KR20060125789A - 고성능 열전 물질 인듐-코발트-안티몬의 제조 방법 - Google Patents
고성능 열전 물질 인듐-코발트-안티몬의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20060125789A KR20060125789A KR1020067011099A KR20067011099A KR20060125789A KR 20060125789 A KR20060125789 A KR 20060125789A KR 1020067011099 A KR1020067011099 A KR 1020067011099A KR 20067011099 A KR20067011099 A KR 20067011099A KR 20060125789 A KR20060125789 A KR 20060125789A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- furnace
- composition
- atomic percent
- solid
- powder
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 title description 17
- JPWDLFIAMNVKSL-UHFFFAOYSA-N [Sb].[Co].[In] Chemical compound [Sb].[Co].[In] JPWDLFIAMNVKSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 23
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 11
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims abstract description 7
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910018989 CoSb Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005679 Peltier effect Effects 0.000 description 1
- 230000005678 Seebeck effect Effects 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- NSRGWYQTFLSLOJ-UHFFFAOYSA-N antimony;cobalt(3+) Chemical compound [Co+3].[Sb] NSRGWYQTFLSLOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000001144 powder X-ray diffraction data Methods 0.000 description 1
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25B—REFRIGERATION MACHINES, PLANTS OR SYSTEMS; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS
- F25B21/00—Machines, plants or systems, using electric or magnetic effects
- F25B21/02—Machines, plants or systems, using electric or magnetic effects using Peltier effect; using Nernst-Ettinghausen effect
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F1/00—Metallic powder; Treatment of metallic powder, e.g. to facilitate working or to improve properties
- B22F1/09—Mixtures of metallic powders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G51/00—Compounds of cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C1/00—Making non-ferrous alloys
- C22C1/04—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy
- C22C1/047—Making non-ferrous alloys by powder metallurgy comprising intermetallic compounds
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N10/00—Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
- H10N10/01—Manufacture or treatment
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N10/00—Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
- H10N10/80—Constructional details
- H10N10/85—Thermoelectric active materials
- H10N10/851—Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions
- H10N10/853—Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions comprising arsenic, antimony or bismuth
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F2998/00—Supplementary information concerning processes or compositions relating to powder metallurgy
- B22F2998/10—Processes characterised by the sequence of their steps
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
본 발명은 화학식이 InxCo4Sb12 (0<x<1)이고 성능지수 ZT가 1.0 초과인 열전 조성물의 제조 방법 및 이 방법으로 제조된 조성물에 관한 것이다. 상기 방법은 a) 분말 혼합물 중에 인듐 0.006 내지 0.030 원자%, 코발트 0.242 내지 0.248 원자% 및 안티몬 0.727 내지 0.745 원자%가 존재하도록 인듐, 코발트 및 안티몬의 분말을 혼합하여 분말 혼합물을 형성하는 단계, b) 수소 1 내지 15 원자% 및 아르곤 85 내지 99 원자%를 포함하는 기체 조성물을 상기 분말 혼합물을 함유하는 로(furnace)를 통해 흐르게 하는 단계, c) 상기 로를 약 1 내지 5℃/분으로 실온에서부터 590℃ 내지 620℃까지 가열하고 상기 로를 590℃ 내지 620℃로 10 내지 14 시간 동안 유지하는 단계, d) 상기 로를 약 1 내지 5℃/분으로 665℃ 내지 685℃까지 더 가열하고, 상기 로를 665℃ 내지 685℃로 30 내지 40 시간 동안 유지하여 제1 고체를 형성하는 단계, e) 상기 제1 고체를 분쇄하여 제2 분말을 형성하는 단계, f) 상기 제2 분말을 제2 고체로 압축하는 단계, g) 수소 1 내지 15 원자% 및 아르곤 95 내지 99 원자%를 포함하는 기체 조성물을 상기 제2 고체를 함유하는 상기 로를 통해 흐르게 하는 단계, h) 상기 로를 약 1 내지 5℃/분으로 실온에서부터 665℃ 내지 685℃까지 가열하고, 상기 로를 665℃ 내지 685℃로 1 내지 8 시간 동안 유지하는 단계를 포함한다.
열전 조성물, 인듐-코발트-안티몬, 성능지수
Description
본 발명은 화학식이 InxCo4Sb12 (0<x<1)이고 성능지수(Figure of Merit)가 0.2 초과인 열전 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.
열전 물질은 냉각기, 가열기 및 발전기와 같은 물품의 제조에 사용된다. 이들 열전 물질은 하기 정의된 제에벡 계수(Seebeck coefficient)가 크고, 전기 전도성은 높지만 열전도성은 낮은 것이 바람직하다. 열전 전환 물질의 성능은 "성능지수(ZT)"로 표시된다. 현재, 최상의 열전 물질은 약 1.0의 ZT 값을 갖는다.
문헌 [Akai et al, Proceedings of the 17th International Conference on Thermoeletrics, 1998, 105-108]은 고상 반응 후 열압축시켜 제조한 인듐-도핑된 코발트 안티모나이드의 특성을 기술한다.
이와 대조적으로, 본 발명의 방법은 수소 1 내지 15% 및 아르곤 85 내지 99% 중에서 혼합 분말을 소성한 후에 로를 냉각시킨다. 이어서, 하소된 분말을 재분쇄하고 원판으로 압축한 후, 이것을 675℃에서 4 시간 동안 동일한 수소/아르곤 혼합물 중에서 소결시킨다. 이 방법에 의해 ZT가 1.0 초과인 물질을 얻을 수 있 다.
발명의 요약
본 발명은
a) 분말 혼합물 중에 인듐 0.006 내지 0.030 원자%, 코발트 0.242 내지 0.248 원자% 및 안티몬 0.727 내지 0.745 원자%가 존재하도록 인듐, 코발트 및 안티몬의 분말을 혼합하여 분말 혼합물을 형성하는 단계,
b) 수소 1 내지 15 원자% 및 아르곤 85 내지 99 원자%를 포함하는 기체 조성물을 상기 분말 혼합물을 함유하는 로(furnace)를 통해 흐르게 하는 단계,
c) 상기 로를 약 1 내지 5℃/분으로 실온에서부터 590℃ 내지 620℃까지 가열하고 상기 로를 590℃ 내지 620℃로 10 내지 14 시간 동안 유지하는 단계,
d) 상기 로를 약 1 내지 5℃/분으로 665℃ 내지 685℃까지 더 가열하고, 상기 로를 665℃ 내지 685℃로 30 내지 40 시간 동안 유지하여 제1 고체를 형성하는 단계,
e) 상기 제1 고체를 분쇄하여 제2 분말을 형성하는 단계,
f) 상기 제2 분말을 제2 고체로 압축하는 단계,
g) 수소 1 내지 15 원자% 및 아르곤 85 내지 99 원자%를 포함하는 기체 조성물을 상기 제2 고체를 함유하는 상기 로를 통해 흐르게 하는 단계,
h) 상기 로를 약 1 내지 5℃/분으로 실온에서부터 665℃ 내지 685℃까지 가열하고, 상기 로를 665℃ 내지 685℃로 1 내지 8 시간 동안 유지하는 단계를 포함하는 방법이다.
본 발명은 또한 상기 방법으로 제조된 조성물이다.
본 발명은 또한 성능지수 ZT가 0.7 초과인 조성물이다.
본 발명은 또한 상기 조성물을 포함하는 냉각기, 가열기 및 발전기이다.
도 1은 다양한 인듐 농도 수준에 대해 측정된 300 내지 600 K 온도 범위에서의 제에벡 계수를 보여준다.
도 2는 다양한 인듐 농도 수준에 대해 측정된 300 내지 600 K 온도 범위에서의 전기 저항률을 보여준다.
도 3은 다양한 인듐 농도 수준에 대해 측정된 300 내지 600 K 온도 범위에서의 열 전도율을 보여준다.
도 4는 다양한 인듐 농도 수준에 대해 계산된 300 내지 600 K 온도 범위에서의 성능지수를 보여준다.
본 발명은 화학식이 InxCo4Sb12 (0<x<1)인 금속간 열전 조성물의 제조 방법을 제공한다. 상기 화합물은 300 K 내지 600 K의 온도 범위에서 CoSb3보다 전기 저항률이 낮고 열 전도율이 낮고 제에벡 계수가 더 높다. 그 결과, 600 K에서 성능지수가 0.2 (x=0)에서 1.2 (x=0.2)로 향상되었다.
열전학(Thermoelectrics)은 열전 변환, 즉, 제에벡 효과에 따른 전력의 발생 및 펠티에(Peltier) 효과에 따른 냉각과 관련된 과학 기술이다. 열전 변환 물질의 성능은 하기 수학식으로 표현되는 ZT(성능지수)로 평가된다.
상기 식에서, σ, S, κ 및 T는 각각 전기 전도율, 제에벡 계수, 열 전도율 및 절대 온도이다. 제에벡 계수가 크고, 전기 전도율은 크지만 열 전도율은 낮은 물질이 필요하다.
현재, 최상의 열전 물질, 예컨대, Bi2Te3의 얼로이는 1에 가까운 ZT 값을 갖는다. 이것은 압축기에 기초한 냉각기에 비해 약 10%의 열악한 카르노 효율(Carnot efficiency)로 작동된다. 유리와 같이 열을 잘 전도하지 않지만, 규소와 같이 전자(또는 정공)을 상대적으로 잘 전도하는 반도체 구조체에서는, 열 전도율을 감소시킴으로써 열전 효율을 급격히 향상시킬 수 있다. 열 전도율의 감소는 하나 이상의 원자가 오버사이즈(oversized) "원자 케이지(atomic cage)"에 약하게 결합된 3원 또는 4원 반도체를 제조함으로써 달성할 수 있다. 속박된(caged) 원자의 "래틀링 모션(rattling motion)"은 열전달 음자(phonon)를 효과적으로 산란시키고 열 전도율에 대한 격자 기여(lattice contribution)를 크게 감소시키며, 이와 동시에 골격 원자들은 양호한 전기 전도를 유지한다. 그러한 구조체의 예는 발전용으로 가장 장래성이 있는 새로운 열전 물질의 하나로 출현한 스쿠테루드광(Skutterudites)이다.
본 발명의 조성물은 하기 절차에 따라 합성될 수 있다. Co, Sb 및 In의 고순도 분말을 화학량론적 비로 잘 혼합한다. 출발 물질의 혼합 분말을 알루미나 도가니에 넣고, 이것을 다시 알루미나 보트(boat)에 넣는다. Sb의 증발을 보충하기 위하여, 순수한 Sb 금속을 함유하는 다른 도가니를 또한 보트에 넣는다. 이어서 보트를 Sb 함유 도가니가 기체 유입구를 향하도록 하여 석영 반응기에 넣는다. 분말을 5% H2 및 95% Ar의 기체 혼합물 중에서 약 610℃에서 12 시간 동안 하소시킨 후, 675℃에서 36 시간 동안 하소시킨다. 하소된 분말을 재분쇄하고 직경 12.8 ㎜, 두께 1 내지 2 ㎜의 원판으로 압축한다. 원판을 675℃에서 4 시간 동안 동일 기체 혼합물 중에서 소결시킨다. 하소 및 소결 단계 둘 다에서, 가열 속도는 실온에서 하소 또는 소결 온도까지 약 240℃/시간이었다. 요망되는 반응 시간 후에, 샘플을 로에서 실온으로 냉각시켰다. 분말 X-선 회절 데이터는 본 발명의 모든 InxCo4Sb12 (0<x<1) 상이 입방형 Im-3 구조로 결정화되었음을 나타내었다.
전기 저항률은 미국 캘리포니아주 마운틴뷰의 엠엠알 테크놀로지스(MMR Technologies)에서 시판되는 장치를 이용하여 장치 사용법에 따라 반 데르 포우(Van Der Pauw) 기술로 300 K 내지 600 K에서 측정하였다. 은 도료를 사용하여 리드(lead)를 펠렛에 부착시켰다. 동일 온도 범위에서 제에벡 계수를 측정하였다. 전기적으로 서로 단리된 은 전극들 사이에 펠렛을 위치시켰다. 한 전극을 저항 가열기로 가열하여 샘플을 가로지르는 열 구배를 발생시켰으며, 이것은 각각의 온도 설정점에서 5 내지 10K로 변동되었다. 시험 장치는 Ar 하의 온도 제어 오븐에 위치시켰다. 발생된 전압을 미국 오하이오주 클리브랜드의 키쓸리 인스트루먼츠(Keithley Instruments)에 의해 제작된 키쓸리 181 나노전압계로 측정하였다. 측정된 제에벡 계수는 음수로서 n형 전도를 나타내었다. 열 전도율은 1 ㎜ 또는 2 ㎜의 금-스퍼터링된 흑연 피복 파이렉스(Pyrex) 유리를 참고 물질로 하여 네츠 레이저 마이크로플래쉬(Netzsch Laser Microflash)에서 측정하였다. 이 기기는 미국 매사추세츠주 벌링톤의 네츠 인스트루먼츠 인크.(Netzsch Instruments Inc.)에서 제작된 것이다.
열전 물질, 예컨대, n형 InxCo4Sb12 (0<x<1)을, CeFe3CoSb12 또는 LaFe3CoSb12와 같은 p형 열전 물질과의 조합으로 사용하여 열전 냉각기, 가열기 또는 발전기를 제조할 수 있다. 열전 냉각기에서, 열전 물질은 전형적으로 세라믹과 같은 물질로 된 2 개의 판 사이에 설치된다. 한쪽 판은 냉각될 영역에 위치한다. 다른쪽 판은 열을 거부할 곳에 위치한다. 적당한 극성의 전류를 열전 물질에 통과시켜, 원하는 위치를 냉각시킨다. 전류의 극성이 역전되는 경우, 이미 냉각된 판은 가열되고, 열을 거부하는 판은 냉각될 것이다. 열전 장치를 발전기로서 사용하려면, 열전 물질을 다시 2 개의 판 사이에 설치한다. 한쪽 판은 고온 열원에 노출시키고, 다른 판은 저온에 유지한다. 온도 구배를 갖는 열전 물질의 두 면을 전기적으로 접속하여 전력을 얻을 수 있다.
실시예 1 내지 7
실시예 1 내지 7의 InxCo4Sb12의 조성물을 하기 절차를 이용하여 제조하였다. 각 실시예에서 적량의 출발 금속 In, Co 및 Sb를 화학량론적 비에 따라 칭량하고 마노 막자사발에서 잘 혼합하였다. 사용된 출발 물질의 2 그램 샘플 크기의 그램량을 표 1에 나타내었다.
실시예 | 조성 | 인듐 금속 (그램) | 코발트 금속 (그램) | 안티몬 금속 (그램) |
1 | CoSb3 | - | 0.2779 | 1.7221 |
2 | In0.03Co4Sb12 | 0.0041 | 0.2773 | 1.7186 |
3 | In0.075Co4Sb12 | 0.0101 | 0.2765 | 1.7134 |
4 | In0.1Co4Sb12 | 0.0134 | 0.2760 | 1.7106 |
5 | In0.2Co4Sb12 | 0.0267 | 0.2742 | 1.6991 |
6 | In0.4Co4Sb12 | 0.0527 | 0.2705 | 1.6768 |
7 | In0.5Co4Sb12 | 0.0655 | 0.2688 | 1.6658 |
각 실시예에서, 혼합 분말을 5% H2 및 95% Ar의 기체 혼합물 중에서 약 610℃에서 12 시간 동안 소성한 후, 675℃에서 36 시간 동안 소성하였다. 하소된 분말을 재분쇄하고 직경 12.8 ㎜, 두께 1 내지 2 ㎜의 원판으로 압축하였다. 원판을 675℃에서 4 시간 동안 동일 기체 혼합물 중에서 소결시키고, 열 전도율 측정에 사용하였다. 약 1.5×1.5×7 ㎣ 크기의 막대를 저항률 및 제에벡 계수 측정용으로 절단하였다.
X-선 분말 회절 패턴을 기록하였으며, 데이터는 모든 샘플이 정방형 Im-3 구조로 결정화되었음을 나타내었다. 300 내지 600 K의 온도 범위에서 측정된 제에벡 계수, 전기 저항률 및 열 전도율을 도 1, 2 및 3에 각각 나타내었다. 계산된 ZT 값을 도 4에 나타내었다.
Claims (6)
- a) 분말 혼합물 중에 인듐 0.006 내지 0.030 원자%, 코발트 0.242 내지 0.248 원자% 및 안티몬 0.727 내지 0.745 원자%가 존재하도록 인듐, 코발트 및 안티몬의 분말을 혼합하여 분말 혼합물을 형성하는 단계,b) 수소 1 내지 15 원자% 및 아르곤 85 내지 99 원자%를 포함하는 기체 조성물을 상기 분말 혼합물을 함유하는 로(furnace)를 통해 흐르게 하는 단계,c) 상기 로를 약 1 내지 5℃/분으로 실온에서부터 590℃ 내지 620℃까지 가열하고 상기 로를 590℃ 내지 620℃로 10 내지 14 시간 동안 유지하는 단계,d) 상기 로를 약 1 내지 5℃/분으로 665℃ 내지 685℃까지 더 가열하고, 상기 로를 665℃ 내지 685℃로 30 내지 40 시간 동안 유지하여 제1 고체를 형성하는 단계,e) 상기 제1 고체를 분쇄하여 제2 분말을 형성하는 단계,f) 상기 제2 분말을 제2 고체로 압축하는 단계,g) 수소 1 내지 15 원자% 및 아르곤 85 내지 99 원자%를 포함하는 기체 조성물을 상기 제2 고체를 함유하는 상기 로를 통해 흐르게 하는 단계,h) 상기 로를 약 1 내지 5℃/분으로 실온에서부터 665℃ 내지 685℃까지 가열하고, 상기 로를 665℃ 내지 685℃로 1 내지 8 시간 동안 유지하는 단계를 포함하는 방법.
- 제1항의 방법으로 제조된 InxCo4Sb12 (0<x<1)를 포함하는 조성물.
- 성능지수(figure of merit) ZT가 0.7 초과인 InxCo4Sb12 (0<x<1)를 포함하는 조성물.
- 제2항 또는 제3항의 조성물로부터 제조된 성분을 포함하는 열전 냉각기.
- 제2항 또는 제3항의 조성물로 제조된 성분을 포함하는 열전 발전기.
- 제2항 또는 제3항의 조성물로 제조된 성분을 포함하는 열전 가열기.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US52779103P | 2003-12-08 | 2003-12-08 | |
US60/527,791 | 2003-12-08 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060125789A true KR20060125789A (ko) | 2006-12-06 |
Family
ID=34676780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020067011099A KR20060125789A (ko) | 2003-12-08 | 2004-12-08 | 고성능 열전 물질 인듐-코발트-안티몬의 제조 방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7462217B2 (ko) |
EP (1) | EP1698000A1 (ko) |
JP (1) | JP2007523998A (ko) |
KR (1) | KR20060125789A (ko) |
CN (1) | CN1890820A (ko) |
WO (1) | WO2005057673A1 (ko) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100910173B1 (ko) * | 2007-09-10 | 2009-07-30 | 충주대학교 산학협력단 | CoSb3 스커테루다이트계 열전재료 및 그 제조방법 |
WO2012157909A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157910A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157904A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157916A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157911A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157905A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157914A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157907A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157917A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157915A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157913A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012148198A3 (ko) * | 2011-04-28 | 2012-12-20 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012148197A3 (ko) * | 2011-04-28 | 2012-12-20 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
KR20160051034A (ko) * | 2014-10-31 | 2016-05-11 | 주식회사 엘지화학 | 등방 가압 고상반응법을 이용한 화합물 형성 방법 |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BR0209453A (pt) | 2001-05-16 | 2004-07-06 | Du Pont | Composição dielétrica, pasta para impressão em tela de uma composição dielétrica e dispositivo de emissão de campo de elétrons |
US7371960B2 (en) * | 2003-12-08 | 2008-05-13 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Figure of merit in Ytterbium-Aluminum-Manganese intermetallic thermoelectric and method of preparation |
KR20070015543A (ko) * | 2004-04-14 | 2007-02-05 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 고성능 열전 물질 및 그의 제조 방법 |
JP4900061B2 (ja) * | 2007-06-06 | 2012-03-21 | トヨタ自動車株式会社 | 熱電変換素子及びその製造方法 |
CN101359713B (zh) * | 2008-09-19 | 2012-06-13 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种p型铕锌锑基热电材料及其制备方法 |
JP6314812B2 (ja) * | 2014-01-16 | 2018-04-25 | 株式会社豊田中央研究所 | n型熱電材料 |
EP3203535B1 (en) | 2014-09-29 | 2019-11-20 | LG Chem, Ltd. | Compound semiconductor and manufacturing method thereof |
JP6467740B2 (ja) * | 2016-11-22 | 2019-02-13 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 熱電変換素子およびその製造方法 |
CN114805834B (zh) * | 2022-04-29 | 2023-03-21 | 辽宁师范大学 | 用于制备电容器电极的铟掺杂钴-mof衍生物及生产方法 |
Family Cites Families (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5934656B2 (ja) | 1981-04-27 | 1984-08-23 | 科学技術庁無機材質研究所長 | YbAlMnO↓4で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 |
JPH0462981A (ja) | 1990-07-02 | 1992-02-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 非晶質FeSi↓2熱電変換半導体の製造方法 |
US5064476A (en) | 1990-09-17 | 1991-11-12 | Recine Sr Leonard J | Thermoelectric cooler and fabrication method |
US5171372A (en) | 1990-09-17 | 1992-12-15 | Marlow Industries, Inc. | Thermoelectric cooler and fabrication method |
US5441576A (en) | 1993-02-01 | 1995-08-15 | Bierschenk; James L. | Thermoelectric cooler |
US5769943A (en) | 1993-08-03 | 1998-06-23 | California Institute Of Technology | Semiconductor apparatus utilizing gradient freeze and liquid-solid techniques |
US5610366A (en) | 1993-08-03 | 1997-03-11 | California Institute Of Technology | High performance thermoelectric materials and methods of preparation |
US6069312A (en) | 1994-01-28 | 2000-05-30 | California Institute Of Technology | Thermoelectric materials with filled skutterudite structure for thermoelectric devices |
US5576512A (en) | 1994-08-05 | 1996-11-19 | Marlow Industries, Inc. | Thermoelectric apparatus for use with multiple power sources and method of operation |
JP2619231B2 (ja) | 1995-07-27 | 1997-06-11 | 株式会社東芝 | 真空装置 |
JPH09260729A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-10-03 | Nissan Motor Co Ltd | 熱電変換材料およびその製造方法 |
EP0874406A3 (en) * | 1997-04-23 | 2000-12-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | A co-sb based thermoelectric material and a method of producing the same |
US6369314B1 (en) * | 1997-10-10 | 2002-04-09 | Marlow Industries, Inc. | Semiconductor materials with partially filled skutterudite crystal lattice structures optimized for selected thermoelectric properties and methods of preparation |
US6207888B1 (en) | 1997-10-10 | 2001-03-27 | Marlow Industries, Inc. | Semiconductor materials with skutterudite type crystal lattice structures optimized for selected thermoelectric properties and methods of preparation |
US6188011B1 (en) | 1998-01-20 | 2001-02-13 | Marlow Industries, Inc. | Thermoelectric materials fabricated from clathrate compounds and other materials which form an inclusion complex and method for optimizing selected thermoelectric properties |
JP3562296B2 (ja) | 1998-03-16 | 2004-09-08 | 日産自動車株式会社 | P型熱電変換材料およびその製造方法 |
US6207886B1 (en) | 1998-06-30 | 2001-03-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Skutterudite thermoelectric material thermoelectric couple and method of producing the same |
US6225550B1 (en) | 1999-09-09 | 2001-05-01 | Symyx Technologies, Inc. | Thermoelectric material system |
JP2001102642A (ja) | 1999-09-27 | 2001-04-13 | Yamaguchi Industrial Promotion Foundation | 熱電変換材料およびその製造方法 |
JP2002026400A (ja) | 2000-06-30 | 2002-01-25 | Toshiba Corp | 熱電変換材料および熱電変換素子 |
JP3472813B2 (ja) | 2000-07-18 | 2003-12-02 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 高いゼーベック係数と高い電気伝導度を有する複合酸化物 |
US7371960B2 (en) | 2003-12-08 | 2008-05-13 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Figure of merit in Ytterbium-Aluminum-Manganese intermetallic thermoelectric and method of preparation |
KR20070015543A (ko) | 2004-04-14 | 2007-02-05 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 고성능 열전 물질 및 그의 제조 방법 |
-
2004
- 2004-08-04 US US10/911,007 patent/US7462217B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-08 EP EP04813957A patent/EP1698000A1/en not_active Withdrawn
- 2004-12-08 JP JP2006544084A patent/JP2007523998A/ja active Pending
- 2004-12-08 CN CNA2004800364394A patent/CN1890820A/zh active Pending
- 2004-12-08 KR KR1020067011099A patent/KR20060125789A/ko not_active Application Discontinuation
- 2004-12-08 WO PCT/US2004/041710 patent/WO2005057673A1/en active Application Filing
Cited By (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100910173B1 (ko) * | 2007-09-10 | 2009-07-30 | 충주대학교 산학협력단 | CoSb3 스커테루다이트계 열전재료 및 그 제조방법 |
WO2012148198A3 (ko) * | 2011-04-28 | 2012-12-20 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
US8747705B2 (en) | 2011-04-28 | 2014-06-10 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
US8636926B2 (en) | 2011-04-28 | 2014-01-28 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
WO2012148197A3 (ko) * | 2011-04-28 | 2012-12-20 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
US8496856B2 (en) | 2011-05-13 | 2013-07-30 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
WO2012157910A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157914A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157907A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157917A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157915A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157913A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157911A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157916A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
WO2012157904A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
US8603368B2 (en) | 2011-05-13 | 2013-12-10 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
WO2012157905A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
US8636925B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-01-28 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
US8658064B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-02-25 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
US8658063B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-02-25 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
US8679374B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-03-25 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
US8703024B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-04-22 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
US8728357B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-05-20 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
US8734688B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-05-27 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
US8747704B2 (en) | 2011-05-13 | 2014-06-10 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
WO2012157909A1 (ko) * | 2011-05-13 | 2012-11-22 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 화합물 반도체 및 그 활용 |
US9017581B2 (en) | 2011-05-13 | 2015-04-28 | Lg Chem, Ltd. | Compound semiconductors and their application |
KR20160051034A (ko) * | 2014-10-31 | 2016-05-11 | 주식회사 엘지화학 | 등방 가압 고상반응법을 이용한 화합물 형성 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1698000A1 (en) | 2006-09-06 |
WO2005057673A1 (en) | 2005-06-23 |
US7462217B2 (en) | 2008-12-09 |
JP2007523998A (ja) | 2007-08-23 |
US20050123431A1 (en) | 2005-06-09 |
CN1890820A (zh) | 2007-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7462217B2 (en) | Method of preparation for the high performance thermoelectric material indium-cobalt-antimony | |
US7723607B2 (en) | High performance thermoelectric materials and their method of preparation | |
Toprak et al. | The impact of nanostructuring on the thermal conductivity of thermoelectric CoSb3 | |
EP2240615B1 (en) | Method for producing a thermoelectric intermetallic compound | |
Isotta et al. | Nanostructured kesterite (Cu2ZnSnS4) for applications in thermoelectric devices | |
JP2012521648A (ja) | 自己組織化熱電材料 | |
CN108238796A (zh) | 铜硒基固溶体热电材料及其制备方法 | |
US5965841A (en) | Thermoelectric conversion material and a process for producing the same | |
US7186391B1 (en) | Sintered compact of lanthanum sulfide or cerium sulfide and method for preparing the same | |
Yu et al. | Unique surface structure resulting in the excellent long-term thermal stability of Fe4Sb12-based filled skutterudites | |
JP3541549B2 (ja) | 高温用熱電材料およびその製造方法 | |
US7371960B2 (en) | Figure of merit in Ytterbium-Aluminum-Manganese intermetallic thermoelectric and method of preparation | |
JP3476343B2 (ja) | 熱電変換材料 | |
JP4070110B2 (ja) | Ln2S3焼結体からなる熱電変換材料およびその製造方法 | |
JPH11186615A (ja) | 半導体熱電材料 | |
JP4070109B2 (ja) | Ln2S3粉末焼結体からなる熱電変換材料の製造方法 | |
JP2002274831A (ja) | クラスレート化合物と高効率熱電材料およびその製造方法と高効率熱電材料を用いた熱電モジュール | |
KR20120061302A (ko) | 인듐-셀레늄-텔루륨계 열전반도체 및 그 제조방법 | |
Kumpeerapun et al. | Performance of low-cost thermoelectric modules fabricated from hot pressing and cold pressing materials | |
JPH0864873A (ja) | 熱電半導体材料 | |
JP4208983B2 (ja) | 半導体熱電材料の製造方法 | |
JP2002026401A (ja) | n型熱電変換材料およびそれを用いた熱電変換デバイス | |
Dvorak | Improvement of Thermoelectric Oxides for a Simple Thermoelectric Generator | |
CN110832650A (zh) | 热电材料和包含其的热电装置 | |
Garbade et al. | FABRICATION OF THERMOELECTRIC GENERATOR FOR HIGH TEMPERATURE APPLICATION USING UNICOUPLES MADE FROM p-TYPE AND n-TYPE β-IRON DISILICIDE |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |