KR20090064390A - 매칭 임피던스들 사이에서 스위칭하기 위한 장치 및 방법 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims abstract description 26
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 10
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 7
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
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- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
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- 매칭 임피던스들 사이에서 스위칭하기 위한 전기적 장치로서,상기 전기적 장치에 선택적으로 결합되도록 구성되는 스위칭되는 엘리먼트;상기 전기적 장치의 출력과 접속된 부하의 임피던스가 미리 결정된 제1 값이고 상기 스위칭되는 엘리먼트가 상기 전기적 장치로부터 분리될 때, 상기 전기적 장치의 입력 임피던스가 미리 결정된 소스 임피던스를 매칭하게 하도록 구성되는 매칭 네트워크;상기 전기적 장치의 출력과 접속된 상기 부하의 임피던스가 미리 결정된 제2 값이고 상기 스위칭되는 엘리먼트가 상기 전기적 장치에 결합될 때, 상기 전기적 장치의 입력 임피던스가 상기 미리 결정된 소스 임피던스를 매칭하게 하도록 구성되는 위상 시프트 네트워크;상기 미리 결정된 제1 값인 상기 부하의 임피던스와 상기 미리 결정된 제2 값인 상기 부하의 임피던스 사이에서 구분하도록 구성되는 센서; 및상기 센서가 상기 부하의 임피던스가 상기 미리 결정된 제1 값인 것으로 결정할 때, 상기 전기적 장치로부터 상기 스위칭되는 엘리먼트를 분리하고, 상기 센서가 상기 부하의 임피던스가 상기 미리 결정된 제2 값인 것으로 결정할 때, 상기 전기적 장치에 상기 스위칭되는 엘리먼트를 결합하도록 구성되는 제어 소자를 포함하는, 전기적 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 위상 시프트 네트워크는 상기 스위칭되는 엘리먼트와 상기 매칭 네트워크 사이에 존재하는, 전기적 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 위상 시프트 네트워크는 상기 매칭 네트워크와 상기 부하 사이에 존재하는, 전기적 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 위상 시프트 네트워크는 상기 매칭 네트워크와 통합되는, 전기적 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 매칭 네트워크는 가변 매칭 네트워크이고, 상기 전기적 장치는 이 전기적 장치의 입력에서 입력 센서를 더 포함하며, 상기 입력 센서는 상기 가변 매칭 네트워크를 제어하도록 구성되는, 전기적 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 스위칭되는 엘리먼트는 션트(shunt) 구성인, 전기적 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 스위칭되는 엘리먼트는 직렬 구성인, 전기적 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 스위칭되는 엘리먼트는 커패시터 및 인덕터 중 하나인, 전기적 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 위상 시프트 네트워크가 T 및 Pi 토폴로지 중 하나를 갖고, 상기 위상 시프트 네트워크가 하이 패스 주파수 응답 및 로우 패스 주파수 응답 중 하나를 갖는, 전기적 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 매칭 네트워크는 하이 패스 T, 로우 패스 T, L-매치, 및 감마 매치 토폴로지 중 하나를 갖는, 전기적 장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 미리 결정된 소스 임피던스는 50Ω 저항인, 전기적 장치.
- 매칭 임피던스들 사이에서 스위칭하기 위한 전기적 장치로서,상기 전기적 장치의 출력과 접속된 부하의 임피던스가 미리 결정된 제1 값이고 리액턴스 소자가 상기 전기적 장치로부터 분리될 때, 상기 전기적 장치의 입력 임피던스를 미리 결정된 소스 임피던스에 매칭하기 위한 수단;상기 전기적 장치의 출력과 접속되는 상기 부하의 임피던스가 미리 결정된 제2 값이고 상기 리액턴스 소자가 상기 전기적 장치에 결합될 때, 상기 전기적 장치의 상기 입력 임피던스가 상기 미리 결정된 소스 임피던스를 매칭하도록 하기 위한 수단;상기 미리 결정된 제1 값인 상기 부하의 임피던스와 상기 미리 결정된 제2 값인 상기 부하의 임피던스 사이에서 구분하기 위한 수단; 및상기 전기적 장치에 상기 리액턴스 소자를 선택적으로 결합하기 위한 수단을 포함하며, 상기 선택적으로 결합하기 위한 수단은, 상기 미리 결정된 제1 값인 상기 부하의 임피던스와 상기 미리 결정된 제2 값인 상기 부하의 임피던스 사이에서 구분하는 수단이 상기 부하의 임피던스가 상기 미리 결정된 제1 값인 것으로 결정할 때, 상기 전기적 장치로부터 상기 리액턴스 소자를 분리시키고, 상기 미리 결정된 제1 값인 상기 부하의 임피던스와 상기 미리 결정된 제2 값인 상기 부하의 임피던스 사이에서 구분하는 수단이 상기 부하의 임피던스가 상기 미리 결정된 제2 값인 것으로 결정할 때, 상기 전기적 장치에 상기 리액턴스 소자를 결합하도록 구성되는, 전기적 장치.
- 전기적 장치로서,미리 결정된 소스 임피던스를 갖는 무선-주파수(RF) 전력 공급;동적 가변 임피던스를 갖는 부하; 및상기 부하에 상기 RF 전력 공급을 전기적으로 결합하는 임피던스 매칭 회로를 포함하며, 상기 임피던스 매칭 회로는,상기 임피던스 매칭 회로에 선택적으로 결합되도록 구성되는 스위칭되는 엘리먼트;상기 부하의 상기 동적 가변 임피던스가 미리 결정된 제1 값이고 상기 스위칭되는 엘리먼트가 상기 임피던스 매칭 회로로부터 분리될 때, 상기 임피던스 매칭 회로의 입력 임피던스가 상기 미리 결정된 소스 임피던스를 매칭하게 하도록 구성되는 매칭 네트워크;상기 부하의 상기 동적 가변 임피던스가 미리 결정된 제2 값이고 상기 스위칭되는 엘리먼트가 상기 임피던스 매칭 회로에 결합될 때, 상기 임피던스 매칭 회로의 상기 입력 임피던스가 상기 미리 결정된 소스 임피던스를 매칭하게 하도록 구성되는 위상 시프트 네트워크;상기 미리 결정된 제1 값인 상기 부하의 상기 동적 가변 임피던스와 상기 미리 결정된 제2 값인 상기 부하의 상기 동적 가변 임피던스 사이에서 구분하도록 구성되는 센서; 및상기 센서가 상기 부하의 임피던스가 상기 미리 결정된 제1 값인 것으로 결정할 때, 상기 임피던스 매칭 회로로부터 상기 스위칭되는 엘리먼트를 분리하고, 상기 센서가 상기 부하의 임피던스가 상기 미리 결정된 제2 값인 것으로 결정할 때, 상기 임피던스 매칭 회로에 상기 스위칭되는 엘리먼트를 결합하도록 구성되는 제어 소자를 포함하는, 전기적 장치.
- 제 13 항에 있어서,상기 전기적 장치는 스퍼터링 마그네트론이고, 상기 부하는 플라즈마인, 전기적 장치.
- 부하의 동적 가변 임피던스를 소스의 미리 결정된 소스 임피던스에 매칭하는 방법으로서,상기 동적 가변 부하 임피던스의 미리 결정된 제1 값을 상기 미리 결정된 소스 임피던스에 매칭하는 단계; 및상기 소스와 상기 부하 사이에서, 상기 동적 가변 부하 임피던스의 미리 결정된 제2 값이 상기 소스와 상기 부하 사이의 단일 리액턴스 소자의 부가에 의하여 상기 미리 결정된 소스 임피던스에 매칭되도록 허용하는 위상 시프트를 야기하는 단계를 포함하는, 임피던스 매칭 방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 미리 결정된 제1 값인 상기 부하의 동적 가변 임피던스와 상기 미리 결정된 제2 값인 상기 부하의 동적 가변 임피던스 사이에서 구분하는 단계;상기 부하의 동적 가변 임피던스가 상기 미리 결정된 제1 값일 때, 상기 소스와 상기 부하 사이의 상기 단일 리액턴스 소자를 임피던스 매칭 회로로부터 제거 하는 단계; 및상기 부하의 동적 가변 임피던스가 상기 미리 결정된 제2 값일 때, 상기 소스와 상기 부하 사이에서 상기 단일 리액턴스 소자를 임피던스 매칭 회로에 포함시키는 단계를 더 포함하는, 임피던스 매칭 방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 단일 리액턴스 소자가 션트 구성으로 부가되는, 임피던스 매칭 방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 단일 리액턴스 소자가 직렬 구성으로 부가되는, 임피던스 매칭 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/531,665 | 2006-09-13 | ||
US11/531,665 US20080061901A1 (en) | 2006-09-13 | 2006-09-13 | Apparatus and Method for Switching Between Matching Impedances |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090064390A true KR20090064390A (ko) | 2009-06-18 |
Family
ID=39168971
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020097005448A KR20090064390A (ko) | 2006-09-13 | 2007-09-10 | 매칭 임피던스들 사이에서 스위칭하기 위한 장치 및 방법 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080061901A1 (ko) |
EP (1) | EP2062354A4 (ko) |
JP (1) | JP2010504042A (ko) |
KR (1) | KR20090064390A (ko) |
CN (1) | CN101523984A (ko) |
DE (1) | DE07842153T1 (ko) |
TW (1) | TW200832903A (ko) |
WO (1) | WO2008033762A2 (ko) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
2006
- 2006-09-13 US US11/531,665 patent/US20080061901A1/en not_active Abandoned
-
2007
- 2007-09-10 WO PCT/US2007/078018 patent/WO2008033762A2/en active Application Filing
- 2007-09-10 DE DE07842153T patent/DE07842153T1/de active Pending
- 2007-09-10 JP JP2009528413A patent/JP2010504042A/ja not_active Withdrawn
- 2007-09-10 KR KR1020097005448A patent/KR20090064390A/ko not_active Application Discontinuation
- 2007-09-10 CN CNA2007800340707A patent/CN101523984A/zh active Pending
- 2007-09-10 EP EP07842153A patent/EP2062354A4/en not_active Withdrawn
- 2007-09-11 TW TW096133829A patent/TW200832903A/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE07842153T1 (de) | 2009-12-03 |
CN101523984A (zh) | 2009-09-02 |
US20080061901A1 (en) | 2008-03-13 |
WO2008033762A3 (en) | 2008-11-13 |
EP2062354A4 (en) | 2009-11-04 |
JP2010504042A (ja) | 2010-02-04 |
TW200832903A (en) | 2008-08-01 |
WO2008033762A2 (en) | 2008-03-20 |
EP2062354A2 (en) | 2009-05-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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PA0105 | International application |
Patent event date: 20090317 Patent event code: PA01051R01D Comment text: International Patent Application |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
A201 | Request for examination | ||
PA0201 | Request for examination |
Patent event code: PA02012R01D Patent event date: 20090917 Comment text: Request for Examination of Application |
|
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20110323 Patent event code: PE09021S01D |
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E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20110617 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20110323 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |