TWI745417B - 組成物、膜的製造方法、近紅外線截止濾光片的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及紅外線感測器的製造方法 - Google Patents
組成物、膜的製造方法、近紅外線截止濾光片的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及紅外線感測器的製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI745417B TWI745417B TW106128338A TW106128338A TWI745417B TW I745417 B TWI745417 B TW I745417B TW 106128338 A TW106128338 A TW 106128338A TW 106128338 A TW106128338 A TW 106128338A TW I745417 B TWI745417 B TW I745417B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- solvent
- group
- compound
- mass
- composition
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 186
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 69
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 121
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 77
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 claims abstract description 60
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 60
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 53
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 28
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 215
- -1 squaraine compound Chemical class 0.000 claims description 122
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 89
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 89
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 61
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 48
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 41
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 34
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 33
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 29
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 21
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical class C1=NC2=CC=NC2=C1 RQGPLDBZHMVWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229920001774 Perfluoroether Polymers 0.000 claims description 8
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical class [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 7
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 6
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 claims description 4
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxycyclobut-2-en-1-one Chemical class OC1=CC(=O)C1 IHXWECHPYNPJRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BGTOWKSIORTVQH-HOSYLAQJSA-N cyclopentanone Chemical group O=[13C]1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-HOSYLAQJSA-N 0.000 claims 1
- BQUDLWUEXZTHGM-UHFFFAOYSA-N ethyl propaneperoxoate Chemical compound CCOOC(=O)CC BQUDLWUEXZTHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 abstract description 19
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 81
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 59
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 52
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 45
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 40
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 35
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 32
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 32
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 31
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 28
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 28
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 28
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 28
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 description 26
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 25
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 25
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Natural products OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 23
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 22
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 21
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 21
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 18
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000047 product Substances 0.000 description 18
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 16
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 15
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 14
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 14
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 12
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 12
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 12
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 11
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 11
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 10
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 10
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000011161 development Methods 0.000 description 10
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 10
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 8
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 8
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 8
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 8
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 7
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 7
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 7
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QWEDYNXINZOSSV-AATRIKPKSA-N [2-methyl-4-oxo-3-[(e)-prop-1-enyl]cyclopent-2-en-1-yl] n,n-dimethylcarbamate Chemical compound C\C=C\C1=C(C)C(OC(=O)N(C)C)CC1=O QWEDYNXINZOSSV-AATRIKPKSA-N 0.000 description 6
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 6
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 6
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 6
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 239000012321 sodium triacetoxyborohydride Substances 0.000 description 6
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 6
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical group C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 5
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 5
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 5
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 5
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 5
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 5
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 5
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 5
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 5
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 4
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 4
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 4
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 4
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 4
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 4
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 4
- SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N (1s,2s,3s,5r)-1-(carboxymethyl)-3,5-bis[(4-phenoxyphenyl)methyl-propylcarbamoyl]cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound O=C([C@@H]1[C@@H]([C@](CC(O)=O)([C@H](C(=O)N(CCC)CC=2C=CC(OC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C1)C(O)=O)C(O)=O)N(CCC)CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N 0.000 description 3
- QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N (3S)-3-[[(2S)-2-[[(2S)-2-[5-[(3aS,6aR)-2-oxo-1,3,3a,4,6,6a-hexahydrothieno[3,4-d]imidazol-4-yl]pentanoylamino]-3-methylbutanoyl]amino]-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]-4-[1-bis(4-chlorophenoxy)phosphorylbutylamino]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCC(NC(=O)[C@H](CC(O)=O)NC(=O)[C@H](Cc1ccc(O)cc1)NC(=O)[C@@H](NC(=O)CCCCC1SC[C@@H]2NC(=O)N[C@H]12)C(C)C)P(=O)(Oc1ccc(Cl)cc1)Oc1ccc(Cl)cc1 QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- XDUZWPPSSHEDFK-VVXQKDJTSA-N C(C(C)(C)C)C([C@H](O)[C@H](O)CO)O Chemical compound C(C(C)(C)C)C([C@H](O)[C@H](O)CO)O XDUZWPPSSHEDFK-VVXQKDJTSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Natural products P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940126543 compound 14 Drugs 0.000 description 3
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005553 heteroaryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005368 heteroarylthio group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 3
- LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N naphthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC4=CC=CC=C4C=C3C(N=C3C4=CC5=CC=CC=C5C=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=C2C(C=CC=C2)=C2)C2=C1N=C1C2=CC3=CC=CC=C3C=C2C4=N1 LKKPNUDVOYAOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 3
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 3
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 3
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- ONBQEOIKXPHGMB-VBSBHUPXSA-N 1-[2-[(2s,3r,4s,5r)-3,4-dihydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]oxy-4,6-dihydroxyphenyl]-3-(4-hydroxyphenyl)propan-1-one Chemical compound O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)CCC1=CC=C(O)C=C1 ONBQEOIKXPHGMB-VBSBHUPXSA-N 0.000 description 2
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminoethoxy)ethanol Chemical compound NCCOCCO GIAFURWZWWWBQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 2
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 239000004844 aliphatic epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 2
- 229940126142 compound 16 Drugs 0.000 description 2
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001896 cresols Chemical class 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 229910000071 diazene Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCLOAJGCFQIQQW-UHFFFAOYSA-N diphenylboron Chemical compound C=1C=CC=CC=1[B]C1=CC=CC=C1 UCLOAJGCFQIQQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 2
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 2
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 2
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M lithium bromide Chemical compound [Li+].[Br-] AMXOYNBUYSYVKV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 2
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical class OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 2
- FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-b]pyrrole-5,6-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)C(=O)N=C21 FYNROBRQIVCIQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N stibanylidynetin;hydrate Chemical compound O.[Sn].[Sb] SKRWFPLZQAAQSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 2
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004953 trihalomethyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006839 xylylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) 4-methylbenzenesulfonate Chemical compound CC(=O)C(C)=NOS(=O)(=O)C1=CC=C(C)C=C1 PGSHZSDDBWTHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N (3-oxobutan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CC(=O)ON=C(C)C(C)=O MRUDPRFGMHTPFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N (3-oxopentan-2-ylideneamino) acetate Chemical compound CCC(=O)C(C)=NOC(C)=O HQLZSJJJXHJANW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical group O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KILGMXHYMFIPHS-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-2-phenylmethoxyiminopropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C)=NOCC1=CC=CC=C1 KILGMXHYMFIPHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMVIVASFFKKFQK-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1C1=CC=CC=C1 JMVIVASFFKKFQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical group C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,6,7,8,9,10-octahydropyrimido[1,2-a]azepine Chemical compound C1CCCCN2CCCN=C21 GQHTUMJGOHRCHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 2,3-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C(C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QWQNFXDYOCUEER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 2,4,7,9-tetramethyldec-5-yne-4,7-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(O)C#CC(C)(O)CC(C)C LXOFYPKXCSULTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAGPRJYCDKGWJR-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,8,10-tetratert-butylbenzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphepin-6-yl)oxy-n,n-bis[2-(2,4,8,10-tetratert-butylbenzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphepin-6-yl)oxyethyl]ethanamine Chemical compound O1C2=C(C(C)(C)C)C=C(C(C)(C)C)C=C2C2=CC(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C2OP1OCCN(CCOP1OC2=C(C=C(C=C2C=2C=C(C=C(C=2O1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)CCOP(OC1=C(C=C(C=C11)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC2=C1C=C(C(C)(C)C)C=C2C(C)(C)C YAGPRJYCDKGWJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHDAAWLTXPGJDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(ethoxymethyl)butanoic acid Chemical compound CCOCC(CC)C(O)=O RHDAAWLTXPGJDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylphenol Chemical class CCC1=CC=CC=C1O IXQGCWUGDFDQMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 2-amino-1-phenylethanone Chemical class NCC(=O)C1=CC=CC=C1 HEQOJEGTZCTHCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 2-butylphenol Chemical class CCCCC1=CC=CC=C1O GJYCVCVHRSWLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 2-dodecanoyloxyethyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCC ZVUNTIMPQCQCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(O)CC1=CC=CC=C1 RIWRBSMFKVOJMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)sulfanyl-5-methylphenol Chemical group CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1SC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C HXIQYSLFEXIOAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGQFNPWGWSSTMN-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-4-[4-(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butyl]-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1CCCCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C DGQFNPWGWSSTMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 2h-naphtho[2,3-f]quinolin-1-one Chemical class C1=CC=CC2=CC3=C4C(=O)CC=NC4=CC=C3C=C21 XBNVWXKPFORCRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydro-4H-imidazol-4-one Chemical compound O=C1CNC=N1 CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 3-butylbenzene-1,2-diol Chemical group CCCCC1=CC=CC(O)=C1O BJEMXPVDXFSROA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 3-heptyl-2-[(3-heptyl-4-methyl-1,3-thiazol-3-ium-2-yl)methylidene]-4-methyl-1,3-thiazole;iodide Chemical compound [I-].CCCCCCCN1C(C)=CS\C1=C\C1=[N+](CCCCCCC)C(C)=CS1 DQYSALLXMHVJAV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RPKHFQXMFPSMJO-UHFFFAOYSA-N 3-phenylmethoxyiminobutan-2-one Chemical compound CC(=O)C(C)=NOCC1=CC=CC=C1 RPKHFQXMFPSMJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 4'-hydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 TXFPEBPIARQUIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFEQSERZJMLTHK-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)-2,3,5,6-tetramethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=C(C)C(C=2C=CC(O)=CC=2)=C1C ZFEQSERZJMLTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPODUESPZXFNMJ-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenyl)-2,3-dimethylphenol Chemical compound C1=C(O)C(C)=C(C)C(C=2C=CC(O)=CC=2)=C1 PPODUESPZXFNMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VESRBMGDECAMNH-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]-2,3,5,6-tetramethylphenol Chemical compound CC1=C(C(=C(C(=C1O)C)C)C(C)(C)C1=CC=C(C=C1)O)C VESRBMGDECAMNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPJFWRZEEKJTGN-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=CC(O)=CC=2)=C1 RPJFWRZEEKJTGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCKIRZYWQROFEJ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenyl]propyl]phenol Chemical compound C=1C=C(C(C)(C=2C=CC(O)=CC=2)C=2C=CC(O)=CC=2)C=CC=1C(C)CC1=CC=C(O)C=C1 GCKIRZYWQROFEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVLFRCGXTLEZIE-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-7-oxabicyclo[4.1.0]hept-1(6)-ene Chemical compound C1C(C=C)CCC2=C1O2 QVLFRCGXTLEZIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBMKAUGHUNFTOL-UHFFFAOYSA-N Aldoclor Chemical class C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC2=C1NC=NS2(=O)=O JBMKAUGHUNFTOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNHJPNPNLMENTO-OKILXGFUSA-N C(C(C)(C)C)[C@@]([C@](CO)(O)CC(C)(C)C)(O)CO Chemical compound C(C(C)(C)C)[C@@]([C@](CO)(O)CC(C)(C)C)(O)CO XNHJPNPNLMENTO-OKILXGFUSA-N 0.000 description 1
- RPPJUTANAZTYOG-TVUYYUAGSA-N C(C=C)(=O)O[C@@H](C(OC(C=C)=O)CC(C)(C)C)[C@H](OC(C=C)=O)COC(C=C)=O Chemical compound C(C=C)(=O)O[C@@H](C(OC(C=C)=O)CC(C)(C)C)[C@H](OC(C=C)=O)COC(C=C)=O RPPJUTANAZTYOG-TVUYYUAGSA-N 0.000 description 1
- AZGDWRHHQMNQJC-UHFFFAOYSA-N C(CC)ON=C(C(C)=O)C Chemical compound C(CC)ON=C(C(C)=O)C AZGDWRHHQMNQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUWXCBQJKGNLNU-UHFFFAOYSA-N C1=CC=CC=C1.O1C=NC=C1 Chemical group C1=CC=CC=C1.O1C=NC=C1 FUWXCBQJKGNLNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000703 Cerium Chemical class 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol distearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCOC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC FPVVYTCTZKCSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000511976 Hoya Species 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBICFRLSVMVVOV-UHFFFAOYSA-N N1C=CC2=CC=CC=C12.C=1NC=C2C=CC3=C(C12)C=CC=C3 Chemical compound N1C=CC2=CC=CC=C12.C=1NC=C2C=CC3=C(C12)C=CC=C3 IBICFRLSVMVVOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002292 Nylon 6 Polymers 0.000 description 1
- 229920002302 Nylon 6,6 Polymers 0.000 description 1
- XBNARQDCIZDAIU-UHFFFAOYSA-N OCN(CCN(CO)CO)CO.N Chemical compound OCN(CCN(CO)CO)CO.N XBNARQDCIZDAIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N Phloroglucinol Natural products CCC=CCC=CCC=CCC=CCCCCC(=O)C1=C(O)C=C(O)C=C1O JPYHHZQJCSQRJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002035 Pluronic® L 10 Polymers 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 1
- 241000872198 Serjania polyphylla Species 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofurfuryl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CCCO1 LCXXNKZQVOXMEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002359 Tetronic® Polymers 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N [2-[3-[1-[3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoyloxy]-2-methylpropan-2-yl]-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]-2-methylpropyl] 3-(3-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C)=CC(CCC(=O)OCC(C)(C)C2OCC3(CO2)COC(OC3)C(C)(C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C)C=2)C(C)(C)C)=C1 CGRTZESQZZGAAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N [2-[[4-methyl-3-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]carbonylamino]phenyl]carbamoyloxymethyl]-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound CC1=CC=C(NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C)C=C1NC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C YPCHGLDQZXOZFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N [3-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]-2,2-bis[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxymethyl]propyl] 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCC(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)(COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)COC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 BGYHLZZASRKEJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HIVQCJOGAHNXBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004062 acenaphthenyl group Chemical group C1(CC2=CC=CC3=CC=CC1=C23)* 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 125000003828 azulenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 1
- JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N benzene;cyclopenta-1,3-diene;iron Chemical class [Fe].C1C=CC=C1.C1=CC=CC=C1 JGFLAAWSLCPCDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N benzimidazol-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=NC(=O)N=C21 MYONAGGJKCJOBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001562 benzopyrans Chemical class 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 125000000649 benzylidene group Chemical group [H]C(=[*])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M benzyltrimethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 NDKBVBUGCNGSJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Chemical group 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M bis(2-hydroxyethyl)-dimethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].OCC[N+](C)(C)CCO RKTGAWJWCNLSFX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) cyclohexane-1,2-dicarboxylate Chemical compound C1CCCC(C(=O)OCC2OC2)C1C(=O)OCC1CO1 XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000707 boryl group Chemical group B* 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 244000309464 bull Species 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004657 carbamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001231 choline Drugs 0.000 description 1
- 125000005578 chrysene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000332 coumarinyl group Chemical class O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 1
- 229960002887 deanol Drugs 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- OVVMHZRGSHTZDB-UHFFFAOYSA-N dibutylboron Chemical compound CCCC[B]CCCC OVVMHZRGSHTZDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPXSRGLTQINCRV-UHFFFAOYSA-N dicesium;dioxido(dioxo)tungsten Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-][W]([O-])(=O)=O VPXSRGLTQINCRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- OKZIUSOJQLYFSE-UHFFFAOYSA-N difluoroboron Chemical compound F[B]F OKZIUSOJQLYFSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N diglycerol Chemical compound OCC(O)COCC(O)CO GPLRAVKSCUXZTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000006471 dimerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012972 dimethylethanolamine Substances 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004311 dioxin-2-yl group Chemical group [H]C1=C([H])OC(*)=C([H])O1 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- YDMWUMUNUXUYKT-UHFFFAOYSA-N ethyl [(1-oxo-1-phenylpropan-2-ylidene)amino] carbonate Chemical compound CCOC(=O)ON=C(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 YDMWUMUNUXUYKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-N ethyl dihydrogen phosphate Chemical compound CCOP(O)(O)=O ZJXZSIYSNXKHEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical group FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005303 fluorophosphate glass Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 239000004845 glycidylamine epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229940100608 glycol distearate Drugs 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N guaiacol Chemical compound COC1=CC=CC=C1O LHGVFZTZFXWLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002192 heptalenyl group Chemical group 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N hydantoin Chemical group O=C1CNC(=O)N1 WJRBRSLFGCUECM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229960004337 hydroquinone Drugs 0.000 description 1
- 125000002636 imidazolinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 235000013847 iso-butane Nutrition 0.000 description 1
- NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N isobutane Chemical compound CC(C)C NNPPMTNAJDCUHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229960000901 mepacrine Drugs 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical class [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 1
- LVWZTYCIRDMTEY-UHFFFAOYSA-N metamizole Chemical compound O=C1C(N(CS(O)(=O)=O)C)=C(C)N(C)N1C1=CC=CC=C1 LVWZTYCIRDMTEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M naphthalene-1-sulfonate Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002114 octoxynol-9 Polymers 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004010 onium ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical class [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N oxophosphane Chemical compound P=O AUONHKJOIZSQGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUVXZFRDPCKWEM-UHFFFAOYSA-N pentalene group Chemical group C1=CC=C2C=CC=C12 GUVXZFRDPCKWEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- CCDXIADKBDSBJU-UHFFFAOYSA-N phenylmethanetriol Chemical compound OC(O)(O)C1=CC=CC=C1 CCDXIADKBDSBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001553 phloroglucinol Drugs 0.000 description 1
- 239000005365 phosphate glass Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000083 poly(allylamine) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920006389 polyphenyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[3,2-c]pyrazole Chemical compound N1=NC2=CC=NC2=C1 GZTPJDLYPMPRDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N quaterrylene Chemical group C12=C3C4=CC=C2C(C2=C56)=CC=C5C(C=57)=CC=CC7=CC=CC=5C6=CC=C2C1=CC=C3C1=CC=CC2=CC=CC4=C21 GGVMPKQSTZIOIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPKJTRJOBQGKQK-UHFFFAOYSA-N quinacrine Chemical compound C1=C(OC)C=C2C(NC(C)CCCN(CC)CC)=C(C=CC(Cl)=C3)C3=NC2=C1 GPKJTRJOBQGKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N sec-butylidene Natural products CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005211 surface analysis Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 125000001935 tetracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC4=CC=CC=C4C=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000003451 thiazide diuretic agent Substances 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 150000004992 toluidines Chemical class 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N trans-dipyrrin Chemical class C=1C=CNC=1/C=C1\C=CC=N1 OVTCUIZCVUGJHS-VQHVLOKHSA-N 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 150000003673 urethanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001834 xanthenyl group Chemical class C1=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3C(C12)* 0.000 description 1
- 239000001060 yellow colorant Substances 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0046—Photosensitive materials with perfluoro compounds, e.g. for dry lithography
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0048—Photosensitive materials characterised by the solvents or agents facilitating spreading, e.g. tensio-active agents
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/0275—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with dithiol or polysulfide compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0388—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable with ethylenic or acetylenic bands in the side chains of the photopolymer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14601—Structural or functional details thereof
- H01L27/1462—Coatings
- H01L27/14621—Colour filter arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14643—Photodiode arrays; MOS imagers
- H01L27/14649—Infrared imagers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/148—Charge coupled imagers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
本發明提供一種能夠形成耐熱性良好,且即使塗佈時的濕度條件不同,近紅外區域中之分光特性的偏差亦得到抑制之膜之組成物、以及膜、近紅外線截止濾光片、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器的製造方法。該組成物包含近紅外線吸收化合物A和溶劑B,該近紅外線吸收化合物A具有包含單環或稠環的芳香族環之π共軛平面,溶劑B包含溶解度參數為19.9MPa0.5
以上且22.3MPa0.5
以下的範圍之溶劑B1、以及溶解度參數小於19.9Pa0.5
或溶解度參數超過22.3MPa0.5
之溶劑B2,在溶劑B中之溶劑B2的含量為9質量%以下。
Description
本發明係關於一種組成物、膜的製造方法、近紅外線截止濾光片的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及紅外線感測器的製造方法。
攝影機(video camera)、數位照相機、帶有照相機功能之行動電話等中使用彩色圖像的固體攝像元件亦即CCD(電荷耦合元件)或CMOS(互補金屬氧化物半導體)。該等固體攝像元件在其受光部使用對紅外線具有靈敏度之矽光二極體。因此,有時使用近紅外線截止濾光片來進行發光度補正。
專利文獻1中記載有使用硬化性組成物來製造近紅外線截止濾光片,該硬化性組成物包含近紅外線吸收性色素、選自氟原子、矽原子、碳數8以上的直鏈烷基及碳數3以上的分支烷基中之1種以上。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2015-17244號公報
依本發明人的研究,得知藉由使用含有包含單環或稠環的芳香族環之近紅外線吸收化合物之組成物,能夠形成近紅外區域的分光特性優異之膜。本發明人對該種包含近紅外線吸收化合物之組成物進一步進行了研究,其結果得知,即使在使用相同組成物之情況下,所得到之膜的近紅外區域的分光特性容易產生偏差,而產生該種偏差之原因係基於塗佈組成物時的濕度條件者。
本發明的目的在於提供一種能夠形成耐熱性良好、且即使塗佈時的濕度條件不同,近紅外區域中之分光特性的偏差亦得到抑制之膜之組成物。又,目的在於提供一種膜的製造方法、近紅外線截止濾光片的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及紅外線感測器的製造方法。
依本發明人的研究,發現藉由使用後述之組成物能夠達成上述目的,並完成了本發明。本發明提供以下。 <1>一種組成物,其包含近紅外線吸收化合物A和溶劑B,該近紅外線吸收化合物A具有包含單環或稠環的芳香族環之π共軛平面, 溶劑B包含溶解度參數為19.9MPa0.5
以上且22.3MPa0.5
以下的範圍之溶劑B1、以及溶解度參數小於19.9MPa0.5
或溶解度參數超過22.3MPa0.5
之溶劑B2, 在溶劑B中之溶劑B2的含量為9質量%以下。 <2>如<1>所述之組成物,其中溶劑B1係選自環己酮、環戊酮、二丙二醇單甲醚及3-甲氧基丁醇中之至少1種。 <3>如<1>或<2>所述之組成物,其中溶劑B2係選自丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚、二氯甲烷、乙基-3-乙氧基丙酸酯、N-甲基-2-吡咯啶酮、乙酸丁酯及乳酸乙酯中之至少1種。 <4>如<1>至<3>中任一項所述之組成物,其進一步含有界面活性劑。 <5>如<4>所述之組成物,其中界面活性劑係具有氟原子及硬化性基之化合物。 <6>如<4>所述之組成物,其中界面活性劑係具有氟醚基及硬化性基之化合物。 <7>如<4>所述之組成物,其中界面活性劑係含有具有氟醚基之重複單元和具有硬化性基之重複單元之聚合物。 <8>如<4>至<7>中任一項所述之組成物,其中在組成物的總固體成分中含有0.1~12質量%的界面活性劑。 <9>如<1>至<8>中任一項所述之組成物,其進一步含有樹脂。 <10>如<1>至<9>中任一項所述之組成物,其進一步含有聚合性化合物及光聚合起始劑。 <11>一種膜的製造方法,其包含將<1>至<10>中任一項所述之組成物塗佈於支撐體上之製程。 <12>如<11>所述之膜的製造方法,其還包含形成圖案之製程。 <13>一種近紅外線截止濾光片的製造方法,其包含<11>或<12>所述之膜的製造方法。 <14>一種固體攝像元件的製造方法,其包含<11>或<12>所述之膜的製造方法。 <15>一種圖像顯示裝置的製造方法,其包含<11>或<12>所述之膜的製造方法。 <16>一種紅外線感測器的製造方法,其包含<11>或<12>所述之膜的製造方法。 [發明效果]
依本發明,能夠提供一種能夠形成耐熱性良好、且即使塗佈時的濕度條件不同,近紅外區域中之分光特性的偏差亦得到抑制之膜之組成物。又,能夠提供一種膜的製造方法、近紅外線截止濾光片的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及紅外線感測器的製造方法。
以下,對本發明的內容進行詳細說明。 本說明書中,“~”是以將其前後所記載之數值作為下限值及上限值而包含之含義來使用。 本說明書中之基團(原子團)的標記中,未標有經取代及未經取代之標記包含不具有取代基之基團(原子團),並且還包含具有取代基之基團(原子團)。例如,“烷基”不僅包含不具有取代基之烷基(未經取代之烷基),而且還包含具有取代基之烷基(經取代之烷基)。 本說明書中,“曝光”只要沒有特別指定,則不僅包含使用了光之曝光,而且還包含使用了電子束、離子束等粒子線之描畫。又,作為曝光中所使用之光,可以舉出水銀燈的明線光譜、以準分子雷射為代表之遠紫外線、極紫外線(EUV光)、X射線、電子束等光化射線或放射線。 本說明書中,“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯兩者或任意一者,“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸兩者或任意一者,“(甲基)丙烯醯基”表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基兩者或任意一者。 本說明書中,重量平均分子量及數量平均分子量以藉由凝膠滲透層析(GPC)測定之聚苯乙烯換算值來定義。本說明書中,重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)例如能夠藉由使用HLC-8220(TOSOH CORPORATION製造),使用TSKgel Super AWM-H(TOSOH CORPORATION製造,6.0mmID(內徑)×15.0cm)作為管柱,並使用10mmol/L 溴化鋰NMP(N-甲基吡咯啶酮)溶液作為洗提液來求出。 本說明書中,近紅外線係指極大吸收波長區域為波長700~2500nm的光(電磁波)。 本說明書中,總固體成分係指從組成物的所有成分中去除溶劑後之成分的總質量。 本說明書中,“製程”這一術語不僅包含獨立之製程,即使在無法與其他製程明確區分之情況下,只要能夠達成該製程的所期望的作用,則包含於本術語中。
<組成物> 本發明的組成物,其特徵為,包含近紅外線吸收化合物A和溶劑B,該近紅外線吸收化合物A具有包含單環或稠環的芳香族環之π共軛平面, 溶劑B包含溶解度參數為19.9MPa0.5
以上且22.3MPa0.5
以下的範圍之溶劑B1、以及溶解度參數小於19.9MPa0.5
或溶解度參數超過22.3MPa0.5
之溶劑B2, 在溶劑B中之溶劑B2的含量為9質量%以下。
依本發明的組成物,能夠形成耐熱性良好、且即使塗佈時的濕度條件不同,近紅外區域中之分光特性的偏差亦得到抑制之膜。雖然可達成該種效果之機理不明,但推測係基於以下者。首先,推測由於塗佈時的濕度變動,所得到之膜在近紅外區域中之分光特性產生偏差之原因係基於如下者。亦即,認為伴隨塗佈時濕度變高,剛塗佈之後的膜中之殘存溶劑量增加,近紅外線吸收化合物A容易局部凝聚,從而在膜中之近紅外線吸收化合物A的凝聚尺寸容易產生偏差。其結果,推測在近紅外區域中之分光特性上產生偏差。針對於此,推測藉由本發明的組成物使用溶解度參數為19.9MPa0.5
以上且22.3MPa0.5
以下的範圍之溶劑B1、以及溶解度參數小於19.9MPa0.5
或溶解度參數超過22.3MPa0.5
之溶劑B2作為溶劑B,且在溶劑B中之溶劑B2的含量為9質量%以下,即使塗佈時的濕度發生變動,近紅外線吸收化合物A的凝聚尺寸亦不易產生偏差,其結果,能夠形成分光變動得到抑制之膜。又,推測在膜中近紅外線吸收化合物A能夠適度凝聚,因此得到了優異之耐熱性。 以下,對本發明的組成物的各成分進行說明。
<<近紅外線吸收化合物A>> 本發明的組成物包含近紅外線吸收化合物A,該近紅外線吸收化合物A具有包含單環或稠環的芳香族環之π共軛平面。另外,本說明書中,近紅外線吸收化合物係指在近紅外區域(較佳為波長650~1000nm的範圍)具有吸收之化合物。
近紅外線吸收化合物A具有包含單環或稠環的芳香族環之π共軛平面,因此藉由近紅外線吸收化合物A的π共軛平面上之芳香族環彼此的相互作用,容易在膜中形成近紅外線吸收化合物A的J締合體,能夠形成近紅外區域的分光優異之膜。又,依本發明,認為即使塗佈時的濕度條件不同,亦能夠抑制近紅外線吸收化合物A的凝聚尺寸的偏差,能夠形成耐熱性良好、且分光變動得到抑制之膜。
近紅外線吸收化合物A可以係顏料(亦稱為近紅外線吸收顏料),亦可以係染料(亦稱為近紅外線吸收染料),但近紅外線吸收染料為較佳。先前,當使用了近紅外線吸收染料時,具有塗佈時的濕度條件不同時所得到之膜在近紅外區域中之分光特性容易產生偏差之傾向。依本發明,即使在使用了近紅外線吸收染料之情況下,亦能夠有效地抑制在近紅外區域中之分光特性的偏差,進而,還能夠提高耐熱性。因此,當使用近紅外線吸收染料來作為近紅外線吸收化合物A時,可尤其顯著地得到本發明的效果。本發明中,將近紅外線吸收染料和近紅外線吸收顏料併用亦較佳。當將近紅外線吸收染料和近紅外線吸收顏料併用時,近紅外線吸收染料與近紅外線吸收顏料的質量比係近紅外線吸收染料:近紅外線吸收顏料=99.9:0.1~0.1:99.9為較佳,99.9:0.1~10:90為更佳,99.9:0.1~20:80為進一步較佳。
近紅外線吸收染料相對於23℃的選自環戊酮、環己酮及二丙二醇單甲醚中之至少1種溶劑100g之溶解度係1g/100g溶劑以上為較佳,2g/100g溶劑以上為更佳,5g/100g溶劑以上為進一步較佳。近紅外線吸收顏料相對於23℃的選自環戊酮、環己酮及二丙二醇單甲醚中之至少1種溶劑100g之溶解度係小於1g/100g溶劑為較佳,0.1g/100g溶劑以下為更佳,0.01g/100g溶劑以下為進一步較佳。
構成近紅外線吸收化合物A所具有之π共軛平面之氫以外的原子數係6以上為較佳,14以上為更佳。上限例如係50以下為較佳。當近紅外線吸收化合物A具有2個以上的π共軛平面時,構成各π共軛平面之氫以外的原子數的合計係14以上為較佳,20以上為更佳。上限例如係80以下為較佳。在該情況下,1個π共軛平面中構成π共軛平面之氫以外的原子數係6以上為較佳,14以上為更佳。上限例如係50以下為較佳。
近紅外線吸收化合物A所具有之π共軛平面包含2個以上的單環或稠環的芳香族環為較佳,包含3個以上為更佳,包含4個以上為進一步較佳,包含5個以上為特佳。上限係100個以下為較佳,50個以下為更佳,30個以下為進一步較佳。作為前述芳香族環,可以舉出苯環、萘環、并環戊二烯(pentalene)環、茚環、薁環、庚搭烯(heptalene)環、茚烯(indecene)環、苝環、稠五苯環、夸特銳烯(quaterrylene)環、乙烷合萘(acenaphthene)環、菲環、蒽環、稠四苯(naphthacene)環、䓛(chrysene)環、聯伸三苯(triphenylene)環、茀環、吡啶環、喹啉環、異喹啉環、咪唑環、苯并咪唑環、吡唑環、噻唑環、苯并噻唑環、三唑環、苯并三唑環、噁唑環、苯并噁唑環、咪唑啉環、吡𠯤(pyrazine)環、喹噁啉(quinoxaline)環、嘧啶環、喹唑啉(quinazoline)環、嗒𠯤(pyridazin)環、三𠯤(triazine)環、吡咯環、吲哚環、異吲哚環、咔唑環及具有該等環之稠環。
在波長650~1000nm的範圍具有近紅外線吸收化合物A的極大吸收波長為較佳,在波長660~1000nm的範圍具有近紅外線吸收化合物A的極大吸收波長為更佳,在波長670~1000nm的範圍具有近紅外線吸收化合物A的極大吸收波長為進一步較佳,在波長700~1000nm的範圍具有近紅外線吸收化合物A的極大吸收波長為特佳。
另外,本說明書中,“在波長650~1000nm的範圍具有極大吸收波長”係指近紅外線吸收化合物在溶液中之吸收光譜中,在波長650~1000nm的範圍具有顯出最大吸光度之波長。用於近紅外線吸收化合物在溶液中之吸收光譜的測定之測定溶劑可以舉出氯仿、甲醇、二甲基亞碸、乙酸乙酯、四氫呋喃。在氯仿中溶解之化合物的情況下,將氯仿用作測定溶劑。在氯仿中不溶解之化合物的情況下,使用甲醇。又,在氯仿及甲醇中均不溶解之情況下,使用二甲基亞碸。
近紅外線吸收化合物A在波長500nm下之吸光度A1
與在極大吸收波長下之吸光度A2
的比率A1
/A2
係0.08以下為較佳,0.04以下為更佳。依該態樣,容易製造可視透明性和紅外線遮蔽性優異之膜。另外,在波長500nm下之吸光度A1
及在極大吸收波長下之吸光度A2
係根據近紅外線吸收化合物在溶液中之吸收光譜求出之值。
當近紅外線吸收化合物A為染料時,近紅外線吸收化合物A具有疏水基為較佳。另外,“疏水基”係表示極性較低且難以與水親和之基團。若近紅外線吸收化合物A具有疏水基,則藉由π共軛平面彼此的π-π相互作用和疏水基彼此的相互作用,在膜中近紅外線吸收化合物A容易傾斜地偏離而排列,容易形成J締合體。若近紅外線吸收化合物A形成J締合體,則近紅外線吸收化合物A的極大吸收波長相比於形成J締合之前的狀態而向長波長側位移。因此,當包含近紅外線吸收化合物A之膜的極大吸收波長相比於近紅外線吸收化合物A在有機溶劑中之極大吸收波長而向長波長側位移時,可以說近紅外線吸收化合物A在膜中形成了J締合體。關於近紅外線吸收化合物A是否形成了J締合體,例如能夠根據形成J締合體之結晶的X射線結晶結構分析資料和包含近紅外線吸收化合物A之樣品的X射線表面分析來進行確認。形成J締合體之後的極大吸收波長的位移量例如係20nm以上為較佳,30nm以上為更佳,40nm以上為進一步較佳。上限並沒有特別限定,例如亦能夠設為200nm以下,還能夠設為180nm以下。
本發明中,疏水基係式(W)所表示之基團為較佳。 -L-T……(W)
式(W)中,L表示單鍵、下述式(L-1)~式(L-18)中任意一個所表示之2價的連接基或由2個以上的下述式(L-1)~式(L-18)中任意一個所表示之2價的連接基鍵結而得到之2價的連接基。 [化學式1]
式中,波浪線部分表示鍵結位置,R’表示取代基,m表示0以上的整數。 m的上限為各基團的最大取代數。m係0為較佳。 作為R’所表示之取代基,可以舉出鹵素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、雜芳氧基、烷硫(烷基對胺苯磺醯(alkyl sulfanyl))基、芳硫基、雜芳硫基、-NR1
R2
、-COR3
、-COOR4
、-OCOR5
、-NHCOR6
、-CONR7
R8
、-NHCONR9
R10
、-NHCOOR11
、-SO2
R12
、-SO2
OR13
、-NHSO2
R14
及-SO2
NR15
R16
。R1
~R16
分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基或雜芳基。 作為鹵素原子,可以舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。 烷基、烷氧基及烷硫基的碳數係1~20為較佳,1~15為更佳,1~8為進一步較佳。烷基、烷氧基及烷硫基可以係直鏈、分支、環狀中的任意一種,直鏈或分支為較佳,分支為更佳。 烯基的碳數係2~20為較佳,2~12為更佳,2~8為特佳。烯基可以係直鏈、分支、環狀中的任意一種,直鏈或分支為較佳。 芳基的碳數係6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。 炔基的碳數係2~40為較佳,2~30為更佳,2~25為進一步較佳。炔基可以係直鏈、分支、環狀中的任意一種,直鏈或分支為較佳。 芳氧基及芳硫基所具有之芳基的碳數係6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。 芳烷基的碳數係7~40為較佳,7~30為更佳,7~25為進一步較佳。 雜芳基係單環或稠環為較佳,單環或稠合數為2~8的稠環為較佳,單環或稠合數為2~4的稠環為更佳。構成雜芳基的環之雜原子的數量係1~3為較佳。構成雜芳基的環之雜原子係氮原子、氧原子或硫原子為較佳。雜芳基係5員環或6員環為較佳。 雜芳氧基及雜芳硫基所具有之雜芳基可以舉出上述者,較佳的範圍亦相同。
式(W)中,T表示烷基、氰基、甲醯基、氧硼基(boryl group)、乙烯基、乙炔基、芳基或雜芳基。 T所表示之烷基的碳數係2~40為較佳。下限係5以上為更佳,8以上為進一步較佳,10以上為特佳。上限係32以下為更佳,28以下為進一步較佳。烷基可以係直鏈、分支、環狀中的任意一種,但直鏈或分支為較佳,分支為進一步較佳。 T所表示之芳基的碳數係6~30為較佳,6~20為更佳,6~12為進一步較佳。 T所表示之雜芳基可以係單環,亦可以係多環。構成雜芳基的環之雜原子的數量係1~3為較佳。構成雜芳基的環之雜原子係氮原子、氧原子或硫原子為較佳。構成雜芳基的環之碳原子的數量係3~30為較佳,3~18為更佳,3~12為進一步較佳。 T係烷基為更佳。
近紅外線吸收化合物A使用極大吸收波長不同之至少2種化合物亦較佳。依該態樣,與使用了1種近紅外線吸收化合物之情況相比,膜的吸收光譜的波形擴大,能夠遮蔽寬幅的波長範圍的近紅外線。當使用極大吸收波長不同之至少2種化合物時,至少包含在波長650~1000nm的範圍具有極大吸收波長之第1近紅外線吸收化合物、以及相比於第1近紅外線吸收化合物的極大吸收波長更靠短波長側且在波長650~1000nm的範圍具有極大吸收波長之第2近紅外線吸收化合物,且第1近紅外線吸收化合物的極大吸收波長與第2近紅外線吸收化合物的極大吸收波長之差係1~150nm為較佳。
近紅外線吸收化合物A係選自吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸菁(squarylium)化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物、夸特銳烯化合物、部花青化合物、克酮鎓(croconium)化合物、氧雜菁(oxonol)化合物、二亞胺(diimonium)化合物、二硫醇化合物、三芳基甲烷化合物、吡咯亞甲基(pyrromethene)化合物、次甲基偶氮(azomethine)化合物、蒽醌化合物及二苯并呋喃酮(dibenzo furanone)化合物中之至少1種為較佳,選自吡咯并吡咯化合物、花青化合物、方酸菁化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物及夸特銳烯化合物中之至少1種為更佳,選自吡咯并吡咯化合物、花青化合物及方酸菁化合物中之至少1種為進一步較佳,吡咯并吡咯化合物為特佳。作為二亞胺化合物,例如可以舉出日本特表2008-528706號公報中所記載之化合物,該內容被併入本說明書中。作為酞菁化合物,例如可以舉出日本特開2012-77153號公報的段落號0093中所記載之化合物、日本特開2006-343631號公報中所記載之酞菁氧鈦、日本特開2013-195480號公報的段落號0013~0029中所記載之化合物,該等內容被併入本說明書中。作為萘酞菁化合物,例如可以舉出日本特開2012-77153號公報的段落號0093中所記載之化合物,該內容被併入本說明書中。花青化合物、酞菁化合物、萘酞菁化合物、二亞胺化合物及方酸菁化合物可以使用日本特開2010-111750號公報的段落號0010~0081中所記載之化合物,該內容被併入本說明書中。又,花青化合物例如能夠參閱《功能性色素,大河原信/松岡賢/北尾悌次郎/平嶋恆亮著,Kodansha Scientific Ltd.》,該內容被併入本說明書中。
作為吡咯并吡咯化合物,係式(PP)所表示之化合物為較佳。依該態樣,容易得到耐熱性或耐光性優異之膜。 [化學式2]式中,R1a
及R1b
各自獨立地表示烷基、芳基或雜芳基,R2
及R3
各自獨立地表示氫原子或取代基,R2
及R3
可以彼此鍵結而形成環。R4
各自獨立地表示氫原子、烷基、芳基、雜芳基、-BR4A
R4B
或金屬原子,R4
可以與選自R1a
、R1b
及R3
中之至少1個進行共價鍵結或配位鍵結,R4A
及R4B
各自獨立地表示取代基。關於式(PP)的詳細內容,能夠參閱日本特開2009-263614號公報的段落號0017~0047、日本特開2011-68731號公報的段落號0011~0036、國際公開WO2015/166873號公報的段落號0010~0024的記載,該等內容被併入本說明書中。
R1a
及R1b
各自獨立地係芳基或雜芳基為較佳,芳基為更佳。R1a
及R1b
所表示之烷基、芳基及雜芳基可以具有取代基,亦可以未經取代。作為取代基,可以舉出日本特開2009-263614號公報的段落號0020~0022中所記載之取代基。其中,烷氧基、羥基為較佳。烷氧基係具有分支烷基之烷氧基為較佳。作為R1a
、R1b
所表示之基團,係含有具有分支烷基之烷氧基作為取代基之芳基或具有羥基作為取代基之芳基為較佳。分支烷基的碳數係3~30為較佳,3~20為更佳。
R2
及R3
中的至少一者係吸電子基為較佳,R2
表示吸電子基(較佳為氰基),R3
表示雜芳基為更佳。雜芳基係5員環或6員環為較佳。雜芳基係單環或稠環為較佳,單環或稠合數為2~8的稠環為較佳,單環或稠合數為2~4的稠環為更佳。構成雜芳基之雜原子的數量係1~3為較佳,1~2為更佳。作為雜原子,例如可以例示出氮原子、氧原子、硫原子。雜芳基具有1個以上的氮原子為較佳。
R4
係氫原子或-BR4A
R4B
所表示之基團為較佳。作為R4A
及R4B
所表示之取代基,鹵素原子、烷基、烷氧基、芳基或雜芳基為較佳,烷基、芳基或雜芳基為更佳,芳基為進一步較佳。作為-BR4A
R4B
所表示之基團的具體例,可以舉出二氟硼基、二苯基硼基、二丁基硼基、二萘基硼基、鄰苯二酚硼基。其中,二苯基硼基為特佳。
作為吡咯并吡咯化合物的具體例,可以舉出下述化合物。以下的結構式中,Me表示甲基,Bu表示丁基,Ph表示苯基。又,作為吡咯并吡咯化合物,可以舉出日本特開2009-263614號公報的段落號0016~0058中所記載之化合物、日本特開2011-68731號公報的段落號0037~0052中所記載之化合物、國際公開WO2015/166873號公報的段落號0010~0033中所記載之化合物等,該等內容被併入本說明書中。 [化學式3]
作為方酸菁化合物,係下述式(SQ)所表示之化合物為較佳。 [化學式4]式(SQ)中,A1
及A2
分別獨立地表示芳基、雜芳基或式(A-1)所表示之基團; [化學式5]式(A-1)中,Z1
表示形成含氮雜環之非金屬原子團,R2
表示烷基、烯基或芳烷基,d表示0或1,波浪線表示連接鍵。 關於式(SQ)的詳細內容,能夠參閱日本特開2011-208101號公報的段落號0020~0049的記載,該內容被併入本說明書中。
作為方酸菁化合物的具體例,可以舉出以下所示之化合物。又,作為方酸菁化合物,可以舉出日本特開2011-208101號公報的段落號0044~0049中所記載之化合物,該內容被併入本說明書中。 [化學式7]
花青化合物係式(C)所表示之化合物為較佳。 式(C) [化學式8]式中,Z1
及Z2
分別獨立地係形成可以稠合之5員或6員含氮雜環之非金屬原子團, R101
及R102
分別獨立地表示烷基、烯基、炔基、芳烷基或芳基, L1
表示具有奇數個次甲基之次甲基鏈, a及b分別獨立地為0或1, 當a為0時,碳原子和氮原子以雙鍵鍵結,當b為0時,碳原子和氮原子以單鍵鍵結, 當式中的Cy所表示之部位為陽離子部時,X1
表示陰離子,c表示為了取電荷的平衡而所需要之數,當式中的Cy所表示之部位為陰離子部時,X1
表示陽離子,c表示為了取電荷的平衡而所需要之數,當式中的Cy所表示之部位的電荷在分子內已被中和時,c為0。
作為花青化合物的具體例,可以舉出以下所示之化合物。又,作為花青化合物,可以舉出日本特開2009-108267號公報的段落號0044~0045中所記載之化合物、日本特開2002-194040號公報的段落號0026~0030中所記載之化合物、日本特開2015-172004號公報中所記載之化合物及日本特開2015-172102號公報中所記載之化合物,該等內容被併入本說明書中。 [化學式9]
在本發明的組成物中,近紅外線吸收化合物A的含量相對於組成物的總固體成分,係0.01~50質量%為較佳。上限係40質量%以下為更佳,30質量%以下為進一步較佳,15質量%以下為特佳。下限係0.1質量%以上為更佳,0.5質量%以上為進一步較佳,1質量%以上為進一步更佳,5質量%以上為特佳,10質量%以上為最佳。近紅外線吸收化合物A可以僅係1種,亦可以係2種以上。在2種以上的情況下,合計量在上述範圍內為較佳。
<<其他近紅外線吸收化合物>> 在本發明的組成物中可以進一步包含上述近紅外線吸收化合物A以外的近紅外線吸收化合物(亦稱為其他近紅外線吸收化合物)。作為其他近紅外線吸收化合物,可以舉出無機顏料(無機粒子)。作為無機顏料,在紅外線遮蔽性更加優異之觀點上,金屬氧化物粒子或金屬粒子為較佳。作為金屬氧化物粒子,例如可以舉出氧化銦錫(ITO)粒子、氧化銻錫(ATO)粒子、氧化鋅(ZnO)粒子、Al摻雜氧化鋅(Al摻雜ZnO)粒子、氟摻雜二氧化錫(F摻雜SnO2
)粒子、鈮摻雜二氧化鈦(Nb摻雜TiO2
)粒子等。作為金屬粒子,例如可以舉出銀(Ag)粒子、金(Au)粒子、銅(Cu)粒子、鎳(Ni)粒子等。作為無機顏料,亦能夠使用氧化鎢系化合物。氧化鎢系化合物係銫氧化鎢為較佳。關於氧化鎢系化合物的詳細內容,能夠參閱日本特開2016-006476號公報的段落號0080,該內容被併入本說明書中。無機顏料的形狀並沒有特別限制,無論球狀或非球狀,可以係片狀、線(wire)狀、管狀。
當本發明的組成物含有其他近紅外線吸收化合物時,其他近紅外線吸收化合物的含量相對於組成物的總固體成分,係0.01~50質量%為較佳。下限係0.1質量%以上為更佳,0.5質量%以上為進一步較佳。上限係30質量%以下為更佳,15質量%以下為進一步較佳。 近紅外線吸收化合物A和其他近紅外線吸收化合物的合計含量相對於本發明的組成物的總固體成分,係0.01~50質量%為較佳。下限係0.1質量%以上為更佳,0.5質量%以上為進一步較佳。上限係40質量%以下為更佳,30質量%以下為進一步較佳,15質量%以下為特佳。 近紅外線吸收化合物A和其他近紅外線吸收化合物的合計質量中之其他近紅外線吸收化合物的含量係1~99質量%為較佳。上限係80質量%以下為更佳,50質量%以下為進一步較佳,30質量%以下為特佳。 在本發明的組成物中,近紅外線吸收化合物A的含量多於其他近紅外線吸收化合物為較佳。本發明的組成物實質上不含其他近紅外線吸收化合物亦較佳。實質上不含其他近紅外線吸收化合物係指,近紅外線吸收化合物A和其他近紅外線吸收化合物的合計質量中之其他近紅外線吸收化合物的含量較佳為0.5質量%以下,更佳為0.1質量%以下,進一步較佳為不含其他近紅外線吸收化合物。
<<溶劑B>> 本發明的組成物含有溶劑B。溶劑B包含溶解度參數(SP值(Solubility Parameter))為19.9MPa0.5
以上且22.3MPa0.5
以下的範圍之溶劑B1、以及溶解度參數小於19.9Pa0.5
或溶解度參數超過22.3MPa0.5
之溶劑B2。另外,本說明書中,溶劑的溶解度參數的值使用漢森溶解度參數。作為漢森溶解度參數的文獻,按照Charles M. Hansen:Hansen Solubility Parameters:A User‘s Handbook,Second Edition。但是,存在利用本文獻中所記載之方法無法測定之特殊情況時,可以藉由其他方法進行測定。
溶劑B1的溶解度參數係19.9MPa0.5
以上且22.3MPa0.5
以下為較佳,19.9MPa0.5
以上且22.0MPa0.5
以下為更佳,19.9MPa0.5
以上且21.6MPa0.5
以下為進一步較佳。
溶劑B1的溶解度參數與溶劑B2的溶解度參數的差分的絕對值(|溶劑B1的溶解度參數-溶劑B2的溶解度參數|)係0.1MPa0.5
以上且6.0MPa0.5
以下為較佳,0.1MPa0.5
以上且4.0MPa0.5
以下為更佳,0.1MPa0.5
以上且2.0MPa0.5
以下為進一步較佳。依該態樣,具有可更顯著地得到本發明的效果之傾向。另外,當在溶劑B中包含2種以上的溶劑B1及溶劑B2中的至少一者時,使用溶劑B1的溶解度參數與溶劑B2的溶解度參數的差分的絕對值最大的組合的值。
溶劑B1的沸點係110~200℃為較佳,110~190℃為更佳,130~190℃為進一步較佳。
作為溶劑B1,可以舉出醚系溶劑、酯系溶劑、酮系溶劑,從近紅外線吸收化合物及其他抗蝕劑材料的溶解性較高的原因考慮,酮系溶劑為較佳。作為溶劑B1的具體例,可以舉出環己酮、環戊酮、二丙二醇單甲醚、3-甲氧基丁醇,從由於沸點較低且在室溫下之蒸氣壓較高而膜中的殘存溶劑量較少的原因考慮,環戊酮為較佳。
溶劑B2的溶解度參數係17.0MPa0.5
以上且小於19.9MPa0.5
或超過22.3MPa0.5
且25.0MPa0.5
以下為較佳,17.5MPa0.5
以上且19.8MPa0.5
以下或超過22.3MPa0.5
且24.0MPa0.5
以下為更佳,18.0MPa0.5
以上且19.8MPa0.5
以下或超過22.3MPa0.5
且23.5MPa0.5
以下為進一步較佳。溶劑B2的溶解度參數係18.2MPa0.5
以上且19.0MPa0.5
以下為特佳。
溶劑B2的沸點係110~205℃為較佳,110~170℃為更佳,110~150℃為進一步較佳。
作為溶劑B2,可以舉出醚系溶劑、酯系溶劑、酮系溶劑,從近紅外線吸收化合物及其他抗蝕劑材料的溶解性比較高的原因考慮,酯系溶劑為較佳。作為溶劑B2的具體例,可以舉出丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚、二氯甲烷、乙酸丁酯、乙基-3-乙氧基丙酸酯、乳酸乙酯、N-甲基-2-吡咯啶酮,從由於沸點較低且在室溫下之蒸氣壓較高而膜中的殘存溶劑量較少的原因考慮,丙二醇單甲醚乙酸酯為較佳。
在溶劑B中之溶劑B2的含量為9質量%以下,0.1~9質量%為較佳。下限係0.2質量%以上為更佳,0.5質量%以上為進一步較佳,1質量%以上為特佳。上限係8.5質量%以下為更佳,8質量%以下為進一步較佳,7.5質量%以下為特佳。藉由在溶劑B中之溶劑B2的含量為9質量%以下,能夠有效地抑制塗佈組成物時的濕度變動所伴隨之所得到之膜在近紅外區域中之分光變動。藉由將溶劑B2的含量設為0.1質量%以上,能夠使近紅外線吸收化合物A在膜中適度凝聚,可得到優異之耐熱性。進而,可得到良好的分光特性。
在溶劑B中之溶劑B1與溶劑B2的質量比係溶劑B1:溶劑B2=91:9~99.9:0.1為較佳,91.5:8.5~99.5:0.5為更佳,92.5:7.5~99.0:1.0為進一步較佳。
在本發明的組成物中之溶劑的含量相對於組成物的總量,係10~90質量%為較佳,20~80質量%為更佳,25~75質量%為進一步較佳。
<<界面活性劑>> 本發明的組成物可以含有界面活性劑。藉由本發明的組成物包含界面活性劑,能夠使膜中之近紅外線吸收化合物A與樹脂等的相容性適度降低而使近紅外線吸收化合物A適度凝聚,從而能夠提高所得到之膜的耐熱性。又,藉由包含界面活性劑,能夠提高組成物的塗佈性。作為界面活性劑,能夠使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽氧系界面活性劑等各種界面活性劑。
作為氟系界面活性劑,具體而言,可以舉出日本特開2014-41318號公報的段落號0060~0064(對應之國際公開2014/17669號公報的段落號0060~0064)等中所記載之界面活性劑、日本特開2011-132503號公報的段落號0117~0132中所記載之界面活性劑,該等內容被併入本說明書中。作為氟系界面活性劑的市售品,例如可以舉出Megaface F171、F172、F173、F176、F177、F141、F142、F143、F144、R30、F437、F475、F479、F482、F554、F780(以上為DIC Corporation製造)、Fluorad FC430、FC431、FC171(以上為Sumitomo 3M Limited製造)、Surflon S-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上為ASAHI GLASS CO.,LTD.製造)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上為OMNOVA Solutions Inc.製造)等。
又,氟系界面活性劑亦能夠較佳地使用丙烯酸系化合物,該丙烯酸系化合物具有含有具有氟原子之官能基之分子結構且施加熱時含有氟原子之官能基部分被切斷而氟原子揮發。作為該種氟系界面活性劑,可以舉出DIC Corporation製造之Megaface DS系列(參閱化學工業日報,2016年2月22日及日經產業新聞,2016年2月23日),例如可以舉出Megaface DS-21,能夠使用該等。
作為氟系界面活性劑,亦能夠使用嵌段聚合物。例如可以舉出日本特開2011-89090號公報中所記載之化合物。氟系界面活性劑亦能夠使用含氟高分子化合物,該含氟高分子化合物包含:源自具有氟原子之(甲基)丙烯酸酯化合物之重複單元;及源自具有2個以上(較佳為5個以上)伸烷基氧基(alkyleneoxy group)(較佳為伸乙基氧基(ethyleneoxy group)、伸丙基氧基(propyleneoxy gorup)之(甲基)丙烯酸酯化合物之重複單元。下述化合物亦可以作為本發明中所使用之氟系界面活性劑而例示。 [化學式10]上述化合物的重量平均分子量較佳為3,000~50,000,例如為14,000。上述化合物中,表示重複單元的比例之%為莫耳%。
作為氟系界面活性劑,使用具有氟原子及硬化性基之化合物(以下,亦稱為含氟硬化性化合物)為較佳。藉由使用該種界面活性劑,能夠更加提高所得到之膜的耐熱性。進而,可得到優異之耐溶劑性。作為可以藉由使用含氟硬化性化合物而得到之優異之耐溶劑性之原因,推測係基於如下者。由於含氟硬化性化合物的表面自由能較低,因此例如在基板等支撐體上塗佈組成物而形成之塗膜中,容易偏在於與支撐體相反之一側的塗膜表面附近。藉由以含氟硬化性化合物如此偏在之狀態將本發明的組成物進行硬化,會在遠離基板的一側的表面上形成含氟硬化性化合物的硬化物的比例較多的區域。藉由該種區域的存在,即使將膜浸漬於溶劑中,近紅外線吸收化合物A亦難以從膜表面浸出,可得到優異之耐溶劑性。
作為含氟硬化性化合物所具有之硬化性基,可以舉出(甲基)丙烯醯氧基、環氧基及氧雜環丁基,(甲基)丙烯醯氧基為較佳。
含氟硬化性化合物具有選自包括經氟原子取代之伸烷基、經氟原子取代之烷基及經氟原子取代之芳基中之組群中之至少1個為較佳。 作為經氟原子取代之伸烷基,係至少1個氫原子經氟原子取代之直鏈狀、分支狀或環狀的伸烷基為較佳。 作為經氟原子取代之烷基,係至少1個氫原子經氟原子取代之直鏈狀、分支狀或環狀的烷基為較佳。 經氟原子取代之伸烷基及經氟原子取代之烷基中的碳數係1~20為較佳,1~10為更佳,1~5為進一步較佳。 關於經氟原子取代之芳基,芳基經氟原子直接取代或經三氟甲基取代為較佳。 經氟原子取代之伸烷基、經氟原子取代之烷基及經氟原子取代之芳基可以進一步具有氟原子以外的取代基。作為該等的具體例,例如能夠參閱日本特開2011-100089號公報的0266~0272段,該內容被併入本說明書中。
含氟硬化性化合物係包含氟醚基和硬化性基之化合物為較佳。作為氟醚基,可以舉出經氟原子取代之伸烷基和氧原子連接而得到之基團X(式(X)所表示之基團)。氟醚基係全氟伸烷基醚基為較佳。另外,全氟伸烷基醚基係指下述式(X)中之LA
為全氟伸烷基。全氟伸烷基係指伸烷基中的氫原子全部經氟原子取代之基團。 式(X) -(LA
-O)n
- 上述LA
表示經氟原子取代之伸烷基。經氟原子取代之伸烷基的碳數係1~20為較佳,1~10為更佳,1~5為進一步較佳。經氟原子取代之伸烷基可以係直鏈狀,亦可以係支鏈狀。n表示1以上的整數,1~50為較佳,1~20為更佳。另外,當n為2以上時,複數個-(LA
-O)-中的LA
可以相同,亦可以不同。
含氟硬化性化合物可以係單體,亦可以係聚合物,但聚合物為較佳。
當含氟硬化性化合物為聚合物時,聚合物係含有具有氟醚基之重複單元和具有硬化性基之重複單元之聚合物為較佳。又,具有下述式(B1)所表示之重複單元、下述式(B2)所表示之重複單元及式(B3)所表示之重複單元中的至少一者之聚合物為較佳,具有下述式(B1)所表示之重複單元和下述式(B3)所表示之重複單元之聚合物為更佳。
式(B1)~(B3)中,R1
~R11
分別獨立地表示氫原子、烷基或鹵素原子。L1
~L4
分別獨立地表示單鍵或2價的連接基。X1
表示(甲基)丙烯醯氧基、環氧基或氧雜環丁基,X2
表示經氟原子取代之烷基或經氟原子取代之芳基,X3
表示式(X)所表示之基團。
式(B1)~(B3)中,R1
~R11
分別獨立地係氫原子或烷基為較佳。當R1
~R11
表示烷基時,碳數1~3的烷基為較佳。當R1
~R11
表示鹵素原子時,氟原子為較佳。 式(B1)~(B3)中,當L1
~L4
表示2價的連接基時,作為2價的連接基,可以舉出鹵素原子可以經取代之伸烷基、鹵素原子可以經取代之伸芳基、-NR12
-、-CONR12
-、-CO-、-CO2
-、-SO2
NR12
-、-O-、-S-、-SO2
-或該等的組合。其中,選自包括碳數2~10的鹵素原子可以經取代之伸烷基及碳數6~12的鹵素原子可以經取代之伸芳基之組群中之至少1種、或由該等基團與選自包括-NR12
-、-CONR12
-、-CO-、-CO2
-、-SO2
NR12
-、-O-、-S-及-SO2
-之組群中之至少1種基團的組合所構成之基團為較佳,碳數2~10的鹵素原子可以經取代之伸烷基、-CO2
-、-O-、-CO-、-CONR12
-或由該等基團的組合所構成之基團為更佳。在此,上述R12
表示氫原子或甲基。
上述式(B1)所表示之重複單元的含量相對於含氟硬化性化合物中的所有重複單元,係30~95莫耳%為較佳,45~90莫耳%為更佳。 上述式(B2)所表示之重複單元及式(B3)所表示之重複單元的合計含量相對於含氟硬化性化合物中的所有重複單元,係5~70莫耳%為較佳,10~60莫耳%為更佳。另外,當不含式(B2)所表示之重複單元而包含式(B3)所表示之重複單元時,式(B2)所表示之重複單元的含量為0莫耳%而式(B3)所表示之重複單元的含量在上述範圍內為較佳。
含氟硬化性化合物可以具有上述式(B1)~(B3)所表示之重複單元以外的其他重複單元。其他重複單元的含量相對於含氟硬化性化合物中的所有重複單元,係10莫耳%以下為較佳,1莫耳%以下為更佳。
當含氟硬化性化合物為聚合物時,重量平均分子量係5,000~100,000為較佳,7,000~50,000為更佳。又,分散度(重量平均分子量/數量平均分子量)係1.80~3.00為較佳,2.00~2.90為更佳。
作為含氟硬化性化合物的市售品,例如能夠利用DIC Corporation製造之Megaface RS-72-K、Megaface RS-75、Megaface RS-76-E、Megaface RS-76-NS、Megaface RS-77等。含氟硬化性化合物亦能夠利用日本特開2010-164965號公報的段落號0050~0090及段落號0289~0295中所記載之化合物、日本特開2015-117327號公報的段落號0015~0158中所記載之化合物。又,作為含氟硬化性化合物,亦能夠使用具有式(B1-1)所表示之重複單元和式(B3-1)所表示之重複單元之聚合物。式(B3-1)中,X表示氟亞甲基或氟伸乙基,r表示重複單元數量。 [化學式12]
作為非離子系界面活性劑,可以舉出丙三醇(glycerol)、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷及該等的乙氧基化物及丙氧基化物(例如,丙三醇丙氧基化物、丙三醇乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯、Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(BASF公司製造)、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1(BASF公司製造)、Solsperse 20000(Japan Lubrizol Corporation製造)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(Wako Pure Chemical Industries, Ltd.製造)、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315(Takemoto Oil & Fat Co.,Ltd.製造)、OLFIN E1010、Surfynol 104、400、440(Nissin Chemical Co.,Ltd.製造)等。
作為陽離子系界面活性劑,可以舉出有機矽氧烷聚合物KP341(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.製造)、(甲基)丙烯酸系(共)聚物Polyflow No.75、No.90、No.95(KYOEISHA CHEMICAL Co.,Ltd.製造)、W001(Yusho Co.,Ltd.)等。
作為陰離子系界面活性劑,可以舉出W004、W005、W017(Yusho Co.,Ltd.)、Sundet BL(Sanyo Chemical Industries, Ltd.製造)等。
作為矽氧系界面活性劑,例如可以舉出Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400(以上為Dow Corning Toray Co.,Ltd.製造)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上為Momentive Performance Materials Inc.製造)、KP341、KF6001、KF6002(以上為Shin-Etsu Silicone Co.,Ltd.製造)、BYK307、BYK323、BYK330(以上為BYK-Chemie Corporation製造)等。
界面活性劑的含量相對於組成物的總固體成分,係0.1~15.0質量%為較佳,0.1~14.0質量%為更佳,0.5~13.0質量%為進一步較佳。在界面活性劑的總量中之氟系界面活性劑的含量係0.1~100質量%為較佳,0.5~100質量%為更佳,1.0~100質量%為進一步較佳。在界面活性劑的總量中之含氟硬化性化合物的含量係0.1~100質量%為較佳,0.5~100質量%為更佳,1.0~100質量%為進一步較佳。界面活性劑可以僅使用1種,亦可以將2種以上進行組合。
本發明的組成物亦能夠設為實質上不含界面活性劑之組成。依該態樣,能夠更加有效地抑制塗佈時的濕度變動所伴隨之所得到之膜在近紅外區域中之分光特性的偏差。本說明書中,實質上不含界面活性劑係指,界面活性劑相對於組成物的總固體成分之含量較佳為0.0005質量%以下,更佳為0.0001質量%以下,進一步較佳為不含有。
<<彩色著色劑>> 本發明的組成物能夠含有彩色著色劑。本說明書中,彩色著色劑係指白色著色劑及黑色著色劑以外的著色劑。彩色著色劑係在波長400nm以上且小於650nm的範圍具有吸收之著色劑為較佳。
彩色著色劑可以係顏料,亦可以係染料。顏料係有機顏料為較佳。作為有機顏料,能夠舉出以下。 比色指數(C.I.)顏料黃(Pigment Yellow)1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等(以上為黃色顏料); C.I.顏料橙(Pigment Orange)2、5、13、16、17:1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等(以上為橙色顏料); C.I.顏料紅(Pigment Red)1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、52:1、52:2、53:1、57:1、60:1、63:1、66、67、81:1、81:2、81:3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279等(以上為紅色顏料); C.I.顏料綠(Pigment Green)7、10、36、37、58、59等(以上為綠色顏料); C.I.顏料紫(Pigment Violet)1、19、23、27、32、37、42等(以上為紫色顏料); C.I.顏料藍(Pigment Blue)1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66、79、80等(以上為藍色顏料)。 該等有機顏料能夠單獨使用或者將各種有機顏料組合使用。
作為染料並沒有特別限制,能夠使用公知的染料。作為化學結構,能夠使用吡唑偶氮系、苯胺基偶氮系、三芳基甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮(anthrapyridone)系、苯亞甲基系、氧雜菁系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、噻吩嗪系、吡咯并吡唑次甲基偶氮(pyrrolopyrazole azomethine)系、呫噸(xanthene)系、酞菁系、苯并吡喃系、靛藍系、吡咯亞甲基系等染料。亦可以使用該等染料的多聚體。亦能夠使用日本特開2015-028144號公報、日本特開2015-34966號公報中所記載之染料。
當本發明的組成物含有彩色著色劑時,彩色著色劑的含量相對於組成物的總固體成分,係0.1~70質量%為較佳。下限係0.5質量%以上為更佳,1.0質量%以上為進一步較佳。上限係60質量%以下為更佳,50質量%以下為進一步較佳。 彩色著色劑的含量相對於近紅外線吸收化合物A(除了上述近紅外線吸收化合物A以外,進一步包含其他近紅外線吸收化合物時,為近紅外線吸收化合物A和其他近紅外線吸收化合物的合計)100質量份,係10~1000質量份為較佳,50~800質量份為更佳。 又,彩色著色劑、近紅外線吸收化合物A和其他近紅外線吸收化合物的合計量相對於本發明的組成物的總固體成分設為1~80質量%為較佳。下限係5質量%以上為更佳,10質量%以上為進一步較佳。上限係70質量%以下為更佳,60質量%以下為進一步較佳。 當本發明的組成物含有2種以上的彩色著色劑時,其合計量在上述範圍內為較佳。
<<使紅外線透射並遮擋可視光之色料>> 本發明的組成物亦能夠含有使紅外線透射並遮擋可視光之色料(以下,亦稱為遮擋可視光之色料)。 遮擋可視光之色料係吸收紫色至紅色的波長區域的光之色料為較佳。遮擋可視光之色料係遮擋波長450~650nm的波長區域的光之色料為較佳。又,遮擋可視光之色料係使波長900~1300nm的光透射之色料為較佳。 遮擋可視光之色料滿足以下(1)及(2)中的至少一個要件為較佳。 (1):包含2種以上的彩色著色劑,且以2種以上的彩色著色劑的組合來形成黑色。 (2):包含有機系黑色著色劑。
作為彩色著色劑,可以舉出上述者。作為有機系黑色著色劑,例如可以舉出雙苯并呋喃酮化合物、次甲基偶氮化合物、苝化合物、偶氮系化合物等,雙苯并呋喃酮化合物、苝化合物為較佳。作為雙苯并呋喃酮化合物,可以舉出日本特表2010-534726號公報、日本特表2012-515233號公報、日本特表2012-515234號公報等中所記載之化合物,例如能夠以BASF公司製造之“Irgaphor Black”獲得。作為苝化合物,可以舉出C.I.顏料黑(Pigment Black)31、32等。作為次甲基偶氮化合物,可以舉出日本特開平1-170601號公報、日本特開平2-34664號公報等中所記載之化合物,例如能夠以Dainichiseika Color & Chemicals Mfg.Co.,Ltd.製造之“CHROMO FINE BLACK A1103”獲得。
遮擋可視光之色料例如在波長450~650nm的範圍中之吸光度的最小值A與在波長900~1300nm的範圍中之吸光度的最小值B之比A/B係4.5以上為較佳。 上述特性可以以1種材料來滿足,亦可以以複數種材料的組合來滿足。例如,在上述(1)態樣的情況下,將複數種彩色著色劑組合來滿足上述分光特性為較佳。在上述(2)態樣的情況下,可以由有機系黑色著色劑滿足上述分光特性。又,亦可以以有機系黑色著色劑與彩色著色劑的組合來滿足上述分光特性。
作為以2種以上的彩色著色劑的組合來形成黑色時的彩色著色劑的組合,例如可以舉出以下。 (1)含有黃色著色劑、藍色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態樣。 (2)含有黃色著色劑、藍色著色劑及紅色著色劑之態樣。 (3)含有黃色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態樣。 (4)含有黃色著色劑及紫色著色劑之態樣。 (5)含有綠色著色劑、藍色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態樣。 (6)含有紫色著色劑及橙色著色劑之態樣。 (7)含有綠色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態樣。 (8)含有綠色著色劑及紅色著色劑之態樣。
當本發明的組成物含有遮擋可視光之色料時,遮擋可視光之色料的含量相對於組成物的總固體成分,係30質量%以下為較佳,20質量%以下為更佳,15質量%以下為進一步較佳。下限例如能夠設為0.01質量%以上,亦能夠設為0.5質量%以上。
<<顏料衍生物>> 本發明的組成物能夠進一步含有顏料衍生物。作為顏料衍生物,可以舉出具有將顏料的一部分經酸性基、鹼性基、具有鹽結構之基團或酞醯亞胺甲基取代之結構之化合物,式(B1)所表示之顏料衍生物為較佳。
[化學式13]式(B1)中,P表示色素結構,L表示單鍵或連接基,X表示酸性基、鹼性基、具有鹽結構之基團或酞醯亞胺甲基,m表示1以上的整數,n表示1以上的整數,當m為2以上時,複數個L及X可以彼此不同,當n為2以上時,複數個X可以彼此不同。
式(B1)中,P表示色素結構,係選自吡咯并吡咯色素結構、二酮吡咯并吡咯色素結構、喹吖啶酮色素結構、蒽醌色素結構、二蒽醌色素結構、苯并異吲哚色素結構、噻嗪靛藍色素結構、偶氮色素結構、喹酞酮色素結構、酞菁色素結構、萘酞菁色素結構、二噁嗪色素結構、苝色素結構、紫環酮色素結構、苯并咪唑酮色素結構、苯并噻唑色素結構、苯并咪唑色素結構及苯并噁唑色素結構中之至少1種為較佳,選自吡咯并吡咯色素結構、二酮吡咯并吡咯色素結構、喹吖啶酮色素結構及苯并咪唑酮色素結構中之至少1種為進一步較佳。
式(B1)中,L表示單鍵或連接基。作為連接基,由1~100個碳原子、0~10個氮原子、0~50個氧原子、1~200個氫原子及0~20個硫原子所構成之基團為較佳。連接基可以未經取代,亦可以進一步具有取代基。
式(B1)中,X表示酸性基、鹼性基、具有鹽結構之基團或酞醯亞胺甲基。
當本發明的組成物含有顏料衍生物時,顏料衍生物的含量相對於顏料100質量份,係1~50質量份為較佳。下限值係3質量份以上為更佳,5質量份以上為進一步較佳。上限值係40質量份以下為更佳,30質量份以下為進一步較佳。只要顏料衍生物的含量在上述範圍內,則能夠提高顏料的分散性而有效率地抑制顏料的凝聚。顏料衍生物可以僅係1種,亦可以係2種以上。在2種以上的情況下,合計量在上述範圍內為較佳。
<<樹脂>> 本發明的組成物含有樹脂為較佳。樹脂例如以使顏料等分散於組成物中之用途、黏合劑的用途來進行調配。另外,將主要用於使顏料等分散之樹脂亦稱為分散劑。但是,樹脂的該種用途為一例,亦能夠以該種用途以外的目的使用樹脂。
樹脂的重量平均分子量(Mw)係2,000~2,000,000為較佳。上限係1,000,000以下為更佳,500,000以下為進一步較佳。下限係3,000以上為更佳,5,000以上為進一步較佳。當樹脂為環氧樹脂時,環氧樹脂的重量平均分子量(Mw)係100以上為較佳,200~2,000,000為更佳。上限係1,000,000以下為更佳,500,000以下為進一步較佳。下限係100以上為較佳,200以上為更佳。
作為樹脂,可以舉出(甲基)丙烯酸樹脂、環氧樹脂、烯-硫醇樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚樹脂、聚芳酯樹脂、聚碸樹脂、聚醚碸樹脂、聚苯樹脂、聚芳醚氧化膦樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、環狀烯烴樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯樹脂等。可以從該等樹脂中單獨使用1種,亦可以將2種以上混合使用。
作為(甲基)丙烯酸樹脂,可以舉出包含源自(甲基)丙烯酸和/或其酯之重複單元之聚合物。具體而言,可以舉出將選自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯類、(甲基)丙烯醯胺及(甲基)丙烯腈中之至少1種進行聚合而得到之聚合物。
作為聚酯樹脂,可以舉出:藉由多元醇(例如,乙二醇、丙二醇、甘油、三羥甲基丙烷)與多元酸(例如,對苯二甲酸、間苯二甲酸、萘二羧酸等芳香族二羧酸及該等的芳香族環的氫原子經甲基、乙基、苯基等取代之芳香族二羧酸、己二酸、癸二酸、十二烷二羧酸等碳數2~20的脂肪族二羧酸、及環己烷二羧酸等脂環式二羧酸等)的反應而得到之聚合物、或藉由己內酯單體等環狀酯化合物的開環聚合而得到之聚合物(例如聚己內酯)。
作為環氧樹脂,例如可以舉出:作為酚化合物的縮水甘油醚化物之環氧樹脂、作為各種酚醛清漆樹脂的縮水甘油醚化物之環氧樹脂、脂環式環氧樹脂、脂肪族系環氧樹脂、雜環式環氧樹脂、縮水甘油酯系環氧樹脂、縮水甘油胺系環氧樹脂、將鹵化酚類進行縮水甘油化而得到之環氧樹脂、具有環氧基之矽化合物與其以外的矽化合物的縮合物、具有環氧基之聚合性不飽和化合物與其以外的其他聚合性不飽和化合物的共聚物等。
作為酚化合物的縮水甘油醚化物之環氧樹脂例如可以舉出2-[4-(2,3-環氧丙氧基)苯基]-2-[4-[1,1-雙[4-(2,3-羥基)苯基]乙基]苯基]丙烷、雙酚A、雙酚F、雙酚S、4,4’-聯苯酚、四甲基雙酚A、二甲基雙酚A、四甲基雙酚F、二甲基雙酚F、四甲基雙酚S、二甲基雙酚S、四甲基-4,4’-聯苯酚、二甲基-4,4’-聯苯酚、1-(4-羥基苯基)-2-[4-(1,1-雙-(4-羥基苯基)乙基)苯基]丙烷、2,2’-亞甲基-雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、4,4’-亞丁基-雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、三羥基苯基甲烷、間苯二酚、氫醌、鄰苯三酚、間苯三酚(phloroglucinol)、具有二亞異丙基骨架之酚類;具有1,1-二-4-羥基苯基茀等茀骨架之酚類;作為酚化聚丁二烯等聚酚化合物的縮水甘油醚化物之環氧樹脂等。
作為酚醛清漆樹脂的縮水甘油醚化物之環氧樹脂例如可以舉出:以苯酚、甲酚類、乙基苯酚類、丁基苯酚類、辛基苯酚類、雙酚A、雙酚F及雙酚S等雙酚類、萘酚類等各種酚作為原料之酚醛清漆樹脂;含有二甲苯(xylylene)骨架之苯酚酚醛清漆樹脂、含有二環戊二烯骨架之苯酚酚醛清漆樹脂、含有聯苯骨架之苯酚酚醛清漆樹脂、含有茀骨架之苯酚酚醛清漆樹脂等各種酚醛清漆樹脂的縮水甘油醚化物等。
作為脂環式環氧樹脂,例如可以舉出3,4-環氧環己基甲基-(3,4-環氧)環己基羧酸酯、雙(3,4-環氧環己基甲基)己二酸酯等具有脂肪族環骨架之脂環式環氧樹脂。 作為脂肪族系環氧樹脂,例如可以舉出1,4-丁二醇、1,6-己二醇、聚乙二醇、新戊四醇等多元醇的縮水甘油醚類。 作為雜環式環氧樹脂,例如可以舉出具有異氰脲酸環、乙內醯脲環等雜環之雜環式環氧樹脂。
作為縮水甘油酯系環氧樹脂,例如可以舉出包含六氫鄰苯二甲酸二縮水甘油酯等羧酸酯類之環氧樹脂。
作為縮水甘油胺系環氧樹脂,例如可以舉出將苯胺、甲苯胺等胺類進行縮水甘油化而得到之環氧樹脂。
作為將鹵化酚類進行縮水甘油化而得到之環氧樹脂,例如可以舉出將溴化雙酚A、溴化雙酚F、溴化雙酚S、溴化苯酚酚醛清漆、溴化甲酚酚醛清漆、氯化雙酚S、氯化雙酚A等鹵化酚類進行縮水甘油化而得到之環氧樹脂。
作為具有環氧基之聚合性不飽和化合物與其以外的其他聚合性不飽和化合物的共聚物,在能夠從市場獲得之產品中可以舉出Marproof G-0150M、G-0105SA、G-0130SP、G-0250SP、G-1005S、G-1005SA、G-1010S、G-2050M、G-01100、G-01758(以上為NOF CORPORATION製造,含有環氧基之聚合物)等。作為具有環氧基之聚合性不飽和化合物,例如可以舉出丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、1,2-環氧化-4-乙烯基-1-環己烯等。又,作為其他聚合性不飽和化合物的共聚物,例如可以舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸環己酯、苯乙烯、乙烯基環己烷等,尤其(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸芐酯、苯乙烯為較佳。
環氧樹脂的環氧當量係310~3300g/eq為較佳,310~1700g/eq為更佳,310~1000g/eq為進一步較佳。
本發明中所使用之樹脂可以具有酸基。作為酸基,例如可以舉出羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等。該等酸基可以僅係1種,亦可以係2種以上。具有酸基之樹脂亦能夠用作鹼可溶性樹脂。又,具有酸基之樹脂亦能夠用作分散劑。
作為具有酸基之樹脂,在側鏈上具有羧基之聚合物為較佳。作為具體例,可以舉出甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、順丁烯二酸共聚物、部分酯化順丁烯二酸共聚物、酚醛清漆樹脂等鹼可溶性酚醛樹脂、在側鏈上具有羧基之酸性纖維素衍生物、在具有羥基之聚合物中使酸酐加成而得到之樹脂。尤其,(甲基)丙烯酸和能夠與其共聚合之其他單體的共聚物較佳地作為鹼可溶性樹脂。作為能夠與(甲基)丙烯酸共聚合之其他單體,可以舉出(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、乙烯基化合物等。作為(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸芳基酯,可以舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸芐酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸環己酯等,作為乙烯基化合物,可以舉出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基丙烯酸四氫糠基酯、聚苯乙烯大分子單體、聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體等。又,其他單體亦能夠使用日本特開平10-300922號公報中所記載之N位取代順丁烯二醯亞胺單體,例如N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺等。另外,能夠與該等(甲基)丙烯酸共聚合之其他單體可以僅係1種,亦可以係2種以上。
具有酸基之樹脂能夠較佳地使用包括(甲基)丙烯酸芐酯/(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸芐酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、(甲基)丙烯酸芐酯/(甲基)丙烯酸/其他單體之多元共聚物。又,亦能夠較佳地使用將(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯進行共聚合而得到者、日本特開平7-140654號公報中所記載之(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。
具有酸基之樹脂包含將含有下述式(ED1)所表示之化合物和/或下述式(ED2)所表示之化合物(以下,有時將該等化合物亦稱為“醚二聚物”。)之單體成分進行聚合而成之聚合物亦較佳。
式(ED1)中,R1
及R2
分別獨立地表示氫原子或可以具有取代基之碳數1~25的烴基。 [化學式16]式(ED2)中,R表示氫原子或碳數1~30的有機基。作為式(ED2)的具體例,能夠參閱日本特開2010-168539號公報的記載。
作為醚二聚物的具體例,能夠參閱日本特開2013-29760號公報的段落號0317,該內容被併入本說明書中。醚二聚物可以僅係1種,亦可以係2種以上。
具有酸基之樹脂可以包含源自下述式(X)所表示之化合物之重複單元。 [化學式17]式(X)中,R1
表示氫原子或甲基,R2
表示碳數2~10的伸烷基,R3
表示氫原子或可以包含苯環之碳數1~20的烷基。n表示1~15的整數。
作為具有酸基之樹脂,能夠參閱日本特開2012-208494號公報的段落號0558~0571(對應之美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的段落號0685~0700)的記載、日本特開2012-198408號公報的段落號0076~0099的記載,該等內容被併入本說明書中。
具有酸基之樹脂的酸值係30~200mgKOH/g為較佳。下限係50mgKOH/g以上為更佳,70mgKOH/g以上為進一步較佳。上限係150mgKOH/g以下為更佳,120mgKOH/g以下為進一步較佳。
樹脂可以具有硬化性基。作為硬化性基,可以舉出具有乙烯性不飽和鍵之基團、環氧基、羥甲基、烷氧基矽基等。作為具有乙烯性不飽和鍵之基團,可以舉出乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基等。作為烷氧基矽基,可以舉出單烷氧基矽基、二烷氧基矽基、三烷氧基矽基。作為具有硬化性基之重複單元,可以舉出下述式(A2-1)~(A2-4)等。 [化學式18]
R1
表示氫原子或烷基。烷基的碳數係1~5為較佳,1~3為更佳,1為特佳。R1
係氫原子或甲基為較佳。
L51
表示單鍵或2價的連接基。作為2價的連接基,可以舉出伸烷基、伸芳基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2
-、-NR-(R表示氫原子或烷基,氫原子為較佳)或包括該等的組合之基團,伸烷基、伸芳基及包括伸烷基的至少1個與-O-的組合之基團為較佳。伸烷基的碳數係1~30為較佳,1~15為更佳,1~10為進一步較佳。伸烷基可以具有取代基,但未經取代為較佳。伸烷基可以係直鏈、分支、環狀中的任意一種。又,環狀的伸烷基可以係單環、多環中的任意一種。伸芳基的碳數係6~18為較佳,6~14為更佳,6~10為進一步較佳。
P1
表示硬化性基。作為硬化性基,可以舉出具有乙烯性不飽和鍵之基團、環氧基、羥甲基、烷氧基矽基等。作為具有乙烯性不飽和鍵之基團,可以舉出乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基等。作為烷氧基矽基,可以舉出單烷氧基矽基、二烷氧基矽基、三烷氧基矽基。
作為具有硬化性基之樹脂,可以舉出Dianal NR系列(Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.製造)、Photomer6173(含有COOH之聚氨酯丙烯酸寡聚物(polyurethane acrylic oligomer)。Diamond Shamrock Co.,Ltd.製造)、Viscote R-264、KS Resist106(均為Osaka Organic Chemical Industry Co.,Ltd.製造)、CYCLOMER P系列(例如ACA230AA)、PLACCEL CF200系列(均為Daicel Corporation製造)、Ebecryl3800(Daicel UCB Co.,Ltd.製造)、Acrycure-RD-F8(Nippon Shokubai Co.,Ltd.製造)等。又,還可以舉出在上述環氧樹脂中所說明之產品等。
本發明的組成物中,作為樹脂,使用具有式(A3-1)~(A3-7)所表示之重複單元之樹脂亦較佳。 [化學式19]式中,R5
表示氫原子或烷基,L4
~L7
分別獨立地表示單鍵或2價的連接基,R10
~R13
分別獨立地表示烷基或芳基。R14
及R15
分別獨立地表示氫原子或取代基。
R5
表示氫原子或烷基。烷基的碳數係1~5為較佳,1~3為更佳,1為特佳。R5
係氫原子或甲基為較佳。
L4
~L7
分別獨立地表示單鍵或2價的連接基。作為2價的連接基,可以舉出伸烷基、伸芳基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO2
-、-NR10
-(R10
表示氫原子或烷基,氫原子為較佳)或包括該等的組合之基團,伸烷基、伸芳基及包括伸烷基的至少1個與-O-的組合之基團為較佳。伸烷基的碳數係1~30為較佳,1~15為更佳,1~10為進一步較佳。伸烷基可以具有取代基,但未經取代為較佳。伸烷基可以係直鏈、分支、環狀中的任意一種。又,環狀的伸烷基可以係單環、多環中的任意一種。伸芳基的碳數係6~18為較佳,6~14為更佳,6~10為進一步較佳。
R10
所表示之烷基可以係直鏈狀、分支狀或環狀中的任意一種,環狀為較佳。烷基可以具有取代基,亦可以未經取代。烷基的碳數係1~30為較佳,1~20為更佳,1~10為進一步較佳。R10
所表示之芳基的碳數係6~18為較佳,6~12為更佳,6為進一步較佳。R10
係環狀的烷基或芳基為較佳。
R11
、R12
所表示之烷基可以係直鏈狀、分支狀或環狀中的任意一種,直鏈狀或分支狀為較佳。烷基可以具有取代基,亦可以未經取代。烷基的碳數係1~12為較佳,1~6為更佳,1~4為進一步較佳。R11
、R12
所表示之芳基的碳數係6~18為較佳,6~12為更佳,6為進一步較佳。R11
、R12
係直鏈狀或分支狀的烷基為較佳。
R13
所表示之烷基可以係直鏈狀、分支狀或環狀中的任意一種,直鏈狀或分支狀為較佳。烷基可以具有取代基,亦可以未經取代。烷基的碳數係1~12為較佳,1~6為更佳,1~4為進一步較佳。R13
所表示之芳基的碳數係6~18為較佳,6~12為更佳,6為進一步較佳。R13
係直鏈狀或分支狀的烷基或芳基為較佳。
R14
及R15
所表示之取代基可以舉出鹵素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、雜芳氧基、烷硫基、芳硫基、雜芳硫基、-NRa1
Ra2
、-CORa3
、-COORa4
、-OCORa5
、-NHCORa6
、-CONRa7
Ra8
、-NHCONRa9
Ra10
、-NHCOORa11
、-SO2
Ra12
、-SO2
ORa13
、-NHSO2
Ra14
或-SO2
NRa15
Ra16
。Ra1
~Ra16
分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基或雜芳基。其中,R14
及R15
中的至少一者表示氰基或-COORa4
為較佳。Ra4
表示氫原子、烷基或芳基為較佳。
作為具有式(A3-7)所表示之重複單元之樹脂的市售品,可以舉出ARTON F4520(JSR Corporation製造)等。關於具有式(A3-7)所表示之重複單元之樹脂的詳細內容,能夠參閱日本特開2011-100084號公報的段落號0053~0075、0127~0130的記載,該內容被併入本說明書中。
當本發明的組成物包含顏料時,包含作為分散劑之樹脂為較佳。作為分散劑之樹脂係酸性型的樹脂和/或鹼性型的樹脂為較佳。在此,酸性型的樹脂係指酸基的量多於鹼性基的量的樹脂。關於酸性型的樹脂,在將樹脂中的酸基的量和鹼性基的量的合計量設為100莫耳%時,酸基的量佔據70莫耳%以上之樹脂為較佳,實質上僅包括酸基之樹脂為更佳。酸性型的樹脂所具有之酸基係羧基為較佳。酸性型的樹脂的酸值係40~105mgKOH/g為較佳,50~105mgKOH/g為更佳,60~105mgKOH/g為進一步較佳。鹼性型的樹脂係指鹼性基的量多於酸基的量的樹脂。關於鹼性型的樹脂,在將樹脂中的酸基的量和鹼性基的量的合計量設為100莫耳%時,鹼性基的量超過50莫耳%之樹脂為較佳。鹼性型的樹脂所具有之鹼性基係胺為較佳。
作為分散劑,能夠舉出高分子分散劑(例如,具有胺基之樹脂(聚醯胺胺及其鹽等)、寡聚亞胺系樹脂、聚羧酸及其鹽、高分子量不飽和酸酯、改質聚氨酯、改質聚酯、改質聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸系共聚物、萘磺酸福馬林縮合物)等。高分子分散劑根據其結構能夠進一步分類為直鏈狀高分子、末端改質型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子。
作為末端改質型高分子,例如可以舉出日本特開平3-112992號公報、日本特表2003-533455號公報等中所記載之在末端具有磷酸基之高分子、日本特開2002-273191號公報等中所記載之在末端具有磺基之高分子、日本特開平9-77994號公報等中所記載之具有有機色素的部分骨架或雜環之高分子等。又,日本特開2007-277514號公報中所記載之在高分子末端導入有2個以上的對顏料表面之錨固(anchor)部位(酸基、鹼性基、有機色素的部分骨架或雜環等)之高分子亦係分散穩定性優異,故較佳。
作為嵌段型高分子,可以舉出日本特開2003-49110號公報、日本特開2009-52010號公報等中所記載之嵌段型高分子。
作為接枝型高分子,例如可以舉出日本特開昭54-37082號公報、日本特表平8-507960號公報、日本特開2009-258668公報等中所記載之聚(低級伸烷基亞胺)與聚酯的反應生成物、日本特開平9-169821號公報等中所記載之聚烯丙基胺與聚酯的反應生成物、日本特開平10-339949號、日本特開2004-37986號公報等中所記載之大分子單體與具有含有氮原子之基團之單體的共聚物、日本特開2003-238837號公報、日本特開2008-9426號公報、日本特開2008-81732號公報等中所記載之具有有機色素的部分骨架或雜環之接枝型高分子、日本特開2010-106268號公報等中所記載之大分子單體與含有酸基之單體的共聚物等。
又,分散劑亦能夠使用日本特開2012-255128號公報的段落號0025~0094中所記載之接枝共聚物或日本特開2012-255128號公報的段落號0102~0174中所記載之寡聚亞胺系樹脂,該等內容被併入本說明書中。又,作為寡聚亞胺系樹脂的具體例,可以舉出下述樹脂。下述樹脂中,主鏈的重複單元中所附記之數值為莫耳比,側鏈的重複單元中所附記之數值表示重複單元的重複數。 [化學式20]
分散劑亦能夠以市售品獲得,作為該等的具體例,可以舉出Disperbyk-111(BYK Chemie GmbH公司製造)等。又,亦能夠使用日本特開2014-130338號公報的段落號0041~0130中所記載之顏料分散劑,該內容被併入本說明書中。亦能夠將上述之具有酸基之樹脂等用作分散劑。
在本發明的組成物中,樹脂的含量相對於組成物的總固體成分,係1~80質量%為較佳。下限係5質量%以上為更佳,7質量%以上為進一步較佳。上限係50質量%以下為更佳,30質量%以下為進一步較佳。 又,當作為樹脂而含有分散劑時,分散劑的含量相對於組成物的總固體成分,係0.1~40質量%為較佳。上限係20質量%以下為更佳,10質量%以下為進一步較佳。下限係0.5質量%以上為更佳,1質量%以上為進一步較佳。又,分散劑的含量相對於顏料100質量份,係1~100質量份為較佳。上限係80質量份以下為更佳,60質量份以下為進一步較佳。下限係2.5質量份以上為更佳,5質量份以上為進一步較佳。
<<聚合性化合物>> 本發明的組成物含有聚合性化合物為較佳。聚合性化合物係能夠藉由自由基的作用進行聚合之化合物為較佳。亦即,聚合性化合物係自由基聚合性化合物為較佳。聚合性化合物係含有具有1個以上的乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為較佳,含有具有2個以上的乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為更佳,含有具有3個以上的乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為進一步較佳。具有乙烯性不飽和鍵之基團的個數的上限例如係15個以下為較佳,6個以下為更佳。作為具有乙烯性不飽和鍵之基團,可以舉出乙烯基、苯乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基等,(甲基)丙烯醯基為較佳。聚合性化合物係3~15官能的(甲基)丙烯酸酯化合物為較佳,3~6官能的(甲基)丙烯酸酯化合物為更佳。
聚合性化合物可以係單體、聚合物中的任意一種形態,但單體為較佳。單體類型的聚合性化合物的分子量係100~3000為較佳。上限係2000以下為更佳,1500以下為進一步較佳。下限係150以上為更佳,250以上為進一步較佳。又,聚合性化合物係實質上不具有分子量分佈之化合物亦較佳。在此,實質上不具有分子量分佈係指,化合物的分散度(重量平均分子量(Mw)/數量平均分子量(Mn))係1.0~1.5為較佳,1.0~1.3為更佳。
作為聚合性化合物的例子,能夠參閱日本特開2013-253224號公報的段落號0033~0034的記載,該內容被併入本說明書中。作為聚合性化合物,係伸乙基氧基改質新戊四醇四丙烯酸酯(作為市售品為NK Ester ATM-35E;Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造)、二新戊四醇三丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-330;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)、二新戊四醇四丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-320;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD D-310;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(作為市售品為KAYARAD DPHA;Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造,A-DPH-12E;Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造)及該等的(甲基)丙烯醯基介隔乙二醇殘基和/或丙二醇殘基鍵結之結構為較佳。亦能夠使用該等的寡聚物類型。能夠參閱日本特開2013-253224號公報的段落號0034~0038的記載,該內容被併入本說明書中。可以舉出日本特開2012-208494號公報的段落號0477(對應之美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的段落號0585)中所記載之聚合性單體等,該等內容被併入本說明書中。二甘油EO(環氧乙烷)改質(甲基)丙烯酸酯(作為市售品為M-460;TOAGOSEI CO.,LTD.製造)、新戊四醇四丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造,A-TMMT)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造,KAYARAD HDDA)亦較佳。亦能夠使用該等的寡聚物類型。例如可以舉出RP-1040(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)等。
聚合性化合物可以具有羧基、磺基、磷酸基等酸基。作為具有酸基之聚合性化合物,可以舉出脂肪族聚羥基化合物與不飽和羧酸的酯等。使非芳香族羧酸酐與脂肪族聚羥基化合物的未反應的羥基進行反應而具有酸基之聚合性化合物為較佳,特佳為在該酯中脂肪族聚羥基化合物為新戊四醇和/或二新戊四醇者。作為市售品,例如作為TOAGOSEI CO.,LTD.製造之多元酸改質丙烯酸寡聚物可以舉出ARONIX系列的M-305、M-510、M-520等。具有酸基之聚合性化合物的酸值係0.1~40mgKOH/g為較佳。下限係5mgKOH/g以上為更佳。上限係30mgKOH/g以下為更佳。
聚合性化合物為具有己內酯結構之化合物亦係較佳的態樣。作為具有己內酯結構之聚合性化合物,只要在分子內具有己內酯結構,則並沒有特別限定,例如能夠舉出三羥甲基乙烷、二-三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、新戊四醇、二新戊四醇、三新戊四醇、甘油、二丙三醇、三羥甲基三聚氰胺等多元醇、以及藉由將(甲基)丙烯酸及ε-己內酯進行酯化而得到之ε-己內酯改質多官能(甲基)丙烯酸酯。作為具有己內酯結構之聚合性化合物,能夠參閱日本特開2013-253224號公報的段落號0042~0045的記載,該內容被併入本說明書中。具有己內酯結構之化合物例如可以舉出由Nippon Kayaku Co.,Ltd.以KAYARAD DPCA系列市售之DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等、Sartomer Company, Inc.製造之作為具有4個伸乙基氧基鏈之4官能丙烯酸酯之SR-494、作為具有3個伸異丁基氧基鏈之3官能丙烯酸酯之TPA-330等。
作為聚合性化合物,日本特公昭48-41708號公報、日本特開昭51-37193號公報、日本特公平2-32293號公報、日本特公平2-16765號公報中所記載之胺基甲酸酯丙烯酸酯類、或日本特公昭58-49860號公報、日本特公昭56-17654號公報、日本特公昭62-39417號公報、日本特公昭62-39418號公報中所記載之具有環氧乙烷系骨架之胺基甲酸酯化合物類亦較佳。又,亦能夠使用日本特開昭63-277653號公報、日本特開昭63-260909號公報、日本特開平1-105238號公報中所記載之在分子內具有胺基結構或硫化物結構之加成聚合性化合物類。作為市售品,可以舉出胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140(Sanyo Kokusaku Pulp Co.,Ltd.製造)、UA-7200(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.製造)、DPHA-40H(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(KYOEISHA CHEMICAL Co.,Ltd.製造)等。
當本發明的組成物含有聚合性化合物時,聚合性化合物的含量相對於組成物的總固體成分,係0.1~40質量%為較佳。下限例如係0.5質量%以上為更佳,1質量%以上為進一步較佳。上限例如係30質量%以下為更佳,20質量%以下為進一步較佳。聚合性化合物可以係單獨1種,亦可以將2種以上併用。當將2種以上的聚合性化合物併用時,合計量在上述範圍內為較佳。 又,當組成物包含環氧樹脂和聚合性化合物時,聚合性化合物與環氧樹脂的質量比係聚合性化合物:環氧樹脂=100:1~100:400為較佳,100:1~100:100為更佳。
<<光聚合起始劑>> 本發明的組成物能夠含有光聚合起始劑。尤其,當本發明的組成物包含聚合性化合物(較佳為自由基聚合性化合物)時,含有光聚合起始劑為較佳。作為光聚合起始劑並沒有特別限制,能夠從公知的光聚合起始劑中適當選擇。例如,對紫外區域至可視區域的光線具有感光性之化合物為較佳。光聚合起始劑係光自由基聚合起始劑為較佳。
作為光聚合起始劑,例如可以舉出鹵化烴衍生物(例如,具有三𠯤骨架之化合物、具有噁二唑骨架之化合物等)、醯基氧化膦等醯基膦化合物、六芳基聯咪唑、肟衍生物等肟化合物、有機過氧化物、硫代化合物、酮化合物、芳香族鎓鹽、酮肟醚、胺基苯乙酮化合物、羥基苯乙酮等。作為具有三骨架之鹵化烴化合物,例如可以舉出若林等著、Bull.Chem.Soc.Japan,42、2924(1969)、英國專利1388492號說明書、日本特開昭53-133428號公報、德國專利3337024號說明書、由F.C.Schaefer等編著之J.Org.Chem.;29、1527(1964)、日本特開昭62-58241號公報、日本特開平5-281728號公報、日本特開平5-34920號公報、美國專利第4212976號說明書中所記載之化合物等。
從曝光靈敏度的觀點考慮,光聚合起始劑係選自包括三鹵甲基三(trihalo methyl triazine)化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三芳基咪唑二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物、環戊二烯-苯-鐵錯合物、鹵甲基噁二唑化合物及3-芳基取代之香豆素化合物之組群中之化合物為較佳。
作為光聚合起始劑,亦能夠較佳地使用α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物及醯基膦化合物。例如,亦能夠使用日本特開平10-291969號公報中所記載之α-胺基酮化合物、日本專利第4225898號公報中所記載之醯基膦化合物。作為α-羥基酮化合物,能夠使用IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(以上為BASF公司製造)。作為α-胺基酮化合物,能夠使用IRGACURE-907、IRGACURE-369、IRGACURE-379及IRGACURE-379EG(以上為BASF公司製造)。α-胺基酮化合物能夠使用日本特開2009-191179號公報中所記載之化合物。作為醯基膦化合物,能夠使用作為市售品之IRGACURE-819或DAROCUR-TPO(以上為BASF公司製造)。
光聚合起始劑使用肟化合物為較佳。作為肟化合物的具體例,可以舉出日本特開2001-233842號公報、日本特開2000-80068號公報、日本特開2006-342166號公報、日本特開2016-21012號公報中所記載之化合物等。作為在本發明中能夠較佳地使用之肟化合物,例如可以舉出3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-丙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺醯氧基)亞胺基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。亦可以舉出J.C.S.Perkin II(1979年、第1653頁-第1660頁)、J.C.S.Perkin II(1979年、第156頁-第162頁)、光聚合物科學與技術雜誌(Journal of Photopolymer Science and Technology)(1995年、第202頁-第232頁)、日本特開2000-66385號公報、日本特開2000-80068號公報、日本特表2004-534797號公報、日本特開2006-342166號公報中所記載之化合物等。 在市售品中,亦可以較佳地使用IRGACURE-OXE01、IRGACURE-OXE02、IRGACURE-OXE03、IRGACURE-OXE04(以上為BASF公司製造)。TR-PBG-304(Changzhou Tronly New Electronic Materials CO.,LTD.製造)、ADEKA ARKLS NCI-831(ADEKA CORPORATION製造)、ADEKA ARKLS NCI-930(ADEKA CORPORATION製造)、ADEKA OPTOMER N-1919(ADEKA CORPORATION製造)、日本特開2012-14052號公報中所記載之光聚合起始劑2。
作為上述以外的肟化合物,可以使用在咔唑環的N位連接有肟之日本特表2009-519904號公報中所記載之化合物、在二苯甲酮部位導入有雜(hetero)取代基之美國專利第7626957號公報中所記載之化合物、在色素部位導入有硝基之日本特開2010-15025號公報及美國專利公開2009-292039號公報中所記載之化合物、國際公開WO2009/131189號公報中所記載之酮肟化合物、在同一分子內含有三𠯤骨架和肟骨架之美國專利7556910號公報中所記載之化合物、在405nm具有極大吸收且對g射線光源具有良好的靈敏度之日本特開2009-221114號公報中所記載之化合物等。
肟化合物能夠較佳地使用下述式(OX-1)所表示之化合物。肟化合物可以係肟的N-O鍵為(E)體的肟化合物,亦可以係肟的N-O鍵為(Z)體的肟化合物,亦可以係(E)體與(Z)體的混合物。
式(OX-1)中,R及B各自獨立地表示一價的取代基,A表示二價的有機基,Ar表示芳基。關於式(OX-1)的詳細內容,能夠參閱日本特開2013-029760號公報的段落號0276~0304的記載,該內容被併入本說明書中。
作為光聚合起始劑,亦能夠使用具有茀環之肟化合物。作為具有茀環之肟化合物的具體例,可以舉出日本特開2014-137466號公報中所記載之化合物。該內容被併入本說明書中。
作為光聚合起始劑,亦能夠使用具有氟原子之肟化合物。作為具有氟原子之肟化合物的具體例,可以舉出日本特開2010-262028號公報中所記載之化合物、日本特表2014-500852號公報中所記載之化合物24、36~40、日本特開2013-164471號公報中所記載之化合物(C-3)等。該內容被併入本說明書中。
作為光聚合起始劑,亦能夠使用具有硝基之肟化合物。具有硝基之肟化合物設為二聚物亦較佳。作為具有硝基之肟化合物的具體例,可以舉出日本特開2013-114249號公報的段落號0031~0047、日本特開2014-137466號公報的段落號0008~0012、0070~0079、日本專利4223071號公報的段落號0007~0025中所記載之化合物、ADEKA ARKLS NCI-831(ADEKA CORPORATION製造)。
以下示出肟化合物的較佳的具體例,但本發明並不限定於該等。
肟化合物係在350nm~500nm的波長區域具有極大吸收之化合物為較佳,在360nm~480nm的波長區域具有極大吸收之化合物為更佳。肟化合物係365nm及405nm的吸光度較高的化合物為較佳。 從靈敏度的觀點考慮,肟化合物在365nm或405nm下之莫耳吸光係數係1,000~300,000為較佳,2,000~300,000為更佳,5,000~200,000為進一步較佳。 化合物的莫耳吸光係數能夠使用公知的方法進行測定。例如,藉由紫外可視分光光度計(Varian公司製造之Cary-5 分光光度計(spectrophotometer)),使用乙酸乙酯溶劑以0.01g/L的濃度測定為較佳。
光聚合起始劑包含肟化合物和α-胺基酮化合物亦較佳。藉由將兩者併用,顯影性得到提高,容易形成矩形性優異之圖案。當將肟化合物和α-胺基酮化合物併用時,相對於肟化合物100質量份,α-胺基酮化合物係50~600質量份為較佳,150~400質量份為更佳。
光聚合起始劑的含量相對於組成物的總固體成分,係0.1~50質量%為較佳,0.5~30質量%為更佳,1~20質量%為進一步較佳。若光聚合起始劑的含量在上述範圍內,則可得到更加良好的靈敏度和圖案形成性。本發明的組成物可以僅包含1種光聚合起始劑,亦可以包含2種以上。當包含2種以上的光聚合起始劑時,其合計量在上述範圍內為較佳。
<<環氧硬化劑>> 當本發明的組成物包含具有環氧基之化合物時,進一步包含環氧硬化劑為較佳。作為環氧硬化劑,例如可以舉出胺系化合物、酸酐系化合物、醯胺系化合物、酚系化合物、多元羧酸、硫醇化合物等。作為環氧硬化劑,從耐熱性、硬化物的透明性的觀點考慮,多元羧酸為較佳,在分子內具有2個以上的羧酸酐基之化合物為更佳。作為環氧硬化劑的具體例,可以舉出丁二酸等。環氧硬化劑亦能夠使用日本特開2016-075720號公報的段落號0072~0078中所記載之化合物,該內容被併入本說明書中。
環氧硬化劑的含量相對於具有環氧基之化合物100質量份,係0.01~20質量份為較佳,0.01~10質量份為更佳,0.1~6.0質量份為進一步較佳。
<<聚合抑制劑>> 本發明的組成物可以含有聚合抑制劑。作為聚合抑制劑,可以舉出氫醌、對甲氧基苯酚、二-第三丁基-對甲酚、鄰苯三酚、第三丁基鄰苯二酚、苯醌、4,4’-硫代雙(3-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2’-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、N-亞硝基苯基羥基胺鹽(銨鹽、亞鈰鹽等)。其中,對甲氧基苯酚為較佳。聚合抑制劑的含量相對於組成物的總固體成分,係0.01~5質量%為較佳。
<<紫外線吸收劑>> 本發明的組成物可以含有紫外線吸收劑。紫外線吸收劑能夠使用共軛二烯化合物、胺基二烯化合物、水楊酸酯化合物、二苯甲酮化合物、苯并三唑化合物、丙烯腈化合物、羥基苯基三𠯤化合物等。關於該等的詳細內容,能夠參閱日本特開2012-208374號公報的段落號0052~0072、日本特開2013-68814號公報的段落號0317~0334的記載,該等內容被併入本說明書中。作為共軛二烯化合物的市售品,例如可以舉出UV-503(DAITO CHEMICAL CO.,LTD.製造)等。作為苯并三唑化合物,可以使用MIYOSHI OIL & FAT CO.,LTD.製造之MYUA系列(化學工業日報,2016年2月1日)。 紫外線吸收劑的含量相對於本發明的組成物的總固體成分,係0.01~10質量%為較佳,0.01~5質量%為更佳。
<<矽烷偶合劑>> 本發明的組成物可以含有矽烷偶合劑。另外,本說明書中,矽烷偶合劑意味著與上述硬化性化合物不同之成分。本說明書中,矽烷偶合劑意味著具有水解性基和其以外的官能基之矽烷化合物。水解性基係指與矽原子直接連接、且能夠藉由水解反應及縮合反應中的至少任意一種反應產生矽氧烷鍵之取代基。作為水解性基,例如可以舉出鹵素原子、烷氧基、醯氧基等,烷氧基為較佳。亦即,矽烷偶合劑係具有烷氧基矽基之化合物為較佳。水解性基以外的官能基係在與樹脂之間相互作用或形成鍵而顯出親和性之基團為較佳。例如可以舉出乙烯基、苯乙烯基、(甲基)丙烯醯基、巰基、環氧基、氧雜環丁基、胺基、脲基、硫化物基、異氰酸酯基、苯基等,(甲基)丙烯醯基及環氧基為較佳。矽烷偶合劑可以舉出日本特開2009-288703號公報的段落號0018~0036中所記載之化合物、日本特開2009-242604號公報的段落號0056~0066中所記載之化合物,該等內容被併入本說明書中。
矽烷偶合劑的含量相對於組成物的總固體成分,係0.01~15.0質量%為較佳,0.05~10.0質量%為更佳。矽烷偶合劑可以僅係1種,亦可以係2種以上。在2種以上的情況下,合計量在上述範圍內為較佳。
<<其他成分>> 本發明的組成物根據需要可以含有增感劑、硬化促進劑、填充劑、熱硬化促進劑、熱聚合抑制劑、可塑劑、密合促進劑及其他助劑類(例如,導電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、調平劑(leveling agent)、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、表面張力調整劑、鏈轉移劑等)。該等成分能夠參閱日本特開2008-250074號公報的段落號0101~0104、0107~0109等的記載,該內容被併入本說明書中。作為抗氧化劑,可以舉出酚化合物、亞磷酸酯化合物、硫醚化合物等。作為抗氧化劑,分子量500以上的酚化合物、分子量500以上的亞磷酸酯化合物或分子量500以上的硫醚化合物為更佳。該等亦可以混合使用2種以上。作為酚化合物,能夠使用作為酚系抗氧化劑而已知之任意的酚化合物。作為較佳的酚化合物,可以舉出受阻酚化合物。尤其,在與酚性羥基相鄰之部位(鄰位)具有取代基之化合物為較佳。作為前述取代基,碳數1~22的經取代或未經取代之烷基為較佳,甲基、乙基、丙醯基、異丙醯基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、異戊基、第三戊基、己基、辛基、異辛基、2-乙基己基為更佳。抗氧化劑在同一分子內具有酚基和亞磷酸酯基之化合物亦較佳。抗氧化劑亦能夠較佳地使用磷系抗氧化劑。作為磷系抗氧化劑,可以舉出選自包括三[2-[[2,4,8,10-四(1,1-二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷雜庚英(dioxaphosphepin)-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[(4,6,9,11-四-第三丁基二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷雜庚英-2-基)氧基]乙基]胺及雙(2,4-二-第三丁基-6-甲基苯基)亞磷酸乙酯之組群中之至少1種化合物。該等能夠以市售品獲得。例如可以舉出ADK STAB AO-20、ADK STAB AO-30、ADK STAB AO-40、ADK STAB AO-50、ADK STAB AO-50F、ADK STAB AO-60、ADK STAB AO-60G、ADK STAB AO-80、ADK STAB AO-330(ADEKA CORPORATION)等。抗氧化劑的含量相對於組成物的總固體成分,係0.01~20質量%為較佳,0.3~15質量%為更佳。抗氧化劑可以僅係1種,亦可以係2種以上。在2種以上的情況下,合計量在上述範圍內為較佳。
例如藉由塗佈來形成膜時,本發明的組成物的黏度(23℃)在1~3000mPa·s的範圍內為較佳。下限係3mPa·s以上為更佳,5mPa·s以上為進一步較佳。上限係2000mPa·s以下為更佳,1000mPa·s以下為進一步較佳。
本發明的組成物能夠較佳地用於近紅外線截止濾光片或紅外線透射濾光片等的形成。
<組成物的製備方法> 本發明的組成物能夠將前述成分混合而製備。 在製備組成物時,可以將各成分一次性調配,亦可以將各成分溶解或分散於溶劑中之後逐次調配。調配時的投入順序和作業條件並不受特別制約。例如,可以將所有成分同時溶解或分散於溶劑中來製備組成物,根據需要,亦可以預先製備適當調配了各成分之2種以上的溶液或分散液,並在使用時(塗佈時)將該等混合而製備成組成物。
當本發明的組成物包含顏料等粒子時,在組成物的製備方法中包含使粒子分散之製程為較佳。在使粒子分散之製程中,作為粒子的分散中所使用之機械力,可以舉出壓縮、壓搾、衝擊、剪切、氣蝕(cavitation)等。作為該等製程的具體例,可以舉出珠磨機、混砂機(sand mill)、輥磨機、球磨機、塗料攪拌器(pain shaker)、微射流機(microfluidizer)、高速葉輪、砂磨機、噴流混合器(flowjet mieer)、高壓濕式微粒化、超音波分散等。在混砂機(珠磨機)中之粒子的粉碎中,在藉由使用直徑小的珠子、加大珠子的填充率等來提高了粉碎效率之條件下進行處理為較佳。在粉碎處理後,藉由過濾、離心分離等去除粗粒子為較佳。使粒子分散之製程及分散機能夠較佳地使用《分散技術大全、株式會社情報機構發行、2005年7月15日》或《以懸浮液(固/液分散體系)為中心之分散技術與工業應用的實際綜合資料集、經營開發中心出版部發行、1978年10月10日》、日本特開2015-157893號公報的段落號0022中所記載之製程及分散機。在使粒子分散之製程中,可以藉由鹽磨(salt milling)製程進行粒子的微細化處理。鹽磨製程中所使用之材料、設備、處理條件等例如能夠參閱日本特開2015-194521號公報、日本特開2012-046629號公報的記載。
當製備組成物時,以去除異物或減少缺陷等為目的,利用過濾器對組成物進行過濾為較佳。作為過濾器,只要係一直以來用於過濾用途等之過濾器,則能夠無特別限制地進行使用。例如可以舉出使用了聚四氟乙烯(PTFE)等氟樹脂、尼龍(例如尼龍-6、尼龍-6,6)等聚醯胺系樹脂、聚乙烯、聚丙烯(PP)等聚烯烴樹脂(包含高密度、超高分子量的聚烯烴樹脂)等材料之過濾器。在該等材料之中,聚丙烯(包含高密度聚丙烯)及尼龍為較佳。 過濾器的孔徑為0.01~7.0μm左右為適當,較佳為0.01~3.0μm左右,更佳為0.05~0.5μm左右。若過濾器的孔徑在上述範圍內,則能夠確實地去除微細的異物。使用纖維狀的濾材亦較佳。作為纖維狀的濾材,例如可以舉出聚丙烯纖維、尼龍纖維、玻璃纖維等。具體而言,可以舉出ROKI GROUP CO.,LTD.製造之SBP類型系列(SBP008等)、TPR類型系列(TPR002、TPR005等)、SHPX類型系列(SHPX003等)的濾筒。
在使用過濾器時,可以組合不同之過濾器(例如,第1過濾器和第2過濾器等)。此時,利用各過濾器之過濾可以僅進行1次,亦可以進行2次以上。 可以在上述範圍內組合不同孔徑的過濾器。此時的孔徑能夠參閱過濾器廠商的標稱值。作為市售的過濾器,例如能夠從由NIHON PALL LTD.(DFA4201NXEY等)、Advantec Toyo Kaisha, Ltd.、Japan Entegris Inc.(舊Japan Microlis Co.,Ltd.)或KITZ MICRO FILTER Corporation等提供之各種過濾器中選擇。 第2過濾器能夠使用由與第1過濾器相同之材料等形成者。 利用第1過濾器之過濾可以僅對分散液進行,在混合其他成分之後,利用第2過濾器進行過濾。
<膜> 使用本發明的組成物而得到之膜能夠較佳地用作近紅外線截止濾光片。亦能夠用作熱線遮蔽濾光片或紅外線透射濾光片。使用本發明的組成物而得到之膜可以積層於支撐體進行使用,亦可以從支撐體上剝離後進行使用。膜可以具有圖案,亦可以係不具有圖案之膜(平坦膜)。
膜的厚度能夠根據目的適當調整。膜厚係20μm以下為較佳,10μm以下為更佳,5μm以下為進一步較佳。膜厚的下限係0.1μm以上為較佳,0.2μm以上為更佳,0.3μm以上為進一步較佳。
膜在波長700~1000nm的範圍內具有極大吸收波長為較佳,在波長720~980nm的範圍內具有極大吸收波長為更佳,在波長740~960nm的範圍內具有極大吸收波長為進一步較佳。
當將膜用作近紅外線截止濾光片時,本發明中之膜滿足以下(1)~(4)中的至少1個條件為較佳,滿足(1)~(4)所有條件為更佳。 (1)在波長400nm下之透射率係70%以上為較佳,80%以上為更佳,85%以上為進一步較佳,90%以上為特佳。 (2)在波長500nm下之透射率係70%以上為較佳,80%以上為更佳,90%以上為進一步較佳,95%以上為特佳。 (3)在波長600nm下之透射率係70%以上為較佳,80%以上為更佳,90%以上為進一步較佳,95%以上為特佳。 (4)在波長650nm下之透射率係70%以上為較佳,80%以上為更佳,90%以上為進一步較佳,95%以上為特佳。
本發明中之膜亦能夠與包含彩色著色劑之彩色濾光片組合使用。彩色濾光片能夠使用包含彩色著色劑之著色組成物進行製造。作為彩色著色劑,可以舉出在本發明的組成物中所說明之彩色著色劑。著色組成物能夠進一步包含樹脂、聚合性化合物、光聚合起始劑、界面活性劑、溶劑、聚合抑制劑、紫外線吸收劑等。關於該等的詳細內容,可以舉出在本發明的組成物中所說明之材料,能夠使用該等。
當將本發明中之膜和彩色濾光片組合使用時,能夠將膜和彩色濾光片積層而用作積層體。在積層體中,本發明中之膜和彩色濾光片可以在厚度方向上相鄰,亦可以不相鄰。當本發明中之膜和彩色濾光片在厚度方向上不相鄰時,可以在與形成有彩色濾光片之支撐體不同之支撐體上形成有本發明中之膜,亦可以在本發明中之膜與彩色濾光片之間夾裝有構成固體攝像元件之其他構件(例如,微透鏡、平坦化層等)。
另外,本說明書中,近紅外線截止濾光片係指使可視區域的波長的光(可視光)透射並遮擋近紅外區域的波長的光(近紅外線)的至少一部分之濾光片。近紅外線截止濾光片可以係使可視區域的波長的光全部透射者,亦可以使可視區域的波長的光中特定波長區域的光通過並遮擋特定波長區域的光者。本說明書中,彩色濾光片係指使可視區域的波長的光中特定的波長區域的光通過並遮擋特定的波長區域的光之濾光片。本說明書中,紅外線透射濾光片係指遮擋可視光並使近紅外線的至少一部分透射之濾光片。
本發明中之膜能夠用於CCD(電荷耦合元件)或CMOS(互補金屬氧化物半導體)等固體攝像元件、或紅外線感測器、圖像顯示裝置等各種裝置。
<膜的製造方法> 接著,對本發明的膜的製造方法進行說明。本發明的膜的製造方法包含塗佈本發明的組成物之製程。
在本發明的膜的製造方法中,將組成物塗佈於支撐體上為較佳。作為支撐體,例如可以舉出由矽、無鹼玻璃、鈉玻璃、Pyrex(登錄商標)玻璃、石英玻璃等材質構成之基板。支撐體上可以形成有電荷耦合元件(CCD)、互補金屬氧化物半導體(CMOS)、透明導電膜等。有時在支撐體上形成有將各像素隔離之黑矩陣(black matrix)。支撐體上根據需要可以為了改善與上部的層之密合性、防止物質的擴散或基板表面的平坦化而設置下塗層。
作為組成物的塗佈方法,能夠使用公知的方法。例如,可以舉出滴加法(滴鑄);狹縫塗佈法;噴霧法;輥塗法;旋轉塗佈法(旋塗法);流延塗佈法;狹縫旋塗法;預濕法(例如,日本特開2009-145395號公報中所記載之方法);噴墨(例如按需方式、壓電方式、熱方式)、噴嘴噴射等噴出系印刷、柔版印刷、網版印刷、凹版印刷、逆轉偏移印刷、金屬遮罩印刷法等各種印刷法;使用模具等之轉印法;奈米壓印法等。作為基於噴墨之適用方法並沒有特別限定,例如可以舉出《可推廣、使用之噴墨-專利中出現之無限可能性-、2005年2月發行、Sumitbe Techon Research Co.,Ltd.》所示之專利公報中所記載之方法(尤其第115頁~第133頁)、或日本特開2003-262716號公報、日本特開2003-185831號公報、日本特開2003-261827號公報、日本特開2012-126830號公報、日本特開2006-169325號公報等中所記載之方法。
在塗佈組成物時,濕度條件並沒有特別限定。依本發明,即使在濕度不同之條件下進行塗佈,亦能夠製造在近紅外區域中之分光特性的偏差得到抑制之膜。例如,能夠在相對濕度35~55%的範圍內進行。
塗佈組成物而形成之組成物層可以進行乾燥(預烘烤)。當藉由低溫製程形成圖案時,可以不進行預烘烤。當進行預烘烤時,預烘烤溫度係150℃以下為較佳,120℃以下為更佳,110℃以下為進一步較佳。下限例如能夠設為50℃以上,亦能夠設為80℃以上。藉由在150℃以下的預烘烤溫度下進行,例如在由有機材料構成影像感測器的光電轉換膜之情況下,能夠更有效地維持該等的特性。 預烘烤時間係10秒~3000秒為較佳,40~2500秒為更佳,80~220秒為進一步較佳。乾燥能夠利用加熱板、烘箱等來進行。
本發明的膜的製造方法可以進一步具有形成圖案之製程。作為圖案形成方法,可以舉出使用了光微影法之圖案形成方法、或使用了乾式蝕刻法之圖案形成方法。另外,當將藉由本發明的膜的製造方法而得到之膜用作平坦膜時,可以不進行形成圖案之製程。以下,對形成圖案之製程進行詳細說明。
(利用光微影法形成圖案之情況) 利用光微影法之圖案形成方法包含:將塗佈本發明的組成物而形成之組成物層曝光成圖案狀之製程(曝光製程);及將未曝光部的組成物層顯影去除而形成圖案之製程(顯影製程)為較佳。根據需要,可以設置烘烤經顯影之圖案之製程(後烘烤製程)。以下,對各製程進行說明。
<<曝光製程>> 在曝光製程中,將組成物層曝光成圖案狀。例如,使用步進機等曝光裝置,將組成物層介隔具有既定的遮罩圖案之遮罩進行曝光,藉此能夠將組成物層進行圖案曝光。藉此,能夠將曝光部分進行硬化。作為曝光時能夠使用之放射線(光),g射線、i射線等紫外線為較佳,i射線為更佳。照射量(曝光量)例如係0.03~2.5J/cm2
為較佳,0.05~1.0J/cm2
為更佳,0.08~0.5J/cm2
為進一步較佳。關於曝光時的氧濃度,能夠適當選擇,除了在大氣下進行曝光以外,例如可以在氧濃度為19體積%以下的低氧環境(例如,15體積%、5體積%、實質上無氧)下進行曝光,亦可以在氧濃度超過21體積%之高氧環境(例如,22體積%、30體積%、50體積%)下進行曝光。曝光照度能夠適當設定,通常從1000W/m2
~100000W/m2
(例如,5000W/m2
、15000W/m2
、35000W/m2
)的範圍選擇。氧濃度和曝光照度可以組合適當條件,例如能夠設為氧濃度10體積%且照度10000W/m2
、氧濃度35體積%且照度20000W/m2
等。
<<顯影製程>> 接著,將曝光後的組成物層中之未曝光部的組成物層顯影去除而形成圖案。未曝光部的組成物層的顯影去除能夠使用顯影液來進行。藉此,曝光製程中之未曝光部的組成物層溶出於顯影液中,只有經光硬化之部分殘留於支撐體上。作為顯影液,不對基底的固體攝像元件或電路等帶來損傷之鹼顯影液為較佳。顯影液的溫度例如係20~30℃為較佳。顯影時間係20~180秒為較佳。為了提高殘渣去除性,可以重複複數次每隔60秒甩掉顯影液,進而供給新的顯影液之製程。
作為顯影液中所使用之鹼劑,例如可以舉出氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、二甘醇胺(diglycolamine)、二乙醇胺、羥胺、乙二胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、苄基三甲基氫氧化銨、二甲基雙(2-羥基乙基)氫氧化銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一碳烯等有機鹼性化合物、或氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等無機鹼性化合物。顯影液可以較佳地使用將該等鹼劑於純水中稀釋而得到之鹼性水溶液。鹼性水溶液的鹼劑的濃度係0.001~10質量%為較佳,0.01~1質量%為更佳。顯影液中可以使用界面活性劑。作為界面活性劑的例子,可以舉出在上述組成物中所說明之界面活性劑,非離子系界面活性劑為較佳。當使用了包括該種鹼性水溶液之顯影液時,顯影後利用純水清洗(沖洗)為較佳。
顯影後,在實施乾燥之後亦能夠進行加熱處理(後烘烤)。後烘烤係用於使膜的硬化完全進行之顯影後的加熱處理。當進行後烘烤時,後烘烤溫度例如係100~240℃為較佳。從膜硬化的觀點考慮,200~230℃為更佳。使用有機電致發光(有機EL)元件作為發光光源之情況、或由有機材料構成影像感測器的光電轉換膜之情況,後烘烤溫度係150℃以下為較佳,120℃以下為更佳,100℃以下為進一步較佳,90℃以下為特佳。下限例如能夠設為50℃以上。能夠以成為上述條件之方式,使用加熱板或對流烘箱(熱風循環式乾燥機)、或高頻加熱機等加熱機構,以連續式或間歇式對顯影後的膜進行後烘烤。當藉由低溫製程形成圖案時,可以不進行後烘烤。
(利用乾式蝕刻法形成圖案之情況) 關於利用乾式蝕刻法之圖案形成,能夠使將組成物層塗佈於支撐體上等而形成之組成物層進行硬化而形成硬化物層,接著對所得到之硬化物層,將圖案化之光阻劑層作為遮罩,使用蝕刻氣體來進行。在形成光阻劑層時,進一步實施預烘烤處理為較佳。尤其,作為光阻劑的形成製程,實施曝光後的加熱處理、顯影後的加熱處理(後烘烤處理)之形態為較佳。關於利用乾式蝕刻法之圖案形成,能夠參閱日本特開2013-064993號公報的段落號0010~0067的記載,該內容被併入本說明書中。
<近紅外線截止濾光片的製造方法> 接著,對本發明的近紅外線截止濾光片的製造方法進行說明。本發明的近紅外線截止濾光片的製造方法包含本發明的膜的製造方法。藉由本發明的製造方法而得到之近紅外線截止濾光片的製造方法的詳細內容,能夠使用在上述本發明的膜的製造方法中所說明之方法。
本發明中之近紅外線截止濾光片除了使用本發明的組成物而得到之膜以外,可以進一步具有含有銅之層、介電體多層膜、紫外線吸收層等。藉由近紅外線截止濾光片進一步具有含有銅之層和/或介電體多層膜,可容易得到視野角較寬、紅外線遮蔽性優異之近紅外線截止濾光片。藉由近紅外線截止濾光片進一步具有紫外線吸收層,能夠製成紫外線遮蔽性優異之近紅外線截止濾光片。作為紫外線吸收層,例如能夠參閱國際公開WO2015/099060號公報的段落號0040~0070、0119~0145中所記載之吸收層,該內容被併入本說明書中。作為介電體多層膜,能夠參閱日本特開2014-41318號公報的段落號0255~0259的記載,該內容被併入本說明書中。作為含有銅之層,亦能夠使用由含有銅之玻璃構成之玻璃基材(含有銅之玻璃基材)、或包含銅錯合物之層(含有銅錯合物之層)。作為含有銅之玻璃基材,可以舉出含有銅之磷酸鹽玻璃、含有銅之氟磷酸鹽玻璃等。作為含有銅之玻璃的市售品,可以舉出NF-50(AGC TECHNO GLASS Co.,Ltd.製造)、BG-60、BG-61(以上為Schott公司製造)、CD5000(HOYA CORPORATION製造)等。
本發明中之近紅外線截止濾光片能夠用於CCD(電荷耦合元件)或CMOS(互補金屬氧化物半導體)等固體攝像元件、或紅外線感測器、圖像顯示裝置等各種裝置。
本發明中之近紅外線截止濾光片具有使用本發明的組成物而得到之膜的像素(圖案)和選自紅色、綠色、藍色、洋紅色、黃色、青色、黑色及無色中之像素(圖案)之態樣亦係較佳的態樣。
<固體攝像元件的製造方法> 本發明的固體攝像元件的製造方法包含上述本發明的膜的製造方法。作為固體攝像元件的構成,只要係具有使用本發明的組成物而得到之膜且作為固體攝像元件發揮功能之構成,則並沒有特別限定。例如,可以舉出如下構成。
係如下構成:在支撐體上具有構成固體攝像元件的受光區之複數個光二極體及包括多晶矽等之傳輸電極,在光二極體及傳輸電極上具有只有光二極體的受光部開口之包括鎢等之遮光膜,在遮光膜上具有以覆蓋遮光膜全面及光二極體受光部之方式形成且包括氮化矽等之器件保護膜,在器件保護膜上具有本發明中之膜。另外,亦可以係在器件保護膜上且本發明中之膜的下側(靠近支撐體的一側)具有聚光機構(例如,微透鏡等。以下相同)之構成、或在本發明中之膜上具有聚光機構之構成等。又,彩色濾光片亦可以具有在由隔壁隔開成例如格子狀之空間中埋入有形成各像素之硬化膜之結構。該情況下之隔壁相對於各像素係低折射率為較佳。作為具有該種結構之攝像裝置的例子,可以舉出日本特開2012-227478號公報、日本特開2014-179577號公報中所記載之裝置。
<圖像顯示裝置的製造方法>
本發明的圖像顯示裝置的製造方法包含本發明的膜的製造方法。作為圖像顯示裝置,可以舉出液晶顯示裝置或有機電致發光(有機EL)顯示裝置等。關於圖像顯示裝置的定義或詳細內容,例如記載於《電子顯示器器件(佐佐木昭夫著,Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd.,1990年發行)》、《顯示器器件(伊吹順章著,Sangyo Tosho Publishing Co.,Ltd.,平成元年發行)》等。關於液晶顯示裝置,例如記載於《下一代液晶顯示器技術(內田龍男編輯,Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd.,1994年發行)》。對能夠適用本發明之液晶顯示裝置並沒有特別限制,例如能夠適用於上述的《下一代液晶顯示器技術》中所記載之各種方式的液晶顯示裝置。圖像顯示裝置可以係具有白色有機EL元件者。作為白色有機EL元件,串聯(tandem)結構為較佳。關於有機EL元件的串聯結構,記載於日本特開2003-45676號公報、三上明義監修、《有機EL技術開發的最前線-高亮度‧高精度‧長壽命化‧技巧集-》、技術情報協會、第326頁-第328頁、2008年等。有機EL元件所發出之白色光的光譜係在藍色區域(430nm~485nm)、綠色區域(530nm~580nm)及黃色區域(580nm~620nm)具有較強的極大發光峰者為較佳。除了該等發光峰以外,進一步在紅色區域(650nm~700nm)具有極大發光峰者為更佳。
<紅外線感測器的製造方法>
本發明的紅外線感測器的製造方法包含上述本發明的膜的製造方法。作為紅外線感測器的構成,只要係具有本發明中之膜且作為紅外線感測器發揮功能之構成,則並沒有特別限定。
以下,使用圖式對本發明的紅外線感測器的一實施形態進行說明。 圖1中,符號110為固體攝像元件。設置於固體攝像元件110上之攝像區域具有近紅外線截止濾光片111和紅外線透射濾光片114。又,在近紅外線截止濾光片111上積層有彩色濾光片112。在彩色濾光片112及紅外線透射濾光片114的入射光hν側配置有微透鏡115。以覆蓋微透鏡115之方式形成有平坦化層116。
近紅外線截止濾光片111係使可視區域的光透射並遮蔽近紅外區域的光之濾光片。近紅外線截止濾光片111的分光特性可以根據所使用之紅外發光二極體(紅外LED)的發光波長來選擇。近紅外線截止濾光片111能夠使用本發明的組成物來形成。
彩色濾光片112係形成有透射及吸收可視區域中之特定波長的光之像素之彩色濾光片,並沒有特別限定,能夠使用先前公知的像素形成用的彩色濾光片。例如可以使用形成有紅色(R)、綠色(G)、藍色(B)的像素之彩色濾光片等。例如,能夠參閱日本特開2014-043556號公報的段落號0214~0263的記載,該內容被併入本說明書中。
紅外線透射濾光片114可以根據所使用之紅外LED的發光波長來選擇其特性。例如,當紅外LED的發光波長為850nm時,紅外線透射濾光片114在膜的厚度方向上之透光率在波長400~650nm的範圍中之最大值係30%以下為較佳,20%以下為更佳,10%以下為進一步較佳,1%以下為特佳。該透射率在波長400~650nm的範圍的整個區域中滿足上述條件為較佳。在膜的厚度方向上之透光率在波長400~650nm的範圍中之最大值通常係0.1%以上。
紅外線透射濾光片114在膜的厚度方向上之透光率在波長800nm以上(較佳為800~1300nm)的範圍中之最小值係70%以上為較佳,80%以上為更佳,90%以上為進一步較佳。該透射率在波長800nm以上的範圍的一部分中滿足上述條件為較佳,在與紅外LED的發光波長對應之波長下滿足上述條件為較佳。在波長800~1300nm的範圍中之透光率的最小值通常係99.9%以下。
紅外線透射濾光片114的膜厚係100μm以下為較佳,15μm以下為更佳,5μm以下為進一步較佳,1μm以下為特佳。下限值係0.1μm為較佳。若膜厚在上述範圍內,則能夠製成滿足上述分光特性之膜。 以下示出紅外線透射濾光片114的分光特性、膜厚等的測定方法。 關於膜厚,能夠使用触針式表面形狀測定器(ULVAC,Inc.製造之DEKTAK150),對具有膜之乾燥後的基板進行測定。 膜的分光特性能夠利用使用紫外可視近紅外分光光度計(Hitachi High-Technologies Corporation製造之U-4100)在波長300~1300nm的範圍中測定透射率而得到之值。
例如,當紅外LED的發光波長為940nm時,紅外線透射濾光片114在膜的厚度方向上之光的透射率在波長450~650nm的範圍中之最大值係20%以下、在膜的厚度方向上之波長835nm的光的透射率係20%以下、在膜的厚度方向上之光的透射率在波長1000~1300nm的範圍中之最小值係70%以上為較佳。 [實施例]
以下,舉出實施例對本發明進行進一步具體的說明。以下實施例所示之材料、使用量、比例、處理內容、處理步驟等,只要不脫離本發明的趣旨,則能夠適當變更。因此,本發明的範圍並不限定於以下所示之具體例。另外,只要沒有特別指定,則“份”、“%”為質量基準。又,結構式中之Me表示甲基,Et表示乙基,Bu表示丁基,Ph表示苯基。
上述表中所記載之原料如下所示。另外,上述表中之溶劑B2係指溶解度參數(SP值)小於19.9MPa0.5
的溶劑或溶解度參數(SP值)超過22.3MPa0.5
之溶劑。
(樹脂) ·樹脂1:下述結構的樹脂(重量平均分子量41400,重複單元中所附記之數值為莫耳比)的環己酮30質量%溶液。 ·樹脂2:下述結構的樹脂的環戊酮30質量%溶液。 ·樹脂3:下述結構的樹脂的二丙二醇單甲醚30質量%溶液。 ·樹脂4:ARTON F4520(JSR Corporation製造)的環己酮30質量%溶液。 ·樹脂5:甲基丙烯酸縮水甘油酯骨架無規共聚物(NOF CORPORATION製造,Marproof G-0150M 重量平均分子量10000)的環己酮30質量%溶液。 ·樹脂6:下述結構的樹脂的3-甲氧基丁醇30質量%溶液。 [化學式25]
(溶劑) ·溶劑1:環己酮(SP值=20.0MPa0.5
) ·溶劑2:丙二醇單甲醚乙酸酯(SP值=18.2MPa0.5
) ·溶劑3:環戊酮(SP值=20.1MPa0.5
) ·溶劑4:二丙二醇單甲醚(SP值=20.3MPa0.5
) ·溶劑5:二氯甲烷(SP值=19.8MPa0.5
) ·溶劑6:丙二醇單甲醚(SP值=22.4MPa0.5
) ·溶劑7:3-甲氧基丁醇(SP值=21.6MPa0.5
) ·溶劑8:乙酸丁酯(SP值=17.4MPa0.5
) ·溶劑9:乙基-3-乙氧基丙酸酯(SP值=18.0MPa0.5
) ·溶劑10:N-甲基-2-吡咯啶酮(SP值=23.0MPa0.5
) ·溶劑11:乳酸乙酯(SP值=23.3MPa0.5
)
·添加劑:丁二酸 ·聚合抑制劑:對羥基苯酚 ·界面活性劑:具有式(B1-1)所表示之重複單元和式(B3-1)所表示之重複單元之聚合物(重量平均分子量=7400g/mol,B1-1:B3-1=92.5:7.5(莫耳比))。式(B3-1)中,X表示全氟亞甲基或全氟伸乙基,r表示重複單元數量。關於X,-CF2
-CF2
-、-CF2
-與-CH2
-CF2
-的個數的比例為-CF2
-CF2
-:-CF2
-:-CH2
-CF2
-=4.2:1.9:1.0。 [化學式28]
(分散液1) 使用0.3mm直徑的氧化鋯珠,利用珠磨機(帶有減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.製造)經2小時使下述組成的原料分散,製備出分散液1。 -分散液1的組成- ・下述結構的近紅外線吸收化合物(平均一次粒徑200nm) ……11.6質量份 [化學式29]·下述結構的顏料衍生物……3.5質量份 [化學式30]·分散劑(下述結構的樹脂。重量平均分子量22900,主鏈的重複單元中所附記之數值為莫耳比,側鏈的重複單元中所附記之數值表示重複單元的重複數。)……7.2質量份 [化學式31]·環己酮……77.77質量份
<膜的製造> 將各組成物旋塗於玻璃基板上,使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+(Canon Inc.製造)以1000mJ/cm2
的曝光量進行了全面曝光。接著,使用加熱板,於220℃下加熱5分鐘,製造出膜。另外,將塗佈組成物時的相對濕度調整為30%、40%、50%、60%、70%、80%,在各自的濕度條件下將各組成物旋塗於玻璃基板上。
〔濕度依存性的評價〕 對在上述範圍內改變塗佈時的濕度條件而製造出之各膜,使用紫外可視近紅外分光光度計U-4100(Hitachi High-Technologies Corporation製造)測定了在波長400~1300nm的範圍中之透光率。關於在對改變塗佈時的濕度條件而製造出之膜之近紅外區域(700~1300nm)中吸光度變化較大的波長下之吸光度λx、與在近紅外區域(700~1300nm)中吸光度最大的波長下之吸光度λmax的比率(λx/λmax),標繪在將橫軸設為塗佈時的相對濕度、縱軸設為λx/λmax之圖表上。計算出在相對濕度40~60%下之直線近似時的斜率A和在相對濕度60~80%下之直線近似時的斜率B,使用A的值及B的值與A的值之比B/A評價了濕度依存性。另外,A的值及B/A越小,濕度依存性越良好,判定基準如下所示。另外,若按判定基準為2以上,則可實用。 -判定基準- 3:A<0.1且(B/A)≤23 2:A<0.1且(B/A)>23 1:A>0.1
〔耐熱性的評價〕 對在相對濕度45%的條件下進行塗佈而製造出之膜,使用紫外可視近紅外分光光度計U-4100(Hitachi High-Technologies Corporation製造)測定了在波長400~1300nm的範圍中之透光率。接著,在加熱板上,將上述膜於240℃下加熱了300秒鐘。對於240℃下加熱了300秒鐘之後的膜,測定在波長400~1300nm的範圍中之透光率,基於在測定波長區域整體中之透射率變化(ΔT)最大的值,按以下基準評價了耐熱性。ΔT的值較小者,耐熱性良好。 透射率變化(ΔT)=|加熱前的膜的透射率-加熱後的膜的透射率| -判定基準- 3:ΔT%<1 2:1≤ΔT%<5 1:5≤ΔT%
如上述表所示,實施例均係濕度依存性及耐熱性為2以上的評價,能夠製造耐熱性良好、且即使塗佈時的濕度變動,近紅外區域中之分光特性的偏差亦得到抑制之膜。
<試驗例1> 利用旋塗法,將實施例3的組成物以製膜後的膜厚成為1.0μm之方式塗佈於矽晶片上。接著,使用加熱板,於100℃下加熱了2分鐘。接著,使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+(Canon Inc.製造),以1000mJ/cm2
的曝光量介隔2μm平方的Bayer圖案的遮罩進行了曝光。接著,使用四甲基氫氧化銨(TMAH)0.3質量%水溶液,於23℃下進行了60秒鐘浸置(puddle)顯影。然後,用旋轉噴淋器(spin shower)進行沖洗,進而利用純水進行了水洗。接著,使用加熱板,於200℃下加熱5分鐘,藉此形成了2μm平方的Bayer圖案(近紅外線截止濾光片)。 接著,利用旋塗法,將紅色(Red)組成物以製膜後的膜厚成為1.0μm之方式塗佈於近紅外線截止濾光片的Bayer圖案上。接著,使用加熱板,於100℃下加熱了2分鐘。接著,使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+(Canon Inc.製造),以1000mJ/cm2
的曝光量介隔2μm平方的Bayer圖案的遮罩進行了曝光。接著,使用四甲基氫氧化銨(TMAH)0.3質量%水溶液,於23℃下進行了60秒鐘浸置顯影。然後,用旋轉噴淋器進行沖洗,進而利用純水進行了水洗。接著,使用加熱板,於200℃下加熱5分鐘,藉此在近紅外線截止濾光片的Bayer圖案上將紅色組成物圖案化。同樣地,將綠色(Green)組成物、藍色(Blue)組成物依次圖案化,形成了紅色、綠色及藍色的著色圖案。 接著,利用旋塗法,將紅外線透射濾光片形成用組成物以製膜後的膜厚成為2.0μm之方式塗佈於上述圖案形成之膜上。接著,使用加熱板,於100℃下加熱了2分鐘。接著,使用i射線步進機曝光裝置FPA-3000i5+(Canon Inc.製造),以1000mJ/cm2
的曝光量介隔2μm平方的Bayer圖案的遮罩進行了曝光。接著,使用四甲基氫氧化銨(TMAH)0.3質量%水溶液,於23℃下進行了60秒鐘浸置顯影。然後,用旋轉噴淋器進行沖洗,進而利用純水進行了水洗。接著,使用加熱板,於200℃下加熱5分鐘,藉此在近紅外線截止濾光片的Bayer圖案的遺漏部分進行了紅外線透射濾光片的圖案化。按照公知的方法,將所得到之積層體組裝於固體攝像元件中。在低照度的環境下(0.001Lux),向所得到之固體攝像元件照射940nm的紅外發光二極體(紅外LED)光源,進行圖像的擷取,並評價了圖像性能。圖像性能評價的結果,能夠在圖像上清晰地識別被攝體。又,該固體攝像元件,入射角依存性良好,具有紅外線感測和顏色識別功能。
試驗例1中所使用之紅色組成物、綠色組成物、藍色組成物及紅外線透射濾光片形成用組成物如下所示。
(紅色組成物) 將下述成分混合並攪拌之後,利用孔徑0.45μm的尼龍製過濾器(NIHON PALL LTD.製造)進行過濾,製備出紅色組成物。 紅色顏料分散液……51.7質量份 樹脂14(40質量%PGMEA溶液)……0.6質量份 聚合性化合物14……0.6質量份 光聚合起始劑11……0.3質量份 界面活性劑11……4.2質量份 PGMEA(丙二醇單甲醚乙酸酯)……42.6質量份
(綠色組成物) 將下述成分混合並攪拌之後,利用孔徑0.45μm的尼龍製過濾器(NIHON PALL LTD.製造)進行過濾,製備出綠色組成物。 綠色顏料分散液……73.7質量份 樹脂14(40質量%PGMEA溶液)……0.3質量份 聚合性化合物11……1.2質量份 光聚合起始劑11……0.6質量份 界面活性劑11……4.2質量份 紫外線吸收劑(UV-503,DAITO CHEMICAL CO.,LTD.製造) ……0.5質量份 PGMEA……19.5質量份
(藍色組成物) 將下述成分混合並攪拌之後,利用孔徑0.45μm的尼龍製過濾器(NIHON PALL LTD.製造)進行過濾,製備出藍色組成物。 藍色顏料分散液……44.9質量份 樹脂14(40質量%PGMEA溶液)……2.1質量份 聚合性化合物11……1.5質量份 聚合性化合物14……0.7質量份 光聚合起始劑11……0.8質量份 界面活性劑11……4.2質量份 PGMEA……45.8質量份
(紅外線透射濾光片形成用組成物) 將下述成分混合並攪拌之後,利用孔徑0.45μm的尼龍製過濾器(NIHON PALL LTD.製造)進行過濾,製備出紅外線透射濾光片形成用組成物。 顏料分散液100……95.04質量份 聚合性化合物16……1.84質量份 樹脂14……1.02質量份 光聚合起始劑11……0.883質量份 界面活性劑11……0.04質量份 聚合抑制劑(對甲氧基苯酚)……0.001質量份 PGMEA……1.18質量份
紅色組成物、綠色組成物、藍色組成物及紅外線透射濾光片形成用組成物中所使用之原料如下所示。
·紅色顏料分散液 將9.6質量份的C.I.顏料紅254、4.3質量份的C.I.顏料黃139、6.8質量份的分散劑(Disperbyk-161,BYK Chemie GmbH公司製造)及79.3質量份的PGMEA混合,並利用珠磨機(氧化鋯珠0.3mm直徑)將該混合液混合及分散3小時,製備出顏料分散液。然後,進一步使用帶有減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.製造),在2000kg/cm3
的壓力下以500g/min的流量進行了分散處理。重複10次該分散處理,得到了紅色顏料分散液。
·綠色顏料分散液 將6.4質量份的C.I.顏料綠36、5.3質量份的C.I.顏料黃150、5.2質量份的分散劑(Disperbyk-161,BYK Chemie GmbH公司製造)及83.1質量份的PGMEA混合,並利用珠磨機(氧化鋯珠0.3mm直徑)將該混合液混合及分散3小時,製備出顏料分散液。然後,進一步使用帶有減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.製造),在2000kg/cm3
的壓力下以500g/min的流量進行了分散處理。重複10次該分散處理,得到了綠色顏料分散液。
·藍色顏料分散液 將9.7質量份的C.I.顏料藍15:6、2.4質量份的C.I.顏料紫23、5.5質量份的分散劑(Disperbyk-161,BYK Chemie GmbH公司製造)及82.4質量份的PGMEA混合,並利用珠磨機(氧化鋯珠0.3mm直徑)將該混合液混合及分散3小時,製備出顏料分散液。然後,進一步使用帶有減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.製造),在2000kg/cm3
的壓力下以500g/min的流量進行了分散處理。重複10次該分散處理,得到了藍色顏料分散液。
·顏料分散液100 使用0.3mm直徑的氧化鋯珠,利用珠磨機(帶有減壓機構之高壓分散機NANO-3000-10(Nippon BEE Co.,Ltd.製造)),將下述組成的混合液混合並分散至吡咯并吡咯顏料的平均粒徑(二次粒子)成為75nm以下,製備出顏料分散液。使用Nikkiso Co.,Ltd.製造之MICROTRACUPA 150,以體積基準測定了顏料分散液中的顏料的平均粒徑。 ·吡咯并吡咯顏料(下述化合物)……2.1質量份 [化學式32]·C.I.顏料紅254……2.1質量份 ·C.I.顏料藍15:6……2.1質量份 ·C.I.顏料黃139……1.2質量份 ·顏料衍生物(下述化合物)……1.9質量份 [化學式33]·下述結構的樹脂(重量平均分子量8500,主鏈中所附記之數值為莫耳比,側鏈中所附記之數值為重複單元的數量))……6.8質量份 [化學式34]·PGMEA……83.8質量份
·聚合性化合物11:KAYARAD DPHA(Nippon Kayaku Co.,Ltd.製造) ·聚合性化合物14:下述結構 [化學式35]·聚合性化合物16:M-305(三丙烯酸酯為55~63質量%,TOAGOSEI CO.,LTD.製造)
·光聚合起始劑11:IRGACURE-OXE01(BASF公司製造)
110‧‧‧固體攝像元件111‧‧‧近紅外線截止濾光片112‧‧‧彩色濾光片114‧‧‧紅外線透射濾光片115‧‧‧微透鏡116‧‧‧平坦化層hν‧‧‧入射光
圖1係表示紅外線感測器的一實施形態之概略圖。
110‧‧‧固體攝像元件
111‧‧‧近紅外線截止濾光片
112‧‧‧彩色濾光片
114‧‧‧紅外線透射濾光片
115‧‧‧微透鏡
116‧‧‧平坦化層
hν‧‧‧入射光
Claims (23)
- 一種組成物,其包含近紅外線吸收化合物A和溶劑B,前述近紅外線吸收化合物A具有包含單環或稠環的芳香族環之π共軛平面,其中前述溶劑B包含溶解度參數為19.9MPa0.5以上且22.3MPa0.5以下的範圍之溶劑B1、以及溶解度參數小於19.9MPa0.5或溶解度參數超過22.3MPa0.5之溶劑B2,在前述溶劑B中之前述溶劑B2的含量為8.5質量%以下。
- 如申請專利範圍第1項所述之組成物,其中前述溶劑B1係選自環己酮、環戊酮、二丙二醇單甲醚及3-甲氧基丁醇中之至少1種。
- 如申請專利範圍第1項所述之組成物,其中在前述溶劑B中之前述溶劑B2的含量為0.5質量%~7.5質量%。
- 一種組成物,其包含近紅外線吸收化合物A和溶劑B,前述近紅外線吸收化合物A具有包含單環或稠環的芳香族環之π共軛平面,其中前述溶劑B包含溶解度參數為19.9MPa0.5以上且22.3MPa0.5以下的範圍之溶劑B1、以及溶解度參數小於19.9MPa0.5或溶解度參數超過22.3MPa0.5之溶劑B2,前述溶劑B1為環戊酮,在前述溶劑B中之前述溶劑B2的含量為9質量%以下。
- 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之組成物,其中前述溶劑B2係選自丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單甲醚、二氯甲烷、乙基-3-乙氧基丙酸酯、N-甲基-2-吡咯啶酮、乙酸丁酯及乳酸乙酯中之至少1種。
- 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之組成物,其進一步含有界面活性劑。
- 如申請專利範圍第6項所述之組成物,其中前述界面活性劑係具有氟原子及硬化性基之化合物。
- 如申請專利範圍第6項所述之組成物,其中前述界面活性劑係具有氟醚基及硬化性基之化合物。
- 如申請專利範圍第6項所述之組成物,其中前述界面活性劑係含有具有氟醚基之重複單元和具有硬化性基之重複單元之聚合物。
- 如申請專利範圍第6項所述之組成物,其中在組成物的總固體成分中含有0.1~12質量%的前述界面活性劑。
- 如申請專利範圍11項至第4項中任一項所述之組成物,其進一步含有樹脂。
- 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之組成物,其進一步含有聚合性化合物及光聚合起始劑。
- 如申請專利範圍第1項或第4項所述之組成物,其中前述近紅外線吸收化合物A為選自吡咯并吡咯化合物、花青化合物及方酸菁化合物中之至少1種。
- 如申請專利範圍第1項或第4項所述之組成物,其中前述近紅外線吸收化合物A為方酸菁化合物。
- 如申請專利範圍第1項或第4項所述之組成物,其中前述溶劑B中之溶劑B1與溶劑B2的質量比為溶劑B1:溶劑B2=91.5:8.5~99.5:0.5。
- 如申請專利範圍第1項或第4項所述之組成物,其中前述溶劑B中之溶劑B1與溶劑B2的質量比為溶劑B1:溶劑B2=92.5:7.5~99.0:1.0。
- 如申請專利範圍第1項或第4項所述之組成物,其中前述溶劑B2為丙二醇單甲醚乙酸酯或乙基-3-乙氧基丙酸酯。
- 一種膜的製造方法,其包含將申請專利範圍第1項至第17項中任一項所述之組成物塗佈於支撐體上之製程。
- 如申請專利範圍第18項所述之膜的製造方法,其還包含形成圖案之製程。
- 一種近紅外線截止濾光片的製造方法,其包含申請專利範圍第18項或第19項所述之膜的製造方法。
- 一種固體攝像元件的製造方法,其包含申請專利範圍第18項或第19項所述之膜的製造方法。
- 一種圖像顯示裝置的製造方法,其包含申請專利範圍第18項或第19項所述之膜的製造方法。
- 一種紅外線感測器的製造方法,其包含申請專利範圍第18項或第19項所述之膜的製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016177685 | 2016-09-12 | ||
JP2016-177685 | 2016-09-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201831638A TW201831638A (zh) | 2018-09-01 |
TWI745417B true TWI745417B (zh) | 2021-11-11 |
Family
ID=61562665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW106128338A TWI745417B (zh) | 2016-09-12 | 2017-08-22 | 組成物、膜的製造方法、近紅外線截止濾光片的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及紅外線感測器的製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11169307B2 (zh) |
JP (1) | JP6777745B2 (zh) |
TW (1) | TWI745417B (zh) |
WO (1) | WO2018047584A1 (zh) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7011722B2 (ja) * | 2018-08-15 | 2022-02-10 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ |
EP3951447B1 (en) * | 2019-03-29 | 2024-10-30 | FUJIFILM Corporation | Composition, light shielding film, color filter, optical element, sensor, solid-state imaging element, and headlight unit |
EP3953767A4 (en) * | 2019-04-12 | 2023-06-07 | Inpria Corporation | ORGANOMETALLIC PHOTORESIN DEVELOPER COMPOSITIONS AND METHODS OF TREATMENT |
TW202132362A (zh) * | 2020-02-14 | 2021-09-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 感光性組成物、像素之形成方法、濾光器之製造方法、固體攝像元件之製造方法及圖像顯示裝置之製造方法 |
JP7419097B2 (ja) * | 2020-02-18 | 2024-01-22 | 東京応化工業株式会社 | 硬化性組成物、硬化物、近赤外線吸収フィルタ、硬化物の製造方法、近赤外線吸収フィルタの製造方法、硬化性組成物の低温保管方法、硬化性組成物の輸送方法、及び硬化性組成物の提供方法 |
CN116490511A (zh) * | 2020-12-25 | 2023-07-25 | 富士胶片株式会社 | 树脂组合物、涂布干燥物、熔融混炼物、滤光器、图像显示装置、固体摄像元件、方酸化合物及其制造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015017244A (ja) * | 2013-06-12 | 2015-01-29 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、カメラモジュールおよびカメラモジュールの製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4345513B2 (ja) * | 2004-02-12 | 2009-10-14 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 感光性平版印刷版 |
JP5224785B2 (ja) * | 2006-11-08 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | 有機顔料ナノ粒子の製造方法 |
JP2009057504A (ja) * | 2007-09-03 | 2009-03-19 | Toppan Printing Co Ltd | ハードコートフィルム |
JP5834379B2 (ja) * | 2009-06-25 | 2015-12-24 | Jsr株式会社 | 着色組成物、カラーフィルタ及びカラー液晶表示素子 |
JP5697894B2 (ja) * | 2010-05-17 | 2015-04-08 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線吸収性組成物、赤外線吸収性インキ、記録物、画像記録方法、及び画像検出方法 |
JP5782797B2 (ja) * | 2010-11-12 | 2015-09-24 | 信越化学工業株式会社 | 近赤外光吸収色素化合物、近赤外光吸収膜形成材料、及びこれにより形成される近赤外光吸収膜 |
JP2014149506A (ja) * | 2013-02-04 | 2014-08-21 | Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd | カラーフィルタ用赤色着色組成物及びカラーフィルタ |
JP2015011095A (ja) * | 2013-06-27 | 2015-01-19 | 凸版印刷株式会社 | フォトスペーサー形成用感光性樹脂組成物及びカラーフィルタ |
JP6264376B2 (ja) * | 2013-07-08 | 2018-01-24 | コニカミノルタ株式会社 | 積層反射フィルムおよびその製造方法、並びにこれを含む赤外遮蔽体 |
KR102344138B1 (ko) * | 2014-03-31 | 2021-12-28 | 닛테츠 케미컬 앤드 머티리얼 가부시키가이샤 | 차광막용 감광성 수지 조성물, 이것을 경화한 차광막 및 컬러 필터 |
WO2016136784A1 (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収組成物、硬化膜、近赤外線吸収フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ |
JP5986671B2 (ja) * | 2015-08-18 | 2016-09-06 | 富士フイルム株式会社 | 着色組成物、インクジェット用インク、カラーフィルタ及びその製造方法、固体撮像素子、並びに表示装置 |
-
2017
- 2017-08-15 JP JP2018538325A patent/JP6777745B2/ja active Active
- 2017-08-15 WO PCT/JP2017/029339 patent/WO2018047584A1/ja active Application Filing
- 2017-08-22 TW TW106128338A patent/TWI745417B/zh active
-
2018
- 2018-12-28 US US16/235,840 patent/US11169307B2/en active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015017244A (ja) * | 2013-06-12 | 2015-01-29 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、カメラモジュールおよびカメラモジュールの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2018047584A1 (ja) | 2019-08-15 |
WO2018047584A1 (ja) | 2018-03-15 |
US20190137671A1 (en) | 2019-05-09 |
TW201831638A (zh) | 2018-09-01 |
JP6777745B2 (ja) | 2020-10-28 |
US11169307B2 (en) | 2021-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI741010B (zh) | 組成物、膜、近紅外線截止濾波器、圖案形成方法、積層體、固體攝像元件、圖像顯示裝置、照相機模組及紅外線感測器 | |
TWI709641B (zh) | 組成物、膜、近紅外線截止濾波器、積層體、圖案形成方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置、紅外線感測器及濾色器 | |
TWI745417B (zh) | 組成物、膜的製造方法、近紅外線截止濾光片的製造方法、固體攝像元件的製造方法、圖像顯示裝置的製造方法及紅外線感測器的製造方法 | |
TWI743180B (zh) | 感光性組成物、硬化膜、濾光器、積層體、圖案形成方法、固體成像元件、圖像顯示裝置以及紅外線感測器 | |
JP6760805B2 (ja) | 赤外線吸収剤、組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ | |
TWI744286B (zh) | 感放射線性組成物、光學濾波器、積層體、圖案形成方法、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 | |
JP6931700B2 (ja) | 組成物、膜、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ | |
TWI699405B (zh) | 硬化性組成物、硬化膜、濾光器、積層體、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 | |
KR102259624B1 (ko) | 조성물, 막, 광학 필터, 패턴 형성 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치 및 적외선 센서 | |
JP6630448B2 (ja) | 顔料分散液、硬化性組成物、膜、近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、および、赤外線センサ | |
TWI765897B (zh) | 組成物、膜、積層體、紅外線透過濾波器、固體攝像元件及紅外線感測器 | |
TW201839017A (zh) | 組成物、膜、紅外線透過濾波器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 | |
JPWO2018163702A1 (ja) | 積層体、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびキット | |
JP6713088B2 (ja) | フィルタ、光センサ、固体撮像素子および画像表示装置 | |
JPWO2017018202A1 (ja) | 樹脂組成物、樹脂膜、樹脂膜の製造方法、光学フィルタ、インク、装置、j会合体およびj会合体の製造方法 | |
TW201815985A (zh) | 近紅外線吸收有機顏料、顏料分散液、硬化性組成物、膜、近紅外線截止濾波器、積層體、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 | |
TWI828616B (zh) | 硬化性組成物、硬化膜、近紅外線截止濾波器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 | |
TWI752144B (zh) | 硬化性組成物、膜、濾光器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 | |
CN110235033B (zh) | 组合物、膜、近红外线截止滤光片、固体摄像元件、图像显示装置及红外线传感器 |