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KR20190014070A - 선스크린 조성물 - Google Patents

선스크린 조성물 Download PDF

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KR20190014070A
KR20190014070A KR1020197000084A KR20197000084A KR20190014070A KR 20190014070 A KR20190014070 A KR 20190014070A KR 1020197000084 A KR1020197000084 A KR 1020197000084A KR 20197000084 A KR20197000084 A KR 20197000084A KR 20190014070 A KR20190014070 A KR 20190014070A
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KR
South Korea
Prior art keywords
sunscreen composition
sunscreen
composition according
zno
bemt
Prior art date
Application number
KR1020197000084A
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English (en)
Inventor
데이비드 슐로스만
윤 샤오
루나 파시나
Original Assignee
코보 프로덕츠, 아이엔씨.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코보 프로덕츠, 아이엔씨. filed Critical 코보 프로덕츠, 아이엔씨.
Priority to KR1020227036451A priority Critical patent/KR20220147709A/ko
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Abstract

생체내 일광 차단 지수(SPF) 및 UVA 차단 지수(PFA) 값을 향상시키는 데 있어서 시너지 효과를 갖는, 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진(BEMT) 및 산화아연, 특히 비나노 산화아연 물질을 포함하는 선스크린 조성물 및 이것의 제조 및 사용 방법을 개시한다.

Description

선스크린 조성물
[관련 출원에 대한 상호 참조]
본 출원은, 35 U.S.C. § 109(e) 하에, 2016년 6월 2일에 출원된 미국 가출원 제62/344,795호에 대하여 우선권을 주장하며, 상기 가출원의 개시내용은 참조에 의해 본원에 포함된다.
[발명의 분야]
본 발명은 미용적 선스크린 조성물 및 원료 적용의 기술 분야에 속하며, 특히 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진(BEMT) 및 비나노 산화아연을 함유하는 광범위 스펙트럼 선스크린 조성물에 관한 것이다.
태양 복사는, 3개 영역, 즉 320∼400 nm(UV-A), 290∼320 nm(UV-B), 및 200∼290 nm(UV-C)로 분류될 수 있는, 파장 범위가 200 nm∼400 nm인 약 5%의 자외선(UV) 복사를 포함한다. 대부분의 UVC는 오존층에 의해 흡수되어 지구에 도달하지 않지만, UVA와 UVB는 둘 다 대기로 침투할 수 있다. 한때 UVB만이 중요하다고 생각되었지만, 인체에서 UVA로 인해 유발될 수 있는 손상에 대해 수행된 연구와 획득된 지식이 증가함에 따라, UVA와 UVB 모두 다양한 건강 관련 문제를 일으킬 수 있다는 것을 깨달았다. 단기간 동안 UV-A 및 UV-B 방사선에 노출되면 피부가 붉어지거나 자극이 발생할 수 있으며, 장기간 노출되면, 일광 화상, 조기 피부 노화, 모발 손상, 눈의 손상(백내장 포함) 및 흑색종 및 기타 피부암을 유발할 수 있다. 따라서, 너무 많은 UV-A 및 UV-B 방사선으로부터의 보호는 퍼스널 케어(personal care)의 중요한 부분이다.
UV 방사선으로부터의 보호에 있어서 많은 UV-B 선스크린이 알려져 있고 안전한 사용에 대해 승인을 받았지만, UV-A 방사선과 UV-B 방사선 둘 다로부터 보호할 수 있는 광범위 스펙트럼의 선 케어 제품을 개발하는 것을 목표로 하여, UVA 방사선으로부터 보호할 수 있는 새로운 방법에 대한 연구가, 이 분야에서 중요한 시도로 부상하였다. 일광 차단 지수(Sun Protection Factor; SPF) 및 UVA 차단 지수(Protection Factor in UVA; PFA)는 광보호 조성물의 일반적으로 측정되는 속성이며, 이것은 UV-B 및 UV-A 방사선 둘 다에의 노출로부터 피부가 얻는 각각의 보호를 나타낸다.
산화아연은 전세계적으로 승인된 선스크린 활성 성분이며, 비활성이고, 민감한 피부를 갖는 소비자에게 알레르기 또는 자극을 유발하지 않기 때문에 선 케어 제제에 광범위하게 사용되었다. 산화아연은 주로 UVA 흡수 때문에 UVA 선스크린 성분으로 승인되었다. 연구에 따르면, 미세 ZnO는 생체내 지속 색소 침착법(persistent pigment darkening method)으로 측정한 PFA 값에 의해 나타내어지는 바와 같이 만족스러운 UVA 보호를 제공할 수 있는 것으로 나타났다. 그러나, ZnO는 약한 UVB 보호만을 제공할 수 있다(D. Schlossman and Y. Shao, "Inorganic Ultraviolet Filters" in Sunscreens: Regulations and Commercial Development, 3rd Ed. by N Shaath, Taylor & Francis, March 2005). 특히, ZnO의 1차 크기가, 예컨대 비나노 범위(D50 > 100 nm)와 같이 커질 경우, UVA 및 UVB 영역 둘 다에서의 보호 효과가 나노-ZnO 대응물보다 효과가 뒤떨어지게 된다. 따라서, 광범위 스펙트럼 보호 기능을 갖춘 SPF 30 이상의 성능 요건을 충족시키기 위해, ZnO는 종종 다른 유기 선스크린 및/또는 이산화티탄과 함께 사용된다.
비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진(BEMT)은 선스크린 제제의 UVA 차단용으로 상표명 Tinosorb® S로 BASF(이전의 Ciba)에 의해 제조된다. 그러나, BASF 연구자들에 의한 연구(Uli Osterwalder, et al., How to Fulfill the new UVA Protection Standards, In-Cosmetics, Paris, 17-19 April 2007)에서, BEMT의 성능은 다음과 같이 특별할 것이 없는 것으로 확인되었다:
활성 성분: BEMT 4%
SPF 생체내 = 7.3±1.2
UVA-PF 생체내 = 7.6±2.2
따라서, BEMT와 산화아연이 둘 다 선케어 제품에서 선스크린 활성 성분으로서 사용되었음에도 불구하고, 특히, ZnO의 크기가 클 경우, 이 두 가지의 일반적으로 유용한 선스크린 성분들을 유용한 제제로 가장 잘 이용하는 방법은 여전히 도전 과제로 남아 있다.
본 발명은 UVA 및 UVB 방사선 둘 다에 대한 보호에서 BEMT와 비나노 ZnO 사이의 시너지 효과의 놀라운 발견에 기초한다. BEMT의 사용 수준이 2 중량% 이하인 경우, 이 조합은 광범위 스펙트럼과 높은 UV 차단 기능을 제공한다. 특히, 본 발명은, 비나노 ZnO의 수준을 25 중량% 이하로 하여, 메디안 1차 입자 크기가 100 nm를 넘는 비나노 ZnO와 함께 BEMT를 사용하는 것을 제공한다.
따라서, 한 측면에서, 본 발명은 비나노 ZnO 및 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진, 및 경우에 따라 다른 유기 또는 무기 UV 필터를 포함하는 선스크린 조성물을 제공한다.
또 다른 측면에서, 본 발명의 조성물은 본원에 개시된 바와 같은 임의의 실시형태에 따른 선스크린 조성물 또는 이들의 조합을 포함하는 미용 또는 퍼스널 케어 제제를 제공한다.
또 다른 측면에서, 본 발명의 조성물은 본원에 개시된 바와 같은 임의의 실시형태에 따른 선스크린 조성물 또는 이들의 조합을 포함하는 물품을 제공한다.
본 발명의 다른 측면 또는 이점들은 후술하는 상세한 설명 및 청구범위에서 보다 잘 이해될 것이다.
큰 입자 크기의 ZnO는 대개 덜 효과적인 UV 차단을 제공한다는 종래의 믿음과는 달리, 비나노 ZnO가 BMET와 조합될 때 시너지 효과가 존재한다는 것이 발견되었다. 본 발명의 선스크린 조성물은 ZnO, 특히 100 nm를 넘는 메디안 1차 입자를 갖는 비나노 ZnO 및 BEMT를 함유한다.
ZnO와 BEMT 간의 높은 시너지는 놀랍게도 비나노 ZnO가 25 wt% 이하의 수준으로 사용되고 BEMT가 2 wt% 이하의 수준으로 사용될 때 발견되었다. 상기에 언급한 문헌에 보고된 성능 데이터에 따르면, 계산된 SPF 및 PFA가 단지 각각 15 미만 및 8 미만으로 예상된다. 이러한 SPF를 갖는 선스크린 제품은 포장에 경고 라벨이 부착되어야 해서, 시장성에 영향을 미칠 수 있다. 현저히 대조적으로, 본 발명의 비나노 ZnO와 BEMT의 조합은 SPF 및 PFA 값이 각각 35 초과 및 25 초과인 것으로 테스트되었다.
따라서, 한 측면에서, 본 발명은 선스크린 조성물을 제조하기 위해 ZnO와 BEMT의 조합을 적용하는 것에 관한 것이다.
한 측면에서, 본 발명은 UV 차단에서 시너지 효과가 얻어지는 비로 비나노 ZnO와 BEMT를 포함하는 선스크린 조성물을 제공한다.
일 실시형태에서, 시너지 효과는, 생체내에서 측정할 때, 2개의 개별 성분들의 값을 기초로 상응하는 수학적으로 계산된 일광 차단 지수(SPF) 및/또는 UVA 차단 지수(PFA) 값(들)과 비교하여 증가된 SPF 값, 증가된 PFA 값, 또는 둘 다에 의해 나타내어진다.
몇몇 실시형태에서, 증가된 SPF 값은 적어도 15, 적어도 16, 적어도 18, 적어도 20이다. 몇몇 실시형태에서, SPF 값은 적어도 25, 적어도 30, 또는 적어도 35이다.
몇몇 실시형태에서, 증가된 PFA 값은 적어도 8, 적어도 10, 적어도 12, 또는 적어도 15이다. 몇몇 실시형태에서, PFA 값은 적어도 18, 적어도 20, 적어도 22, 또는 적어도 24이다.
당업자는 본 개시에 기초하여 SPF 값과 PFA 값의 원하는 조합을 얻기 위해 비나노 ZnO와 BMET의 양 및 비를 조정할 수 있을 것이다.
일 실시형태에서, ZnO는 메디안 1차 입자 크기가 약 20∼300 nm 범위이다.
또 다른 실시형태에서, ZnO는 메디안 1차 입자 크기가 약 20∼100 nm 범위이다.
또 다른 실시형태에서, ZnO는 메디안 1차 입자 크기는 약 100 nm 이상("비나노 ZnO")이다.
또 다른 실시형태에서, ZnO는 메디안 1차 입자 크기가 약 100∼300 nm 범위이다.
또 다른 실시형태에서, ZnO는 메디안 1차 입자 크기가 약 100∼200 nm 범위이다.
또 다른 실시형태에서, ZnO는 메디안 1차 입자 크기가 약 200∼300 nm 범위이다.
일 실시형태에서, ZnO는 코팅되지 않는다.
또 다른 실시형태에서, ZnO는 상이한 산화물 화합물로 코팅된다.
또 다른 실시형태에서, 상기 상이한 산화물 화합물은 실리카이다.
또 다른 실시형태에서, ZnO는 실란, 실리콘, 유기 티타네이트, 지방산, 금속 비누, 폴리올, 디메티콘, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 유기 물질로 추가로 코팅된다.
또 다른 실시형태에서, ZnO 함량은 약 25 중량% 이하의 수준이다.
또 다른 실시형태에서, ZnO 함량은 약 0.1 중량% 내지 약 25 중량% 범위의 수준이다.
또 다른 실시형태에서, ZnO 함량은 약 1 중량% 내지 약 20 중량% 범위의 수준이다.
또 다른 실시형태에서, ZnO 함량은 약 2 중량% 내지 약 15 중량% 범위의 수준이다.
또 다른 실시형태에서, ZnO 함량은 약 3 중량% 내지 약 10 중량% 범위의 수준이다.
또 다른 실시형태에서, 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진(BEMT) 함량은 약 2 중량% 이하의 수준이다.
또 다른 실시형태에서, BEMT 함량은 약 0.1 중량% 내지 약 2 중량% 범위의 수준이다.
또 다른 실시형태에서, BEMT 함량은 약 0.2 중량% 내지 약 1.8 중량% 범위의 수준이다.
또 다른 실시형태에서, BEMT 함량은 약 0.3 중량% 내지 약 1.6 중량% 범위의 수준이다.
또 다른 실시형태에서, BEMT 함량은 약 0.5 중량% 내지 약 1.5 중량% 범위의 수준이다.
또 다른 실시형태에서, 선스크린 조성물은 피부, 모발 또는 네일 케어에 착색되지 않는다.
또 다른 실시형태에서, 선스크린 조성물은 파운데이션, 립스틱, 네일 폴리시, 및 프레스드 파우더 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 색조 화장품이다.
또 다른 실시형태에서, 선스크린 조성물은 추가적인 유기 또는 무기 UV 필터를 더 포함한다.
몇몇 실시형태에서, 선스크린 조성물은 선리스 태닝제, 항미생물제, 탈색소제, 노화 방지제, 항진균제, 방충제, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 국소 활성제를 더 포함한다.
또 다른 측면에서, 본 발명은 실질적으로 표 1에 기재되고 제시된 바와 같은, 특히 일 실시형태의 선스크린 조성물을 제공한다.
또 다른 측면에서, 본 발명의 조성물은 본원에 개시된 바와 같은 임의의 실시형태에 따른 선스크린 조성물 또는 이들의 조합을 포함하는 미용 또는 퍼스널 케어 제제를 제공한다.
또 다른 측면에서, 본 발명의 조성물은 본원에 개시된 바와 같은 임의의 실시형태에 따른 선스크린 조성물 또는 이들의 조합을 포함하는 물품을 제공한다. 상기 물품은, 임의의 형상, 스타일 또는 색상일 수 있고 선스크린 조성물을 포함하기에 적합한 임의의 재료로 제조될 수 있는 튜브, 바틀, 케이스, 박스, 백, 분무 장치 등을 들 수 있으나 이들에 한정되지 않는 선스크린 조성물의 용기의 형태로 존재할 수 있다.
또 다른 측면에서, 본 발명의 조성물은 본원에 개시된 바와 같은 임의의 실시형태에 따른 선스크린 조성물 또는 이들의 조합의 적용예를 제공한다.
또 다른 측면에서, 본 발명은 15보다 높은 SPF를 얻기 위한 본 발명의 제1 측면의 조성물을 제공한다. SPF는 바람직하게는 20보다 높고, 더 바람직하게는 25보다 높으며, 더욱 더 바람직하게는 30보다 높다. 실시예의 표 1에서 조제된 조성물은 38의 높은 SPF 값을 제공하였다.
따라서, 본 발명은 비교적 적은 양의 선스크린 화합물 및 저비용의 재료를 포함하는 고 SPF 선스크린 조성물을 제공하여, 저비용으로 전체 이익을 달성한다.
본 발명의 선스크린 제제는, 당업자가 이해하고 있는 바와 같이, 비나노 ZnO와 BEMT 간의 시너지가 유지되는 한 1종 이상의 다른 유기 또는 무기 UV 필터를 함유할 수 있다.
무기 UV 필터는, 이산화티탄(TiO2), 철 산화물(예를 들어, Fe2O3), 및 실리카 등을 포함할 수 있으나, 이들에 한정되지 않는다.
벤조페논, 예를 들어, 벤조페논-3(BP3) 및 벤조페논-4(BP4); 살리실레이트, 예를 들어, 호모살레이트(HMS), 2-에틸헥실 살리실레이트(EHS); p-아미노벤조산(PABA) 및 유도체, 예를 들어, 에틸헥실 디메틸 PABA(OD-PABA), 4-p-아미노벤조산(PABA); 벤즈이미다졸 유도체, 예를 들어, 페닐벤즈이미다졸 설폰산(PMDSA), 이나트륨 페닐 디벤즈이미다졸 테트라설포네이트(비스디설리졸 이나트륨); 트리아진, 예를 들어, 에틸헥실트리아존(OT), 디에틸헥실 부타미도 트리아존(DBT), 벤조트리아졸, 드로메트리졸 트리실록산(DRT), 메틸렌 비스-벤조트리아졸릴 테트라메틸부틸페노(비스코트리졸)(MBP); 디벤조일 메탄 유도체, 예를 들어, 부틸 메톡시디벤조일메탄(BM-DBM); 신나메이트, 예를 들어, 에틸헥실 메톡시신나메이트(OMC), 이소아밀 p-메톡시신나메이트(IMC); 및 캄퍼 유도체, 예를 들어, 테레프탈리덴 디캄퍼 설폰산(PDSA), 3-벤질리덴 캄퍼(3BC), 벤질리덴 캄퍼 설폰산(BCSA), 4-메틸벤질리덴 캄퍼(4-MBC), 폴리아크릴아미도메틸 벤질리덴 캄퍼(PBC), 및 캄퍼 벤잘코늄 메토설페이트(CBM)를 들 수 있으나 이들에 한정되지 않는 다수의 유기 UV 필터가 화장품 분야에 보고되어 있다.
유기 UV 필터 중에는, 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 2-메틸디벤조일메탄, 4-메틸디벤조일에탄, 4-이소프로필디벤조일메탄, 4-tert-부틸디벤조일메탄, 2,4-디메틸디벤조일메탄, 2,5-디메틸디벤조일메탄, 4,4'-디이소프로필디벤조일메탄, 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄, 2-메틸-5-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 2,6-디메틸-4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄 등을 들 수 있으나 이들에 한정되지 않는 특히 유용한 디벤조일메탄류의 화합물이 존재한다.
본 발명에서는 원하는 UV 차단 효과를 보다 향상시키거나 조정하기 위해 상기 유기 UV 필터 등을 모두 사용할 수 있다.
선스크린 제제는 또한 당업자에게 일반적으로 공지되어 있고 퍼스널 케어 및 화장품 산업에 의해 허용되는 것과 같은, 다양한 다른 성분들, 예를 들어 미용적으로 허용되는 베이스, 계면활성제, 희석제 및 다양한 다른 임의적인 성분 등을 포함할 수 있다. 예를 들어, WO 96/41614, US 2013/0266527, 및 US 9,649,263을 참조할 수 있으며, 이들은 모두 그 전체가 참조에 의해 본원에 포함된다.
몇몇 바람직한 실시형태에서, 본 발명의 선스크린 제제는 표 1에 기재된 성분들, 또는 이들의 기능적 동등물 및/또는 변형물을 포함한다.
한정하려는 의도는 아니지만, 본 발명의 선스크린 제제는 바람직하게는 사용되는 베이스에 따라 크림, 로션, 겔 또는 에멀션의 형태로 제조될 수 있다. 조성물의 바람직한 고체 형태는 크림 또는 로션이다. 크림은 전형적으로 25℃에서 거꾸로 뒤집을 때 용기로부터 흘러 나오지 않는 조성물로서 정의된다. 반면 로션은 25℃에서 거꾸로 뒤집을 때 용기로부터 흘러 나오는 조성물이다(예를 들어, 문헌[Brummer, R.; Rheology Essentials of Cosmetic and Food Emulsions, Springer-Verlag Berline Heidelberg, 81-83 (2006)] 참조).
본 발명의 선스크린 조성물은 다양한 다른 임의적인 성분들, 예를 들어, 항산화제, 결합제, 생물학적 첨가제, 완충제, 착색제, 증점제, 중합체, 수렴제, 향료, 습윤제, 투명화제, 컨디셔너, 박리제, pH 조절제, 방부제, 천연 추출물, 에센셜 오일, 피부 센세이트(sensate), 피부 수딩제, 피부 힐링제 등을 함유할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 조성물에 사용하기에 적합한 피부 케어 산업에 통상적으로 사용되는 다양한 비한정적인 미용 및 약학 성분들을 기재하는 문헌[The CTFA Cosmetic Ingredient Handbook, Second Edition, 1992]을 참조할 수 있다.
본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "비나노(non-nano) ZnO"는 ZnO의 메디안 1차 입자 크기가 100 nm보다 큰 것을 의미한다. 입자 크기는 투과 전자 현미경 검사 또는 주사 전자 현미경 검사를 이용하여 얻은 사진의 입자를 측정하여 계산한다. 해당되는 경우 가장 짧은 치수의 수 가중 분포가 크기 분석 및 이 출원에서의 고찰에 이용된다.
본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "약"은 수가 ±20% 이하, 바람직하게는 ±10% 이내, 더 바람직하게는 ±5% 이내에서 변동할 수 있음을 의미한다. "약"이 범위 앞에서 사용될 경우, 이것은 그 범위의 상한과 하한 둘 다에 적용된다.
본 명세서에 사용된 용어 "하나", "일" 또는 "그"는 단수 및 복수 형태 모두를 나타낸다. 일반적으로, 단수형 또는 복수형의 명사가 사용된다면, 그것은 그 명사의 단수형과 복수형 둘 다를 나타낸다.
다음의 비한정적인 실시예는 본 발명의 특정 측면을 추가로 예시한다.
실시예
놀랍게도, 7.15%의 비나노 ZnO 및 1.4%의 BEMT를 함유하는 표 1의 예시된 배합예는 생체내에서 테스트할 때 SPF 38.89(표 2), PFA 25.27 및 임계 파장 377 nm(표 3)를 나타내었다. 이러한 선스크린 제제는 높은 SPF 30+, 즉, FDA와 코스메틱 유럽 규정 둘 다에 따른 광범위 스펙트럼 UV 차단 및 일본 규정에 따른 ++++ UVA 차단 등급을 갖는다.
Figure pct00001
활성 성분: BEMT: 1.4%; ZnO: 7.15%
절차:
1. 파트 1과 2를 합하여 80℃로 가열한다.
2. 파트 3 성분들을 합하여 슬러리로 만들고, 혼합하면서 파트 1 및 2에 첨가한다.
3. 파트 4의 성분들을 합하여 80℃로 가열한다.
4. 파트 1∼3의 혼합물과 파트 4의 혼합물을 균질화하면서 합한다.
5. 50℃로 냉각시키고 파트 5를 파트 1∼4의 혼합물에 첨가한다.
테스트 결과의 요약:
Figure pct00002
Figure pct00003
전술한 실시예 또는 바람직한 실시형태는 설명의 목적으로 제공된 것으로 본 발명을 제한하려는 것이 아니다. 전술한 특징들의 다양한 변형 및 조합이 청구범위에 기재된 본 발명으로부터 벗어나지 않고 이용될 수 있다. 인용된 모든 문헌들은 모든 목적을 위해 그 전체가 참조에 의해 포함된다.

Claims (30)

  1. UV 차단에서 시너지 효과가 얻어지는 비로 비나노 ZnO 및 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진(BEMT)을 포함하는 선스크린 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 시너지 효과는, 상응하는 수학적으로 계산된 일광 차단 지수(SPF) 및/또는 UVA 차단 지수(PFA) 값(들)에 비해 증가된 SPF 값, 증가된 PFA 값, 또는 둘 다를 포함하는 것인 선스크린 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 15 이상의 SPF 값 또는 8 이상의 PFA 값, 또는 둘 다를 갖는 선스크린 조성물.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 16 이상의 SPF 값 또는 10 이상의 PFA 값, 또는 둘 다를 갖는 선스크린 조성물.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 20 이상의 SPF 값 또는 12 이상의 PFA 값, 또는 둘 다를 갖는 선스크린 조성물.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 25 이상의 SPF 값 또는 15 이상의 PFA 값, 또는 둘 다를 갖는 선스크린 조성물.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비나노 ZnO가 약 100 nm∼약 300 nm의 메디안 1차 입자 크기를 갖는 것인 선스크린 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비나노 ZnO가 100 nm 이하의 입자 크기를 갖는 입자를 1.5% 미만으로 갖는 것인 선스크린 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비나노 ZnO가 코팅되지 않은 것인 선스크린 조성물.
  10. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비나노 ZnO가 상이한 산화물 화합물로 코팅되는 것인 선스크린 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 상기 상이한 산화물 화합물이 실리카인 선스크린 조성물.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비나노 ZnO가 실란, 실리콘, 유기 티타네이트, 지방산, 금속 비누, 폴리올, 디메티콘, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 유기 물질로 추가로 코팅되는 것인 선스크린 조성물.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 비나노 ZnO를 약 0.1 중량% 내지 약 25 중량%의 수준으로 포함하는 것인 선스크린 조성물.
  14. 제13항에 있어서, 상기 비나노 ZnO가 약 1 중량% 내지 약 20 중량%의 수준으로 존재하는 것인 선스크린 조성물.
  15. 제13항에 있어서, 상기 비나노 ZnO가 약 2 중량% 내지 약 15 중량%의 수준으로 존재하는 것인 선스크린 조성물.
  16. 제13항에 있어서, 상기 비나노 ZnO가 약 3 중량% 내지 약 10 중량%의 수준으로 존재하는 것인 선스크린 조성물.
  17. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진(BEMT)을 약 0.1 중량% 내지 약 2 중량%의 수준으로 포함하는 것인 선스크린 조성물.
  18. 제13항에 있어서, 상기 BEMT가 약 0.2 중량% 내지 1.8 중량%의 수준으로 존재하는 것인 선스크린 조성물.
  19. 제13항에 있어서, 상기 BEMT가 약 0.5 중량% 내지 1.5 중량%의 수준으로 존재하는 것인 선스크린 조성물.
  20. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 피부, 모발 또는 네일 케어에 착색되지 않는 것인 선스크린 조성물.
  21. 제1항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서, 로션 또는 크림인 선스크린 조성물.
  22. 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 파운데이션, 립스틱, 네일 폴리시, 및 프레스드 파우더로 이루어진 군으로부터 선택되는 색조 화장품인 선스크린 조성물.
  23. 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서, 추가적인 유기 또는 무기 UV 필터를 더 포함하는 선스크린 조성물.
  24. 제23항에 있어서, 상기 무기 UV 필터가 이산화티탄, 철 산화물, 및 실리카인 선스크린 조성물.
  25. 제23항에 있어서, 상기 유기 UV 필터가 벤조페논, 예를 들어, 벤조페논-3(BP3) 및 벤조페논-4(BP4); 살리실레이트, 예를 들어, 호모살레이트(HMS), 2-에틸헥실 살리실레이트(EHS); p-아미노벤조산(PABA) 및 유도체, 예를 들어, 에틸헥실 디메틸 PABA(OD-PABA), 4-p-아미노벤조산(PABA); 벤즈이미다졸 유도체, 예를 들어, 페닐벤즈이미다졸 설폰산(PMDSA), 이나트륨 페닐 디벤즈이미다졸 테트라설포네이트(비스디설리졸 이나트륨); 트리아진, 예를 들어, 에틸헥실트리아존(OT), 디에틸헥실 부타미도 트리아존(DBT), 벤조트리아졸, 드로메트리졸 트리실록산(DRT), 메틸렌 비스-벤조트리아졸릴 테트라메틸부틸페노(비스코트리졸)(MBP); 디벤조일 메탄 유도체, 예를 들어, 부틸 메톡시디벤조일 메탄(BM-DBM); 신나메이트, 예를 들어, 에틸헥실 메톡시신나메이트(OMC), 이소아밀 p-메톡시신나메이트(IMC); 및 캄퍼 유도체, 예를 들어, 테레프탈리덴 디캄퍼 설폰산(PDSA), 3-벤질리덴 캄퍼(3BC), 벤질리덴 캄퍼 설폰산(BCSA), 4-메틸벤질리덴 캄퍼(4-MBC), 폴리아크릴아미도메틸 벤질리덴 캄퍼(PBC), 및 캄퍼 벤잘코늄 메토설페이트(CBM)로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 선스크린 조성물.
  26. 제23항에 있어서, 상기 유기 UV 필터가 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 2-메틸디벤조일메탄, 4-메틸디벤조일에탄, 4-이소프로필디벤조일메탄, 4-tert-부틸디벤조일메탄, 2,4-디메틸디벤조일메탄, 2,5-디메틸디벤조일메탄, 4,4'-디이소프로필디벤조일메탄, 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄, 2-메틸-5-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 및 2,6-디메틸-4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 디벤조일 메탄 유도체인 선스크린 조성물.
  27. 제1항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 선리스 태닝제, 항미생물제, 탈색소제, 노화 방지제, 항진균제, 방충제, 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 국소 활성제를 더 포함하는 선스크린 조성물.
  28. 제1항에 있어서, 실질적으로 표 1에 기재되고 제시된 바와 같은 선스크린 조성물.
  29. 제1항 또는 제28항의 선스크린 조성물을 포함하는 미용 또는 퍼스널 케어 제제.
  30. 제1항 또는 제28항의 선스크린 조성물을 포함하는 물품.
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