KR20060008026A - 반도체소자의 패드부 - Google Patents
반도체소자의 패드부 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20060008026A KR20060008026A KR1020040057679A KR20040057679A KR20060008026A KR 20060008026 A KR20060008026 A KR 20060008026A KR 1020040057679 A KR1020040057679 A KR 1020040057679A KR 20040057679 A KR20040057679 A KR 20040057679A KR 20060008026 A KR20060008026 A KR 20060008026A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- bias
- pad
- pads
- semiconductor device
- signal amount
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 7
- 102400001284 Vessel dilator Human genes 0.000 claims description 5
- 101800001899 Vessel dilator Proteins 0.000 claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/522—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
- H01L23/528—Layout of the interconnection structure
- H01L23/5286—Arrangements of power or ground buses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the groups H01L21/18 - H01L21/326 or H10D48/04 - H10D48/07 e.g. sealing of a cap to a base of a container
- H01L21/60—Attaching or detaching leads or other conductive members, to be used for carrying current to or from the device in operation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Geometry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
Description
Claims (10)
- 다수개의 패드와,상기 패드와 동일층에 형성되며, 상기 패드의 양단에 다수개 배열되어 일정 신호량을 가지는 제 1바이어스 배선과,상기 제 1바이어스 배선의 하부에서 상기 제 1바이어스 배선과 교차되는 방향으로 다수개 배열되되, 그 일단이 상기 패드의 하부를 관통하도록 배열되는 일정 신호량을 가지는 제 2바이어스 배선을 포함한 반도체 소자의 패드부.
- 제 1항에 있어서, 상기 패드는 본딩패드 및 프로브패드를 포함한 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패드부.
- 제 1항에 있어서, 상기 제 1바이어스 배선은 VDD,VSS,VDDQ,VSSQ,VDDL,VSDL 및 VREF 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패드부.
- 제 1항에 있어서, 상기 제 2바이어스 배선은 그 일단이 적어도 상기 인접한 2개 이상의 패드 하부를 관통하도록 배열된 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패드부.
- 제 1항에 있어서, 상기 각각의 제 1및 제 2바이어스 배선은 신호량이 동일한 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패드부.
- 다수개의 패드와,상기 패드와 동일층에 형성되며, 상기 패드의 양단에 다수개 배열되어 일정 신호량을 가지는 제 1바이어스 배선과,상기 제 1바이어스 배선의 하부에서 상기 제 1바이어스 배선과 교차되는 방향으로 다수개 배열되되, 그 일단이 상기 인접한 2개 이상의 패드 하부를 관통하도록 배열되는 일정 신호량을 가지는 제 2바이어스 배선을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패드부.
- 제 6항에 있어서, 상기 패드의 하부에는 바이어스 라인이 구비된 것을 특징으로 하는 반도체소자의 패드부.
- 제 6항에 있어서, 상기 패드는 본딩패드 및 프로브패드를 포함한 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패드부.
- 제 6항에 있어서, 상기 제 1바이어스 배선은 VDD,VSS,VDDQ,VSSQ,VDDL,VSDL 및 VREF 를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패드부.
- 제 6항에 있어서, 상기 각각의 제 1및 제 2바이어스 배선은 신호량이 동일한 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 패드부.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040057679A KR100548582B1 (ko) | 2004-07-23 | 2004-07-23 | 반도체소자의 패드부 |
JP2005140499A JP4921724B2 (ja) | 2004-07-23 | 2005-05-13 | 半導体装置におけるパッド部の配線構造 |
TW094115695A TWI289919B (en) | 2004-07-23 | 2005-05-13 | Wiring structure for a pad section in a semiconductor device |
US11/131,099 US7227269B2 (en) | 2004-07-23 | 2005-05-16 | Wiring structure for a pad section in a semiconductor device |
CNB2005100783820A CN100397633C (zh) | 2004-07-23 | 2005-06-20 | 用于半导体器件中的焊盘区的布线结构 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040057679A KR100548582B1 (ko) | 2004-07-23 | 2004-07-23 | 반도체소자의 패드부 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060008026A true KR20060008026A (ko) | 2006-01-26 |
KR100548582B1 KR100548582B1 (ko) | 2006-02-02 |
Family
ID=35656290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040057679A KR100548582B1 (ko) | 2004-07-23 | 2004-07-23 | 반도체소자의 패드부 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7227269B2 (ko) |
JP (1) | JP4921724B2 (ko) |
KR (1) | KR100548582B1 (ko) |
CN (1) | CN100397633C (ko) |
TW (1) | TWI289919B (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100895353B1 (ko) * | 2007-10-12 | 2009-04-29 | 스테코 주식회사 | 반도체 패키지 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101053666B1 (ko) | 2009-07-31 | 2011-08-02 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 장치의 레이아웃 구조 |
JP5656611B2 (ja) * | 2010-12-20 | 2015-01-21 | キヤノン株式会社 | 半導体装置及び固体撮像装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6248043A (ja) * | 1985-08-27 | 1987-03-02 | Nec Corp | 半導体集積回路 |
JPH06120427A (ja) * | 1992-10-05 | 1994-04-28 | Toshiba Corp | パッド周辺回路 |
JPH07106522A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-21 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路 |
JP3328542B2 (ja) * | 1997-03-19 | 2002-09-24 | 富士通株式会社 | 高周波半導体集積回路装置 |
US6064116A (en) * | 1997-06-06 | 2000-05-16 | Micron Technology, Inc. | Device for electrically or thermally coupling to the backsides of integrated circuit dice in chip-on-board applications |
JP2002050179A (ja) * | 2000-08-01 | 2002-02-15 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
TWI252582B (en) * | 2001-02-27 | 2006-04-01 | Sanyo Electric Co | Switch circuit device |
JP2004055080A (ja) * | 2002-07-23 | 2004-02-19 | Renesas Technology Corp | 半導体メモリモジュールおよびそれに用いる半導体チップの製造方法 |
JP2005012209A (ja) * | 2003-06-17 | 2005-01-13 | Samsung Electronics Co Ltd | 半導体装置の信号バスラインレイアウト構造及びその方法 |
-
2004
- 2004-07-23 KR KR1020040057679A patent/KR100548582B1/ko active IP Right Grant
-
2005
- 2005-05-13 JP JP2005140499A patent/JP4921724B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-05-13 TW TW094115695A patent/TWI289919B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-05-16 US US11/131,099 patent/US7227269B2/en active Active
- 2005-06-20 CN CNB2005100783820A patent/CN100397633C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100895353B1 (ko) * | 2007-10-12 | 2009-04-29 | 스테코 주식회사 | 반도체 패키지 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1725482A (zh) | 2006-01-25 |
US7227269B2 (en) | 2007-06-05 |
TWI289919B (en) | 2007-11-11 |
JP4921724B2 (ja) | 2012-04-25 |
CN100397633C (zh) | 2008-06-25 |
JP2006041480A (ja) | 2006-02-09 |
US20060017178A1 (en) | 2006-01-26 |
KR100548582B1 (ko) | 2006-02-02 |
TW200605301A (en) | 2006-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6392292B1 (en) | Multi-level stacked semiconductor bear chips with the same electrode pad patterns | |
KR100610712B1 (ko) | 반도체 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 반도체 장치의테스트 방법 | |
KR970063710A (ko) | 반도체 장치 | |
US20110215481A1 (en) | Semiconductor device | |
US20090091019A1 (en) | Memory Packages Having Stair Step Interconnection Layers | |
US6770980B2 (en) | Semiconductor device having semiconductor element packaged on interposer | |
US9219050B2 (en) | Microelectronic unit and package with positional reversal | |
US8569898B2 (en) | Semiconductor device | |
KR100548582B1 (ko) | 반도체소자의 패드부 | |
JP2008182062A (ja) | 半導体装置 | |
KR930000614B1 (ko) | 반도체 집적회로장치 | |
US6573113B1 (en) | Integrated circuit having dedicated probe pads for use in testing densely patterned bonding pads | |
US20020162997A1 (en) | Semiconductor chip | |
US5801927A (en) | Ceramic package used for semiconductor chips different in layout of bonding pads | |
US20060202317A1 (en) | Method for MCP packaging for balanced performance | |
US7335992B2 (en) | Semiconductor apparatus with improved yield | |
US20030047731A1 (en) | Semiconductor device and test device for same | |
US20060220263A1 (en) | Semiconductor device to be applied to various types of semiconductor package | |
KR100935195B1 (ko) | 반도체 소자의 테스트 패턴 | |
US20100013109A1 (en) | Fine pitch bond pad structure | |
KR100655066B1 (ko) | 반도체 소자 | |
JP2008060215A (ja) | 半導体装置 | |
KR100665843B1 (ko) | 반도체 장치에서의 패드 배치 구조 및 방법 | |
KR101035592B1 (ko) | 콘택홀 간을 연결하는 연결부와 비아홀 간을 연결하는연결부가 일직선 상에 배치된 반도체 소자 | |
JP4889667B2 (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121224 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131223 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20141218 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20151221 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20161125 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20171220 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181219 Year of fee payment: 14 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20191224 Year of fee payment: 15 |