KR20030001343A - 컬러 필터 및 그 제조 방법, 컬러 필터용 액적 재료 착탄정밀도 시험 기판 및 그 제조 방법, 발광용 기판 및 그제조 방법, 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험기판 및 그 제조 방법, 액적 재료 착탄 정밀도의 측정방법, 전기 광학 장치, 전자 기기, 성막 방법과 성막 장치 - Google Patents
컬러 필터 및 그 제조 방법, 컬러 필터용 액적 재료 착탄정밀도 시험 기판 및 그 제조 방법, 발광용 기판 및 그제조 방법, 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험기판 및 그 제조 방법, 액적 재료 착탄 정밀도의 측정방법, 전기 광학 장치, 전자 기기, 성막 방법과 성막 장치 Download PDFInfo
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Abstract
충분한 차광성을 갖는 차광 영역과, 혼색이 없는 투과 영역을 포함하고, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없는 콘트라스트가 높은 컬러 필터를 제공한다.
본 발명의 컬러 필터(1000)는 화소 영역(100) 및 착탄(着彈) 정밀도 시험용 영역(200)을 포함한다. 화소 영역(100)은 차광 영역(20)과, 차광 영역(20)에 의해서 구획된 투과 영역(30)을 포함한다. 차광 영역(20)에는 제 1 차광층(22)이 마련되어 있다. 투과 영역(30)에는 색요소(32)가 마련되어 있다. 착탄 정밀도 시험용 영역(200)은 화소 영역(20) 이외에 위치하고, 제 2 차광층(122)과, 적어도 제 2 차광층(122)을 덮도록 마련되는 착탄 정밀도 시험용 층(26)을 포함한다. 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에는 제 2 차광층(122)에 의해서 구획되는 평가 영역이 마련되어 있다.
Description
본 발명은 컬러 필터 및 그 제조 방법, 컬러 필터용 액적(液滴) 재료 착탄 정밀도 시험 기판 및 그 제조 방법, 발광용 기판 및 그 제조 방법, 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판 및 그 제조 방법, 상기 컬러 필터 또는 상기 발광용 기판을 구비한 전기 광학 기기 및 전자 기기, 및 성막 방법과 성막 장치에 관한 것이다.
최근, 퍼스널 컴퓨터의 진보 특히 휴대용 퍼스널 컴퓨터의 진보에 따라, 액정 컬러 디스플레이의 수요가 급증하고 있다. 이것에 대응해서, 적정 가격으로 우수한 디스플레이를 공급하는 수단의 확립이 급선무로 되어 있다. 또, 최근 환경 보호의 관점에서, 환경 부하를 저감하는 프로세스로의 전환, 개선도 요구되고 있다.
종래, 컬러 필터의 제조 방법의 하나로서, 이하의 방법이 알려져 있다. 이 방법에서는 우선 차광재로서 크롬의 박막을 포토리소그래피 및 에칭에 의해서 패터닝하고, 블랙 매트릭스를 형성한다. 그 후, 이 블랙 매트릭스 사이의 간극에, 빨강, 초록 및 파랑의 감광성 수지를 1색마다 스핀코팅법 등에 의해서 도포한 후 포토리소그래피에 의해 패터닝한다. 그것에 의해, 빨강, 초록 및 파랑의 착색층(도트)이 인접해서 배치된 컬러 매트릭스를 구성할 수 있다. 이 제조 방법에서는 빨강, 초록, 파랑의 1색마다 포토리소그래피 공정을 반복하지 않으면 안되고, 또 각 색의 패터닝시에 불필요 부분을 제거하기 때문에 감광성 재료의 손실(loss)이 발생하고, 더 나아가서는 환경 부하가 높은 고가의 컬러 필터로 된다.
그래서, 이러한 제조 방법의 문제점을 해소하는 방법으로서, 예를 들면 일본국 특허공개 평성 제 59-75205 호 공보에서는 잉크제트법을 응용한 방법이 제안되어 있다. 이 방법에서는 투명 기판상에, 잉크에 대해서 습윤성이 낮은 재료로 착색층의 형성 영역을 구획하도록 칸막이를 매트릭스 형상으로 형성한 후, 잉크제트법을 이용하여 비감광성 색재를 칸막이 내에 도포하는 것에 의해, 착색층을 형성한다. 이 제조 방법에서는 포토리소그래피 공정의 번잡함이 완화되고, 또 색재의 손실의 저감을 도모할 수 있다. 그 후, 잉크제트법 등의 액적 재료 토출법에 의한 비감광성 색재의 도포 프로세스에 의한 컬러 필터의 제조 방법이 다수 제안되어 있다.
본 발명의 목적은 액적 재료를 토출시키는 것에 의해 형성되고, 충분한 차광성을 갖는 차광 영역과, 혼색이 없는 투과 영역을 포함하고, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없는 콘트라스트가 높은 컬러 필터 및 발광용 기판을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 액적 재료를 토출시키는 것에 의해, 소정 영역에 색재를 정밀도 좋게 부여할 수 있는 컬러 필터의 제조 방법과, 발광용 기판의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 액적 재료를 토출시키는 것에 의해, 소정 영역에 색재를 정밀도 좋게 부여하기 위해서 이용하는 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판 및 그 제조 방법과, 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판 및 그 제조 방법을 제공하는 것이다.
또, 본 발명의 다른 목적은 상술한 컬러 필터, 발광용 기판, 또는 이들의 위한 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판을 이용한 액적 재료 착탄 정밀도의 측정 방법을 제공하는 것이다.
또, 본 발명의 다른 목적은 상술한 컬러 필터 또는 발광용 기판을 갖는 전기광학 장치 및 전자 기기를 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 액적 재료를 이용한 성막 방법과 성막 장치를 제공하는 것이다.
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 컬러 필터를 모식적으로 도시한 부분 평면도,
도 2는 도 1의 A-A선을 따른 부분을 모식적으로 도시한 부분 단면도,
도 3의 (a)∼(d)는 도 1 및 도 2에 도시하는 컬러 필터의 제조 공정을 모식적으로 도시한 부분 단면도,
도 4의 (a)∼(d)는 도 1 및 도 2에 도시하는 컬러 필터의 제조 공정을 모식적으로 도시한 부분 단면도,
도 5는 도 3 및 도 4에 도시하는 공정에 의해 얻어진 컬러 필터를 모식적으로 도시한 부분 평면도로서, 도 1의 A-A선의 근방을 확대한 도면,
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 컬러 필터를 모식적으로 도시한 부분 평면도,
도 7은 도 6의 A-A선을 따른 부분을 모식적으로 도시한 부분 단면도,
도 8의 (a)∼(d)는 도 6 및 도 7에 도시하는 컬러 필터의 제조 공정을 모식적으로 도시한 부분 단면도,
도 9의 (a)∼(d)는 도 6 및 도 7에 도시하는 컬러 필터의 제조 공정을 모식적으로 도시한 부분 단면도,
도 10은 도 8 및 도 9에 도시하는 공정에 의해 얻어진 컬러 필터를 모식적으로 도시한 부분 평면도로서, 도 6의 A-A선의 근방을 확대한 도면,
도 11은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판을 모식적으로 도시한 부분 평면도,
도 12는 도 11의 A-A선을 따른 부분을 모식적으로 도시한 부분 단면도,
도 13은 제 3 실시예에 따른 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 공정에 의해 얻어진 컬러 필터를 모식적으로 도시한 부분 평면도로서, 도 11의 A-A선의 근방을 확대한 도면,
도 14는 본 발명의 제 4 실시예에 따른 전기 광학 장치의 1예로서의 액정 표시 장치를 모식적으로 도시한 단면도,
도 15는 본 발명의 제 5 실시예에 따른 전기 광학 장치의 1예로서의 EL 표시 장치를 모식적으로 도시한 단면도,
도 16은 도 15에 도시한 발광용 기판을 모식적으로 도시한 단면도,
도 17의 (a)∼(c)는 도 16에 도시한 발광용 기판의 제조 공정을 모식적으로 도시한 부분 단면도,
도 18의 (a)∼(c)는 도 16에 도시한 발광용 기판의 제조 공정을 모식적으로 도시한 부분 단면도,
도 19는 본 발명의 제 6 실시예에 따른 전자 기기의 1예로서의 디지털 스틸 카메라를 도시한 사시도,
도 20의 (a)∼(c)는 본 발명의 제 6 실시예에 따른 전자 기기의 적용예를 도시한 도면으로서, (a)는 휴대전화기이고, (b)는 손목 시계이며, (c)는 휴대 정보기기인 도면,
도 21은 본 발명의 제 7 실시예에 따른 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판을 모식적으로 도시한 부분 평면도.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10 : 기판10a : 기판(10)의 노출면
20 : 차광 영역22 : 제 1 차광층
24 : 뱅크층26 : 착탄 정밀도 시험용 층
28 : 버니어층30 : 투과 영역
32, 32r, 32g, 32b : 색요소40 : 오버코팅층
42, 42r, 42g, 42b : 발광층50 : 공통 전극
52 : 화소 전극60, 62 : 배향막
70 : 액정층80 : 기판
90, 92 : 편광판100, 110 : 화소 영역
108a : 층111 : 기판
112 : 기체113 : 제 2 전극층
122 : 차광층(제 2 차광층)
122a : 제 2 차광층(122)의 가장자리부
200, 210 : 착탄 시험용 영역202 : 스위칭 소자
204 : 정공 수송/주입층220 : 뱅크 영역
221 : 절연층222 : 뱅크 절연층
222a : 절연층(222)의 가장자리부224 : 수지층
226 : 착탄 정밀도 시험용 층227 : 제 1 전극층
228 : 버니어층229 : 제 2 전극층
230 : 발광 영역240 : 수지층
320, 420 : 볼록형상 층330 : 색요소 형성 영역
430 : 기능층 형성 영역500, 600 : 액적 재료 토출 헤드
502 : 정공 수송/주입층 형성용 재료
602, 604, 606 : 액적 재료1000, 1001 : 컬러 필터
1002 : 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판
1003 : 발광용 기판
1004 : 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판
1100 : 액정 표시 장치1200 : EL 표시 장치
2000 : 디지털 스틸 카메라2002 : 케이스
2204 : 광학 유닛2206 : 셔터버튼
2208 : 회로 기판2212 : 비디오 신호 출력 단자
2214 : 데이터 통신용의 입출력 단자
2300 : 텔레비전(TV) 모니터2400 : 퍼스널 컴퓨터
3000 : 휴대전화기4000 : 손목 시계
5000 : 휴대 정보기기5100 : 입력부
M1, M2 : 마스크R1, R2, R3 : 레지스트층.
1. 컬러 필터 및 액적 재료 착탄 정밀도의 측정 방법
(A) 본 발명은 컬러 필터에 있어서,
차광 영역 및 상기 차광 영역에 의해서 구획되는 투과 영역을 갖는 화소 영역과,
상기 화소 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역과,
상기 차광 영역에 마련되는 제 1 차광층과,
상기 투과 영역에 마련되는 색요소와,
상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 제 2 차광층과,
적어도 상기 제 2 차광층을 덮도록 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 착탄 정밀도 시험용 층을 구비하고,
상기 착탄 정밀도 시험용 영역에는 상기 제 2 차광층에 의해서 구획되는 평가 영역이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 컬러 필터이다.
본 발명의 컬러 필터에 있어서, 화소 영역이라는 것은 컬러 필터에 이용되는 화소를 포함하는 영역을 말한다. 또, 착탄 정밀도 시험용 영역이라는 것은 컬러 필터에 있어서, 화소가 형성되어 있지 않거나, 혹은 컬러 필터의 화소로서 이용되고 있지 않은 화소를 포함하는 영역을 말한다. 또, 평가 영역이라는 것은 액적 재료의 착탄 정밀도 시험에 있어서, 액적 재료의 착탄 정밀도의 평가 대상으로 되는 영역을 말한다.
본 발명의 컬러 필터에 의하면, 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에, 상기 평가 영역이 마련되어 있는 것에 의해, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에서 액적 재료의 착탄 정밀도 시험을 행할 수 있기 때문에, 화소 영역에 있어서 액적 재료를 소정 영역에 정밀도 좋게 부여할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 컬러 필터는 상기 차광 영역에 있어서 충분한 차광성을 갖고, 또한 상기 투과 영역에 있어서 혼색이 없기 때문에, 화소 결함이나 색조 얼룩(불균일)이 없어 콘트라스트가 높은 것을 특징으로 한다. 자세하게는, 후술하는 본 발명의 실시예의 란에서 설명한다.
(B) 본 발명은 컬러 필터에 있어서,
차광 영역 및 상기 차광 영역으로 둘러싸인 투과 영역을 갖는 화소 영역과,
액적 재료를 토출하는 것에 의해서 상기 투과 영역에 형성된 색요소와,
상기 화소 영역에 인접해서 배치되고, 또한 차광 영역을 갖는 주변 영역과,
상기 주변 영역에 포함되고, 또한 상기 주변 영역의 차광 영역으로 둘러싸이는 것에 의해서 상기 투과 영역의 형상에 대응한 형상을 갖는 평가 영역을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 컬러 필터에 의하면, 상기 평가 영역이 마련되어 있는 것에 의해, 해당 영역상에서 액적 재료의 착탄 정밀도 시험을 행할 수 있기 때문에, 상기 화소 영역에 있어서 액적 재료를 소정 영역에 정밀도 좋게 부여할 수 있다. 이 때문에,본 발명의 컬러 필터는 상기 차광 영역에 있어서 충분한 차광성을 갖고, 또한 상기 투과 영역에 있어서 혼색이 없기 때문에, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 것을 특징으로 한다.
(C) 본 발명은 컬러 필터에 있어서,
차광 영역 및 상기 차광 영역으로 둘러싸인 투과 영역을 갖는 화소 영역과,
액적 재료를 토출하는 것에 의해서 상기 투과 영역에 형성된 색요소와,
상기 화소 영역에 인접해서 배치되고, 또한 차광 영역을 갖는 주변 영역과,
상기 주변 영역에 포함되고, 또한 상기 주변 영역의 차광 영역으로 둘러싸인 평가 영역과,
상기 평가 영역을 덮도록 상기 주변 영역에 마련되고, 또한 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 갖는 층을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 컬러 필터에 의하면, 상기 평가 영역을 덮도록 상기 주변 영역에 마련되고, 또한 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 갖는 층이 마련되어 있는 것에 의해, 해당 층상에서 액적 재료의 착탄 정밀도 시험을 행할 수 있기 때문에, 상기 화소 영역에 있어서 액적 재료를 소정 영역에 정밀도 좋게 부여할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 컬러 필터는 상기 차광 영역에 있어서 충분한 차광성을 갖고, 또한 상기 투과 영역에 있어서 혼색이 없기 때문에, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 것을 특징으로 한다.
(D) 본 발명은 컬러 필터에 있어서,
차광 영역 및 상기 차광 영역으로 둘러싸인 복수의 투과 영역을 갖는 화소영역과,
액적 재료를 토출하는 것에 의해서 상기 투과 영역에 형성된 색요소와,
상기 화소 영역에 인접해서 배치되고, 또한 차광 영역을 갖는 주변 영역과,
상기 주변 영역에 포함되고, 또한 상기 주변 영역의 차광 영역으로 둘러싸인 평가 영역을 구비하고,
상기 복수의 투과 영역 및 상기 평가 영역은 배열되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 컬러 필터에 의하면, 상기 복수의 투과 영역 및 상기 평가 영역이 배열되어 있는 것에 의해, 상기 평가 영역상에서 액적 재료의 착탄 정밀도 시험을 행할 수 있기 때문에, 상기 화소 영역에 있어서 액적 재료를 소정 영역에 정밀도 좋게 부여할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 컬러 필터는 상기 차광 영역에 있어서 충분한 차광성을 갖고, 또한 상기 투과 영역에 있어서 혼색이 없기 때문에, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 것을 특징으로 한다.
또, 본 발명의 컬러 필터를 이용한 액적 재료 착탄 정밀도의 측정은 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 것에 의해 실행된다. 이 측정 방법에 의해, 본 발명의 컬러 필터에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 볼록형상 층이 형성된다.
본 발명의 컬러 필터에 있어서는 이하의 [1]∼[3]의 형태를 취할 수 있다.
[1] 상기 화소 영역을 구성하는 상기 차광 영역은 뱅크층을 더 포함하고, 상기 뱅크층을 상기 화소 영역에 마련되는 상기 제 1 차광층상에 마련할 수 있다.
이 구성에 의하면, 상기 화소 영역에 마련되는 상기 제 1 차광층상에 상기 뱅크층을 마련하는 것에 의해, 차광 기능과 색요소의 구획 기능을 각각 독립해서 설정할 수 있으므로, 양자의 기능을 확실하게 발휘시킬 수 있다. 그 결과, 본 발명의 컬러 필터는 불충분한 차광성이나 혼색에 기인하는 화소 결함이 잘 발생하지 않는다. 또, 이와 같이 기능을 분할하는 것에 의해, 상기 화소 영역에 마련되는 상기 제 1 차광층 및 상기 뱅크층을 구성하기 위한 최적한 재료를 넓은 범위에서 선택할 수 있고, 생산 비용의 점에서도 유리하다. 특히, 상기 제 1 차광층이 금속층으로 구성되는 경우에는 작은 막두께로서 균일하고 또한 충분한 차광성을 얻을 수 있다.
[2] 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 상기 제 2 차광층은 상기 화소 영역에 마련되는 상기 제 1 차광층과 동일한 패턴을 가질 수 있다. 이 구성에 의하면, 본 발명의 컬러 필터의 상기 착탄 정밀도 시험용 층에 대해서 액적 재료 착탄 시험을 행하는 경우, 상기 화소 영역에 있어서 색요소가 형성되는 영역에 액적 재료를 착탄하는 경우를 상정하여, 액적 재료의 착탄 정밀도를 평가할 수 있다.
[3] 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 버니어층을 마련할 수 있다. 이 구성에 의하면, 상기 착탄 정밀도 시험용 층에 대한 액적 재료 착탄 시험시에, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 형성되는 액적 재료층과 상기 버니어층과의 상대 위치에 의해서, 액적 재료의 착탄 위치의 어긋남을 명확히 식별할 수 있다.
이 경우, 상기 버니어층을 상기 평가 영역내의 소정의 위치에 마련할 수 있다.
또, 이 경우, 상기 버니어층은 상기 제 2 차광층과 동일한 재료로 형성할 수 있다.
2. 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판 및 액적 재료 착탄 정밀도의 측정 방법
본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판은 차광층과, 적어도 해당 차광층을 덮도록 형성된 착탄 정밀도 시험용 층을 포함하는 착탄 정밀도 시험용 영역을 포함하고,
상기 착탄 정밀도 시험용 영역에는 상기 차광층에 의해서 구획되는 평가 영역이 마련되어 있다.
본 발명에 의하면, 컬러 필터를 제조하기 전에, 본 발명의 컬러 필터용 착탄 정밀도 시험 기판에 대해서 액적 재료 착탄 정밀도 시험을 행하는 것에 의해, 액적 재료의 착탄 정밀도를 충분히 확인하고, 착탄 정밀도를 높이고 나서, 실제로 제조하는 컬러 필터의 색요소의 형성을 실행할 수 있다. 이것에 의해, 컬러 필터의 제조에 있어서, 소정 영역에 정밀도 좋게 액적 재료를 부여할 수 있기 때문에, 차광 영역에 있어서 충분한 차광성을 갖고, 또한 투과 영역에 있어서 혼색이 없고, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 컬러 필터를 제조할 수 있다.
또, 본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판을 이용한 액적 재료의 착탄 정밀도의 측정은 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 것에 의해 실행된다. 이 측정 방법에 의해, 본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 볼록형상 층이 형성된다.
또, 본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판에 있어서는 버니어층을 마련할 수 있다.
이 경우, 상기 버니어층을, 상기 평가 영역내의 소정의 위치에 마련할 수 있다.
또 이 경우, 상기 버니어층을, 상기 차광층과 동일한 재료로 형성할 수 있다.
상기 구성에 의하면, 상술한 본 발명의 컬러 필터의 경우와 거의 마찬가지의 작용 및 효과를 갖는다.
3. 컬러 필터의 제조 방법
본 발명은 컬러 필터의 제조 방법에 있어서,
(a) 화소 영역에 있어서, 소정의 매트릭스 패턴을 갖는 제 1 차광층을 형성하는 것에 의해, 해당 제 1 차광층을 포함하는 차광 영역을 마련하는 공정과,
상기 화소 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 소정의 매트릭스 패턴을 갖는 제 2 차광층을 형성하는 것에 의해, 해당 제 2 차광층에 의해서 구획되는 평가 영역을 형성하는 공정과,
(b) 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 적어도 상기 제 2 차광층을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정과,
(c) 상기 화소 영역에 있어서, 색요소 형성 영역에 색요소를 형성하는 것에 의해, 상기 차광 영역에 의해서 구획되는 투과 영역을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터의 제조 방법이다.
본 명세서에 있어서, 색요소 형성 영역이라는 것은 상기 화소 영역에 있어서 상기 색요소가 형성되는 영역이며, 구체적으로는 상기 화소 영역에 있어서 상기 차광 영역에 의해서 구획된 영역을 말한다. 상기 차광 영역은 주로, 상기 제 1 차광층 및 필요에 따라서 뱅크층(후술한다)으로 구성된다.
본 발명의 컬러 필터의 제조 방법에 의하면, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 컬러 필터를 간단한 공정에 의해 제조할 수 있다.
본 발명의 컬러 필터의 제조 방법에 있어서는 이하의 [1]∼[6]의 형태를 취할 수 있다.
[1] 상기 공정(b)는 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하고, 또한 상기 화소 영역에 있어서, 상기 제 1 차광층상에 뱅크층을 형성하는 공정일 수 있다. 이 제조 방법에 의하면, 상기 뱅크층에 의해서, 예를 들면 빨강, 초록 및 파랑의 각 색의 색제 등의 액적 재료를, 혼색이 없는 상태에서 상기 색요소 형성 영역에 부여할 수 있기 때문에, 색조 얼룩 등의 결함이 없는 높은 트라스트의 컬러 필터를 얻을 수 있다.
[2] (d) 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 공정을 더 포함할 수 있다.
이 제조 방법에 의하면, 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 볼록형상의 액적 재료층을 착탄시켜 액적 재료의 착탄 정밀도의 평가를 행하고 나서, 상기 화소 영역에 있어서, 상기 색요소 형성 영역에 액적 재료를 착탄시켜, 실제로 화소로서 이용하는 색요소를 형성할 수 있다. 이것에 의해, 상기 색요소를 소정 영역에 정밀도 좋게 부여할 수 있기 때문에, 차광 영역에 있어서 충분한 차광성을 갖고, 또한 투과 영역에 있어서 혼색이 없는, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 컬러 필터를 간단한 공정에 의해 제조할 수 있다.
[3] 상기 공정(a)에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 차광층은 기판상에 금속층을 형성한 후, 포토리소그래피 및 에칭에 의해서 해당 금속층을 패터닝하는 것에 의해 형성할 수 있다. 이 구성에 의하면, 상기 제 1 및 제 2 차광층으로서 금속층을 이용하는 것에 의해, 작은 막두께로서 충분하고 또한 균일한 차광성이 얻어진다. 이 금속층은 증착법, 스퍼터법, 화학 증착법 등의 방법으로 형성할 수 있다.
[4] 상기 공정(a)는 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 제 2 차광층을 형성하고, 또한 상기 평가 영역내의 소정의 위치에 버니어층을 형성하는 공정일 수 있다.
[5] 상기 공정(b)는 상기 화소 영역에 있어서, 상기 제 1 차광층상에 감광성 수지층을 형성하고, 그 후 포토리소그래피에 의해서 패터닝하여 상기 뱅크층을 형성하는 공정일 수 있다. 이 뱅크층은 차광성이 요구되지 않으므로 흑색일 필요는 없고, 일반적으로 입수 가능한 감광성 수지 조성물 중에서 널리 선택할 수 있다.
[6] 상기 공정(c)는 상기 색요소 형성 영역에 액적 재료 토출 헤드를 이용하여 액적 재료를 부여해서 상기 색요소를 형성하는 공정일 수 있다. 이 방법에 의하면, 본 발명의 컬러 필터를 간단하고 또한 적은 공정으로 형성할 수 있다. 즉, 상기 색요소를, 액적 재료 토출 헤드를 이용하여 액적 재료를 부여해서 형성하는 것에 의해, 포토리소그래피를 이용한 패터닝의 공정을 저감할 수 있어, 공정을 간이화할 수 있다. 또, 액적 재료 토출 헤드를 이용하여 색요소 형성 영역에 액적 재료를 부착시키므로, 필요한 영역에만 액적 재료를 부여할 수 있다. 이 때문에, 포토리소그래피에 의한 패터닝과 같이, 불필요 부분을 제거하는 것에 의한 색재의 손실(loss)이 없어, 컬러 필터의 비용을 저감할 수 있다. 본 발명에 있어서는 상기 액적 재료는 6∼30 피코리터의 미소 액적으로서 부여할 수 있다. 이러한 미소 액적의 갯수를 제어하는 것에 의해, 예를 들면 40∼100 ㎛각(角)(예를 들어, A ㎛각이라는 것은, 한 변이 A ㎛인 정방형 영역의 면적을 의미함)의 미세한 영역에 원하는 양의 액적 재료를 적확(的確)하게 부여할 수 있다.
4. 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법
본 발명은 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법에 있어서,
(a) 소정의 매트릭스 패턴을 갖는 차광층을 형성하는 것에 의해, 해당 차광층에 의해서 구획되는 평가 영역을 형성하는 공정과,
(b) 적어도 해당 차광층을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 것에의해, 착탄 정밀도 시험용 영역을 형성하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법이다.
본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법에 의하면, 상술한 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법의 경우와 거의 마찬가지의 작용 및 효과를 갖는다.
본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법에 있어서는 이하의 [1]∼[3]의 형태를 취할 수 있다.
[1] (c) 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 공정을 더 포함할 수 있다.
[2] 상기 공정(a)에 있어서, 상기 차광층은 기판상에 금속층을 형성한 후, 포토리소그래피 및 에칭에 의해서 해당 금속층을 패터닝하는 것에 의해 형성할 수 있다.
[3] 상기 공정(a)는 상기 차광층을 형성하고, 또한 상기 평가 영역내의 소정의 위치에 버니어층을 형성하는 공정일 수 있다.
상기 [1]∼[3]에 나타낸 제조 방법에 의하면, 상술한 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법과 거의 마찬가지의 작용 및 효과를 갖는다. 또, 상기 [1]에 나타낸 방법을 실제로 제조하는 컬러 필터의 제조전에 실행하는 것에 의해, 본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판에 있어서, 액적 재료의 착탄 정밀도를 충분히 확인하고, 착탄 정밀도를 높이고 나서, 실제로 제조하는 컬러 필터의 색요소의 형성을 실행할 수 있다. 이것에 의해, 정밀도 좋게 색요소에 액적 재료를 부여할 수 있기 때문에, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 컬러 필터를 제조할 수 있다.
5. 발광용 기판
(A) 본 발명은 발광용 기판에 있어서,
뱅크 영역 및 상기 뱅크 영역에 의해서 구획되는 발광 영역을 갖는 화소 영역과,
상기 화소 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역과,
상기 발광 영역에 마련되는 기능층과,
상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 착탄 정밀도 시험용 층을 구비하는 것을 특징으로 하는 발광용 기판이다.
본 발명의 발광용 기판에 있어서, 화소 영역이라는 것은 발광용 기판에 이용되는 화소를 포함하는 영역을 말한다. 또, 발광용 기판에 있어서, 착탄 정밀도 시험용 영역이라는 것은 화소가 형성되어 있지 않거나, 혹은 발광용 기판의 화소로서 이용되고 있지 않은 화소를 포함하는 영역을 말한다. 또, 기능층이라는 것은 발광층과, 필요에 따라서 정공 수송/주입층을 포함하는 층을 말한다.
본 발명의 발광용 기판에 의하면, 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 착탄 정밀도 시험용 층을 구비하는 것에 의해, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에서 액적 재료의 착탄 정밀도 시험을 행할 수 있기 때문에, 화소 영역에 있어서 액적 재료를 소정 영역에 정밀도 좋게 부여할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 발광용기판은 상기 뱅크 영역에 있어서 충분한 차광성을 갖고, 또한 상기 발광 영역에 있어서 혼색이 없기 때문에, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 것을 특징으로 한다. 자세하게는, 후술하는 본 발명의 실시예의 란에서 설명한다.
(B) 본 발명은 발광용 기판에 있어서,
구획 영역 및 상기 구획 영역으로 둘러싸인 발광 영역을 갖는 화소 영역과,
액적 재료를 토출하는 것에 의해서 상기 발광 영역에 형성된 기능층과,
상기 화소 영역에 인접해서 배치된 주변 영역과,
상기 주변 영역에 포함되고, 또한 상기 발광 영역의 형상에 대응한 형상을 갖는 평가 영역과,
상기 평가 영역을 덮도록 상기 주변 영역에 마련되고, 또한 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 갖는 층을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 발광용 기판에 있어서, 평가 영역이라는 것은 액적 재료의 착탄 정밀도 시험이 실행되는 영역을 말한다.
본 발명의 발광용 기판에 의하면, 상기 평가 영역을 덮도록 상기 주변 영역에 마련되고, 또한 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 갖는 층이 마련되어 있는 것에 의해, 해당 층상에서 액적 재료의 착탄 정밀도 시험을 행할 수 있기 때문에, 화소 영역에 있어서 액적 재료를 소정 영역에 정밀도 좋게 부여할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 발광용 기판은 상기 구획 영역에 있어서 충분한 차광성을 갖고, 또한 상기 발광 영역에 있어서 혼색이 없기 때문에, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 것을 특징으로 한다.
(C) 본 발명은 발광용 기판에 있어서,
구획 영역 및 상기 구획 영역으로 둘러싸인 복수의 발광 영역을 갖는 화소 영역과,
액적 재료를 토출하는 것에 의해서 상기 발광 영역에 형성된 기능층과,
상기 화소 영역에 인접해서 배치되고, 또한 차광 영역을 갖는 주변 영역과,
상기 주변 영역에 포함되고, 또한 상기 발광 영역의 형상에 대응한 형상을 갖는 평가 영역을 구비하고,
상기 복수의 발광 영역 및 상기 평가 영역은 배열되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 발광용 기판에 의하면, 상기 평가 영역을 구비하고, 상기 복수의 발광 영역 및 상기 평가 영역이 배열되어 있는 것에 의해, 해당 영역상에서 액적 재료의 착탄 정밀도 시험을 행할 수 있기 때문에, 화소 영역에 있어서 액적 재료를 소정 영역에 정밀도 좋게 부여할 수 있다. 이 때문에, 본 발명의 발광용 기판은 상기 구획 영역에 있어서 충분한 차광성을 갖고, 또한 상기 발광 영역에 있어서 혼색이 없기 때문에, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 것을 특징으로 한다.
또, 본 발명의 발광용 기판을 이용한 액적 재료의 착탄 정밀도의 측정은 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 것에 의해 실행된다. 이 측정 방법에 의해, 본 발명의 발광용 기판에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 상기착탄 정밀도 시험용 층상에 볼록형상 층이 형성된다.
본 발명의 발광용 기판에 있어서는 이하의 [1]∼[5]의 형태를 취할 수 있다.
[1] 상기 기능층을, 1쌍의 전극층 사이에 형성할 수 있다.
[2] 상기 뱅크 영역은 제 1 절연층 및 수지층을 순차 적층해서 구성할 수 있다.
이 경우, 상기 착탄 정밀도 시험용 영역은 제 2 절연층을 포함하고,
상기 착탄 정밀도 시험용 영역을 구성하는 상기 제 2 절연층은 상기 화소 영역에 있어서 상기 뱅크 영역을 구성하는 상기 제 1 절연층과 동일한 기체로부터의 높이로 형성되고, 또한 동일한 패턴을 가질 수 있다.
[3] 상기 화소 영역 및 상기 착탄 정밀도 시험용 영역은 각각, 스위칭 소자를 포함하고,
상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 형성되는 스위칭 소자와, 상기 화소 영역에 형성되는 상기 스위칭 소자는 동일한 구조를 가질 수 있다.
[4] 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 버니어층을 마련할 수 있다.
이 경우, 상기 화소 영역에 형성되는 스위칭 소자는 금속 배선층을 포함하고,
상기 버니어층은 상기 금속 배선층과 동일한 기체로부터의 높이로 형성할 수 있다.
[5] 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에, 볼록형상 층이 형성되어 있을 수 있다.
상기 [1]∼[5]의 형태에 의하면, 상술한 본 발명의 컬러 필터와 거의 마찬가지의 작용 및 효과를 갖는다.
6. 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판
본 발명의 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판은 기판상에 형성된 스위칭 소자와, 상기 스위칭 소자에 접속되는 전극층과, 소정의 패턴을 갖는 뱅크 절연층과, 상기 전극층상에 형성된 상기 착탄 정밀도 시험용 층을 포함한다.
본 발명의 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판에 의하면, 상술한 본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판과 거의 마찬가지의 작용 및 효과를 갖는다.
또, 본 발명의 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판을 이용한 액적 재료의 착탄 정밀도의 측정은 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 것에 의해 실행된다. 이 측정 방법에 의해, 본 발명의 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 볼록형상 층이 형성된다.
또, 본 발명의 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판에 있어서는 상기 기판상에 버니어층을 마련할 수 있다.
이 경우, 상기 버니어층은 금속층으로 형성할 수 있다.
상기 구성에 의하면, 상술한 본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 경우와 거의 마찬가지의 작용 및 효과를 갖는다.
7. 발광용 기판의 제조 방법
본 발명은 발광용 기판의 제조 방법에 있어서,
(a) 화소 영역에 있어서, 소정의 패턴을 갖는 뱅크 영역을 형성하는 공정과,
(b) 상기 화소 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정과,
(c) 상기 화소 영역에 있어서, 상기 뱅크 영역에 의해서 구획되는 영역에 기능층을 형성하는 것에 의해, 상기 뱅크 영역에 의해서 구획되는 발광 영역을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광용 기판의 제조 방법이다.
본 발명의 발광용 기판의 제조 방법에 의하면, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 발광용 기판을 간단한 공정에 의해 제조할 수 있다.
본 발명의 발광용 기판의 제조 방법에 있어서는 이하의 [1]∼[6]의 형태를 취할 수 있다.
[1] (d) 상기 화소 영역에 있어서, 상기 기능층에 전하를 부가하는 1쌍의 전극층을 형성하는 공정을 더 포함할 수 있다.
[2] 상기 공정(a)에 있어서, 상기 뱅크 영역은 제 1 절연층상에 수지층을 적층하는 것에 의해 형성할 수 있다.
이 경우, 상기 공정(a)는 상기 화소 영역에 있어서, 제 1 절연층을 형성하고, 또한 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 제 2 절연층을 형성하는 공정을 포함하고,
상기 제 1 절연층과 상기 제 2 절연층을 동일한 기체로부터의 높이로 형성하고, 또한 동일한 패턴으로 형성할 수 있다.
또 이 경우, 상기 공정(a)에 있어서, 상기 수지층은 상기 화소 영역에 있어서 감광성 수지층을 형성하고, 그 후 포토리소그래피에 의해서 패터닝하는 것에 의해 형성할 수 있다.
또 이 경우, 상기 공정(a)에 있어서, 상기 수지층을 형성하는 공정과, 상기 공정(b)에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정을 동일 공정에서 행할 수 있다.
[3] (e) 상기 화소 영역 및 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 동일한 구조를 갖는 스위칭 소자를 각각 형성하는 공정을 더 포함할 수 있다.
[4] (f) 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 포함하는 액적을 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 공정을 더 포함할 수 있다.
[5] 상기 공정(a)는 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 기판상에 버니어층을 형성하는 공정을 포함할 수 있다.
이 경우, 상기 공정(e)에 있어서, 상기 화소 영역에 마련되는 상기 스위칭 소자는 금속 배선층을 포함하고,
상기 버니어층을 상기 금속 배선층과 동일한 기체로부터의 높이로 형성할 수 있다.
[6] 상기 공정(c)는 상기 뱅크 영역에 의해서 구획되는 영역에, 액적 재료 토출 헤드를 이용하여 액적 재료를 부여해서 상기 기능층을 형성하는 공정일 수 있다.
상기 [1]∼[6]의 형태에 의하면, 상술한 본 발명의 컬러 필터의 제조 방법의 경우와 거의 마찬가지의 작용 및 효과를 갖는다.
8. 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법
본 발명은 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법에 있어서,
(a) 스위칭 소자, 전극층 및 소정의 패턴을 갖는 뱅크 절연층을 기판상에 형성하는 공정과,
(b) 상기 전극층상에, 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법이다.
본 발명의 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법에 의하면, 상술한 본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법의 경우와 거의 마찬가지의 작용 및 효과를 갖는다.
본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법에 있어서는 이하의 [1]∼[4]의 형태를 취할 수 있다.
[1] 상기 공정(b)는 상기 착탄 정밀도 시험용 층을, 상기 전극층 및 상기 뱅크 절연층상에 형성하는 공정일 수 있다.
[2] (c) 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 포함하는 액적을 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 공정을 더 포함할 수 있다.
[3] 상기 공정(b)는 감광성 수지층을 형성하고, 그 후 포토리소그래피에 의해서 패터닝하는 것에 의해 상기 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정일 수 있다.
[4] 상기 공정(a)는 상기 기판상에 버니어층을 형성하는 공정을 포함할 수 있다.
상기 [1]∼[4]에 나타낸 제조 방법에 의하면, 상술한 본 발명의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법과 거의 마찬가지의 작용 및 효과를 갖는다.
9. 전기 광학 장치 및 전자 기기
[1] 본 발명에 따른 전기 광학 장치는 상술한 본 발명의 컬러 필터와,
해당 컬러 필터와 소정 간격을 두고 배치되는 대향 기판과,
상기 컬러 필터와 상기 대향 기판 사이에 배치되는 전기 광학 재료층을 포함한다.
이 경우, 상기 전기 광학 재료층으로서, 액정 재료층을 이용하면, 색조 얼룩 등의 화소 결함이 없어 높은 콘트라스트의 표시를 할 수 있는 액정 표시 장치를 구성할 수 있다.
[2] 본 발명에 따른 전기 광학 장치는 상술한 본 발명의 발광용 기판을 포함하고,
상기 발광용 기판을 구성하는 상기 기능층은 일렉트로루미네슨스(electroluminescence)에 의해서 발광 가능하다.
[3] 본 발명에 따른 전자 기기는 상기 [1] 또는 [2]에 나타낸 본 발명의 전기 광학 장치를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 전기 광학 장치 및 전자 기기에 의하면, 상술한 본 발명의 컬러 필터 또는 발광용 기판의 작용 효과를 반영하여, 비용의 저감을 도모하고, 색조 얼룩 등의 화소 결함이 없어 높은 콘트라스트의 표시를 할 수 있다.
10. 성막 방법
[1] 본 발명은 성막 방법에 있어서,
막형성 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 착탄 정밀도 확인용 패턴을 형성하는 공정과,
상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정과,
상기 착탄 정밀도 시험용 층상의 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 위치에 대응하는 위치에, 액적 재료를 토출하는 것에 의해서 볼록형상 층을 형성하는 공정과,
상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 및 상기 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 성막 방법에 의하면, 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 및 상기 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 공정을 구비하는 것에 의해, 상기 액적 재료의 착탄 정밀도를 정확히 평가할 수 있다. 이것에 의해, 정밀도가 좋은 성막이 가능해진다.
[2] 또, 본 발명은 성막 방법에 있어서,
막형성 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 착탄 정밀도 확인용 패턴을 형성하는 공정과,
상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정과,
상기 착탄 정밀도 시험용 층상의 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 위치에 대응하는 위치에, 액적 재료를 토출하는 것에 의해서 복수의 볼록형상 층을 형성하는 공정과,
상기 복수의 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 성막 방법에 의하면, 상기 복수의 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 공정을 구비하는 것에 의해, 상기 액적 재료의 착탄 정밀도를 정확히 평가할 수 있다. 이것에 의해, 정밀도가 좋은 성막이 가능해진다.
또, 상기 [1] 또는 [2]의 성막 방법에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층은 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 가질 수 있다.
11. 성막 장치
[1] 본 발명은 성막 장치에 있어서,
액적 재료를 토출하기 위한 노즐을 구비하고,
막형성 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 착탄 정밀도 확인용 패턴을 형성하고,
상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하고,
적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 형성된 상기 착탄 정밀도 시험용 층상의 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 위치에 대응하는 위치에, 상기 노즐로부터 액적 재료를 토출하는 것에 의해서 볼록형상 층을 형성하고,
상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 및 상기 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 성막 장치에 의하면, 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 및 상기 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 것에 의해, 상기 액적 재료의 착탄 정밀도를 정확히 평가할 수 있다. 이것에 의해, 정밀도가 좋은 성막이 가능해진다.
[2] 또, 본 발명은 성막 장치에 있어서,
액적 재료를 토출하기 위한 노즐을 구비하고,
막형성 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 착탄 정밀도 확인용 패턴을 형성하고,
상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하고,
적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 형성된 상기 착탄 정밀도 시험용 층상의 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 위치에 대응하는 위치에, 상기 노즐로부터 액적 재료를 토출하는 것에 의해서 복수의 볼록형상 층을 형성하고,
상기 복수의 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 성막 장치에 의하면, 상기 복수의 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 것에 의해, 상기 액적 재료의 착탄 정밀도를 정확히 평가할 수 있다. 이것에 의해, 정밀도가 좋은 성막이 가능해진다.
또, 상기 [1] 또는 [2]의 성막 장치에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층은 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 가질 수 있다.
(발명의 실시예)
다음에, 본 발명의 실시예에 따른 컬러 필터 및 그 제조 방법, 상기 컬러 필터를 이용한 액적 재료 착탄 정밀도의 측정 방법, 전기 광학 장치 및 전자 기기에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다.
(제 1 실시예)
(컬러 필터)
도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 컬러 필터를 모식적으로 도시한 부분 평면도이며, 도 2는 도 1의 A-A선을 따른 부분을 모식적으로 도시한 부분 단면도이다.
본 실시예에 따른 컬러 필터(1000)는 투명한 기판(10)과, 기판(10)상에 각각 형성된 화소 영역(100) 및 주변 영역을 포함한다. 여기서, 주변 영역이라는 것은 화소 영역(100)에 인접해서 배치되고, 또한 차광 영역을 포함하는 영역을 말한다. 이 주변 영역은 착탄 정밀도 시험용 영역(200)을 포함한다. 즉, 착탄 정밀도 시험용 영역(200)은 화소 영역(100) 이외에 위치한다. 또한, 본 실시예에 있어서는 착탄 정밀도 시험용 영역(200)이 화소 영역(100)의 바깥 둘레 가장자리(外周緣)에 형성되어 있는 예를 나타내었지만, 착탄 정밀도 시험용 영역(200)의 형성 위치는 이 장소에 한정되는 것은 아니다.
[1] 화소 영역
화소 영역(100)은 도 1 및 도 2에 도시하는 바와 같이, 차광 영역(20)과, 차광 영역(20)에 의해서 구획되는 투과 영역(30)을 포함한다. 차광 영역(20)은 광(가시광)이 실질적으로 투과하지 않는 영역이며, 투과 영역(30)은 광이 투과 가능한 영역이다. 화소 영역(100)에 있어서는 도 1에 도시하는 바와 같이, 차광 영역(20)과 투과 영역(30)이 소정의 매트릭스 패턴으로 배열되어 있다.
차광 영역(20)은 제 1 차광층(22)과, 이 제 1 차광층(22)상에 형성된 뱅크층(24)을 갖는다. 그리고, 투과 영역(30)에는 색요소(32)가 마련되어 있다. 색요소(32)는 예를 들면 기판(10)상에 형성되어 있다.
우선, 차광 영역(20)에 대해서 설명한다.
차광 영역(20)을 구성하는 제 1 차광층(22)은 기판(10)상에 소정의 매트릭스 패턴으로 형성되어 있다. 그리고, 제 1 차광층(22)은 충분한 차광성을 갖고, 블랙 매트릭스로서 기능하면 좋고, 그 재질 등은 특별히 한정되지 않으며, 금속, 수지 등을 이용할 수 있다. 제 1 차광층(22)의 재질로서는, 작은 막두께로서 충분하고 또한 균일한 차광성이 얻어지는 점에서, 금속을 이용하는 것이 바람직하다. 제 1 차광층(22)으로서 이용되는 금속은 특별히 한정되지 않고, 성막 및 포토 에칭을 포함하는 전공정의 효율을 배려하여 선택할 수 있다. 이러한 금속으로서는, 예를 들면 크롬, 니켈, 알루미늄 등의 전자 장치 가공 프로세스에서 이용되고 있는 것을 바람직하게 이용할 수 있다. 제 1 차광층(22)을 금속으로 구성하는 경우에는 그의 막두께가 0.1㎛ 이상이면 충분한 차광성이 얻어지고, 또 금속층의 밀착성과 취성(脆性) 등을 고려하면, 그의 막두께가 0.5㎛ 이하인 것이 바람직하다.
뱅크층(24)은 제 1 차광층(22)상에 형성되고, 소정의 매트릭스 패턴을 갖는다. 이 뱅크층(24)은 색요소가 형성되는 영역을 구획하고, 인접하는 색요소의 색이 섞이는 것(혼색)을 방지한다. 따라서, 뱅크층(24)의 막두께는 색요소를 형성할 때에 주입되는 색재로서의 액적 재료가 오버플로우(넘침)하지 않도록, 이 액적 재료층의 높이 등의 관계를 고려하여 설정된다. 뱅크층(24)은 이러한 관점에서, 예를 들면 막두께 1∼5㎛의 범위로 형성되는 것이 바람직하다.
뱅크층(24)은 포토리소그래피가 가능한 수지층에 의해서 구성된다. 이러한 감광성 수지는 반드시 물에 대한 접촉각이 큰 발수성(撥水性)이 우수한 것, 혹은차광성을 갖는 것일 필요가 없으며, 폭넓은 범위에서 선택할 수 있다. 뱅크층(24)을 구성하는 수지로서는, 예를 들면 우레탄계 수지, 아크릴계 수지, 노볼락계 수지, 컬드계 수지, 폴리이미드 수지, 폴리히드록시스틸렌, 폴리비닐알콜 등을 포함하는 감광성 수지 조성물을 이용할 수 있다.
다음에, 투과 영역(30)에 대해서 설명한다. 투과 영역(30)은 차광 영역(20)에 의해서 구획된 영역이다. 이 투과 영역(30)에는 색요소(32)가 마련되어 있다.
색요소(32)는 광의 삼원색을 구성하는 빨강, 초록 및 파랑의 각 색을 갖는 복수의 색요소(32r, 32g, 32b)로 이루어진다. 이들 색요소(32)는 소정의 배열, 예를 들면 스트라이프 배열, 델타 배열 또는 모자이크 배열 등의 배열 패턴에 의해서 배치되고, 연속한 3색의 색요소에 의해서 1화소가 구성된다. 이 색요소(32)는 예를 들면 안료 또는 염료를 포함하는 착색층으로 이루어진다.
[2] 착탄 정밀도 시험용 영역
착탄 정밀도 시험용 영역(200)은 상기 주변 영역에 포함된다. 이 착탄 정밀도 시험용 영역(200)은 상기 주변 영역에 포함되고, 또한 상기 주변 영역의 차광 영역(여기서는 제 2 차광층(122))으로 둘러싸이는 것에 의해서 투과 영역(30)의 형상에 대응한 형상을 갖는 영역을 포함한다. 상기 주변 영역의 차광 영역으로 둘러싸인 영역은 배열되어 있다. 구체적으로는, 착탄 정밀도 시험용 영역(200)은 도 2에 도시하는 바와 같이, 제 2 차광층(122)(차광 영역) 및 착탄 정밀도 시험용 층(26)을 포함한다.
착탄 정밀도 시험용 영역(200)을 구성하는 제 2 차광층(122)은 기판(10)상에소정의 매트릭스 패턴으로 형성되어 있다. 제 2 차광층(122)은 화소 영역(100)을 구성하는 제 1 차광층(22)과 동일한 패턴을 가질 수 있다. 본 실시예에 있어서는, 제 2 차광층(122)은 제 1 차광층(22)과 동일한 패턴을 갖고, 또한 동일한 공정에 의해 형성된다. 즉, 제 2 차광층(122)은 제 1 차광층(22)과 마찬가지로 충분한 차광성을 갖고, 블랙 매트릭스로서 기능하면 좋고, 그의 재질 등은 특별히 한정되지 않고, 금속, 수지 등을 이용할 수 있다.
착탄 정밀도 시험용 층(26)은 상기 주변 영역의 차광 영역(제 2 차광층(122))으로 둘러싸인 영역을 덮도록 상기 주변 영역에 마련되고, 또한 액적 재료를 튕기는 성질을 갖는다. 이 착탄 정밀도 시험용 층(26)은 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 적어도 제 2 차광층(122)을 덮도록 마련되어 있다. 본 실시예의 컬러 필터(1000)에 있어서는, 착탄 정밀도 시험용 층(26)은 기판(10)상에 제 2 차광층(122)을 덮도록 형성되어 있다.
착탄 정밀도 시험용 층(26)은 그의 표면에 액적 재료를 착탄시켜, 액적 재료의 착탄 정밀도를 측정하기 위해서 이용된다. 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에는 제 2 차광층(122)에 의해서 구획되는 영역(평가 영역)이 마련되어 있다. 본 실시예에 있어서는, 제 1 차광층(22)에 의해서 구획되는 영역과, 제 2 차광층(122)에 의해서 구획되는 영역(평가 영역)은 동일한 패턴을 갖는다.
또, 액적 재료의 착탄 정밀도를 확실하게 측정하기 위해서는, 착탄 정밀도 시험용 층(26)의 표면은 액적 재료에 대해서 발수성을 갖는 것이 필요하게 된다. 여기서, 액적 재료에 대한 발수성을 갖는다고 하는 것은 액적 재료에 대해서 습윤성이 낮은 것을 말한다. 착탄 정밀도 시험용 층(26)의 표면에 액적 재료에 대한 발수성을 갖게 하기 위해서는, 착탄 정밀도 시험용 층(26) 자체가 액적 재료에 대해서 발수성을 갖는 재료로 형성되어 있거나, 혹은 착탄 정밀도 시험용 층(26)의 표면에, 액적 재료에 대해서 발수성을 부여하기 위한 표면 처리, 예를 들면 플라즈마 처리에 의한 표면 불소화 등을 실시할 수 있다. 본 실시예에 있어서는, 착탄 정밀도 시험용 층(26)은 화소 영역(10)을 형성하는 뱅크층(24)과 동일한 재료로 형성할 수 있다.
또한, 착탄 정밀도 시험용 층(26)은 반드시 착탄 정밀도 시험용 영역(200)의 전체 영역에 걸쳐 형성될 필요는 없고, 착탄 정밀도 시험용 영역(200)중, 적어도 액적 재료의 착탄 시험을 행하기 위한 영역, 즉 액적 재료를 착탄시키는 영역에 형성되어 있으면 좋다.
(컬러 필터의 제조 방법)
다음에, 도 3∼도 5를 참조하면서, 본 실시예의 컬러 필터의 제조 방법에 대해서 설명한다. 도 3 및 도 4는 각 공정에 있어서 도 1의 B-B 선에 대응하는 부분의 층 구조를 모식적으로 도시한 단면도이다. 도 5는 도 3 및 도 4에 도시하는 공정에 의해 얻어진 컬러 필터를 모식적으로 도시한 부분 평면도로서, 도 1의 A-A선의 근방을 확대한 도면이다.
[1] 차광층의 형성
우선, 도 3의 (a)에 도시하는 바와 같이, 화소 영역(100) 및 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 투명한 기판(10)상에, 드라이 도금법, 예를 들면 스퍼터법, 증착법, 화학증착법에 의해 금속층(220)을 막두께 0.1∼0.5㎛로 퇴적시킨다. 금속층(220)의 재료로서는 상술한 바와 같이, 크롬, 니켈, 알루미늄 등의 각종 금속을 이용할 수 있다. 다음에, 금속층(220)의 표면에 소정의 패턴을 갖는 레지스트층 R1을 포토리소그래피에 의해서 형성한다. 여기서, 화소 영역(100) 및 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에서 동일한 패턴을 갖는 마스크를 사용하여 포토리소그래피 공정을 실행한다. 그 후, 이 레지스트층 R1을 마스크로 하여 에칭을 행하고, 금속층(220)의 패터닝을 행한다. 이렇게 하여, 도 3의 (b)에 도시하는 바와 같이, 화소 영역(100) 및 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 기판(10)상에 소정의 매트릭스 패턴을 갖는 제 1 및 제 2 차광층(22, 122)이 각각 형성된다. 여기서, 제 1 및 제 2 차광층(22, 122)은 동일한 패턴을 갖는다.
[2] 뱅크층의 형성
다음에, 도 3의 (c)에 도시하는 바와 같이, 화소 영역(100) 및 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 제 1 및 제 2 차광층(22, 122)이 형성된 기판(10)상에, 수지층(240)을 형성한다. 이 수지층은 네가티브형 혹은 포지티브형의 레지스트에 의해서 형성할 수 있다. 수지층(240)은 예를 들면 우레탄계 혹은 아크릴계 등의 광경화형(네가티브형)의 감광성 수지로 이루어진다. 그리고, 포토 마스크 M1을 이용하여 노광을 행하고, 또 현상을 행하는 것에 의해, 수지층(240)을 패터닝한다. 이것에 의해서, 도 3의 (d)에 도시하는 바와 같이, 화소 영역(100)에 뱅크층(24)이 형성되어, 차광 영역(20)이 형성되고, 또한 착탄 정밀도 시험용영역(200)에 착탄 정밀도 시험용 층(26)이 형성된다. 뱅크층(24) 및 착탄 정밀도 시험용 층(26)의 구성에 대해서는 이미 설명했으므로, 그 기재를 생략한다. 이 공정에서, 화소 영역(100)에 있어서, 차광 영역(20)에 의해서 구획된 색요소 형성 영역(330)이 소정의 매트릭스 패턴으로 형성된다.
다음에, 필요에 따라서, 나중에 실행하는 색요소의 형성 공정 전에, 기판(10)의 노출면의 표면 처리를 행한다. 이러한 표면 처리로서는 자외선의 조사, 플라즈마 조사, 레이저 조사 등의 방법을 이용할 수 있다. 이러한 표면 처리를 행하는 것에 의해, 기판(10)의 노출면(10a)에 부착된 오염 물질 등이 제거되고, 이 표면(10a)의 물에 대한 접촉각을 작게 하여 액적 재료의 습윤성을 향상시킬 수 있다. 보다 구체적으로는, 기판(10)의 노출면(10a)과 뱅크층(24)의 표면과의 물에 대한 접촉각의 차가 15° 이상으로 되는 것이 바람직하다. 이와 같이, 기판(10)의 노출면(10a)과 뱅크층(24)의 표면의 물에 대한 접촉각을 제어하는 것에 의해, 색요소 형성 영역(330)의 노출면(10a)에 밀착성이 양호한 상태에서 액적 재료를 부여할 수 있고, 또한 뱅크층(24)의 액적 재료를 튕기는 성질에 의해서, 액적 재료가 뱅크층(24)을 넘어서 오버플로우하는 것이 방지된다. 또, 액적 재료의 건조 도중에, 액적 재료가 뱅크층으로 잡아 당겨져 발생하는 막두께 불균일이 억제된다.
표면 처리의 방법으로서는, 공정을 라인화하는데 적합하다는 점에서, 인라인형 플라즈마 조사 방식에 의한 표면 처리 방법을 이용하는 것이 바람직하다.
[3] 액적 재료 착탄 정밀도 시험
다음에, 화소 영역(100)에 있어서 색요소(32)를 형성하기 전에, 착탄 정밀도시험용 영역(200)에 있어서, 색요소(32)의 형성시에 이용하는 액적 재료를 착탄 정밀도 시험용 층(26)상에 착탄시켜, 해당 액적 재료의 착탄 정밀도를 측정한다.
또한, 본 실시예에서는 액적 재료를 부여하는 방법으로서, 액적 재료 토출 헤드에 의한 액적 재료 토출법을 적용한다. 화소 영역(100)에 있어서, 예를 들면 50 ㎛각의 미세한 색요소 형성 영역(330)에 정밀도 좋게 액적을 착탄시키기 위해서는 토출할 액적을 미세화하고, 또 토출할 액적의 수를 제어할 수 있는 액적 재료 토출법이 최적하다.
액적 재료 토출법에 의해 액적 재료를 부여하는 경우, 상정된 위치에 액적 재료가 착탄되지 않는 원인으로서, 액적 재료 토출 헤드가 굽어 설치되어 있는 것, 액적 재료를 토출할 때에 이용하는 노즐 자체가 굽어 있는 것, 액적 재료가 노즐로부터 굽어 토출되는 것, 기판과 액적 재료 토출 헤드와의 상대 위치가 어긋나 있는 것 등이 고려된다. 이하에 나타내는 방법에 의해 액적 재료의 착탄 정밀도를 평가하고, 이들의 원인을 구명하는 것에 의해, 액적 재료의 착탄 정밀도를 향상시킬 수 있다.
우선, 도 4의 (a)에 도시하는 바와 같이, 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 착탄 정밀도 시험용 층(26)상에 액적 재료를 부여하여, 볼록형상의 액적 재료층(320)을 형성한다. 볼록형상 층(320)은 착탄 정밀도 시험용 층(26)중 제 2 차광층(122)상에 형성되어 있지 않은 부분에 착탄시킨다. 즉, 볼록형상 층(320)을, 착탄 정밀도 시험용 층(26)상으로서 제 2 차광층(122)의 가장자리부(122a)로 둘러싸인 영역내에 착탄시킨다(도 5 참조). 액적 재료의 착탄 정밀도는 도 5에 도시하는 바와 같이, 볼록형상 층(320)과, 제 2 차광층(122)의 가장자리부(122a)와의 상대 위치 및/또는 착탄된 볼록형상 층(320) 끼리의 상대 위치 등에 의해 평가한다. 볼록형상 층(320) 끼리의 상대 위치에 의해 평가하는 경우는 도 5에 도시하는 바와 같이, 착탄 정밀도 시험용 층(26)상에 볼록형상 층(320)을 복수 형성하고, 볼록형상 층(320) 사이의 상대 위치에 의해 착탄 정밀도를 평가한다.
본 실시예에서는 화소 영역(100) 및 착탄 정밀도 시험용 영역(200) 각각에 있어서, 제 1 및 제 2 차광층(22, 122)이 동일한 패턴으로 형성되어 있다. 즉, 제 1 및 제 2 차광층(22, 122)에 의해서 구획되는 영역이 동일한 패턴을 갖는다. 구체적으로는, 도 4의 (a)에 도시하는 바와 같이, 인접하는 제 1 차광층(22) 사이의 폭 ha(색요소 형성 영역(330)의 폭)와, 인접하는 제 2 차광층(122) 사이의 폭 hb가 거의 동등하게 되도록 형성되어 있다. 따라서, 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 착탄 정밀도 시험용 층(26)상으로서, 제 2 차광층(122)의 가장자리부(122a)로 둘러싸인 영역내에 볼록형상 층(320)을 착탄시키는 것에 의해, 화소 영역(100)의 색요소 형성 영역(330)에 액적 재료가 착탄되는 경우를 상정하여 액적 재료의 착탄 정밀도를 평가할 수 있다.
이상의 액적 재료의 착탄 정밀도 시험의 결과, 착탄 정밀도가 바람직하지 않은 경우는 필요에 따라서 착탄 정밀도를 향상시키기 위한 조정을 행한다.
[4] 색요소의 형성
계속해서, 실제로 화소로 되는 색요소(32)를 형성한다. 우선, 도 4의 (b)에도시하는 바와 같이 화소 영역(100)에 있어서, 제 1 차광층(22) 및 뱅크층(24)에 의해서 구획되는 색요소 형성 영역(330)에 액적 재료를 부여해서 액적 재료층을 형성하는 것에 의해, 색요소(32)(32g, 32r, 32b)를 형성한다. 본 실시예에서는 액적 재료를 부여하는 방법으로서, 상술한 액적 재료 착탄 정밀도 시험에서 이용한 액적 토출법을 적용한다.
미세화한 액적을 정밀도 좋게 목표로 하는 위치(기판(10)의 노출면(10a))에 부여하기 위해서는 우선, 액적의 사이즈를 타겟인 색요소 형성 영역(330)의 노출면(10a)의 사이즈에 맞춰 제어한다. 액적의 사이즈는, 예를 들면 50 ㎛각의 색요소 형성 영역(330)에 대해서는 6∼30 피코리터로 제어하는 것이 바람직하다. 또, 스루풋(제조능률 또는 양품율)을 고려하면, 액적의 사이즈는 보다 바람직하게는 12∼20 피코리터이다. 또, 액적 재료 토출 헤드로부터 액적을 비상시켜 타겟에 정확하게 도착시키기 위해서는, 액적이 비상 도중에 분열하는 일 없이, 또 똑바로 비상하도록 조건을 제어하는 것이 바람직하다.
본 발명에서는, 부여하는 액적 재료의 층이 부착, 건조, 경화 후에, 막두께가 균일하게 되도록 건조 도중의 레벨링성을 개선하는 이하의 수단을 포함하는 것이 바람직하다.
하나의 수단은 부여하는 액적 재료에 고비점 용제를 부가하여 액적 재료의 건조 속도를 감속시키는 방법이다. 고비점 용제로서는 부틸갈비톨아세테이트, 메톡시부틸아세테이트, 에톡시에틸프로피오네이트 및 메톡시-2-프로필아세테이트 중에서 선택되는 적어도 1종을 이용할 수 있다. 이러한 용제는 비점(끓는 점)이 150∼300℃의 용제이면, 안료의 분산성 혹은 염료의 용해성 등을 고려하면서 폭넓게 선택 가능하다.
다른 수단은 부여된 액적 재료의 건조 속도를 제어하는 방법이다. 액적 재료는 부여후, 저비점 용제분으로부터 증발이 진행하여 레벨링하면서 점도 상승을 일으키고, 안료 혹은 염료를 포함하는 수지 성분이 열에 의해서 가교하여 경화한다. 건조 조건은 액적 재료의 특성에 따라, 자연 분위기중에서의 세팅 및 40∼100℃의 프리 베이크(pre-bake)의 적어도 한쪽과, 150∼300℃의 최종 베이크를 조합할 수 있다. 액적 재료는 각각 고유의 점도, 표면 장력, 유동 특성을 갖는다. 그 때문에, 건조후의 균일 막두께를 얻기 위해서는 액적 재료 고유의 특성에 따라서, 상기 건조 조건의 범위 및 조합을 선택한다. 건조 경화 조건이 액적 재료의 특성과 매칭(일치)하지 않는 경우에는 색요소의 막두께가 불균일하게 되기 쉽고, 화소 색조의 편차(변동)의 원인으로 된다.
본 실시예에서는 색요소(32)는 빨강, 초록 및 파랑의 각 색마다 순차 형성된다. 이들 색요소(32)의 형성 순서는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 우선 녹색의 색요소(32g)를 형성하고, 그 후 빨강의 색요소(32r) 혹은 파랑의 색요소(32b) 중의 어느 1개를 형성하고, 마지막으로 나머지 색의 색요소를 형성한다.
또한, 빨강, 초록 및 파랑의 각 색의 색요소는, 액적 재료 토출 방식의 컬러헤드 또는 복수 헤드를 선택하면, 동시에 형성할 수도 있다.
[5] 오버코팅층 등의 형성
다음에, 도 4의 (c)에 도시하는 바와 같이, 색요소(32)의 형성 후, 필요에 따라서 평활 표면을 얻기 위한 오버코팅층(40)을 형성한다. 또, 도 4의 (d)에 도시하는 바와 같이 오버코팅층(40)의 표면에, 필요에 따라서 공통 전극(50)을 형성하는 것에 의해, 컬러 필터(1000)가 얻어진다. 이들 오버코팅층(40) 및 공통 전극(50)은 컬러 필터가 적용되는 전기 광학 장치의 구성에 따라 마련할 수 있다.
(작용 효과)
이하에, 본 실시예의 컬러 필터의 주된 작용 효과를 설명한다.
(a) 본 실시예의 컬러 필터는 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 착탄 정밀도 시험용 층(26)상에 볼록형상의 액적 재료층(320)을 착탄시켜 액적 재료의 착탄 정밀도의 평가를 행한 후에, 화소 영역(100)에 있어서 색요소 형성 영역(330)에 액적 재료를 착탄시켜, 실제로 화소로서 이용하는 색요소(32)가 형성된다. 이것에 의해, 색요소(32)를 소정 영역에 정밀도 좋게 부여할 수 있다.
특히, 본 실시예의 컬러 필터에 있어서는 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에, 제 2 차광층(122)에 의해서 구획되는 영역(평가 영역)이 마련되어 있다. 이 구성에 의하면, 액적 재료층(320)을 착탄시켰을 때에(도 4의 (a) 참조), 액적 재료층(320)의 착탄 정밀도를 확실하게 측정할 수 있다. 이 결과, 색요소(32)를 정밀도 좋게 형성할 수 있기 때문에, 차광 영역(20)에 있어서 충분한 차광성을 갖고, 또한 투과 영역(30)에 있어서 혼색이 없다. 이 때문에, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높다.
(b) 제 1 차광층(22)과 뱅크층(24)을 마련하는 것에 의해, 차광 기능과 색요소의 구획 기능을 각각 독립해서 설정할 수 있으므로, 양자의 기능을 확실하게 발휘시킬 수 있다. 그 결과, 본 실시예의 컬러 필터는 불충분한 차광성이나 혼색에 기인하는 화소 결함이 잘 발생하지 않는다. 또, 이와 같이 기능을 분할하는 것에 의해, 제 1 차광층(22) 및 뱅크층(24)을 구성하기 위한 최적한 재료를 넓은 범위에서 선택할 수 있고, 생산 비용의 점에서도 유리하다. 특히, 제 1 차광층(22)이 금속층으로 구성되는 경우에는 작은 막두께로서 균일하고 또한 충분한 차광성을 얻을 수 있다.
또, 본 실시예의 컬러 필터의 제조 방법에 의하면, 주로 이하의 작용 효과를 갖는다.
(a) 본 실시예의 컬러 필터의 제조 방법에 의하면, 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 착탄 정밀도 시험용 층(26)상에 볼록형상의 액적 재료층(볼록형상 층)(320)을 착탄시켜 액적 재료 착탄 정밀도의 평가를 행한 후에, 화소 영역(100)에 있어서, 색요소 형성 영역(330)에 액적 재료를 착탄시켜, 실제로 화소로서 이용하는 색요소(32)를 형성한다. 즉, 간편한 방법에 의해 액적 재료 착탄 정밀도를 평가할 수 있고, 또한 이 평가 결과에 근거하여, 필요에 따라서 장치의 조정 등을 실행하는 것에 의해 액적 재료 착탄 정밀도를 향상시킬 수 있고, 또 화소 영역(100)에 있어서 색요소(32)를 형성하기 때문에, 색요소(32)를 원하는 영역에 정밀도 좋게 부여할 수 있다. 이것에 의해, 차광 영역(20)에 있어서 충분한 차광성을 갖고, 또한 투과 영역(30)에 있어서 혼색이 없기 때문에, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 컬러 필터를 작성할 수 있다.
(b) 또, 색요소(32)를 액적 재료 토출법에 의해서 형성하는 것에 의해, 포토리소그래피를 이용한 패터닝의 공정을 저감할 수 있어, 공정을 간이화할 수 있다. 따라서, 본 실시예의 컬러 필터를 적은 공정으로 형성할 수 있다. 또, 액적 재료 토출법에 의해 액적 재료를 부착시켜 색요소(32)를 형성하므로, 필요한 색요소 형성 영역에만 액적 재료를 부여할 수 있다. 그 때문에, 포토리소그래피에 의한 패터닝과 같이, 불필요 부분을 제거하는 것에 의한 색재의 손실(loss)이 없어, 컬러 필터의 비용을 저감할 수 있다.
(제 2 실시예)
(컬러 필터)
도 6은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 컬러 필터를 모식적으로 도시한 부분 평면도이며, 도 7은 도 6의 A-A선을 따른 부분을 모식적으로 도시한 부분 단면도이다.
본 실시예에 따른 컬러 필터(1001)는 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 기판(10)상에 버니어층(28)이 형성되어 있는 점을 제외하고, 도 1∼도 5에 도시하는 컬러 필터(1000)와 근사한 구조를 갖는다. 컬러 필터(1001)에 있어서, 제 1 실시예에 따른 컬러 필터(1000)와 실질적으로 동일한 기능을 갖는 부분에 대해서는 동일한 부호를 붙이고, 그 상세한 설명을 생략한다.
버니어층(28)은 도 6 및 도 7에 도시하는 바와 같이, 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 제 2 차광층(122)에 의해 구획되는 영역(평가 영역) 내에 형성되어 있다. 도 6에 있어서는 버니어층(28)의 평면형상이 십자형인 경우를 도시했지만, 버니어층(28)의 평면형상은 이것에 한정되는 것은 아니고, 환형(丸形), 삼각형, 사각형 등 여러가지의 형태를 취할 수 있다. 버니어층(28)상에는 착탄 정밀도 시험용 층(26)이 형성되어 있다.
버니어층(28)은, 버니어층(28)상에 착탄 정밀도 시험용 층(26)과 볼록형상 층(320)을 형성한 경우에, 볼록형상 층(320)의 설치면 측에서 식별할 수 있는 것이면, 그의 재질 등은 특별히 한정되지 않고, 금속, 수지 등을 이용할 수 있다. 버니어층(28)을 제 1 및 제 2 차광층(22, 122)과 동일 공정에서 형성하는 경우는 제 1 및 제 2 차광층(22, 122)과 동일한 재료로 형성된다.
(컬러 필터의 제조 방법)
다음에, 도 8∼도 10을 참조하면서, 본 실시예의 컬러 필터(1001)의 제조 방법에 대해서 설명한다. 도 8 및 도 9는 각 공정에 있어서 도 6의 B-B선에 대응하는 부분의 층 구조를 모식적으로 도시한 단면도이다. 도 10은 도 8 및 도 9에 도시하는 공정에 의해 얻어진 컬러 필터를 모식적으로 도시한 부분 평면도로서, 도 6의 A-A선의 근방을 확대한 도면이다. 또한, 각 제조 공정에 있어서, 제 1 실시예에 따른 컬러 필터(1000)의 제조 공정과 실질적으로 동일한 부분에 대해서는 상세한 설명을 생략한다.
[1] 차광층 및 버니어층의 형성
본 실시예에 있어서는 제 1 및 제 2 차광층(22, 122) 및 버니어층(28)이 동일한 공정에서 형성된다. 우선, 도 8의 (a)에 도시하는 바와 같이, 화소 영역(100) 및 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 투명한 기판(10)상에 금속층(220)을 퇴적시킨 후, 금속층(220)의 표면에 소정의 패턴을 갖는 레지스트층 R2를 포토리소그래피에 의해서 형성한다. 그 후, 이 레지스트층 R2를 마스크로 하여 에칭을 실행하고, 금속층(220)의 패터닝을 실행하고, 도 8의 (b)에 도시하는 바와 같이, 화소 영역(100)에 있어서 기판(10)상에 소정의 매트릭스 패턴을 갖는 제 1 차광층(22)을 형성하고, 또한 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 제 2 차광층(122)과 버니어층(28)을 형성한다. 이 공정에 있어서, 버니어층(28)은 제 2 차광층(122)에 의해 구획되는 영역(평가 영역) 내에 형성된다.
[2] 뱅크층의 형성
이하에 나타내는 공정은 제 1 실시예의 컬러 필터의 제조 공정과 마찬가지이다. 즉, 도 8의 (c)에 도시하는 바와 같이, 화소 영역(100) 및 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 제 1 및 제 2 차광층(22, 122)이 형성된 기판(10)상에 수지층(240)을 형성한 후, 포토 마스크 M1을 이용하여 노광을 행하고, 또 현상을 행하는 것에 의해, 수지층(240)을 패터닝하고, 도 8의 (d)에 도시하는 바와 같이, 화소 영역(100)에 뱅크층(24)이 형성되어, 차광 영역(20)이 형성되고, 또한 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 착탄 정밀도 시험용 층(26)이 형성된다. 또, 이 공정에서 차광 영역(20)에 의해서 구획된 색요소 형성 영역(330)이 소정의 매트릭스 패턴으로 형성된다. 다음에, 필요에 따라서, 나중에 실행하는 색요소의 형성 공정 전에, 기판 표면의 표면 처리를 실행한다.
[3] 액적 재료 착탄 정밀도 시험
다음에, 화소 영역(100)에 있어서 색요소(32)를 형성하기 전에, 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 색요소(32)의 형성 시에 이용하는 액적 재료를 착탄 정밀도 시험용 층(26)상에 착탄시켜, 액적 재료의 착탄 정밀도를 측정한다. 본 실시예에 있어서도 제 1 실시예와 마찬가지로, 액적 재료 토출법을 적용하여 색요소(32)를 형성한다. 즉, 본 실시예에 있어서는 제 1 실시예와 마찬가지의 방법에 의해, 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에서 액적 재료 착탄 정밀도를 측정한다.
우선, 도 9의 (a)에 도시하는 바와 같이, 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에 있어서, 착탄 정밀도 시험용 층(26)상에 액적 재료를 부여하여, 볼록형상의 액적 재료층(320)을 형성한다. 액적 재료의 착탄 정밀도는 상술한 바와 같이, 볼록형상 층(320)과 제 2 차광층(122)의 가장자리부(122a)(도 10 참조)와의 상대 위치 및, 착탄된 볼록형상 층(320) 끼리의 상대 위치 등에 의해 평가한다. 또, 본 실시예의 컬러 필터(1001)에 있어서는 기판(10)상에 버니어층(28)이 형성되어 있기 때문에, 도 5에 도시하는 바와 같이, 볼록형상 층(320)과 버니어층(28)과의 상대 위치에 의해서, 액적 재료의 착탄 위치의 어긋남을 명확히 식별할 수 있다.
이상의 액적 재료 착탄 정밀도 시험의 결과, 착탄 정밀도가 바람직하지 않은 경우는 필요에 따라서 착탄 정밀도를 향상시키기 위한 조정을 행한 후, 도 9의 (b)∼도 9의 (d)에 도시하는 바와 같이, 제 1 실시예의 컬러 필터의 제조 공정과 마찬가지의 공정을 실행하여, 컬러 필터(1001)를 제조한다.
본 실시예에 따른 컬러 필터(1001)는 상술한 제 1 실시예의 컬러 필터(1000)의 작용 효과에 부가하여, 기판(10)상에 버니어층(28)이 형성되어 있기 때문에, 볼록형상 층(320)과 버니어층(28)과의 상대 위치로부터 액적 재료의 착탄 위치의 어긋남을 더 명확히 식별할 수 있다.
(제 3 실시예)
(컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판)
도 11은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판을 모식적으로 도시한 부분 평면도이며, 도 12는 도 11의 A-A선을 따른 부분을 모식적으로 도시한 부분 단면도이다.
본 실시예에 따른 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)은 상술한 제 2 실시예의 컬러 필터(1001)를 구성하는 착탄 정밀도 시험용 영역(200)과 근사한 구조를 갖는다. 즉, 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)에는 도 6에 도시하는 화소 영역(100)이 마련되어 있지 않고, 도 6에서 말하는 착탄 정밀도 시험용 영역(200)이 전면에 걸쳐 형성되어 있다. 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)에 있어서, 제 2 실시예에 따른 컬러 필터(1001)와 실질적으로 동일한 기능을 갖는 부분에 대해서는 동일한 부호를 붙이고, 그 상세한 설명을 생략한다.
컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)은 착탄 정밀도 시험용 영역(200)을 포함한다. 이 착탄 정밀도 시험용 영역(200)은 차광층(122)과, 차광층(122)을 덮도록 형성된 착탄 시험용 층(26)을 포함한다. 이 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)은 액적 재료의 착탄 정밀도 시험을 행하기 위해서 작성된 것이다. 착탄 정밀도 시험 기판(1002)에 마련된 착탄 정밀도 시험용 영역(200)에는 제 1 실시예에 따른 컬러 필터(1000)의 착탄 정밀도 시험용 영역(200)(도 2 참조)과 마찬가지로, 차광층(122)에 의해서 구획되는 영역(평가 영역)이 마련되어 있다. 컬러 필터의 제조 공정에 있어서, 컬러 필터를 실제로 제조하기 전에, 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)을 이용하여 색요소 형성시의 액적 재료의 착탄 정밀도 시험을 실시한다.
액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)은 화소 영역이 형성되어 있지 않은 점을 제외하고, 실제로 제조하는 컬러 필터와 마찬가지의 구조를 갖는다. 즉, 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)은 실제로 제조하는 컬러 필터와 동일한 기판을 이용하여 작성되고, 또한 실제로 제조하는 컬러 필터에 형성되는 차광층과 동일한 패턴의 차광층(122)을 갖는다. 또, 기판(10)상의 차광층(122)으로 둘러싸인 영역내에 버니어층(28)이 형성되고, 또 기판(10)상에 착탄 정밀도 시험용 층(26)이 형성되어 있다.
(컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법)
컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)은 제 2 실시예의 컬러 필터(1001)에 있어서 착탄 정밀도 시험용 영역(200)을 형성하는 공정과 마찬가지의 공정에 의해 제조할 수 있다. 또, 본 실시예에 있어서, 액적 재료의 착탄 정밀도시험은 제 2 실시예에 따른 도 9에 도시하는 공정과 마찬가지의 공정에 의해 실행할 수 있다. 이 경우, 상술한 바와 같이, 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)에 대한 액적 재료의 착탄 정밀도 시험은 실제로 제조하는 컬러 필터의 제조전에 실행된다.
도 13은 액적 재료 착탄 정밀도 시험후의 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)을 모식적으로 도시한 부분 평면도로서, 도 11의 A-A선의 근방을 확대한 도면이다.
액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)은 실제로 제조하는 컬러 필터와 마찬가지의 구조를 갖기 때문에, 실제로 제조하는 컬러 필터에 대해서 시험을 행하는 것과 마찬가지로 착탄 정밀도 시험을 행할 수 있다. 또, 본 실시예에 의하면, 컬러 필터를 제조하기 전에, 시험 전용 기판인 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)에 대해서 액적 재료 착탄 정밀도 시험을 행한다. 이 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)은 실제로 제조하는 컬러 필터와 마찬가지의 패턴의 제 2 차광층(122)이 형성되어 있기 때문에, 이 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1002)에 대해서 미리 시험을 행하고, 액적 재료의 착탄 정밀도를 충분히 확인하고, 착탄 정밀도를 높이고 나서, 실제로 제조하는 컬러 필터의 색요소의 형성을 실행할 수 있다. 이것에 의해, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 컬러 필터를 제조할 수 있다.
(제 4 실시예)
(전기 광학 장치)
도 14에 제 1 실시예의 컬러 필터(1000)를 내장한 전기 광학 장치의 1예로서, 컬러 액정 표시 장치의 단면도를 도시한다. 또한, 도 14에 있어서는 컬러 필터(1000)중, 화소 영역(100) 부분만을 도시한다.
컬러 액정 표시 장치(1100)는 일반적으로 컬러 필터(1000)와 대향 기판(80)을 조합하고, 양자간에 액정 조성물(70)을 봉입하는 것에 의해 구성된다. 액정 표시 장치(1000)의 한쪽의 기판(80)의 내측의 면에는 TFT(박막 트랜지스터) 소자(도시하지 않음)와 화소 전극(52)이 매트릭스형상으로 형성된다. 또, 다른 한쪽의 기판으로서, 화소 전극(52)과 대향하는 위치에 빨강, 초록, 파랑의 색요소(32)가 배열하도록 컬러 필터(1000)가 설치된다. 기판(80)과 컬러 필터(1000)의 대향하는 각각의 면에는 배향막(60, 62)이 형성되어 있다. 이들 배향막(60, 62)은 연마 처리되어 있고, 액정 분자를 일정 방향으로 배열시킬 수 있다. 또, 기판(10) 및 컬러 필터(1000)의 외측의 면에는 편광판(90, 92)이 각각 접착되어 있다. 또, 백라이트로서는 형광등(도시하지 않음)과 산란판의 조합이 일반적으로 이용되고 있고, 액정 조성물을 백라이트 광(배면광)의 투과율을 변화시키는 광셔터로서 기능시키는 것에 의해 표시를 행한다.
또한, 본 실시예에 있어서는 제 1 실시예의 컬러 필터(1000)를 액정 표시 장치에 내장한 예를 나타내었지만, 컬러 필터(1000) 대신에, 제 2 실시예에 따른 컬러 필터(1001)를 내장하여 액정 표시 장치를 작성할 수도 있다.
(제 5 실시예)
(발광용 기판 및 전기 광학 장치)
도 15는 발광용 기판(1003)과, 발광용 기판(1003)을 내장한 전기 광학 장치의 1예로서, 컬러 EL 표시 장치(1200)의 단면도를 도시한다. 또, 도 16은 도 15에 도시하는 발광용 기판(1003)을 모식적으로 도시한 평면도이다. 본 실시예에 있어서는 발광용 기판(1003)이 컬러 발광용 기판인 경우에 대해서 설명한다. 또한, 제 1 실시예에 따른 컬러 필터(1000)와 마찬가지의 구조를 갖고, 마찬가지의 작용 및 효과를 갖는 부분에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략한다.
컬러 EL 표시 장치(1200)는 도 15에 도시하는 바와 같이 기체(112)와, 기체(112)상에 설치된 발광용 기판(1003)을 포함한다.
우선, 발광용 기판(1003)의 개요에 대해서 설명한다. 도 15 및 도 16에 도시하는 바와 같이, 발광용 기판(1003)은 화소 영역(110) 및 주변 영역을 포함한다. 여기서, 주변 영역이라는 것은 화소 영역(110)에 인접해서 배치된 영역을 말한다. 이 주변 영역은 착탄 정밀도 시험용 영역(210)을 포함한다. 즉, 착탄 정밀도 시험용 영역(210)은 화소 영역(110) 이외에 위치한다. 이 착탄 정밀도 시험용 영역(210)은 상기 주변 영역에 포함되고, 또한 발광 영역(230)의 형상에 대응한 형상을 갖는 평가 영역을 포함한다. 우선, 화소 영역(110)에 대해서 설명한다.
[1] 화소 영역
화소 영역(110)은 도 15 및 도 16에 도시하는 바와 같이, 뱅크 영역(구획 영역)(220)과 발광 영역(230)을 포함한다. 이 뱅크 영역(220) 및 발광 영역(230)은기체(111)상에 형성되어 있다. 또, 발광 영역(230)은 뱅크 영역(220)에 의해서 구획되어 있다. 구체적으로는, 도 16에 도시하는 바와 같이, 이 화소 영역(110)에 있어서, 발광 영역(230)은 뱅크 영역(220)에 의해서 구획되어 있다.
또, 화소 영역(110)은 또한, 기체(111)상에 형성된 스위칭 소자(202)를 포함한다.
기판(111)은 지지체임과 동시에 광을 출력하는 면으로서 기능한다. 따라서, 기판(111)은 광의 투과 특성이나 열적 안정성을 고려하여 선택된다. 기판(111)으로 이용하는 투명 기판 재료로서는, 예를 들면 유리 기판, 투명 플라스틱 등을 들 수 있다.
스위칭 소자(202)로서는, 예를 들면 TFT 소자를 들 수 있다. 인접하는 스위칭 소자(202)는 절연층(221)에 의해서 분리되어 있다.
발광 영역(230)은 기능층과, 제 1 및 제 2 전극층(227, 229)으로 이루어지는 1쌍의 전극층을 포함한다. 상기 기능층은 발광층과, 필요에 따라서 정공 수송/주입층을 포함한다. 본 실시예의 발광용 기판(1003)에 있어서는, 상기 기능층은 발광층(42)(42g, 42r, 42b)과, 정공 수송/주입층(204)을 포함한다.
발광층(42)은 기판(111)상에 소정의 매트릭스 패턴으로 배열되고, 또한 뱅크 영역(220)에 의해서 구획되어 있다. 또, 발광층(42)은 도 15에 도시하는 바와 같이, 제 1 전극층(227)과 제 2 전극층(229) 사이에 형성되어 있다. 본 실시예에 있어서는, 발광층(42)은 광의 삼원색을 구성하는 빨강, 초록 및 파랑의 각 색을 갖는 복수의 발광층(42r, 42g, 42b)으로 이루어진다. 이들 발광층(42)은 소정의 배열,예를 들면 스트라이프 배열, 델타 배열 또는 모자이크 배열 등의 배열 패턴에 의해서 배치되고, 연속한 3색의 색요소에 의해서 1화소가 구성된다. 또, 본 실시예에 있어서는, 발광층(42)은 일렉트로루미네슨스에 의해서 발광 가능한 재료로 형성된다.
본 실시예의 발광용 기판(1003)에 있어서는 도 15에 도시하는 바와 같이, 제 1 전극층(227)과 발광층(42) 사이에 정공 수송/주입층(204)을 형성할 수 있다. 여기서, 정공 수송/주입층이라는 것은 양극으로부터 발광층으로 정공을 수송하거나 또는 유효하게 정공을 주입시킬 수 있는 층이다.
뱅크 영역(220)은 주로, 발광층(42)을 구획하기 위해서 형성되어 있다. 이 뱅크 영역(220)으로서는 뱅크 절연층(제 1 절연층)(222) 및 수지층(224)으로 이루어지는 적층체를 이용할 수 있다. 뱅크 절연층(222)은, 예를 들면 산화 실리콘층으로 이루어진다. 수지층(224)은, 예를 들면 폴리이미드로 이루어진다. 이 뱅크 절연층(222)은 절연층(221)상에 적층되어 있고, 수지층(224)은 뱅크 절연층(222)상에 형성되어 있다. 또, 뱅크 절연층(222)은 뱅크 영역(220)의 구성 요소로서 발광 영역(230)을 구획하고, 또한 인접하는 제 1 전극층(227) 끼리를 분리하는 기능을 갖는다.
제 1 및 제 2 전극층(227, 229)은 발광층(42)에 전하를 부여하기 위해서 마련된다. 본 실시예에 있어서는 제 1 전극층(227)이 양극이고, 제 2 전극층(229)이 음극인 경우를 나타낸다. 제 1 전극층(227)은 일함수가 큰(예를 들면, 4eV 이상) 금속, 합금, 전기 전도성 화합물 또는 이들의 혼합물을 이용할 수 있다. 예를 들면, ITO, CuI, SnO2, ZnO 등의 투명한 도전재료로 제 1 전극층(227)이 구성된다. 또, 제 2 전극층(229)으로서는 전자 주입성 금속, 합금 전기 전도성 화합물 및 이들의 혼합물을 이용할 수 있다.
[2] 착탄 정밀도 시험용 영역
착탄 정밀도 시험용 영역(210)은 상기 주변 영역에 포함된다. 이 착탄 정밀도 시험용 영역(210)은 상기 주변 영역에 포함되고, 또한 발광 영역(230)의 형상에 대응한 형상을 갖는 영역을 포함한다. 상기 발광 영역(230)의 형상에 대응한 형상을 갖는 영역은 배열되어 있다. 구체적으로는, 착탄 정밀도 시험용 영역(210)에는 도 15에 도시하는 바와 같이, 착탄 정밀도 시험용 층(226)이 형성되어 있다. 또, 착탄 정밀도 시험용 영역(210)에는 화소 영역(110)과 마찬가지로, 기판(111)상에 형성된 스위칭 소자(202), 인접하는 스위칭 소자(202)를 분리하는 뱅크 절연층(제 2 절연층)(222), 주로 뱅크 절연층(222)상에 형성되고 또한 스위칭 소자(202)와 접속되는 제 1 전극층(227) 및, 인접하는 제 1 전극층(227)을 분리하는 뱅크 절연층(222)이 형성되어 있다.
착탄 정밀도 시험용 층(226)은 발광 영역(230)의 형상에 대응한 형상을 갖는 영역을 덮도록 상기 주변 영역에 마련되고, 또한 액적 재료를 튕기는 성질을 갖는다. 이 착탄 정밀도 시험용 층(226)은 화소 영역(110)을 구성하는 뱅크 영역(220)의 수지층(224)과 동일한 재료로 형성할 수 있다. 예를 들면, 이 수지층(224)이 폴리이미드 수지로 형성되어 있는 경우, 착탄 정밀도 시험용 층(226)도 마찬가지로폴리이미드 수지로 형성할 수 있다.
또, 착탄 정밀도 시험용 영역(210)을 구성하는 뱅크 절연층(제 2 절연층)(222)은 화소 영역(110)에 있어서 뱅크 영역(220)을 구성하는 뱅크 절연층(제 1 절연층)(222)과 동일한 공정에서 형성할 수 있다. 즉, 착탄 정밀도 시험용 영역(210)을 구성하는 제 1 뱅크 절연층(222)은 화소 영역(110)에 있어서, 뱅크 영역(220)을 구성하는 제 2 뱅크 절연층(222)과 기체(112)로부터의 높이가 동일하게 형성되고, 또한 동일한 패턴을 가질 수 있다.
또, 착탄 정밀도 시험용 영역(210)에 형성되는 스위칭 소자(202)는 화소 영역(110)에 형성되는 스위칭 소자(202)와 동일한 공정에서 형성할 수 있고, 또한 동일한 구조를 가질 수 있다.
또, 본 실시예의 발광용 기판(1003)에서는 착탄 정밀도 시험용 영역(210)에 있어서, 도 15에 도시하는 바와 같이 기판(111)상에 버니어층(228)이 형성되어 있다. 이 버니어층(228)은 상술한 제 2 실시예에 있어서 컬러 필터를 구성하는 버니어층과 마찬가지의 작용 및 효과를 갖는다. 또한, 본 실시예의 발광용 기판(1003)에 있어서는 이 버니어층(228)은 스위칭 소자(202)를 구성하는 금속 배선층(도시하지 않음)과 기체(112)로부터의 높이가 동일하게 형성되어 있다. 이 경우, 버니어층(228)은 이 금속 배선층과 동일한 재료로 형성할 수 있다. 예를 들면, 이 금속 배선층이 크롬이나 알루미늄으로 이루어지는 경우, 버니어층(228)도 크롬이나 알루미늄으로 형성할 수 있다.
(장치의 동작)
다음에, 도 15에 도시하는 발광용 기판(1003)이 형성된 컬러 EL 표시 장치(1200)의 동작 및 작용에 대해서 설명한다.
제 1 전극층(양극)(227)과 제 2 전극층(음극)(229)에 소정의 전압이 인가되는 것에 의해, 음극(229)으로부터 전자가, 양극(227)으로부터 홀(hall)이 각각 발광층(42)내로 주입된다. 발광층(42)내에서는 이 전자와 홀이 재결합되는 것에 의해 여기자가 생성되고, 이 여기자가 실활(dead)할 때에 형광이나 인광 등의 광이 발생한다.
(발광용 기판의 제조 방법)
다음에, 도 17 및 도 18을 참조하면서, 본 실시예의 발광용 기판(1003)의 제조 방법에 대해서 설명한다. 도 17의 (a)∼(c) 및 도 18의 (a)∼(c)는 모두 도 16에 도시하는 발광용 기판(1003)의 제조 공정을 모식적으로 도시한 부분 단면도이며, 도 16의 C-C면을 따라 절단한 단면을 도시한 도면이다.
[1] 차광층의 형성
우선, 도 17의 (a)에 도시하는 바와 같이 화소 영역(110) 및 착탄 정밀도 시험용 영역(210)에 있어서, 기판(111)상에 스위칭 소자(202), 인접하는 스위칭 소자(202)를 분리하는 절연층(221), 제 1 전극층(227) 및, 소정의 패턴을 갖는 뱅크 절연층(제 1 및 제 2 절연층)(222)을 순차적으로 공지의 방법에 의해서 형성한다. 여기서, 도 17의 (a)에 도시하는 바와 같이 제 1 전극층(227)의 형성전에, 절연층(221)의 소정의 영역(스위칭 소자(202)상에 위치하는 영역)에 개구부를 형성한 후, 이 절연층(221)상에 제 1 전극층(227)을 형성하는 것에 의해, 스위칭 소자(202)와 제 1 전극층(227)을 전기적으로 접속한다. 또, 후술하는 공정에 있어서, 도 16에 도시하는 바와 같이 뱅크 절연층(222)이 형성되어 있지 않은 부분에 발광 영역(230)이 형성된다.
계속해서, 감광성 수지층(도시하지 않음)을 전면에 형성한 후, 포토리소그래피에 의해서 패터닝하는 것에 의해, 화소 영역(110)에 있어서 뱅크 절연층(222)상에 수지층(224)을 형성하는 것에 의해, 뱅크 영역(220)을 형성하고, 또한 착탄 정밀도 시험용 영역(210)에 있어서 뱅크 절연층(222) 및 제 1 전극층(227)상에 착탄 정밀도 시험용 층(226)을 형성한다. 또, 뱅크 영역(220)이 형성되는 것에 의해, 후술하는 공정에 있어서 발광 영역(230)이 형성되는 영역에 개구부가 형성된다. 즉, 이 개구부는 기능층 형성 영역(430)으로 된다. 즉, 이 기능층 형성 영역(430)은 뱅크 영역(220)에 의해서 구획되는 영역으로서, 후술하는 공정에 있어서 기능층(발광층(42) 및 정공 수송/주입층(204))이 형성되는 영역이다.
[2] 정공 수송/주입층의 형성
계속해서, 도 17의 (b) 및 도 17의 (c)에 도시하는 바와 같이, 액적 재료 토출 방식에서 이용되는 액적 재료 토출 헤드(500)에 의한 액적 재료 토출법을 적용하여, 기능층 형성 영역(430)에 정공 수송/주입층(204)을 형성한다. 정공 수송/주입층(204)을 형성하기 위한 재료(502)로서는, 예를 들면 폴리에티렌디옥시티오펜과 폴리스틸렌술포네이트와의 혼합물을 이용할 수 있다. 또한, 본 실시예에서는 각컬러 도트 모두 동일한 재질의 정공 수송/주입층을 형성했지만, 경우에 따라서는 각 발광층마다 발광층에 적합한 정공 수송/주입 재료를 이용하여 정공 수송/주입층을 형성하더라도 좋다.
[3] 액적 재료 착탄 정밀도 시험
다음에, 화소 영역(110)에 있어서 발광층(42)을 형성하기 전에, 착탄 정밀도 시험용 영역(210)에 있어서, 이들의 발광층(42)의 형성시에 이용하는 액적 재료를 착탄 정밀도 시험용 층(226)상에 착탄시켜, 해당 액적 재료의 착탄 정밀도를 측정한다.
본 실시예에서는 상술한 정공 수송/주입층(204)의 형성시에 이용한 방법과 마찬가지로, 액적 재료 토출법을 적용하여 발광층(42)을 형성한다.
액적 재료 토출법에 의해 액적 재료를 부여하는 경우, 상술한 바와 같이 상정된 위치에 액적 재료가 착탄되지 않는 원인으로서, 액적 재료 토출 헤드가 굽어 설치되어 있는 것, 액적 재료를 토출할 때에 이용하는 노즐 자체가 굽어 있는 것, 액적 재료가 노즐로부터 굽어 토출하는 것, 기판과 액적 재료 토출 헤드와의 상대 위치가 어긋나 있는 것 등이 고려된다. 이하에 나타내는 방법에 의해 액적 재료의 착탄 정밀도를 평가하고, 이들의 원인을 구명하는 것에 의해, 액적 재료의 착탄 정밀도를 향상시킬 수 있다.
우선, 도 18의 (a)에 도시하는 바와 같이, 착탄 정밀도 시험용 영역(210)에 있어서, 착탄 정밀도 시험용 층(226)상에 액적 재료를 부여하여, 볼록형상의 액적 재료층(420)을 형성한다. 여기서, 볼록형상 층(420)은 착탄 정밀도 시험용층(226)중 뱅크 영역(222)상에 위치하는 영역, 즉 뱅크 영역(222)의 가장자리부(222a)보다 내측에 위치하는 영역내에 볼록형상 층(420)을 착탄시킨다(도 16 참조). 액적 재료의 착탄 정밀도는 도 16에 도시하는 바와 같이 볼록형상 층(420)과, 뱅크 영역(222)의 가장자리부(222a)와의 상대 위치 및/또는 착탄된 볼록형상 층(420) 끼리의 상대 위치 등에 의해 평가한다. 볼록형상 층(420) 끼리의 상대 위치에 의해 평가하는 경우는 도 16에 도시하는 바와 같이, 착탄 정밀도 시험용 층(226)상에 볼록형상 층(420)을 복수 형성하고, 볼록형상 층(420) 사이의 상대 위치에 의해 착탄 정밀도를 평가한다.
본 실시예에서는 화소 영역(110) 및 착탄 정밀도 시험용 영역(210) 각각에 있어서, 뱅크 절연층(222)이 동일한 패턴으로 형성되어 있다. 따라서, 착탄 정밀도 시험용 영역(210)에 있어서, 착탄 정밀도 시험용 층(226)상으로서 뱅크 영역(222)의 가장자리부(222a)로 둘러싸인 영역내에 볼록형상 층(420)을 착탄시키는 것에 의해, 화소 영역(110)의 기능층 형성 영역(430)에 액적 재료가 착탄되는 경우를 상정하여 액적 재료의 착탄 정밀도를 평가할 수 있다.
이상의 액적 재료 착탄 정밀도 시험의 결과, 착탄 정밀도가 바람직하지 않은 경우는 필요에 따라서 착탄 정밀도를 향상시키기 위한 조정을 행한다.
[4] 발광층의 형성
계속해서, 실제로 화소로 되는 발광층(42)(42g, 42r, 42b)을 형성한다. 우선, 도 18의 (b)에 도시하는 바와 같이 액적 재료 토출법에 의해, 적색 발광층용 액적 재료, 녹색 발광층용 액적 재료 및 청색 발광층용 액적 재료를, 정공 수송/주입층(204)상에 각각 도포한다. 그 후, 용매를 제거하고, 계속하여 질소 분위기중에서 열 처리를 행하고, 액적 재료 조성물을 경화 또는 공액화시켜, 도 18의 (c)에 도시하는 바와 같이 빨강, 초록, 파랑의 3원색의 적색 발광층(42r), 녹색 발광층(42g) 및 청색 발광층(42b)을 형성한다. 열 처리에 의해 공액화한 발광층은 용매에 녹지않는다(불용이다). 이상의 공정에 의해, 도 15에 도시하는 발광 영역(230)이 형성된다.
이러한 액적 재료 토출법에 의하면, 미세한 패터닝을 간편하게 또한 단시간에 행할 수 있다. 또, 액적 재료의 고형분 농도 및 토출량을 변경하는 것에 의해, 막두께를 변경하는 것이 가능하다.
또, 발광층(42)을 형성하기 전에, 정공 수송/주입층(204)에 대해서 산소 가스와 플루오로카본플라즈마를 이용하여 연속 플라즈마 처리를 실행하더라도 좋다. 이것에 의해, 정공 수송/주입층(204)상에 불소 화합물층이 형성되고, 이온화 포텐셜이 높아지는 것에 의해, 정공 주입 효율이 우수한 유기 EL 기판을 제공할 수 있다.
또한, 발광 재료의 종류에 따라서, 유기 발광층 중의 1색 또는 2색을 액적 재료 토출법에 의해 형성하고, 다른 2색 또는 1색을 종래의 도포 방법으로 형성할 수도 있다. 이 방법에 의하면, 액적 재료 토출법에 그다지 적합하지 않은 발광 재료이더라도, 액적 재료 토출법에 이용되는 다른 유기 발광 재료와 조합하는 것에 의해 풀컬러의 유기 EL 기판을 형성할 수 있기 때문에, 소자 설계의 자유도가 증가한다. 또한, 액적 재료 토출법 이외의 도포 방법으로서는 인쇄법, 전사법, 디핑법, 스핀코팅법, 캐스트법, 캐필러리법, 롤코팅법, 바코드법 등을 들 수 있다.
[5] 제 2 전극층의 형성
다음에, 도 15에 도시하는 바와 같이, 음극으로서 제 2 전극층(229)을 형성한다. 제 2 전극층(229)으로서는 금속 박막을 이용할 수 있다. 제 2 전극층(229)을 구성하는 금속으로서는, 예를 들면 마그네슘, 은, 알루미늄, 리튬 등을 들 수 있다. 또, 이들 이외에 일함수가 작은 재료를 이용할 수 있고, 예를 들면 알칼리 금속이나 칼륨 등의 알칼리 토류 금속 및 이들을 포함하는 합금을 이용할 수 있다. 또, 금속의 불소 화합물도 적용할 수 있다. 이러한 제 2 전극층(229)은 증착법 및 스퍼터법 등에 의해 형성할 수 있다.
또, 제 2 전극층(229)상에 보호막을 형성하더라도 좋다. 보호막을 형성하는 것에 의해, 제 2 전극층(229) 및 각 발광층(42)의 열화, 손상 및 박리 등을 방지할 수 있다.
이러한 보호막의 구성 재료로서는 에폭시 수지, 아크릴 수지, 액상 유리 등을 들 수 있다. 또, 보호막의 형성 방법으로서는, 예를 들면 스핀코팅법, 캐스트법, 디핑법, 바코드법, 롤코팅법, 캐필러리법 등을 들 수 있다.
제 2 전극층(229)은 발광체가 적용되는 전기 광학 장치의 구성에 따라 마련할 수 있다. 그 후, 발광용 기판(1003)을 소정 위치에서 절단하는 것에 의해, 복수의 발광체가 형성된다.
상술한 제조 방법에 있어서는 각 층의 재질로서 공지의 물질을 이용할 수 있다. 또, 정공 수송/주입층, 발광층 등의 재료로서는, 본원 출원인에 의한 일본국특허출원 평성 제 11-134320 호, 일본국 특허출원 평성 제 11-250486 호에 기재된 것을 이용할 수 있다.
또, 상술한 제조 방법에 있어서는 컬러 도트를 구성하는 정공 수송/주입층 및 발광층을 액적 재료 토출법으로 형성한 예에 대해서 설명했지만, 발광층 뿐이더라도 좋다. 혹은, 또 전자 수송/주입층을 마련하더라도 좋다.
또, 제 3 실시예의 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판과 마찬가지로, 본 실시예에 따른 발광용 기판(1003)중 화소 영역(110)이 형성되지 않는 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판을 형성할 수도 있다(후술하는 제 7 실시예 참조). 이 발광용 기판의 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판에 의하면, 실제로 제조하는 발광용 기판과 동일한 패턴의 제 1 전극층(227) 및 뱅크 절연층(222)을 포함하는 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판에 대해서 액적 재료 착탄 정밀도 시험을 행하는 것에 의해, 액적 재료의 착탄 정밀도를 충분히 확인하고, 착탄 정밀도를 높이고 나서, 실제로 제조하는 발광용 기판의 발광층의 형성을 행할 수 있다. 이것에 의해, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 발광용 기판을 제조할 수 있다.
(제 6 실시예)
(전자 기기)
이하에, 본 발명에 따른 전기 광학 장치로서 액정 표시 장치를 이용한 전자 기기의 예를 나타낸다.
[1] 디지털 스틸 카메라
본 발명의 제 4 실시예에 따른 액정 표시 장치(1100)를 파인더에 이용한 디지털 스틸 카메라에 대해서 설명한다. 도 19는 이 디지털 스틸 카메라의 구성을 도시한 사시도이며, 또한 외부 기기와의 접속에 대해서도 간단하게 도시한 것이다.
통상의 카메라는 피사체의 광상(光像)에 의해서 필름을 감광하는데 대해, 디지털 스틸 카메라(2000)는 피사체의 광상을 CCD(Charge Coupled Device) 등의 촬상 소자에 의해 광전 변환하여 촬상 신호를 생성하는 것이다. 여기서, 디지털 스틸 카메라(2000)에 있어서의 케이스(2202)의 배면(도 19에 있어서는 전면측)에는 상술한 액정 표시 장치(1100)의 액정 패널이 마련되고, CCD에 의한 촬상 신호에 근거하여 표시를 행하는 구성으로 되어 있다. 이 때문에, 액정 표시 장치(1100)는 피사체를 표시하는 파인더로서 기능한다. 또, 케이스(2202)의 전면측(도 19에 있어서는 이면측)에는 광학 렌즈나 CCD 등을 포함한 수광 유닛(2204)이 마련되어 있다.
여기서, 촬영자가 액정 표시 장치(1100)에 표시된 피사체상을 확인하고, 셔터버튼(2206)을 누르면, 그 시점에 있어서의 CCD의 촬상 신호가, 회로 기판(2208)의 메모리로 전송되어 저장된다. 또, 이 디지털 스틸 카메라(2000)에 있어서는 케이스(2202)의 측면에, 비디오 신호 출력 단자(2212)와, 데이터 통신용의 입출력 단자(2214)가 마련되어 있다. 그리고, 도 19에 도시하는 바와 같이 필요에 따라서, 전자의 비디오 신호 출력 단자(2212)에는 텔레비전(TV) 모니터(2300)가 접속되고, 또 후자의 데이터 통신용의 입출력 단자(2214)에는 퍼스널 컴퓨터(2400)가 접속된다. 또, 소정의 조작에 의해서, 회로 기판(2208)의 메모리에 저장된 촬상 신호가,텔레비전 모니터(2300)나 퍼스널 컴퓨터(2400)로 출력되는 구성으로 되어 있다.
[2] 휴대전화 및 그 밖의 전자 기기
도 20의 (a), (b) 및 (c)는 본 발명에 따른 전기 광학 장치로서 액정 표시 장치를 이용한 다른 전자 기기의 예를 도시한 외관도이다. 도 20의 (a)는 휴대전화기(3000)이며, 그의 전면(앞면) 위쪽에 액정 표시 장치(1100)를 구비하고 있다. 도 20의 (b)는 손목 시계(4000)이며, 본체의 전면 중앙에 액정 표시 장치(1100)를 이용한 표시부가 마련되어 있다. 도 20의 (c)는 휴대 정보기기(5000)이며, 액정 표시 장치(1100)로 이루어지는 표시부와 입력부(5100)를 구비하고 있다.
이들 전자 기기는 액정 표시 장치(1100) 이외에, 도시하지 않지만 표시 정보 출력원, 표시 정보 처리 회로, 클럭 발생 회로 등의 여러가지 회로나, 그들의 회로로 전력을 공급하는 전원 회로 등으로 이루어지는 표시 신호 생성부를 포함하여 구성된다. 표시부에는, 예를 들면 휴대 정보기기(5000)의 경우에 있어서는 입력부(5100)로부터 입력된 정보 등에 근거하여 표시 신호 생성부에 의해서 생성된 표시 신호가 공급되는 것에 의해서 표시 화상이 형성된다.
본 발명에 따른 액정 표시 장치(1100)가 내장되는 전자 기기로서는 디지털 스틸 카메라, 휴대전화기, 손목 시계 및 휴대 정보기기에 한정되지 않고, 전자수첩, 페이저, POS 단말, IC 카드, 미니디스크 플레이어, 액정 프로젝터, 멀티미디어 대응의 퍼스널 컴퓨터(PC) 및 엔지니어링·워크스테이션(EWS), 노트북형 퍼스널 컴퓨터, 워드 프로세서, 텔레비전, 뷰파인더형 또는 모니터 직시형의 비디오 테이프 레코더, 전자수첩, 전자 탁상 계산기, 카네비게이션(자동차 항행) 장치, 터치패널을 구비한 장치, 시계 등 여러가지 전자 기기가 고려된다.
또한, 액정 표시 패널은 구동 방식으로 말하면, 패널 자체에 스위칭 소자를 이용하지 않는 단순 매트릭스 액정 표시 패널이나 스테이틱 구동 액정 표시 패널, 또는 TFT(박막 트랜지스터)로 대표되는 3단자 스위칭 소자 혹은 TFD(박막 다이오드)로 대표되는 2단자 스위칭 소자를 이용한 액티브 매트릭스 액정 표시 패널, 전기 광학 특성으로 말하면, TN형, STN형, 게스트 호스트형, 상(相) 전이형, 강유전형 등 여러가지의 타입의 액정 패널을 이용할 수 있다.
본 발명에 따른 장치는 그의 몇가지 특정 실시예에 따라서 설명해 왔지만, 본 발명은 그 요지의 범위내에서 여러가지의 변형이 가능하다. 예를 들면, 상술한 실시예에서는 전기 광학 장치의 영상 표시 수단(전기 광학 표시부)으로서, 본 발명의 제 4 실시예에 따른 액정 표시 장치(1100)를 사용한 경우에 대해서 설명했지만, 본 발명에서는 이것에 한정되지 않고, 예를 들면 본 발명의 제 5 실시예에 따른 EL 표시 장치(1200)를 이용할 수도 있다. 또, 본 발명의 전기 광학 장치를, 박형의 브라운관 혹은 액정 셔터 등을 이용한 소형 텔레비전, 일렉트로루미네슨스, 플라즈마 디스플레이, CRT 디스플레이, FED(Field Emission Display) 패널, 전기 이동(마이그레이션) 디스플레이 장치 등의 여러가지의 전기 광학 수단에 적용할 수 있다.
(제 7 실시예)
(발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판)
도 21은 본 발명의 제 7 실시예에 따른 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)을 모식적으로 도시한 부분 평면도이다.
본 실시예에 따른 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)은 상술한 제 5 실시예의 발광용 기판(1003)을 구성하는 착탄 정밀도 시험용 영역(210)(도 15 참조)과 근사한 구조를 갖는다. 즉, 도 21에 도시하는 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)에는 도 15에 도시하는 화소 영역(100)이 마련되어 있지 않고, 도 15에서 말하는 착탄 정밀도 시험용 영역(210)이 전면에 걸쳐 형성되어 있다. 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)에 있어서, 제 5 실시예에 따른 발광용 기판(1003)과 실질적으로 동일한 기능을 갖는 부분에 대해서는 동일한 부호를 붙이고, 그 상세한 설명을 생략한다.
발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)은 기판(111)상에 형성된 스위칭 소자(202), 전극(227), 뱅크 절연층(222) 및 착탄 정밀도 시험용 층(226)을 포함한다. 전극(227)은 스위칭 소자(202)에 접속되어 있고, 착탄 시험용 층(226)은 전극(227)상에 형성되어 있다. 뱅크 절연층(226)은 소정의 패턴을 갖고, 또한 인접하는 전극(227)을 분리하는 기능을 갖는다.
이 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)은 액적 재료의 착탄 정밀도 시험을 행하기 위해서 작성된 것이다. 즉, 발광용 기판의 제조 공정에 있어서, 발광용 기판을 실제로 제조하기 전에, 이 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)을 이용하여 기능층 형성시의 액적 재료의 착탄 정밀도 시험을 실시한다.
액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)은 화소 영역이 형성되어 있지 않은 점을 제외하고, 실제로 제조하는 발광용 기판과 마찬가지의 구조를 갖는다. 즉,액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)은 실제로 제조하는 발광용 기판과 동일한 기판을 이용하여 작성된다. 뱅크 절연층(226) 및 전극(227)은 실제로 제조하는 발광용 기판에 형성되는 도 15에 도시하는 발광용 기판(1003)의 뱅크 절연층(226) 및 전극(227)과 동일한 패턴을 갖는다. 또, 기판(111)상에는 금속층으로 이루어지는 버니어층(228)이 형성되어 있다. 이 버니어층(228)은 도 15에 도시하는 발광용 기판(1003)과 마찬가지로, 스위칭 소자(202)를 구성하는 금속 배선층(도시하지 않음)과 기체(112)로부터의 높이를 동일하게 형성할 수 있다.
(발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법)
발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)은 제 5 실시예의 발광용 기판(1003)에 있어서 착탄 정밀도 시험용 영역(210)을 형성하는 공정과 마찬가지의 공정에서 제조할 수 있다. 또, 본 실시예에 있어서, 액적 재료의 착탄 정밀도 시험은 제 5 실시예에 따른 도 18의 (a)에 도시하는 공정과 마찬가지의 공정에 의해 행할 수 있다. 이 경우, 상술한 바와 같이, 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)에 대한 액적 재료의 착탄 정밀도 시험은 실제로 제조하는 발광용 기판의 제조전에 실행된다.
이 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)은 실제로 제조하는 발광용 기판과 마찬가지의 구조를 갖기 때문에, 실제로 제조하는 발광용 기판에 대해서 시험을 행하는 것과 마찬가지로 착탄 정밀도 시험을 행할 수 있다. 또, 본 실시예에 의하면, 발광용 기판을 제조하기 전에, 시험 전용 기판인 액적 재료 착탄 정밀도 시험기판(1004)에 대해서 액적 재료 착탄 정밀도 시험을 행한다. 시험의 결과, 도 15에 도시하는 발광용 기판(1003)과 마찬가지로, 착탄 정밀도 시험용 층(226)에는 볼록형상 층(도 21에는 도시하지 않음)이 형성된다.
이 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)은 실제로 제조하는 발광용 기판과 마찬가지의 패턴의 뱅크 절연층(222) 및 전극층(227)이 형성되어 있기 때문에,이 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판(1004)에 대해서 미리 시험을 행하고, 액적 재료의 착탄 정밀도를 충분히 확인하고, 착탄 정밀도를 높이고 나서, 실제로 제조하는 발광용 기판의 기능층의 형성을 행할 수 있다. 이것에 의해, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없어 콘트라스트가 높은 발광용 기판을 제조할 수 있다.
본 발명에 의하면, 액적 재료를 토출시키는 것에 의해 형성되고, 충분한 차광성을 갖는 차광 영역과, 혼색이 없는 투과 영역을 포함하고, 화소 결함이나 색조 얼룩이 없는 콘트라스트가 높은 컬러 필터 및 발광용 기판을 제공할 수 있다.
또한, 액적 재료를 토출시키는 것에 의해, 소정 영역에 색재를 정밀도 좋게 부여할 수 있는 컬러 필터의 제조 방법과, 발광용 기판의 제조 방법을 제공할 수 있다.
또한, 액적 재료를 토출시키는 것에 의해, 소정 영역에 색재를 정밀도 좋게 부여하기 위해서 이용하는 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판 및 그 제조 방법과, 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판 및 그 제조 방법을 제공할 수 있다.
또한, 상술한 컬러 필터, 발광용 기판, 또는 이들의 위한 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판을 이용한 액적 재료 착탄 정밀도의 측정 방법을 제공할 수 있다.
또한, 상술한 컬러 필터 또는 발광용 기판의 작용 효과를 반영하여, 비용의 저감을 도모하고, 색조 얼룩 등의 화소 결함이 없어 높은 콘트라스트의 표시를 할 수 있는 전기 광학 장치 및 전자 기기를 제공할 수 있다.
또한, 액적 재료의 착탄 정밀도를 정확히 평가할 수 있어, 정밀도가 좋은 성막 장치 및 그 방법을 제공할 수 있다.
Claims (73)
- 컬러 필터에 있어서,차광 영역 및 상기 차광 영역에 의해서 구획되는 투과 영역을 갖는 화소 영역과,상기 화소 영역 이외에 위치하는 착탄(着彈) 정밀도 시험용 영역과,상기 차광 영역에 마련되는 제 1 차광층과,상기 투과 영역에 마련되는 색요소와,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 제 2 차광층과,적어도 상기 제 2 차광층을 덮도록 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 착탄 정밀도 시험용 층을 구비하고,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에는 상기 제 2 차광층에 의해서 구획되는 평가 영역이 마련되어 있는 것을 특징으로 하는 컬러 필터.
- 제 1 항에 있어서,상기 화소 영역을 구성하는 상기 차광 영역은 뱅크층을 더 포함하고,상기 뱅크층은 상기 화소 영역에 마련되는 상기 제 1 차광층상에 마련되는 컬러 필터.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 상기 제 2 차광층은 상기 화소 영역에 마련되는 상기 제 1 차광층과 동일한 패턴을 갖는 컬러 필터.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 버니어층이 마련되어 있는 컬러 필터.
- 제 4 항에 있어서,상기 버니어층은 상기 평가 영역내의 소정의 위치에 마련되는 컬러 필터.
- 제 4 항에 있어서,상기 버니어층은 상기 제 2 차광층과 동일한 재료로 이루어지는 컬러 필터.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에, 볼록형상 층이 형성되어 있는 컬러 필터.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 컬러 필터를 이용하여, 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적(液滴) 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 액적 재료 착탄 정밀도의 측정 방법.
- 차광층과, 적어도 해당 차광층을 덮도록 형성된 착탄 정밀도 시험용 층을 포함하는 착탄 정밀도 시험용 영역을 포함하고,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에는 상기 차광층에 의해서 구획되는 평가 영역이 마련되어 있는 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판.
- 제 9 항에 있어서,버니어층이 더 마련되어 있는 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판.
- 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,상기 버니어층은 상기 평가 영역내의 소정의 위치에 마련되는 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판.
- 제 10 항에 있어서,상기 버니어층은 상기 차광층과 동일한 재료로 이루어지는 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판.
- 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 층상에, 볼록형상 층이 형성되어 있는 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판.
- 제 9 항 또는 제 10 항에 기재된 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판을 이용하여, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 액적 재료 착탄 정밀도의 측정 방법.
- 컬러 필터의 제조 방법에 있어서,(a) 화소 영역에 있어서, 소정의 매트릭스 패턴을 갖는 제 1 차광층을 형성하는 것에 의해, 해당 제 1 차광층을 포함하는 차광 영역을 마련하는 공정과,상기 화소 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 소정의 매트릭스 패턴을 갖는 제 2 차광층을 형성하는 것에 의해, 해당 제 2 차광층에 의해서 구획되는 평가 영역을 형성하는 공정과,(b) 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 적어도 상기 제 2 차광층을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정과,(c) 상기 화소 영역에 있어서, 색요소 형성 영역에 색요소를 형성하는 것에 의해, 상기 차광 영역에 의해서 구획되는 투과 영역을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터의 제조 방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 공정 (b)는, 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하고, 또한 상기 화소 영역에 있어서, 상기 제 1 차광층상에 뱅크층을 형성하는 공정인 컬러 필터의 제조 방법.
- 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,(d) 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 공정을 더 포함하는 컬러 필터의 제조 방법.
- 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,상기 공정 (a)에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 차광층은 기판상에 금속층을 형성한 후, 포토리소그래피 및 에칭에 의해서 해당 금속층을 패터닝하는 것에 의해 형성되는 컬러 필터의 제조 방법.
- 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,상기 공정 (a)는, 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 제 2 차광층을 형성하고, 또한 상기 평가 영역내의 소정의 위치에 버니어층을 형성하는 공정인 컬러 필터의 제조 방법.
- 제 16 항에 있어서,상기 공정 (b)는, 상기 화소 영역에 있어서, 상기 제 1 차광층상에 감광성 수지층을 형성하고, 그 후 포토리소그래피에 의해서 해당 감광성 수지층을 패터닝하는 것에 의해 상기 뱅크층을 형성하는 공정인 컬러 필터의 제조 방법.
- 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,상기 공정 (c)는, 상기 색요소 형성 영역에 액적 재료 토출 헤드를 이용하여 액적 재료를 부여해서 상기 색요소를 형성하는 공정인 컬러 필터의 제조 방법.
- 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법에 있어서,(a) 소정의 매트릭스 패턴을 갖는 차광층을 형성하는 것에 의해, 해당 차광층에 의해서 구획되는 평가 영역을 형성하는 공정과,(b) 적어도 해당 차광층을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 것에 의해, 착탄 정밀도 시험용 영역을 형성하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법.
- 제 22 항에 있어서,(c) 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 공정을 더 포함하는 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법.
- 제 22 항 또는 제 23 항에 있어서,상기 공정 (a)에 있어서, 상기 차광층은 기판상에 금속층을 형성한 후, 포토리소그래피 및 에칭에 의해서 해당 금속층을 패터닝하는 것에 의해 형성되는 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법.
- 제 22 항 또는 제 23 항에 있어서,상기 공정 (a)는, 상기 차광층을 형성하고, 또한 상기 평가 영역내의 소정의 위치에 버니어층을 형성하는 공정인 컬러 필터용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법.
- 발광용 기판에 있어서,뱅크 영역 및 상기 뱅크 영역에 의해서 구획되는 발광 영역을 갖는 화소 영역과,상기 화소 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역과,상기 발광 영역에 마련되는 기능층과,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 착탄 정밀도 시험용 층을 구비하는 것을 특징으로 하는 발광용 기판.
- 제 26 항에 있어서,상기 기능층은 1쌍의 전극층 사이에 형성되어 있는 발광용 기판.
- 제 26 항에 있어서,상기 뱅크 영역은 제 1 절연층 및 수지층이 순차 적층되어 구성되어 있는 발광용 기판.
- 제 28 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 영역은 제 2 절연층을 포함하고,상기 착탄 정밀도 시험용 영역을 구성하는 상기 제 2 절연층은 상기 화소 영역에 있어서 상기 뱅크 영역을 구성하는 상기 제 1 절연층과 동일한 기체로부터의 높이로 형성되고, 또한 동일한 패턴을 갖는 발광용 기판.
- 제 26 항에 있어서,상기 화소 영역 및 상기 착탄 정밀도 시험용 영역은 각각, 스위칭 소자를 포함하고,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 형성되는 스위칭 소자와, 상기 화소 영역에 형성되는 스위칭 소자는 동일한 구조를 갖는 발광용 기판.
- 제 26 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 버니어층이 마련되어 있는 발광용 기판.
- 제 31 항에 있어서,상기 화소 영역에 형성되는 스위칭 소자는 금속 배선층을 포함하고,상기 버니어층은 상기 금속 배선층과 동일한 기체로부터의 높이로 형성되어 있는 발광용 기판.
- 제 26 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 마련되는 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에, 볼록형상 층이 형성되어 있는 발광용 기판.
- 제 26 항에 기재된 발광용 기판을 이용하여, 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 발광용 기판의 액적 재료 착탄 정밀도의 측정 방법.
- 기판상에 형성된 스위칭 소자와,상기 스위칭 소자에 접속되는 전극층과,소정의 패턴을 갖는 뱅크 절연층과,상기 전극층상에 형성된 착탄 정밀도 시험용 층을 포함하는 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판.
- 제 35 항에 있어서,상기 기판상에 버니어층이 마련되어 있는 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판.
- 제 35 항 또는 제 36 항에 있어서,상기 버니어층은 금속층으로 이루어지는 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판.
- 제 35 항 또는 제 36 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 층상에, 볼록형상 층이 형성되어 있는 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판.
- 제 35 항 또는 제 36 항에 기재된 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판을 이용하여, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 액적 재료 착탄 정밀도의 측정 방법.
- 발광용 기판의 제조 방법에 있어서,(a) 화소 영역에 있어서, 소정의 패턴을 갖는 뱅크 영역을 형성하는 공정과,(b) 상기 화소 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정과,(c) 상기 화소 영역에 있어서, 상기 뱅크 영역에 의해서 구획되는 영역에 기능층을 형성하는 것에 의해, 상기 뱅크 영역에 의해서 구획되는 발광 영역을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광용 기판의 제조 방법.
- 제 40 항에 있어서,(d) 상기 화소 영역에 있어서, 상기 기능층에 전하를 부가하는 1쌍의 전극층을 형성하는 공정을 더 포함하는 발광용 기판의 제조 방법.
- 제 40 항에 있어서,상기 공정 (a)에 있어서, 상기 뱅크 영역은 제 1 절연층상에 수지층을 적층하는 것에 의해 형성되는 발광용 기판의 제조 방법.
- 제 42 항에 있어서,상기 공정 (a)는, 상기 화소 영역에 있어서, 제 1 절연층을 형성하고, 또한 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 제 2 절연층을 형성하는 공정을 포함하고,상기 제 1 절연층과 상기 제 2 절연층을 동일한 기체로부터의 높이로 형성하고, 또한 동일한 패턴으로 형성하는 발광용 기판의 제조 방법.
- 제 42 항에 있어서,상기 공정 (a)에 있어서, 상기 수지층은 상기 화소 영역에 있어서 감광성 수지층을 형성하고, 그 후 포토리소그래피에 의해서 패터닝하는 것에 의해 형성되는 발광용 기판의 제조 방법.
- 제 42 항에 있어서,상기 공정 (b)에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층은 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서 감광성 수지층을 형성하고, 그 후 포토리소그래피에 의해서 패터닝하는 것에 의해 형성되는 발광용 기판의 제조 방법.
- 제 42 항에 있어서,상기 공정 (a)에 있어서, 상기 수지층을 형성하는 공정과, 상기 공정 (b)에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정을 동일 공정으로 실행하는 발광용 기판의 제조 방법.
- 제 40 항에 있어서,(e) 상기 화소 영역 및 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 동일한 구조를 갖는 스위칭 소자를 각각 형성하는 공정을 더 포함하는 발광용 기판의 제조 방법.
- 제 40 항에 있어서,(f) 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 포함하는 액적을 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 공정을 더 포함하는 발광용 기판의 제조 방법.
- 제 40 항에 있어서,상기 공정 (a)는, 상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 버니어층을 형성하는 공정을 포함하는 발광용 기판의 제조 방법.
- 제 49 항에 있어서,상기 공정 (e)에 있어서, 상기 화소 영역에 마련되는 상기 스위칭 소자는 금속 배선층을 포함하고,상기 버니어층을 상기 금속 배선층과 동일한 기체로부터의 높이로 형성하는 발광용 기판의 제조 방법.
- 제 40 항에 있어서,상기 공정 (c)는, 상기 뱅크 영역에 의해서 구획되는 영역에, 액적 재료 토출 헤드를 이용하여 액적 재료를 부여해서 상기 기능층을 형성하는 공정인 발광용 기판의 제조 방법.
- 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법에 있어서,(a) 스위칭 소자, 전극층 및 소정의 패턴을 갖는 절연층을 기판상에 형성하는 공정과,(b) 상기 전극층상에, 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법.
- 제 52 항에 있어서,상기 공정 (b)는, 상기 착탄 정밀도 시험용 층을, 상기 전극층 및 상기 절연층상에 형성하는 공정인 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법.
- 제 52 항 또는 제 53 항에 있어서,(c) 상기 착탄 정밀도 시험용 층상에 액적 재료를 착탄시켜, 볼록형상 층을 형성하는 공정을 더 포함하는 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법.
- 제 52 항 또는 제 53 항에 있어서,상기 공정 (b)는, 감광성 수지층을 형성하고, 그 후 포토리소그래피에 의해서 패터닝하는 것에 의해 상기 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정인 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법.
- 제 52 항 또는 제 53 항에 있어서,상기 공정 (a)는, 상기 기판상에 버니어층을 형성하는 공정을 포함하는 발광용 기판용 액적 재료 착탄 정밀도 시험 기판의 제조 방법.
- 제 1 항에 기재된 컬러 필터와,상기 컬러 필터와 소정 간격을 두고 배치되는 대향 기판과,상기 컬러 필터와 상기 대향 기판 사이에 배치되는 전기 광학 재료층을 포함하는 전기 광학 장치.
- 제 57 항에 있어서,상기 전기 광학 재료층은 액정 재료층인 전기 광학 장치.
- 제 26 항에 기재된 발광용 기판을 포함하고,상기 발광용 기판을 구성하는 상기 기능층은 일렉트로루미네슨스에 의해서 발광 가능한 전기 광학 장치.
- 제 57 항 또는 제 59 항에 기재된 전기 광학 장치를 포함하는 전자 기기.
- 컬러 필터에 있어서,차광 영역 및 상기 차광 영역으로 둘러싸인 투과 영역을 갖는 화소 영역과,액적 재료를 토출하는 것에 의해서 상기 투과 영역에 형성된 색요소와,상기 화소 영역에 인접해서 배치되고, 또한 차광 영역을 갖는 주변 영역과,상기 주변 영역에 포함되고, 또한 상기 주변 영역의 차광 영역으로 둘러싸이는 것에 의해서 상기 투과 영역의 형상에 대응한 형상을 갖는 평가 영역을 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터.
- 컬러 필터에 있어서,차광 영역 및 상기 차광 영역으로 둘러싸인 투과 영역을 갖는 화소 영역과,액적 재료를 토출하는 것에 의해서 상기 투과 영역에 형성된 색요소와,상기 화소 영역에 인접해서 배치되고, 또한 차광 영역을 갖는 주변 영역과,상기 주변 영역에 포함되고, 또한 상기 주변 영역의 차광 영역으로 둘러싸인 평가 영역과,상기 평가 영역을 덮도록 상기 주변 영역에 마련되고, 또한 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 갖는 층을 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러 필터.
- 컬러 필터에 있어서,차광 영역 및 상기 차광 영역으로 둘러싸인 복수의 투과 영역을 갖는 화소영역과,액적 재료를 토출하는 것에 의해서 상기 투과 영역에 형성된 색요소와,상기 화소 영역에 인접해서 배치되고, 또한 차광 영역을 갖는 주변 영역과,상기 주변 영역에 포함되고, 또한 상기 주변 영역의 차광 영역으로 둘러싸인 평가 영역을 구비하고,상기 복수의 투과 영역 및 상기 평가 영역은 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 컬러 필터.
- 발광용 기판에 있어서,구획 영역 및 상기 구획 영역으로 둘러싸인 발광 영역을 갖는 화소 영역과,액적 재료를 토출하는 것에 의해서 상기 발광 영역에 형성된 기능층과,상기 화소 영역에 인접해서 배치된 주변 영역과,상기 주변 영역에 포함되고, 또한 상기 발광 영역의 형상에 대응한 형상을 갖는 평가 영역과,상기 평가 영역을 덮도록 상기 주변 영역에 마련되고, 또한 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 갖는 층을 구비하는 것을 특징으로 하는 발광용 기판.
- 발광용 기판에 있어서,구획 영역 및 상기 구획 영역으로 둘러싸인 복수의 발광 영역을 갖는 화소 영역과,액적 재료를 토출하는 것에 의해서 상기 발광 영역에 형성된 기능층과,상기 화소 영역에 인접해서 배치되고, 또한 차광 영역을 갖는 주변 영역과,상기 주변 영역에 포함되고, 또한 상기 발광 영역의 형상에 대응한 형상을 갖는 평가 영역을 구비하고,상기 복수의 발광 영역 및 상기 평가 영역은 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 발광용 기판.
- 성막 방법에 있어서,막형성 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 착탄 정밀도 확인용 패턴을 형성하는 공정과,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정과,상기 착탄 정밀도 시험용 층상의 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 위치에 대응하는 위치에, 액적 재료를 토출하는 것에 의해서 볼록형상 층을 형성하는 공정과,상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 및 상기 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 성막 방법.
- 제 66 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 층은 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 갖는 것을 특징으로 하는 성막 방법.
- 성막 방법에 있어서,막형성 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 착탄 정밀도 확인용 패턴을 형성하는 공정과,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하는 공정과,상기 착탄 정밀도 시험용 층상의 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 위치에 대응하는 위치에, 액적 재료를 토출하는 것에 의해서 복수의 볼록형상 층을 형성하는 공정과,상기 복수의 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 성막 방법.
- 제 68 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 층은 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 갖는 것을특징으로 하는 성막 방법.
- 성막 장치에 있어서,액적 재료를 토출하기 위한 노즐을 구비하고,막형성 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 착탄 정밀도 확인용 패턴을 형성하고,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하고,적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 형성된 상기 착탄 정밀도 시험용 층상의 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 위치에 대응하는 위치에, 상기 노즐로부터 액적 재료를 토출하는 것에 의해서 볼록형상 층을 형성하고,상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 및 상기 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
- 제 70 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 층은 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
- 성막 장치에 있어서,액적 재료를 토출하기 위한 노즐을 구비하고,막형성 영역 이외에 위치하는 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 착탄 정밀도 확인용 패턴을 형성하고,상기 착탄 정밀도 시험용 영역에 있어서, 적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 착탄 정밀도 시험용 층을 형성하고,적어도 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴을 덮도록 형성된 상기 착탄 정밀도 시험용 층상의 상기 착탄 정밀도 확인용 패턴 위치에 대응하는 위치에, 상기 노즐로부터 액적 재료를 토출하는 것에 의해서 복수의 볼록형상 층을 형성하고,상기 복수의 볼록형상 층의 상대 위치에 근거하여 착탄 정밀도를 평가하는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
- 제 72 항에 있어서,상기 착탄 정밀도 시험용 층은 상기 액적 재료를 튕기는 성질을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 성막 장치.
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