KR20150004819A - 표면에 상응하는 부속체 장착가능한 전자 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
도 2는 탄성 중합체 손가락-튜브의 내표면 상에 신축성 메쉬 형상의 전기촉각 자극기의 다중 배열을 제조하기 위한 공정이다. (a) 모델의 손의 손가락에 탄성 중합체 전구체를 주조하고 치료하는 것은 박막형((~500 ㎛ 두께), 폐쇄형 멤브레인, 즉 손가락-튜브를 산출하고; (b) PDMS 스탬프(여기서, 유리 현미경 슬라이드)는 평평한 형상으로 압축되는 동안, 손가락-튜브의 외부 표면에 전기 촉각 장치를 전달하고; (c) 프리 스탠딩(freestanding) 손가락-튜브의 외측에 전기 촉각 장치이고; (d) 상기 뒤집기 과정의 중간 지점에서 보여지듯, 밖에서 내부로 튜브를 회전하거나 뒤집는 것은 손가락-튜브의 내표면에 어레이를 재배치하여, 이전 외표면은 내표면이되고, 이전 내표면은 외표면이 된다.
도 3은 Si NM 다이오드와 다중화된 전기 촉각 자극의 어레이에 “뒤집기” 공정 및 적용의 역학 모델링을 나타낸다. (a) 튜브의 반경(Rradial = 7.5 mm) 및 최소 벤딩 반경(Raxial) 사이 선형 관계를 보여주며, 내측에서 밖으로 튜브 뒤집기와 관련되어 구부러지는 동안 에코 플랙스(Ecoflex) 손가락-튜브의 산출된(분석 및 FEM) 프로파일(profiles)이고; (b) FEMsms 상기 공정 동안 내표면 및 외표면 상에 최대 변형이 일어나고; (c) (뒤집기 후) PIN Si NM 다이오드의 확대된 다이어그램(우측 상단) 및 이미지(우측 하단)을 포함하는 구부러진 형태의 메쉬 접속부를 갖는 다중화된 전기 촉각 어레이의 개략도이고; (d) 빨간 점선으로 나타낸 NMP의 위치를 포함하는 장치의 두 개의 영역의 개략적인 단면도이고, 뒤집기 공정 동안 최대 변형에 대한 분석적인 결과이고; (e) 뒤집기 전 후의 Si NM 다이오드의 I-V특성이고; (f) Si NM의 두께의 함수로서 Si NM 다이오드 및 hNMP(중성역학층 및 Si NM의 하부면 사이)의 최대 변형이다.
도4는 2 x 3, 손가락 튜브 상에서 다중화된 전기 촉각 어레이의 기계적 및 전자적 특성을 나타낸다. (a) 자극 주파수의 함수로서 전기 촉각 감각을 위해 필요한 전압. 삽입: 실험 동안 인간의 손가락에서 전기 촉각 배열이고; (b) 인간 엄지 손가락과 접촉하는 다중화된 전기 촉각 전극의 I-V특성이고; (c) 다이오드 다중화 방식의 회로도이고; (d) 6개의 채널(H = High; L = Low) 각각을 어드레싱(addressing) 하기 위한 입력을 보여주는 함수표 이다.
도 5는 신축성 Si NM 변형 게이지의 어레이를 갖는 손가락 동작 검출을 나타낸다. (a) FEM은 세로 (y)방향을 따라 인가되는 전체 10% 변형에 의하여 게이지(구부러진 모양의 접속부 메쉬의 상단에 직선, 수직 구조)의 1 x 4어레이를 위한 최대 원리 변형의 결과가 일어난다. 상단 삽입은 노란 점선 박스(box)에 의해 강조된 게이지의 변형을 나타낸다. 하단 삽입은 FEM 결과들에 부합하는 레이아웃(layout)을 갖는 제작된 장치의 이미지를 제공한다; (b) 세로 방향을 따라 인가된 변형의 함수로 상대적인 Si NM 변형 게이지을 위한 레지스턴스의 실험적으로 측정되고 분석적으로 산출된 변화이고; (c) 직선 위치(I) 및 굽은 위치(II)에서 엄지손가락에 장착된 손가락-튜브상에 변형 게이지 어레이의 이미지이고; (d) 세 개의 굽은 사이클(검정) 및 좌우 이동(빨강)동안 상대적인 게이지 중 저항의 변화이고; (e) 직선 위치(III) 및 옆의 편향된 위치(IV)에서 엄지손가락의 중수골 부분에 적측된 박막형, 탄성중합체 시트 상에 변형 게이지의 이미지이고; (f) 좌우 이동의 세 주기동안 어레이의 두 단부에서 게이지의 레지스턴스의 변화이다.
도 6은 집적 커패시턴스 센서를 갖는 촉각 감지를 나타낸다. (a) 2 x 3 어레이 센서(전기 촉각 전극)용 내부 전극; (c) 동일 어레이용 외부 전극; (d) 인가된 압력 및 인장 변형을 갖는 단일 센서에서 커패시턴스의 측정되고, 분석적으로 산출된 변화를 나타낸다.
도 7은 기본 제조 공정의 개략도이다. (a) Si 기판이고; (b) 스핀 코트 희생 PMMA이고; (c) 스핀 코트 폴리이미드 (PI) 전구체/ 불활성화 분위기에서 205 ℃ 베이크(bake)이고; (d) Au 증착/패턴닝이고; (e) 스핀 코트 PI 전구체/ 불활성 분위기에서 205 ℃ 베이크이고; (f) Au 전극을 노출하고, PI 메쉬 구조를 형성하는 O2 RIE이고; (g) PDMS 스탬프의 아세톤/적용에서 PMMA 언더컷(undercut)이고; (h) PDMA 스탬프로 전달되는 장치이고; (i) 장치 후방에서 증발되는 Cr/SiO2이고; (j) UV가 노출된 에코플렉스(Ecoflex) 상에 가압되는 PDMS 스탬프이고; (k) PDMS 스탬프 제거와 함께 완료된 전사을 나타낸다.
도 8은 플라스틱 손 모델의 뒤집어진 탄성 중합체 에코플렉스 튜브의 개략도이다.
도 9는 탄성 중합체 기판의 내표면 상에 기능성 전자장치의 어레이에 대한 개략도이다.
도 10은 실리콘 전사 프린팅의 개략도이다. (a) SOI(silicon on insulator) 기판이고; (b) Si 층에서 RIE 식각 릴리스 홀(etch release holes)(3 ㎛)이고; (c) Si 층을 릴리스하기 위한 SiO2의 습식 식각(BOE(buffered oxide etch))이고; (d) Si와 접촉하여 가압되는 PDMS 스탬프; (e) 제거 시 PDMS 스탬프로 Si 전사를 나타내고; (f) PI층에 가압되는 전사된 Si를 갖는 PDMS 스탬프이고; (g) 150℃ 에서 4분 동안 가열 후, 스탬프 제거 시에 장치로 전사된 Si를 나타낸다.
도 11은 전기촉각 자극기의 제조 공정을 나타내는 개략도이다. (a) 실리콘 기판이고; (b) 스핀 코트 100nm 희생 PMMA; (c) 스핀 코트/250℃ 베이크 1.2 ㎛ 폴리이미드; (d) PIN 다이오드을 갖는 Si 층의 전사(릴리스 홀은 미도시); (e) Si 나노멤브레인PIN다이오드 및 Au 증착/패터닝의 RIE 격리; (f) 스핀 코트/250℃ 베이크 1.2 ㎛ 폴리이미드; (g) O2 RIE와 PI에 형성된 다이오드를 위한 접촉 바이어스; (h) Au 증착/패터닝; (i) 스핀 코트/ 250℃ 베이크 1.2㎛ 폴리이미드; (j) 폴리이미드 메쉬 구조를 형성하고 전기 촉각 전극을 노출하는O2 RIE을 나타낸다.
도 12는 변형 게이지를 위한 제조 공정을 나타내는 개략도이다. (a) 실리콘 기판; (b) 스핀 코트 100nm 희생 PMMA; (c) 스핀 코트/250℃ 베이크 1.2 ㎛ 폴리이미드; (d) p-도핑된 Si (릴리스 홀은 미도시)의 전사; (e) Si 변형 게이지 나노막의 RIE 격리; (f) Au 증착/패턴닝; (g) 스핀 코트/250℃ 베이크 1.2 ㎛ 폴리이미드; (h) 폴리이미드 메쉬 구조를 형성하는O2 RIE이다.
도 13은 촉각 전긱을 위한 제조 공정을 나타내는 개략도이다. (a) 실리콘 기판; (b) 스핀 코트 100nm 희생 PMMA; (c) 스핀 코트/250℃ 베이크 1.2㎛ 폴리이미드; (f) 폴리이미드 메쉬 구조를 형성하기 위한 O2 RIE를 나타낸다.
도 14A내지 도14C는 본 발명의 부속체 장착 전자 시스템의 다양한 도면이다.
도 15는 부속체를 수용하고, 외부면과 상호작용하는 본 발명의 부속체 장착 전자 시스템의 도면이다.
도 16은 기판의 내표면(30)상에서 지지되는 전자장치를 포함하는 시스템을 나타낸다.
도 17은 본 발명의 부속체 장착 전자 시스템을 위한 방법을 나타낸다.
도 18은 본 발명의 어느 시스템을 형성하기 위한 일 실시예의 공정 흐름도를 나타낸다.
도 19는 내부 및 외부 기판 표면 둘 다에 커패시턴스 기반의 촉각 센서의 개략도이다.
도 20은 물체 표면에 대하여 기판을 주조함으로써 본 발명의 어떤 시스템을 형성하기 위한 일 실시예의 공정 흐름도를 나타낸다.
Claims (149)
- 내표면 및 외표면을 갖는 가요성 또는 신축성 기판이되, 상기 내표면은 곡면을 갖는 부속체를 수용할 수 있는 봉합부(enclosure)를 한정하는 것을 특징으로 하는 기판; 및
상기 가요성 또는 신축성 기판의 상기 내표면 또는 상기 외표면에 의해 지지되는 하나 이상의 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두를 포함하는 가요성 또는 신축성 전자 장치이되, 상기 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두가 하나 이상의 무기 반도체 소자, 하나 이상의 금속 소자, 또는 하나 이상의 무기 반도체 소자 및 하나 이상의 금속 소자를 포함하고, 여기서 상기 무기 반도체 소자, 금속 소자 또는 두 가지 모두의 적어도 일부는 500 마이크론 이하의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 전자장치를 포함하고;
여기서 상기 가용성 또는 신축성 기판 및 상기 전자장치는 상기 기판의 상기 내표면이 상기 봉합부 내에 제공된 상기 부속체의 표면과 등각 접촉을 성립할 수 있도록 충분히 낮은 순굽힘강성을 갖는 것을 특징으로 하는,
부속체에 장착가능한 전자 시스템. - 제 1항에 있어서,
상기 부속체는 손, 손가락, 손가락 끝, 두개골, 코, 귀, 치아, 발, 발가락, 다리, 팔, 몸통, 또는 이들 중에 어느 부분인 것을 특징으로 하는 시스템. - 제 1항에 있어서,
손을 감싸는 기계화된 장갑 또는 손가락 또는 손가락 끝을 감싸는 기계화된 손가락-튜브를 포함하는 시스템. - 제 3항에 있어서,
상기 기계화된 장갑은 수술용 의료장갑인 것을 특징으로 하는 시스템. - 제 1항에 있어서,
인간-기계 인터페이스 시스템을 포함하는 시스템. - 제 1항에 있어서,
로보트적 작동을 위한 장치를 포함하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가요성 또는 신축성 기판 및 상기 전자장치는 1 x 108 GPa μm4 이하의 시스템의 순굽힘강성을 제공하는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 장치의 상기 순굽힘강성은 기판의 내표면에 의해 지지되는 하나 이상의 센서, 액츄에이터 또는 두 가지 모두가 상기 봉합부 내에 제공된 상기 부속체의 상기 표면과 등각접촉을 성립할 수 있을 정도로 충분히 낮은 것을 특징으로 하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가요성 또는 신축성 기판 및 상기 전자장치는 1 x 10-4 Nm 이하의 상기 시스템의 순굴곡강성을 제공하는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판은 가요성 기판이고 상기 전자장치는 가요성 전자장치인 것을 특징으로 하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기판은 신축성 기판이고 상기 전자장치는 신축성 전자장치인 것을 특징으로 하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 시스템은 중성역학층(neutral mechanical plane)인 것을 특징으로 하고, 하나 이상의 무기 반도체 소자 또는 하나 이상의 금속 소자 또는 두 가지 모두의 적어도 일부분이 중성역학층에 인접하게 위치하는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전자장치는 2 내지 1000 개의 상기 하나 이상의 센서, 액츄에이터 또는 두 가지 모두를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전자 장치는 적어도 3개 이상의 상이한 종류의 상기 하나 이상의 센서, 액츄에이터 또는 두 가지 모두를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 센서, 액츄에이터 또는 두 가지 모두가 개방형 메쉬(open mesh) 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 센서, 액츄에이터 또는 두 가지 모두가 0.5 cm2 내지 100 cm2 범위에서 선택된 족적 표면적(footprint surface area)를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전자장치는 전극, 촉각 센서, 변형 게이지(strain gauge), 커패시턴스 센서, 온도 센서, 압력 센서, 동작 센서, 위치 센서, 변위 센서, 가속도 센서, 힘 센서, 화학 센서, pH 센서, 커패시티브 센서, 광 센서, 광 검출기, 촬상 시스템 및 이들의 임의의 어레이 및 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전자 소자는 전기촉각 자극기, 전극, 열원, 압전 소자, 음향 소자, RF 에너지원, 자기 액츄에이터, 전자기 방사원, 레이저, 발광 다이오드와 어레이 및 이들의 임의의 어레이 및 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 액츄에이터를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 센서, 액츄에이터 또는 두 가지 모두의 적어도 일부분이 상기 가요성 또는 신축성 기판의 내표면에 의해 지지되고, 상기 센서, 액츄에이터 또는 두 가지 모두의 적어도 일부분이 상기 가용성 또는 신축성 기판의 외표면에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 가요성 또는 신축성 전자장치는 봉합부 내에 있는 상기 부속체를 전기적으로 자극하기 위해 어레이로 제공되고 상기 기판의 상기 내표면에 의해 지지되는 복수의 상기 전기촉각 자극기를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제20 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 전자장치가 상기 전기촉각 자극기의 다중화된 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제20항에 있어서, 상기 어레이의 상기 전기촉각 자극기들은 구부러진 (serpentine)전기적 접속부의 네트워크를 통해 전기적으로 상호접속된 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제20항에 있어서,
상기 전기촉각 자극기 각각은 내부 영역이 외부 영역에 의해 둘러 싸여 있는 박막 금속 구조를 포함하고, 상기 내부 영역과 상기 외부 영역 사이의 간격이 제공되는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제23항에 있어서,
상기 내부 영역은 10m 내지 1000m 범위로부터 선택되는 측면치수를 갖고, 상기 외부링은 10m 내지 5000m 범위로부터 선택되는 측면치수를 갖고, 여기서 상기 간격은 10m 내지 1000m 범위로부터 선택되는 측면치수를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제23항에 있어서, 상기 내부 영역 각각은 전도성 디스크형태 전극이고, 상기 외부 영역은 상기 디스크형태 전극에 동심원 형태로 위치하는 전도성의 고리-형태 전극인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전자장치는 어레이로 제공되고 상기 기판의 외표면, 내표면, 또는 외표면 및 내표면에 의해 지지되는 복수의 촉각 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제26항에 있어서, 상기 전자장치는 상기 촉각 센서의 다중화된 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제26항에 있어서, 상기 어레이의 상기 촉각 센서는 구부러진 전기적 접속부의 네트워크를 통해 전기적으로 상호접속된 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제26항에 있어서, 상기 촉각 센서 각각은 100m 내지 5000m 범위로부터 선택되는 측면치수를 갖는 박막 금속 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제29항에 있어서, 상기 촉각 센서의 상기 박막 금속 구조는 전도성 디스크-형태 전극인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전자장치는 상기 외표면에 의해 지지되는 하나 이상의 촉각 센서 및 상기 내표면에 의해 지지되는 하나 이상의 전기촉각 자극기를 포함하고, 여기서 상기 하나 이상의 촉각 센서의 출력값에 비례하여 상기 부속체를 전기적으로 자극하기 위해 상기 하나 이상의 촉각 센서의 출력값이 상기 하나 이상의 전기촉각 자극기에 제공되는 것으로 상기 하나 이상의 촉각 센서는 상기 하나 이상의 전기촉각 자극기와 전기적 소통이 가능한 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 전자장치는 복수의 전극을 포함하고, 전극 각각은:
1mm 이하의 직경을 갖는 내측 디스크; 및
상기 내측 디스크를 둘러싸는 외측 링을 포함하고,
여기서 상기 내측 디스크 및 외측 링은 상호 동심원을 중심으로 배치되며, 상기 내측 디스크와 외측 링 사이의 이격 거리는 100 μm 이상 및 500 μm 이하의 범위에서 선택되는 것을 특징으로 하는 시스템. - 제33항에 있어서, 상기 내표면, 상기 외표면, 또는 두 가지 모두에 의해 지지되는 하나 이상의 추가적인 전자소자를 더 포함하고; 상기 추가적인 전자소자는 센서, 액츄에이터, 전원 공급원, 무선 전원 공급원, 광전지 장치, 무선 트랜스미터, 안테나, 나노일렉트로미케니컬 시스템, 마이크로일렉트로미케니컬 시스템 및 어레이 및 이들의 임의의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 시스템.
- 제33항에 있어서, 상기 하나 이상의 추가적 전자소자들은 변형 게이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제34항에 있어서, 상기 변형 게이지는 하나 이상의 반도체 나노멤브레인들을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제 35항에 있어서, 상기 반도체 나노멤브레인 각각은 각기 독립적으로 1 m 내지 10 mm 범위에서 선택된 측면치수 및 100 nm 내지 100 m 범위에서 선택된 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제 35항에 있어서, 상기 변형 게이지는 적어도 3개 이상의 복수의 전기적으로 연결된 반도체 나노멤브레인을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제35항에 있어서, 상기 반도체 나노멤브레인은 구부러진 모양의 전기 접속부의 네트워크를 통해 전기적으로 상호접속되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
하나 이상의 무기 반도체 소자를 포함하는 시스템. - 제39항에 있어서, 상기 하나 이상의 무기 반도체 소자 각각은 독립적으로 다결정 반도체 물질, 단결정 반도체 물질, 또는 도핑된 다결정 또는 단결정 반도체 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제39항에 있어서, 상기 하나 이상의 무기 반도체 소자 각각은 독립적으로 단결정 반도체 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제39항에 있어서, 상기 하나 이상의 무기 반도체 소자 각각은 독립적으로 100 μm 이하의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제39항에 있어서, 상기 하나 이상의 무기 반도체 소자 각각은 50 나노미터 내지 100 마이크론 범위에서 선택되는 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제39항에 있어서, 상기 전자장치의 상기 하나 이상의 무기 반도체 소자 각각은 1 x 10-4 Nm 이하의 순굴곡강성을 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제39항에 있어서, 상기 전자장치의 상기 무기 반도체 소자들 중에 각 하나는 0.5 MPa 내지 10 GPa 범위에서 선택되는 영률(Young's modulus)을 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제39항에 있어서, 상기 전자장치의 상기 무기 반도체 소자들 중에 각 하나는 1 x 108 GPaμm4 이하의 순굽힘강성을 갖는 것을 특징으로 하는 장치.
- 제39항에 있어서, 상기 하나 이상의 무기 반도체 소자들 중에 각 하나는 반도체 나노멤브레인 구조를 독립적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제47항에 있어서, 상기 반도체 나노멤브레인 구조는 다이오드 전자소자인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제 1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 금속 소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제49항에 있어서, 상기 하나 이상의 금속 컨덕터 소자는 어레이 안에 복수의 전극들을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제50항에 있어서, 상기 어레이 안의 상기 전극들 각각은 독립적으로 100m 이하의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제50항에 있어서, 상기 전극 어레이는 10 내지 10,000 개의 범위에서 선택되는 전극의 수를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제50항에 있어서, 상기 어레이의 상기 전극들은 구부러진 전기적 접속부의 네트워크를 통해 전기적으로 상호접속되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제49항에 있어서, 상기 하나 이상의 센서, 액츄에이터 또는 두 가지 전자장치 모두가 복수의 전극, 멀티플렉스 회로망, 증폭 회로망을 포함하는 신축성 또는 가요성 전극 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제54항에 있어서, 상기 신축성 또는 가요성 전극 어레이는 복수의 전극 유닛 셀들을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제55항에 있어서, 상기 신축성 또는 가요성 전극 어레이는 50 개 이상의 전극 유닛 셀들을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제55항에 있어서, 상기 전극 어레이의 인접 전극 유닛 셀들은 상호 간에 50m 이하의 간격으로 분리되어 있는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제55항에 있어서, 상기 전극 어레이의 상기 전극 유닛 셀들은 10 mm2 내지 10,000 mm2 범위의 가요성 또는 신축성 기판 영역에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제55항에 있어서, 상기 전극 어레이의 상기 전극 유닛 셀들은 컨택트패드, 증폭기 및 멀티플렉서를 포함하고, 여기서 상기 컨택트패드는 조직에 전기적 인터페이스를 제공하고 상기 증폭기 및 멀티플렉서와 전기적 소통이 가능한 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제59항에 있어서, 상기 유닛 셀의 상기 증폭기 및 멀티플렉서는 복수의 트랜지스터들을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제49항에 있어서, 상기 하나 이상의 금속 컨덕터 소자는 복수의 신축성 전기적 접속부를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제61항에 있어서, 상기 신축성 전기적 접속부는 적어도 부분적으로는 자립형이거나 또는 묶인 형태로 제공되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제61항에 있어서, 상기 신축성 전기적 접속부는 곡선 형태인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제61항에 있어서, 상기 신축성 전기적 접속부는 구부러진 형태인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제61항에 있어서, 상기 신축성 전기적 접속부는 상기 하나 이상의 무기 반도체 소자들, 하나 이상의 금속 소자들, 또는 하나 이상의 무기 반도체 소자들 및 하나 이상의 금속 소자들의 적어도 일부분을 포함하는 고정장치 아일랜드를 전기적으로 연결하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제65항에 있어서, 상기 고정장치 아일랜드의 적어도 일부는 각각 독립적으로 단결정 무기 반도체 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제65항에 있어서, 상기 고정장치 아일랜드의 적어도 일부는 각각 독립적으로 단결정 무기 반도체 나노멤브레인을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제65항에 있어서, 상기 고정장치 아일랜드는 하나 이상의 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제68항에 있어서, 상기 센서 또는 액츄에이터는 전극, 촉각 센서, 변형 게이지, 커패시턴스 센서, 온도 센서, 압력 센서, 동작 센서, 위치 센서, 변위 센서, 가속도 센서, 힘 센서, 화학 센서, pH 센서, 커패시티브 센서, 광 센서, 광 검출기, 촬상 시스템, 전기촉각 자극기, 전극, 열원, 압전 소자, 음향 소자, RF 에너지원, 자기 액츄에이터, 전자기 방사원, 레이저, 발광 다이오드와 어레이 및 이들의 임의의 어레이 및 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 전자 장치의 적어도 일부분은 상기 가요성 또는 신축성 기판의 외표면에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 전자 장치의 적어도 일부분은 상기 가요성 또는 신축성 기판의 내표면에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 내표면 및 외표면은 상기 가요성 또는 신축성 기판의 내표면 또는 외표면에 의해 지지되는 하나 이상의 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두의 기능성 파라미터를 실질적으로 감소시키지 않으며 상호적으로 뒤집을 수 있는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 내표면 및 외표면은 상기 가요성 또는 신축성 기판의 내표면 또는 외표면에 의해 지지되는 하나 이상의 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두의 기능성 파라미터를 실질적으로 감소시키지 않으며 상호적으로 뒤집을 수 있는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전자 장치를 지지하는 외표면이 뒤집어진 후에 외표면에 의해 지지되는 기능적 전자 장치가 내표면에 의해 지지되는 기능적 전자장치가 되도록 하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제74항에 있어서, 기능적 전자 장치는 전기촉각 자극기들의 어레이이고, 외표면이 내표면으로 뒤집힌 이후에도 상기 전기촉각 자극기들의 적어도 90%가 기능성 있는 것으로 남아있는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 폐쇄된 튜브 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 봉합부는 5 mm 내지 1000 cm 범위에서 선택된 횡단면 치수를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 탄성중합체 기판인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 폴리머, 무기 폴리머, 유기 폴리머, 플라스틱, 탄성중합체, 바이오 폴리머, 열경화성수지, 고무, 또는 이들의 임의의 조합인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 PDMS, 파릴렌, 폴리이미드, 또는 Ecoflex®인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 생체 적합성 재료 또는 생체 불활성 물질 인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 0.25 μm 내지 10,000 μm 범위에서 선택된 평균 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 전자 장치를 지지하는 실질적으로 균일한 두께를 갖거나 또는 전자장치를 지지하는 두께가 하나 이상의 측면치수에 따라 선택적으로 달라지는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 가요성 또는 신축성 메쉬 구조인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 0.5 KPa 내지 10 GPa 범위에서 선택된 평균 영률을 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 500% 이상의 파단변형률 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기능 장치의 적어도 일부분을 캡슐화하는 장벽층을 더 포함하는 시스템.
- 제87항에 있어서, 상기 장벽층은 상기 시스템과 접촉해 있는 물질에 악영향을 주지 않는 수준으로 전자장치로부터의 순누설전류(net leakage current)를 제한하거나, 또는 상기 시스템과 접촉해 있는 물질에 악영향을 주지 않는 수준으로 전자장치로부터의 열전달을 제한하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제87항에 있어서, 상기 장벽층은 상기 전자장치의 적어도 일부로 외부 액체가 통과하는 것을 실질적으로 방지하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제87항에 있어서, 상기 장벽층은 폴리머, 무기 폴리머, 유기 폴리머, 플라스틱, 탄성중합체, 바이오 폴리머, 열경화성수지, 고무, 또는 이들의 임의의 조합인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제87항에 있어서, 상기 장벽층은 PDMS, 파릴렌, 폴리이미드, 또는 Ecoflex®인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제87항에 있어서, 상기 장벽층은 1 μm 내지 100 μm 범위에서 선택된 평균 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제87항에 있어서, 상기 장벽층은 0.5 KPa 내지 10 GPa 범위에서 선택된 평균 영률을 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제87항에 있어서, 상기 장벽층과 상기 가요성 또는 신축성 기판은 평균 두께를 갖고, 여기서 상기 가요성 또는 신축성 기판에 대한 상기 장벽층의 평균 두께 비율은 0.01 내지 1의 범위에서 선택되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제87 항에 있어서, 상기 장벽층은 메쉬 구조인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두의 적어도 일부분을 전기적으로 연결하는 하나 이상의 신축성 접속부를 더 포함하는 시스템.
- 제96항에 있어서, 하나 이상의 신축성 접속부는 굽은 형태로 제공되는 전기적 전도성 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제96항에 있어서, 하나 이상의 신축성 접속부는 구부러진 형태로 제공되는 나노와이어(nanowire)를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제98항에 있어서, 상기 나노와이어는 직사각형 단면을 갖고, 50 nm 내지 1 μm 범위에서 선택되는 두께 및 10 μm 내지 1 mm 범위에서 선택되는 폭을 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제98항에 있어서, 상기 구부러진 구조는 100 μm 내지 10 mm 범위에서 선택된 평균 곡률 반경 특성을 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 간편한 상부 연결 배선을 제공하기 위해 인접 접속부 층은 전기적 절연 탄성중합체층인 장벽층으로 분리된 인접 접속부 층과 함께, 적어도 두 개 이상의 접속부 층에 배치된 복수의 접속부를 포함하는 시스템.
- 제101항에 있어서, 상기 전자장치는 적어도 하나 이상의 접속부에 전기적으로 연결된 고정장치 아일랜드를 포함하고, 상기 접속부의 굽은 구조는 박막형의 가요성 또는 신축성 기판의 구부림 및 신축성으로부터의 압박을 수용하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제102항에 있어서, 상기 구부림 및 신축성 압박은 가요성 또는 신축성 기판의 내표면 및 외표면을 뒤집는 것에서 기인하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제 1항에 있어서, 상기 시스템은 중성역학층(NMP)을 포함하고, 상기 중성역학층은 변형 민감성 소자의 깊이에 해당하는 깊이에 위치하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 하나 이상의 무기 반도체 소자들, 하나 이상의 금속 소자, 또는 두 가지 모두의 적어도 일부분이 인쇄가능한 구조인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제105항에 있어서, 상기 하나 이상의 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두의 적어도 일부분이 전사(transfer) 인쇄를 통해 상기 가요성 또는 신축성 기판에 조립되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제105항에 있어서, 상기 하나 이상의 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두의 적어도 일부가 마이크로 전사 인쇄, 접점 전사 인쇄, 용액 기반 인쇄, 소프트 리소그래피 인쇄, 복사 조형(replica molding), 또는 임프린트 리소그래피를 통해 상기 가요성 또는 신축성 기판에 조립되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 봉합부는 부속체를 수용하고 덮기 위해 내부공간 및 적어도 하나 이상의 개구부를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 봉합부는 1 cm3 이상이고 10,000 cm3 이하인 내부 부피를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 봉합부는 실질적으로 원통형 또는 반구형인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 봉합부는 손, 손가락, 손가락 끝, 또는 이들의 임의의 부분을 수용하는 형태인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 봉합부는 상기 부속체를 수용하기 위해 하나 또는 두 개의 개구부를 갖는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 세로-방향 힘의 영향 하에 상기 부속체를 감싸는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판은 가로-방향 힘의 영향 하에 상기 부속체를 감싸는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 부속체는 생물의 일부인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 제1 전자장치는 내표면에 의해 지지되고, 제2 전자장치는 제2 표면에 의해 지지되고, 여기서 상기 제1 및 제2 전자장치들은 공간을 두고 정렬되며 상호간에 소통이 되고, 여기서 상기 소통은 상기 제1 및 제2 전자장치들 사이의 기판 두께에 따라 달라지는 파라미터에 의해 특징지어 지고, 그에 따라 압력 센서를 형성하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 봉합부는 상기 부속체의 상응하는 치수에 비해 더 작은 수용 치수를 갖고, 사용 중에는 상기 가요성 또는 신축성 기판의 변형이 증가하여 상기 수용 치수가 가용성 또는 신축성 전자장치에 악영향을 주지 않고 봉합부 내에 부속체를 수용할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제117항에 있어서, 내표면 기판에 의해 지지되는 가요성 또는 신축성 전자장치와 부속체의 곡선형 표면 사이에 밀접하고 등각접촉을 형성 및 유지하지 위해 상기 변형은 상기 가요성 또는 신축성 기판과 봉합부 내의 부속체 사이에 접촉력을 발생시키는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제 118항에 있어서, 상기 변형은 1% 이상과 100% 이하의 범위에서 선택되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전자장치는 약 1 mm-2 내지 1 cm-2 사이의 범위에서 선택된 공간밀도(spatial density)를 갖는 상기 센서, 액츄에이터 또는 두 가지 모두의 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 시스템은 다기능적이고, 여기서 상기 내표면은 액츄에이터의 제1 어레이를 지지하고, 상기 외표면은 센서의 제2 어레이를 지지하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제121항에 있어서, 상기 제1 어레이는 상기 제1 어레이의 전자장치들과 등각접촉에 있는 생물 피부와 인터페이스하기 위한 전기촉각 자극기들을 포함하고, 상기 제2 어레이는 외표면과 촉각 상호작용에서의 물리적 파라미터들을 측정하기 위한 촉각센서들을 포함하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제121항에 있어서, 상기 촉각센서는 전극들 사이의 커패시턴스를 측정하기 위한 내표면과 외표면 상에 대향 전극들을 포함하고, 상기 커패시컨스는 상기 대향 전극들 사이의 가요성 또는 신축성 기판의 두께에 따라 달라지는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제 121 항에 있어서, 상기 제1 및 제2 어레이들이 상호 전기적 소통이 가능한 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제 124 항에 있어서, 센서의 상기 제2 어레이는 액츄에이터의 상기 제1 어레이에 입력값이 되는 전기적 출력값을 생성하고, 외표면에 대한 정보를 사용자에게 제공하기 위해 액츄에이터의 상기 제1 어레이는 사용자의 피부인 부속체 표면과 상호작용하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 기본 봉합부를 한정하는 초기 내부를 향하는 표면 및 초기 외부를 향하는 표면을 갖는 가요성 또는 신축성 기판을 제공하는 단계;
하나 이상의 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두를 포함하는 가요성 또는 신축성 전자장치를 상기 가요성 또는 신축성 기판의 상기 초기 외부를 향하는 표면에 전사 인쇄하되, 상기 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두가 하나 이상의 무기 반도체 소자, 하나 이상의 금속 소자, 또는 하나 이상의 무기 반도체 소자 및 하나 이상의 금속 소자를 포함하고; 여기서 상기 무기 반도체 소자, 금속 소자 또는 두 가지 모두의 적어도 일부는 500 마이크론 이하의 두께를 갖는 단계; 및
뒤집기로 상기 초기 외부를 향하는 표면이 후속 내부를 향하는 표면이 되어 부속체를 수용하기 위한 최종 봉합부를 한정하고, 상기 초기 내부를 향하는 표면은 후속 외부를 향하는 표면이 되어서 상기 전자 장치를 상기 후속 내부를 향하는 표면에 제공하는 상기 가요성 또는 신축성 기판을 뒤집는 단계;를 포함하되,
여기서 상기 가요성 또는 신축성 기판을 뒤집는 상기 단계 이후에 상기 가요성 또는 신축성 전자 장치는 기능이 유지되는 것을 특징으로 하는
부속체에 장착가능한 전자시스템 제조 방법. - 상기 부속체는 손, 손가락, 손가락 끝, 두개골, 치아, 발, 발가락, 코, 귀, 다리, 팔, 몸통, 또는 그 중에 어느 부분인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제126항에 있어서, 상기 가요성 또는 신축성 기판을 제공하는 단계는:
상기 부속체 또는 그 몰드의 표면에 탄성중합체 전구체를 주조하는 단계; 및
상기 부속체 형태에 대응하는 봉합부 형태를 갖는 가요성 또는 신축성 기판을 획득하기 위해 상기 탄성중합체 전구체를 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법. - 제126항 내지 제128항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전사 인쇄 단계는 마이크로 전사 인쇄, 접점 전사 인쇄, 용액 기반 인쇄, 소프트 리소그래피 인쇄, 복사 조형, 또는 임프린트 리소그래피로 이루어진 군에서 선택된 기술을 통해 액츄에이터, 센서 또는 액츄에이터 및 센서의 어레이를 전사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제126항 내지 제 128항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 전사 인쇄 단계는 액츄에이터, 센서, 또는 액츄에이터 및 센서의 어레이를 탄성중합체 전사 스탬프로부터 상기 신축성 기판의 초기 외표면에 전사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제130항에 있어서, 상기 전사 인쇄 단계는 평면 형태로 상기 탄성중합체 기판을 평면화하는 단계 및 액츄에이터, 센서, 또는 액츄에이터 및 센서의 어레이를 평면 형태로 상기 신축성 기판에 전사하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제130항에 있어서, 상기 전사 인쇄 단계는 상기 탄성중합체 전사 스탬프를 곡선형으로 상기 신축성 기판의 외표면에 굴리는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제126항 내지 제 128항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 최종 봉합부는 손가락 또는 손가락 끝 표면 형태에 상응하는 내표면 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제126항 내지 제128항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 시스템은 장갑의 손가락 또는 손가락 끝에 결합되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제126항에 있어서, 하나 이상의 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두를 상기 가요성 또는 신축성 기판의 후속 외표면으로 전사하여, 제1 센서 또는 액츄에이터 또는 두 가지 모두를 후속 내표면에 제공하고 제2 센서 또는 액츄에이터 또는 두 가지 모두를 후속 외표면에 제공하는 단계를 더 포함하는 방법.
- 제135항에 있어서, 상기 제1 센서 또는 액츄에이터 또는 두 가지 모두가 전기촉각 자극기의 어레이를 포함하고, 상기 센서 또는 액츄에이터 또는 두 가지 모두가 촉각 센서들의 어레이를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제136항에 있어서, 상기 촉각 센서들을 상기 전기촉각 센서들과 소통가능하게 연결하여 상기 전기촉각 센서들이 상기 촉각 센서들로부터의 출력값에 의해 제어되는 단계를 더 포함하는 방법.
- 제137항에 있어서, 전기촉각 센서의 어레이는 전기적 자극의 공간적 변화 패턴을 생성하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 내표면 및 외표면을 갖는 탄성중합체 기판이되, 여기서 상기 내표면은 곡면을 갖는 부속체를 수용할 수 있는 봉합부를 한정하고, 상기 탄성중합체 기판은 10mm이하의 기본 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 탄성중합체 기판;
상기 내표면에 의해 지지되는 제1 전자장치;
상기 외표면에 의해 지지되는 제2 전자장치이되, 여기서 상기 제1 및 제2 전자장치는 상호 대향되는 형태를 갖고 탄성중합체 기판 두께의 함수에 따라 달라지는 출력값을 갖는 압력 센서를 형성하기 위해 상기 탄성중합체 기판의 두께만큼 분리가 되는 제2 전자장치; 를 포함하고,
상기 제1 및 제2 전자장치들 각각은 두께가 1mm이하이고 측면치수가 5mm이하인 하나 이상의 무기 반도체 소자, 하나 이상의 금속 소자, 또는 하나 이상의 무기 반도체 소자 및 하나 이상의 금속 소자를 갖는 것을 특징으로 하는
부속체에 장착가능한 전자시스템. - 제139항에 있어서, 상기 압력 센서는 내표면에 의해 지지되는 제1 전극 및 외표면에 의해 지지되는 제2 전극으로서 공간적으로 정렬된 한 쌍의 전극을 포함하는 커패시터고, 상기 한 쌍의 전극은 상호 전기적으로 소통가능하며 상기 한 쌍의 전극 사이의 커패시턴스는 탄성중합체 기판에 따라 변화하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제140항에 있어서, 제1 전극 어레이 및 제2 전극 어레이를 포함하고, 여기서 상기 제1 전극 어레이 및 상기 제2 전극 어레이는 커페시터 어레이를 형성하기 위해 각기 공간적으로 정렬되어 있고, 각 커페시터는 상기 탄성중합체의 두께로 분리된 한 쌍의 전극들을 갖고, 각 커페시터의 어레이의 개별 구성은 커페시터의 어레이의 개별 구성의 전극들 사이의 탄성중합체 두께의 함수에 따라 독립적으로 변화하는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제141항에 있어서, 제1 전극들의 어레이의 각 멤버를 전기적으로 연결하는 제1 복수의 전기 접속부 및 제2 전극들의 어레이의 각 멤버를 전기적으로 연결하는 제2 복수의 전기적 접속부를 포함하고, 여기서 상기 전기적 접속부는 구부러진 형태인 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제142항에 있어서, 상기 제1 복수의 전기적 접속부는 상기 탄성중합체 기판 내표면에 의해 지지되는 제1 캡슐화층에 의해 캡슐화되고, 상기 제2 복수의 전기적 접속부는 상기 탄성중합체 기판 외표면에 의해 지지되는 제2 캡슐화층에 의해 캡슐화되는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제142항에 있어서, 상기 복수의 제1 전기적 접속부를 상기 복수의 제2 전기적 접속부로부터 전기적으로 분리하는 장벽층을 더 포함하는 시스템.
- 제140항에 있어서, 상기 탄성중합체 기판에 인가된 압력은 한 쌍의 전극 사이의 기판 두께를 감소시켜 커패시턴스를 증가시키는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 제139항에 있어서, 상기 제1 및 제2 전자 장치는 상호 열 교환이 가능하고, 여기서 상기 전자장치들 중의 하나는 열공급원이고, 상기 전자 장치는 온도를 측정하는 열감지기이고, 상기 열공급원과 상기 열감지기 사이의 탄성중합체 두께의 변화는 상기 열감지기에 의해 측정된 온도를 변화시키는 것을 특징으로 하는 시스템.
- 부속체 또는 그 몰드를 제공하는 단계;
하나 이상의 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두를 포함하는 가요성 또는 신축성 전자장치를 상기 부속체 또는 그 몰드의 표면에 제공하되, 상기 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두가 하나 이상의 무기 반도체 소자, 하나 이상의 금속 소자, 또는 하나 이상의 무기 반도체 소자 및 하나 이상의 금속 소자를 포함하고, 여기서 상기 무기 반도체 소자, 금속 소자 또는 두 가지 모두의 적어도 일부는 500 마이크론 이하의 두께를 갖는 단계;
상기 부속체 또는 그 몰드의 표면에 의해 지지되는 상기 가요성 또는 신축성 전자 장치에 프리몰리머(prepolymer)를 도입하는 단계; 및
상기 가요성 또는 신축성 전자 장치를 지지하는 내표면을 갖는 가요성 또는 신축성 기판을 형성하기 위해 상기 프리폴리머를 중합하는 단계를 포함하는
부속체에 장착가능한 전자시스템 제조 방법. - 제147항에 있어서, 부속체 또는 그 몰드의 표면으로부터 상기 기판 및 가요성 또는 신축성 전자 장치를 제거하는 단계를 더 포함하는 방법.
- 제147항 또는 제148항에 있어서, 하나 이상의 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두를 포함하는 가요성 또는 신축성 전자장치를 상기 가요성 또는 신축성 기판의 외표면에 전사 인쇄하는 단계를 더 포함하고, 상기 센서, 액츄에이터, 또는 두 가지 모두가 하나 이상의 무기 반도체 소자, 하나 이상의 금속 소자, 또는 하나 이상의 무기 반도체 소자 및 하나 이상의 금속 소자를 포함하고, 여기서 상기 무기 반도체 소자, 금속 소자 또는 두 가지 모두의 적어도 일부분은 500 마이크론 이하의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
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