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KR102128772B1 - Conditioning device for cmp equipment - Google Patents

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KR102128772B1
KR102128772B1 KR1020180151182A KR20180151182A KR102128772B1 KR 102128772 B1 KR102128772 B1 KR 102128772B1 KR 1020180151182 A KR1020180151182 A KR 1020180151182A KR 20180151182 A KR20180151182 A KR 20180151182A KR 102128772 B1 KR102128772 B1 KR 102128772B1
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KR
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holder
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gimbal
disc
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KR1020180151182A
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KR20200064722A (en
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김형재
조한철
김도연
이태경
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한국생산기술연구원
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Abstract

본 발명은 CMP설비용 컨디셔닝장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 폴리싱패드의 형상에 대응하여 유연하게 기울어져 균일한 컨디셔닝을 수행하기 위한 CMP설비용 컨디셔닝장치에 관한 것이다. 본 발명은 회전되면서 폴리싱패드에 대한 컨디셔닝을 수행하도록 마련된 디스크결합체; 및 상기 디스크결합체의 상부에 결합되어 상기 디스크결합체를 회전시키도록 마련되는 헤드결합체를 포함하며, 상기 디스크결합체는 상기 폴리싱패드의 상면의 형태에 대응하여 기울어지도록 마련된 것을 특징으로 하는 CMP설비용 컨디셔닝장치를 제공한다.The present invention relates to a conditioning apparatus for a CMP facility, and more particularly, to a conditioning apparatus for a CMP facility for flexibly inclined in response to the shape of a polishing pad to perform uniform conditioning. The present invention is a disk assembly provided to perform conditioning for the polishing pad while being rotated; And a head assembly coupled to an upper portion of the disk assembly and provided to rotate the disk assembly, wherein the disk assembly is provided to be inclined corresponding to a shape of an upper surface of the polishing pad. Provides

Description

CMP설비용 컨디셔닝장치{CONDITIONING DEVICE FOR CMP EQUIPMENT}Conditioning device for CMP equipment {CONDITIONING DEVICE FOR CMP EQUIPMENT}

본 발명은 CMP설비용 컨디셔닝장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 폴리싱패드의 형상에 대응하여 유연하게 기울어져 균일한 컨디셔닝을 수행하기 위한 CMP설비용 컨디셔닝장치에 관한 것이다.The present invention relates to a conditioning apparatus for a CMP facility, and more particularly, to a conditioning apparatus for a CMP facility for flexibly inclined in response to the shape of a polishing pad to perform uniform conditioning.

일반적으로, 반도체소자 제조용 웨이퍼는 표면에 소정의 회로패턴을 형성하기 용이하도록 평탄화시키는 CMP(chemical-mechanical polishing)과정을 거친다.In general, a semiconductor device manufacturing wafer undergoes a chemical-mechanical polishing (CMP) process to planarize it to easily form a predetermined circuit pattern on its surface.

이러한 CMP 설비을 통한 폴리싱 과정은, 폴리싱패드를 고속 회전시키는 과정에서 상부로부터 슬러리를 공급하여 폴리싱패드 표면에 균일하게 분포시키고, 이러한 상태의 폴리싱패드에 대하여 웨이퍼를 근접 위치시켜 고속 회전에 따른 물리적인 힘과 슬러리의 화학작용을 통해 이루어진다.In the polishing process through the CMP facility, in the process of rotating the polishing pad at a high speed, the slurry is supplied from the top and distributed evenly on the surface of the polishing pad, and the physical force due to the high-speed rotation by placing the wafer close to the polishing pad in this state It is achieved through the chemical reaction of the slurry.

이때, 폴리싱패드는 슬러리의 균일한 분포를 위하여 그 표면 프로파일의 균일도가 필요하며, 이에 따라 폴리싱패드의 표면은 폴리싱 공정의 진행과정 또는 공정의 종료 이후에 그 표면을 다시 다듬기 위한 컨디셔닝 과정을 거친다.At this time, the polishing pad requires uniformity of its surface profile for uniform distribution of the slurry, and accordingly, the surface of the polishing pad undergoes a conditioning process for refinishing the surface after the process of polishing or the end of the process.

도 1은 종래예에 따른 컨디셔닝설비이다.1 is a conditioning facility according to a conventional example.

도 1에 도시된 것처럼, 종래의 컨디셔닝설비(10)는 폴리싱패드에 대해 수평하게 놓이는 로봇암으로부터 지지를 받는 컨디셔너헤드(11)와 컨디셔너헤드(11)에 마련되며 회전력을 제공하는 회전축에 결합된 토크전달디스크(12), 홀더짐벌(13) 및 커버짐벌(14)을 포함하여 구성되었다.As shown in FIG. 1, a conventional conditioning facility 10 is provided on a conditioner head 11 and a conditioner head 11 supported by a robot arm placed horizontally with respect to a polishing pad and coupled to a rotating shaft that provides rotational force. It comprises a torque transmission disk 12, a holder gimbal 13 and a cover gimbal 14.

이때, 종래의 컨디셔닝설비(10)는 상기 토크전달디스크(12)가 상기 홀더짐벌(13) 및 커버짐벌(14) 사이에 위치된 상태에서, 상기 홀더짐벌(13) 및 상기 커버짐벌(14)이 볼트(15)로 구속되어 있었기 때문에, 구동이 자유롭지 못한 문제가 있었다. At this time, in the conventional conditioning facility 10, the torque transmission disk 12 is located between the holder gimbal 13 and the cover gimbal 14, the holder gimbal 13 and the cover gimbal 14 Since the bolt 15 was constrained, there was a problem that the driving was not free.

또한, 상기 폴리싱패드는 마모 및 컨디셔닝이 지속됨에 따라, 부분적으로 가공이 더 많이 이루어지거나 덜 이루어지는 부분이 발생하여 굴곡이 발생하게 된다.In addition, as the polishing pad continues to wear and condition, a portion of which processing is performed more or less is partially generated, resulting in bending.

그런데, 종래의 컨디셔닝설비(10)는 상기 토크전달디스크(12), 상기 홀더짐벌(13) 및 상기 커버짐벌(14)로 이루어진 디스크조립체가 볼트 결합에 의해 고정된 상태이기 때문에 상기 폴리싱패드의 형상에 대응하여 기울어지지 못했고, 그 결과, 상기 폴리싱패드의 표면을 균일하게 컨디셔닝하기 어려운 문제가 있었다.By the way, in the conventional conditioning facility 10, the shape of the polishing pad is because the disk assembly composed of the torque transmission disk 12, the holder gimbal 13, and the cover gimbal 14 is fixed by bolt coupling. It could not be tilted correspondingly, and as a result, there was a problem that it was difficult to uniformly condition the surface of the polishing pad.

따라서, 폴리싱패드의 표면을 균일하게 컨디셔닝하기 위한 CMP설비용 컨디셔닝장치가 필요하다.Therefore, there is a need for a conditioning apparatus for CMP equipment to uniformly condition the surface of the polishing pad.

한국공개특허 제10-2013-0058231호Korean Patent Publication No. 10-2013-0058231

상기와 같은 문제를 해결하기 위한 본 발명의 목적은 폴리싱패드의 형상에 대응하여 유연하게 기울어져 균일한 컨디셔닝을 수행하기 위한 CMP설비용 컨디셔닝장치를 제공하는 것이다.An object of the present invention for solving the above problems is to provide a conditioning apparatus for a CMP facility to perform uniform conditioning by flexibly inclining corresponding to the shape of the polishing pad.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The technical problem to be achieved by the present invention is not limited to the technical problems mentioned above, and other technical problems not mentioned can be clearly understood by those having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention belongs from the following description. There will be.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은 회전되면서 폴리싱패드에 대한 컨디셔닝을 수행하도록 마련된 디스크결합체; 및 상기 디스크결합체의 상부에 결합되어 상기 디스크결합체를 회전시키도록 마련되는 헤드결합체를 포함하며, 상기 디스크결합체는 상기 폴리싱패드의 상면의 형태에 대응하여 기울어지도록 마련된 것을 특징으로 하는 CMP설비용 컨디셔닝장치를 제공한다.The configuration of the present invention for achieving the above object is a disk assembly provided to perform conditioning for the polishing pad while being rotated; And a head assembly coupled to an upper portion of the disk assembly and provided to rotate the disk assembly, wherein the disk assembly is provided to be inclined corresponding to a shape of an upper surface of the polishing pad. Provides

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 헤드결합체는, 상기 폴리싱패드에 대해 수평하게 놓이는 로봇암으로부터 지지를 받도록 마련된 헤드유닛; 상기 헤드유닛의 내측에 마련되며, 하부에 상기 디스크결합체가 결합되는 회전유닛을 포함하며, 상기 회전유닛은 회전가능하도록 마련되어, 상기 디스크결합체에 회전력을 전달하도록 마련된 것을 특징으로 할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the head assembly, the head unit provided to receive support from the robot arm placed horizontally with respect to the polishing pad; It is provided on the inner side of the head unit, and includes a rotation unit to which the disk assembly is coupled to the lower portion, the rotation unit is provided to be rotatable, it may be characterized in that provided to transmit the rotational force to the disk assembly.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 헤드결합체는, 상기 회전유닛을 감싸도록 마련되며, 구동에 따라 상기 회전유닛을 회전시키도록 마련된 벨트유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the head assembly may be provided to surround the rotating unit, and may further include a belt unit provided to rotate the rotating unit according to driving.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 디스크결합체는, 상기 폴리싱패드에 대한 컨디셔닝을 수행하도록 마련된 컨디셔닝디스크유닛; 상기 컨디셔닝디스크유닛의 상부에 결합되는 홀더디스크유닛; 상기 홀더디스크유닛의 상부에 결합되는 커버디스크유닛; 상기 홀더디스크유닛과 상기 커버디스크유닛 사이의 내측에 결합되는 짐벌디스크유닛; 및 상기 짐벌디스크유닛의 외주면 및 상기 홀더디스크유닛에 결합되는 핀유닛을 포함하며, 상기 핀유닛은 상기 짐벌디스크유닛에 끼움 결합되며, 상기 핀유닛의 직경은 상기 짐벌디스크유닛의 끼움결합되는 부분의 내경보다 작게 형성된 것을 특징으로 할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the disk assembly includes: a conditioning disk unit provided to perform conditioning on the polishing pad; A holder disc unit coupled to an upper portion of the conditioning disc unit; A cover disc unit coupled to an upper portion of the holder disc unit; A gimbal disc unit coupled to the inside between the holder disc unit and the cover disc unit; And a pin unit coupled to the outer circumferential surface of the gimbal disk unit and the holder disk unit, wherein the pin unit is fitted into the gimbal disk unit, and the diameter of the pin unit is a fitting portion of the gimbal disk unit. It may be characterized by being formed smaller than the inner diameter.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 홀더디스크유닛은, 원반 형태의 몸체를 형성하는 홀더디스크; 상기 홀더디스크의 중심부에 형성되며, 소정의 깊이만큼 함몰되어 형성된 함입부; 상기 함입부의 중심에 형성되며 상부를 향해 볼록하게 돌출된 원형으로 형성된 볼록부; 및 상기 함입부의 바깥측에 형성되며, 상기 홀더디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 홀더결합홀을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the holder disc unit comprises: a holder disc forming a disc-shaped body; An indentation part formed at the center of the holder disk and recessed by a predetermined depth; A convex portion formed in the center of the indentation and formed in a convex shape protruding upwardly; And a plurality of holder coupling holes formed on the outer side of the recess and disposed at equal intervals along the concentric circle position from the center of the holder disk.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 홀더디스크유닛은, 상기 함입부와 상기 홀더결합홀 사이에 형성되며, 상기 홀더디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 홀더지지부; 및 상기 홀더결합홀의 바깥측에 형성되며, 상기 홀더디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 홀더체결홀을 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the holder disc unit is formed between the recess and the holder coupling hole, a plurality of holder support portions arranged at equal intervals along the concentric circle position from the center of the holder disc; And a plurality of holder fastening holes formed on the outer side of the holder coupling hole and arranged at equal intervals along the concentric circle position from the center of the holder disc.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 커버디스크유닛은, 원반 형태의 몸체를 형성하는 커버디스크; 상기 커버디스크의 내측에 중공 형성된 커버중공부; 및 상기 커버디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 커버체결홀을 포함하며, 상기 커버체결홀은 상기 홀더디스크유닛에 형성된 홀더체결홀과 대응되는 위치에 형성된 것을 특징으로 할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the cover disc unit comprises: a cover disc forming a disc-shaped body; A cover hollow portion formed inside the cover disc; And a plurality of cover fastening holes arranged at equal intervals along the concentric circle position from the center of the cover disk, wherein the cover fastening holes are formed at positions corresponding to the holder fastening holes formed in the holder disk unit. have.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 짐벌디스크유닛은, 원반 형태의 몸체를 형성하는 짐벌디스크; 및 상기 짐벌디스크의 외주면에 톱니 형태로 형성되며, 상기 짐벌디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 끼움부를 포함하며, 상기 끼움부는 상기 홀더디스크유닛에 마련된 홀더결합홀과 대응되는 위치에 형성된 것을 특징으로 할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the gimbal disc unit comprises: a gimbal disc forming a disc-shaped body; And a plurality of fitting portions formed on the outer circumferential surface of the gimbal disc and arranged at equal intervals along a concentric circle position from the center of the gimbal disc, wherein the fitting portion corresponds to a holder coupling hole provided in the holder disc unit. It can be characterized in that formed in the position.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 짐벌디스크유닛은, 상기 짐벌디스크의 중심부에 형성되며, 상기 짐벌디스크의 상부 및 하부를 향해 연장 형성된 짐벌연장부; 상기 짐벌연장부의 중심에 중공 형성된 짐벌중공부; 상기 짐벌연장부에 형성되며, 상기 짐벌디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 짐벌체결부; 및 상기 짐벌연장부의 하부 중앙에 함몰 형성되며, 상기 홀더디스크유닛의 볼록부와 대응되는 위치 및 형상으로 형성된 짐벌함입부를 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the gimbal disc unit is formed in the center of the gimbal disc, and the gimbal extension portion extending toward the upper and lower portions of the gimbal disc; A gimbal hollow formed in the center of the gimbal extension; A plurality of gimbal fastening parts formed on the gimbal extension and arranged at equal intervals along the concentric circle position from the center of the gimbal disk; And a gimbal recess formed in the lower center of the gimbal extension and formed in a position and shape corresponding to the convex portion of the holder disk unit.

본 발명의 실시예에 있어서, 상기 핀유닛은, 상기 홀더결합홀에 결합되는 핀결합체; 및 상기 핀결합체의 상부에 형성되며, 상기 끼움부에 끼움 결합되도록 마련된 핀헤드를 포함하며, 상기 핀헤드의 직경은 상기 끼움부의 내경보다 작게 형성되어, 상기 컨디셔닝디스크유닛, 상기 홀더디스크유닛 및 상기 커버디스크유닛이 상기 폴리싱패드의 상면의 형태에 대응하여 기울어질 수 있도록 마련된 것을 특징으로 할 수 있다.In an embodiment of the present invention, the pin unit comprises: a pin assembly coupled to the holder coupling hole; And it is formed on the upper portion of the pin assembly, and includes a pin head provided to be fitted to the fitting portion, the diameter of the pin head is formed smaller than the inner diameter of the fitting portion, the conditioning disk unit, the holder disk unit and the It can be characterized in that the cover disc unit is provided to be inclined in correspondence with the shape of the upper surface of the polishing pad.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 구성은 CMP설비용 컨디셔닝장치가 구비된 CMP설비를 제공한다.The configuration of the present invention for achieving the above object provides a CMP facility equipped with a conditioning device for the CMP facility.

상기와 같은 구성에 따르는 본 발명의 효과는, 디스크결합체가 폴리싱패드의 상면 형상에 대응하여 유연하게 기울어질 수 있기 때문에 폴리싱패드의 표면을 균일하게 컨디셔닝할 수 있다.The effect of the present invention according to the configuration as described above, since the disk assembly can be flexibly inclined corresponding to the shape of the top surface of the polishing pad, it is possible to uniformly condition the surface of the polishing pad.

본 발명의 효과는 상기한 효과로 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 상세한 설명 또는 특허청구범위에 기재된 발명의 구성으로부터 추론 가능한 모든 효과를 포함하는 것으로 이해되어야 한다.It should be understood that the effects of the present invention are not limited to the above-described effects, and include all effects that can be deduced from the configuration of the invention described in the detailed description or claims of the present invention.

도 1은 종래예에 따른 컨디셔닝설비이다.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 CMP설비용 컨디셔닝장치의 단면예시도이다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 홀더디스크유닛의 사시도이다.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 홀더디스크유닛을 종단한 사시도이다.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 홀더디스크유닛의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 커버디스크유닛의 사시도이다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 커버디스크유닛의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 짐벌디스크유닛의 사시도이다.
도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 짐벌디스크유닛의 단면도이다.
도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 핀유닛의 사시도이다.
도 11은 본 발명의 일실시예에 따른 핀유닛의 정면도이다.
도 12는 본 발명의 일실시예에 따른 핀유닛의 결합 상태를 나타낸 단면확대도이다.
도 13은 본 발명의 일실시예에 따른 짐벌디스크유닛 및 핀유닛의 결합예시도이다.
도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 짐벌디스크유닛 및 핀유닛의 결합예시도이다.1 is a conditioning facility according to a conventional example.
2 is a cross-sectional exemplary view of a conditioning apparatus for a CMP facility according to an embodiment of the present invention.
3 is a perspective view of a holder disk unit according to an embodiment of the present invention.
4 is a perspective view of a holder disc unit terminated according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view of a holder disk unit according to an embodiment of the present invention.
6 is a perspective view of a cover disk unit according to an embodiment of the present invention.
7 is a cross-sectional view of a cover disk unit according to an embodiment of the present invention.
8 is a perspective view of a gimbal disk unit according to an embodiment of the present invention.
9 is a cross-sectional view of a gimbal disk unit according to an embodiment of the present invention.
10 is a perspective view of a pin unit according to an embodiment of the present invention.
11 is a front view of a pin unit according to an embodiment of the present invention.
12 is an enlarged cross-sectional view showing a coupled state of a pin unit according to an embodiment of the present invention.
13 is a combined example of a gimbal disk unit and a pin unit according to an embodiment of the present invention.
14 is a combined example of a gimbal disk unit and a pin unit according to another embodiment of the present invention.

이하에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명을 설명하기로 한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며, 따라서 여기에서 설명하는 실시예로 한정되는 것은 아니다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. However, the present invention may be implemented in various different forms, and thus is not limited to the embodiments described herein. In addition, in order to clearly describe the present invention in the drawings, parts irrelevant to the description are omitted, and like reference numerals are assigned to similar parts throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결(접속, 접촉, 결합)"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결"되어 있는 경우뿐 아니라, 그 중간에 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결"되어 있는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 구비할 수 있다는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a part is said to be "connected (connected, contacted, coupled)" with another part, it is not only "directly connected", but also "indirectly connected" with another member in between. "It includes the case where it is. Also, when a part “includes” a certain component, this means that other components may be further provided, not excluding other components, unless otherwise specified.

본 명세서에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used herein are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this specification, terms such as “include” or “have” are intended to indicate that a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification exists, and that one or more other features are present. It should be understood that the existence or addition possibilities of fields or numbers, steps, operations, components, parts or combinations thereof are not excluded in advance.

이하 첨부된 도면을 참고하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 CMP설비용 컨디셔닝장치의 단면예시도이다.2 is a cross-sectional exemplary view of a conditioning apparatus for a CMP facility according to an embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 것처럼, CMP설비용 컨디셔닝장치(1000)는 디스크결합체(1100) 및 헤드결합체(1200)를 포함하며, 상기 디스크결합체(1100)의 기울기가 폴리싱패드의 상면의 윤곽에 대응하여 기울어지도록 마련된 것을 특징으로 할 수 있다.As shown in FIG. 2, the conditioning apparatus 1000 for a CMP facility includes a disk assembly 1100 and a head assembly 1200, and the inclination of the disk assembly 1100 is inclined corresponding to the contour of the upper surface of the polishing pad. It can be characterized as provided to be built.

상기 디스크결합체(1100)는 회전되면서 폴리싱패드에 대한 컨디셔닝을 수행하도록 마련되며, 컨디셔닝디스크유닛(1110), 홀더디스크유닛(1120), 커버디스크유닛(1130), 짐벌디스크유닛(1140) 및 핀유닛(1150)을 포함할 수 있다.The disk assembly 1100 is provided to perform conditioning for the polishing pad while being rotated, and a conditioning disk unit 1110, a holder disk unit 1120, a cover disk unit 1130, a gimbal disk unit 1140, and a pin unit It may include (1150).

이하, 상기 디스크결합체(1100)의 각 구성에 대해 도면을 참조하여 설명하도록 한다.Hereinafter, each configuration of the disk assembly 1100 will be described with reference to the drawings.

먼저, 도 2를 참조하면, 상기 컨디셔닝디스크유닛(1110)은 상기 디스크결합체(1100)의 최하부에 위치하며, 특히, 상기 홀더디스크유닛(1120)의 하부에 결합될 수 있다.First, referring to FIG. 2, the conditioning disk unit 1110 is located at the bottom of the disk assembly 1100, and may be coupled to a lower portion of the holder disk unit 1120.

그리고, 상기 컨디셔닝디스크유닛(1110)은 상기 폴리싱패드에 접촉하여 상기 폴리싱패드에 대한 컨디셔닝을 수행하도록 마련될 수 있다. 상기 컨디셔닝디스크유닛(1110)은 하면에 상기 폴리싱패드에 대한 컨디셔닝을 수행하기 위한 첨부(미도시)가 형성될 수 있다.In addition, the conditioning disk unit 1110 may be provided to contact the polishing pad and perform conditioning on the polishing pad. The conditioning disk unit 1110 may have an attachment (not shown) for performing conditioning on the polishing pad on the lower surface.

이처럼 마련된 상기 컨디셔닝디스크유닛(1110)은 상기 디스크결합체(1100)가 회전될 때, 상기 폴리싱패드에 대한 컨디셔닝을 수행할 수 있다.The conditioning disk unit 1110 provided as described above may perform conditioning for the polishing pad when the disk assembly 1100 is rotated.

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 홀더디스크유닛의 사시도이고, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 홀더디스크유닛을 종단한 사시도이며, 도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 홀더디스크유닛의 단면도이다.3 is a perspective view of a holder disk unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 4 is a perspective view of the holder disk unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a holder according to an embodiment of the present invention It is a sectional view of the disc unit.

도 3 내지 도 5를 더 참조하면, 상기 홀더디스크유닛(1120)은 상기 컨디셔닝디스크유닛의 상부에 결합되며, 홀더디스크(1121), 함입부(1122), 볼록부(1123), 홀더결합홀(1124), 홀더지지부(1125) 및 홀더체결홀(1126)을 포함한다.3 to 5, the holder disc unit 1120 is coupled to the upper portion of the conditioning disc unit, the holder disc 1121, the indentation portion 1122, the convex portion 1123, the holder coupling hole ( 1124), a holder support portion 1125 and a holder fastening hole (1126).

상기 홀더디스크(1121)는 원반 형태로 마련되며, 상기 홀더디스크유닛(1120)의 몸체를 형성하도록 마련될 수 있다.The holder disk 1121 is provided in a disc shape, and may be provided to form a body of the holder disk unit 1120.

상기 함입부(1122)는 상기 홀더디스크(1121)의 중심부의 상측에 형성되며, 소정의 깊이만큼 함몰되어 형성될 수 있다.The recess 1122 is formed on the upper side of the center of the holder disk 1121, it may be formed to be recessed by a predetermined depth.

또한, 상기 홀더디스크(1121)의 중심부의 하측에도 소정의 깊이만큼 함몰된 하부결합홈이 형성될 수 있다. 상기 컨디셔닝디스크유닛(111)은 상기 하부결합홈에 삽입되어 상기 홀더디스크유닛(1120)에 결합될 수 있다.In addition, a lower coupling groove recessed by a predetermined depth may be formed on the lower side of the center of the holder disk 1121. The conditioning disk unit 111 may be inserted into the lower coupling groove and coupled to the holder disk unit 1120.

상기 볼록부(1123)는 상기 함입부(1122)의 중심에 형성되며 상부를 향해 볼록하게 돌출되도록 마련될 수 있다.The convex portion 1123 is formed at the center of the concave portion 1122 and may be provided to protrude convexly toward the upper portion.

이때, 상기 볼록부(1123)는 상부에서 보았을 때, 원형으로 형성되며, 측면에서 보았을 때, 반구 형태가 되도록 마련될 수 있다.At this time, the convex portion 1123 is formed in a circular shape when viewed from the top, and when viewed from the side, it may be provided in a hemisphere shape.

상기 홀더결합홀(1124)은 상기 함입부(1122)의 바깥측에 형성되며, 상기 홀더디스크(1121)의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 복수개가 배치될 수 있다.The holder coupling hole 1124 is formed on the outer side of the recess 1122, a plurality of equal intervals may be arranged along the concentric circle position from the center of the holder disk 1121.

상기 홀더지지부(1125)는, 상기 함입부(1122)와 상기 홀더결합홀(1124) 사이에 형성되며, 상기 홀더디스크(1121)의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 복수개가 배치될 수 있다.The holder support portion 1125 is formed between the indentation portion 1122 and the holder coupling hole 1124, and may be disposed at equal intervals along a concentric circle position from the center of the holder disc 1121.

상기 홀더체결홀(1126)은 상기 홀더결합홀(1124)의 바깥측에 형성되며, 상기 홀더디스크(1121)의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 복수개가 배치될 수 있다. 이처럼 마련된 상기 홀더체결홀(1126)은 상기 홀더디스크(1121)의 최외곽측에 형성될 수 있다.The holder fastening hole 1126 is formed on the outer side of the holder engaging hole 1124, a plurality of equal intervals can be arranged along the concentric circle position from the center of the holder disk 1121. The holder fastening hole 1126 provided as described above may be formed on the outermost side of the holder disk 1121.

또한, 상기 홀더디스크(1121)는 상기 홀더체결홀(1126)이 형성되는 최외곽측이 소정의 높이만큼 돌출되어 단차가 형성되도록 마련될 수 있다.In addition, the holder disk 1121 may be provided so that the outermost side where the holder fastening hole 1126 is formed protrudes by a predetermined height to form a step.

도 6은 본 발명의 일실시예에 따른 커버디스크유닛의 사시도이고, 도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 커버디스크유닛의 단면도이다.6 is a perspective view of a cover disk unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a cross-sectional view of a cover disk unit according to an embodiment of the present invention.

도 6 및 도 7를 더 참조하면, 상기 커버디스크유닛(1130)은 상기 홀더디스크유닛의 상부에 결합되며, 커버디스크(1131), 커버중공부(1132) 및 커버체결홀(1133)을 포함할 수 있다.6 and 7, the cover disc unit 1130 is coupled to the upper portion of the holder disc unit, and includes a cover disc 1131, a cover hollow portion 1132, and a cover fastening hole 1133. Can.

상기 커버디스크(1131)는 원반 형태로 형성되며, 상기 커버디스크유닛(1130)의 몸체를 형성할 수 있다. 그리고, 상기 커버디스크(1131)의 외경은 상기 홀더디스크(1121)의 외경과 동일하게 형성될 수 있다.The cover disk 1131 is formed in a disk shape, and may form a body of the cover disk unit 1130. In addition, the outer diameter of the cover disk 1131 may be formed to be the same as the outer diameter of the holder disk 1121.

또한, 상기 커버디스크(1131)의 하부는 소정의 깊이만큼 함몰된 형태로 마련될 수 있다.In addition, the lower portion of the cover disk 1131 may be provided in a recessed shape by a predetermined depth.

이처럼 마련된 상기 커버디스크(1131)는 상기 홀더디스크(1121)의 상부에 결합되었을 때, 상기 홀더디스크(1121)와 상기 커버디스크(1131)의 내측에 상기 짐벌디스크유닛(1140)이 삽입될 수 있는 공간이 형성되도록 할 수 있다.When the cover disk 1131 provided as described above is coupled to the upper portion of the holder disk 1121, the holder disk 1121 and the cover disk 1131 inside the remind A space in which the gimbal disk unit 1140 can be inserted may be formed.

특히, 상기 커버디스크(1131)와 상기 홀더디스크(1121)가 결합되었을 때, 내부 공간의 간격은 상기 짐벌디스크유닛(1140)의 짐벌디스크(1141)의 두께보다 크게 형성됨으로써, 상기 커버디스크(1131)와 상기 홀더디스크(1121)가 폴리싱패드의 상면 형상에 대응하여 기울어질 수 있도록 할 수 있다.Particularly, when the cover disk 1131 and the holder disk 1121 are combined, the gap between the internal spaces is formed to be larger than the thickness of the gimbal disk 1141 of the gimbal disk unit 1140, so that the cover disk 1131 ) And the holder disk 1121 can be inclined in correspondence with the top surface shape of the polishing pad.

상기 커버중공부(1132)는 상기 커버디스크(1131)의 내측에 중공 형성될 수 있다.The cover hollow portion 1132 may be formed hollow inside the cover disc 1131.

이때, 상기 커버중공부(1132)의 직경 크기는 상기 짐벌디스크유닛(1140)에 형성된 짐벌연장부(1143)가 삽입 가능한 크기로 형성될 수 있다.At this time, the size of the diameter of the cover hollow portion 1132 may be formed in a size that can be inserted into the gimbal extension portion 1143 formed in the gimbal disk unit 1140.

상기 커버체결홀(1133)은 상기 커버디스크(1131)의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 복수개 배치될 수 있다.A plurality of cover fastening holes 1133 may be arranged at equal intervals along the concentric position from the center of the cover disk 1131.

그리고, 상기 커버체결홀(1133)은 상기 홀더디스크유닛(1120)에 형성된 상기 홀더체결홀(1126)과 대응되는 위치에 형성될 수 있다.Further, the cover fastening hole 1133 may be formed at a position corresponding to the holder fastening hole 1126 formed in the holder disk unit 1120.

이처럼 마련된 상기 커버체결홀(1133)은 제1 볼트(B1)에 의해 상기 홀더체결홀(1126)과 고정 결합될 수 있다.The cover fastening hole 1133 provided as described above may be fixedly coupled to the holder fastening hole 1126 by a first bolt B1.

도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 짐벌디스크유닛의 사시도이고, 도 9는 본 발명의 일실시예에 따른 짐벌디스크유닛의 단면도이다.8 is a perspective view of a gimbal disk unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a cross-sectional view of a gimbal disk unit according to an embodiment of the present invention.

도 8 및 도 9를 더 참조하면, 상기 짐벌디스크유닛(1140)은 상기 홀더디스크유닛(1120)과 상기 커버디스크유닛(1130) 사이의 내측에 결합되며, 짐벌디스크(1141), 끼움부(1142), 짐벌연장부(1143), 짐벌중공부(1144), 짐벌체결부(1145) 및 짐벌함입부(1146)를 포함할 수 있다.8 and 9, the gimbal disc unit 1140 is coupled inside the holder disc unit 1120 and the cover disc unit 1130, and the gimbal disc 1141 and the fitting portion 1142 ), a gimbal extension portion 1143, a gimbal hollow portion 1144, a gimbal fastening portion 1145, and a gimbal enclosing portion 1146.

상기 짐벌디스크(1141)는 원반 형태로 마련될 수 있으며, 상기 짐벌디스크유닛(1140)의 몸체를 형성할 수 있다.The gimbal disc 1141 may be provided in a disc shape, and may form a body of the gimbal disc unit 1140.

상기 짐벌디스크(1141)의 두께는 상기 커버디스크(1131)와 상기 홀더디스크(1121) 사이의 간격보다 작게 형성될 수 있다. 이때, 상기 짐벌디스크(1141), 상기 커버디스크(1131), 상기 홀더디스크(1121) 사이의 빈 공간은 상기 커버디스크(1131)와 상기 홀더디스크(1121)가 폴리싱패드의 상면 형상에 대응하여 기울어질 수 있는 정도와 관련됨으로, 이를 고려하여 설계될 수 있다.The gimbal disc 1141 may have a thickness smaller than the gap between the cover disc 1131 and the holder disc 1121. At this time, the empty space between the gimbal disk 1141, the cover disk 1131, and the holder disk 1121 is inclined by the cover disk 1131 and the holder disk 1121 corresponding to the top surface shape of the polishing pad. As it relates to the degree of loss, it can be designed in consideration of this.

상기 끼움부(1142)는 상기 짐벌디스크(1141)의 외주면에 톱니 형태로 형성되며, 상기 짐벌디스크(1141)의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 복수개 배치될 수 있다.The fitting portion 1142 is formed in a serrated shape on the outer circumferential surface of the gimbal disc 1141, and a plurality of gimbal discs 1141 may be disposed at equal intervals along a concentric circle position from the center of the gimbal disc 1141.

구체적으로, 상기 끼움부(1142)는 상기 짐벌디스크(1141)의 외주면이 톱니 형태로 형성되도록 일정 간격마다 상기 짐벌디스크(1141)의 중심을 향해 인입된 형태로 마련될 수 있다.Specifically, the fitting portion 1142 may be provided in a shape drawn toward the center of the gimbal disc 1141 at regular intervals such that the outer circumferential surface of the gimbal disc 1141 is formed in a sawtooth shape.

그리고, 상기 끼움부(1142)는 상기 홀더디스크유닛(1120)에 마련된 홀더결합홀(1124)과 대응되는 위치에 형성될 수 있다. 보다 상세하게는, 상기 끼움부(1142)는 상기 짐벌디스크(1141)의 중심을 향해 인입된 부분이 상기 홀더결합홀(1124)과 대응되는 위치에 마련되도록 할 수 있다.In addition, the fitting portion 1142 may be formed at a position corresponding to the holder coupling hole 1124 provided in the holder disk unit 1120. In more detail, the fitting portion 1142 may be such that a portion drawn toward the center of the gimbal disc 1141 is provided at a position corresponding to the holder coupling hole 1124.

상기 끼움부(1142)의 더욱 구체적인 형상은 상기 핀유닛(1150) 설명시 부가하도록 한다.A more specific shape of the fitting portion 1142 is added when the pin unit 1150 is described.

상기 짐벌연장부(1143)는 상기 짐벌디스크(1141)의 중심부에 형성되며, 상기 짐벌디스크(1141)의 상부 및 하부를 향해 연장 형성될 수 있다.The gimbal extension 1143 may be formed at the center of the gimbal disc 1141, and may be extended toward upper and lower portions of the gimbal disc 1141.

구체적으로, 상기 짐벌연장부(1143)는 상기 짐벌디스크(1141)의 중심부에서 상부를 향해 연장되어 상기 헤드결합체(1200)와 결합될 수 있다. 이때, 상기 짐벌연장부(1143) 중 상부를 향해 연장된 부분은 상기 커버디스크의 두께와 대응되는 두께로 형성될 수 있다.Specifically, the gimbal extension 1143 may be extended from the center of the gimbal disk 1141 toward the top to be coupled with the head assembly 1200. At this time, a portion of the gimbal extension portion 1143 extending toward the upper portion may be formed to have a thickness corresponding to the thickness of the cover disc.

또한, 상기 짐벌연장부(1143)의 상부측은 탄성력을 갖는 소재로 이루어지거나, 구조적으로 탄성력을 갖도록 형성될 수 있다.In addition, the upper side of the gimbal extension portion 1143 may be made of a material having elastic force, or may be formed to have structural elasticity.

그리고, 상기 짐벌연장부(1143)는 상기 짐벌디스크(1141)의 중심부에서 하부를 향해서도 연장되어 상기 홀더디스크유닛(1120)의 상기 볼록부(1123) 상에 안착되도록 마련될 수 있다.In addition, the gimbal extension portion 1143 may be provided to extend from the center of the gimbal disc 1141 toward the lower portion to be seated on the convex portion 1123 of the holder disc unit 1120.

상기 짐벌중공부(1144)는 상기 짐벌연장부(1143)의 중심에 마련되며, 상기 짐벌연장부(1143)의 상부와 하부가 연통되도록 중공 형성될 수 있다.The gimbal hollow portion 1144 is provided at the center of the gimbal extension portion 1143, and may be formed to be hollow so that the upper and lower portions of the gimbal extension portion 1143 communicate.

상기 짐벌체결부(1145)는 상기 짐벌연장부(1143)에 형성되며, 상기 짐벌디스크(1141)의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 복수개 배치될 수 있다.The gimbal fastening portion 1145 is formed in the gimbal extension portion 1143, and may be disposed at equal intervals along a concentric circle position from the center of the gimbal disk 1141.

상기 짐벌중공부(1144) 및 상기 짐벌체결부(1145)를 통해 상기 짐벌디스크유닛(1140)과 상기 헤드결합체(1200)는 결합될 수 있다.The gimbal disk unit 1140 and the head assembly 1200 may be coupled through the gimbal hollow portion 1144 and the gimbal fastening portion 1145.

상기 짐벌함입부(1146)은 상기 짐벌연장부(1143)의 하부 중앙에 함몰 형성되며, 상기 홀더디스크유닛(1120)의 상기 볼록부(1123)와 대응되는 위치 및 형상으로 형성될 수 있다.The gimbal recess 1146 is recessed in the lower center of the gimbal extension 1143, and may be formed in a position and shape corresponding to the convex portion 1123 of the holder disk unit 1120.

도 10은 본 발명의 일실시예에 따른 핀유닛의 사시도이고, 도 11은 본 발명의 일실시예에 따른 핀유닛의 정면도이다. 10 is a perspective view of a pin unit according to an embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a front view of a pin unit according to an embodiment of the present invention.

그리고, 도 12는 본 발명의 일실시예에 따른 핀유닛의 결합 상태를 나타낸 단면확대도이고, 도 13은 본 발명의 일실시예에 따른 짐벌디스크유닛 및 핀유닛의 결합예시도이다.And, Figure 12 is an enlarged cross-sectional view showing a coupled state of the pin unit according to an embodiment of the present invention, Figure 13 is an exemplary view of a gimbal disk unit and a pin unit coupled according to an embodiment of the present invention.

도 10 내지 도 13을 더 참조하면, 상기 핀유닛(1150)은 상기 짐벌디스크유닛(1140)의 외주면 및 상기 홀더디스크유닛(1120)에 결합되도록 마련될 수 있다.10 to 13, the pin unit 1150 may be provided to be coupled to the outer peripheral surface of the gimbal disc unit 1140 and the holder disc unit 1120.

그리고, 상기 핀유닛(1150)은 상기 짐벌디스크유닛(1140)에 끼움 결합되고, 상기 핀유닛(1150)의 직경은 상기 짐벌디스크유닛(1140)의 상기 끼움부(1142)의 끼움결합되는 부분의 내경보다 작게 형성될 수 있다.Further, the pin unit 1150 is fitted to the gimbal disk unit 1140, and the diameter of the pin unit 1150 is a fitting part of the fitting portion 1142 of the gimbal disk unit 1140. It may be formed smaller than the inner diameter.

보다 구체적으로, 상기 핀유닛(1150)은 핀결합체(1151) 및 핀헤드(1152)를 포함할 수 있다.More specifically, the pin unit 1150 may include a pin assembly 1151 and a pin head 1152.

상기 핀결합체(1151)는 상기 홀더결합홀(1124)에 고정 결합되도록 마련될 수 있다.The pin coupling body 1151 may be provided to be fixedly coupled to the holder coupling hole 1124.

상기 핀헤드(1152)는 상기 핀결합체(1151)의 상부에 형성되며, 상기 끼움부(1142)에 끼움 결합되도록 마련될 수 있다.The pin head 1152 is formed on an upper portion of the pin assembly 1151 and may be provided to be fitted to the fitting portion 1142.

상기 핀헤드(1152)의 직경은 상기 끼움부(1142)의 내경보다 작게 형성되어, 상기 컨디셔닝디스크유닛(1110), 상기 홀더디스크유닛(1120) 및 상기 커버디스크유닛(1130)이 상기 폴리싱패드의 상면의 형태에 대응하여 기울어질 수 있도록 마련될 수 있다.The diameter of the pin head 1152 is formed smaller than the inner diameter of the fitting portion 1142, the conditioning disk unit 1110, the holder disk unit 1120 and the cover disk unit 1130 of the polishing pad It may be provided to be inclined in response to the shape of the top surface.

구체적으로, 도 12 및 도 13에 도시된 것처럼, 상기 끼움부(1142)와 상기 핀유닛(1150) 사이에는 소정의 틈(G)이 형성될 수 있다. 즉, 상기 핀헤드(1152)는 상기 끼움부(1142)에 끼움 결합된 상태이고 상기 핀헤드(1152)와 상기 끼움부(1142) 사이에는 상기 틈(G)이 형성되어 있기 때문에 상기 핀헤드(1152)가 상기 끼움부(1142)에 끼워진 상태에서 움직일 수 있다.Specifically, as illustrated in FIGS. 12 and 13, a predetermined gap G may be formed between the fitting portion 1142 and the pin unit 1150. That is, since the pin head 1152 is fitted to the fitting portion 1142 and the gap G is formed between the pin head 1152 and the fitting portion 1142, the pin head ( 1152) can be moved in a state fitted to the fitting portion 1142.

이때, 상기 핀결합체(1151)는 상기 홀더결합홀(1124)에 결합된 상태이기 때문에, 상기 핀헤드(1152)가 상기 끼움부(1142)에 끼움 결합된 상태에서 움직일 때, 상기 핀결합체(1151)를 통해 고정 결합된, 상기 컨디셔닝디스크유닛(1110), 상기 홀더디스크유닛(1120) 및 상기 커버디스크유닛(1130)이 상기 폴리싱패드의 상면의 형태에 대응하여 움직일 수 있다.At this time, since the pin coupling body 1151 is coupled to the holder coupling hole 1124, when the pin head 1152 is moved while being fitted to the fitting portion 1142, the pin coupling body 1151 ), the conditioning disk unit 1110, the holder disk unit 1120, and the cover disk unit 1130 may move in correspondence with the shape of the upper surface of the polishing pad.

또한, 본 발명의 일실시예에서는 상기 핀유닛(1150)의 상기 핀헤드(1152)가 상기 끼움부(1142)와의 사이에 소정의 틈(G)이 형성되도록 하였으나, 이에 한정되지 않고, 상기 핀결합체(1151)와 상기 홀더결합홀(1124) 사이에 소정의 틈이 형성되도록 하고, 상기 끼움부(1142)와 상기 핀헤드(1152)는 고정 결합되도록 하는 것도 가능하다.In addition, in one embodiment of the present invention, the pin head 1152 of the pin unit 1150 has a predetermined gap G formed between the fitting portion 1142, but is not limited thereto. It is also possible to form a predetermined gap between the coupling body 1151 and the holder coupling hole 1124, and the fitting portion 1142 and the pin head 1152 may be fixedly coupled.

도 14는 본 발명의 다른 실시예에 따른 짐벌디스크유닛 및 핀유닛의 결합예시도이다.14 is a combined example of a gimbal disk unit and a pin unit according to another embodiment of the present invention.

도 14에 도시된 것처럼, 다른 실시예에 따른 짐벌디스크유닛(2140)은 일실시예에 따른 짐벌디스크유닛(1140)과 유사한 구성을 갖는다. 다만, 다른 실시예에 따른 짐벌디스크유닛(2140)은 상기 짐벌디스크(2141)로부터 이격되어 형성되되, 상기 짐벌디스크(2141)를 감싸도록 형성된 짐벌커버(2143)를 더 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.14, the gimbal disk unit 2140 according to another embodiment has a configuration similar to the gimbal disk unit 1140 according to an embodiment. However, the gimbal disc unit 2140 according to another embodiment may be formed to be spaced apart from the gimbal disc 2141, and may further include a gimbal cover 2143 formed to surround the gimbal disc 2141. have.

그리고, 상기 짐벌커버(2143)는 상기 끼움부(2142)와 대응되는 형상으로 마련될 수 있다.In addition, the gimbal cover 2143 may be provided in a shape corresponding to the fitting portion 2142.

그리고, 다른 실시예에 따른 상기 핀유닛(2150)은 핀헤드가 상기 끼움부(2142)와 상기 짐벌커버(2143) 사이에 마련되며, 탄성력을 갖는 소재로 구비되어 상기 끼움부(2142)에 상기 핀유닛(2150)이 결합된 상태에서도, 상기 컨디셔닝디스크유닛(1110), 상기 홀더디스크유닛(1120) 및 상기 커버디스크유닛(1130)이 상기 폴리싱패드의 상면 형상에 대응하여 움직이도록 할 수 있다.In addition, the pin unit 2150 according to another embodiment is provided with a pin head between the fitting portion 2142 and the gimbal cover 2143, and is provided with a material having elastic force to the fitting portion 2142 Even when the pin unit 2150 is coupled, the conditioning disk unit 1110, the holder disk unit 1120, and the cover disk unit 1130 may be moved in correspondence with the top surface shape of the polishing pad.

상기 헤드결합체(1200)는 상기 디스크결합체(1100)의 상부에 결합되어 상기 디스크결합체(1100)를 회전시키도록 마련되며, 헤드유닛(1210), 회전유닛(1220) 및 벨트유닛(1230)을 포함할 수 있다.The head assembly 1200 is coupled to an upper portion of the disk assembly 1100 and is provided to rotate the disk assembly 1100, and includes a head unit 1210, a rotation unit 1220, and a belt unit 1230. can do.

상기 헤드유닛(1210)은 상기 폴리싱패드에 대해 수평하게 놓이는 로봇암으로부터 지지를 받도록 마련될 수 있다.The head unit 1210 may be provided to receive support from a robot arm placed horizontally with respect to the polishing pad.

상기 회전유닛(1220)은 상기 헤드유닛(1210)의 내측에 마련되며, 하부에 상기 디스크결합체(1100)가 결합될 수 있다.The rotating unit 1220 is provided inside the head unit 1210, and the disk assembly 1100 may be coupled to the lower portion.

상기 회전유닛(1220)은 회전가능하도록 마련되어, 상기 디스크결합체(1100)에 회전력을 전달하도록 마련될 수 있다.The rotating unit 1220 may be provided to be rotatable, and may be provided to transmit rotational force to the disk assembly 1100.

상기 회전유닛(1220)의 하부에는 상기 짐벌디스크유닛(1140)이 결합될 수 있다.The gimbal disk unit 1140 may be coupled to the lower portion of the rotating unit 1220.

상기 벨트유닛(1230)은 상기 회전유닛(1220)을 감싸도록 마련되며, 구동에 따라 상기 회전유닛(1220)을 회전시키도록 마련될 수 있다.The belt unit 1230 is provided to surround the rotating unit 1220, and may be provided to rotate the rotating unit 1220 according to driving.

이처럼 마련된 본 발명은 상기 디스크결합체(1100)가 폴리싱패드의 상면 형상에 대응하여 유연하게 기울어질 수 있기 때문에 폴리싱패드의 표면을 균일하게 컨디셔닝할 수 있다.The present invention thus provided can uniformly condition the surface of the polishing pad because the disk assembly 1100 can be flexibly inclined corresponding to the top surface shape of the polishing pad.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The above description of the present invention is for illustration only, and a person having ordinary knowledge in the technical field to which the present invention pertains can understand that it can be easily modified into other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is indicated by the following claims, and all modifications or variations derived from the meaning and scope of the claims and their equivalent concepts should be interpreted to be included in the scope of the present invention.

10: 컨디셔닝설비 11: 컨디셔너헤드
12: 토크전달디스크 13: 홀더짐벌
14: 커버짐벌 15: 볼트
1000: CMP설비용 컨디셔닝장치 1100: 디스크결합체
1110: 컨디셔닝디스크유닛 1120: 홀더디스크유닛
1121: 홀더디스크 1122: 함입부
1123: 볼록부 1124: 홀더결합홀
1125: 홀더지지부 1126: 홀더체결홀
1130: 커버디스크유닛 1131: 커버디스크
1132: 커버중공부 1133: 커버체결홀
1140, 2140: 짐벌디스크유닛 1141, 2141: 짐벌디스크
1142, 2142: 끼움부 1143, 2143: 짐벌연장부
1144: 짐벌중공부 1145: 짐벌체결부
1146: 짐벌함입부 1150, 2150: 핀유닛
1151: 핀결합체 1152: 핀헤드
1200: 헤드결합체 1210: 헤드유닛
1220: 회전유닛 1230: 벨트유닛10: Conditioning equipment 11: Conditioner head
12: Torque transmission disc 13: Holder gimbal
14: cover gimbal 15: bolt
1000: Conditioning device for CMP equipment 1100: Disk assembly
1110: Conditioning disc unit 1120: Holder disc unit
1121: holder disc 1122: recess
1123: convex portion 1124: holder coupling hole
1125: Holder support 1126: Holder fastening hole
1130: cover disc unit 1131: cover disc
1132: cover hollow portion 1133: cover fastening hole
1140, 2140: gimbal disc unit 1141, 2141: gimbal disc
1142, 2142: fitting part 1143, 2143: gimbal extension
1144: gimbal hollow 1145: gimbal fastening
1146: gimbal compartment 1150, 2150: pin unit
1151: pin assembly 1152: pin head
1200: head assembly 1210: head unit
1220: rotating unit 1230: belt unit

Claims (11)

회전되면서 폴리싱패드에 대한 컨디셔닝을 수행하도록 마련된 디스크결합체; 및
상기 디스크결합체의 상부에 결합되어 상기 디스크결합체를 회전시키도록 마련되는 헤드결합체를 포함하며,
상기 디스크결합체의 기울기는 상기 폴리싱패드의 상면 윤곽에 대응하여 기울어지도록 마련되며,
상기 디스크결합체는,
폴리싱패드에 대한 컨디셔닝을 수행하도록 마련된 컨디셔닝디스크유닛;
상기 컨디셔닝디스크유닛의 상부에 결합되며 원반 형태의 몸체를 형성하는 홀더디스크, 상기 홀더디스크의 중심부에 형성되며 소정의 깊이만큼 함몰되어 형성된 함입부 및 복수개의 홀더결합홀을 갖는 홀더디스크유닛;
상기 홀더디스크유닛의 상부에 결합되며, 원반 형태의 몸체를 형성하는 커버디스크를 갖는 커버디스크유닛;
상기 홀더디스크유닛과 상기 커버디스크유닛 사이의 내측에 결합되며, 외주면에 끼움부가 형성되는 짐벌디스크유닛; 및
상기 짐벌디스크유닛의 외주면 및 상기 홀더디스크유닛에 결합되고, 상기 홀더결합홀에 결합되는 핀결합체 및 상기 핀결합체의 상부에 형성되며, 상기 끼움부에 끼움 결합되도록 마련된 핀헤드를 갖는 핀유닛을 포함하며,
상기 커버디스크는,
상기 홀더디스크와 외경이 동일하게 형성되며, 하부가 소정의 깊이만큼 함몰 형성되어 상기 홀더디스크의 상부에 결합되었을 때 상기 홀더디스크와 상기 커버디스크의 내측에 상기 짐벌디스크유닛이 삽입될 수 있는 공간이 형성되도록 마련되며,
상기 커버디스크의 하부와 상기 함입부에 의해 형성된 상기 공간은 상기 짐벌디스크유닛의 두께보다 크게 형성됨으로써, 상기 커버디스크와 상기 홀더디스크가 상기 폴리싱 패드의 상면 형상에 대응하여 기울어질 수 있도록 마련되고,
상기 핀헤드는 상기 끼움부에 끼움 결합된 상태에서 상기 핀결합체를 통해 고정 결합된 상기 컨디셔닝디스크유닛, 상기 홀더디스크유닛, 상기 커버디스크유닛이 상기 폴리싱패드의 상면의 형태에 대응하여 움직이도록 상기 핀헤드와 상기 끼움부 사이에는 틈이 형성되도록 마련된 것을 특징으로 하는 CMP설비용 컨디셔닝장치.
A disk assembly provided to rotate and condition the polishing pad; And
It is coupled to the upper portion of the disk assembly includes a head assembly provided to rotate the disk assembly,
The inclination of the disk assembly is provided to be inclined in correspondence with the contour of the upper surface of the polishing pad,
The disk assembly,
A conditioning disk unit provided to perform conditioning for the polishing pad;
A holder disk unit coupled to an upper portion of the conditioning disk unit and forming a disk-shaped body, a holder disk unit formed in the center of the holder disk and recessed by a predetermined depth and having a plurality of holder coupling holes;
A cover disc unit coupled to an upper portion of the holder disc unit and having a cover disc forming a disc-shaped body;
A gimbal disc unit coupled to an inner side between the holder disc unit and the cover disc unit and having a fitting portion formed on an outer circumferential surface; And
A pin unit coupled to the outer circumferential surface of the gimbal disk unit and the holder disk unit, a pin assembly coupled to the holder coupling hole, and a pin unit formed on an upper portion of the pin assembly, and having a pin head fitted to be fitted to the fitting And
The cover disc,
When the holder disk and the outer diameter are formed identically, and the lower part is recessed by a predetermined depth and coupled to the upper part of the holder disk, there is a space in which the gimbal disk unit can be inserted inside the holder disk and the cover disk. To be formed,
The space formed by the lower portion of the cover disc and the recessed portion is formed to be larger than the thickness of the gimbal disc unit, so that the cover disc and the holder disc can be inclined corresponding to the top surface shape of the polishing pad,
The pin head is pinned so that the conditioning disk unit, the holder disk unit, and the cover disk unit fixedly coupled through the pin assembly in a state of being fitted to the fitting portion move in correspondence with the shape of the upper surface of the polishing pad. A conditioner for a CMP facility, characterized in that a gap is formed between the head and the fitting portion.
제 1 항에 있어서,
상기 헤드결합체는,
상기 폴리싱패드에 대해 수평하게 놓이는 로봇암으로부터 지지를 받도록 마련된 헤드유닛;
상기 헤드유닛의 내측에 마련되며, 하부에 상기 디스크결합체가 결합되는 회전유닛을 포함하며,
상기 회전유닛은 회전가능하도록 마련되어, 상기 디스크결합체에 회전력을 전달하도록 마련된 것을 특징으로 하는 CMP설비용 컨디셔닝장치.
According to claim 1,
The head assembly,
A head unit provided to receive support from a robot arm placed horizontally with respect to the polishing pad;
It is provided on the inside of the head unit, and includes a rotating unit to which the disk assembly is coupled to the lower portion,
The rotating unit is provided to be rotatable, a conditioning device for a CMP facility, characterized in that provided to transmit the rotational force to the disk assembly.
제 2 항에 있어서,
상기 헤드결합체는,
상기 회전유닛을 감싸도록 마련되며, 구동에 따라 상기 회전유닛을 회전시키도록 마련된 벨트유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 CMP설비용 컨디셔닝장치.
According to claim 2,
The head assembly,
Conditioning device for a CMP facility is provided to surround the rotating unit, further comprising a belt unit provided to rotate the rotating unit according to the drive.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 홀더디스크유닛은,
상기 함입부의 중심에 형성되며 상부를 향해 볼록하게 돌출된 원형으로 형성된 볼록부; 및
상기 함입부의 바깥측에 형성되며, 상기 홀더디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 상기 홀더결합홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 CMP설비용 컨디셔닝장치.
According to claim 1,
The holder disc unit,
A convex portion formed in the center of the indentation and formed in a convex shape protruding upwardly; And
Conditioning device for a CMP facility, which is formed on the outer side of the indentation, and includes a plurality of the holder coupling holes arranged at equal intervals along the concentric circle position from the center of the holder disk.
제 5 항에 있어서,
상기 홀더디스크유닛은,
상기 함입부와 상기 홀더결합홀 사이에 형성되며, 상기 홀더디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 홀더지지부; 및
상기 홀더결합홀의 바깥측에 형성되며, 상기 홀더디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 홀더체결홀을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 CMP설비용 컨디셔닝장치.
The method of claim 5,
The holder disc unit,
A plurality of holder supports formed between the indentation and the holder coupling hole and arranged at equal intervals along the concentric position from the center of the holder disc; And
Conditioning device for a CMP facility further comprising a plurality of holder fastening holes formed at the outer side of the holder coupling hole and arranged at equal intervals along the concentric circle position from the center of the holder disc.
제 1 항에 있어서,
상기 커버디스크유닛은,
상기 커버디스크의 내측에 중공 형성된 커버중공부; 및
상기 커버디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 커버체결홀을 포함하며,
상기 커버체결홀은 상기 홀더디스크유닛에 형성된 홀더체결홀과 대응되는 위치에 형성된 것을 특징으로 하는 CMP설비용 컨디셔닝장치.
According to claim 1,
The cover disc unit,
A cover hollow portion formed inside the cover disc; And
It includes a plurality of cover fastening holes arranged at equal intervals along the concentric circle position from the center of the cover disk,
The cover fastening hole is a conditioning device for a CMP facility, characterized in that formed in a position corresponding to the holder fastening hole formed in the holder disc unit.
제 1 항에 있어서,
상기 짐벌디스크유닛은,
원반 형태의 몸체를 형성하는 짐벌디스크; 및
상기 짐벌디스크의 외주면에 톱니 형태로 형성되며, 상기 짐벌디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 상기 끼움부를 포함하며,
상기 끼움부는 상기 홀더디스크유닛에 마련된 홀더결합홀과 대응되는 위치에 형성된 것을 특징으로 하는 CMP설비용 컨디셔닝장치.
According to claim 1,
The gimbal disk unit,
A gimbal disc forming a disc-shaped body; And
It is formed in a serrated shape on the outer circumferential surface of the gimbal disc, and includes a plurality of the fitting portions disposed at equal intervals along the concentric position from the center of the gimbal disc
The fitting portion is a conditioning device for a CMP facility, characterized in that formed in a position corresponding to the holder coupling hole provided in the holder disk unit.
제 8 항에 있어서,
상기 짐벌디스크유닛은,
상기 짐벌디스크의 중심부에 형성되며, 상기 짐벌디스크의 상부 및 하부를 향해 연장 형성된 짐벌연장부;
상기 짐벌연장부의 중심에 중공 형성된 짐벌중공부;
상기 짐벌연장부에 형성되며, 상기 짐벌디스크의 중심으로부터 동심원 위치를 따라 등간격으로 배치된 복수개의 짐벌체결부; 및
상기 짐벌연장부의 하부 중앙에 함몰 형성되며, 상기 홀더디스크유닛의 볼록부와 대응되는 위치 및 형상으로 형성된 짐벌함입부를 포함하는 것을 특징으로 하는 CMP설비용 컨디셔닝장치.
The method of claim 8,
The gimbal disk unit,
A gimbal extension formed at a central portion of the gimbal disc and extending toward upper and lower portions of the gimbal disc;
A gimbal hollow formed in the center of the gimbal extension;
A plurality of gimbal fastening parts formed on the gimbal extension and arranged at equal intervals along the concentric circle position from the center of the gimbal disk; And
Conditioning device for a CMP facility, characterized in that it includes a gimbal recess formed in a recess at the lower center of the gimbal extension, and formed in a position and shape corresponding to the convex portion of the holder disk unit.
삭제delete 제 1 항에 따른 CMP설비용 컨디셔닝장치가 구비된 CMP설비.CMP equipment equipped with a conditioning device for the CMP equipment according to claim 1.
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