KR102273159B1

KR102273159B1 - 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치

Info

Publication number: KR102273159B1
Application number: KR1020180058283A
Authority: KR
Inventors: 김상수; 권장현; 김태수; 송두리; 이범진; 이준호
Original assignee: 삼성에스디아이 주식회사
Priority date: 2018-05-23
Filing date: 2018-05-23
Publication date: 2021-07-02
Also published as: KR20190133398A

Abstract

(A) 알칼리 가용성 수지; (B) 흑색 착색제; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 알칼리 가용성 수지는 폴리이미드 구조단위 함유 중합체를 포함하고, 상기 폴리이미드 구조단위는 하기 화학식 1-1, 화학식 1-2 또는 이들의 조합으로 표시되는 연결기를 포함하는 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 블랙 화소 격벽층 및 상기 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치가 제공된다.
[화학식 1-1]

[화학식 1-2]

(상기 화학식 1-1 및 화학식 1-2에서, 각 치환기는 명세서에 정의된 바와 같다.)

Description

감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치 {PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, BLACK PIXEL DEFINING LAYER USING THE SAME AND DISPLAY DEVICE}

본 기재는 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 블랙 화소 격벽층 및 디스플레이 장치에 관한 것이다.

감광성 수지 조성물은 컬러필터, 액정 표시재료, 유기발광소자 등의 디스플레이 장치, 디스플레이 장치 패널 재료 등의 표시 소자의 제조에 필수적인 재료이다.　예를 들어, 컬러 액정 디스플레이 등의 컬러필터에는 표시 콘트라스트나 발색 효과를 높이기 위해, 레드(red), 그린(green), 블루(blue) 등의 착색층 간의 경계 부분에 블랙 화소 격벽층과 같은 감광성 수지막이 필요하고, 이 감광성 수지막은 주로 감광성 수지 조성물로 형성되는 것이다.

특히, 디스플레이 장치 패널의 소재로 사용되는 화소 격벽층 등의 감광성 수지막은 공정성 및 소자 신뢰성을 가지기 위해 테이퍼 각도가 낮고, 감도 및 내열성이 우수해야 한다. 특히 상기 감광성 수지막이 유기발광소자(OLED)에 사용되는 경우 내열성 및 낮은 테이퍼 각도는 필수적으로 요구되는 특성이다. 또한 차광성을 위해 가시광선 영역의 빛을 흡광하는 안료나 염료 등의 흑색 착색제가 사용되어야 한다.

그러나 종래 감광성 수지 조성물에 사용되는 알칼리 가용성 수지는 내열성이 우수하면 테이퍼 각도가 높거나, 테이퍼 각도가 낮으면 내열성이 낮아지는 문제가 있었다.

따라서, 상기 문제점을 해소할 수 있는 블랙 화소 격벽층 제조용 감광성 수지 조성물을 개발하려는 연구가 계속되고 있다.

일 구현예는 고내열성, 고감도 및 낮은 테이퍼 각도를 가지는 감광성 수지 조성물을 제공하기 위한 것이다.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 블랙 화소 격벽층을 제공하기 위한 것이다.

또 다른 일 구현예는 상기 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치를 제공하기 위한 것이다.

일 구현예는 (A) 알칼리 가용성 수지; (B) 흑색 착색제; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 알칼리 가용성 수지는 폴리이미드 구조단위 함유 중합체를 포함하고, 상기 알칼리 가용성 수지는 하기 화학식 1-1, 화학식 1-2 또는 이들의 조합으로 표시되는 연결기를 포함하는 감광성 수지 조성물을 제공한다.

[화학식 1-1]

[화학식 1-2]

상기 화학식 1-1 및 화학식 1-2에서,

R¹ 내지 R⁶는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이다.

상기 폴리이미드 구조단위는 하기 화학식 2-1 또는 화학식 2-2로 표시될 수 있다.

[화학식 2-1]

[화학식 2-2]

상기 화학식 2-1 및 화학식 2-2에서,

X¹ 및 X²는 각각 독립적으로 비치환된 3가의 방향족 유기기이고,

L¹ 내지 L³ 및 L⁵ 내지 L⁷은 각각 독립적으로 단일결합, 산소 원자, *-NHC(=O)-*, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 하기 화학식 3으로 표시되고,

[화학식 3]

상기 화학식 3에서,

R⁷ 및 R⁸은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,

n은 1 또는 2의 정수이고,

L⁴는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이다.

상기 알칼리 가용성 수지는 상기 화학식 1-1로 표시되는 연결기를 한 개 또는 두 개 포함할 수 있다.

상기 알칼리 가용성 수지는 상기 화학식 1-2로 표시되는 연결기를 한 개 또는 두 개 포함할 수 있다.

상기 알칼리 가용성 수지는 상기 화학식 1-1로 표시되는 연결기 및 화학식 1-2로 표시되는 연결기를 모두 포함할 수 있다.

상기 화학식 2-1은 하기 화학식 2-1-1 내지 화학식 2-1-4 중 어느 하나로 표시될 수 있다.

[화학식 2-1-1]

[화학식 2-1-2]

[화학식 2-1-3]

[화학식 2-1-4]

상기 화학식 2-2는 하기 화학식 2-2-1 또는 화학식 2-2-2로 표시될 수 있다.

[화학식 2-2-1]

[화학식 2-2-2]

상기 폴리이미드 구조단위 함유 중합체는 하기 화학식 4로 표시되는 구조단위를 더 포함할 수 있다.

[화학식 4]

상기 화학식 4에서,

Y¹은 2가의 방향족 유기기, 2가의 지방족 유기기 또는 2가의 지환족 유기기이고,

Y²는 4가의 방향족 유기기, 4가의 지방족 유기기 또는 4가의 지환족 유기기이다.

상기 알칼리 가용성 수지는 폴리하이드록시아미드 구조단위 함유 중합체를 더 포함할 수 있다.

상기 알칼리 가용성 수지는 3,000 g/mol 내지 15,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가질 수 있다.

상기 흑색 착색제는 무기 흑색안료, 유기 흑색안료 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.

상기 감광성 수지 조성물은, 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해, 상기 (A) 알칼리 가용성 수지 1 중량% 내지 30 중량%; 상기 (B) 흑색 착색제 1 중량% 내지 20 중량%; 상기 (C) 광중합성 단량체 1 중량% 내지 15 중량%; 상기 (D) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%; 및 상기 (E) 용매를 잔부량으로 포함할 수 있다.

상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.

다른 일 구현예는 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 블랙 화소 격벽층을 제공한다.

또 다른 일 구현예는 상기 블랙 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치를 제공한다.

기타 본 발명의 측면들의 구체적인 사항은 이하의 상세한 설명에 포함되어 있다.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 내열성이 우수한 폴리이미드 구조단위에 특정 구조를 가지는 실리콘 연결기를 포함시켜, 고감도 및 고내열성 특성과 함께, 상기 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 감광성 수지막의 테이퍼 각도를 낮게 유지시킬 수 있다.

이하, 본 발명의 구현예를 상세히 설명하기로 한다. 　다만, 이는 예시로서 제시되는 것으로, 이에 의해 본 발명이 제한되지는 않으며 본 발명은 후술할 청구범위의 범주에 의해 정의될 뿐이다.　

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "알킬기"란 C1 내지 C20 알킬기를 의미하고, "알케닐기"란 C2 내지 C20 알케닐기를 의미하고, "사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 사이클로알케닐기를 의미하고, "헤테로사이클로알케닐기"란 C3 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기를 의미하고, "아릴기"란 C6 내지 C20 아릴기를 의미하고, "아릴알킬기"란 C6 내지 C20 아릴알킬기를 의미하며, "알킬렌기"란 C1 내지 C20 알킬렌기를　의미하고, "아릴렌기"란 C6 내지 C20 아릴렌기를 의미하고,　"알킬아릴렌기"란 C6 내지 C20 알킬아릴렌기를 의미하고, "헤테로아릴렌기"란 C3 내지 C20 헤테로아릴렌기를 의미하고, "알콕실렌기"란 C1 내지 C20 알콕실렌기를 의미한다.

본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "헤테로"란, 화학식 내에 N, O, S 및 P 중 적어도 하나의 헤테로 원자가 적어도 하나 포함된 것을 의미한다.

또한 본 명세서에서 특별한 언급이 없는 한, "(메타)아크릴레이트"는 "아크릴레이트"와 "메타크릴레이트" 둘 다 가능함을 의미하며, "(메타)아크릴산"은 "아크릴산"과 "메타크릴산" 둘 다 가능함을 의미한다.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "조합"이란 혼합 또는 공중합을 의미한다. 또한 "공중합"이란 블록 공중합 내지 랜덤 공중합을 의미하고, "공중합체"란 블록 공중합체 내지 랜덤 공중합체를 의미한다.

본 명세서 내 화학식에서 별도의 정의가 없는 한, 화학 결합이 그려져야 하는 위치에 화학결합이 그려져 있지 않은 경우는 상기 위치에 수소 원자가 결합되어 있음을 의미한다.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, *-NHC(=O)-*는 *-C(=O)NH-*와 같은 연결기를 의미한다.

본 명세서에서 별도의 정의가 없는 한, "＊"는 동일하거나 상이한 원자(수소원자 포함) 또는 화학식과 연결되는 부분을 의미한다.

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 (A) 알칼리 가용성 수지; (B) 흑색 착색제; (C) 광중합성 단량체; (D) 광중합 개시제; 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 알칼리 가용성 수지는 폴리이미드 구조단위 함유 중합체를 포함하고, 상기 알칼리 가용성 수지는 하기 화학식 1-1, 화학식 1-2 또는 이들의 조합으로 표시되는 연결기를 포함한다.

[화학식 1-1]

[화학식 1-2]

상기 화학식 1-1 및 화학식 1-2에서,

현재의 평탄화막 재료 또는 격벽재료의 경우 투명하거나 yellowish 또는 redish brown 색을 가진다. 그로 인해 외부에서 소자 내로 들어오는 빛이 금속층에 의해 반사되어 소자의 전원 off 시 소자의 black 색감이 떨어진다는 점과 낮은 외부 시인성, 낮은 각도에서의 휘도 저하 등의 문제점이 있다. 또한 OLED 소자의 투명화, flexible화가 진행되면서 평탄화막과 격벽재료를 black화 하고자 하는 니즈가 증가하고 있다. 레지스트를 흑색화하면서 하부에 잔사가 없이 패터닝을 하기 위해서는 네가티브형으로 현상을 하는 것이 유리하나, OLED 소자의 평탄화막 재료 또는 격벽재료는 OLED 소자와 맞닿아 있는 특성을 고려할 때, 흑색화를 구현하기 위한 레지스트는 아웃가스, 산소, 수증기 등으로 인해 OLED 소자의 수명에 영향을 줄 수 있으며, 내열성과 테이퍼 각도는 서로 트레이드-오프(trade-off) 관계에 있어, 고내열 특성 및 낮은 테이퍼 각도를 가지는 감광성 수지 조성물의 개발에 어려움을 겪고 있다.

이에 본원 발명의 발명자들은 오랜 연구 끝에 OLED 소자 수명에 큰 영향을 주는 아웃가스를 최소화하면서, 동시에 고내열, 고감도 특성을 가지면서 테이퍼 각도를 낮게 유지할 수 있는 구성, 즉 내열성이 우수한 폴리이미드 구조단위 내에 특정 구조의 실리콘 연결기가 포함된 구조를 가지는 중합체를 알칼리 가용성 수지로 사용하는 구성을 개발하기에 이르렀다.

이하에서 각 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.

(A) 알칼리 가용성 수지

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 알칼리 가용성 수지는 내열성이 우수한 폴리이미드 구조단위 함유 중합체를 포함할 뿐만 아니라, 하기 화학식 1-1, 화학식 1-2 또는 이들의 조합으로 표시되는 연결기를 포함한다.

[화학식 1-1]

[화학식 1-2]

상기 화학식 1-1 및 화학식 1-2에서,

상기 알칼리 가용성 수지는 상기 화학식 1-1 및/또는 화학식 1-2로 표시되는 실리콘 연결기를 포함하기 때문에, 폴리이미드 구조단위가 가지는 우수한 내열 특성을 저해하지 않으면서, 동시에 테이퍼 각도를 낮추는 역할을 할 수 있다. 또한, 상기 실리콘 연결기가 상기 화학식 1-1, 화학식 1-2 또는 이들의 조합으로 표시될 수 있어, 중합체의 유리전이온도를 효과적으로 조절할 수 있는 효과도 있다.

[화학식 2-1]

[화학식 2-2]

상기 화학식 2-1 및 화학식 2-2에서,

[화학식 3]

상기 화학식 3에서,

n은 1 또는 2의 정수이고,

L⁴는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이다.

예컨대, 상기 X¹ 및 X²는 각각 독립적으로 하기 화학식 X-1로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.

[화학식 X-1]

예컨대, 상기 알칼리 가용성 수지는 상기 화학식 1-1로 표시되는 연결기를 한 개 또는 두 개 포함할 수 있다.

예컨대, 상기 알칼리 가용성 수지는 상기 화학식 1-2로 표시되는 연결기를 한 개 또는 두 개 포함할 수 있다.

예컨대, 상기 알칼리 가용성 수지는 상기 화학식 1-1로 표시되는 연결기 및 화학식 1-2로 표시되는 연결기를 모두 포함할 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지가 상기 화학식 1-1로 표시되는 연결기 또는 상기 화학식 1-2로 표시되는 연결기만을 단독으로 포함하는 경우보다, 상기 화학식 1-1 및 화학식 1-2로 표시되는 연결기를 동시에 포함하는 경우, 테이퍼 각도를 보다 낮게 유지시키는 데 유리하다.

예컨대, 상기 화학식 2-1은 하기 화학식 2-1-1 내지 화학식 2-1-4 중 어느 하나로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.

[화학식 2-1-1]

[화학식 2-1-2]

[화학식 2-1-3]

[화학식 2-1-4]

예컨대, 상기 화학식 2-2는 하기 화학식 2-2-1 또는 화학식 2-2-2로 표시될 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.

[화학식 2-2-1]

[화학식 2-2-2]

[화학식 4]

상기 화학식 4에서,

Y¹은 치환 또는 비치환된 2가의 방향족 유기기, 치환 또는 비치환된 2가의 지방족 유기기 또는 치환 또는 비치환된 2가의 지환족 유기기이고,

Y²는 치환 또는 비치환된 4가의 방향족 유기기, 치환 또는 비치환된 4가의 지방족 유기기 또는 치환 또는 비치환된 4가의 지환족 유기기이다.

예컨대, 상기 Y¹은 치환 또는 비치환된 2가의 방향족 유기기 또는 치환 또는 비치환된 2가의 지환족 유기기일 수 있다.

예컨대, 상기 Y¹은 방향족 디아민, 지환족 디아민 또는 실리콘 디아민으로부터 유도되는 잔기일 수 있다. 　이때, 상기 방향족 디아민, 지환족 디아민 및 실리콘 디아민은 단독으로 또는 이들을 1종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 방향족 디아민의 예로는 3,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 벤지딘, m-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, 1,5-나프탈렌디아민, 2,6-나프탈렌디아민, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스(3-아미노페녹시페닐)술폰, 비스(4-아미노페녹시)비페닐, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]에테르, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 이들의 방향족 고리에 알킬기나 할로겐 원자가 치환된 화합물 또는 이들의 조합을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

상기 지환족 디아민의 예로는 1,2-시클로헥실 디아민, 1,3-시클로헥실 디아민 또는 이들의 조합을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

상기 실리콘 디아민의 예로는 비스(4-아미노페닐)디메틸실란, 비스(4-아미노페닐)테트라메틸실록산, 비스(p-아미노페닐)테트라메틸디실록산, 비스(γ아미노프로필)테트라메틸디실록산, 1,4-비스(γ아미노프로필디메틸실릴)벤젠, 비스(4-아미노부틸)테트라메틸디실록산, 비스(γ아미노프로필)테트라페닐디실록산, 1,3-비스(아미노프로필)테트라메틸디실록산 또는 이들의 조합을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

예컨대, 상기 Y²는 방향족 산이무수물, 또는 지환족 산이무수물로부터 유도된 잔기일 수 있다. 이때, 상기 방향족 산이무수물 및 상기 지환족 산이무수물은 단독으로 또는 이들을 1종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 방향족 산이무수물의 예로는 피로멜리트산 이무수물(pyromellitic dianhydride); 벤조페논-3,3',4,4'-테트라카르복실산 이무수물(benzophenone-3,3',4,4'-tetracarboxylic dianhydride)과 같은 벤조페논 테트라카르복실산 이무수물(benzophenone tetracarboxylic dianhydride); 4,4'-옥시디프탈산 이무수물(4,4'-oxydiphthalic dianhydride)과 같은 옥시디프탈산 이무수물(oxydiphthalic dianhydride); 3,3',4,4'-비프탈산 이무수물(3,3',4,4'-biphthalic dianhydride)과 같은 비프탈산 이무수물(biphthalic dianhydride); 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(4,4'-(hexafluoroisopropyledene)diphthalic dianhydride)과 같은 (헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물((hexafluoroisopropyledene)diphthalic dianhydride); 나프탈렌-1,4,5,8-테트라카르복실산 이무수물(naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride); 3,4,9,10-퍼릴렌테트라카르복실산 이무수물(3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

상기 지환족 산이무수물의 예로는 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카르복실산 이무수물(1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride), 1,2,3,4-사이클로펜탄테트라카르복실산 이무수물(1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride), 5-(2,5-디옥소테트라하이드로퓨릴)-3-메틸-사이클로헥산-1,2-디카르복실산 이무수물(5-(2,5-dioxotetrahydrofuryl)-3-methyl-cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride), 4-(2,5-디옥소테트라하이드로퓨란-3-일)-테트랄린-1,2-디카르복실산 이무수물(4-(2,5-dioxotetrahydrofuran-3-yl)-tetralin-1,2-dicarboxylic anhydride), 　바이사이클로옥텐-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물(bicyclooctene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride), 바이사이클로옥텐-1,2,4,5-테트라카르복실산 이무수물(bicyclooctene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride) 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

상기 알칼리 가용성 수지는 폴리하이드록시아미드 구조단위 함유 중합체를 더 포함할 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지가 폴리하이드록시아미드(폴리벤조옥사졸 전구체) 구조단위를 더 포함하는 경우, 산화방지 효과를 가질 수 있다.

상기 알칼리 가용성 수지는 3,000 g/mol 내지 15,000 g/mol의 중량평균 분자량, 예컨대 5,000 g/mol 내지 15,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가질 수 있다. 상기 범위의 중량평균 분자량(Mw)을 가질 경우 알칼리 수용액으로 현상 시 비노광부에서 충분한 잔막율을 얻을 수 있고, 효율적으로 패터닝을 할 수 있다.

상기 알칼리 가용성 수지는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 30 중량%로 포함될 수 있다. 상기 알칼리 가용성 수지가 상기 범위 내로 포함될 경우, 우수한 감도, 현상성, 해상도 및 패턴의 직진성을 얻을 수 있다.

(B) 흑색 착색제

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 흑색 착색제는 무기 흑색안료, 유기 흑색안료 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다.

예컨대, 차광성을 높여 흑색을 용이하게 구현하기 위해 상기 흑색 착색제로 유기 흑색 안료를 사용할 수 있다.

일반적으로 차광성을 향상시키기 위해 무기 흑색안료인 카본블랙 등을 단독으로 흑색 착색제로 사용하는데, 카본블랙만을 단독으로 사용할 경우 광학밀도는 우수하나, 전기적 특성 등 광학밀도 외의 다른 특성이 저하되는 바, 바람직하지 않다.

일 구현예에 따르면, 흑색 착색제로 유기 흑색안료를 사용하므로, 카본블랙을 단독으로 사용하는 경우보다 상대적으로 차광성은 약간 떨어질 수 있으나, 충분한 차광 성능을 가짐과 동시에 전기적 특성 등 다른 특성을 더 향상시킬 수 있다.

예컨대, 일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 흑색 착색제로는 RGB 블랙 등의 칼라혼색을 통한 흑색 안료도 사용 가능하며, 단독 또는 다른 유기 흑색안료와 혼합하여 사용 가능하다.

상기 흑색 착색제로 상기 유기 흑색안료를 사용할 경우, 안료를 분산시키기 위해 분산제를 함께 사용할 수 있다. 구체적으로는, 상기 안료를 분산제로 미리 표면처리하여 사용하거나, 조성물 제조 시 안료와 함께 분산제를 첨가하여 사용할 수 있다.

상기 분산제로는 비이온성 분산제, 음이온성 분산제, 양이온성 분산제 등을 사용할 수 있다. 　상기 분산제의 구체적인 예로는, 폴리 알킬렌 글리콜 및 이의 에스테르, 폴리 옥시 알킬렌, 다가 알코올 에스테르 알킬렌 옥사이드 부가물, 알코올 알킬렌 옥사이드 부가물, 술폰산에스테르, 술폰산염, 카르복실산 에스테르, 카르복실산염, 알킬 아미드 알킬렌 옥사이드 부가물, 알킬 아민 등을 들 수 있으며, 이들을 단독으로 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 분산제의 시판되는 제품을 예로 들면, BYK社의 DISPERBYK-101, DISPERBYK-130, DISPERBYK-140, DISPERBYK-160, DISPERBYK-161, DISPERBYK-162, DISPERBYK-163, DISPERBYK-164, DISPERBYK-165, DISPERBYK-166, DISPERBYK-170, DISPERBYK-171, DISPERBYK-182, DISPERBYK-2000, DISPERBYK-2001 등; EFKA 케미칼社의 EFKA-47, EFKA-47EA, EFKA-48, EFKA-49, EFKA-100, EFKA-400, EFKA-450 등; Zeneka社의 Solsperse 5000, Solsperse 12000, Solsperse 13240, Solsperse 13940, Solsperse 17000, Solsperse 20000, Solsperse 24000GR, Solsperse 27000, Solsperse 28000 등; 또는 Ajinomoto社의 PB711, PB821 등이 있다.

상기 분산제는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 　분산제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 조성물의 분산성이 우수함에 따라 블랙 격벽재료 제조 시 안정성, 현상성 및 패턴성이 우수하다.

상기 안료는 수용성 무기염 및 습윤제를 이용하여 전처리하여 사용할 수도 있다.　안료를 상기 전처리하여 사용할 경우 안료의 평균입경을 미세화할 수 있다.

상기 전처리는 상기 안료를 수용성 무기염 및 습윤제와 함께 니딩(kneading)하는 단계, 그리고 상기 니딩단계에서 얻어진 안료를 여과 및 수세하는 단계를 거쳐 수행될 수 있다.

상기 니딩은 40℃ 내지 100℃의 온도에서 수행될 수 있고, 상기 여과 및 수세는 물 등을 사용하여 무기염을 수세한 후 여과하여 수행될 수 있다.

상기 수용성 무기염의 예로는 염화나트륨, 염화칼륨 등을 들 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 　상기 습윤제는 상기 안료 및 상기 수용성 무기염이 균일하게 섞여 안료가 용이하게 분쇄될 수 있는 매개체 역할을 하며, 그 예로는 에틸렌 글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌 글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌 글리콜 모노메틸에테르 등과 같은 알킬렌 글리콜 모노알킬에테르; 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 헥산올, 시클로헥산올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 글리세린폴리에틸렌글리콜 등과 같은 알코올 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 둘 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 니딩 단계를 거친 안료는 5 nm 내지 200 nm, 예컨대 5 nm 내지 150 nm의 평균 입경을 가질 수 있다. 　안료의 평균 입경이 상기 범위 내인 경우, 안료 분산액에서의 안정성이 우수하고, 픽셀의 해상성 저하의 우려가 없다.

구체적으로, 상기 안료는 상기 분산제 및 후술하는 용매를 포함하는 안료분산액의 형태로 사용될 수 있고, 상기 안료분산액은 고형분의 안료, 분산제 및 용매를 포함할 수 있다. 상기 고형분의 안료는 상기 안료분산액 총량에 대해 5 중량% 내지 40 중량%, 예컨대 8 중량% 내지 30 중량%로 포함될 수 있다.

상기 흑색 착색제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 고형분 기준으로 1 중량% 내지 20 중량%, 예컨대 2 중량% 내지 15 중량%로 포함될 수 있다. 상기 상기 흑색 착색제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 착색 효과 및 현상 성능이 우수하다.

(C) 광중합성 단량체

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물 내 광중합성 단량체는 단일의 화합물일 수도 있고, 서로 다른 2종의 화합물의 혼합물일 수 있다.

상기 광중합성 단량체가 서로 다른 2종의 화합물의 혼합물일 경우, 상기 2종의 화합물 중 어느 하나는 하기 화학식 5로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물일 수 있다.

[화학식 5]

상기 화학식 5에서,

R⁷은 수소 원자 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬기이고,

L¹⁴는 단일결합 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10 알킬렌기이다.

예컨대 상기 화학식 5로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물은, 상기 화학식 5로 표시되는 관능기를 2개 내지 6개 포함할 수 있다. 이 경우, 패턴 형성 공정에서 노광 시 충분한 중합을 일으켜 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수한 패턴을 형성할 수 있다.

예컨대, 상기 화학식 5로 표시되는 관능기를 적어도 2개 이상 포함하는 화합물은 하기 화학식 5-1 또는 하기 화학식 5-2로 표시되는 화합물일 수 있다.

[화학식 5-1]

[화학식 5-2]

상기 화학식 5-1 및 화학식 5-2에서,

p, q, r 및 s는 각각 독립적으로 1 내지 10의 정수이다.

상기 광중합성 단량체가 서로 다른 2종의 화합물의 혼합물일 경우, 상기 2종의 화합물 중 다른 어느 하나는 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르 화합물일 수 있다.

상기 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르 화합물은 예컨대, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 비스페놀A 디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨디(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트,　비스페놀A 에폭시(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르 (메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리스(메타)아크릴로일옥시에틸포스페이트, 노볼락에폭시 (메타)아크릴레이트　또는 이들의조합일 수 있다.

상기 적어도 1개의 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 (메타)아크릴산의 일관능 또는 다관능 에스테르 화합물의 시판되는 제품을 예로 들면 다음과 같다. 　상기 (메타)아크릴산의 일관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社 아로닉스 M-101^®, 동 M-111^®, 동 M-114^®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD TC-110S^®, 동 TC-120S^®등; 오사카유끼가가꾸고교(주)社의 V-158^®, V-2311^®등을 들 수 있다. 　상기 (메타)아크릴산의 이관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社의 아로닉스 M-210^®, 동 M-240^®, 동 M-6200^®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD HDDA^®, 동 HX-220^®, 동 R-604^®등; 오사카유끼가가꾸고교(주)社의 V-260^®, V-312^®, V-335 HP^® 등을 들 수 있다. 　상기 (메타)아크릴산의 삼관능 에스테르의 예로는, 도아고세이가가꾸고교(주)社의 아로닉스 M-309^®, 동 M-400^®, 동 M-405^®, 동 M-450^®, 동 M-7100^®, 동 M-8030^®, 동 M-8060^®등; 니혼가야꾸(주)社의 KAYARAD TMPTA^®, 동 DPCA-20^®, 동-30^®, 동-60^®, 동-120^®등; 오사카유끼가야꾸고교(주)社의 V-295^®, 동-300^®, 동-360^®, 동-GPT^®, 동-3PA^®, 동-400^®등을 들 수 있다. 상기 제품을 단독 사용 또는 2종 이상 함께 사용할 수 있다.

상기 광중합성 단량체는 보다 우수한 현상성을 부여하기 위하여 산무수물로 처리하여 사용할 수도 있다.

상기 광중합성 단량체는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 1 중량% 내지 15 중량%, 예컨대 3 중량% 내지 10 중량%로 포함될 수 있다. 　상기 광중합성 단량체가 상기 범위 내로 포함될 경우,　패턴 형성 공정에서 노광 시 경화가 충분히 일어나 신뢰성이 우수하며, 패턴의 내열성, 내광성 및 내화학성이 우수하며, 해상도 및 밀착성 또한 우수하다.

(D) 광중합 개시제

일 구현예에 따르는 감광성 수지 조성물은 광중합 개시제를 포함한다. 상기 광중합 개시제는 아세토페논계 화합물, 벤조페논계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 벤조인계 화합물, 트리아진계 화합물, 옥심계 화합물 등을 사용할 수 있다.

상기 아세토페논계 화합물의 예로는, 2,2'-디에톡시 아세토페논, 2,2'-디부톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로피오페논, p-t-부틸트리클로로 아세토페논, p-t-부틸디클로로 아세토페논, 4-클로로 아세토페논, 2,2'-디클로로-4-페녹시 아세토페논, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모폴리노페닐)-부탄-1-온 등을 들 수 있다.

상기 벤조페논계 화합물의 예로는, 벤조페논, 벤조일 안식향산, 벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 히드록시 벤조페논, 아크릴화 벤조페논, 4,4'-비스(디메틸 아미노)벤조페논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논,4,4'-디클로로벤조페논, 3,3'-디메틸-2-메톡시벤조페논 등을 들 수 있다.

상기 티오크산톤계 화합물의 예로는, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤, 이소프로필 티오크산톤, 2,4-디에틸 티오크산톤, 2,4-디이소프로필 티오크산톤 등을 들 수 있다.

상기 벤조인계 화합물의 예로는, 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤조인 이소부틸 에테르, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다.

상기 트리아진계 화합물의 예로는, 2,4,6-트리클로로-s-트리아진, 2-페닐 4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3',4'-디메톡시스티릴)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4'-메톡시나프틸)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-톨릴)-4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 2-비페닐 4,6-비스(트리클로로 메틸)-s-트리아진, 비스(트리클로로메틸)-6-스티릴-s-트리아진, 2-(나프토1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시나프토1-일)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-피페로닐-s-트리아진, 2-4-비스(트리클로로메틸)-6-(4-메톡시스티릴)-s-트리아진등을 들 수 있다.

상기 옥심계 화합물의 예로는 O-아실옥심계화합물, 2-(O-벤조일옥심)-1-[4-(페닐티오)페닐]-1,2-옥탄디온, 1-(O-아세틸옥심)-1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]에탄온, O-에톡시카르보닐-α-옥시아미노-1-페닐프로판-1-온 등을 사용할 수 있다. 상기 O-아실옥심계화합물의구체적인예로는, 1,2-옥탄디온, 2-디메틸아미노-2-(4-메틸벤질)-1-(4-모르폴린-4-일-페닐)-부탄-1-온, 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1,2-디온-2-옥심-O-벤조에이트, 1-(4-페닐술파닐페닐)-옥탄-1-온옥심-O-아세테이트 및 1-(4-페닐술파닐페닐)-부탄-1-온옥심-O-아세테이트　등을 사용할 수 있다.

상기 광중합 개시제는 상기 화합물 이외에도 카바졸계 화합물, 디케톤류 화합물, 술포늄 보레이트계 화합물, 디아조계 화합물, 이미다졸계 화합물, 비이미다졸계 화합물, 플루오렌계 화합물 등을 사용할 수 있다.

상기 광중합 개시제는 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 0.1 중량% 내지 5 중량%, 예컨대 0.5 중량% 내지 3 중량%로 포함될 수 있다.　광중합 개시제가 상기 범위 내로 포함될 경우, 컬러필터 제조를 위한 패턴 형성 공정에서 노광 시 광중합이 충분히 일어나게 되어 감도가 우수하며, 투과율이 개선된다.

(E) 용매

상기 용매는 상기 안료분산액, 상기 알칼리 가용성 수지, 상기 광중합성 단량체 및 상기 광중합 개시제와의 상용성을 가지되 반응하지 않는 물질들이 사용될 수 있다.

상기 용매의 예로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류; 디클로로에틸에테르, n-부틸에테르, 디이소아밀에테르, 메틸페닐에테르, 테트라히드로퓨란 등의 에테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸셀로솔브아세테이트 등의 셀로솔브아세테이트류; 메틸에틸카르비톨, 디에틸카르비톨, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족탄화수소류; 메틸에틸케톤, 사이클로헥사논, 4-히드록시-4-메틸-2-펜타논, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸-n-아밀케톤, 2-헵타논 등의 케톤류; 초산에틸, 초산-n-부틸, 초산이소부틸 등의 포화 지방족 모노카르복실산알킬에스테르류; 젖산메틸, 젖산에틸 등의 젖산에스테르류; 옥시초산메틸, 옥시초산에틸, 옥시초산부틸 등의 옥시초산알킬에스테르류; 메톡시초산메틸, 메톡시초산에틸, 메톡시초산부틸, 에톡시초산메틸, 에톡시초산에틸 등의 알콕시초산알킬에스테르류; 3-옥시프로피온산메틸, 3-옥시프로피온산에틸 등의 3-옥시프로피온산알킬에스테르류; 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸 등의 3-알콕시프로피온산알킬에스테르류; 2-옥시프로피온산메틸, 2-옥시프로피온산에틸, 2-옥시프로피온산프로필 등의 2-옥시프로피온산알킬에스테르류; 2-메톡시프로피온산메틸, 2-메톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산에틸, 2-에톡시프로피온산메틸 등의 2-알콕시프로피온산알킬에스테르류; 2-옥시-2-메틸프로피온산메틸, 2-옥시-2-메틸프로피온산에틸 등의2-옥시-2-메틸프로피온산에스테르류, 2-메톡시-2-메틸프로피온산메틸, 2-에톡시-2-메틸프로피온산에틸 등의 2-알콕시-2-메틸프로피온산알킬류의 모노옥시모노카르복실산알킬에스테르류; 2-히드록시프로피온산에틸, 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 히드록시초산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸 등의 에스테르류; 피루빈산에틸 등의 케톤산에스테르류 등이 있으며, 또한, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-메틸포름아닐라드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭시드, 벤질에틸에테르, 디헥실에테르, 아세틸아세톤, 이소포론, 카프론산, 카프릴산, 1-옥탄올, 1-노난올, 벤질알코올, 초산벤질, 안식향산에틸, 옥살산디에틸, 말레인산디에틸, γ-부티로락톤, 3-메틸벤조산, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 페닐셀로솔브아세테이트 등의 고비점 용매를 들 수 있다.

이들 중 좋게는 상용성 및 반응성을 고려하여, 사이클로헥사논 등의 케톤류; 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜에틸메틸에테르 등의 글리콜에테르류; 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에틸렌글리콜알킬에테르아세테이트류; 2-히드록시프로피온산에틸 등의 에스테르류; 디에틸렌글리콜모노메틸에테르 등의 카르비톨류; 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜프로필에테르아세테이트 등의 프로필렌글리콜알킬에테르아세테이트류, 3-메틸벤조산 등이 사용될 수 있다.

상기 용매는 감광성 수지 조성물 총량에 대하여 잔부량, 예컨대 40 중량% 내지 80 중량%, 예컨대 40 중량% 내지 70 중량%로 포함될 수 있다. 상기 용매가 상기 범위 내로 포함될 경우 감광성 수지 조성물이 적절한 점도를 가짐에 따라 블랙 화소 격벽층 제조 시 공정성이 우수하다.

(F) 기타 첨가제

한편, 상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함할 수 있다.

상기 실란계 커플링제는 기판과의 밀착성 등을 개선하기 위해 비닐기, 카르복실기, 메타크릴옥시기, 이소시아네이트기, 에폭시기 등의 반응성 치환기를 가질 수 있다.

상기 실란계 커플링제의 예로는, 트리메톡시실릴벤조산, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, 비닐트리메톡시실란, γ-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 이들을 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.

상기 실란계 커플링제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 중량부 내지 10 중량부로 포함될 수 있다. 상기 실란계 커플링제가 상기 범위 내로 포함될 경우 밀착성, 저장성 등이 우수하다.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 필요에 따라 코팅성 향상 및 결점생성 방지효과를 위해 계면활성제, 계면활성제, 예컨대 불소계 계면활성제 및/또는 실리콘계 계면활성제를 더 포함할 수 있다.

상기 불소계 계면활성제로는, BM Chemie社의 BM-1000^®, BM-1100^®등; 다이닛폰잉키가가꾸고교(주)社의 메카팩 F 142D^®, 동 F 172^®, 동 F 173^®, 동 F 183^®, 동 F 554^® 등; 스미토모스리엠(주)社의 프로라드 FC-135^®, 동 FC-170C^®, 동 FC-430^®, 동 FC-431^®등; 아사히그라스(주)社의 사프론 S-112^®, 동 S-113^®, 동 S-131^®, 동 S-141^®, 동 S-145^®등; 도레이실리콘(주)社의 SH-28PA^®, 동-190^®, 동-193^®, SZ-6032^®, SF-8428^®등의 명칭으로 시판되고 있는 것을 사용할 수 있다.

상기 실리콘계 계면활성제로는 BYK Chem社의 BYK-307, BYK-333, BYK-361N, BYK-051, BYK-052, BYK-053, BYK-067A, BYK-077, BYK-301, BYK-322, BYK-325등의 명칭으로 시판되고 있는 것을 사용할 수 있다.

상기 계면활성제는 감광성 수지 조성물 100 중량부에 대하여 0.001 중량부 내지 5 중량부로 사용될 수 있다.　상기 계면활성제가 상기 범위 내로 포함될 경우 코팅 균일성이 확보되고, 얼룩이 발생하지 않으며, IZO 기판 또는 유리기판에 대한 습윤성(wetting)이 우수하다.

또한 상기 감광성 수지 조성물은 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 산화방지제, 안정제 등의 기타 첨가제가 일정량 첨가될 수도 있다.　

일 구현예에 따른 감광성 수지 조성물은 포지티브형일 수도 있고, 네가티브형일 수도 있으나, 차광성을 가지는 조성물의 노광 및 현상 후 패턴이 노출되는 영역의 잔기(residue)를 보다 완벽하게 제거하기 위해서는 네가티브형인 것이 보다 바람직하다.

다른 일 구현예는 전술한 감광성 수지 조성물을 노광, 현상 및 경화하여 제조된 블랙 화소 격벽층을 제공한다.

상기 블랙 화소 격벽층 제조방법은 다음과 같다.

(1) 도포 및 도막 형성 단계

상기 감광성 수지 조성물을 소정의 전처리를 한 유리 기판 또는 ITO 기판 등의 기판 상에 스핀 또는 슬릿 코트법, 롤 코트법, 스크린 인쇄법, 어플리케이터법 등의 방법을 사용하여 원하는 두께로 도포한 후, 70℃ 내지 110℃에서 1분 내지 10분 동안 가열하여 용제를 제거함으로써 감광성 수지막을 형성한다.

(2) 노광 단계

상기 얻어진 감광성 수지막에 필요한 패턴 형성을 위해 마스크를 개재한 뒤, 200 nm 내지 500 nm의 활성선을 조사한다. 조사에 사용되는 광원으로는 저압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 금속 할로겐화물 램프, 아르곤 가스 레이저 등을 사용할 수 있으며, 경우에 따라 X선, 전자선 등도 이용할 수 있다.

노광량은 조성물 각 성분의 종류, 배합량 및 건조 막 두께에 따라 다르지만, 고압 수은등을 사용하는 경우에는 500 mJ/cm²(365 nm 센서에 의함) 이하이다.

(3) 현상 단계

현상 방법으로는 상기 노광 단계에 이어 알칼리성 수용액을 현상액으로 이용하여 불필요한 부분을 용해, 제거함으로써 노광 부분만을 잔존시켜 패턴을 형성시킨다.

(4) 후처리 단계

상기 공정에서 현상에 의해 수득된 화상 패턴을 내열성, 내광성, 밀착성, 내크랙성, 내화학성, 고강도 및 저장 안정성 등의 면에서 우수한 패턴을 얻기 위한 후가열 공정이 있다. 예컨대, 현상 후 250℃의 컨벡션 오븐에서 1시간 동안 가열할 수 있다.

상기 디스플레이 장치는 유기발광소자(OLED)일 수 있다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 기재한다.　다만, 하기의 실시예는 본 발명의 바람직한 일실시예일 뿐, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.

(알칼리 가용성 수지의 합성)

합성예 1

교반기, 온도 조절장치, 질소가스 주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서, 디메틸아세트아미드(DMAc) 103 g을 넣고, 하기 화학식 A로 표시되는 화합물(SA01, SMS社)을 0.046 mol을 넣어 용해시킨다. Pyridine 0.1 mol을 넣고 HEA(Hydroxy ethyl acrylate) 0.023 mol을 투입한다. 반응이 완료된 후 3,5-디아미노벤조산(3,5-diaminobenzoic acid) 0.034 mol을 DMAc에 고형분 20 wt%로 녹인 후 투입한다. 반응 완료(완료되지 않을 경우 온도를 높혀 준다) 후 아세틱언하이드라이드(Ac₂O) 0.052 mol 투입 후 60℃에서 5시간 반응해 폴리이미드화 반응을 완료한다. 반응 혼합물을 6배의 DIW(증류수)에 투입하여 침전물을 생성하고, 침전물을 여과하여 물로 충분히 세정한 후, 온도 30℃의 진공 하에서 24시간 건조하여 바인더를 합성한다. 건조된 바인더를 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르(EDM)에 20 wt%가 되도록 용해 후 evaporation을 하며, 수분이 500 ppm 이하가 되도록 하고, 전체 고형분이 20 wt%가 될 수 있도록 EDM을 추가 투입하여, 최종적으로 하기 화학식 S-1로 표시되는 알칼리 가용성 수지를 합성한다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량은 4500 g/mol 이었다.

[화학식 A]

[화학식 S-1]

합성예 2

상기 합성예 1에서 화학식 A로 표시되는 화합물 대신 하기 화학식 B로 표시되는 화합물(SA02, SMS社)을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하여 하기 화학식 S-2로 표시되는 알칼리 가용성 수지를 합성한다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량은 5500 g/mol 이었다.

[화학식 B]

[화학식 S-2]

합성예 3

상기 합성예 1에서 화학식 A로 표시되는 화합물 대신 하기 화학식 C로 표시되는 화합물(SA03, SMS社)을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하여 하기 화학식 S-3으로 표시되는 알칼리 가용성 수지를 합성한다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량은 5100 g/mol 이었다.

[화학식 C]

[화학식 S-3]

합성예 4

상기 합성예 1에서 화학식 A로 표시되는 화합물 대신 하기 화학식 D로 표시되는 화합물(SA04, SMS社)을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하여 하기 화학식 S-4로 표시되는 알칼리 가용성 수지를 합성한다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량은 4900 g/mol 이었다.

[화학식 D]

[화학식 S-4]

합성예 5

교반기, 온도 조절장치, 질소가스 주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서, DMAc 103 g을 넣고, 상기 화학식 C로 표시되는 화합물 0.046 mol을 넣어 용해시킨다. Pyridine 0.1 mol을 넣고 HEA (Hydroxy ethyl acrylate) 0.023 mol을 투입한다. 반응이 완료된 후 m-페닐렌디아민(m-phenylene diamine) 0.017 mol을 DMAc에 고형분 20 wt%로 녹인 후 투입한다. 반응 완료(완료되지 않을 경우 온도를 높혀 준다) 후 3,5-디아미노벤조산(3,5-diaminobenzoic acid) 0.017 mol을 DMAc에 고형분 20 wt%가 되게 완전히 용해 후 5 ℃에서 30분간 dropping한다. Dopping 완료 후 40 ℃에서 2시간 반응한다. 이 후 Ac₂O 0.052 mol 투입 후 60 ℃에서 5시간 반응해 폴리이미드화 반응을 완료한다. 반응 혼합물을 6배의 DIW에 투입하여 침전물을 생성하고, 침전물을 여과하여 물로 충분히 세정한 후, 온도 30℃ 진공 하에서 건조를 24시간 건조하여 바인더를 합성한다. 건조된 바인더를 EDM에 20 wt%가 되도록 용해 후 evaporation을 하며, 수분이 500 ppm 이하가 되도록 하고 전체 고형분이 20 wt%가 될 수 있도록 EDM을 추가 투입하여, 최종적으로 하기 화학식 S-5로 표시되는 알칼리 가용성 수지를 합성한다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량은 5200 g/mol 이었다.

[화학식 S-5]

합성예 6

상기 합성예 5에서 m-페닐렌디아민 대신 하기 화학식 E로 표시되는 화합물(SA05, SMS社)을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하여 하기 화학식 S-6로 표시되는 알칼리 가용성 수지를 합성한다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량은 5100 g/mol 이었다.

[화학식 E]

[화학식 S-6]

비교 합성예 1

교반기, 온도 조절장치, 질소가스 주입 장치 및 냉각기가 장착된 4구 플라스크에 질소를 통과시키면서, DMAc 103 g을 넣고, 6-FDA를 0.046 mol을 넣어 용해시켰다. Pyridine 0.1 mol을 넣고 HEA(Hydroxy ethyl acrylate) 0.023 mol을 투입한다. 반응이 완료된 후 3-DAS 0.017 mol을 DMAc에 고형분 20 wt%로 녹인 후 투입한다. 이 후 Ac₂O 0.052 mol 투입 후 60℃에서 5시간 반응해 폴리이미드화 반응을 완료한다. 반응 완료(완료되지 않을 경우 온도를 높혀 준다) 후 3-DAS 0.017 mol을 DMAc에 고형분 20 wt%로 완전히 용해 후 5℃에서 30분간 dropping한다. Dropping 완료 후 40 ℃에서 2시간 반응한다. 반응 혼합물을 6배의 DIW에 투입하여 침전물을 생성하고, 침전물을 여과하여 물로 충분히 세정한 후, 온도 30℃의 진공 하에서 건조를 24시간 건조하여 바인더를 합성한다. 건조된 바인더를 EDM에 20 wt%가 되도록 용해 후 evaporation을 하며, 수분이 500 ppm 이하가 되도록 하고 전체 고형분이 20 wt%가 될 수 있도록 EDM을 추가 투입하여, 최종적으로 하기 화학식 C-1로 표시되는 알칼리 가용성 수지를 합성한다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량은 5500 g/mol 이었다.

6-FDA의 구조

3-DAS의 구조

[화학식 C-1]

비교 합성예 2

상기 합성예 1에서 화학식 A로 표시되는 화합물 대신 하기 화학식 I로 표시되는 화합물(SA10, SMS社)을 사용한 것을 제외하고는 동일하게 실시하여 하기 화학식 C-2로 표시되는 알칼리 가용성 수지를 합성한다. GPC(Gel Permeation Chromatography)법 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구한 알칼리 가용성 수지의 중량평균 분자량은 5700 g/mol 이었다.

[화학식 I]

[화학식 C-2]

(감광성 수지 조성물 제조)

실시예 1

용매(프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(PGMEA) 45.6g 및 EDM 2.2g)에 광중합 개시제(SPI-02, 삼양) 1.2g을 용해시킨 후 2시간 동안 상온에서 교반한다. 여기에, 상기 합성예 1의 알칼리 가용성 수지 27.7g(고형분 20 중량%) 및 광중합성 단량체(DPHA(일본화약) 0.8g 및 LTM II(BASF) 0.8g) 및 계면활성제(BYK-307, BYK chem社)를 0.05g 첨가하고, 1시간 동안 상온에서 교반한다.　여기에, 락탐계 유기 흑색 안료분산액(CI-IM-126, SAKATA, 유기흑색안료 고형분 15 중량%)을 21.7g 첨가한 후, 1시간 동안 상온에서 교반한 후, 용액 전체를 2시간 동안 교반한다. 상기 용액에 대하여 3회에 걸친 여과를 행하여 불순물을 제거하여 감광성 수지 조성물을 제조한다.

실시예 2

합성예 1의 알칼리 가용성 수지 대신 합성예 2의 알칼리 가용성 수지를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 감광성 수지 조성물을 제조한다.

실시예 3

합성예 1의 알칼리 가용성 수지 대신 합성예 3의 알칼리 가용성 수지를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 감광성 수지 조성물을 제조한다.

실시예 4

합성예 1의 알칼리 가용성 수지 대신 합성예 4의 알칼리 가용성 수지를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 감광성 수지 조성물을 제조한다.

실시예 5

합성예 1의 알칼리 가용성 수지 대신 합성예 5의 알칼리 가용성 수지를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 감광성 수지 조성물을 제조한다.

실시예 6

합성예 1의 알칼리 가용성 수지 대신 합성예 6의 알칼리 가용성 수지를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 감광성 수지 조성물을 제조한다.

비교예 1

합성예 1의 알칼리 가용성 수지 대신 비교합성예 1의 알칼리 가용성 수지를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 감광성 수지 조성물을 제조한다.

비교예 2

합성예 1의 알칼리 가용성 수지 대신 비교합성예 2의 알칼리 가용성 수지를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 실시하여 감광성 수지 조성물을 제조한다.

평가

실시예 1 내지 실시예 6, 비교예 1 및 비교예 2에 따른 감광성 수지 조성물을 10cm*10cm clean 글래스(저항 30Ω)에 도포하여, 100℃의 핫플레이트에서, 1 분간 proxy type으로 가열하고, 다시 1분간 contact type으로 가열하여 1.2 ㎛ 두께의 감광성 레지스트막을 형성한다. 상기 감광성 레지스트막이 코팅된 기판을 다양한 크기의 패턴이 새겨진 마스크를 사용하여 Ushio社의 UX-1200SM-AKS02로 노광량의 변화를 주어가며 노광한 후, 상온에서 2.38%의 TMAH용액으로 현상하여 노광부를 용해시켜 제거한 후, 순수로 50초간 세척하여 패턴을 형성한다.

(감도 측정방법)

감도는 20 ㎛ square 패턴의 사이즈를 Olympus社 MX51T-N633MU을 사용하여 측정한 패턴 사이즈를 기준으로, 20 ㎛ 패턴이 구현되는 energy를 확인한다.

(테이퍼 각도 측정방법)

감도측정 시 제작된 기판을 250℃에서 1시간 경화한다. 이 후 Hitachi社 S-4300 FE-SEM으로 단면 분석을 진행한다. 테이퍼 각도의 측정은 기판과 레지스트가 이루는 각을 기준으로 한다.

(내열성 측정방법)

TGA는 경화가 끝난 막을 양면 면도날로 긁은 후 팰랫을 만들어 TA instrument社 discovery 설비로 분당 10℃로 승온하며 600℃까지의 wt% loss를 측정한다. 샘플 로딩 무게를 5~10 mg으로 하며, 초기 무게를 100 wt%로 하여 온도에 따른 무게 감소량을 측정한다. 그리고 1 wt% 감소량이 발생하는 온도를 확인한다.

(스컴(Scum) 평가)

제조된 패턴 상의 잔여물 유무를 광학현미경을 통해 확인하였다.

ⅹ: 스컴 발생 미확인

○: 스컴 발생 확인

측정된 감도, 테이퍼 각도, 내열성 및 스컴의 평가결과를 하기 표 1에 나타내었다.

	테이퍼 각도(°)	감도(mJ/cm²)	1 wt% loss temp. (℃)	스컴
실시예 1	25	45	330	ⅹ
실시예 2	25	50	340	ⅹ
실시예 3	26	50	320	ⅹ
실시예 4	27	40	330	ⅹ
실시예 5	25	50	340	ⅹ
실시예 6	22	50	340	ⅹ
비교예 1	50	50	280	○
비교예 2	10	50	330	○

상기 표 1을 통하여, 상기 화학식 1-1 및/또는 화학식 1-2로 표시되는 연결기를 포함하는 알칼리가용성 수지를 사용하는 경우, 상기 구조의 연결기를 포함하지 않는 알칼리 가용성 수지를 사용하는 경우보다 고감도, 고내열성 특성을 가지면서 동시에 낮은 테이퍼 각도를 유지할 수 있음을 확인할 수 있다. 나아가, 실리콘 연결기라 하여도 상기 화학식 1-1 및/또는 화학식 1-2로 표시되지 않는 실리콘 연결기를 포함하는 경우 스컴이 발생함을 확인할 수 있다.

본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 제조될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.　　그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.

Claims

(A) 알칼리 가용성 수지;
(B) 착색제;
(C) 광중합성 단량체;
(D) 광중합 개시제; 및
(E) 용매를 포함하고,
상기 알칼리 가용성 수지는 폴리이미드 구조단위 함유 중합체를 포함하고,
상기 알칼리 가용성 수지는 하기 화학식 1-1, 화학식 1-2 또는 이들의 조합으로 표시되는 연결기를 포함하는 감광성 수지 조성물:
[화학식 1-1]

[화학식 1-2]

상기 화학식 1-1 및 화학식 1-2에서,
R¹ 내지 R⁶는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이다.
(상기에서, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다)
제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 구조단위는 하기 화학식 2-1 또는 화학식 2-2로 표시되는 감광성 수지 조성물:
[화학식 2-1]

[화학식 2-2]

상기 화학식 2-1 및 화학식 2-2에서,
X¹ 및 X²는 각각 독립적으로 비치환된 3가의 방향족 유기기이고,
L¹ 내지 L³ 및 L⁵ 내지 L⁷은 각각 독립적으로 단일결합, 산소 원자, *-NHC(=O)-*, 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬렌기 또는 하기 화학식 3으로 표시되고,
[화학식 3]

상기 화학식 3에서,
R⁷ 및 R⁸은 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 C1 내지 C20 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴기이고,
n은 1 또는 2의 정수이고,
L⁴는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20 아릴렌기이다.
(상기에서, "치환"이란 적어도 하나의 수소 원자가 할로겐원자(F, Cl, Br, I), 히드록시기, C1 내지 C20 알콕시기, 니트로기, 시아노기, 아민기, 이미노기, 아지도기, 아미디노기, 히드라지노기, 히드라조노기, 카르보닐기, 카르바밀기, 티올기, 에스테르기, 에테르기, 카르복실기 또는 그것의 염, 술폰산기 또는 그것의 염, 인산이나 그것의 염, C1 내지 C20 알킬기, C2 내지 C20 알케닐기, C2 내지 C20 알키닐기, C6 내지 C20 아릴기, C3 내지 C20 사이클로알킬기, C3 내지 C20 사이클로알케닐기, C3 내지 C20 사이클로알키닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알킬기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알케닐기, C2 내지 C20 헤테로사이클로알키닐기, C3 내지 C20 헤테로아릴기 또는 이들의 조합의 치환기로 치환된 것을 의미한다)
제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지는 상기 화학식 1-1로 표시되는 연결기를 한 개 또는 두 개 포함하는 감광성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지는 상기 화학식 1-2로 표시되는 연결기를 한 개 또는 두 개 포함하는 감광성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지는 상기 화학식 1-1로 표시되는 연결기 및 화학식 1-2로 표시되는 연결기를 모두 포함하는 감광성 수지 조성물.
제2항에 있어서,
상기 화학식 2-1은 하기 화학식 2-1-1 내지 화학식 2-1-4 중 어느 하나로 표시되는 감광성 수지 조성물.
[화학식 2-1-1]

[화학식 2-1-2]

[화학식 2-1-3]

[화학식 2-1-4]
제2항에 있어서,
상기 화학식 2-2는 하기 화학식 2-2-1 또는 화학식 2-2-2로 표시되는 감광성 수지 조성물.
[화학식 2-2-1]

[화학식 2-2-2]
제1항에 있어서,
상기 폴리이미드 구조단위 함유 중합체는 하기 화학식 4로 표시되는 구조단위를 더 포함하는 감광성 수지 조성물:
[화학식 4]

상기 화학식 4에서,
Y¹은 2가의 방향족 유기기, 2가의 지방족 유기기 또는 2가의 지환족 유기기이고,
Y²는 4가의 방향족 유기기, 4가의 지방족 유기기 또는 4가의 지환족 유기기이다.
제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지는 폴리하이드록시아미드 구조단위 함유 중합체를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 알칼리 가용성 수지는 3,000 g/mol 내지 15,000 g/mol의 중량평균 분자량을 가지는 감광성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 착색제는 무기 흑색안료, 유기 흑색안료 또는 이들의 조합을 포함하는 감광성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은, 상기 감광성 수지 조성물 총량에 대해,
상기 (A) 알칼리 가용성 수지 1 중량% 내지 30 중량%;
상기 (B) 착색제 1 중량% 내지 20 중량%;
상기 (C) 광중합성 단량체 1 중량% 내지 15 중량%;
상기 (D) 광중합 개시제 0.1 중량% 내지 5 중량%; 및
상기 (E) 용매 잔부량
으로 포함하는 감광성 수지 조성물.
제1항에 있어서,
상기 감광성 수지 조성물은 말론산, 3-아미노-1,2-프로판디올, 실란계 커플링제, 레벨링제, 계면활성제 또는 이들의 조합의 첨가제를 더 포함하는 감광성 수지 조성물.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항의 감광성 수지 조성물을 이용하여 제조된 화소 격벽층(Pixel Defining Layer).
제14항의 화소 격벽층을 포함하는 디스플레이 장치.