KR20200010194A

KR20200010194A - 투명 도전성 필름 및 화상 표시 장치

Info

Publication number: KR20200010194A
Application number: KR1020197030564A
Authority: KR
Inventors: 도루 우메모토; 히로시 니시지마; 나오키 하시모토; 히로유키 다카오
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2017-05-18
Filing date: 2018-04-20
Publication date: 2020-01-30
Also published as: WO2018211910A1; CN110636943A; TW201901697A; CN110636943B; JP2018192710A; TWI783994B; JP6846984B2; KR102547456B1

Abstract

투명 도전성 필름은, 제 1 투명 도전층, 제 1 광학 조정층, 투명 기재, 제 2 광학 조정층 및 제 2 투명 도전층을 차례로 구비한다. 제 2 투명 도전층의 표면 저항값은, 제 1 투명 도전층의 표면 저항값보다 크고, 제 1 투명 도전층의 표면 저항값은, 10 Ω/□ 이상, 70 Ω/□ 이하이고, 제 2 투명 도전층의 표면 저항값은, 50 Ω/□ 이상, 150 Ω/□ 이하이고, 제 2 광학 조정층의 굴절률은, 제 1 광학 조정층의 굴절률보다 낮다.

Description

투명 도전성 필름 및 화상 표시 장치

본 발명은, 투명 도전성 필름, 및 그것을 구비하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.

종래부터 터치 패널 및 화상 표시 소자를 구비하는 화상 표시 장치는, 인듐 주석 복합 산화물 (ITO) 로 이루어지는 투명 도전층이 투명 기재에 형성된 터치 패널용 필름을 구비하는 것이 알려져 있다. 그러한 터치 패널용 필름으로서, 투명 기재의 양면에 ITO 층이 배치되어 있는 양면 투명 도전성 필름이, 예를 들어 특허문헌 1 에 기재되어 있다.

그런데, 액정 셀 등의 화상 표시 소자는 전자파를 발생시키기 때문에, 화상 표시 장치에는 전자파를 차폐하는 전자파 실드 효과가 요망되고 있다. 그리고, 저항막 방식 터치 패널에 있어서, 2 장의 ITO 막을 대향 배치한 ITO 구조는 전자파 실드 효과가 있는 것이 알려져 있다 (예를 들어 비특허문헌 1 참조.).

특히, 비특허문헌 1 에서는, ITO 막의 저항값을 낮추기 위해서는, ITO 막의 후막화 (厚膜化) 가 필요한데, 그 결과, 광 투과율이 저하되는 것이 기재되어 있다. 또한, 일방의 ITO 막만의 저항값 (예를 들어 10 Ω 정도) 을 낮게 하면, 타방의 ITO 막의 저항값을 높게 해도, 양호한 전자파 실드 효과가 있는 것이 기재되어 있다.

그리고, 이런 결과들로부터 비특허문헌 1 은, 일방의 ITO 막만의 저항값을 낮게 하고, 타방의 ITO 막의 저항값을 높게 함으로써, 양호한 전자파 실드 효과를 발현시키면서, 광 투과율 저하를 억제할 수 있음을 개시하고 있다.

일본 공개특허공보 2013-99924호

하라다 노조무 저, 「저항막 방식 터치 패널 센서의 전자파 실드 효과」, 전학론 E, 128권 7호, 2008년, p.312 ∼ 313

그런데, 내구성이 양호하고, 오작동이 적은 정전 용량 방식에 사용되는 터치 패널용 필름 (양면 투명 도전성 필름) 에서는, 양면에 배치되는 2 장의 ITO 층은 전극 패턴 형상으로 에칭된다. 그리고, 전극 패턴의 시인 (視認) 을 억제하기 위해, ITO 층과 투명 기재의 사이에 광학 조정층이 형성된다.

이 경우, 양면 투명 도전성 필름이 광학 조정층을 추가로 구비하기 때문에, 광 투과성이 저하된다.

본 발명은, 전자파 실드 효과를 구비하며, 전극 패턴의 시인을 억제하면서, 양호한 광 투과성을 구비하는 투명 도전성 필름 및 화상 표시 장치를 제공한다.

본 발명 [1] 은, 제 1 투명 도전층, 제 1 광학 조정층, 투명 기재, 제 2 광학 조정층 및 제 2 투명 도전층을 차례로 구비하고, 상기 제 2 투명 도전층의 표면 저항값은, 상기 제 1 투명 도전층의 표면 저항값보다 크고, 상기 제 1 투명 도전층의 표면 저항값은, 10 Ω/□ 이상, 70 Ω/□ 이하이고, 상기 제 2 투명 도전층의 표면 저항값은, 50 Ω/□ 이상, 150 Ω/□ 이하이고, 상기 제 2 광학 조정층의 굴절률은, 상기 제 1 광학 조정층의 굴절률보다 작은, 투명 도전성 필름을 포함하고 있다.

본 발명 [2] 는, 상기 제 2 투명 도전층의 두께는, 상기 제 1 투명 도전층의 두께보다 얇은,［1] 에 기재된 투명 도전성 필름을 포함하고 있다.

본 발명 [3] 은, 상기 제 1 광학 조정층의 굴절률은 1.65 이상, 1.75 이하이고, 상기 제 2 광학 조정층의 굴절률은 1.60 이상, 1.70 이하인,［1] 또는［2] 에 기재된 투명 도전성 필름을 포함하고 있다.

본 발명 [4] 는, 상기 제 1 광학 조정층 및 상기 제 2 광학 조정층의 두께는 모두 100 nm 이하인 것을 특징으로 하는,［1] ∼ ［3] 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전성 필름을 포함하고 있다.

본 발명 [5] 는, 상기 제 1 투명 도전층 및 상기 제 2 투명 도전층은 모두 패터닝되어 있고, 상기 제 1 투명 도전층은, 일 방향으로 긴 제 1 패턴을 구비하고, 상기 제 2 투명 도전층은, 상기 일 방향과 직교하는 직교 방향으로 긴 제 2 패턴을 구비하고, 상기 제 1 패턴의 일 방향 길이는, 상기 제 2 패턴의 직교 방향 길이보다 긴,［1] ∼ ［4] 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전성 필름을 포함하고 있다.

본 발명 [6] 은,［1] ∼ ［5] 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전성 필름과, 상기 투명 도전성 필름의 상기 제 1 투명 도전층측에 배치되는 화상 표시 소자를 구비하는, 화상 표시 장치를 포함하고 있다.

본 발명의 투명 도전성 필름에 따르면, 제 1 투명 도전층, 제 1 광학 조정층, 투명 기재, 제 2 광학 조정층 및 제 2 투명 도전층을 차례로 구비한다. 그래서, 제 1 투명 도전층 및 제 2 투명 도전층이 패터닝된 경우에, 그 제 1 투명 도전층 및 제 2 투명 도전층의 시인을 억제할 수 있다.

또한, 제 1 투명 도전층의 표면 저항값은, 10 Ω/□ 이상, 70 Ω/□ 이하이기 때문에, 투명 도전성 필름은, 표면 저항값이 작은 투명 도전층을 구비한다. 그래서, 투명 도전성 필름은, 양호한 전자파 실드 효과를 발현시킬 수 있다.

또한, 제 2 투명 도전층의 표면 저항값은, 제 1 투명 도전층의 표면 저항값보다 크고, 50 Ω/□ 이상, 150 Ω/□ 이하이기 때문에, 제 2 투명 도전층을, 제 1 투명 도전층보다 상대적으로 박막화할 수 있다. 또한, 제 2 광학 조정층의 굴절률은, 제 1 광학 조정층의 굴절률보다 낮다. 이것들에 의해 투명 도전성 필름의 광 투과성을 향상시킬 수 있다.

본 발명의 화상 표시 장치에 따르면, 전자파 실드 효과를 구비하며, 패터닝된 제 1 투명 도전층 및 제 2 투명 도전층의 시인을 억제하면서, 양호한 광 투과성을 구비한다.

도 1 은, 본 발명의 투명 도전성 필름의 일 실시형태의 단면도를 나타낸다.
도 2 는, 도 1 에 나타내는 투명 도전성 필름을 패터닝한 터치 패널용 필름의 단면도를 나타낸다.
도 3a ∼ 도 3b 는, 도 2 에 나타낸 터치 패널용 필름으로서, 도 3a 는, 제 1 투명 도전층의 전극 패턴을 나타내는 평면도, 도 3b 는, 제 2 투명 도전층의 전극 패턴을 나타내는 저면도를 나타낸다.
도 4 는, 도 2 에 나타내는 투명 도전성 필름을 구비하는 화상 표시 장치를 나타낸다.
도 5a ∼ 도 5b 는, 본 발명의 터치 패널용 필름의 변형예 (투명 도전층의 전극 패턴이, 복수의 연속된 사각형 패턴을 구비하는 형태) 로서, 도 5a 는, 제 1 투명 도전층의 전극 패턴을 나타내는 평면도, 도 5b 는, 제 2 투명 도전층의 전극 패턴을 나타내는 저면도를 나타낸다.

＜투명 도전성 필름의 일 실시형태＞

본 발명의 투명 도전성 필름의 일 실시형태에 대해서, 도면을 참조하면서 이하에 설명한다. 도 1 에 있어서, 지면 상하 방향은 상하 방향 (두께 방향, 제 1 방향) 으로, 지면 상측이 상측 (두께 방향 일방측, 제 1 방향 일방측), 지면 하측이 하측 (두께 방향 타방측, 제 1 방향 타방측) 이다. 또한, 지면 좌우 방향은 좌우 방향 (제 2 방향, 제 1 방향과 직교하는 직교 방향) 으로, 지면 좌측이 좌측 (제 2 방향 일방측), 지면 우측이 우측 (제 2 방향 타방측) 이다. 또한, 지면 종이 두께 방향은 안길이 방향 (제 3 방향, 제 1 방향 및 제 2 방향과 직교하는 직교 방향) 으로, 지면 바로 앞이 전측 (제 3 방향 일방측), 지면 안측이 후측 (제 3 방향 타방측) 이다. 구체적으로는 각 도면의 방향 화살표에 준거한다.

1. 투명 도전성 필름

투명 도전성 필름 (1) 은, 소정의 두께를 갖는 필름 형상 (시트 형상을 포함한다) 을 이루며, 두께 방향과 직교하는 소정 방향 (면 방향) 으로 연장되고, 평탄한 상면 및 평탄한 하면을 갖는다. 투명 도전성 필름 (1) 은, 예를 들어 화상 표시 장치에 구비되는 터치 패널용 기재 등을 제작하기 위한 일 부품으로, 요컨대 화상 표시 장치는 아니다. 즉, 투명 도전성 필름 (1) 은, 액정 셀 등의 화상 표시 소자를 포함하지 않고, 부품 단독으로 유통시켜, 산업상 이용 가능한 디바이스이다.

구체적으로는 도 1 에 나타내는 바와 같이, 투명 도전성 필름 (1) 은, 투명 기재 (2) 와, 투명 기재 (2) 의 상면 (일방면) 에 배치되는 제 1 하드 코트층 (3) 과, 제 1 하드 코트층 (3) 의 상면에 배치되는 제 1 광학 조정층 (4) 과, 제 1 광학 조정층 (4) 의 상면에 배치되는 제 1 투명 도전층 (5) 과, 투명 기재 (2) 의 하면 (타방면) 에 배치되는 제 2 하드 코트층 (6) 과, 제 2 하드 코트층 (6) 의 하면에 배치되는 제 2 광학 조정층 (7) 과, 제 2 광학 조정층 (7) 의 하면에 배치되는 제 2 투명 도전층 (8) 을 구비한다. 즉, 투명 도전성 필름 (1) 은, 아래서부터 차례로 제 2 투명 도전층 (8), 제 2 광학 조정층 (7), 제 2 하드 코트층 (6), 투명 기재 (2), 제 1 하드 코트층 (3), 제 1 광학 조정층 (4), 및 제 1 투명 도전층 (5) 을 구비한다.

투명 도전성 필름 (1) 은, 바람직하게는 제 2 투명 도전층 (8), 제 2 광학 조정층 (7), 제 2 하드 코트층 (6), 투명 기재 (2), 제 1 하드 코트층 (3), 제 1 광학 조정층 (4) 및 제 1 투명 도전층 (5) 으로 이루어진다. 이하, 각 층에 대해서 상세하게 서술한다.

(투명 기재)

투명 기재 (2) 는, 투명 도전성 필름 (1) 의 기계 강도를 확보하는 기재이다. 투명 기재 (2) 는, 제 1 투명 도전층 (5) 및 제 2 투명 도전층 (8) 을, 제 1 하드 코트층 (3), 제 2 하드 코트층 (6), 제 1 광학 조정층 (4) 및 제 2 광학 조정층 (7) 과 함께 지지하고 있다.

투명 기재 (2) 는, 예를 들어 투명성을 갖는 고분자 필름이다. 고분자 필름의 재료로는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 수지, 예를 들어, 폴리메타크릴레이트 등의 (메트)아크릴 수지 (아크릴 수지 및/또는 메타크릴 수지), 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로올레핀폴리머 (COP) 등의 올레핀 수지, 예를 들어, 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리아릴레이트 수지, 멜라민 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 셀룰로오스 수지, 폴리스티렌 수지, 노르보르넨 수지 등을 들 수 있다. 고분자 필름은, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다.

투명성, 내열성, 기계적 강도 등의 관점에서, 바람직하게는 올레핀 수지를 들 수 있고, 보다 바람직하게는 COP 를 들 수 있다.

투명 기재 (2) 의 두께는, 기계적 강도, 내찰상성, 터치 패널용 필름 (1a) 의 타점 특성 등의 관점에서, 예를 들어 2 ㎛ 이상, 바람직하게는 20 ㎛ 이상이고, 또한, 예를 들어 300 ㎛ 이하, 바람직하게는 150 ㎛ 이하이다.

투명 기재 (2) 의 두께는, 예를 들어 마이크로 게이지식 두께계를 사용하여 측정할 수 있다.

또, 투명 기재 (2) 의 상면 및/또는 하면에는, 필요에 따라 접착 용이층, 접착제층 등이 형성되어 있어도 된다.

(제 1 하드 코트층)

제 1 하드 코트층 (3) 은, 투명 도전성 필름 (1) 에 찰상을 잘 발생시키지 않게 하기 위한 찰상 보호층이다.

제 1 하드 코트층 (3) 은, 필름 형상을 갖고 있으며, 예를 들어 투명 기재 (2) 의 상면 전면에, 투명 기재 (2) 의 상면과 접촉하도록 배치되어 있다. 보다 구체적으로는 제 1 하드 코트층 (3) 은, 투명 기재 (2) 와 제 1 광학 조정층 (4) 의 사이에, 투명 기재 (2) 의 상면 및 제 1 광학 조정층 (4) 의 하면과 접촉하도록 배치되어 있다.

제 1 하드 코트층 (3) 은, 예를 들어 하드 코트 조성물로 형성되어 있다.

제 1 하드 코트층 (3) 의 하드 코트 조성물은, 수지를 함유하고, 바람직하게는 수지만으로 이루어진다.

수지로는, 예를 들어 경화성 수지, 열가소성 수지 (예를 들어 폴리올레핀 수지) 등을 들 수 있고, 바람직하게는 경화성 수지를 들 수 있다.

경화성 수지로는, 예를 들어, 활성 에너지선 (구체적으로는 자외선, 전자선 등) 의 조사에 의해 경화되는 활성 에너지선 경화성 수지, 예를 들어, 가열에 의해 경화되는 열경화성 수지 등을 들 수 있고, 바람직하게는 활성 에너지선 경화성 수지를 들 수 있다.

활성 에너지선 경화성 수지는, 예를 들어 분자 내에 중합성 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 관능기를 갖는 폴리머를 들 수 있다. 그러한 관능기로는, 예를 들어 비닐기, (메트)아크릴로일기 (메타크릴로일기 및/또는 아크릴로일기) 등을 들 수 있다.

활성 에너지선 경화성 수지로는, 구체적으로는 예를 들어 우레탄아크릴레이트, 에폭시아크릴레이트 등의 (메트)아크릴계 자외선 경화성 수지를 들 수 있다.

또한, 활성 에너지선 경화성 수지 이외의 경화성 수지로는, 예를 들어, 우레탄 수지, 멜라민 수지, 알키드 수지, 실록산계 폴리머, 유기 실란 축합물 등의 열경화성 수지를 들 수 있다.

수지는, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다.

하드 코트 조성물은, 입자를 함유할 수 있다. 이로써, 제 1 하드 코트층 (3) 을, 내블로킹 특성을 갖는 안티 블로킹층으로 할 수 있다.

입자로는, 무기 입자, 유기 입자 등을 들 수 있다. 무기 입자로는, 예를 들어 실리카 입자, 예를 들어, 산화지르코늄, 산화티탄, 산화아연, 산화주석 등으로 이루어지는 금속 산화물 입자, 예를 들어, 탄산칼슘 등의 탄산염 입자 등을 들 수 있다. 유기 입자로는, 예를 들어 가교 아크릴 수지 입자 등을 들 수 있다. 입자는, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다.

또한, 하드 코트 조성물에는, 추가로 레벨링제, 틱소트로피제, 대전 방지제 등의 공지된 첨가제를 함유할 수 있다.

제 1 하드 코트층 (3) 의 굴절률은, 예를 들어 1.40 이상, 바람직하게는 1.45 이상이고, 또한, 예를 들어 1.60 미만, 바람직하게는 1.55 이하이다. 제 1 하드 코트층 (3) 이 상기 범위이면, 제 1 하드 코트층 (3) 의 굴절률을, 제 1 광학 조정층 (4) 의 굴절률보다 낮출 수 있어, 전극 패턴의 시인을 한층 더 억제할 수 있다.

하드 코트층 (제 1 하드 코트층 (3) 및 제 2 하드 코트층 (6)) 의 굴절률은, 예를 들어 분광 엘립소미터를 사용하여 측정할 수 있다.

제 1 하드 코트층 (3) 의 두께는, 내찰상성, 전극 패턴의 시인 억제의 관점에서, 예를 들어 0.1 ㎛ 이상, 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상이고, 또한, 예를 들어 10 ㎛ 이하, 바람직하게는 5 ㎛ 이하이다.

하드 코드층 (제 1 하드 코트층 (3) 및 제 2 하드 코트층 (6)) 의 두께는, 순간 멀티 측광 시스템 (오츠카 전자사 제조, 「MCPD2000」) 을 사용하여 간섭 스펙트럼의 파형을 기초로 산출할 수 있다.

(제 1 광학 조정층)

제 1 광학 조정층 (4) 은, 제 1 투명 도전층 (5) 을 패터닝했을 때에, 그 패턴 (예를 들어 전극 패턴) 의 시인을 억제하면서, 투명 도전성 필름 (1) 이 우수한 투명성을 확보하기 위해서, 투명 도전성 필름 (1) 의 광학 물성 (예를 들어 굴절률) 을 조정하는 층이다.

제 1 광학 조정층 (4) 은, 필름 형상을 갖고 있으며, 예를 들어 제 1 하드 코트층 (3) 의 상면 전면에, 제 1 하드 코트층 (3) 의 상면에 접촉하도록 배치되어 있다. 보다 구체적으로는 제 1 광학 조정층 (4) 은, 제 1 하드 코트층 (3) 과 제 1 투명 도전층 (5) 의 사이에, 제 1 하드 코트층 (3) 의 상면 및 제 1 투명 도전층 (5) 의 하면에 접촉하도록 배치되어 있다.

제 1 광학 조정층 (4) 은, 광학 조정 조성물로 형성되어 있다.

광학 조정 조성물은, 예를 들어 수지를 함유한다. 광학 조정 조성물은, 바람직하게는 수지와 입자를 함유하고, 보다 바람직하게는 수지와 입자만으로 이루어진다.

수지로는 특별히 한정되지 않지만, 하드 코트 조성물에서 사용하는 수지와 동일한 것을 들 수 있다. 수지는, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다. 바람직하게는 경화성 수지, 보다 바람직하게는 활성 에너지선 경화성 수지를 들 수 있다.

수지의 함유 비율은, 광학 조정 조성물에 대하여, 예를 들어 10 질량％ 이상, 바람직하게는 25 질량％ 이상이고, 또한, 예를 들어 95 질량％ 이하, 바람직하게는 60 질량％ 이하이다.

입자로는, 제 1 광학 조정층 (4) 의 요구하는 굴절률에 따라 바람직한 재료를 선택할 수 있고, 무기 입자, 유기 입자 등을 들 수 있다. 무기 입자로는, 예를 들어 실리카 입자, 예를 들어 산화지르코늄, 산화티탄, 산화아연, 산화 등으로 이루어지는 금속 산화물 입자, 예를 들어, 탄산칼슘 등의 탄산염 입자 등을 들 수 있다. 유기 입자로는, 예를 들어 가교 아크릴 수지 입자 등을 들 수 있다. 입자는, 단독 사용 또는 2 종 이상 병용할 수 있다.

입자로는, 바람직하게는 무기 입자, 보다 바람직하게는 금속 산화물 입자를 들 수 있고, 더욱 바람직하게는 산화지르코늄 입자 (ZnO₂) 를 들 수 있다.

입자의 평균 입자경 (메디안 직경) 은, 예를 들어 10 nm 이상, 바람직하게는 20 nm 이상이고, 또한, 예를 들어 100 nm 이하, 바람직하게는 50 nm 이하이다.

입자의 함유 비율은, 광학 조정 조성물에 대하여, 예를 들어 5 질량％ 이상, 바람직하게는 40 질량％ 이상이고, 또한, 예를 들어 90 질량％ 이하, 바람직하게는 75 질량％ 이하이다.

제 1 광학 조정층 (4) 의 굴절률은, 제 2 광학 조정층 (7) 의 굴절률보다 높고, 예를 들어 1.65 이상이고, 바람직하게는 1.70 이상이다. 또한, 상한에 대해서는, 예를 들어 1.80 이하, 바람직하게는 1.75 이하이다. 제 1 광학 조정층 (4) 의 굴절률이 상기 범위이면, 투명 도전성 필름 (1) 의 광 투과성을 한층 더 양호하게 할 수 있다.

광학 조정층 (제 1 광학 조정층 (4) 및 제 2 광학 조정층 (7)) 굴절률은, 예를 들어 분광 엘립소미터를 사용하여 측정할 수 있다.

제 1 광학 조정층 (4) 의 두께는, 예를 들어 150 nm 이하, 바람직하게는 100 nm 이하, 보다 바람직하게는 85 nm 이하이고, 또한, 예를 들어 10 nm 이상, 바람직하게는 20 nm 이상이다. 제 1 광학 조정층 (4) 의 두께가 상기 상한 이하이면, 투명 도전성 필름 (1) 의 색상 (특히, La*b* 의 색 공간) 을 보다 확실히 뉴트럴하게 할 수 있다. 즉, 투명 도전성 필름 (1) 의 착색 (예를 들어 황색) 을 저감시켜, 무색 투명의 투명 도전성 필름 (1) 을 확실히 얻을 수 있다.

광학 조정층 (제 1 광학 조정층 (4) 및 제 2 광학 조정층 (7)) 의 두께는, 예를 들어 순간 멀티 측광 시스템 (오츠카 전자사 제조, 「MCPD2000」) 을 사용하여 간섭 스펙트럼의 파형을 기초로 산출할 수 있다.

(제 1 투명 도전층)

제 1 투명 도전층 (5) 은, 에칭 등의 후공정에서, 소정의 패턴 (예를 들어 전극 패턴) 으로 형성하기 위한 투명한 도전층이다.

제 1 투명 도전층 (5) 은, 투명 도전성 필름 (1) 의 최상층으로, 필름 형상을 갖고 있으며, 제 1 광학 조정층 (4) 의 상면 전면에, 제 1 광학 조정층 (4) 의 상면에 접촉하도록 배치되어 있다.

제 1 투명 도전층 (5) 의 재료로는, 예를 들어 In, Sn, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, W 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 금속을 포함하는 금속 산화물을 들 수 있다. 금속 산화물에는, 필요에 따라 추가로 상기 군에 나타낸 금속 원자를 도프하고 있어도 된다.

제 1 투명 도전층 (5) 의 재료는, 바람직하게는 인듐-주석 복합 산화물 (ITO) 등의 인듐 함유 산화물, 예를 들어 안티몬-주석 복합 산화물 (ATO) 등의 안티몬 함유 산화물 등을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 인듐 함유 산화물을 들 수 있고, 더욱 바람직하게는 ITO 를 들 수 있다. 이로써, 제 1 투명 도전층 (5) 은, 우수한 투명성 및 도전성을 양립시킬 수 있다.

제 1 투명 도전층 (5) 의 재료로서 ITO 를 사용하는 경우, 산화주석 (SnO₂) 함유량은, 산화주석 및 산화인듐 (In₂O₃) 의 합계량에 대하여, 예를 들어 0.5 질량％ 이상, 바람직하게는 3 질량％ 이상이고, 또한, 예를 들어 15 질량％ 이하, 바람직하게는 13 질량％ 이하이다.

「ITO」는, 적어도 인듐 (In) 과 주석 (Sn) 을 포함하는 복합 산화물이면 되고, 이들 이외의 추가 성분을 포함할 수도 있다. 추가 성분으로는, 예를 들어 In, Sn 이외의 금속 원소를 들 수 있고, 구체적으로는 Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, W, Fe, Pb, Ni, Nb, Cr, Ga 등을 들 수 있다.

제 1 투명 도전층 (5) 은, 결정질 및 비정질 중 어느 것이어도 된다. 제 1 투명 도전층 (5) 은, 바람직하게는 결정질로 이루어지고, 보다 구체적으로는 결정질 ITO 층이다. 이로써, 제 1 투명 도전층 (5) 의 투명성을 향상시키고, 또한, 제 1 투명 도전층 (5) 의 표면 저항값을 한층 더 저감시킬 수 있다.

투명 도전층 (제 1 투명 도전층 (5) 및 제 2 투명 도전층 (8)) 이 결정질인 것은, 예를 들어 투명 도전층이 ITO 층인 경우에는, 20 ℃ 의 염산 (농도 5 질량％) 에 15 분간 침지시킨 후, 수세·건조시키고, 15 mm 정도 사이의 단자 간 저항을 측정함으로써 판단할 수 있다. 구체적으로는 염산 (20 ℃, 농도 : 5 질량％) 에 대한 침지·수세·건조 후에, 15 mm 사이의 단자 간 저항이 10 kΩ 이하인 경우, ITO 층이 결정질인 것으로 한다.

제 1 투명 도전층 (5) 의 표면 저항값은, 제 2 투명 도전층 (8) 의 표면 저항값보다 낮고, 구체적으로는 10 Ω/□ 이상, 70 Ω/□ 이하이다. 바람직하게는 20 Ω/□ 이상, 보다 바람직하게는 30 Ω/□ 이상이고, 또한, 바람직하게는 60 Ω/□ 이하, 보다 바람직하게는 50 Ω/□ 이하이다. 제 1 투명 도전층 (5) 의 표면 저항값이 상기 범위이면, 투명 도전성 필름 (1) 이 우수한 전자파 실드성 및 도전성을 발현시킬 수 있다.

투명 도전층 (제 1 투명 도전층 (5) 및 제 2 투명 도전층 (8)) 의 표면 저항값은, 예를 들어 4 단자법을 사용하여 측정할 수 있다.

제 1 투명 도전층 (5) 의 두께는, 바람직하게는 제 2 투명 도전층 (8) 의 두께보다 두껍고, 예를 들어 30 nm 이상, 바람직하게는 35 nm 이상이고, 또한, 예를 들어 200 nm 이하, 바람직하게는 100 nm 이하, 보다 바람직하게는 60 nm 이하이다. 제 1 투명 도전층 (5) 의 두께가 상기 범위이면, 투명 도전성 필름 (1) 의 전자파 실드성을 한층 더 양호하게 할 수 있다.

투명 도전층 (제 1 투명 도전층 (5) 및 제 2 투명 도전층 (8)) 의 두께는, 예를 들어 투명 도전층의 단면을, 투과형 전자 현미경 (TEM) 으로 관찰함으로써 측정할 수 있다.

(제 2 하드 코트층)

제 2 하드 코트층 (6) 은, 투명 도전성 필름 (1) 에 찰상을 잘 발생시키지 않게 하기 위한 찰상 보호층이다.

제 2 하드 코트층 (6) 은, 필름 형상을 갖고 있으며, 예를 들어 투명 기재 (2) 의 하면 전면에, 투명 기재 (2) 의 하면과 접촉하도록 배치되어 있다. 보다 구체적으로는 제 2 하드 코트층 (6) 은, 투명 기재 (2) 와 제 2 광학 조정층 (7) 의 사이에, 투명 기재 (2) 의 하면 및 제 2 광학 조정층 (7) 의 상면과 접촉하도록 배치되어 있다.

제 2 하드 코트층 (6) 은, 제 1 하드 코트층 (3) 과 동일한 층이고, 예를 들어 제 1 하드 코트층 (3) 과 동일한 재료로부터 동일한 구성 (두께, 굴절률 등) 을 갖는다. 그래서, 제 2 하드 코트층 (6) 도, 제 1 하드 코트층 (3) 과 동일 형상, 동일 치수를 갖는다.

(제 2 광학 조정층)

제 2 광학 조정층 (7) 은, 제 2 투명 도전층 (8) 을 패터닝했을 때에, 그 패턴 (예를 들어 전극 패턴) 의 시인을 억제하면서, 투명 도전성 필름 (1) 이 우수한 투명성을 확보하기 위해서, 투명 도전성 필름 (1) 의 광학 물성 (예를 들어 굴절률) 을 조정하는 층이다.

제 2 광학 조정층 (7) 은, 필름 형상을 갖고 있으며, 예를 들어 제 2 하드 코트층 (6) 의 하면 전면에, 제 2 하드 코트층 (6) 의 하면과 접촉하도록 배치되어 있다. 보다 구체적으로는 제 2 광학 조정층 (7) 은, 제 2 하드 코트층 (6) 과 제 2 투명 도전층 (8) 의 사이에, 제 2 하드 코트층 (6) 의 하면 및 제 2 투명 도전층 (8) 의 상면과 접촉하도록 배치되어 있다.

제 2 광학 조정층 (7) 은, 광학 조정 조성물로 형성되어 있다. 광학 조정 조성물로는, 제 1 광학 조정층 (4) 에서 상기한 것과 동일한 것을 들 수 있다.

제 2 광학 조정층 (7) 의 굴절률은, 제 1 광학 조정층 (4) 의 굴절률보다 낮고, 예를 들어 1.70 이하이고, 바람직하게는 1.65 미만, 더욱 바람직하게는 1.64 이하이다. 또한, 하한에 대해서는, 예를 들어 1.55 이상, 바람직하게는 1.60 이상이다. 제 2 광학 조정층 (7) 의 굴절률이 상기 범위이면, 투명 도전성 필름 (1) 의 광 투과성을 한층 더 양호하게 할 수 있다.

제 2 광학 조정층 (7) 과 제 1 광학 조정층 (4) 의 굴절률의 차이는, 예를 들어 0.01 이상, 바람직하게는 0.05 이상이고, 또한, 예를 들어 0.20 이하, 바람직하게는 0.15 이하이다. 굴절률의 차이가 상기 범위이면, 투명 도전성 필름 (1) 의 투과성을 양호하게 하거나 색상을 뉴트럴하게 할 수 있다.

제 2 광학 조정층 (7) 의 두께는, 예를 들어 150 nm 이하, 바람직하게는 100 nm 이하, 보다 바람직하게는 85 nm 이하이고, 또한, 예를 들어 10 nm 이상, 바람직하게는 20 nm 이상이다. 제 2 광학 조정층 (7) 의 두께가 상기 상한 이하이면, 색상을 보다 확실히 뉴트럴하게 할 수 있다.

(제 2 투명 도전층)

제 2 투명 도전층 (8) 은, 에칭 등의 후공정에서, 소정의 패턴 (예를 들어 전극 패턴) 으로 형성하기 위한 투명한 도전층이다.

제 2 투명 도전층 (8) 은, 투명 도전성 필름 (1) 의 최하층이고, 필름 형상을 갖고 있으며, 제 2 광학 조정층 (7) 의 하면 전면에, 제 2 광학 조정층 (7) 의 하면과 접촉하도록 배치되어 있다.

제 2 투명 도전층 (8) 을 구성하는 재료로는, 제 1 투명 도전층 (5) 에서 상기한 것과 동일한 것을 들 수 있다. 바람직하게는 ITO 이다. 또한, 제 2 투명 도전층 (8) 은, 결정질 및 비정질 중 어느 것이어도 되지만, 바람직하게는 결정질로 이루어지고, 보다 구체적으로는 결정질 ITO 층이다.

제 2 투명 도전층 (8) 의 표면 저항값은, 제 1 투명 도전층 (5) 의 표면 저항값보다 높고, 구체적으로는 50 Ω/□ 이상, 150 Ω/□ 이하이다. 바람직하게는 60 Ω/□ 이상, 보다 바람직하게는 70 Ω/□ 이상, 더욱 바람직하게는 100 Ω/□ 이상이고, 또한, 바람직하게는 120 Ω/□ 이하이다. 제 2 투명 도전층 (8) 의 표면 저항값이 상기 범위이면, 제 2 투명 도전층 (8) 의 두께를 얇게 할 수 있어, 투명 도전성 필름 (1) 의 광 투과성을 양호하게 할 수 있다.

제 1 투명 도전층 (5) 과 제 2 투명 도전층 (8) 의 표면 저항값의 차이는, 예를 들어 10 Ω/□ 이상, 바람직하게는 20 Ω/□ 이상, 보다 바람직하게는 40 Ω/□ 이상이고, 또한 예를 들어 100 Ω/□ 이하, 바람직하게는 70 Ω/□ 이하이다.

제 2 투명 도전층 (8) 의 두께는, 바람직하게는 제 1 투명 도전층 (5) 의 두께보다 얇고, 예를 들어 35 nm 이하, 바람직하게는 30 nm 이하이고, 또한, 예를 들어 1 nm 이상, 바람직하게는 10 nm 이상이다. 제 2 투명 도전층 (8) 의 두께가 상기 범위이면, 투명 도전성 필름 (1) 의 광 투과성을 한층 더 양호하게 할 수 있다.

2. 투명 도전성 필름의 제조 방법

투명 도전성 필름 (1) 을 제조하려면, 먼저, 투명 기재 (2) 를 준비하고, 계속해서 투명 기재 (2) 의 양면에, 하드 코트층 (제 1 하드 코트층 (3) 및 제 2 하드 코트층 (6)), 광학 조정층 (제 1 광학 조정층 (4) 및 제 2 광학 조정층 (7)) 및 투명 도전층 (제 1 투명 도전층 (5) 및 제 2 투명 도전층 (8)) 을 차례로 형성한다.

예를 들어, 먼저, 제 1 하드 코트층 (3) 또는 제 2 하드 코트층 (6) 을 형성하는 하드 코트 조성물을 용매로 희석한 희석액을 조제한다. 계속해서, 그 희석액을 투명 기재 (2) 의 상면 또는 하면에 도포하고, 각 희석액을 건조시켜, 필요에 따라 하드 코트 조성물을 경화시킨다. 이로써, 투명 기재 (2) 의 상면에 제 1 하드 코트층 (3) 을 형성하고, 투명 기재 (2) 의 하면에 제 2 하드 코트층 (6) 을 형성한다.

이어서, 제 1 광학 조정층 (4) 또는 제 2 광학 조정층 (7) 을 형성하는 광학 조정 조성물을 용매로 희석한 희석액을 조제한다. 계속해서, 그 희석액을 제 1 하드 코트층 (3) 의 상면 또는 제 2 하드 코트층 (6) 의 하면에 도포하고, 각 희석액을 건조시켜, 필요에 따라 광학 조정 조성물을 경화시킨다. 이로써, 제 1 하드 코트층 (3) 의 상면에 제 1 광학 조정층 (4) 를 형성하고, 제 2 하드 코트층 (6) 의 하면에 제 2 광학 조정층 (7) 을 형성한다. 즉, 제 2 광학 조정층 (7) /제 2 하드 코트층 (6) /투명 기재 (2) /제 1 하드 코트층 (3) /제 1 광학 조정층 (4) 의 적층체를 얻는다.

이어서, 건식법에 의해 상기 적층체의 양면에 제 1 투명 도전층 (5) 및 제 2 투명 도전층 (8) 을 순차적으로 형성한다.

건식 방법으로는, 예를 들어, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법 등을 들 수 있다. 바람직하게는 스퍼터링법을 들 수 있다. 이 방법에 의해 박막의 투명 도전층을 형성할 수 있다.

스퍼터링법으로는, 예를 들어 2 극 스퍼터링법, ECR (전자 사이클로트론 공명) 스퍼터링법, 마그네트론 스퍼터링법, 이온 빔 스퍼터링법 등을 들 수 있다. 바람직하게는 마그네트론 스퍼터링법을 들 수 있다.

스퍼터링법을 채용하는 경우, 타깃 재료로는, 투명 도전층을 구성하는 상기 서술한 금속 산화물 등을 들 수 있고, 바람직하게는 ITO 를 들 수 있다. ITO 의 산화주석 농도는, ITO 층의 내구성, 결정화 등의 관점에서, 예를 들어 0.5 질량％ 이상, 바람직하게는 3 질량％ 이상이고, 또한, 예를 들어 15 질량％ 이하, 바람직하게는 13 질량％ 이하이다.

가스로는, 예를 들어 Ar 등의 불활성 가스를 들 수 있다. 또한, 필요에 따라 산소 가스 등의 반응성 가스를 병용할 수 있다. 반응성 가스를 병용하는 경우에, 반응성 가스의 유량비 (sccm) 는 특별히 한정되지 않지만, 스퍼터 가스 및 반응성 가스의 합계 유량비에 대하여, 예를 들어 0.1 유량％ 이상 5 유량％ 이하이다.

스퍼터링시의 기압은, 스퍼터링 레이트의 저하 억제, 방전 안정성 등의 관점에서, 예를 들어 1 Pa 이하이고, 바람직하게는 0.1 Pa 이상 0.7 Pa 이하이다.

전원은, 예를 들어, DC 전원, AC 전원, MF 전원 및 RF 전원 중 어느 것이어도 되고, 또한, 이것들의 조합이어도 된다.

이 때, 예를 들어, 적층체에 형성되는 제 1 투명 도전층 (5) 및 제 2 투명 도전층 (8) 의 두께를 각각 별개로 조정함으로써, 각 투명 도전층의 표면 저항값을 조정할 수 있다. 즉, 투명 도전층의 두께를 두껍게 함으로써, 그 표면 저항값을 낮게 하고, 반대로, 투명 도전층의 두께를 얇게 함으로써, 그 표면 저항값을 높게 할 수 있다. 본 발명에서는, 바람직하게는 제 2 투명 도전층 (8) 의 두께를, 제 1 투명 도전층 (5) 의 두께보다 얇아지도록 각 투명 도전층의 형성을 조정한다.

이로써, 제 2 투명 도전층 (8), 제 2 광학 조정층 (7), 제 2 하드 코트층 (6), 투명 기재 (2), 제 1 하드 코트층 (3), 제 1 광학 조정층 (4) 및 제 1 투명 도전층 (5) 을 이 순서로 구비하는 투명 도전성 필름 (1) 이 얻어진다.

필요에 따라, 이어서, 투명 도전성 필름 (1) 에 대기하에서 가열 처리를 실시한다.

가열 처리는, 예를 들어 적외선 히터, 오븐 등을 사용하여 실시할 수 있다.

가열 온도는, 예를 들어 100 ℃ 이상, 바람직하게는 120 ℃ 이상이고, 또한, 예를 들어 200 ℃ 이하, 바람직하게는 160 ℃ 이하이다.

가열 시간은, 가열 온도에 따라 적절히 결정되지만, 예를 들어 10 분 이상, 바람직하게는 30 분 이상이고, 또한, 예를 들어 5 시간 이하, 바람직하게는 3 시간 이하이다.

이 가열 처리에 의해 각 투명 도전층을 결정화시킬 수 있고, 원하는 표면 저항값으로 할 수 있다.

또한, 이 제조 방법에서는, 각 층을, 예를 들어, 롤 투 롤 방식으로 투명 기재 (2) 에 대하여 형성할 수 있거나, 또는 이들 층의 일부 또는 전부를 배치 방식 (매엽 방식) 으로 형성할 수도 있다.

투명 도전성 필름 (1) 의 광 투과율 (시감도 평균 투과율) 은, 예를 들어 86.0 ％ 이상, 바람직하게는 86.5 ％ 이상이다. 광 투과율이 상기 범위이면, 투명한 투명 도전성 필름 (1) 을 확실히 얻을 수 있다.

투명 도전성 필름 (1) 의 색상 La* 는, 예를 들어 －1.5 이상, 바람직하게는 －1.0 이상이고, 또한, 예를 들어 바람직하게는 1.5 이하, 바람직하게는 0.5 이하이다. 색상 Lb* 는, 예를 들어 －4.0 이상, 바람직하게는 －0.5 이상이고, 또한, 예를 들어 바람직하게는 4.0 이하, 바람직하게는 1.0 이하이다. 색상이 상기 범위이면, 무색 투명한 투명 도전성 필름 (1) 을 확실히 얻을 수 있다.

이 투명 도전성 필름 (1) 은, 예를 들어 광학 방식, 초음파 방식, 정전 용량 방식, 저항막 방식 등의 터치 패널용 필름으로서 사용할 수 있다. 특히, 정전 용량 방식 (구체적으로는 투영형 정전 용량 방식) 의 터치 패널용 필름으로 바람직하게 사용할 수 있다.

3. 터치 패널용 필름

이어서, 투명 도전성 필름 (1) 의 일 실시형태인 터치 패널용 필름 (1a) 에 대해서 설명한다.

터치 패널용 필름 (1a) 은, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 투명 기재 (2) 와, 투명 기재 (2) 의 상면에 배치되는 제 1 하드 코트층 (3) 과, 제 1 하드 코트층 (3) 의 상면에 배치되는 제 1 광학 조정층 (4) 과, 제 1 광학 조정층 (4) 의 상면에 배치되는 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 과, 투명 기재 (2) 의 하면에 배치되는 제 2 하드 코트층 (6) 과, 제 2 하드 코트층 (6) 의 하면에 배치되는 제 2 광학 조정층 (7) 과, 제 2 광학 조정층 (7) 의 하면에 배치되는 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 을 구비한다. 즉, 투명 도전성 필름 (1) 은, 아래서부터 차례로 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a), 제 2 광학 조정층 (7), 제 2 하드 코트층 (6), 투명 기재 (2), 제 1 하드 코트층 (3), 제 1 광학 조정층 (4), 및 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 을 구비한다. 터치 패널용 필름 (1a) 은, 바람직하게는 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a), 제 2 광학 조정층 (7), 제 2 하드 코트층 (6), 투명 기재 (2), 제 1 하드 코트층 (3), 제 1 광학 조정층 (4) 및 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 으로 이루어진다.

터치 패널용 필름 (1a) 은, 도 3a ∼ 도 3b 에 나타내는 바와 같이, 좌우 방향 (일 방향, 장변 방향) 으로 길고, 전후 방향 (다른 방향, 단변 방향) 으로 짧은 평면에서 볼 때 대략 장방형상을 갖는다.

터치 패널용 필름 (1a) 은, 상기한 투명 도전성 필름 (1) 의 투명 도전층 (제 1 투명 도전층 (5) 및 제 2 투명 도전층 (8)) 을 패턴화 (패터닝) 함으로써 얻어지는 패터닝 투명 도전성 필름이다. 따라서, 터치 패널용 필름 (1a) 의 제 2 광학 조정층 (7), 제 2 하드 코트층 (6), 투명 기재 (2), 제 1 하드 코트층 (3) 및 제 1 광학 조정층 (4) 은, 상기한 투명 도전성 필름 (1) 의 각 층과 동일하다.

패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 은, 도 3a 에 나타내는 바와 같이, 평면에서 볼 때 대략 중앙부에, 제 1 패턴의 일례로서 좌우 방향으로 길게 연장되는 제 1 장방형상 패턴 (11) 을 구비하고 있다. 구체적으로는 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 은, 전후 방향에 서로 간격을 두고 배치되는 제 1 장방형상 패턴 (11) 을 복수 개 구비하고 있다. 또한, 제 1 장방형상 패턴 (11) 을 집적 회로 (도시 생략) 에 전기적으로 접속시키기 위한 배선 (12) 이, 제 1 장방형상 패턴 (11) 의 우단에 일체적으로 접속되어 있다.

패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 은, 도 3b 에 나타내는 바와 같이, 저면에서 볼 때 대략 중앙부에, 제 2 패턴의 일례로서 전후 방향 (좌우 방향에 직교하는 직교 방향) 으로 길게 연장되는 제 2 장방형상 패턴 (13) 을 구비하고 있다. 구체적으로는 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 은, 좌우 방향에 서로 간격을 두고 배치되는 제 2 장방형상 패턴 (13) 을 복수 개 구비하고 있다. 또한, 제 2 장방형상 패턴 (13) 을 집적 회로 (도시 생략) 에 전기적으로 접속시키기 위한 배선 (12) 이, 전단 또는 후단에 일체적으로 접속되어 있다.

패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 의 제 1 장방형상 패턴 (11) 과, 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 의 제 2 장방형상 패턴 (13) 은, 두께 방향 (상하 방향) 으로 투영했을 때에, 서로 직교하도록 배치되어 있다.

패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 의 제 1 장방형상 패턴 (11) 의 좌우 방향 길이 (장변 길이) 는, 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 의 제 2 장방형상 패턴 (13) 의 전후 방향 길이 (장변 길이) 보다 길다. 이로써, 전류의 이동 거리가 긴 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 의 표면 저항값을 저감시킬 수 있기 때문에, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 의 전류의 전달 속도를 향상시키거나 노이즈를 저감시킬 수 있다. 그 결과, 화상 표시 장치 (20) 의 대형화를 도모할 수 있다.

패터닝 방법으로는, 예를 들어 전극 패턴을 형성하기 위한 마스크에 의해 각 투명 도전층을 피복하고, 에칭액에 의해 각 투명 도전층을 에칭함으로써 실시된다. 에칭액으로는, 산이 바람직하게 사용된다. 산으로는, 예를 들어 염화수소, 브롬화수소, 황산, 질산, 인산 등의 무기산, 아세트산 등의 유기산, 및 이것들의 혼합물, 그리고 그것들의 수용액을 들 수 있다.

4. 작용 효과

이 투명 도전성 필름 (1) 은, 제 1 투명 도전층 (5), 제 1 광학 조정층 (4), 투명 기재 (2), 제 2 광학 조정층 (7) 및 제 2 투명 도전층 (8) 을 차례로 구비하기 때문에, 제 1 투명 도전층 (5) 및 제 2 투명 도전층 (8) 이 패터닝된 경우에, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 및 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) (예를 들어 전극 패턴) 의 시인을 억제할 수 있다.

또한, 제 1 투명 도전층 (5) 의 표면 저항값은, 10 Ω/□ 이상, 70 Ω/□ 이하이기 때문에, 투명 도전성 필름 (1) 은, 표면 저항값이 작은 제 1 투명 도전층 (5) 을 편면에 구비한다. 그래서, 이 투명 도전성 필름 (1) 은, 표면 저항값이 높은 투명 도전층을 양면에 구비하는 투명 도전성 필름보다 상대적으로 양호한 전자파 실드성을 발현시킬 수 있다.

또한, 제 2 투명 도전층 (8) 의 표면 저항값은, 제 1 투명 도전층 (5) 의 표면 저항값보다 크고, 50 Ω/□ 이상, 150 Ω/□ 이하이기 때문에, 제 2 투명 도전층 (8) 을, 제 1 투명 도전층 (5) 보다 상대적으로 박막화할 수 있다. 또한, 제 2 광학 조정층 (7) 의 굴절률은, 제 1 광학 조정층 (4) 의 굴절률보다 낮다. 이것들의 표면 저항값 및 굴절률에 의해, 투명 도전성 필름 (1) 의 광 투과성을 향상시킬 수 있다.

또한, 이 투명 도전성 필름 (1) 의 각 투명 도전층이 모두 패터닝되어 있는 터치 패널용 필름 (1a) 에서는, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 이, 좌우 방향으로 긴 제 1 장방형상 패턴 (11) 을 구비하고, 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 은, 전후 방향으로 긴 제 2 장방형상 패턴 (13) 을 구비하고 있다. 또한, 제 1 장방형상 패턴 (11) 의 좌우 방향 길이는, 상기 제 2 패턴의 전후 방향 길이보다 길다. 그래서, 전류의 이동 거리가 긴 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 의 표면 저항값을 저감시킬 수 있기 때문에, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 의 전류의 전달 속도를 향상시키거나 노이즈를 저감시킬 수 있다. 그 결과, 투명 도전성 필름 (1) 전체로서의 전류 속도의 향상, 노이즈의 저감을 달성할 수 있기 때문에, 화상 표시 장치 (20) 의 대형화를 도모할 수 있다.

＜화상 표시 장치＞

이어서, 화상 표시 장치 (20) 의 일 실시형태에 대해서 설명한다. 화상 표시 장치 (20) 의 일 실시형태는, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 투명 보호판 (21) 과, 제 1 투명 점착제층 (22) 과, 터치 패널용 필름 (1a) 과, 제 2 투명 점착제층 (23) 과, 화상 표시 소자 (24) 를 차례로 구비하고 있다. 또, 도 4 에서는 상측이 소자측이고, 하측이 시인측이다.

투명 보호판 (21) 은, 외부로부터의 충격이나 오염에 대하여, 화상 표시 소자 (24) 등의 화상 표시 장치 (20) 의 내부 부재를 보호하기 위한 층이다.

투명 보호판 (21) 으로는, 예를 들어 아크릴 수지, 폴리카보네이트 수지 등의 경질성 수지로 이루어지는 수지판, 예를 들어 유리판 등을 들 수 있다.

투명 보호판 (21) 의 두께는, 예를 들어 10 ㎛ 이상, 바람직하게는 500 ㎛ 이상이고, 또한, 예를 들어 10 mm 이하, 보다 바람직하게는 5 mm 이하이다.

제 1 투명 점착제층 (22) 은, 투명 보호판 (21) 과 터치 패널용 필름 (1a) 을 접착시키기 위한 층이다. 제 1 투명 점착제층 (22) 은, 필름 형상을 갖고 있으며, 투명 보호판 (21) 상에 배치되어 있다. 보다 구체적으로는 제 1 투명 점착제층 (22) 은, 투명 보호판 (21) 및 터치 패널용 필름 (1a) 의 사이에, 투명 보호판 (21) 의 상면 및 터치 패널용 필름 (1a) 의 하면 (패터닝 제 2 투명 도전층 (8a)) 과 접촉하도록 배치되어 있다.

제 1 투명 점착제층 (22) 은, 투명한 점착제 조성물로 형성되어 있다. 점착성 조성물의 조성은 한정되지 않지만, 예를 들어 아크릴계 점착제, 고무계 점착제 (부틸 고무 등), 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 폴리우레탄계 점착제, 폴리아미드계 점착제, 에폭시계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 불소 수지계 점착제 등을 들 수 있다.

제 1 투명 점착제층 (22) 의 두께 (투명 보호판 (21) 의 상면에서부터 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 의 하면까지의 거리) 는, 예를 들어 1 ㎛ 이상, 바람직하게는 5 ㎛ 이상이고, 또한, 예를 들어 300 ㎛ 이하, 바람직하게는 150 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 50 ㎛ 이하이다.

터치 패널용 필름 (1a) 은, 상측에 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 이 위치하고, 하측에 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 이 위치하도록 제 1 투명 점착제층 (22) 상에 배치되어 있다. 보다 구체적으로는 터치 패널용 필름 (1a) 은, 제 1 투명 점착제층 (22) 및 제 2 투명 점착제층 (23) 의 사이에, 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 이 제 1 투명 점착제층 (22) 에 접촉하며, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 이 제 2 투명 점착제층 (23) 에 접촉하도록 배치되어 있다.

또한, 터치 패널용 필름 (1a) 의 상면에 있어서, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 의 제 1 장방형상 패턴 (11) 의 상면 및 측면, 그리고, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 으로부터 노출되는 제 1 광학 조정층 (4) 의 상면이, 제 1 투명 점착제층 (22) 에 접촉되어 있다. 터치 패널용 필름 (1a) 의 하면에 있어서, 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 의 제 2 장방형상 패턴 (13) 의 하면 및 측면, 그리고, 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 으로부터 노출되는 제 2 광학 조정층 (7) 의 상면이, 제 2 투명 점착제층 (23) 에 접촉되어 있다.

제 2 투명 점착제층 (23) 은, 화상 표시 소자 (24) 와 터치 패널용 필름 (1a) 을 접착시키기 위한 층이다. 제 2 투명 점착제층 (23) 은, 필름 형상을 갖고 있으며, 터치 패널용 필름 (1a) 상에 배치되어 있다. 보다 구체적으로는 제 2 투명 점착제층 (23) 은, 터치 패널용 필름 (1a) 및 화상 표시 소자 (24) 의 사이에, 터치 패널용 필름 (1a) 의 상면 및 화상 표시 소자 (24) 의 하면과 접촉하도록 배치되어 있다.

제 2 투명 점착제층 (23) 은, 제 1 투명 점착제층 (22) 과 동일한 점착제 조성물로 형성되어 있다. 제 2 투명 점착제층 (23) 의 두께는, 제 1 투명 점착제층 (22) 의 두께와 동일하다.

화상 표시 소자 (24) 는, 제 2 투명 점착제층 (23) 상에 배치되어 있다. 보다 구체적으로는 화상 표시 소자 (24) 는, 화상 표시면 (25) 이 하측이 되고 또한 화상 표시면 (25) 이 제 2 투명 점착제층 (23) 의 상면에 접촉하도록 제 2 투명 점착제층 (23) 의 상면에 배치되어 있다.

화상 표시 소자 (24) 로는, 예를 들어 액정 셀, 유기 EL 등을 들 수 있다.

이 화상 표시 장치 (20) 는, 터치 패널용 필름 (1a) 을 구비하기 때문에, 전자파 실드 효과를 구비하며, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 및 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) (전극 패턴) 의 시인을 억제하면서, 양호한 광 투과성을 구비한다. 따라서, 대 (大) 화면화를 도모할 수 있다.

또한, 화상 표시 장치 (20) 에서는, 화상 표시 소자 (24) 가, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 측 (상측) 에 배치되어 있다. 그래서, 전자파 실드 효과가 강한 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) (제 1 투명 도전층 (5)) 과, 전자파를 발생시키는 화상 표시 소자 (24) 의 거리를 좁히고 있다. 따라서, 화상 표시 소자 (24) 의 전자파를 보다 확실히 흡수할 수 있어, 화상 표시 장치 (20) 로서의 전자파 실드 효과가 우수하다.

＜변형예＞

(1) 도 1 에 나타내는 실시형태에서는, 투명 도전성 필름 (1) 은, 아래서부터 차례로 제 2 투명 도전층 (8), 제 2 광학 조정층 (7), 제 2 하드 코트층 (6), 투명 기재 (2), 제 1 하드 코트층 (3), 제 1 광학 조정층 (4), 제 1 투명 도전층 (5) 을 구비하고 있지만, 예를 들어 도시되어 있지 않지만, 제 2 하드 코트층 (6) 및 제 1 하드 코트층 (3) 을 구비하지 않아도 된다. 즉, 투명 도전성 필름 (1) 은, 아래서부터 차례로 제 2 투명 도전층 (8), 제 2 광학 조정층 (7), 투명 기재 (2), 제 1 광학 조정층 (4), 및 제 1 투명 도전층 (5) 으로 이루어진다.

바람직하게는 찰상성의 관점에서 도 1 에 나타내는 실시형태를 들 수 있다. 터치 패널용 필름 (1a) 및 화상 표시 장치 (20) 에 대해서도 상기와 동일하다.

(2) 도 3a ∼ 3b 에 나타내는 실시형태에서는, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 이, 좌우 방향으로 긴 제 1 장방형상 패턴 (11) 을 구비하고, 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 이, 전후 방향으로 긴 제 2 장방형상 패턴 (13) 을 구비하고 있지만, 예를 들어 도시되어 있지 않지만, 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 이, 좌우 방향으로 긴 제 1 장방형상 패턴 (11) 을 구비하고, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 이, 전후 방향으로 긴 제 2 장방형상 패턴 (13) 을 구비할 수도 있다.

이 실시형태에서는, 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 의 제 1 장방형상 패턴 (11) 의 좌우 방향 길이는, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 의 제 2 장방형상 패턴 (13) 의 전후 방향 길이보다 길다.

바람직하게는 전극 패턴 길이가 긴 투명 도전층의 전류 속도나 노이즈를 향상시킬 수 있다는 점에서, 도 3a ∼ 3b 에 나타내는 실시형태를 들 수 있다.

(3) 도 3a ∼ 3b 에 나타내는 실시형태에서는, 제 1 패턴의 일례로서 좌우 방향으로 연장되는 제 1 장방형상 패턴 (11), 제 2 패턴의 일례로서 전후 방향으로 연장되는 제 2 장방형상 패턴 (13) 으로 하고 있는데, 예를 들어 도 5a ∼ 5b 에 나타내는 바와 같이, 제 1 패턴의 일례로서 복수의 사각형 패턴이 좌우 방향으로 연속되는 제 1 연속 사각형상 패턴 (14) 으로 하고, 제 2 패턴의 일례로서 복수의 사각형 패턴이 전후 방향으로 연속되는 제 2 연속 사각형상 패턴 (15) 으로 할 수도 있다.

즉, 도 5a ∼ 5b 에 나타내는 실시형태에서는, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 은, 좌우 방향에 서로 간격을 두고 배치되는 제 1 연속 사각형상 패턴 (14) 을 복수 개 구비하고 있다. 제 1 연속 사각형상 패턴 (14) 에 있어서, 복수의 대략 사각형 패턴은, 그것들의 대각선이 좌우 방향을 따르도록 일직선 상에 배치되어 있다.

패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 은, 전후 방향에 서로 간격을 두고 배치되는 제 2 연속 사각형상 패턴 (15) 을 복수 개 구비하고 있다. 제 2 연속 사각형상 패턴 (15) 에 있어서, 복수의 대략 사각형 패턴은, 그것들의 대각선이 전후 방향을 따르도록 일직선 상에 배치되어 있다.

패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 의 제 1 연속 사각형상 패턴 (14) 과, 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 의 제 2 연속 사각형상 패턴 (15) 은, 두께 방향으로 투영했을 때에, 서로 직교하도록 배치되어 있다. 또한, 두께 방향으로 투영했을 때에, 제 1 연속 사각형상 패턴 (14) 을 구성하는 사각형상 패턴이, 제 2 연속 사각형상 패턴 (15) 을 구성하는 사각형상 패턴과 중복되지 않도록 제 1 연속 사각형상 패턴 (14) 및 제 2 연속 사각형상 패턴 (15) 은 배치되어 있다. 또한, 두께 방향으로 투영했을 때에, 제 1 연속 사각형상 패턴 (14) 및 제 2 연속 사각형상 패턴 (15) 을 합친 패턴이, 터치 패널용 필름 (1a) 의 대략 중앙부의 전체면을 덮도록 제 1 연속 사각형상 패턴 (14) 및 제 2 연속 사각형상 패턴 (15) 은 배치되어 있다.

(4) 도 4 에 나타내는 화상 표시 장치 (20) 에서는, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 측에 화상 표시 소자 (24) 가 위치하도록, 터치 패널용 필름 (1a) 및 화상 표시 소자 (24) 가 배치되어 있지만, 예를 들어 도시되어 있지 않지만, 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 측에 화상 표시 소자 (24) 가 위치하도록 터치 패널용 필름 (1a) 및 화상 표시 소자 (24) 가 배치될 수도 있다. 즉, 화상 표시 장치 (20) 는, 패터닝 제 1 투명 도전층 (5a) 이 하측이 되고 패터닝 제 2 투명 도전층 (8a) 이 상측이 되도록, 투명 보호판 (21) 과, 제 1 투명 점착제층 (22) 와, 터치 패널용 필름 (1a) 과, 제 2 투명 점착제층 (23) 과, 화상 표시 소자 (24) 를 하측에서부터 차례로 구비할 수도 있다.

바람직하게는 화상 표시 장치 (20) 전체로서의 전자파 실드 효과의 관점에서, 도 4 에 나타내는 실시형태를 들 수 있다.

실시예

이하에 실시예 및 비교예를 나타내며, 본 발명을 더 구체적으로 설명한다. 또, 본 발명은 전혀 실시예 및 비교예에 한정되지 않는다. 또한, 이하의 기재에서 사용되는 배합 비율 (함유 비율), 물성값, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상기 「발명을 실시하기 위한 형태」에서 기재된, 그것들에 대응되는 배합 비율 (함유 비율), 물성값, 파라미터 등 해당 기재된 상한값 (「이하」, 「미만」으로 정의되어 있는 수치) 또는 하한값 (「이상」, 「초과」로 정의되어 있는 수치) 으로 대체할 수 있다.

(실시예 1)

투명 기재 (COP 필름, 일본 제온사 제조, 상품명 「제오노아 ZF-16」, 두께 100 ㎛) 의 양면에, 하드 코트 조성물 (아크릴계 자외선 경화성 수지, DIC 사 제조, 「유니디크 RS29-120」) 의 희석액을, 그라비아 코터를 사용하여 도포하고, 80 ℃ 에서 1 분간 가열 건조시켰다. 그 후, 고압 수은 램프를 사용하여 자외선을 조사하고, 제 1 및 제 2 하드 코트층 (각 두께 1.0 ㎛, 각 굴절률 1.53) 을 형성하였다. 이로써, 제 1 하드 코트층, 투명 기재 및 제 2 하드 코트층의 적층체를 얻었다.

이어서, 적층체의 제 1 하드 코트층 표면에, 굴절률이 1.70 이 되는 광학 조정 조성물의 희석액을, 그라비아 코터를 사용하여 도포하고, 60 ℃ 에서 1 분간 가열 건조시켰다. 그 후, 고압 수은 램프를 사용하여 자외선을 조사하고, 제 1 광학 조정층 (굴절률 1.70, 두께 80 nm) 을 형성하였다. 또한, 굴절률이 1.64 가 되는 광학 조정 조성물을 사용한 것 이외에는 상기와 동일하게 하여, 제 2 하드 코트층 표면에 제 2 광학 조정층 (굴절률 1.64, 두께 80 nm) 을 형성하였다. 이로써, 제 1 광학 조정층, 제 1 하드 코트층, 투명 기재 및 제 2 하드 코트층 및 제 1 광학 조정층의 적층체를 얻었다.

또, 각 광학 조정 조성물은, 굴절률 1.60 의 굴절률 조정제 (JSR 사 제조, 「옵스타」) 와, 굴절률 1.74 의 굴절률 조정제 (JSR 사 제조, 「옵스타 KZ6734」) 를 적절히 혼합함으로써 조제하였다.

이어서, 얻어진 적층체를 스퍼터 장치에 투입하고, 적층체의 양면에 인듐·주석 산화물층 (ITO 층) 을 적층시켰다. 가스로서, 아르곤 가스 98 ％ 와 산소 2 ％ 로 이루어지는 혼합 가스를 사용하며, 분위기의 압력을 0.4 Pa 로 하였다. 또한, 스퍼터링의 타깃으로서 산화인듐 90 질량％ ― 산화주석 10 질량％ 로 이루어지는 소결체를 사용하였다. 또한, 제 1 광학 조정층측에 적층되는 제 1 투명 도전층의 두께를 40 nm, 제 2 광학 조정층측에 적층되는 제 2 투명 도전층의 두께를 30 nm 가 되도록 조정하였다.

이로써, 제 1 투명 도전층, 제 1 광학 조정층, 제 1 하드 코트층, 투명 기재 및 제 2 하드 코트층, 제 1 광학 조정층 및 제 2 투명 도전층으로 이루어지는 투명 도전성 필름을 얻었다.

이어서, 이 투명 도전성 필름을 140 ℃ 의 오븐에서 90 분간 가열함으로써, 제 1 및 제 2 투명 도전층을 결정화시켜, 실시예 1 의 양면 투명 도전성 필름을 제조하였다.

(실시예 2 ∼ 9 및 비교예 1 ∼ 5)

광학 조정층의 두께 및 굴절률, 그리고, 투명 도전층의 두께 및 표면 저항값을, 표 1 에 기재된 광학 조정층의 두께 및 굴절률, 그리고, 투명 도전층의 두께 및 표면 저항값으로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제조하였다.

(비교예 6)

제 1 광학 조정층 및 제 2 광학 조정층을 형성하지 않은 것 이외에는, 실시예 1 과 동일한 방법으로 투명 도전성 필름을 제조하였다.

각 실시예 및 각 비교예의 투명 도전성 필름에 대해서, 하기 측정을 실시하여, 그 결과를 표 1 에 나타낸다.

＜표면 저항＞

4 단자법을 사용하여, 각 실시예 및 각 비교예의 투명 도전성 필름의 각 투명 도전층의 표면 저항 (Ω/□) 을 측정하였다.

＜층의 두께＞

각 하드 코트층 및 각 광학 조정층의 두께는, 순간 멀티 측광 시스템 (오츠카 전자사 제조, 「MCPD2000」) 을 사용하여, 간섭 스펙트럼으로부터의 파형을 기초로 산출하였다.

각 투명 도전층의 두께는, 투명 도전성 필름을 절단한 단면도를, 투과형 전자 현미경 (TEM) 으로 관찰함으로써 측정하였다.

＜굴절률＞

투명 필름 (COP 필름, 일본 제온사 제조, 「제오노아 ZF-16」) 상에, 측정 대상인 하드 코트층만을 제막 (製膜) 하고, 분광 엘립소미터 (제이 에이 월람사 제조, 형번 FQTH-100) 를 사용하여 굴절률을 측정하였다.

또한, 투명 필름 (상기와 동일) 상에, 측정 대상인 광학 조정층만을 제막하고, 분광 엘립소미터 (상기와 동일) 를 사용하여 굴절률을 측정하였다.

또, 투명 필름과, 하드 코트층 또는 광학 조정층의 밀착성이 불량한 경우에는, 코로나 처리 등의 표면 개질을 적절히 실시하였다.

＜투과율, 색상＞

각 실시예 및 각 비교예의 투명 도전성 필름의 양면에, 투명한 아크릴계 점착제 (닛토 덴코 제조, 형번 No.7, 두께 25 ㎛) 를 개재하여 투명 필름 (일본 제온 제조, 「제오노아 ZF-14」, 두께 100 ㎛) 을 첩합 (貼合) 시켰다. 이로써, 투과율 측정용 샘플 (투명 필름/점착제/투명 도전성 필름/점착제/투명 필름) 을 얻었다. 이 샘플을, 분광 광도계 (무라카미 색채사 제조, 형번「Dot-3」) 를 사용하여, 파장 380 ∼ 700 nm 에 있어서의 시감도 평균 투과율 및 색상 a*, b* 를 측정하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.

＜전극 패턴의 시인성＞

각 실시예 및 각 비교예의 투명 도전성 필름에 있어서, 제 1 투명 도전층 및 제 2 투명 도전층을, 에칭액을 사용하며 에칭하여, 도 3a ∼ 3b 의 전극 패턴으로 패터닝하였다. 패터닝된 투명 도전성 필름을 경사진 상방에서 시인하였다. 전극 패턴이 명확히 시인된 경우를 × 로 평가하고, 전극 패턴이 거의 시인되지 않은 경우를 ○ 로 평가하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.

또, 상기 발명은, 본 발명의 예시된 실시형태로 제공했는데, 이는 단순한 예시에 불과하며, 한정적으로 해석해서는 안된다. 해당 기술 분야의 당업자에 의해 명확한 본 발명의 변형예는, 후기하는 청구 범위에 포함된다.

산업상 이용가능성

본 발명의 투명 도전성 필름 및 화상 표시 장치는, 각종 공업 제품에 적용할 수 있고, 예를 들어 본 발명의 투명 도전성 필름은, 터치 패널을 구비하는 화상 표시 장치 등에 바람직하게 사용된다.

1 : 투명 도전성 필름
2 : 투명 기재
4 : 제 1 광학 조정층
5 : 제 1 투명 도전층
7 : 제 2 광학 조정층
8 : 제 2 투명 도전층
11 : 제 1 장방형상 패턴
13 : 제 2 장방형상 패턴
20 : 화상 표시 장치
24 : 화상 표시 소자

Claims

제 1 투명 도전층, 제 1 광학 조정층, 투명 기재, 제 2 광학 조정층 및 제 2 투명 도전층을 차례로 구비하고,
상기 제 2 투명 도전층의 표면 저항값은, 상기 제 1 투명 도전층의 표면 저항값보다 크고,
상기 제 1 투명 도전층의 표면 저항값은, 10 Ω/□ 이상, 70 Ω/□ 이하이고,
상기 제 2 투명 도전층의 표면 저항값은, 50 Ω/□ 이상, 150 Ω/□ 이하이고,
상기 제 2 광학 조정층의 굴절률은, 상기 제 1 광학 조정층의 굴절률보다 작은 것을 특징으로 하는, 투명 도전성 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 투명 도전층의 두께는, 상기 제 1 투명 도전층의 두께보다 얇은 것을 특징으로 하는, 투명 도전성 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 광학 조정층의 굴절률은 1.65 이상, 1.75 이하이고,
상기 제 2 광학 조정층의 굴절률은 1.60 이상, 1.70 이하인 것을 특징으로 하는, 투명 도전성 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 광학 조정층 및 상기 제 2 광학 조정층의 두께는 모두 100 nm 이하인 것을 특징으로 하는, 투명 도전성 필름.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 투명 도전층 및 상기 제 2 투명 도전층은 모두 패터닝되어 있고,
상기 제 1 투명 도전층은, 일 방향으로 긴 제 1 패턴을 구비하고,
상기 제 2 투명 도전층은, 상기 일 방향과 직교하는 직교 방향으로 긴 제 2 패턴을 구비하고,
상기 제 1 패턴의 일 방향 길이는, 상기 제 2 패턴의 직교 방향 길이보다 긴 것을 특징으로 하는, 투명 도전성 필름.
제 1 항에 기재된 투명 도전성 필름과,
상기 투명 도전성 필름의 상기 제 1 투명 도전층측에 배치되는 화상 표시 소자를 구비하는 것을 특징으로 하는, 화상 표시 장치.