KR20120098230A - 도전성 필름 및 이를 포함하는 터치 패널 - Google Patents
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Abstract
도전성 필름 및 이를 포함하는 터치 패널이 제공된다. 도전성 필름은 기판, 및 기판 상에 형성되며, 도전체를 포함하는 도전 패턴을 포함하되, 도전 패턴은 중심부에 위치하는 제1 영역, 및 제1 영역의 주변부에 형성된 제2 영역을 포함하며, 제1 영역은 제2 영역보다 도전체의 밀도가 더 크다.
Description
본 발명은 도전성 필름 및 이를 포함하는 터치 패널에 관한 것이다.
투명 도전막은 액정표시장치나 유기EL 표시장치 등의 화소전극이나 공통전극과 같은 투명전극용으로 많이 사용되고 있다. 뿐만 아니라, 최근에는 터치패널, 조명 장치, 태양 전지 등에도 그 적용예를 넓혀 가고 있다.
그 동안 투명 도전막으로 많이 적용되었던 물질은 안티몬이나 불소가 도핑된 산화주석(SnO2)막 알루미늄이나 칼륨이 도핑된 산화아연(ZnO)막, 주석이 도핑된 산화인듐(In2O3)막 등이었다. 최근 들어서는 탄소나노튜브와 같은 신소재를 적용하는 방안도 연구되고 있다.
투명 도전막은 높은 투명도와 전도율을 요구한다. 동시에 낮은 비용, 내구성, 취급성 등도 좋아야 한다. 그러나, 현재 연구되고 있는 물질들은 그 자체가 지닌 태성적 특성상의 한계 때문에, 동일한 내구성 및 취급성을 갖추면서도 투명도와 전도율을 동시에 개선하기가 쉽지 않다.
본 발명은 이와 같은 한계를 극복하기 위해 착안된 것으로서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 투명도 및 전도율이 개선된 도전성 필름을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 투명도 및 전도율이 개선된 터치 필름을 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름은 기판, 및 상기 기판 상에 형성되며, 도전체를 포함하는 도전 패턴을 포함하되, 상기 도전 패턴은 중심부에 위치하는 제1 영역, 및 상기 제1 영역의 주변부에 형성된 제2 영역을 포함하며, 상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 상기 도전체의 밀도가 더 크다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 도전성 필름은 기판, 및 상기 기판 상에 형성되며, 일 방향으로 평행하게 연장된 복수의 도전 패턴을 포함하되, 상기 각 도전 패턴은 중심부에 위치하는 제1 영역, 및 상기 제1 영역의 주변부에 형성된 제2 영역을 포함하며, 상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 상기 도전체의 밀도가 더 크다.
상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 도전성 필름은 기판, 및 상기 기판 상에 형성된 복수의 제1 도전 패턴 및 복수의 제2 도전 패턴을 포함하되, 상기 제1 도전 패턴은 복수의 섬형 패턴부 및 이웃하는 상기 섬형 패턴부를 연결하는 연결 패턴을 포함하여 제1 방향으로 연장된 스트라이프 패턴으로 형성되고, 상기 복수의 도전 패턴은 제2 방향을 따라 반복하여 배열되고, 상기 각 제2 도전 패턴은 섬형 패턴으로 이루어지되, 상기 각 제2 도전 패턴은 상기 제1 도전 패턴의 상기 섬형 패턴부 사이에 배치되며, 상기 각 제1 도전 패턴의 상기 섬형 패턴부 및 상기 각 제2 도전 패턴은 중심부에 위치하는 제1 영역, 및 상기 제1 영역의 주변부에 형성된 제2 영역을 포함하고, 상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 상기 도전체의 밀도가 더 크다.
상기 다른 과제를 해결하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 터치 패널은 상기한 바와 같은 도전성 필름을 포함한다.
기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 실시예들에 의하면 적어도 다음과 같은 효과가 있다.
즉, 본 발명의 실시예들에 따른 도전성 필름은 높은 광투과율을 나타내면서도 동시에 높은 전도율을 나타낼 수 있다.
또, 본 발명의 몇몇 실시예들에 따른 도전성 필름은 다분화된 전하 전달 기능을 구현할 수 있다.
본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 명세서 내에 포함되어 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전체의 개략도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전체의 개략도이다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
소자(elements) 또는 층이 다른 소자 또는 층"위(on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다. 반면, 소자가 "직접 위(directly on)"로 지칭되는 것은 중간에 다른 소자 또는 층을 개재하지 않은 것을 나타낸다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. "및/또는"는 언급된 아이템들의 각각 및 하나 이상의 모든 조합을 포함한다.
비록 제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않음은 물론이다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있음은 물론이다.
본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소 외에 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
본 명세서에서 사용되는 용어인 "~필름"은 "~시트", "~판"의 의미로 사용될 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대해 설명한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 단면도이다.
도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름은 기판(110) 및 기판(110) 상에 형성된 도전 패턴(120)을 포함한다.
기판(110)은 투명 기판일 수 있다. 본 명세서에서 투명 기판은 광을 투과시킬 수 있는 기판을 의미할 수 있다. 예를 들어, 투명 기판은 입사광의 70% 이상을 투과시키는 기판을 의미할 수 있다. 몇몇 실시예에서, 투명 기판은 입사광의 90% 이상을 투과시킬 수 있다. 다른 몇몇 실시예에서, 투명 기판은 입사광의 98% 이상을 투과시킬 수 있다.
투명 기판으로는 투명한 플라스틱 기판, 투명한 유리 기판, 또는 투명한 석영 기판 등이 적용될 수 있다. 투명 기판을 구성하는 물질의 예로는 메타크릴 수지, 방향족 폴리에스테르, 변성 폴리페닐렌옥사이드(Modified Polyphenylene Oxide: MPPO), 셀룰로스 에스테르(Cellulose ester), 셀룰로오스 아세테이트, 수정(quartz), 스티렌-부타디엔 공중합체, 실리콘 웨이퍼, 아크릴로니트릴 부타디엔 스티렌(acrylonitrile butadiene styrene copolymer, ABS 수지), 에폭시 수지, 올레핀 말레이미드 공중합체, 용융실리카, 유리, 재생 셀룰로스(Regenerated cellulose), 트리아세틸셀룰로오스, 페놀 수지, 폴리디메틸시클로헥센테레프탈레이트, 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS), 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리메틸아크릴레이트(polymethylacrylate), 폴리부타디엔, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리불화 비닐리덴, 폴리비닐리덴플로라이드(Polyvinylidenfluoride), 폴리비닐아세테이트, 폴리설포네이트, 폴리술폰(Polysulfone), 폴리스티렌(PS), 폴리실라잔(polysilazane), 폴리실란(polysilane), 폴리실록산(polysiloxane), 폴리아라미드, 폴리아릴레이트, 폴리아미드, 폴리아미드 이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리아크릴로니트릴(Polyacrylonitrile, PAN), 폴리에스테르, 폴리에스테르술폰(Polyethersulfone, PES), 폴리에테르 니트릴, 폴리에테르 술폰, 폴리에테르 이미드, 폴리에테르 케톤, 폴리에틸렌 나프탈레이트(polyethylenenaphthalte, PEN), 폴리에틸렌 설폰, 폴리에틸렌(PE), 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene terephtalate, PET), 폴리에틸메타크릴레이트(polyethylmetacrylate), 폴리에틸아크릴레이트(polyethylacrylate), 폴리에폭사이드, 폴리염화비닐, 폴리옥시에틸렌, 폴리올레핀, 폴리우레탄, 폴리이미드 수지, 폴리카르보실란(polycarbosilane), 폴리카보네이트(Polycarbonate), 폴리페닐렌 술피드, 폴리페닐렌 에테르, 폴리프로필렌(PP), AS 수지, GaAs, MgO, silica, 폴리비닐클로라이드, 폴리디메틸시클로헥센테레프탈레이트, 폴리카본(polycarbon) 등을 들 수 있다. 그러나, 이에 제한되는 것이 아님은 물론이다.
몇몇 실시예에서, 상기 투명 기판은 가요성 기판일 수 있다.
기판(110) 상에는 도전 패턴(120)이 형성된다. 여기서, 도전 패턴(120)이란, 도전성을 지닌 물질들이 일정한 패턴을 형성한 것을 의미한다. 도 2에서, 도전 패턴(120)은 스트라이프 타입의 라인 패턴 형상을 갖는 것이 예시된다.
도전 패턴(120)은 도전성을 지니기 위하여 도전체(125)를 포함하여 이루어질 수 있다. 상기 도전체(125)의 예로는 탄소나노물질, 나노와이어, 전도성 폴리머 등을 들 수 있으며, 이들 중 하나 이상이 조합되어 적용될 수 있다.
상기 탄소나노물질은 싱글월 탄소나노튜브, 멀티월 탄소나노튜브, 탄소나노입자, 또는 그라핀(graphene)일 수 있다.
상기 나노 와이어는 은 나노 와이어, 구리 나노 와이어, 금 나노 와이어, 백금 나노 와이어, 또는 실리콘 나노 와이어일 수 있다.
상기 전도성 폴리머의 예로는 폴리(3-알킬)티오펜[poly(3-alkyl)thiophene: P3AT], 폴리(3-헥실)티오펜[poly( 3-hexyl)thiophene: P3HT], , 폴리아닐린 [polyaniline: PANI], 폴리아세틸렌(polyacetylene: PA), 폴리아줄렌(polyazulene), 폴리에틸렌 디옥시티오펜(polyethylene dioxythiophene: PEDOT), 폴리이소시아나프탈렌(polyisothianapthalene: PITN ), 폴리이소티아나프텐(polyisothianaphthene), 폴리티에닐렌비닐렌(polythienylenevinylene) , 폴리티오펜(polythiophene: PT), 폴리파라페닐렌 {polyparapheny lene: PPP), , 폴리파라페닐렌 비닐렌(polyparaphenylene vinylene: PPV), 폴리페닐렌 설파이드(polyphenylene sulfide) , 폴리페닐렌(polyphenylene), 폴리퓨란(polyfuran), 폴리피롤(polypyrrole: PPY), 폴리헵타디엔(polyheptadiyne: PHT), , 인돌-4-카르복실산, 인돌-5-카르복실산, 인돌-6-카르복실산, 인돌-7-카르복실산 등의 카르복실기 치환 인돌류및 그의 알칼리 금속염, 암모늄염 및 치환 암모늄염, 인돌-4-술폰산, 인돌-5-술폰산, 인돌-6-술폰산, 인돌-7-술폰산 등의 술폰산기 치환 인돌류 및 그의 알칼리 금속염, 암모늄염 및 치환 암모늄염, 4-메틸인돌, 5-메틸인돌, 6-메틸인돌, 7-메틸인돌, 4-에틸인돌, 5-에틸인돌, 6-에틸인돌, 7-에틸인돌, 4-n-프로필인돌, 5-n-프로필인돌, 6-n-프로필인돌, 7-n-프로필인돌, 4-iso-프로필인돌, 5-iso-프로필인돌, 6-iso-프로필인돌, 7-iso-프로필인돌, 4-n-부틸인돌, 5-n-부틸인돌, 6-n-부틸인돌, 7-n-부틸인돌, 4-sec-부틸인돌, 5-sec-부틸인돌, 6-sec-부틸인돌, 7-sec-부틸인돌, 4-t-부틸인돌, 5-t-부틸인돌, 6-t-부틸인돌, 7-t-부틸인돌 등의 알킬기 치환 인돌류, 4-메톡시인돌, 5-메톡시인돌, 6-메톡시인돌,7-메톡시인돌, 4-에톡시인돌, 5-에톡시인돌, 6-에톡시인돌, 7-에톡시인돌, 4-n-프로폭시인돌, 5-n-프로폭시인돌, 6-n-프로폭시인돌, 7-n-프로폭시인돌, 4-iso-프로폭시인돌, 5-iso-프로폭시인돌, 6-iso-프로폭시인돌, 7-iso-프로폭시인돌, 4-n-부톡시인돌, 5-n-부톡시인돌, 6-n-부톡시인돌, 7-n-부톡시인돌, 4-sec-부톡시인돌, 5-sec-부톡시인돌, 6-sec-부톡시인돌, 7-sec-부톡시인돌, 4-t-부톡시인돌, 5-t-부톡시인돌, 6-t-부톡시인돌, 7-t-부톡시인돌 등의 알콕시기 치환 인돌류, 4-아세틸인돌, 5-아세틸인돌, 6-아세틸인돌, 7-아세틸인돌 등의 아실기 치환 인돌류, 인돌-4-카르발데히드, 인돌-5-카르발데히드, 인돌-6-카르발데히드, 인돌-7-카르발데히드 등의 알데히드기 치환 인돌류, 인돌-4-카르복실산메틸, 인돌-5-카르복실산메틸, 인돌-6-카르복실산메틸, 인돌-7-카르복실산메틸 등의 카르복실산 에스테르기 치환인돌류, 인돌-4-술폰산메틸, 인돌-5-술폰산메틸, 인돌-6-술폰산메틸, 인돌-7-술폰산메틸 등의 술폰산 에스테르기 치환인돌류, 인돌-4-카르보니트릴, 인돌-5-카르보니트릴, 인돌-6-카르보니트릴, 인돌-7-카르보니트릴 등의 시아노기 치환인돌류, 4-히드록시인돌, 5-히드록시인돌, 6-히드록시인돌, 7-히드록시인돌 등의 히드록시기 치환 인돌류, 4-니트로인돌, 5-니트로인돌, 6-니트로인돌, 7-니트로인돌 등의 니트로기 치환 인돌류, 4-아미노인돌, 5-아미노인돌, 6-아미노인돌, 7-아미노인돌 등의 아미노기 치환 인돌류, 4-카르바모일 인돌, 5-카르바모일 인돌, 6-카르바모일 인돌, 7-카르바모일 인돌 등의 아미드기 치환 인돌류, 4-플루오로인돌, 5-플루오로인돌, 6-플루오로인돌, 7-플루오로인돌, 4-클로로인돌,5-클로로인돌, 6-클로로인돌, 7-클로로인돌, 4-브로모인돌, 5-브로모인돌, 6-브로모인돌, 7-브로모인돌, 4-요오도인돌, 5-요오도인돌, 6-요오도인돌, 7-요오도인돌 등의 할로겐기 치환 인돌류, 4-디시아노비닐 인돌, 5-디시아노비닐 인돌, 6-디시아노비닐 인돌, 7-디시아노비닐 인돌 등의 디시아노비닐기 치환 인돌류, N-메틸인돌, N-에틸인돌, N-n-프로필인돌, N-iso-프로필인돌, N-n-부틸인돌, N-sec-부틸인돌, N-t-부틸인돌 등의 N-알킬기 치환 인돌류, 벤조 푸란-4-카르복실산 , 벤조 푸란-5-카르복실산 , 벤조 푸란-6-카르복실산 , 벤조 푸란-7-카르복실산 , 벤조 푸란-4-술폰산벤조 푸란-5-술폰산 , 벤조 푸란-6-술폰산 , 벤조 푸란-7-술폰산, 4-메틸벤조 푸란 , 5-메틸벤조 푸란 , 6-메틸벤조 푸란 , 7-메틸벤조 푸란 , 4-에틸벤조 푸란 , 5-에틸벤조 푸란 , 6-에틸벤조 푸란 , 7-에틸벤조 푸란 , 4-n-프로필벤조 푸란 , 5-n-프로필벤조 푸란 , 6-n-프로필벤조 푸란 , 7-n-프로필벤조 푸란 , 4-iso-프로필벤조 푸란 , 5-iso-프로필벤조 푸란 , 6-iso-프로필벤조 푸란 , 7-iso-프로필벤조 푸란 , 4-n-부틸벤조 푸란 , 5-n-부틸벤조 푸란 , 6-n-부틸벤조 푸란 , 7-n-부틸벤조 푸란 , 4-sec-부틸벤조 푸란 , 5-sec-부틸벤조 푸란 , 6-sec-부틸벤조 푸란 , 7-sec-부틸벤조 푸란 , 4-t-부틸벤조 푸란 , 5-t-부틸벤조 푸란 , 6-t-부틸벤조 푸란 , 7-t-부틸벤조 푸란 , 4-메톡시벤조 푸란 , 5-메톡시벤조 푸란 , 6-메톡시벤조 푸란 , 7-메톡시벤조 푸란 , 4-에톡시벤조 푸란 , 5-에톡시벤조 푸란 , 6-에톡시벤조 푸란 , 7-에톡시벤조 푸란 , 4-n-프로폭시벤조 푸란 , 5-n-프로폭시벤조 푸란 , 6-n-프로폭시벤조 푸란 , 7-n-프로폭시벤조 푸란 , 4-iso-프로폭시벤조 푸란 , 5-iso-프로폭시벤조 푸란 , 6-iso-프로폭시벤조 푸란 , 7-iso-프로폭시벤조 푸란 , 4-n-부톡시벤조 푸란 , 5-n-부톡시벤조 푸란 , 6-n-부톡시벤조 푸란 , 7-n-부톡시벤조 푸란 , 4-sec-부톡시벤조 푸란 , 5-sec-부톡시벤조 푸란 , 6-sec-부톡시벤조 푸란 , 7-sec-부톡시벤조 푸란 , 4-t-부톡시벤조 푸란 , 5-t-부톡시벤조 푸란 , 6-t-부톡시벤조 푸란 , 7-t-부톡시벤조 푸란 , 4-아세틸벤조 푸란 , 5-아세틸벤조 푸란 , 6-아세틸벤조 푸란 , 7-아세틸벤조 푸란 , 벤조 푸란 4-카르발데히드 , 벤조 푸란 5-카르발데히드 , 벤조 푸란 6-카르발데히드 , 벤조 푸란 7-카르발데히드 , 벤조 푸란 4-카르복실산메틸 , 벤조 푸란 5-카르복실산메틸 , 벤조 푸란 6-카르복실산메틸 , 벤조 푸란 7-카르복실산메틸 , 벤조 푸란 4-술폰산메틸 , 벤조 푸란 5-술폰산메틸 , 벤조 푸란 6-술폰산메틸 , 벤조 푸란 7-술폰산메틸 , 벤조 푸란 4-카르보니트릴 , 벤조 푸란 5-카르보니트릴 , 벤조 푸란 6-카르보니트릴 , 벤조 푸란 7-카르보니트릴 , 4-히드록시벤조 푸란 , 5-히드록시벤조 푸란 , 6-히드록시벤조 푸란 , 7-히드록시벤조 푸란 , 4-니트로벤조 푸란 , 5-니트로벤조 푸란 , 6-니트로벤조 푸란 , 7-니트로벤조 푸란 , 4-아미노벤조 푸란 , 5-아미노벤조 푸란 , 6-아미노벤조 푸란 , 7-아미노벤조 푸란 , 4-카르바모일벤조 푸란 , 5-카르바모일벤조 푸란 , 6-카르바모일벤조 푸란 , 7-카르바모일벤조 푸란 , 4-플루오로벤조 푸란 , 5-플루오로벤조 푸란 , 6-플루오로벤조 푸란 , 7-플루오로벤조 푸란 , 4-클로로벤조 푸란 , 5-클로로벤조 푸란, 6-클로로벤조 푸란 , 7-클로로벤조 푸란 , 4-브로모벤조 푸란 , 5-브로모벤조 푸란 , 6-브로모벤조 푸란 , 7-브로모벤조 푸란 , 4-요오도벤조 푸란 , 5-요오도벤조 푸란 , 6-요오도벤조 푸란 , 7-요오도벤조 푸란 , 4-디시아노비닐벤조 푸란 , 5-디시아노비닐벤조 푸란 , 6-디시아노비닐벤조 푸란 , 7-디시아노비닐벤조 푸란 , N-메틸벤조 푸란 , N-에틸벤조 푸란 , N-n-프로필벤조 푸란 , N-iso-프로필벤조 푸란 , N-n-부틸벤조 푸란 , N-sec-부틸벤조 푸란 , N-t-부틸벤조 푸란, 벤조 티오펜-4-카르복실산 , 벤조 티오펜-5-카르복실산 , 벤조 티오펜-6-카르복실산 , 벤조 티오펜-7-카르복실산 , 벤조 티오펜-4-술폰산 , 벤조 티오펜-5-술 폰산 , 벤조 티오펜-6-술폰산 , 벤조 티오펜-7-술폰산, 4-메틸벤조 티오펜 , 5-메틸벤조 티오펜 , 6-메틸벤조 티오펜 , 7-메틸 벤조 티오펜 , 4-에틸벤조 티오펜 , 5-에틸벤조 티오펜 , 6-에틸벤조 티오펜 , 7-에틸벤조 티오펜 , 4-n-프로필벤조 티오펜 , 5-n-프로필벤조 티오펜 , 6-n-프로필벤조 티오펜 , 7-n-프로필벤조 티오 펜 , 4-iso-프로필벤조 티오펜 , 5-iso-프로필벤조 티오펜 , 6-iso-프로필벤조 티오펜 , 7-iso-프로필벤조 티오펜 , 4-n-부틸벤조 티오펜 , 5-n-부틸벤조 티오펜 , 6-n-부틸벤조 티오펜 , 7-n-부틸벤조 티 오펜 , 4-sec-부틸벤조 티오펜 , 5-sec-부틸벤조 티오펜 , 6-sec-부틸벤조 티오펜 , 7-sec-부틸벤조 티오펜 , 4-t-부틸벤조 티오펜 , 5-t-부틸벤조 티오펜 , 6-t-부틸벤조 티오펜 , 7-t-부틸벤조 티오펜, 4-메톡시벤조 티오펜 , 5-메톡시벤조 티오펜 , 6-메톡시벤조 티오 펜 , 7-메톡시벤조 티오펜 , 4-에톡시벤조 티오펜 , 5-에톡시벤조 티오펜 , 6-에톡시벤조 티오펜 , 7-에 톡시벤조 티오펜 , 4-n-프로폭시벤조 티오펜 , 5-n-프로폭시벤조 티오펜 , 6-n-프로폭시벤조 티오펜 , 7-n-프로폭시벤조 티오펜 , 4-iso-프로폭시벤조 티오펜 , 5-iso-프로폭시벤조 티오펜 , 6-iso-프로폭시벤 조 티오펜 , 7-iso-프로폭시벤조 티오펜 , 4-n-부톡시벤조 티오펜 , 5-n-부톡시벤조 티오펜 , 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5-디시아노비닐벤조 티오펜 , 6-디시아노비닐벤조 티오펜 , 7-디시아노비닐벤조 티오펜 , N-메틸벤조 티오펜 , N-에틸벤조 티오펜 , N-n-프 로필벤조 티오펜 , N-iso-프로필벤조 티오펜 , N-n-부틸벤조 티오펜 , N-sec-부틸벤조 티오펜 , N-t-부틸벤조 티오펜, 벤조 셀레노펜 4-카르복실산, 벤조 셀레노펜 5-카르복실산, 벤조 셀레노펜 6-카르복실산, 벤조 셀레노펜 7-카르복실산, 벤조 셀레노펜 4-술폰산, 벤조 셀레노펜 5-술폰산, 벤조 셀레노펜 6-술폰산, 벤조 셀레노펜 7-술폰산, 4-메틸벤조 셀레노펜, 5-메틸벤조 셀레노펜, 6-메틸벤조 셀레노펜, 7-메틸벤조 셀레노펜, 4-에틸벤조 셀레노펜, 5-에틸벤조 셀레노펜, 6-에틸벤조 셀 레노펜, 7-에틸벤조 셀레노펜, 4-n-프로필벤조 셀레노펜, 5-n-프로필벤조 셀레노펜, 6-n-프로필벤조 셀레노펜, 7-n-프로필벤조 셀레노펜, 4-iso-프로필벤조 셀레노펜, 5-iso-프로필벤조 셀레노펜, 6- iso-프로필벤조 셀레노펜, 7-iso-프로필벤조 셀레노펜, 4-n-부틸벤조 셀레노펜, 5-n-부틸벤조 셀 레노펜, 6-n-부틸벤조 셀레노펜, 7-n-부틸벤조 셀레노펜, 4-sec-부틸벤조 셀레노펜, 5-sec-부틸벤조 셀레노펜, 6-sec-부틸벤조 셀레노펜, 7-sec-부틸벤조 셀레노펜, 4-t-부틸벤조 셀레노펜, 5-t-부 틸벤조 셀레노펜, 6-t-부틸벤조 셀레노펜, 7-t-부틸벤조 셀레노펜, 4-메톡시벤조 셀레노펜, 5-메톡시벤조 셀레노펜, 6-메톡시벤조 셀레노펜, 7-메톡시벤조 셀레노 펜, 4-에톡시벤조 셀레노펜, 5-에톡시벤조 셀레노펜, 6-에톡시벤조 셀레노펜, 7-에톡시벤조 셀레노 펜, 4-n-프로폭시벤조 셀레노펜, 5-n-프로폭시벤조 셀레노펜, 6-n-프로폭시벤조 셀레노펜, 7-n-프로폭 시벤조 셀레노펜, 4-iso-프로폭시벤조 셀레노펜, 5-iso-프로폭시벤조 셀레노펜, 6-iso-프로폭시벤조 셀레노펜, 7-iso-프로폭시벤조 셀레노펜, 4-n-부톡시벤조 셀레노펜, 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4-디시아노비닐벤조 셀레노펜, 5-디시아노비닐벤조 셀레노펜, 6-디시아노비닐벤조 셀레노펜, 7-디시아노비닐벤조 셀레노펜, N-메틸벤조 셀레노펜, N-에틸벤조 셀레노펜, N-n-프로필벤조 셀레노펜, N-iso-프로필벤조 셀레노펜, N-n-부틸벤조 셀레노펜, N-sec-부틸벤조 셀레노펜, N-t-부틸벤조 셀레노펜, 벤조 텔루로펜 4-카르복실산, 벤조 텔루로펜 5-카르복실산, 벤조 텔루로펜 6-카르복실산, 벤조 텔루로펜 7-카르복실산, 벤조 텔루로펜 4-술폰산, 벤조 텔루로펜 5-술폰산, 벤조 텔루로펜 6-술폰산, 벤조 텔루로펜 7-술폰산, 4-메틸벤조 텔루로펜, 5-메틸벤조 텔루로펜, 6-메틸벤조 텔루로펜, 7-메틸벤조 텔루로펜, 4-에틸벤조 텔루로펜, 5-에틸벤조 텔루로펜, 6-에틸벤조 텔루로펜, 7-에틸벤조 텔루로펜, 4-n-프로필벤조 텔루로펜, 5-n-프로필벤조 텔루로펜, 6-n-프로필벤조 텔루로펜, 7-n-프로필벤조 텔루로펜, 4-iso-프로필벤조 텔루로펜, 5-iso-프로필벤조 텔루로펜, 6- iso-프로필벤조 텔루로펜, 7-iso-프로필벤조 텔루로펜, 4-n-부틸벤조 텔루로펜, 5-n-부틸벤조 텔루로펜, 6-n-부틸벤조 텔루로펜, 7-n-부틸벤조 텔루로펜, 4-sec-부틸벤조 텔루로펜, 5-sec-부틸벤조 텔루로펜, 6-sec-부틸벤조 텔루로펜, 7-sec-부틸벤조 텔루로펜, 4-t-부틸벤조 텔루로펜, 5-t-부틸벤조 텔루로펜, 6-t-부틸벤조 텔루로펜, 7-t-부틸벤조 텔루로펜, 4-메톡시벤조 텔루로펜, 5-메톡시벤조 텔루로펜, 6-메톡시벤조 텔루로펜, 7-메톡시벤조 텔루로펜, 4-에톡시벤조 텔루로펜, 5-에톡시벤조 텔루로펜, 6-에톡시벤조 텔루로펜, 7-에톡시벤조 텔루로펜, 4-n-프로폭시벤조 텔루로펜, 5-n-프로폭시벤조 텔루로펜, 6-n-프로폭시벤조 텔루로펜, 7-n-프로폭시벤조 텔루로펜, 4-iso-프로폭시벤조 텔루로펜, 5-iso-프로폭시벤조 텔루로펜, 6-iso-프로폭시벤조 텔루로펜, 7-iso-프로폭시벤조 텔루로펜, 4-n-부톡시벤조 텔루로펜, 5-n-부톡시벤조 텔루로펜, 6-n-부톡시벤조 텔루로펜, 7-n-부톡시벤조 텔루로펜, 4-sec-부톡시벤조 텔루로펜, 5-sec-부톡시벤조 텔루로펜, 6-sec-부톡시벤조 텔루로펜, 7-sec-부톡시벤조 텔루로펜, 4-t-부톡시벤조 텔루로펜, 5-t-부톡시벤조 텔루로펜, 6-t-부톡시벤조 텔루로펜, 7-t-부톡시벤조 텔루로펜, 4-아세틸벤조 텔루로펜, 5-아세틸벤조 텔루로펜, 6-아세틸벤조 텔루로펜, 7-아세틸벤조 텔루로펜, 벤조 텔루로펜 4-카르발데히드, 벤조 텔루로펜 5-카르발데히드, 벤조 텔루로펜 6-카르발데히드, 벤조 텔루로펜 7-카르발데히드, 벤조 텔루로펜 4-카르복실산메틸, 벤조 텔루로펜 5-카르복실산메틸, 벤조 텔루로펜 6-카르복실산메틸, 벤조 텔루로펜 7-카르복실산메틸, 벤조 텔루로펜 4-술폰산메틸, 벤조 텔루로펜 5-술폰산메틸, 벤조 텔루로펜 6-술폰산메틸, 벤조 텔루로펜 7-술폰산메틸, 벤조 텔루로펜 4-카르보니트릴, 벤조 텔루로펜 5-카르보니트릴, 벤조 텔루로펜 6-카르보니트릴, 벤조 텔루로펜 7-카르보니트릴, 4-히드록시벤조 텔루로펜, 5-히드록시벤조 텔루로펜, 6-히드록시벤조 텔루로펜, 7-히드록시벤조 텔루로펜, 4-니트로벤조 텔루로펜, 5-니트로벤조 텔루로펜, 6-니트로벤조 텔루로펜, 7-니트로벤조 텔루로펜, 4-아미노벤조 텔루로펜, 5-아미노벤조 텔루로펜, 6-아미노벤조 텔루로펜, 7-아미노벤조 텔루로펜, 4-카르바모일벤조 텔루로펜, 5-카르바모일벤조 텔루로펜, 6-카르바모일벤조 텔루로펜, 7-카르바모일벤조 텔루로펜, 4-플루오로벤조 텔루로펜, 5-플루오로벤조 텔루로펜, 6-플루오로벤조 텔루로펜, 7-플루오로벤조 텔루로펜, 4-클로로벤조 텔루로펜, 5-클로로벤조 텔루로펜, 6-클로로벤조 텔루로펜, 7-클로로벤조 텔루로펜, 4-브로모벤조 텔루로펜, 5-브로모벤조 텔루로펜, 6-브로모벤조 텔루로펜, 7-브로모벤조 텔루로펜, 4-요오도벤조 텔루로펜, 5-요오도벤조 텔루로펜, 6-요오도벤조 텔루로펜, 7-요오도벤조 텔루로펜, 4-디시아노비닐벤조 텔루로펜, 5-디시아노비닐벤조 텔루로펜, 6-디시아노비닐벤조 텔루로펜, 7-디시아노비닐벤조 텔루로펜, N-메틸벤조 텔루로펜, N-에틸벤조 텔루로펜, N-n-프로필벤조 텔루로펜, N-iso-프로필벤조 텔루로펜, N-n-부틸벤조 텔루로펜, N-sec-부틸벤조 텔루로펜, N-t-부틸벤조 텔루로펜 등을 들 수 있다.
상기 도전체(125)들은 도 3에 도시된 바와 같이, 3:1 이상의 종횡비를 갖는 형상으로 이루어질 수 있다. 여기서, 종횡비란 도전체(125)의 길이(l)와 직경(d)의 비를 의미한다. 종횡비가 클수록 도전체(125)간 교차확률이 높아 전도율에 유리하다. 몇몇 실시예에서, 종횡비는 10:1 이상일 수 있다. 다른 실시예에서, 종횡비는 100:1 이상일 수 있다.
상기 도전체(125)는 적어도 부분적으로 꼬여 있을 수 있다. 이 경우, 종횡비는 도전체(125)의 꼬임을 풀어 라인 형상으로 하였을 때의 길이(l)와 도전체(125)의 직경(d)의 비로 해석될 수 있다.
도전 패턴(120)은 위에서 열거된 물질 들 외에, 도전체(125)의 전도율을 개선하거나, 도전체(125)의 분산성을 개선하거나, 도전체(125)의 안정성을 개선하기 위하여 금속 나노 입자, 무기 나노 입자, 폴리머 첨가제, 및 계면 활성제 중 적어도 하나를 더 포함하여 이루어질 수 있다.
상기 금속 나노 입자의 예로는 은(Ag), 알루미늄(Al), 금(Au), 베릴륨(Be), 카드뮴(Cd), 코발트(Co), 크롬(Cr), 구리(Cu), 철(Fe), 수은(Hg), 마그네슘(Mg), 망간(Mn), 니켈(Ni), 납(Pb), 팔라듐(Pd), 백금(Pt), 안티몬(Sb), 탄탈륨(Ta), 티타늄(Ti), 텅스텐(W), 아연(Zn), 루비듐(Ru), 오스뮴(Os), 이리듐(Ir), 로듐(Rh), 주석(Sn), 리튬(Li), 나트륨(Na), 칼륨(K), 칼슘(Ca), 스칸듐(Sc), 바나듐(V), 카본 블랙, 플러렌 등을 들 수 있다.
상기 무기 나노입자의 예로는 실리카, 알루미나(Al2O3), 지르코니아(Zirconia), 타이타니아(Titania), 안티몬 주석 산화물(Antimony Tin Oxide, ATO), 인듐 주석 산화물(ITO; Indium Tin Oxide), 산화인듐, 산화카드뮴, 산화주석, 산화아연, 산화티타늄 등을 들 수 있다.
상기 폴리머 첨가제의 예로는 고무 변성 폴리스티렌 수지, 나트륨폴리아크릴레이트(Sodium Polyacrylate), 니트로셀룰로오스, 니트릴고무, 디알릴테레프탈레이트 수지, 멜라민 수지, 벤조구아나민 수지, 변성 폴리페닐렌에테르 수지, 부티랄, 부틸고무, 불소 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 비닐에스테르 수지, 세라믹 하이브리드 폴리머, 세라믹 혼성 폴리머, 셀룰로오스, 수첨스티렌-부타디엔 공중합체, 수첨폴리이소프렌 및 수첨폴리부타디엔, 스티렌, 스티렌-부타디엔 공중합체, 스티렌-아크릴 공중합체, 시클로올레핀계 수지, 신디오택틱 폴리스티렌 수지, 실리콘 수지, 아로마틱폴리아미드, 아세트산 비닐, 아세트산셀룰로오스 수지, 아크릴 고무, 아크릴 변형 실리케이트, 아크릴 수지, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌(ABS) 수지, 아크릴로니트릴-스티렌(AS) 수지, 아크릴산 멜라민, 아크릴산 우레탄, 알키드 수지, 액정 폴리에스테르 수지, 에틸렌-부텐-디엔 공중합체, 에틸렌비닐알코올 수지, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 에틸렌-프로필렌-디엔 공중합체, 에폭시 수지, 열가소성 폴리이미드 수지, 염화 비닐계 수지, 염화 폴리에틸렌, 염화 폴리프로필렌, 염화비닐 및 아세트산비닐의 공중합체, 우레아 수지, 우레탄 수지, 이오노머 수지, 인산화물, 젤라틴, 칼코게나이드(chalcogenides), 케톤 수지, 크실렌 수지, 클로로트리플루오로에틸렌?에틸렌 공중합체, 키틴, 테트라플루오로에틸렌?에틸렌 공중합체, 테트라플루오로에틸렌?퍼플루오로알킬비닐에테르 공중합체, 테트라플루오로에틸렌?헥사플루오로프로필렌 공중합체, 퍼플루오르카본술폰산(Nafion), 페놀 수지, 포스핀 옥사이드, 폴라사카라이드류, 폴리뉴클레오타이드, 폴리락트산 수지, 폴리메타크릴아마이드, 폴리메틸메타크릴레이트 수지, 폴리메틸펜텐, 폴리벤즈이미다졸, 폴리부타디엔, 폴리부텐, 폴리부틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴플루오로라이드, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐알코올, 폴리사카라이드, 폴리술폰 수지, 폴리스티렌 부타디엔 공중합체, 폴리스티렌 부타디엔 공중합체, 폴리스티렌 수지, 폴리스티렌술포네이트(PSS), 폴리실록산, 폴리아네톨술폰산나트륨염(Polyanetholesulfonic acid sodium salt), 폴리아닐린, 폴리아릴레이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리아믹산, 폴리아세탈 수지, 폴리아세틸렌, 폴리아크릴레이트, 폴리아크릴로니트릴 수지, 폴리아크릴산(PAA), 폴리에 테르설폰, 폴리에스테르, 폴리에테르니트릴, 폴리에테르설폰 수지, 폴리에테르케톤, 폴리에테르이미드, 폴리에틸렌, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌테트라플루오라이드, 폴리염화비닐 수지, 폴리염화비닐리덴 수지, 폴리올레핀, 폴리우레탄, 폴리이미드 수지, 폴리이소프렌, 폴리카보네이트, 폴리카보디이미드, 폴리케톤 수지, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리테트라플루오로에틸렌 공중합체, 폴리티올, 폴리페닐렌설파이드, 폴리페닐렌에테르 수지, 폴리펜텐, 폴리펩타이드, 폴리프로필렌, 폴리프탈아마이드, 폴리피롤, 푸란 수지, 플루오로비닐리딘, 환상 폴리올레핀 수지, ABS (아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체), PS-b-P4VP(poly(styrene-block-4-vinyl pyridine)), 아크릴산 2-카복시에틸, 아크릴산 3-카복시프로필, 아크릴산 2-카복시프로필, 아크릴산 4-카복시뷰틸, 아크릴산 3-카복시뷰틸, 아크릴산 2-카복시뷰틸, 아크릴산 6-카복시n-헥실, 아크릴산 5-카복시n-헥실, 아크릴산 4-카복시n-헥실, 아크릴산 3-카복시n-헥실, 아크릴산 2-카복시n-헥실, 아크릴산 4-카복시사이클로헥실, 아크릴산 4-카복시페닐, 아크릴산 ω-카복시-폴리카프로락톤, 2-아크릴로일옥시에틸석신산, 2-아크릴로일옥시에틸프탈산, 메타크릴산 2-카복시에틸, 메타크릴산 3-카복시프로필, 메타크릴산2-카복시프로필, 메타크릴산 4-카복시뷰틸, 메타크릴산 3-카복시뷰틸, 메타크릴산 2-카복시뷰틸, 메타크릴산 6-카복시n-헥실, 메타크릴산 5-카복시n-헥실, 메타크릴산 4-카복시n-헥실, 메타크릴산 3-카복시n-헥실, 메타크릴산 2-카복시n-헥실, 메타크릴산 4-카복시사이클로헥실, 메타크릴산 4-카복시페닐, 메타크릴산 ω-카복시-폴리카프로락톤, 2-메타크릴로일옥시에틸석신산, 2-메타크릴로일옥시에틸프탈산, N-(카복시에틸)아크릴아마이드, N-(카복시하이드록시메틸)아크릴아마이드, N-(3-카복시프로필)아크릴아마이드, N-(2-카복시프로필)아크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-카복시프로필)아크릴아마이드, N-(4-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-(3-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-(2-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-카복시헥실)아크릴아마이드, N-(5-카복시헥실)아크릴아마이드, N-(4-카복시헥실)아크릴아마이드,N-(3-카복시헥실)아크릴아마이드, N-(2-카복시헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(카복시에틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(카복시하이드록시메틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-카복시프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-카복시프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-카복시뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(6-카복시헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(5-카복시헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-카복시헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-카복시헥실)아크릴아마이드, N-(카복시에틸)메타크릴아마이드,N-(카복시하이드록시메틸)메타크릴아마이드, N-(3-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-(2-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-(4-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-(3-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-(2-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-(5-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-(4-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-(3-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-(2-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(카복시에틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(카복시하이드록시메틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-카복시프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-카복시뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(6-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(5-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-카복시헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-카복시헥실)메타크릴아마이드,N-메틸-N-(2-카복시헥실)메타크릴아마이드, 3-아크릴로일아미노-3-메틸-4-설포뷰티르산, 아크릴산 2-설포에틸, 아크릴산 3-설포프로필, 아크릴산 2-설포프로필, 아크릴산4-설포뷰틸, 아크릴산 3-설포뷰틸, 아크릴산 2-설포뷰틸, 아크릴산 6-설포n-헥실, 아크릴산 5-설포n-헥실, 아크릴산4-설포n-헥실, 아크릴산 3-설포n-헥실, 아크릴산 2-설포n-헥실, 아크릴산 4-설포사이클로헥실, 메타크릴산 2-설포에틸, 메타크릴산 3-설포프로필, 메타크릴산 2-설포프로필, 메타크릴산 4-설포뷰틸, 메타크릴산 3-설포뷰틸, 메타크릴산2-설포뷰틸, 메타크릴산 6-설포n-헥실, 메타크릴산 5-설포n-헥실, 메타크릴산 4-설포n-헥실, 메타크릴산 3-설포n-헥실, 메타크릴산 2-설포n-헥실, 메타크릴산 4-설포사이클로헥실, N-(설포에틸)아크릴아마이드, N-(설포하이드록시메틸)아크릴아마이드, N-(3-설포프로필)아크릴아마이드, N-(2-설포프로필)아크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-설포프로필)아크릴아마이드, N-(4-설포뷰틸)아크릴아마이드, N-(3-설포뷰틸)아크릴아마이드, N-(2-설포뷰틸)아크릴아마이드,N-(6-설포헥실)아크릴아마이드, N-(5-설포헥실)아크릴아마이드, N-(4-설포헥실)아크릴아마이드, N-(3-설포헥실)아크릴아마이드, N-(2-설포헥실)아크릴아마이드, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산, N-메틸-N-(설포에틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(설포하이드록시메틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-설포프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-설포뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(6-설포헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(5-설포헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-설포헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포헥실)아크릴아마이드, N-(설포에틸)메타크릴아마이드, N-(설포하이드록시메틸)메타크릴아마이드, N-(3-설포프로필)메타크릴아마이드, N-(2-설포프로필)메타크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-설포프로필)메타크릴아마이드, N-(4-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-(3-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-(2-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-설포헥실)메타크릴아마이드, N-(5-설포헥실)메타크릴아마이드, N-(4-설포헥실)메타크릴아마이드, N-(3-설포헥실)메타크릴아마이드, N-(2-설포헥실)메타크릴아마이드, 메타크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산, N-메틸-N-(설포에틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(설포하이드록시메틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-설포프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(6-설포헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(5-설포헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-설포헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-설포헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-설포헥실)메타크릴아마이드, 2-아크릴로일아미노-2-페닐-1-프로페인설폰산, 2-아크릴로일아미노-2-(4-클로로페닐)-1-프로페인설폰산, 2-메타크릴로일아미노-2-페닐-1-프로페인설폰산, 2-메타크릴로일아미노-2-(4-클로로페닐)-1-프로페인설폰산, 아크릴산 2-포스포노에틸, 아크릴산 3-포스포노프로필, 아크릴산 2-포스포노프로필, 아크릴산 4-포스포노뷰틸, 아크릴산 3-포스포노뷰틸, 아크릴산 2-포스포노뷰틸, 아크릴산 6-포스포노n-헥실, 아크릴산 5-포스포노n-헥실, 아크릴산 4-포스포노n-헥실, 아크릴산 3-포스포노n-헥실, 아크릴산 2-포스포노n-헥실, 아크릴산 4-포스포노사이클로헥실, 아크릴산 4-포스포노페닐, 메타크릴산 2-포스포노에틸, 메타크릴산 3-포스포노프로필,메타크릴산 2-포스포노프로필, 메타크릴산 4-포스포노뷰틸, 메타크릴산 3-포스포노뷰틸, 메타크릴산 2-포스포노뷰틸,메타크릴산 6-포스포노n-헥실, 메타크릴산 5-포스포노n-헥실, 메타크릴산 4-포스포노n-헥실, 메타크릴산 3-포스포노n-헥실, 메타크릴산 2-포스포노n-헥실, 메타크릴산 4-포스포노사이클로헥실, 메타크릴산 4-포스포노페닐, N-(포스포노에틸)아크릴아마이드, N-(3-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-(2-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-(4-포스포노뷰틸)아크릴아마이드, N-(3-포스포노뷰틸)아크릴아마이드, N-(2-포스포노뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-(5-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-(4-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-(3-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-(2-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(포스포노에틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-포스포노프로필)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-포스포노뷰틸)아크릴아마이드,N-메틸-N-(3-포스포노뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노뷰틸)아크릴아마이드, N-메틸-N-(6-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(5-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(4-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(3-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노헥실)아크릴아마이드, N-(포스포노에틸)메타크릴아마이드, N-(3-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-(2-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-(1,1-다이메틸-3-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-(4-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(3-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(2-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-(5-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-(4-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-(3-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-(2-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(포스포노에틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(1,1-다이메틸-3-포스포노프로필)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노뷰틸)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(6-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(5-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(4-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(3-포스포노헥실)메타크릴아마이드, N-메틸-N-(2-포스포노헥실)메타크릴아마이드, 아크릴산 2-에틸설폰산, 메타크릴산 2-에틸설폰산, 아크릴산 2-설포에틸나트륨, 아크릴산 2-설포에틸칼륨, 아크릴산 2-설포에틸암모늄, 아크릴산 2-설포에틸테트라메틸암모늄, 메타크릴산 2-설포에틸나트륨, 메타크릴산 2-설포에틸칼륨, 메타크릴산 2-설포에틸암모늄, 메타크릴산 2-설포에틸테트라메틸암모늄, 메타크릴산 2-설포프로필나트륨, 메타크릴산 2-설포프로필칼륨, 메타크릴산 2-설포프로필암모늄, 메타크릴산 2-설포프로필테트라메틸암모늄, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산나트륨, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산칼륨, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산암모늄, 아크릴아마이드 2-메틸프로페인설폰산테트라메틸암모늄, 아크릴산 나트륨, 아크릴산 칼륨, 메타크릴산 나트륨, 메타크릴산 칼륨, (메트)아크릴산에스터, 아크릴산 메틸, 아크릴산 n-뷰틸, 메타크릴산 메틸, 메타크릴산 에틸, (메트)아크릴산 메틸, (메트)아크릴산 에틸, (메트)아크릴산 프로필, (메트)아크릴산 아이소프로필, (메트)아크릴산 n-뷰틸, (메트)아크릴산 i-뷰틸, (메트)아크릴산 t-뷰틸, (메트)아크릴산 n-헥실, (메트)아크릴산사이클로헥실, (메트)아크릴산 라우릴, (메트)아크릴산 트라이데실, (메트)아크릴산 스테아릴, (메트)아크릴산 2-에틸헥실, (메트)아크릴산 페닐, (메트)아크릴산 벤질, (메트)아크릴산 아이소보닐, (메트)아크릴산 글라이시딜, (메트)아크릴산테트라하이드로퍼푸릴, (메트)아크릴산 다이메틸아미노에틸, (메트)아크릴산 다이에틸아미노에틸, (메트)아크릴산 에틸트라이메틸암모늄 클로라이드, (메트)아크릴산 2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산 하이드록시프로필, (메트)아크릴산 메톡시에틸, (메트)아크릴산 에톡시에틸, (메트)아크릴산 1,4-뷰테인다이올, 폴리에틸렌 글라이콜의 다이(메트)아크릴레이트, 1,4-뷰테인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 1,6-헥세인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 1,9-노네인다이올 다이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올프로페인 트라이(메트)아크릴레이트, 트라이메틸올에테인 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 글라이세린 트라이(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리쓰리톨 트라이(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리쓰리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리쓰리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 다이펜타에리쓰리톨헥사(메트)아크릴레이트, 트라이펜타에리쓰리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 트라이펜타에리쓰리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 트라이펜타에리쓰리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 트라이펜타에리쓰리톨 헵타(메트)아크릴레이트, 말론산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 말론산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 말론산/글라이세린/(메트)아크릴산, 말론산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 석신산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 석신산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 석신산/글라이세린/(메트)아크릴산, 석신산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 아디프산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 아디프산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 아디프산/글라이세린/(메트)아크릴산, 아디프산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 글루타르산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 글루타르산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 글루타르산/글라이세린/(메트)아크릴산, 글루타르산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 세바산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 세바스산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 세바스산/글라이세린/(메트)아크릴산, 세바스산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 푸마르산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 푸마르산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 푸마르산/글라이세린/(메트)아크릴산, 푸마르산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 이타콘산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 이타콘산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 이타콘산/글라이세린/(메트)아크릴산, 이타콘산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 무수말레산/트라이메틸올에테인/(메트)아크릴산, 무수말레산/트라이메틸올프로페인/(메트)아크릴산, 무수말레산/글라이세린/(메트)아크릴산, 무수말레산/펜타에리쓰리톨/(메트)아크릴산, 헥사메틸렌 다이아이소시아네이트, 톨릴렌 다이이소시아네이트, 다이페닐메테인 다이아이소사이아네이트, 자일렌 다이아이소사이아네이트, 4,4'-메틸렌 비스(사이클로헥실아이소사이아네이트), 아이소포론 다이아이소사이아네이트, 트라이메틸헥사메틸렌 다이아이소시아네이트, 벤질아민, 트라이-n-옥틸아민, 다이-n-옥틸아민, 2-에틸헥실아민, 3-(2-에틸헥실옥시)프로필아민, 아닐린, 다이메틸아닐린, 다이에틸아닐린, 다이-n-프로필아닐린, 다이-iso-프로필아닐린, 아크릴산 다이메틸아미노메틸, 아크릴산 다이메틸아미노에틸, 아크릴산 다이메틸아미노프로필,아크릴산 다이메틸아미노뷰틸, 아크릴산 다이메틸아미노헥실, 메타크릴산 다이메틸아미노메틸, 메타크릴산 다이메틸아미노에틸, 메타크릴산 다이메틸아미노프로필, 메타크릴산 다이메틸아미노뷰틸, 메타크릴산 다이메틸아미노헥실, 아크릴산다이에틸아미노메틸, 아크릴산 다이에틸아미노에틸, 아크릴산 다이에틸아미노프로필, 아크릴산 다이에틸아미노뷰틸, 아크릴산 다이에틸아미노헥실, 메타크릴산 다이에틸아미노메틸, 메타크릴산 다이에틸아미노에틸, 메타크릴산 다이에틸아미노프로필, 메타크릴산 다이에틸아미노뷰틸, 메타크릴산 다이에틸아미노헥실, N-(2-다이메틸아미노에틸)아크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)아크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)아크릴아마이드, N-(2-다이메틸아미노에틸)아크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)아크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)아크릴아마이드, N-(2-다이메틸아미노에틸)메타크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)메타크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)메타크릴아마이드, N-(2-다이메틸아미노에틸)메타크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)메타크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)메타크릴아마이드, 염화 벤잘코늄, 염화 트라이메틸벤질암모늄, 염화 알킬 다이에틸벤질암모늄, 브롬화 트라이에틸벤질암모늄, 염화 트라이옥틸메틸암모늄, 하이드록실화 트라이메틸벤질암모늄, 아크릴산 다이메틸아미노메틸, 아크릴산 다이메틸아미노에틸, 아크릴산 다이메틸아미노프로필,아크릴산 다이메틸아미노뷰틸, 아크릴산 다이메틸아미노헥실, 아크릴산 다이하이드록시에틸아미노에틸, 아크릴산 다이프로필아미노에틸, 아크릴산 다이뷰틸아미노에틸, 메타크릴산 다이메틸아미노메틸, 메타크릴산 다이메틸아미노에틸, 메타크릴산 다이메틸아미노프로필, 메타크릴산 다이메틸아미노뷰틸, 메타크릴산 다이메틸아미노헥실, 아크릴산 다이에틸아미노메틸, 아크릴산 다이에틸아미노에틸, 아크릴산 다이에틸아미노프로필, 아크릴산 다이에틸아미노뷰틸, 아크릴산 다이에틸아미노헥실, 메타크릴산 다이에틸아미노메틸, 메타크릴산 다이에틸아미노에틸, 메타크릴산 다이에틸아미노프로필, 메타크릴산 다이에틸아미노뷰틸, 메타크릴산 다이에틸아미노헥실, 메타크릴산 다이하이드록시에틸아미노에틸, 메타크릴산다이프로필아미노에틸, 메타크릴산 다이뷰틸아미노에틸, N-(2-다이메틸아미노에틸)아크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)아크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)아크릴아마이드,N-(2-다이메틸아미노에틸)아크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)아크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)아크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)아크릴아마이드, N-(2-다이메틸아미노에틸)메타크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)메타크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)메타크릴아마이드, N-(2-다이메틸아미노에틸)메타크릴아마이드, N-(3-다이메틸아미노프로필)메타크릴아마이드, N-(4-다이메틸아미노뷰틸)메타크릴아마이드, N-(6-다이메틸아미노헥실)메타크릴아마이드, 다이메틸아미노에틸 메타크릴레이트, 다이에틸아미노에틸 메타크릴레이트, 다이메틸아미노프로필메타크릴레이트, 다이메틸아미노에틸 아크릴레이트, 다이에틸아미노에틸 아크릴레이트, 다이메틸아미노뷰틸 메타크릴레이트, 다이하이드록시에틸아미노에틸 메타크릴레이트, 다이프로필아미노에틸 메타크릴레이트, 다이뷰틸아미노에틸 메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 뷰틸 메타크릴레이트, 라우릴 메타크릴레이트, 에틸헥실 메타크릴레이트, 스테아릴 메타크릴레이트, 메틸 아크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트, 페닐 메타크릴레이트, 사이클로헥실 메타크릴레이트, 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트, 폴리에틸렌 글라이콜 모노아크릴레이트, 폴리프로필렌 글라이콜 모노메타크릴레이트, 폴리뷰틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트, 폴리에틸렌글라이콜 모노메타크릴레이트 모노메틸에터, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트 모노뷰틸에터, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트 모노스테아릴에터, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트 모노페닐에터, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트 모노벤질에터, 폴리에틸렌 글라이콜 모노메타크릴레이트 모노올레일에테르 등을 들 수 있다.
상기 계면활성제의 예로는 2-알킬-1-알킬-1-히드록시에틸 이미다졸리늄(2-alkyl-1-alkyl-1-hydroxyethyl imidazolium), 2-알킬-1-카르복시메틸-1-히드록시에틸 이미다졸리늄 베타인, 4급 암모늄, 나프탈렌 술폰산 포름알데히드 축합물, 다가 알코올 지방산 부분 에스테르, 도데실벤젠술폰산의 나트륨염(Na-DDBS), 도데실트리메틸암모니움 브로마이드(Dodecyltrimethylammonium bromide, DTAB), 도데실페닐에테르술폰산염, 디알킬술포숙신산, 리튬 도데실 설페이트(Lithium dodecyl sulfate, LDS), 석유 술폰산, 세틸트리메틸 암모늄 브로마이드(CTAB, Cetyl Trimethyl Ammonium Bromide), 소듐 도데실 설페이트(SDS, Sodium Dodecyl Sulfate), 소듐도데실벤젠설포네이트(Sodium dodecylbenzenesulfonate, SDBS), 소듐도데실설포네이트(Sodium dodecylsulfonate, SDSA), 소르비탄 지방산 에스테르, 알킬 황산, 알킬나프탈렌 술폰산, 알킬벤젠 술폰산, 알킬술폰산, 알킬인산, 알킬카르복실산, 제1 지방아민, 제2 지방아민, 제3 지방아민, 지방산 디에탄올 아미드, 테트라알킬암모늄, 트리알킬벤질암모늄 알킬피리디늄, 트리알킬아민 옥시드, 트리에탄올아민 지방산 부분 에스테르, 트리톤(Triton) X-100, 퍼플루오로알킬 벤젠 술폰산, 퍼플루오로알킬 카르복실산, 퍼플루오로알킬 폴리옥시에틸렌 에탄올, 폴리글리세린 지방산 에스테르, 폴리비닐피롤리돈(Poly(vinylpyrrolidone)), 폴리에틸렌 폴리아민 지방산 아미드, 폴리에틸렌옥사이드-폴리부틸렌옥사이드-폴리에틸렌옥사이드 3블럭 공중합체, 폴리옥시알킬디부틸페닐에테르, 폴리옥시알킬렌노닐페닐에테르, 폴리옥시알킬렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시알킬벤질페닐에테르, 폴리옥시알킬비스페닐에테르, 폴리옥시알킬스티릴페닐에테르, 폴리옥시알킬쿠밀페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 다가 알코올 지방산 부분 에스테르, 폴리옥시에틸렌 소르비탄 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 수지 산에스테르, 폴리옥시에틸렌 스티렌화 페닐에테르 황산, 폴리옥시에틸렌 알킬 아민, 폴리옥시에틸렌 알킬에테르, 폴리옥시에틸렌 알킬에테르 인산, 폴리옥시에틸렌 알킬에테르 황산, 폴리옥시에틸렌 알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 알킬페닐에테르 인산, 폴리옥시에틸렌 지방산 디에틸, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌 폴리스티릴 페닐에테르, 폴리옥시에틸렌ㆍ폴리프로필렌글리콜, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌-폴리옥시프로필렌 알킬에테르, 폴리옥시에틸렌-폴리옥시프로필렌글리콜, 폴리옥시에틸렌화 피마자유, 플루오로알킬 카르복실산, 황산화 유지, Brij-series, N,N,N-트리알킬-N-술포알킬렌 암모늄 베타인, N,N-디메틸-N-알킬-N-카르복시 메틸암모늄 베타인, N,N-디알킬모르폴리늄, N,N-디알킬아미노 알킬렌 카르복실산염, N,N-디알킬-N,N-비스폴리옥시에틸렌 암모늄 황산 에스테르 베타인, N-메틸-N-올레일 타우린, Triton X-series, Tween-series (Polyoxyethyelene Sorbitan Monooleate), α-술폰화 지방산, α-올레핀 술폰산, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리비닐피롤, 폴리비닐알코올, 가넥스(Ganax), 전분, 단당류(monosaccharide), 다당류(polysaccharide), 검아라빅(Gum Arabic, GA) , 나피온(Nafion, 퍼플루오르카본술폰산) 등을 들 수 있다.
도전 패턴(120)은 중앙부의 제1 영역(121)과 제1 영역(121) 주변에 형성된 제2 영역(122)을 포함한다. 제1 영역(121)은 제2 영역(122)보다 같은 공간 내의 도전체(125)의 밀도가 더 크다.
도전 패턴(120)을 구성하는 물질이 탄소나노튜브인 예를 들어 설명하면, 제1 영역(121)의 도전체(125)의 밀도는 제2 영역(122)의 도전체(125)의 밀도보다 크다. 즉, 같은 공간 내에서 제2 영역(122)보다 제1 영역(121)이 상기 공간을 채우는 탄소나노튜브의 양이 더 많다.
도전체(125)의 밀도는 입체적으로 배치된 도전체(125)를 평면에 투영하였을 때의 밀도로 환산되어 계산될 수 있다. 따라서, 도전체(125)의 밀도 결정의 기준이 되는 공간은 도전체(125)가 배치되지 않는 영역을 포함할 수 있다. 이를 도전성 필름의 두께 관점에서 설명하면, 예를 들어, 제1 영역(121)은 제2 영역(122)보다 두께가 두꺼울 수 있다. 이 경우 제1 영역(121)이 제2 영역(122)과 같은 두께의 공간에서 제1 영역(121)과 동일한 밀도를 갖는다고 하더라도, 제1 영역(121)과 같은 두께의 공간을 기준으로 따지면 제2 영역(122)은 도전체(125)가 존재하지 않는 공간이 있어 밀도가 희석된다. 따라서, 이 경우 제1 영역(121)의 밀도가 제2 영역(122)의 밀도보다 크다고 해석된다.
특정 공간에 탄소나노튜브가 채워져 있으면, 아무리 탄소나노튜브의 직경이 작아 광투과율이 높다고 하더라도, 탄소나노튜브가 채워져 있지 않은 경우에 비하여 광투과율이 낮아진다. 따라서, 이와 같은 제2 영역(122)의 존재는 제2 영역(122) 폭까지 모두 제1 영역(121)과 동일한 밀도로 도전체(125)가 채워져 있는 경우에 비해 도전성 필름의 전체적인 광투과율을 증가시킨다.
뿐만 아니라, 상대적으로 밀도가 낮은 제2 영역(122)으로 인해 도전체(125)의 사용량이 감소하므로, 원가가 감소하는 효과가 있다.
한편, 도전 패턴(120)의 전도율은 도전체(125)의 길이가 전체 패턴의 길이와 같지 않은 이상, 각 도전체(125)간 상호 접촉하는 접촉점의 개수에 비례한다. 즉, 각 도전체(125)가 더 많이 상호 교차하면 할수록 전도율이 높아진다. 각 도전체(125)의 교차점의 개수는 도전체(125)의 길이 및 도전체(125)의 밀도에 비례한다. 도전체(125)의 길이가 결정되어 있다면, 교차점의 개수는 도전체(125)의 밀도가 커질수록 커지며, 그에 따라 전도율이 증가한다. 이러한 관점에서, 제1 영역(121)은 제2 영역(122)보다 전도율이 높을 것임을 예상할 수 있다. 제2 영역(122)의 경우에도 제1 영역(121)보다는 정도가 덜 하지만, 도전체(125)가 분포되어 있고 이들간 교차점도 형성되어 있으므로, 제1 영역(121)보다는 낮은 전도율을 나타낸다. 따라서, 제2 영역(122)의 존재는 도전 패턴(125)이 제1 영역(121)에 해당하는 폭만으로 형성된 경우에 비해 전체적인 도전성 필름의 전도율을 증가시킨다.
제1 영역(121)에 전압이 인가된 경우, 도전체(125)를 따라서 전하가 흐른다. 각 도전체(125)가 다른 도전체(125)와 교차하면, 이러한 교차점을 통해 다른 도전체(125)로 전하가 전달된다. 그런데, 일부의 루트는 제1 영역(121)의 폭 방향의 에지를 포함할 수 있고, 만약 제2 영역(122)이 없다면, 여기에서 특정 도전체(125)가 전하를 전달한 도전체(125)가 아닌 다른 도전체(125)와 교차하지 않는 경우가 발생하여 전하의 전달이 중지된다. 제2 영역(122)에 비록 낮은 밀도이지만 도전체(125)가 있어 상기 제1 영역(121)의 에지 부분의 도전체(125)와 교차점을 형성한다면, 전하의 전달이 중지되지 않고 계속될 수 있다. 이와 같이, 제2 영역(122)은 제1 영역(121)에 인가된 전압에 대해서도 전도율을 높이는 기능을 수행할 수 있다.
뿐만 아니라, 제2 영역(122)은 전체 도전 패턴(120)의 전하 전달 기능을 다분화할 수 있다. 예를 들어, 도전 패턴(120)의 제1 영역(121)에 제1 전압이 인가되면, 제1 영역(121)은 제1 전류를 전달한다. 반면, 도전 패턴(120)의 제2 영역(122)에 같은 상기 제1 전압이 인가되면, 제2 영역(122)은 제1 영역(121)보다 저항이 크므로, 제1 전류보다는 작은 제2 전류를 전달한다. 상당히 낮은 전압이 인가될 경우, 제1 영역(121)의 경우 전류를 전달하지만, 제2 영역(122)의 경우 상대적으로 높은 저항에 의해 전류를 전달하지 않을 수도 있다. 즉, 도전 패턴(120)의 영역별로 서로 다른 전류를 흘릴 수 있어, 그에 따른 다양한 정보의 수집이 가능해진다.
본 발명의 다른 몇몇 실시예에서, 제2 영역(122)을 구성하는 도전체(125)가 주변부로 갈수록 공간을 기준으로 한 도전체(125)의 밀도가 작아진다. 즉, 제2 영역(122)은 제1 영역(121)과의 경계로부터 외측으로 멀어질수록 광투과율이 높아질 수 있다. 몇몇 실시예에서, 제2 영역(122)의 두께는 제1 영역(121)으로부터 멀어질수록 작아질 수 있다.
도전 패턴(120)은 도 1에 도시된 바와 같이, 평명도 상에서 일 방향으로 평행하게 연장된 복수의 스트라이프 패턴으로 구현될 수 있다. 이때, 각 스트라이프 패턴의 폭은 50㎛ 내지 10,000㎛일 수 있다. 이중 제2 영역을 제외한 제1 영역의 폭은 10㎛ 내지 5,000㎛일 수 있다. 이웃하는 스트라이프 패턴 사이의 간격은 50㎛ 내지 10,000㎛일 수 있다. 상술한 범위에 있을 때, 높은 투과도 및 전도율이 확보된 저항막 방식의 터치 패널로의 적용이 용이하다.
도전 패턴(120)은 기판(110)의 표면에 직접 부착될 수도 있지만, 기판(110)의 표면처리에 의해 노출된 작용기와 결합되어 부착되거나, 접착층 또는 링커 등 다른 매개층을 개재하여 부착될 수도 있다.
이하, 더욱 다양한 도전 패턴이 구현된 본 발명의 다른 실시예들을 설명한다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다. 도 4를 참조하면, 본 실시예에 따른 도전성 필름은 도전 패턴(120a, 120b, 120c, 120d)이 섬형 패턴을 이루고 있는 점이 도 2의 실시예와 상이하다. 섬형 패턴을 이루고 있지만, 중심부는 상대적으로 도전체의 밀도가 큰 제1 영역(121a, 121b, 121c, 121d)이, 제1 영역(121a, 121b, 121c, 121d)의 주변은 상대적으로 도전체의 밀도가 작은 제2 영역(122a, 122b, 122c, 122d)이 배치되는 점은 동일하다. 각 섬형 패턴은 서로 절연되어 있을 수도 있지만, 도시하지 않은 콘택이나 연결배선을 통해 상호 전기적으로 연결될 수도 있다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 도전성 필름의 평면도이다. 도 5를 참조하면, 도전성 필름은 복수의 제1 도전 패턴(220) 및 복수의 제2 도전 패턴(320)을 포함한다. 복수의 제1 도전 패턴(220) 및 복수의 제2 도전 패턴(320)은 모두 상술한 도전체를 포함한다. 각 제1 도전 패턴(220)은 복수의 섬형 패턴부(221)와 이웃하는 섬형 패턴부(221)를 연결하는 연결 패턴(222)을 포함하여 전체적으로 제1 방향(Y)으로 연장된 스트라이프 패턴으로 이루어져 있고, 이들이 제2 방향(X)을 따라 반복하여 배열되어 있다. 복수의 제2 도전 패턴(320)은 각 제1 도전 패턴(220)의 각 섬형 패턴부(221) 사이에 배치된 섬형 패턴으로 이루어져 있다. 제1 도전 패턴(220)의 각 섬형 패턴부(221)와 각 제2 도전 패턴(320)의 섬형 패턴은 서로 엇갈린 행렬 배열 구조를 갖는다. 분리되어 있는 각 제2 도전 패턴(320)들은 도시하지 않은 콘택이나 연결배선을 통해 제1 방향(Y)에 수직한 제2 방향(X)으로 전기적으로 연결될 수도 있다.
제1 도전 패턴(220)과 제2 도전 패턴(320)은 중심부가 상대적으로 도전체의 밀도가 큰 제1 영역으로, 제1 영역의 주변부는 상대적으로 도전체의 밀도가 작은 제2 영역으로 이루어진다. 몇몇 다른 실시예에서 제1 도전 패턴의 연결 패턴은 제1 영역만으로 이루어지거나, 제1 영역보다 전도율이 높은 제3 영역으로 이루어질 수도 있다.
이상에서 설명한 본 발명의 실시예들에 따른 도전필름은 투명도전막으로 기능하므로, 광범위한 적용범위를 갖는다.
예를 들어, 도 1 및 도 2의 실시예에 따른 도전성 필름은 저항막 방식의 터치 패널에 적용가능하다. 예컨대, 스프라이프 패턴을 갖는 2개의 도전성 필름을 상호 스프라이트 패턴이 교차하는 방향으로, 각 도전 패턴이 상호 마주보도록 배치하고, 그 사이에 다수의 압전소자를 개재함으로써, 저항막 방식의 터치 패널을 구성할 수 있다.
이와 같은 터치 패널은 상술한 것처럼, 투명도와 전도율이 동시에 개선될 수 있다.
또, 도 5의 실시예에 따른 도전성 필름은 정전 방식의 터치 패널로 적용가능하다. 이와 같은 터치 패널의 경우에도 투명도와 전도율이 동시에 개선될 수 있다.
나아가, 본 발명의 실시예들에 따른 도전성 필름은 높은 투명도와 높은 전도율을 동시에 보유하기 때문에, 액정표시장치, 유기EL 표시장치 등의 화소 전극이나 공통 전극으로 사용될 수 있다. 또, 태양전지의 투명 전극으로도 적용가능하다. 기타 투명 도전막이 요구되는 다양한 디스플레이나 조명 등에도 적용가능함은 물론이다.
이하, 본 발명의 실시예들에 따른 도전성 필름의 제조 방법에 대해 설명한다. 이하에서 설명하는 도전성 필름의 제조 방법은 예시적인 것에 불과하며, 더욱 다양한 방법으로 본 발명의 다양한 실시예들에 따른 도전성 필름을 제조할 수 있음을 당업자라면 쉽게 이해할 수 있을 것이다.
도 6 및 도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 도전성 필름의 제조 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.
먼저, 도 6을 참조하면, 기판(110) 상에 오픈부(410)를 정의하는 마스크 패턴(400)을 형성한다. 마스크 패턴(400)은 포토레지스트 패턴이나 하드 마스크 패턴으로 이루어질 수 있다. 마스크 패턴(400)은 오픈부(410)를 향해 하향 경사진 측벽402)을 포함한다. 오픈부(410)의 폭은 형성하려는 도전 패턴의 폭에 대응되도록 한다.
도 7을 참조하면, 마스크 패턴(400)이 형성된 기판(110) 상에 소정의 종횡비를 갖는 경우 도전체(125)를 포함하는 조성물을 제공한다. 조성물에 포함된 도전체(125) 중 일부는 오픈부(410)를 통하여 노출된 기판(110)의 표면에 배치되지만, 다른 일부는 마스크 패턴(400)의 상면(404)에, 또 다른 일부는 마스크 패턴(400)의 측벽(402)에 배치된다. 몇몇 도전체(125)는 그 일단이 기판(110)의 표면에, 타단은 마스크 패턴(400)의 측벽(402)에 배치되기도 한다.
기판(110) 측에서 바라보면, 오픈부(410)의 중앙부는 도전체(125)가 배치되는 데에 다른 제한이 없어 균일하게 도전체(125)가 배치되지만, 오픈부(410)의 주변부는 마스크 패턴(400)의 측벽(402)의 영향으로 온전히 기판(110)의 표면에 배치되지 못하고, 기판(110)과 마스크 패턴(400)의 측벽(402) 사이에 걸치거나, 마스크 패턴(400) 위에 부유하여 배치된다.
이어, 기판(110)에 배치된 도전체(125)를 기판(110) 상에 고정한다. 도전체(125)를 기판(110) 상에 고정하는 방법은 예를 들어, 상기 조성물을 건조하는 것을 포함할 수 있다. 그와 동시에 또는 별도로 상기 조성물에 열 에너지 또는 자외선과 같은 빛 에너지를 가하여 도전체(125)를 기판(110) 표면에 고정할 수도 있다. 또 다른 방법으로, 조성물을 건조한 후 그 위에 접착제를 제공하여 기판(110) 상에 도전체(125)를 고정할 수도 있다. 또한, 조성물의 제공 전에 기판(110)의 표면을 산 등의 화합물, 플라즈마, 초음파 등을 이용하여 물리 또는 화학적으로 처리하거나, 기판(110)의 표면에 링커를 개재시키는 것에 의해 도전체(125)의 고정을 도모할 수도 있다. 그 밖에 도전체(125)를 기판(110)의 표면에 고정하는 다른 다양한 방법이 적용될 수 있다.
이어, 마스크 패턴(400)을 제거한다. 마스크 패턴(400)이 포토레지스트 패턴으로 이루어지는 경우, 애싱이나 스트리퍼를 이용하여 제거할 수 있다. 마스크 패턴(400)이 하드 마스크인 경우, 건식 또는 습식 식각 공정을 이용하여 마스크 패턴(400)을 제거할 수 있다.
마스크 패턴(400)의 제거시 마스크 패턴(400)의 표면(404)에 배치되었던 도전체(125)는 함께 제거된다. 이때, 마스크 패턴(400)의 측벽(402)에 부유하여 배치되었던 도전체(125)도 함께 제거된다. 일단이 마스크 패턴(400)의 측벽(402)에 배치되고 타단이 기판(110)의 표면에 배치된 도전체(125)는 마스크 패턴(400)의 제거와 함께 제거될 수도 있고, 잔류할 수도 있다.
그 결과, 기판(110) 상에는 오픈부(410) 내의 도전체(125)만이 잔류하여 도전 패턴을 구성하게 된다. 다만, 마스크 패턴(400)의 측벽(402)에 인접한 영역은 상술한 것처럼 마스크 패턴(400)의 제거와 함께 부분적으로 제거되므로, 중심부보다 더 작은 밀도의 도전체(125)만이 잔류하게 된다. 따라서, 도 2에 도시된 바와 같이 잔류된 도전 패턴(120)은 중심부의 제1 영역(121) 및 제1 영역(121)의 주변부에 배치되고, 제1 영역(121)보다 도전체(125)의 밀도가 낮아 투과율이 높은 제2 영역(122)을 포함하게 된다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
Claims (17)
- 기판; 및
상기 기판 상에 형성되며, 도전체를 포함하는 도전 패턴을 포함하되,
상기 도전 패턴은 중심부에 위치하는 제1 영역, 및 상기 제1 영역의 주변부에 형성된 제2 영역을 포함하며,
상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 상기 도전체의 밀도가 더 큰 도전성 필름. - 제1 항에 있어서,
상기 제2 영역은 상기 제1 영역보다 광투과율이 높은 도전성 필름. - 제1 항에 있어서,
상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 전도율이 높은 도전성 필름. - 제1 항에 있어서,
상기 도전체는 탄소나노물질, 나노와이어, 및 전도성 폴리머 중 적어도 하나를 포함하는 도전성 필름. - 제4 항에 있어서,
상기 도전체는 종횡비가 3:1 이상인 도전성 필름. - 제4 항에 있어서,
상기 도전 패턴은 금속 나노 입자, 무기 나노 입자, 폴리머 첨가제 및 계면 활성제 중 적어도 하나를 더 포함하는 도전성 필름. - 제1 항에 있어서,
상기 제2 영역은 상기 제1 영역의 경계로부터 외측으로 멀어질수록 상기 도전체의 밀도가 작아지는 도전성 필름. - 제1 항에 있어서,
상기 기판과 상기 도전 패턴의 부착을 매개하는 매개층을 더 포함하는 도전성 필름. - 기판; 및
상기 기판 상에 형성되며, 일 방향으로 평행하게 연장된 복수의 도전 패턴을 포함하되,
상기 각 도전 패턴은 중심부에 위치하는 제1 영역, 및 상기 제1 영역의 주변부에 형성된 제2 영역을 포함하며,
상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 상기 도전체의 밀도가 더 큰 도전성 필름. - 제9 항에 있어서,
상기 도전체는 탄소나노물질, 나노와이어, 및 전도성 폴리머 중 적어도 하나를 포함하는 도전성 필름. - 제9 항에 있어서,
상기 각 도전 패턴의 선폭은 50㎛ 내지 10,000㎛인 도전성 필름. - 제11 항에 있어서,
상기 각 도전 패턴의 제1 영역의 폭은 10㎛ 내지 5,000㎛인 도전성 필름. - 제11 항에 있어서,
이웃하는 상기 각 도전 패턴의 간격은 50㎛ 내지 10,000㎛인 도전성 필름. - 기판; 및
상기 기판 상에 형성된 복수의 제1 도전 패턴 및 복수의 제2 도전 패턴을 포함하되,
상기 제1 도전 패턴은 복수의 섬형 패턴부 및 이웃하는 상기 섬형 패턴부를 연결하는 연결 패턴을 포함하여 제1 방향으로 연장된 스트라이프 패턴으로 형성되고, 상기 복수의 도전 패턴은 제2 방향을 따라 반복하여 배열되고,
상기 각 제2 도전 패턴은 섬형 패턴으로 이루어지되, 상기 각 제2 도전 패턴은 상기 제1 도전 패턴의 상기 섬형 패턴부 사이에 배치되며,
상기 각 제1 도전 패턴의 상기 섬형 패턴부 및 상기 각 제2 도전 패턴은 중심부에 위치하는 제1 영역, 및 상기 제1 영역의 주변부에 형성된 제2 영역을 포함하고,
상기 제1 영역은 상기 제2 영역보다 상기 도전체의 밀도가 더 큰 도전성 필름. - 제14 항에 있어서,
상기 도전체는 탄소나노물질, 나노와이어, 및 전도성 폴리머 중 적어도 하나를 포함하는 도전성 필름. - 제14 항에 있어서,
상기 각 제1 도전 패턴의 섬형 패턴부와 상기 제2 도전 패턴은 서로 엇갈린 행렬 배열 구조를 갖는 도전성 필름. - 제1 항 내지 제16 항 중 어느 한 항에 따른 도전성 필름을 포함하는 터치 패널.
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