移動部材の重量が、前記固定装置の重量の少なくとも一部を含んでいることを特徴とする請求項 1に記載のステージ装置。

1 5 . ステージ装置が有する移動部材に板状体を固定する方法であって、前記移動部材がステージ装置内に設けられた所定の第 1領域を通過するのに連動して前記板状体の固定を行うことを特徴とする板状体の固定方法。

1 6 . 前記移動部材が、前記板状体を前記移動部材に搭載する第 2領域から移動した後に前記第 1領域を通過することで、前記固定装置が前記板状体を固定することを特徴とする請求項 1 5に記載の板状体の固定方法。

1 7 . 前記移動部材が、前記移動部材から前記板状体を降ろす第 3領域に向かう途中で前記第 1領域を通過することで、前記固定装置が前記板状体の固定を解除することを特徴とする請求項 1 5に記載の板状体の固定方法。

1 8 . 前記第 2領域と前記第 3領域とが同一の領域であることを特徴とする請求項 1 7に記載の板状体の固定方法。

1 9 . マスクを保持するマスクステージと、基板を保持する基板ステージとを有し、前記マスクに形成されたパターンを前記基板に露光する露光装置において、前記マスクステージと前記基板ステージの少なくとも一方に、請求項 1に記載のステージ装置を用いることを特徴とする露光装置。

2 0 . マスクをマスクステージに固定するとともに、基板を基板ステージに固定し、前記マスクに形成されたパターンを前記基板に露光する露光方法において、前記マスクの固定方法と前記基板の固定方法の少なくとも一方に、請求項 1 5 に記載の固定方法を用いることを特徴とする露光方法。

2 1 . リソグラフイエ程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフイエ程において請求項 1 9に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。

2 2 . リソグラフイエ程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフイエ程において請求項 2 0に記載の露光方法を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。