TWI793801B - 鈣鈦礦光學元件及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
一種鈣鈦礦光學元件,用以解決習知鈣鈦礦元件不耐高溫且使用壽命短的問題。係包含:一導光單元,用於傳遞光線及作為共振腔;及一發光層,由鈣鈦礦材料所形成之薄膜包覆該導光單元,由一激發模組驅動該發光層發光,再透過該導光單元傳導及輸出。本發明另揭示一種鈣鈦礦光學元件的製造方法,包含:調配一浸塗溶液;將一單晶光纖浸入該浸塗溶液一小時後取出乾燥;及將該單晶光纖入一管式爐加熱,並導入一合成分子。
Description
本發明係關於一種光電材料,尤其是一種在室溫下操作且輸出穩定的鈣鈦礦光學元件及其製造方法。
鈣鈦礦(Perovsite)係具有通式ABX3結構的化合物,通常A位為陽離子,B位為金屬離子,X位為鹵素陰離子,其中,由金屬鹵化物鈣鈦礦(Metal Halide Perovsite)所製造的鈣鈦礦薄膜,例如:甲基胺碘化鉛(CH3NH3PbI3,MAPbI3),具有高光能轉換效率及低閾值的光致發光特性,可以做為光伏材料或發光元件,應用於太陽能發電、雷射、發光二極體等技術。又,調整鈣鈦礦薄膜的鹵化物比例,係可以產生不同波長範圍的發光,能夠使用於節能半導體照明裝置及積體光路光源。
上述習知的鈣鈦礦薄膜接觸環境中的水及氧會發生劣化而縮短使用壽命,且鈣鈦礦材料的散熱效果差又不耐高溫,係導致習知的鈣鈦礦薄膜必須在無水、無氧且低溫的工作環境中使用,利用習知的鈣鈦礦薄膜所製作的光學元件,係無法在室溫及非密閉條件下操作,而難以應用於照明、光學晶片等技術領域。又,由於鈣鈦礦材料中的交互作用機制複雜,使習知鈣鈦礦薄膜的製造過程及後處理方式複雜,而增加生產及維護的成本。
有鑑於此,習知的鈣鈦礦薄膜及其製造方法確實仍有加以改善
之必要。
為解決上述問題,本發明的目的是提供一種鈣鈦礦光學元件,係可以在室溫環境下操作發光。
本發明的次一目的是提供一種鈣鈦礦光學元件,係可以多波長輸出光線。
本發明的又一目的是提供一種鈣鈦礦光學元件,係可以縮小體積及降低耗能。
本發明的再一目的是提供一種鈣鈦礦光學元件的製造方法,係可以降低元件製造難度。
本發明全文所述方向性或其近似用語,例如「內」、「外」、「側面」等,主要係參考附加圖式的方向,各方向性或其近似用語僅用以輔助說明及理解本發明的各實施例,非用以限制本發明。
本發明全文所記載的元件及構件使用「一」或「一個」之量詞,僅是為了方便使用且提供本發明範圍的通常意義;於本發明中應被解讀為包括一個或至少一個,且單一的概念也包括複數的情況,除非其明顯意指其他意思。
本發明的鈣鈦礦光學元件,包含:一導光單元,為單晶光纖切段的柱狀結構,用於傳遞光線及作為共振腔;及一發光層,由鈣鈦礦材料所形成之薄膜包覆該導光單元,由一脈衝雷射將雷射光以任意角度入射該發光層,以驅動該發光層發光,再透過該導光單元傳導及輸出。
本發明的鈣鈦礦光學元件的製造方法,包含:調配一浸塗溶液;將一單晶光纖浸入該浸塗溶液一小時後取出乾燥;及將該單晶光纖入一
管式爐加熱,並導入一合成分子,在該單晶光纖上形成鈣鈦礦薄膜。
據此,本發明的鈣鈦礦光學元件及其製造方法,藉由該導光單元之高導熱、光傳遞及微型共振腔特性,結合該發光層之高發光效率及發光波長可調特性,所產生的光學元件係可以在常溫下操作,並提供全波段的光線,另外,鈣鈦礦光學元件的體積小且可選擇由電或光簡單驅動,係具有降低製造複雜度、減少驅動耗能及適合應用於光學晶片等功效。
其中,該導光單元是單晶光纖切段的柱狀結構,該發光層包覆該導光單元的側表面,該導光單元兩端的橫切面用以連接光源或輸出光線。如此,該發光層包覆該導光單元的面積可以最大化,係具有快速散熱及提升光傳輸效率的功效。
其中,該發光層之鈣鈦礦材料是甲基胺碘化鉛。如此,該發光層可以收低耗能激發產生光線,且調整其鹵化物比例可以產生不同波長的光線,係具有降低驅動能量及多波長輸出的功效。
本發明的鈣鈦礦光學元件另具有一保護層,覆蓋於該發光層之外表面。如此,該保護層係可以防止環境中的水及氧直接接觸該發光層,係具有增加光學元件使用壽命的功效。
其中,該浸塗溶液係將碘化鉛溶於二甲基甲醯胺溶劑製成,在該單晶光纖表面形成碘化鉛結晶,又,該合成分子為甲基碘化銨,加熱後,該單晶光纖上的碘化鉛合成該合成分子產生甲基胺碘化鉛薄膜。如此,係可以調整碘化鉛的比例,及形成均勻甲基胺碘化鉛薄膜,係具有提升發光效率及多波長輸出的功效。
其中,該管式爐由兩端封閉並對爐具中段加熱,在該管式爐內部空間導入惰性氣體及該合成分子。如此,該管式爐係可以調整並維持內部的溫度及壓力,係具有提升合成反應穩定度的功效。
其中,該單晶光纖進入該管式爐後,先將該管式爐抽真空至氣壓為0.01至5Torr之間,再逐漸加熱該管式爐達到100℃至130℃之範圍內,同時填充惰性氣體使氣壓上升到5至20Torr之間,並加入該合成分子進行反應,在反應過程中,該管式爐維持上述溫度及氣壓區間,並持續1~5小時。如此,該合成分子在密閉且穩定的環境條件進行反應,係具有避免異物摻雜及提升鈣鈦礦材料品質的功效。
1:導光單元
2:發光層
3:保護層
S:激發模組
B:基座
F:玻璃光纖
D:浸塗溶液
C:單晶光纖
T:管式爐
M:合成分子
P:載台
〔第1圖〕本發明較佳實施例的局部放大立體圖。
〔第2圖〕本發明較佳實施例的發光操作情形圖。
〔第3圖〕本發明較佳實施例的浸塗乾燥製程的動作情形圖。
〔第4圖〕本發明較佳實施例的合成製程的動作情形圖。
為讓本發明之上述及其他目的、特徵及優點能更明顯易懂,下文特舉本發明之較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下:請參照第1圖所示,其係本發明鈣鈦礦光學元件的較佳實施例,係包含一導光單元1及一發光層2,該發光層2係圍繞包覆該導光單元1。
該導光單元1可以是將單晶光纖(Single Crystal Optical Fiber,SCF)裁切段並去除外層保護套而產生,使該導光單元1為包括纖芯(Core)及包層(Cladding)的柱狀結構,該導光單元1兩端的橫切面係可以連接光源或一般通信光纖,該導光單元1用以傳遞光信號並兼具共振腔特性,又,該導光單元1的側表面較佳具有原子級介面平整度,使奈米材料可以順利結
晶成長於單晶光纖表面。
該發光層2係由鈣鈦礦材料所形成之薄膜,使鈣鈦礦薄膜除該導光單元1兩端的橫切面外,還能夠完整包覆該導光單元1的側表面,該發光層2係可以接受外加光源或電壓的激發而產生光線,且該光線可以透過該導光單元1傳遞,或在該導光單元1內進行共振後輸出雷射,該光線的波長可以依據鈣鈦礦材料的鹵素比例調整。在本實施例中,該發光層2之鈣鈦礦材料是甲基胺碘化鉛。
本發明的鈣鈦礦光學元件還可以具有一保護層3,該保護層3覆蓋於該發光層2之外表面,係可以防止環境中的水及氧直接接觸該發光層2,以避免鈣鈦礦材料劣化而降低元件壽命;另外,藉由該導光單元1之單晶光纖高導熱係數特性,覆蓋於該導光單元1之該發光層2能夠快速散熱,解決鈣鈦礦材料不耐高溫的問題。
請參照第2圖所示,其係本發明鈣鈦礦光學元件用於發光的裝置圖,該發光層2連接一激發模組S,該激發模組S可以是脈衝雷射,將雷射光打入該發光層2,使鈣鈦礦材料產生光致發光,又,雷射光可以由任意角度入射,例如:該激發模組S可以位於該導光單元1側面,使雷射以垂直導光方向的路線進入該發光層2,以節省該激發模組S的安裝空間。該激發模組S還可以是電壓源,透過將電壓源的正負極分別電性連接該發光層2,係可以將電場作用於該發光層2,使鈣鈦礦材料產生電致發光,電場的正負極位置較佳對應該導光單元1的兩端,係可以使該發光層2在電場範圍內的面積最大化,以提升發光效率。
另外,包覆該發光層2之該導光單元1固定於一基座B,該基座B可以是光纖固定器,在該導光單元1之纖芯接合校準後由該基座B固定,以維持光路暢通;該導光單元1之一端係對準連接一玻璃光纖F,使該發光
層2產生的光線在該導光單元1傳遞或共振後,再透過該玻璃光纖F輸出至光學晶片或其他光學元件,係可以取代二極體雷射作為積體光路的前端光源。
請參照第3及4圖所示,其係本發明的鈣鈦礦光學元件的製造方法之較佳實施例的製程步驟,係包含調配一浸塗溶液D;將一單晶光纖C浸入該浸塗溶液D一小時後取出乾燥;將該單晶光纖C入一管式爐T加熱,並導入一合成分子M。
該浸塗溶液D係將碘化鉛(PbI2)溶於二甲基甲醯胺(Dimethylformamide,C3H7NO,DMF)溶劑製成;在該單晶光纖C浸泡該浸塗溶液D及乾燥過程中,碘化鉛結晶形成於該單晶光纖C表面,上述流程皆在室溫環境中進行。
請參照第4圖所示,該管式爐T可以由兩端封閉並對爐具中段加熱,該管式爐T內部空間可以導入惰性氣體及該合成分子M,該管式爐T內還可以設置一載台P用以放置待加工件。在本實施例中,將被碘化鉛結晶包覆之該單晶光纖C置於該載台P後,先將該管式爐T抽真空至氣壓為0.01至5Torr之間,再逐漸加熱該管式爐T達到100℃至130℃之範圍內,同時填充惰性氣體使氣壓上升到5至20Torr之間,加入該合成分子M進行反應,在反應過程中,該管式爐T維持上述溫度及氣壓區間,並持續1~5小時,惟,本發明不以此為限。其中,該惰性氣體可以是氬(Ar)氣,該合成分子M為甲基碘化銨(CH3NH3I,MAI),係可以與該單晶光纖C上的碘化鉛合成產生甲基胺碘化鉛薄膜。
綜上所述,本發明的鈣鈦礦光學元件及其製造方法,藉由該導光單元之高導熱、光傳遞及微型共振腔特性,結合該發光層之高發光效率及發光波長可調特性,所產生的光學元件係可以在常溫下操作,並提供全波段的光線,另外,鈣鈦礦光學元件的體積小且可選擇由電或光簡單驅動,係具
有降低製造複雜度、減少驅動耗能及適合應用於光學晶片等功效。
雖然本發明已利用上述較佳實施例揭示,然其並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者在不脫離本發明之精神和範圍之內,相對上述實施例進行各種更動與修改仍屬本發明所保護之技術範疇,因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
1:導光單元
2:發光層
3:保護層
S:激發模組
B:基座
F:玻璃光纖
Claims (8)
- 一種鈣鈦礦光學元件,包含:一導光單元,為單晶光纖切段的柱狀結構,用於傳遞光線及作為共振腔;及一發光層,由鈣鈦礦材料所形成之薄膜包覆該導光單元,由一脈衝雷射將雷射光以任意角度入射該發光層,以驅動該發光層發光,再透過該導光單元傳導及輸出。
- 如請求項1之鈣鈦礦光學元件,其中,該發光層包覆該導光單元的側表面,該導光單元兩端的橫切面用以連接光源或輸出光線。
- 如請求項1之鈣鈦礦光學元件,其中,該發光層之鈣鈦礦材料是甲基胺碘化鉛。
- 如請求項1之鈣鈦礦光學元件,另具有一保護層,覆蓋於該發光層之外表面。
- 一種鈣鈦礦光學元件的製造方法,包含:調配一浸塗溶液;將一單晶光纖浸入該浸塗溶液一小時後取出乾燥;及將該單晶光纖入一管式爐加熱,並導入一合成分子,在該單晶光纖上形成鈣鈦礦薄膜。
- 如請求項5之鈣鈦礦光學元件的製造方法,其中,該浸塗溶液係將碘化鉛溶於二甲基甲醯胺溶劑製成,在該單晶光纖表面形成碘化鉛結晶,又,該合成分子為甲基碘化銨,加熱後,該單晶光纖上的碘化鉛合成該合成分子產生甲基胺碘化鉛薄膜。
- 如請求項5之鈣鈦礦光學元件的製造方法,其中,該管式爐由兩端封閉並對爐具中段加熱,在該管式爐內部空間導入惰性氣體及該合成 分子。
- 如請求項7之鈣鈦礦光學元件的製造方法,其中,該單晶光纖進入該管式爐後,先將該管式爐抽真空至氣壓為0.01至5Torr之間,再逐漸加熱該管式爐達到100℃至130℃之範圍內,同時填充惰性氣體使氣壓上升到5至20Torr之間,並加入該合成分子進行反應,在反應過程中,該管式爐維持上述溫度及氣壓區間,並持續1~5小時。
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